JP2020006557A - 液体噴射装置及び液体噴射装置のメンテナンス方法 - Google Patents

Abstract

【課題】適切にワイピングできる液体噴射装置及び液体噴射装置のメンテナンス方法を提供する。
【解決手段】液体噴射装置は、ノズルから液体を噴射する液体噴射部と、液体を吸収するように構成されるワイピング部材８４５によりノズルが複数配置されたノズル面をワイピングするワイピング機構８３３と、ワイピング液をワイピング部材に供給するワイピング液供給機構８３４と、ノズル面をワイピング部材でワイピングする際に液体噴射部とワイピング部材とを相対移動させる相対移動機構８６７と、を備え、ワイピング部材がワイピング液を吸収した状態でノズル面をワイピングする湿潤ワイピングを実行するように構成され、ノズル面を前記ワイピング部材によりワイピングする際のワイピング液の供給量を変更可能に構成される。
【選択図】図２５

Description

本発明は、例えばインクジェット式プリンターなどの液体噴射装置及び液体噴射装置のメンテナンス方法に関する。

特許文献１には、液体噴射装置の一例として、液滴を吐出するヘッドをワイピングするワイピングシートと、ワイピングシートに洗浄液を噴き付ける洗浄液噴霧機構とを備える液滴噴射装置が記載されている。

特開２００７−２７５７９３号公報

特許文献１に記載された液滴吐出装置においては、ワイピングシートに噴き付けられる洗浄液に過不足を生じる場合がある。こうした場合、適切にワイピングできないことがある。

上記課題を解決する液体噴射装置は、ノズルから液体を噴射する液体噴射部と、液体を吸収するように構成されるワイピング部材により前記ノズルが複数配置されたノズル面をワイピングするワイピング機構と、ワイピング液を前記ワイピング部材に供給するワイピング液供給機構と、前記ノズル面を前記ワイピング部材でワイピングする際に前記液体噴射部と前記ワイピング部材とを相対移動させる相対移動機構と、を備え、前記ワイピング部材がワイピング液を吸収した状態で前記ノズル面をワイピングする湿潤ワイピングを実行するように構成され、前記ノズル面を前記ワイピング部材によりワイピングする際の前記ワイピング液の供給量を変更可能に構成される。

上記課題を解決する液体噴射装置のメンテナンス方法は、ノズルから液体を噴射することにより記録媒体に対して記録処理を実行する液体噴射部と、液体を吸収するように構成されたワイピング部材により前記ノズルが複数配置されたノズル面をワイピングするワイピング機構と、ワイピング液を前記ワイピング部材に供給するワイピング液供給機構と、前記ノズル面を前記ワイピング部材によりワイピングする際に前記液体噴射部と前記ワイピング部材とを相対移動させる相対移動機構と、を備え、前記ワイピング部材がワイピング液を吸収した状態で前記ノズル面をワイピングする湿潤ワイピングを実行するように構成される液体噴射装置のメンテナンス方法であって、前記湿潤ワイピングを実行する際の前記ワイピング液の供給量を液体噴射装置の状況に基づいて変更する。

液体噴射装置の第１実施形態を示す模式図。 液体噴射装置の構成要素の配置を模式的に示す平面図。 ヘッドユニットの底面図。 ヘッドユニットの分解斜視図。 図３におけるＡ−Ａ’線矢視断面図。 液体噴射部の分解斜視図。 液体噴射部の平面図。 図７におけるＢ−Ｂ’線矢視断面図。 図８における右側の一点鎖線枠内の拡大図。 図８における左側の一点鎖線枠内の拡大図。 メンテナンス装置の構成を示す平面図。 流体噴射装置の構成を示す模式図。 噴射ユニットの斜視図。 噴射ユニットの使用状態を示す側断面模式図。 液体噴射装置の電気的構成を示すブロック図。 液体噴射装置の電気的構成を示すブロック図。 振動板の残留振動を想定した単振動の計算モデルを示す図。 インクの増粘と残留振動波形の関係を説明する説明図。 気泡混入と残留振動波形の関係を説明する説明図。 噴射ユニットの使用状態を示す側断面模式図。 噴射ユニットの待機状態を示す側断面模式図。 第２実施形態のメンテナンス装置の構成を示す平面模式図。 液体噴射部の断面模式図。 メンテナンスユニットの斜視図。 メンテナンスユニットの分解斜視図。 土台部及び基部の斜視図。 ステータス画面を示す図。 変更画面を示す図。 布シートを布ホルダーに装着する前の状態のワイピング機構の斜視図。 布シートを布ホルダーに装着するときの状態のワイピング機構の斜視図。 布シートを布ホルダーに装着するときの状態のワイピング機構の斜視図。 布シートを布ホルダーに装着した後の状態のワイピング機構の斜視図。 整備領域に液体噴射部を移動させたときの状態を示す側面模式図。 ワイピング液供給機構が液体噴射部にワイピング液を供給するときの状態を示す側面模式図。 ワイピング機構が液体噴射部のワイピングを実行するときの状態を示す側面模式図。 ワイピング機構が液体噴射部をワイピングする途中の状態を示す側面模式図。 ワイピング機構が液体噴射部のワイピングを終了したときの状態を示す側面模式図。 整備領域から液体噴射部を退避させたときの状態を示す側面模式図。 ワイピング機構が回収部を払拭したときの状態を示す側面模式図。 噴射口から液体噴射部に噴射された流体の一部が遮蔽機構によって遮られる状態を示す断面模式図。 ワイピング部材により液体噴射部をワイピングするときの状態を示す底面模式図。 変更例の液体噴射装置の要部を示す側面模式図。 変更例の流体噴射ノズルの模式図。

以下、液体噴射装置の一実施形態について図を参照しながら説明する。液体噴射装置は、例えば、用紙などの記録媒体に液体の一例であるインクを噴射することによって、文字、写真などの画像を記録するインクジェット式のプリンターである。

（第１実施形態）
図１に示すように、液体噴射装置７は、記録媒体ＳＴを支持する支持台７１２と、記録媒体ＳＴを搬送する搬送部７１３と、記録媒体ＳＴに画像を記録する記録部７２０とを備える。搬送部７１３は、支持台７１２の表面に沿って搬送方向Ｙに記録媒体ＳＴを搬送する。記録部７２０は、支持台７１２に支持される記録媒体ＳＴに液体を噴射することによって記録媒体ＳＴに画像を記録する。液体噴射装置７は、記録媒体ＳＴに着弾した液体を乾燥させるための発熱部７１７及び送風部７１８を備える。

支持台７１２、搬送部７１３、発熱部７１７、送風部７１８、及び記録部７２０は、ハウジング、フレームなどによって構成される装置本体１１ａに組み付けられる。支持台７１２は、装置本体１１ａ内において記録媒体ＳＴの幅方向に延びるように構成される。

液体噴射装置７は、操作されるための操作部７０１を備える。本実施形態の操作部７０１は、装置本体１１ａに設けられる。操作部７０１は、例えばタッチパネルで構成される。そのため、操作部７０１は、液体噴射装置７を操作可能且つ、液体噴射装置７の状況を表示可能に構成される。

搬送部７１３は、搬送方向Ｙにおいて支持台７１２よりも上流に位置する搬送ローラー対７１４ａと、搬送方向Ｙにおいて支持台７１２よりも下流に位置する搬送ローラー対７１４ｂとを有する。搬送ローラー対７１４ａ及び搬送ローラー対７１４ｂは、搬送モーター７４９によって駆動される。搬送部７１３は、搬送方向Ｙにおいて搬送ローラー対７１４ａよりも上流に位置する案内板７１５ａと、搬送方向Ｙにおいて搬送ローラー対７１４ｂよりも下流に位置する案内板７１５ｂとを有する。案内板７１５ａ及び案内板７１５ｂは、搬送される記録媒体ＳＴを案内する。

搬送部７１３は、搬送ローラー対７１４ａ及び搬送ローラー対７１４ｂが記録媒体ＳＴを挟みながら回転することにより、案内板７１５ａ、支持台７１２及び案内板７１５ｂの表面に沿って記録媒体ＳＴを搬送する。本実施形態では、記録媒体ＳＴは、供給リール７１６ａにロール状に巻き重ねられたロールシートＲＳから繰り出されることによって連続的に搬送される。ロールシートＲＳから繰り出された記録媒体ＳＴは、記録部７２０によって噴射された液体により画像を記録される。記録媒体ＳＴは、画像を記録された後、巻取リール７１６ｂによってロール状に巻き取られる。

記録部７２０は、記録媒体ＳＴの搬送方向Ｙと異なる方向である走査方向Ｘに延びるガイド軸７２１及びガイド軸７２２に支持されるキャリッジ７２３を有する。キャリッジ７２３は、キャリッジモーター７４８の動力によって、ガイド軸７２１及びガイド軸７２２に沿って走査方向Ｘに移動するように構成される。本実施形態において、走査方向Ｘは、記録媒体ＳＴの幅方向と一致する。走査方向Ｘは、搬送方向Ｙ及び重力方向Ｚの双方と異なる方向である。

記録部７２０は、ノズル２１から液体を噴射する液体噴射部１を有する。液体噴射部１は、ノズル２１から液体を噴射することにより記録媒体ＳＴに対して記録処理を実行する。液体噴射部１は、キャリッジ７２３に設けられる。本実施形態のキャリッジ７２３には、２つの液体噴射部１が設けられる。そのため、本実施形態においては、２つの液体噴射部１をそれぞれ液体噴射部１Ａ、液体噴射部１Ｂと呼称する。

液体噴射部１は、支持台７１２と重力方向Ｚに所定の間隔を置いて対向する姿勢で、キャリッジ７２３の下端部に取り付けられる。本実施形態において、液体噴射部１が噴射する液体の噴射方向は重力方向Ｚである。キャリッジモーター７４８が駆動することにより、キャリッジ７２３とともに２つの液体噴射部１が、走査方向Ｘに往復移動する。

キャリッジ７２３には、液体噴射部１に対して液体を供給するための液体供給路７２７と、液体供給路７２７を通じて供給された液体を一時貯留する貯留部７３０とが設けられる。キャリッジ７２３には、貯留部７３０に接続された流路アダプター７２８が設けられる。貯留部７３０は、キャリッジ７２３に取り付けられた貯留部保持体７２５に保持される。

貯留部７３０は、キャリッジ７２３に対して液体噴射部１と重力方向Ｚにおいて反対側となる上側に取り付けられる。本実施形態の液体噴射装置７においては、貯留部７３０が液体の種類ごとに設けられる。貯留部７３０は、例えば４つ設けられ、それぞれシアン、マゼンタ、イエロー、ブラックのインクを貯留する。そのため、本実施形態の液体噴射装置７は、カラーで画像を記録したり、モノクロで画像を記録したりできる。貯留部７３０が貯留する液体には、防腐剤が含まれていてもよい。

貯留部７３０は、ホワイトのインクを貯留してもよい。ホワイトのインクは、例えば記録媒体ＳＴが透明又は半透明のフィルムであったり、濃色の媒体であったりした場合に、カラーのインクで記録処理を実行する前の下地処理に使用される。貯留部７３０が貯留する液体の種類は、任意に選択できる。貯留部７３０は、例えばシアン、マゼンタ、イエローの３種のインクを貯留するように構成されてもよい。貯留部７３０は、上記３種のインクに加えて、例えばライトシアン、ライトマゼンタ、ライトイエロー、オレンジ、グリーン、グレーなどのうち少なくとも１種のインクを貯留するように構成されてもよい。

液体供給路７２７の途中位置には、差圧弁７３１が設けられる。差圧弁７３１は、液体噴射部１による液体の噴射に伴って液体噴射部１内の圧力が大気圧に対して所定の負圧になると開弁する。差圧弁７３１が開弁すると、貯留部７３０から液体噴射部１へ液体が供給される。液体噴射部１に液体が供給されることにより液体噴射部１内の圧力が上昇すると、差圧弁７３１が閉弁する。差圧弁７３１は、液体噴射部１内の圧力が高くなっても開弁することはない。そのため、差圧弁７３１は、貯留部７３０側となる上流側から液体噴射部１側となる下流側への液体の供給を許容する一方で、下流側から上流側への液体の逆流を抑制する一方向弁として機能する。

液体供給路７２７の一部を構成する供給チューブ７２７ａの上流端は、キャリッジ７２３の一部に取り付けられた接続部７２６ａを介して、液体供給チューブ７２６の下流端と接続される。液体供給チューブ７２６は、複数本設けられ、変形可能に構成される。液体供給チューブ７２６は、キャリッジ７２３の移動に追従するように変形する。

液体供給チューブ７２６の上流端は、液体供給源７０２に接続される。液体供給源７０２は、例えば液体を貯留するタンクであってもよいし、装置本体１１ａに対して着脱可能なカートリッジであってもよい。

供給チューブ７２７ａの下流端は、貯留部７３０よりも上側の位置で、流路アダプター７２８に接続される。したがって、液体を貯留する液体供給源７０２から、液体供給チューブ７２６、供給チューブ７２７ａ、及び流路アダプター７２８を介して貯留部７３０に液体が供給される。

液体噴射部１は、複数のノズル２１を有する。液体噴射部１は、ノズル２１が複数配置されたノズル面２０ａを有する。液体噴射部１は、キャリッジ７２３が走査方向Ｘに移動する過程で、支持台７１２上の記録媒体ＳＴに対してノズル２１から液体を噴射する。

発熱部７１７は、記録媒体ＳＴに付着する液体を加熱することにより記録媒体ＳＴを乾燥させる。発熱部７１７は、液体噴射装置７において支持台７１２から重力方向Ｚに所定の間隔を置いた上方に位置する。記録部７２０は、発熱部７１７と支持台７１２との間を走査方向Ｘに沿って往復移動する。

発熱部７１７は、走査方向Ｘに延びる発熱部材７１７ａ及び反射板７１７ｂを有する。発熱部材７１７ａは、例えば赤外線ヒーターである。発熱部７１７は、図１において一点鎖線の矢印で示すエリアに放射される赤外線などの熱、例えば輻射熱によって、記録媒体ＳＴに付着する液体を加熱する。

送風部７１８は、記録媒体ＳＴに送風することにより、液体が付着する記録媒体ＳＴを乾燥させる。送風部７１８は、液体噴射装置７において記録部７２０が往復移動可能な間隔を支持台７１２との間に空けるように、支持台７１２の上方に位置する。

貯留部７３０と発熱部７１７との間の位置には、発熱部７１７からの伝熱を遮る遮熱部材７２９が設けられる。この遮熱部材７２９は、例えばステンレス鋼、アルミニウムなどの熱伝導性のよい金属材料で形成される。遮熱部材７２９は、少なくとも貯留部７３０の発熱部７１７に面する上面部分を覆うことが好ましい。

図２に示すように、液体噴射部１Ａ及び液体噴射部１Ｂは、キャリッジ７２３の下端部において、走査方向Ｘに所定の間隔だけ離れ、且つ搬送方向Ｙに所定の距離だけずれるように位置する。キャリッジ７２３の下端部において、走査方向Ｘにおいて液体噴射部１Ａ及び液体噴射部１Ｂの間となる位置には、温度センサー７１１が設けられる。温度センサー７１１は、液体噴射部１近傍の温度を検出する。

液体噴射部１Ａ及び液体噴射部１Ｂが走査方向Ｘに移動可能な移動領域は、記録領域ＰＡと、非記録領域ＲＡと、非記録領域ＬＡとを含む。記録領域ＰＡは、記録媒体ＳＴへの記録処理中に、液体噴射部１Ａ及び液体噴射部１Ｂが液体を記録媒体ＳＴに噴射する領域である。そのため、記録領域ＰＡは、支持台７１２上を搬送される最大幅の記録媒体ＳＴを含む領域とされる。記録部７２０が記録媒体ＳＴに対して縁なしで記録可能である場合、記録領域ＰＡは、搬送される最大幅の記録媒体ＳＴの範囲よりも走査方向Ｘに若干広い領域となる。発熱部７１７による熱が及ぶ加熱領域ＨＡは、記録領域ＰＡと対応する。

非記録領域ＲＡ及び非記録領域ＬＡは、記録領域ＰＡの外側の領域である。非記録領域ＲＡ及び非記録領域ＬＡは、走査方向Ｘに移動可能な液体噴射部１Ａ及び液体噴射部１Ｂが記録媒体ＳＴと対峙しない領域である。

非記録領域ＲＡ及び非記録領域ＬＡは、走査方向Ｘにおける記録領域ＰＡの両側に位置する。非記録領域ＬＡは、図２において記録領域ＰＡの左側に位置する。非記録領域ＬＡには、流体噴射装置７７５が設けられる。非記録領域ＲＡは、図２において記録領域ＰＡの右側に位置する。非記録領域ＲＡには、ワイパーユニット７５０と、フラッシングユニット７５１と、キャップユニット７５２とが設けられる。

流体噴射装置７７５、ワイパーユニット７５０、フラッシングユニット７５１及びキャップユニット７５２は、液体噴射部１のメンテナンスを実行するためのメンテナンス装置７１０を構成する。走査方向Ｘにおいてキャップユニット７５２が設けられる位置は、液体噴射部１Ａ及び液体噴射部１ＢのホームポジションＨＰである。ホームポジションＨＰとは、例えば液体噴射装置７が記録処理を実行していない待機状態時に、液体噴射部１Ａ及び液体噴射部１Ｂが待機する位置である。

＜ヘッドユニットの構成について＞
次に、ヘッドユニット２の構成について説明する。
液体噴射部１は、液体の種類ごとに設けられた複数のヘッドユニット２を有する。本実施形態において、液体噴射部１は、４つのヘッドユニット２が走査方向Ｘに並ぶことにより構成される。

図３に示すように、１個のヘッドユニット２には、液体を噴射するためのノズル２１が一方向に一定のノズルピッチで多数個並ぶことにより、ノズル列ＮＬが形成される。本実施形態において、ノズル２１は、搬送方向Ｙに所定の間隔で並ぶ。ノズル列ＮＬは、例えば１８０個のノズル２１により構成される。

本実施形態において、１つのヘッドユニット２には、走査方向Ｘに並ぶ２列のノズル列ＮＬが設けられる。そのため、１つの液体噴射部１には、２列のノズル列ＮＬが走査方向Ｘに一定の間隔で並ぶ。１つの液体噴射部１には、合計８列のノズル列ＮＬが形成される。２つの液体噴射部１は、互いのノズル列ＮＬを構成する多数個のノズル２１を走査方向Ｘに投影したときに、互いの端部同士のノズル２１間が同じノズルピッチとなるように、搬送方向Ｙにおいてずれて位置する。

図４に示すように、ヘッドユニット２は、ヘッド本体１１、ヘッド本体１１の上面側となる一方面側に固定された流路形成部材４０などの複数の部材を有する。ヘッド本体１１は、流路形成基板１０と、流路形成基板１０の下面側となる一方面側に設けられた連通板１５とを有する。ヘッド本体１１は、連通板１５の流路形成基板１０とは反対面側となる下面側に設けられたノズルプレート２０と、流路形成基板１０の連通板１５とは反対側となる上側に設けられた保護基板３０とを有する。ヘッド本体１１は、連通板１５のノズルプレート２０が設けられた面側に設けられたコンプライアンス基板４５を有する。

流路形成基板１０は、ステンレス鋼、ニッケルなどの金属、ＺｒＯ_２あるいはＡｌ_２Ｏ_３を代表とするセラミック材料、ガラスセラミック材料、ＭｇＯ、ＬａＡｌＯ_３のような酸化物などを用いることができる。本実施形態では、流路形成基板１０は、シリコン単結晶基板からなる。

図５に示すように、流路形成基板１０には、一方面側から異方性エッチングすることにより、複数の隔壁によって区画された圧力発生室１２が設けられる。圧力発生室１２は、液体を噴射する複数のノズル２１が並設される方向に並設される。流路形成基板１０には、圧力発生室１２が搬送方向Ｙに並設された列が、走査方向Ｘに並ぶように複数設けられる。本実施形態において、圧力発生室１２が搬送方向Ｙに並設された列は、２列設けられる。

流路形成基板１０には、圧力発生室１２の搬送方向Ｙの一端部側に、圧力発生室１２よりも開口面積が狭く、圧力発生室１２に流入する液体の流路抵抗を付与する供給路などが設けられていてもよい。

図４及び図５に示すように、流路形成基板１０の一方面側には、連通板１５と、ノズルプレート２０とが重力方向Ｚに積層される。すなわち、液体噴射部１は、流路形成基板１０の一方面に設けられた連通板１５と、連通板１５の流路形成基板１０とは反対面側に設けられたノズルプレート２０とを有する。ノズルプレート２０には、ノズル２１が形成される。

連通板１５には、圧力発生室１２とノズル２１とに通じるノズル連通路１６が設けられる。連通板１５は、流路形成基板１０よりも大きな面積を有する。ノズルプレート２０は、流路形成基板１０よりも小さい面積を有する。連通板１５を設けることによって、ノズルプレート２０のノズル２１と圧力発生室１２との距離が広がる。そのため、ノズル２１から液体の水分が蒸発することにより圧力発生室１２中の液体が増粘することを抑制できる。ノズルプレート２０は、圧力発生室１２とノズル２１とに通じるノズル連通路１６の開口を覆うだけでよいため、ノズルプレート２０の面積を比較的小さくすることができ、コストの削減を図ることができる。

図５に示すように、連通板１５には、マニホールドである共通液室１００の一部を構成する第１マニホールド部１７と、第２マニホールド部１８とが設けられる。第１マニホールド部１７は、連通板１５を厚さ方向に貫通することにより設けられる。厚さ方向とは、連通板１５と流路形成基板１０との積層方向となる重力方向Ｚである。第２マニホールド部１８は、絞り流路、オリフィス流路でもある。第２マニホールド部１８は、連通板１５を厚さ方向に貫通することなく、連通板１５のノズルプレート２０側に開口して設けられる。

連通板１５には、圧力発生室１２の搬送方向Ｙの一端部と通じる供給連通路１９が、圧力発生室１２ごとに独立して設けられる。この供給連通路１９は、第２マニホールド部１８と圧力発生室１２とに通じる。

連通板１５を構成するために、ステンレス鋼、ニッケルなどの金属、又はジルコニウムなどのセラミックスなどを用いることができる。連通板１５は、流路形成基板１０と線膨張係数が同等の材料により構成されてもよい。連通板１５として流路形成基板１０と線膨張係数が大きく異なる材料を用いた場合、加熱及び冷却されることにより、流路形成基板１０及び連通板１５に反りが生じることがある。本実施形態では、連通板１５として流路形成基板１０と同じ材料、すなわち、シリコン単結晶基板を用いることにより、熱による反り、熱によるクラック、剥離などの発生を抑制できる。

ノズルプレート２０の両面のうち液体を噴射する面である下面、すなわち圧力発生室１２とは反対側の面をノズル面２０ａと称し、ノズル面２０ａに開口するノズル２１の開口をノズル開口と称する。

ノズルプレート２０を構成するために、例えば、ステンレス鋼などの金属、ポリイミド樹脂のような有機物、又はシリコン単結晶基板などを用いることができる。ノズルプレート２０としてシリコン単結晶基板を用いることにより、ノズルプレート２０の線膨張係数と連通板１５の線膨張係数とを同等にできる。これにより、ノズルプレート２０における、加熱及び冷却されることによる反りや熱によるクラック、剥離などの発生を抑制できる。

流路形成基板１０に対して連通板１５とは反対面側には、振動板５０が設けられる。本実施形態では、振動板５０として、流路形成基板１０側に設けられた酸化シリコンからなる弾性膜５１と、弾性膜５１上に設けられた酸化ジルコニウムからなる絶縁体膜５２と、を設けている。圧力発生室１２などの液体流路は、流路形成基板１０を一方面側、すなわちノズルプレート２０が接合された面側から異方性エッチングすることにより形成される。圧力発生室１２などの液体流路の他方面は、弾性膜５１によって形成される。

流路形成基板１０の振動板５０上には、本実施形態の圧力発生手段であるアクチュエーター１３０が設けられる。アクチュエーター１３０は、いわゆる圧電アクチュエーターである。アクチュエーター１３０は、第１電極６０と圧電体層７０と第２電極８０とを有する。本実施形態において、アクチュエーター１３０とは、第１電極６０、圧電体層７０及び第２電極８０を含む部分をいう。

一般的には、アクチュエーター１３０の何れか一方の電極を共通電極とし、他方の電極を圧力発生室１２ごとにパターニングして構成する。本実施形態では、第１電極６０を複数のアクチュエーター１３０にわたって連続して設けることにより共通電極とし、第２電極８０をアクチュエーター１３０ごとに独立して設けることにより個別電極としている。駆動回路又は配線の都合でこれを逆にしても支障はない。

上述した例では、振動板５０が弾性膜５１及び絶縁体膜５２で構成されたものを例示したが、勿論これに限定されない。例えば、振動板５０として弾性膜５１及び絶縁体膜５２の何れか一方を設けたものであってもよい。例えば、振動板５０として弾性膜５１及び絶縁体膜５２を設けずに、第１電極６０のみが振動板として作用するようにしてもよい。例えば、アクチュエーター１３０自体が実質的に振動板を兼ねるようにしてもよい。

圧電体層７０は、分極構造を有する酸化物の圧電材料からなる。圧電体層７０は、例えば、一般式ＡＢＯ_３で示されるペロブスカイト型酸化物からなることができ、鉛を含む鉛系圧電材料、鉛を含まない非鉛系圧電材料などを用いることができる。

アクチュエーター１３０の個別電極である第２電極８０には、リード電極９０の一端部がそれぞれ接続される。リード電極９０は、例えば、金などからなる。リード電極９０は、供給連通路１９とは反対側の端部近傍から引き出され、振動板５０上にまで延びるように設けられる。

リード電極９０の他端部には、アクチュエーター１３０を駆動するための駆動回路１２０が設けられた可撓性配線基板の一例である配線基板１２１が接続される。配線基板１２１は、可撓性のあるシート状のもの、例えば、ＣＯＦ基板などを用いることができる。

図４に示すように、配線基板１２１の一方面には、後述するヘッド基板３００の第１端子３１１に電気的に接続する配線端子である第２端子１２２が複数個並設された第２端子列１２３が形成される。本実施形態の第２端子１２２は、搬送方向Ｙに沿って複数個並設されることにより、第２端子列１２３を形成する。配線基板１２１には、駆動回路１２０を設けなくてもよい。つまり、配線基板１２１は、ＣＯＦ基板に限定されず、ＦＦＣ、ＦＰＣなどであってもよい。

図４及び図５に示すように、流路形成基板１０のアクチュエーター１３０側の面には、流路形成基板１０と略同じ大きさを有する保護基板３０が接合される。保護基板３０は、アクチュエーター１３０を保護するための空間である保持部３１を有する。

保持部３１は、保護基板３０を厚さ方向である重力方向Ｚに貫通することなく、流路形成基板１０側に開口する凹形状を有する。保持部３１は、搬送方向Ｙに並設されたアクチュエーター１３０で構成される列ごとに独立して設けられる。すなわち、保持部３１は、アクチュエーター１３０の搬送方向Ｙに並設された列を収容するように設けられる。保持部３１は、アクチュエーター１３０の列ごと、すなわち２つが走査方向Ｘに並ぶように設けられる。このような保持部３１は、アクチュエーター１３０の運動を阻害しない程度の空間を有していればよく、保持部３１の空間は密封されていても、密封されていなくてもよい。

保護基板３０は、厚さ方向である重力方向Ｚに貫通した貫通孔３２を有する。貫通孔３２は、搬送方向Ｙに並設された２つの保持部３１の間に複数のアクチュエーター１３０の並設方向である搬送方向Ｙにわたって設けられる。つまり、貫通孔３２は、複数のアクチュエーター１３０の並設方向に長辺を有した開口とされる。リード電極９０の他端部は、この貫通孔３２内に露出するように位置する。リード電極９０と配線基板１２１とは、貫通孔３２内で電気的に接続される。

保護基板３０の構成するために、流路形成基板１０の熱膨張率と略同一の材料、例えば、ガラス、セラミック材料などを用いてもよい。本実施形態では、流路形成基板１０と同一材料のシリコン単結晶基板を用いて保護基板３０を形成した。流路形成基板１０と保護基板３０との接合方法は特に限定されず、例えば、本実施形態では、流路形成基板１０と保護基板３０とは接着剤を介して接合される。

ヘッドユニット２は、複数の圧力発生室１２と通じる共通液室１００をヘッド本体１１とともに形成する流路形成部材４０を有する。流路形成部材４０は、平面視において上述した連通板１５と略同一の形状を有する。流路形成部材４０は、保護基板３０に接合されるとともに、上述した連通板１５にも接合される。具体的には、流路形成部材４０は、保護基板３０側に流路形成基板１０及び保護基板３０が収容される深さの凹部４１を有する。

凹部４１は、保護基板３０の流路形成基板１０に接合された面よりも広い開口面積を有する。凹部４１に流路形成基板１０などが収容された状態で凹部４１のノズルプレート２０側の開口面が連通板１５によって封止される。これにより、流路形成基板１０の外周部には、流路形成部材４０とヘッド本体１１とによって第３マニホールド部４２が形成される。連通板１５に設けられた第１マニホールド部１７及び第２マニホールド部１８と、流路形成部材４０とヘッド本体１１とによって形成された第３マニホールド部４２と、によって本実施形態の共通液室１００が構成される。

共通液室１００は、第１マニホールド部１７、第２マニホールド部１８及び第３マニホールド部４２を備える。本実施形態の共通液室１００は、走査方向Ｘにおいて、２列の圧力発生室１２の両外側に配置される。２列の圧力発生室１２の両外側に設けられた２つの共通液室１００は、ヘッドユニット２内では互いに繋がらないようにそれぞれ独立して設けられる。すなわち、本実施形態の圧力発生室１２の列ごとに１つの共通液室１００が設けられる。言い換えると、ノズル列ＮＬごとに共通液室１００が設けられる。もちろん、２つの共通液室１００は、互いに繋がっていてもよい。

流路形成部材４０は、ヘッド本体１１に供給される液体の流路である共通液室１００を形成する部材である。流路形成部材４０は、共通液室１００と通じる導入口４４を有する。すなわち、導入口４４は、ヘッド本体１１に供給される液体を共通液室１００に導入する入口となる開口部である。流路形成部材４０の材料として、例えば、樹脂、金属などを用いてもよい。ちなみに、流路形成部材４０を樹脂によって成形することにより、流路形成部材４０を低コストで量産することができる。

流路形成部材４０には、保護基板３０の貫通孔３２と通じる接続口４３が設けられる。接続口４３及び貫通孔３２には、配線基板１２１が挿入される。配線基板１２１は、その他端部が、貫通孔３２及び接続口４３の貫通方向、すなわち、重力方向Ｚであって、液体の噴射方向とは反対側に延びるように設けられる。

連通板１５の第１マニホールド部１７及び第２マニホールド部１８が開口する面には、コンプライアンス基板４５が設けられる。このコンプライアンス基板４５は、平面視において上述した連通板１５と略同じ大きさを有する。コンプライアンス基板４５には、ノズルプレート２０を露出する第１露出開口部４５ａが設けられる。このコンプライアンス基板４５が第１露出開口部４５ａによってノズルプレート２０を露出した状態で、第１マニホールド部１７と第２マニホールド部１８のノズル面２０ａ側の開口を封止する。すなわち、コンプライアンス基板４５が共通液室１００の一部を形成する。

本実施形態のコンプライアンス基板４５は、封止膜４６と、固定基板４７とを備える。封止膜４６は、可撓性を有するフィルム状の薄膜、例えばポリフェニレンサルファイドなどにより形成された厚さが２０μｍ以下の薄膜からなる。固定基板４７は、ステンレス鋼などの金属などの硬質の材料で形成される。この固定基板４７の共通液室１００に対向する領域は、厚さ方向に完全に除去された開口部４８とされる。そのため、共通液室１００の一方面は可撓性を有する封止膜４６のみで封止された可撓部であるコンプライアンス部４９とされる。本実施形態では、１つの共通液室１００に対応して１つのコンプライアンス部４９が設けられる。すなわち、本実施形態では、共通液室１００が２つ設けられるため、ノズルプレート２０を挟んで走査方向Ｘの両側に２つのコンプライアンス部４９が設けられる。

ヘッドユニット２では、液体を噴射する際に、導入口４４を介して液体を取り込み、共通液室１００からノズル２１に至るまで流路内部を液体で満たす。その後、駆動回路１２０からの信号に従い、圧力発生室１２に対応する各アクチュエーター１３０に電圧を印加することにより、アクチュエーター１３０とともに振動板５０をたわみ変形させる。これにより、圧力発生室１２内の圧力が高まり所定のノズル２１から液体が噴射される。

＜液体噴射部の構成について＞
次に、ヘッドユニット２を有する液体噴射部１について説明する。
図６に示すように、液体噴射部１は、４つのヘッドユニット２と、ヘッドユニット２を保持するとともにヘッドユニット２に液体を供給するホルダー部材を含む流路部材２００とを備える。液体噴射部１は、流路部材２００に保持されたヘッド基板３００と、可撓性配線基板の一例である配線基板１２１とを備える。

図７には、シール部材２３０及び上流流路部材２１０の図示を省略した液体噴射部１の平面図を示す。
図８に示すように、流路部材２００は、上流流路部材２１０と、ホルダー部材の一例である下流流路部材２２０と、上流流路部材２１０と下流流路部材２２０との間に配置されるシール部材２３０とを備える。

上流流路部材２１０は、液体の流路となる上流流路５００を有する。本実施形態では、上流流路部材２１０は、第１上流流路部材２１１と、第２上流流路部材２１２と、第３上流流路部材２１３とが重力方向Ｚに積層されることにより構成される。第１上流流路部材２１１、第２上流流路部材２１２及び第３上流流路部材２１３には、それぞれ第１上流流路５０１、第２上流流路５０２、第３上流流路５０３が設けられる。第１上流流路５０１、第２上流流路５０２及び第３上流流路５０３が連結することにより、上流流路５００が構成される。

上流流路部材２１０はこのような態様に限定されるものではなく、単一の部材であっても、２以上の複数の部材で構成されてもよい。上流流路部材２１０を構成する複数の部材の積層方向も特に限定されず、積層方向は走査方向Ｘ、搬送方向Ｙでもよい。

第１上流流路部材２１１は、下流流路部材２２０とは反対面側に、液体が貯留されるタンク、カートリッジなどの貯留部７３０に接続される接続部２１４を有する。本実施形態では、接続部２１４として針状に突出したものとした。接続部２１４には、カートリッジなどの貯留部７３０が直接接続されてもよく、インクタンクなどの貯留部７３０がチューブなどの供給管などを介して接続されてもよい。

第１上流流路部材２１１には、第１上流流路５０１が設けられる。第１上流流路５０１は、接続部２１４の頂面に開口する。第１上流流路５０１は、後述する第２上流流路５０２の位置に応じて、重力方向Ｚに延びる流路、走査方向Ｘ及び搬送方向Ｙを含む面内に延びる流路などで構成される。図６に示すように、第１上流流路部材２１１の接続部２１４の周囲には、貯留部７３０を位置決めするためのガイド壁２１５が設けられる。

図８に示すように、第２上流流路部材２１２は、第１上流流路部材２１１の接続部２１４とは反対面側に固定される。第２上流流路部材２１２は、第１上流流路５０１と通じる第２上流流路５０２を有する。第２上流流路５０２の第３上流流路部材２１３側となる下流側には、第２上流流路５０２よりも内径が広く拡幅された第１液体溜まり部５０２ａが設けられる。

第３上流流路部材２１３は、第２上流流路部材２１２に対して第１上流流路部材２１１とは反対側に設けられる。第３上流流路部材２１３には、第３上流流路５０３が設けられる。第３上流流路５０３の第２上流流路５０２側の開口部分は、第１液体溜まり部５０２ａに応じて拡幅された第２液体溜まり部５０３ａとされる。

第２液体溜まり部５０３ａの開口部分、すなわち第１液体溜まり部５０２ａと第２液体溜まり部５０３ａとの間には、液体に含まれる気泡、異物などを除去するためのフィルター２１６が設けられる。これにより、第２上流流路５０２から供給された液体は、フィルター２１６を介して第３上流流路５０３に供給される。

フィルター２１６を構成するために、例えば、金網、樹脂製の網などの網目状体、多孔質体、微細な貫通孔を設けた金属板を用いることができる。網目状体の具体的な例としては、金属メッシュフィルター、金属繊維、例えばＳＵＳの細線をフェルト状にしたものである。フィルター２１６として、圧縮焼結させた金属焼結フィルター、エレクトロフォーミング金属フィルター、電子線加工金属フィルター、レーザービーム加工金属フィルターなどを用いることができる。

フィルター２１６の性質として、バブルポイント圧力がばらつかないことが好ましい。そのため、フィルター２１６として、高精細な穴径を有するフィルターは適当である。バブルポイント圧力とは、フィルター開孔で形成されたメニスカスが壊れる圧力のことである。フィルター２１６の濾過粒度は、液体中の異物をノズル開口に到達させないようにするために、例えばノズル開口が円形の場合、ノズル開口の直径よりも小さいことが好ましい。

フィルター２１６としてステンレスのメッシュフィルターを採用する場合、液体中の異物をノズル開口に到達させないようにするとよい。そのためには、ノズル開口が円形でその直径が２０μｍである場合、濾過粒度１０μｍの綾畳織のメッシュフィルターを採用するとよい。この場合、表面張力２８ｍＮ／ｍの液体で発生するバブルポイント圧力は、３〜５ｋＰａである。濾過粒度５μｍの綾畳織のメッシュフィルターを採用した場合、表面張力２８ｍＮ／ｍの液体で発生するバブルポイント圧力は、０〜１５ｋＰａである。

第３上流流路５０３は、第２上流流路５０２とは反対側となる第２液体溜まり部５０３ａよりも下流側で２つに分岐する。第３上流流路５０３は、第３上流流路部材２１３の下流流路部材２２０側の面に第１排出口５０４Ａ及び第２排出口５０４Ｂとして開口する。以下、第１排出口５０４Ａ及び第２排出口５０４Ｂを区別しない場合は排出口５０４と称する。

１つの接続部２１４に対応する上流流路５００は、第１上流流路５０１、第２上流流路５０２及び第３上流流路５０３を有する。上流流路５００は、下流流路部材２２０側に、２つの排出口５０４である第１排出口５０４Ａ及び第２排出口５０４Ｂとして開口する。言い換えると、２つの排出口５０４である第１排出口５０４Ａ及び第２排出口５０４Ｂは、共通する流路と通じるように設けられる。

第３上流流路部材２１３の下流流路部材２２０側には、下流流路部材２２０側に向かって突出する第３突起部２１７が設けられる。第３突起部２１７は、第３上流流路５０３ごとに設けられる。第３突起部２１７の先端面には、排出口５０４が開口して設けられる。

上流流路５００が設けられた第１上流流路部材２１１、第２上流流路部材２１２及び第３上流流路部材２１３は、例えば、接着剤、溶着などによって一体的に積層される。第１上流流路部材２１１、第２上流流路部材２１２及び第３上流流路部材２１３をネジ又はクランプなどで固定することもできる。ただし、第１上流流路５０１から第３上流流路５０３に至るまでの接続部分から液体が漏出するのを抑制するために、接着剤、溶着などで接合することが好ましい。

本実施形態では、１つの上流流路部材２１０に４つの接続部２１４が設けられる。そのため、１つの上流流路部材２１０には４つの独立した上流流路５００が設けられる。各上流流路５００には、４つのヘッドユニット２のそれぞれに対応して液体が供給される。１つの上流流路５００は、２つに分岐し、後述する下流流路６００と通じるヘッドユニット２の２つの導入口４４のそれぞれに接続される。

本実施形態では、上流流路５００がフィルター２１６よりも下流、すなわち下流流路部材２２０側で２つに分岐した構成を例示したが、特にこれに限定されない。上流流路５００は、フィルター２１６よりも下流側で分岐してもよい。上流流路５００は、３つ以上に分岐してもよい。１つの上流流路５００がフィルター２１６よりも下流で分岐しなくてもよい。

下流流路部材２２０は、上流流路部材２１０に接合される。下流流路部材２２０は、上流流路５００と通じる下流流路６００を有するホルダー部材の一例である。本実施形態の下流流路部材２２０は、第１部材の一例である第１下流流路部材２４０と、第２部材の一例である第２下流流路部材２５０とから構成される。

下流流路部材２２０は、液体の流路となる下流流路６００を有する。本実施形態の下流流路６００は、形状の異なる２種の下流流路６００Ａ及び下流流路６００Ｂで構成される。

第１下流流路部材２４０は、ほぼ平板状に形成された部材である。第２下流流路部材２５０は、上流流路部材２１０側の面に凹部として第１収容部２５１、上流流路部材２１０とは反対側の面に凹部として第２収容部２５２が設けられた部材である。

第１収容部２５１は、第１下流流路部材２４０が収容される程度の大きさとされる。第２収容部２５２は、４つのヘッドユニット２が収容される程度の大きさとされる。本実施形態に係る第２収容部２５２は、４つのヘッドユニット２を収容可能である。

第１下流流路部材２４０には、上流流路部材２１０側の面に、第１突起部２４１が複数個形成される。第１突起部２４１は、上流流路部材２１０に設けられた第３突起部２１７のうち、第１排出口５０４Ａが設けられた第３突起部２１７に対向して設けられる。本実施形態では、４つの第１突起部２４１が設けられる。

第１下流流路部材２４０には、重力方向Ｚに貫通し、第１突起部２４１の頂面となる上流流路部材２１０に対向する面に開口した第１流路６０１が設けられる。第３突起部２１７と第１突起部２４１とは、シール部材２３０を介して接合される。第１排出口５０４Ａと第１流路６０１とは、互いに通じている。

第１下流流路部材２４０には、重力方向Ｚに貫通した第２貫通孔２４２が複数個形成される。各第２貫通孔２４２は、第２下流流路部材２５０に形成された第２突起部２５３が挿入される位置に形成される。本実施形態では、４つの第２貫通孔２４２が設けられる。

第１下流流路部材２４０には、ヘッドユニット２に電気的に接続された配線基板１２１が挿入される第１挿通孔２４３が複数個形成される。具体的には、各第１挿通孔２４３は、重力方向Ｚに貫通し、第２下流流路部材２５０の第２挿通孔２５５と、ヘッド基板３００の第３挿通孔３０２とに通じるように形成される。本実施形態では４つのヘッドユニット２に設けられた各配線基板１２１に対応して４つの第１挿通孔２４３が設けられる。第１下流流路部材２４０には、ヘッド基板３００側に突出し、受け面を有する支持部２４５が設けられる。

第２下流流路部材２５０には、第１収容部２５１の底面に、第２突起部２５３が複数個形成される。各第２突起部２５３は、上流流路部材２１０に設けられた第３突起部２１７のうち第２排出口５０４Ｂが設けられた第３突起部２１７に対向して設けられる。本実施形態では、４つの第２突起部２５３が設けられる。第２下流流路部材２５０には、重力方向Ｚに貫通し、第２突起部２５３の頂面と、第２収容部２５２の底面となるヘッドユニット２に対向した面とに開口した下流流路６００Ｂが設けられる。第３突起部２１７と第２突起部２５３とは、シール部材２３０を介して接合される。第２排出口５０４Ｂと下流流路６００Ｂとは、互いに通じている。

第２下流流路部材２５０には、重力方向Ｚに貫通した第３流路６０３が複数個形成される。第３流路６０３は、第１収容部２５１及び第２収容部２５２の底面に開口する。本実施形態では、４つの第３流路６０３が設けられる。

第２下流流路部材２５０の第１収容部２５１の底面には、第３流路６０３に連続した溝部２５４が複数個形成される。この溝部２５４は、第１収容部２５１に収容された第１下流流路部材２４０に封止されることにより、第２流路６０２を構成する。すなわち、第２流路６０２は、溝部２５４と第１下流流路部材２４０の第２下流流路部材２５０側の面とで形成された流路である。この第２流路６０２が第１部材と第２部材との間に設けられた流路に相当する。

第２下流流路部材２５０には、ヘッドユニット２に電気的に接続された配線基板１２１が挿入される第２挿通孔２５５が複数個形成される。具体的には、第２挿通孔２５５は、重力方向Ｚに貫通し、第１下流流路部材２４０の第１挿通孔２４３とヘッドユニット２の接続口４３とに通じるように形成される。本実施形態では４つのヘッドユニット２に設けられた各配線基板１２１に対応して４つの第２挿通孔２５５が設けられる。

下流流路６００Ａは、上述した第１流路６０１、第２流路６０２及び第３流路６０３が通じることにより形成される。第２流路６０２は、第１下流流路部材２４０の一方面に形成された溝が第２下流流路部材２５０により封止されることによって形成される。このような第１下流流路部材２４０と第２下流流路部材２５０とを接合することにより、第２流路６０２を下流流路部材２２０内に容易に形成できる。

第２流路６０２は、水平方向に延びる流路の一例である。第２流路６０２が水平方向に延びるとは、第２流路６０２の延びる方向に、走査方向Ｘ又は搬送方向Ｙの成分、すなわち走査方向Ｘ又は搬送方向Ｙのベクトルが含まれていることをいう。第２流路６０２が水平方向に延びることにより、重力方向Ｚにおける液体噴射部１の高さを小型化できる。仮に、第２流路６０２が水平方向に対して傾いていると、液体噴射部１の高さの寸法が大きくなる。

第２流路６０２の延びる方向とは、第２流路６０２内の液体が流れる方向のことである。したがって、第２流路６０２は、水平方向に設けられているものも、水平方向に延びる水平面に交差するように設けられているものも含む。本実施形態では、第１流路６０１及び第３流路６０３を重力方向Ｚに延びるように設け、第２流路６０２を水平方向に延びるように設けた。第１流路６０１と第３流路６０３とは、水平方向に延びるように設けられてもよい。

下流流路６００Ａは、これに限定されず、第１流路６０１、第２流路６０２、第３流路６０３以外の流路が存在してもよい。下流流路６００Ａは、第１流路６０１、第２流路６０２及び第３流路６０３から構成されず、１本の流路から構成されていてもよい。

下流流路６００Ｂは、上述したように、第２下流流路部材２５０を重力方向Ｚに貫通した貫通孔として形成される。下流流路６００Ｂはこのような態様に限定されず、例えば、水平方向に延びるように形成されてもよいし、下流流路６００Ａのように複数の流路から構成したものでもよい。

下流流路６００Ａ及び下流流路６００Ｂは１つのヘッドユニット２に対して１つずつ形成されている。すなわち、下流流路部材２２０には、下流流路６００Ａと下流流路６００Ｂとの１組が計４つ設けられる。

下流流路６００Ａの両端の開口のうち、第１排出口５０４Ａと通じる第１流路６０１の開口を第１流入口６１０とし、第２収容部２５２に開口する第３流路６０３の開口を第１流出口６１１とする。

下流流路６００Ｂの両端の開口のうち、第２排出口５０４Ｂと通じる下流流路６００Ｂの開口を第２流入口６２０とし、第２収容部２５２に開口する下流流路６００Ｂの開口を第２流出口６２１とする。以降、下流流路６００Ａ及び下流流路６００Ｂを区別しない場合は、下流流路６００と称する。

図６に示すように、ホルダー部材である下流流路部材２２０は、ヘッドユニット２を下方の側で保持する。具体的には、下流流路部材２２０の第２収容部２５２には、複数のヘッドユニット２が収容される。本実施形態では、下流流路部材２２０の第２収容部２５２に４つのヘッドユニット２が収容される。

図８に示すように、ヘッドユニット２には導入口４４が２つずつ設けられる。下流流路６００Ａ及び下流流路６００Ｂの第１流出口６１１及び第２流出口６２１は、各導入口４４の開口する位置に合わせて下流流路部材２２０に設けられる。

ヘッドユニット２の各導入口４４は、第２収容部２５２の底面部に開口した下流流路６００の第１流出口６１１及び第２流出口６２１に通じるように位置合わせされる。ヘッドユニット２は、各導入口４４の周囲に設けられた接着剤２２７により第２収容部２５２に固定される。このようにヘッドユニット２が第２収容部２５２に固定されることにより、下流流路６００の第１流出口６１１及び第２流出口６２１と導入口４４とが通じ、ヘッドユニット２に液体が供給されるようになる。

下流流路部材２２０の上方には、ヘッド基板３００が載置される。具体的には、下流流路部材２２０の上流流路部材２１０側の面には、ヘッド基板３００が載置される。ヘッド基板３００は、配線基板１２１が接続され、配線基板１２１を介して液体噴射部１の噴射動作などを制御する回路、抵抗などの電装部品が実装された部材である。

図６に示すように、ヘッド基板３００の上流流路部材２１０側の面には、配線基板１２１の第２端子列１２３が電気的に接続される電極端子である第１端子３１１が複数個並設された第１端子列３１０が形成される。本実施形態の第１端子３１１は、搬送方向Ｙに複数個並設されることにより第１端子列３１０を形成する。本実施形態では、この第１端子列３１０が、配線基板１２１に電気的に接続される実装領域の一例となる。

ヘッド基板３００には、ヘッドユニット２に電気的に接続された配線基板１２１が挿入される第３挿通孔３０２が複数個形成される。具体的には、第３挿通孔３０２は、重力方向Ｚに貫通し、第１下流流路部材２４０の第１挿通孔２４３と通じるように形成される。本実施形態では４つのヘッドユニット２に設けられた各配線基板１２１に対応して４つの第３挿通孔３０２が設けられる。

ヘッド基板３００には、重力方向Ｚに貫通した第３貫通孔３０１が設けられる。第３貫通孔３０１は、第１下流流路部材２４０の第１突起部２４１及び第２下流流路部材２５０の第２突起部２５３が挿入されるための孔である。本実施形態では、合計８つの第３貫通孔３０１が第１突起部２４１及び第２突起部２５３に対向するように設けられる。

ヘッド基板３００に形成する第３貫通孔３０１の形状は上述したような態様に限定されない。例えば、第１突起部２４１及び第２突起部２５３が挿入される共通の貫通孔を挿通孔としてもよい。すなわち、ヘッド基板３００は、下流流路部材２２０の下流流路６００と、上流流路部材２１０の上流流路５００とを接続する際の妨げとならないように挿通孔、切り欠きなどが形成されていればよい。

図８、図９及び図１０に示すように、ヘッド基板３００と上流流路部材２１０との間には、シール部材２３０が設けられる。シール部材２３０の材料としては、液体噴射部１に用いられるインクなどの液体に対して耐液体性を有し、且つ弾性変形可能な弾性材料、例えばゴム、エラストマーなどを用いることができる。

シール部材２３０は、重力方向Ｚに貫通した連通路２３２及び下流流路部材２２０側に突出した第４突起部２３１が形成された板状の部材である。本実施形態では、連通路２３２及び第４突起部２３１は、各上流流路５００及び下流流路６００に対応して８つ形成される。

シール部材２３０の上流流路部材２１０側には、第３突起部２１７が挿入される環状の第１凹部２３３が設けられる。第１凹部２３３は、第４突起部２３１に対向する位置に設けられる。

第４突起部２３１は、下流流路部材２２０側に突出し、下流流路部材２２０の第１突起部２４１及び第２突起部２５３に対向する位置に設けられる。第４突起部２３１の頂面となる下流流路部材２２０に対向する面には、第１突起部２４１及び第２突起部２５３が挿入される第２凹部２３４が設けられる。

連通路２３２は、シール部材２３０を重力方向Ｚに貫通し、一端が第１凹部２３３に開口し、他端が第２凹部２３４に開口するように構成される。第１凹部２３３に挿入された第３突起部２１７の先端面と、第２凹部２３４に挿入された第１突起部２４１及び第２突起部２５３の先端面との間で、第４突起部２３１が重力方向Ｚに所定の圧力が印加された状態で保持される。したがって、上流流路５００と下流流路６００とは、連通路２３２を介して密封された状態で互いに通じている。

下流流路部材２２０の第２収容部２５２側となる下側には、カバーヘッド４００が取り付けられる。カバーヘッド４００は、ヘッドユニット２が固定され、下流流路部材２２０に固定される部材である。カバーヘッド４００には、ノズル２１を露出する第２露出開口部４０１が設けられる。本実施形態では、第２露出開口部４０１は、ノズルプレート２０を露出する大きさ、つまり、コンプライアンス基板４５の第１露出開口部４５ａと略同じ開口を有する。

カバーヘッド４００は、コンプライアンス基板４５に対して連通板１５とは反対面側に接合される。カバーヘッド４００は、コンプライアンス部４９の流路である共通液室１００とは反対側の空間を封止する。このようにコンプライアンス部４９をカバーヘッド４００で覆うことにより、コンプライアンス部４９が記録媒体ＳＴに接触することによって損傷するおそれを低減できる。カバーヘッド４００は、コンプライアンス部４９に液体が付着することを抑制する。カバーヘッド４００の表面に付着した液体は、例えばワイパーブレードなどで払拭できる。これにより、記録媒体ＳＴをカバーヘッド４００に付着した液体によって汚すことを抑制できる。なお、特に図示していないが、カバーヘッド４００とコンプライアンス部４９との間の空間は、大気開放されている。カバーヘッド４００は、ヘッドユニット２ごとに独立して設けられてもよい。

＜メンテナンス装置の構成について＞
次に、メンテナンス装置７１０の構成について説明する。
図１１に示すように、非記録領域ＲＡは、ワイピング領域ＷＡと、受容領域ＦＡと、メンテナンス領域ＭＡとを含む。ワイピング領域ＷＡには、ワイパーユニット７５０が設けられる。受容領域ＦＡには、フラッシングユニット７５１が設けられる。メンテナンス領域ＭＡには、キャップユニット７５２が設けられる。非記録領域ＲＡには、走査方向Ｘにおいて記録領域ＰＡ側から順に、ワイピング領域ＷＡ、受容領域ＦＡ、メンテナンス領域ＭＡが位置する。

ワイパーユニット７５０は、液体を吸収するように構成されるワイピング部材７５０ａを有する。ワイパーユニット７５０は、ワイピング部材７５０ａによりノズル面２０ａをワイピングする。本実施形態のワイピング部材７５０ａは、可動式である。ワイパーユニット７５０は、ワイピングモーター７５３の動力によりワイピングする。ワイピングとは、液体噴射部１のノズル面２０ａに付着する液体、塵埃などの汚れを除去するために、ノズル面２０ａを払拭する動作である。

ワイパーユニット７５０は、搬送方向Ｙに沿って延びる一対のレール７５８と、一対のレール７５８に支持される可動式の筐体７５９とを備える。筐体７５９は、例えばラックアンドピニオン機構などの動力伝達機構を介してワイピングモーター７５３の動力が伝達されることにより、レール７５８上を往復移動するように構成される。筐体７５９内には、搬送方向Ｙに所定の距離を隔てて位置する繰出軸７６０と巻取軸７６１とがそれぞれ回転可能に支持される。繰出軸７６０は、未使用の布シート７６２が形成する繰出ロール７６３を支持する。巻取軸７６１は、使用済みの布シート７６２が形成する巻取ロール７６４を支持する。

繰出ロール７６３と巻取ロール７６４の間に位置する布シート７６２は、筐体７５９の上面において中央に位置する開口から上方へ一部分が突出した状態にある押付ローラー７６５の上面に巻き掛けられる。布シート７６２は、押付ローラー７６５に巻き掛けられた部分において、上方に向けて凸状となる半円筒状のワイピング部材７５０ａを形成する。ワイピング部材７５０ａは、上方へ押し付けられた状態にある。

筐体７５９は、ワイピングモーター７５３が正転駆動することにより、図１１に示す退避位置から搬送方向Ｙに往路移動し、ワイピング位置に至る。筐体７５９は、ワイピングモーター７５３が逆転駆動することにより、ワイピング位置から搬送方向Ｙとは逆方向に復路移動し、退避位置に至る。本実施形態において、ワイピング部材７５０ａは、筐体７５９が往路移動する際に、液体噴射部１のノズル面２０ａをワイピングする。

筐体７５９の往路移動が終わると、ワイピングモーター７５３と巻取軸７６１とを動力伝達可能に接続する状態に動力伝達機構の状態が切り換わる。ワイピングモーター７５３が逆転駆動するときの動力によって、筐体７５９の復路移動と布シート７６２の巻取ロール７６４への所定量の巻き取り動作とが行われる。液体噴射部１Ａ及び液体噴射部１Ｂは、ワイピング領域ＷＡに対して順次に移動される。そのため、ワイピング部材７５０ａは、筐体７５９が１回往復移動することにより１つの液体噴射部１をワイピングし、筐体７５９が２回往復移動することにより２つの液体噴射部１をワイピングする。

フラッシングユニット７５１は、液体噴射部１が噴射した液体を受容する液体受容部７５１ａを有する。本実施形態の液体受容部７５１ａは、例えばベルトによって構成される。フラッシングユニット７５１は、フラッシングによってベルトの汚れ量が規定量を超えたとみなされる所定時期に、フラッシングモーター７５４の動力によりベルトを移動させる。フラッシングとは、ノズル２１の目詰まりなどを予防及び解消する目的で、記録処理とは無関係にノズル２１から液体を噴射する動作である。

フラッシングユニット７５１は、搬送方向Ｙに対峙する互いに平行な駆動ローラー７６６及び従動ローラー７６７と、駆動ローラー７６６及び従動ローラー７６７に巻き掛けられた無端状のベルト７６８とを備える。本実施形態のベルト７６８は、走査方向Ｘにノズル列ＮＬ８列分以上の幅を有する。ベルト７６８は、液体噴射部１Ａ及び液体噴射部１Ｂの各ノズル２１から噴射された液体を受容する液体受容部７５１ａを構成する。この場合、ベルト７６８の外周面は、液体を受容する液体受容面７６９となる。

フラッシングユニット７５１は、ベルト７６８の下方に、液体受容面７６９に保湿液を供給可能な保湿液供給部と、液体受容面７６９に付着した廃液などを保湿状態で掻き取る不図示の液体掻取り部とを備える。液体受容面７６９で受容された廃液は、液体掻取り部によってベルト７６８から除去される。これにより、次に液体を受容する液体受容面７６９が、廃液の付いていない部分に更新される。

キャップユニット７５２は、２つのキャップ部７５２ａを有する。２つのキャップ部７５２ａは、図１１において二点鎖線で示すホームポジションＨＰに位置する液体噴射部１Ａ及び液体噴射部１Ｂのそれぞれに接触するように構成される。キャップ部７５２ａは、キャッピングモーター７５５の動力によって、ホームポジションＨＰにある液体噴射部１に接触する接触位置と、液体噴射部１から離れた退避位置との間で移動する。接触位置に位置するキャップ部７５２ａは、ノズル２１を囲うように液体噴射部１に接触する。

本実施形態のキャップ部７５２ａは、１つの吸引用キャップ７７０と４つの保湿用キャップ７７１とを備える。保湿用キャップ７７１は、ノズル列ＮＬを２列ずつキャッピングすることにより、ノズル２１の乾燥を抑制する。キャッピングとは、キャップ部７５２ａが液体噴射部１に接触することによってノズル２１を囲む閉空間を形成することである。

吸引用キャップ７７０は、チューブ７７２を介して吸引ポンプ７７３と接続される。吸引用キャップ７７０が液体噴射部１をキャッピングする状態で吸引ポンプ７７３を駆動すると、吸引用キャップ７７０内に負圧が生じる。吸引用キャップ７７０内に生じる負圧の作用により、ノズル２１から増粘した液体、気泡などが排出される。このように、吸引することによってノズル２１から強制的に液体を噴射させることを吸引クリーニングともいう。

吸引クリーニングは、液体噴射部１Ａ及び液体噴射部１Ｂに対して２列のノズル列ＮＬずつ実行される。吸引クリーニングを実行すると、ノズル２１から排出された液体が液体噴射部１のノズル面２０ａに付着することがある。そのため、吸引クリーニングを実行した後にはワイピングを実行してもよい。こうすると、吸引クリーニングによってノズル面２０ａに付着した液体を、ワイピングによって除去できる。

ワイピング部材７５０ａによりワイピングを実行すると、液体噴射部１に付着していた異物、気泡などがノズル２１内に押し込まれることがある。この場合、ノズル２１内のメニスカスが破壊されたり、ノズル２１の噴射不良を生じたりするおそれがある。そのため、ワイピングを実行した後には、フラッシングを実行してもよい。こうすると、ノズル２１内に混入した異物を排出したり、ノズル２１内のメニスカスを整えたりすることができる。

＜流体噴射装置の構成について＞
次に、流体噴射装置７７５の構成について説明する。
図１２に示すように、流体噴射装置７７５は、液体噴射部１に対して、気体及び第２液体のうちの少なくとも一方を噴射可能に構成されている。流体噴射装置７７５が噴射する気体とは、例えば空気である。流体噴射装置７７５が噴射する第２液体とは、洗浄液である。流体噴射装置７７５は、空気と洗浄液とを一緒に噴射させることにより、空気と洗浄液とが混合された混合流体を噴射することが可能とされる。

洗浄液は、液体噴射部１が使用する液体の主溶媒と同じにするとよい。本実施形態では、液体噴射部１が使用する液体の溶媒が水である水系レジンインクを採用しているため、洗浄液として純水を使用している。例えば、液体噴射部１が使用する液体の溶媒が溶剤である場合は、液体噴射部１が使用する液体と同じ溶媒を洗浄液として使用するとよい。洗浄液として、純水に防腐剤を含有させた液体を用いてもよい。

洗浄液に含有させる防腐剤は、液体噴射部１が使用する液体に含有される防腐剤と同じでもよい。洗浄液に含有させる防腐剤は、例えば、芳香族ハロゲン化合物、メチレンジチオシアナート、含ハロゲン窒素硫黄化合物、１，２−ベンズイソチアゾリン−３−オンなどが挙げられる。芳香族ハロゲン化合物として、例えばＰｒｅｖｅｎｔｏｌＣＭＫがある。１，２−ベンズイソチアゾリン−３−オンとして、例えばＰＲＯＸＥＬＧＸＬがある。防腐剤として、泡立ち難さの観点からＰＲＯＸＥＬを採用する場合には、洗浄液に対する防腐剤の含有量を０．０５質量パーセント以下にすることが好ましい。

流体噴射装置７７５は、噴射ユニット７７７を備える。噴射ユニット７７７は、混合流体を噴射可能な噴射口７７８ｊを有する流体噴射ノズル７７８を備える。流体噴射ノズル７７８は、混合流体を噴射方向Ｆに向けて噴射するように配置される。噴射方向Ｆとは、例えば、ノズル面２０ａと直交するように上を向く方向である。

流体噴射ノズル７７８は、噴射方向Ｆに向けて洗浄液が噴射される液体噴射ノズル７８０と、噴射方向Ｆに向けて空気が噴射される気体噴射ノズル７８１とを備える。気体噴射ノズル７８１は、液体噴射ノズル７８０を囲むように円環状に設けられる。

液体噴射ノズル７８０及び気体噴射ノズル７８１は、いずれも噴射方向Ｆに向けて開口する。液体噴射ノズル７８０の開口径は、液体噴射部１が使用する液体が付着して固化することを考慮すると、液体噴射部１のノズル２１の開口径よりも十分大きいことが好ましく、例えば０．４ｍｍ以上であることが好ましい。本実施形態では、液体噴射ノズル７８０の開口径を１．１ｍｍに設定している。

本実施形態の流体噴射ノズル７７８には、洗浄液と空気とが混合される混合部ＫＡが流体噴射ノズル７７８の外部に位置する、いわゆる外部混合型のものが採用されている。したがって、混合部ＫＡは、液体噴射ノズル７８０の開口及び気体噴射ノズル７８１の開口と隣接する所定の空間によって構成される。流体噴射ノズル７７８には、エアポンプ７８２からの空気を供給するための気体流路７８３ａを形成する気体供給管７８３が連結される。気体流路７８３ａは、気体噴射ノズル７８１と通じる。

気体供給管７８３の途中位置にはエアポンプ７８２から供給される空気の圧力を調整する圧力調整弁７８４が設けられる。本実施形態の流体噴射装置７７５では、エアポンプ７８２から流体噴射ノズル７７８に供給される空気の圧力が２００ｋＰａ以上となるように設定される。気体供給管７８３における圧力調整弁７８４と流体噴射ノズル７７８との間には、流体噴射ノズル７７８に供給される空気中の塵埃などを除去するためのエアフィルター７８５が設けられる。

流体噴射ノズル７７８には、貯留タンク７８７に貯留された洗浄液を供給するための液体流路７８８ａを形成する液体供給管７８８が連結される。液体流路７８８ａは、液体噴射ノズル７８０と通じる。貯留タンク７８７の上端部には、貯留タンク７８７内の液体収容空間ＳＫを大気開放する大気開放管７８９が設けられる。大気開放管７８９には、開閉弁の一例である第１電磁弁７９０が設けられる。

第１電磁弁７９０が開弁されると、液体収容空間ＳＫが大気開放管７８９を介して大気と通じる連通状態となる。第１電磁弁７９０が閉弁されると、液体収容空間ＳＫが大気と通じない非連通状態となる。すなわち、第１電磁弁７９０は、開閉動作することによって、液体収容空間ＳＫを連通状態と非連通状態との間で切り替え可能に構成される。

貯留タンク７８７は、供給管７９２を介して洗浄液カートリッジ７９１と接続される。洗浄液カートリッジ７９１は、洗浄液を収容し、装置本体１１ａに着脱自在に装着される。供給管７９２の途中位置には、洗浄液カートリッジ７９１内の洗浄液を貯留タンク７８７に供給するための液供給ポンプ７９３が設けられる。供給管７９２における液供給ポンプ７９３と貯留タンク７８７との間の位置には、供給管７９２を開閉するための第２電磁弁７９４が設けられる。

図１３及び図１４に示すように、噴射ユニット７７７は、ベース部材８００と、ベース部材８００内に配置される支持部材８０１とを備える。ベース部材８００は、有底の略矩形箱状となる形状を有する。支持部材８０１は、流体噴射ノズル７７８を支持する。流体噴射ノズル７７８は、支持部材８０１に固定される。噴射ユニット７７７は、ベース部材８００内に配置されるケース８０２を備える。ケース８０２は、矩形筒状となる形状を有し、流体噴射ノズル７７８及び支持部材８０１を収容する。支持部材８０１及びケース８０２は、ベース部材８００内を搬送方向Ｙに沿って個別に往復移動可能に構成される。

図１３に示すように、噴射ユニット７７７は、洗浄モーター８０３と、洗浄モーター８０３の駆動力を支持部材８０１に伝達する伝達機構８０４と、記録領域ＰＡ側の端部に設けられた側板８０５とを備える。支持部材８０１は、洗浄モーター８０３の駆動力が伝達機構８０４を介して伝達されることによって、流体噴射ノズル７７８と一緒に搬送方向Ｙに往復移動される。この場合、ケース８０２は、支持部材８０１によって内側から押し付けられた場合に、支持部材８０１と一緒に搬送方向Ｙに沿って往復移動される。

ケース８０２には、ケース８０２の上端開口を塞ぐ相手部材の一例であるカバー部材８０６が取り付けられる。カバー部材８０６の上面における流体噴射ノズル７７８の移動領域の一部と重力方向Ｚにおいて重なる位置には、搬送方向Ｙに延びる矩形状の貫通孔８０７が形成される。カバー部材８０６の上面には、貫通孔８０７を囲む矩形枠状のリップ部８０８が設けられる。側板８０５におけるケース８０２側の面には、ケース８０２が搬送方向Ｙに沿って往復移動する際にケース８０２を案内する不図示の案内部が設けられる。

図１４に示すように、不図示の案内部は、ケース８０２が液体噴射部１Ａ及び液体噴射部１Ｂと対応する位置でそれぞれ上昇し、リップ部８０８が互いに接近して位置する２列のノズル列ＮＬを囲んだ状態で液体噴射部１に接触するように、ケース８０２を案内する。

本実施形態では、重力方向Ｚにおける流体噴射ノズル７７８と液体噴射部１との距離は、約５ｍｍに設定されている。図１に示す支持台７１２に支持された記録媒体ＳＴとノズル面２０ａとの距離は、約１ｍｍである。そのため、重力方向Ｚにおける流体噴射ノズル７７８と液体噴射部１との距離は、図１に示す支持台７１２に支持された記録媒体ＳＴとノズル面２０ａとの距離よりも長い。

＜液体噴射装置の電気的構成について＞
次に液体噴射装置７の電気的構成について説明する。
図１５に示すように、液体噴射装置７は、液体噴射装置７を統括的に制御する制御部８１０を備える。制御部８１０は、リニアエンコーダー８１１と電気的に接続される。リニアエンコーダー８１１は、キャリッジ７２３の背面側にガイド軸７２２に沿って延びるように設けられたテープ状の符号板と、この符号板に穿孔された一定ピッチのスリットを透過した光を検出するセンサーとを備える。このセンサーは、キャリッジ７２３に固定される。

制御部８１０は、リニアエンコーダー８１１から記録部７２０の移動量に比例する数のパルスを入力する。制御部８１０は、その入力したパルスの数を、記録部７２０がホームポジションＨＰから離れるときに加算し、ホームポジションＨＰに近づくときに減算する。こうすることにより、制御部８１０は、記録部７２０の走査方向Ｘにおける位置を把握する。

制御部８１０には、ロータリーエンコーダー８１２が電気的に接続される。ロータリーエンコーダー８１２は、洗浄モーター８０３の出力軸に取り付けられた円板状の符号板と、符号板に穿孔された一定ピッチのスリットを透過した光を検出するセンサーとを備える。

制御部８１０は、ロータリーエンコーダー８１２から支持部材８０１の移動量に比例する数のパルスを入力する。制御部８１０は、その入力したパルスの数を、支持部材８０１が図２０に示す待機位置から離れるときに加算し、待機位置に近づくときに減算する。こうすることにより、制御部８１０は、支持部材８０１の搬送方向Ｙにおける位置、すなわち流体噴射ノズル７７８の搬送方向Ｙにおける位置を把握する。

図１５に示すように、制御部８１０は、駆動回路１２０を介してアクチュエーター１３０と電気的に接続され、アクチュエーター１３０を駆動制御する。制御部８１０は、アクチュエーター１３０の駆動による振動板５０の残留振動の周期に基づいてノズル２１の目詰まりを把握する。

制御部８１０は、モーター駆動回路８１４を介して洗浄モーター８０３と電気的に接続される。制御部８１０は、モーター駆動回路８１５を介してキャリッジモーター７４８と電気的に接続される。制御部８１０は、モーター駆動回路８１６を介して搬送モーター７４９と電気的に接続される。制御部８１０は、モーター駆動回路８１７を介してワイピングモーター７５３と電気的に接続される。制御部８１０は、モーター駆動回路８１８を介してフラッシングモーター７５４と電気的に接続される。制御部８１０は、モーター駆動回路８１９を介してキャッピングモーター７５５と電気的に接続される。制御部８１０は、洗浄モーター８０３、キャリッジモーター７４８、搬送モーター７４９、ワイピングモーター７５３、フラッシングモーター７５４、キャッピングモーター７５５をそれぞれ駆動制御する。

制御部８１０は、ポンプ駆動回路８２０を介して吸引ポンプ７７３と電気的に接続される。制御部８１０は、ポンプ駆動回路８２１を介してエアポンプ７８２と電気的に接続される。制御部８１０は、ポンプ駆動回路８２２を介して液供給ポンプ７９３と電気的に接続される。制御部８１０は、吸引ポンプ７７３、エアポンプ７８２、液供給ポンプ７９３をそれぞれ駆動制御する。

制御部８１０は、弁駆動回路８２３を介して第１電磁弁７９０と電気的に接続される。制御部８１０は、弁駆動回路８２４を介して第２電磁弁７９４と電気的に接続される。制御部８１０は、第１電磁弁７９０、第２電磁弁７９４をそれぞれ駆動制御する。

制御部８１０は、操作部７０１と電気的に接続される。ユーザーは、操作部７０１を介して制御部８１０に指示を与える。本実施形態の操作部７０１は、制御部８１０に対して情報を送信したり、制御部８１０から情報を受信したりする。

図１６に示すように、液体噴射装置７は、液体噴射装置７の状況を監視する検出器群１５０を備える。検出器群１５０は、その検出結果を制御部８１０に出力する。
制御部８１０は、インターフェイス部１５１と、ＣＰＵ１５２と、メモリー１５３とを有する。インターフェイス部１５１は、外部装置であるコンピューター１６０と液体噴射装置７との間でデータを送受信する。駆動回路１２０は、アクチュエーター１３０を駆動させる駆動信号を生成する。

ＣＰＵ１５２は演算処理装置である。メモリー１５３は、ＣＰＵ１５２のプログラムを格納する領域または作業領域などを確保する記憶装置であり、ＲＡＭ、ＥＥＰＲＯＭなどの記憶素子を有する。ＣＰＵ１５２は、メモリー１５３に格納されているプログラムに従い、制御回路１５４を介して、記録部７２０、搬送部７１３、発熱部７１７、送風部７１８及びメンテナンス装置７１０を制御する。制御回路１５４とは、例えばモーター駆動回路８１５、モーター駆動回路８１６、モーター駆動回路８１７、モーター駆動回路８１８及びモーター駆動回路８１９を含む回路である。

検出器群１５０には、例えば、キャリッジ７２３の移動状況を検出するリニアエンコーダー８１１、記録媒体ＳＴを検出する媒体検出センサー及びノズル２１からの液体の噴射状態を検出するように構成される検出部１５６を含む。検出部１５６は、例えば、圧力発生室１２の残留振動を検出する回路である。制御部８１０は、検出部１５６の検出結果に基づいて、後述するノズル検査を実行する。検出部１５６は、アクチュエーター１３０を構成する圧電素子を含んでもよい。

＜ノズル検査について＞
次に、検出部１５６が液体噴射部１の噴射状態を検出することによって実行されるノズル検査について説明する。

駆動回路１２０からの信号を受けてアクチュエーター１３０に電圧が印加されると、振動板５０がたわみ変形する。これにより圧力発生室１２内で圧力変動が生じ、その変動により、振動板５０はしばらく振動する。この振動を残留振動といい、残留振動の状態から圧力発生室１２及び圧力発生室１２と通じるノズル２１の状態を検出することを、ノズル検査という。

図１７は、振動板５０の残留振動を想定した単振動の計算モデルを示す図である。
駆動回路１２０がアクチュエーター１３０に駆動信号を印加すると、アクチュエーター１３０は駆動信号の電圧に応じて伸縮する。振動板５０はアクチュエーター１３０の伸縮に応じて撓み、これにより圧力発生室１２の容積は拡大した後、収縮する。このとき、圧力発生室１２内に発生する圧力により、圧力発生室１２を満たす液体の一部が、ノズル２１から液滴として噴射される。

この一連の振動板５０の動作の際に、液体が流れる流路の形状や液体の粘度などによる流路抵抗ｒと、流路内の液体重量によるイナータンスｍと振動板５０のコンプライアンスＣによって決定される固有振動周波数で、振動板５０が自由振動する。この振動板５０の自由振動が残留振動である。

この振動板５０の残留振動の計算モデルは、圧力Ｐと、上述のイナータンスｍ、コンプライアンスＣおよび流路抵抗ｒとで表せる。図１７の回路に圧力Ｐを与えた時のステップ応答を体積速度ｕについて計算すると、次式が得られる。

図１８は、液体の増粘と残留振動波形の関係の説明図である。図１８の横軸は時間を示し、縦軸は残留振動の大きさを示す。例えばノズル２１付近の液体が乾燥した場合には、液体の粘性が増加、すなわち増粘する。液体が増粘すると、流路抵抗ｒが増加するため、振動周期や残留振動の減衰が大きくなる。

図１９は、気泡混入と残留振動波形の関係の説明図である。図１９の横軸は時間を示し、縦軸は残留振動の大きさを示す。例えば、気泡が液体の流路やノズル２１先端に混入した場合には、ノズル２１の状態が正常時に比べて、気泡が混入した分だけ、液体重量すなわちイナータンスｍが減少する。（２）式よりイナータンスｍが減少すると角速度ωが大きくなるため、振動周期が短くなる。すなわち、振動周波数が高くなる。

その他、ノズル２１の開口付近に紙粉などの異物が固着すると、振動板５０から見て圧力発生室１２内および染み出し分の液体が正常時よりも増えることにより、イナータンスｍが増加すると考えられる。また、ノズル２１の出口付近に付着した紙粉の繊維によって流路抵抗ｒが増大すると考えられる。したがって、ノズル２１の開口付近に紙粉が付着した場合には、正常噴射時に比べて周波数が低く、液体の増粘の場合よりは、残留振動の周波数が高くなる。

液体の増粘、気泡の混入または異物の固着などが生じると、ノズル２１または圧力発生室１２内の状態が正常でなくなるため、典型的にはノズル２１から液体が噴射されなくなる。このため、記録媒体ＳＴに記録した画像にドット抜けが生じる。ノズル２１から液滴が噴射されたとしても、液滴の量が少量であったり、その液滴の飛行方向がずれて目的の位置に着弾しなかったりする場合もある。このような噴射不良が生じたノズル２１のことを、異常ノズルという。

上述のように、異常ノズルと通じる圧力発生室１２の残留振動は、正常なノズル２１と通じる圧力発生室１２の残留振動とは異なる。そこで、検出部１５６は、圧力発生室１２の振動波形を検出することによって圧力発生室１２内の状態を検出し、制御部８１０は、検出部１５６の検出結果に基づいて、ノズル２１の検査を実行する。メンテナンス装置７１０は、ノズル検査の結果に基づいて、噴射不良を解消するためのメンテナンスを実行してもよい。

＜メンテナンス装置によるメンテナンス動作について＞
次に、メンテナンス装置７１０が液体噴射部１に対して実行するメンテナンス動作について説明する。

外部装置であるコンピューター１６０などを通じて制御部８１０に記録データが入力されると、制御部８１０は、記録データを基にキャリッジモーター７４８を駆動する。制御部８１０は、記録部７２０が走査方向Ｘに移動する途中で液体噴射部１Ａ及び液体噴射部１Ｂのノズル２１から液体を記録媒体ＳＴの表面に向かって噴射させる。すると、この噴射された液体が記録媒体ＳＴの表面に着弾することにより、記録媒体ＳＴの表面に画像が記録される。

記録媒体ＳＴの記録処理中においては、すべてのノズル２１のうち液体を噴射しないノズル２１内の液体の増粘などを抑制する目的で、記録部７２０は、所定の時期に、受容領域ＦＡへ移動し、ノズル２１から液体を噴射するフラッシングを実行する。このとき、記録部７２０は、すべてのノズル２１から液体を噴射する。所定の時期とは、例えば１０〜３０秒の範囲内の所定時間経過毎である。

所定の吸引クリーニング条件を満たすと、制御部８１０は、キャリッジモーター７４８を制御し、記録部７２０をホームポジションＨＰに移動させた後、吸引クリーニングを実行する。吸引クリーニングを実行する際、制御部８１０は、ノズル列ＮＬを囲うように液体噴射部１に吸引用キャップ７７０を接触させる。制御部８１０は、液体噴射部１に接触する吸引用キャップ７７０により密閉空間を形成した状態で吸引ポンプ７７３を駆動させる。このようにして、吸引用キャップ７７０内に負圧を作用させることにより、ノズル２１から所定量の液体が吸引される。これにより、ノズル２１から増粘した液体、気泡などが除去される。

吸引クリーニングの終了後、制御部８１０は、記録部７２０をワイピング領域ＷＡに移動させる。制御部８１０は、ワイピング部材７５０ａにノズル面２０ａをワイピングさせることによって、ノズル面２０ａに付着した液体などを除去する。ワイピングの実行後、制御部８１０は、記録部７２０を受容領域ＦＡに移動させて、液体受容部７５１ａに向かってフラッシングを実行することにより、ノズル２１内のメニスカスを整える。

フラッシングの後、制御部８１０は、アクチュエーター１３０の駆動による振動板５０の残留振動の周期に基づいてノズル２１の目詰まりを検出する。吸引クリーニングの終了後にノズル２１の目詰まりを検出するのは、特に、加熱することにより硬化する合成樹脂を含んだレジンインク、又は紫外線照射により硬化するＵＶインクを液体噴射部１が噴射する液体として用いた場合、吸引クリーニングを実行しても目詰まりが解消されないノズル２１が発生することがあるからである。

ここでいう目詰まりとは、ノズル２１内の液体が固化して詰まった状態だけでなく、ノズル２１のメニスカスに膜が張るように液体が固まったり、ノズル２１内、圧力発生室１２内、及びノズル連通路１６内の液体が増粘したりすることによりノズル２１から正常に液体を噴射することができない状態も含む。

すべてのノズル２１において目詰まりが検出されない場合に、記録データを受信していると、制御部８１０は、記録部７２０を記録領域ＰＡへ移動させ、記録媒体ＳＴに対して記録処理を実行する。一方、すべてのノズル２１の中で目詰まりしているノズル２１が検出されると、制御部８１０は、走査方向ＸにおけるホームポジションＨＰ側とは反対側の非記録領域ＬＡに記録部７２０を移動させ、目詰まりしているノズル２１内を流体噴射装置７７５によって洗浄する。すなわち、制御部８１０は、ノズル２１に目詰まりが生じている場合、ノズル２１の目詰まりを解消させるためのノズル洗浄を実行する。

流体噴射装置７７５がノズル洗浄を実行する場合、目詰まりしているノズル２１と流体噴射ノズル７７８とが重力方向Ｚにおいて対向するように、ノズル２１と流体噴射ノズル７７８との位置を合わせる。この場合、目詰まりしているノズル２１と流体噴射ノズル７７８との走査方向Ｘの位置合わせは、記録部７２０の移動によって行う。目詰まりしているノズル２１と流体噴射ノズル７７８との搬送方向Ｙの位置合わせは、流体噴射ノズル７７８の移動によって行う。

詳しくは、目詰まりしているノズル２１が液体噴射部１Ａにある場合、図１４に示すように、記録部７２０の走査方向Ｘの位置合わせを行った後、リップ部８０８が目詰まりしているノズル２１を含むノズル列ＮＬを囲んだ状態でノズル面２０ａに接触するように、支持部材８０１を介してケース８０２を移動させる。続いて、流体噴射ノズル７７８の液体噴射ノズル７８０が目詰まりしたノズル２１と対向するように支持部材８０１を介して流体噴射ノズル７７８を移動させることにより、流体噴射ノズル７７８の搬送方向Ｙの位置を合わせる。

流体噴射ノズル７７８から混合流体が噴射される前の通常状態では、第１電磁弁７９０が開弁されて液体収容空間ＳＫが大気と通じる連通状態になるとともに第２電磁弁７９４が閉弁された状態になる。この状態では、図１２に示すように、液体流路７８８ａにおける洗浄液の気液界面ＫＫの高さＨは、流体噴射ノズル７７８の先端の高さを０としたときに、−１００〜−１０００ｍｍとなるように設定されることが好ましい。本実施形態では、流体噴射ノズル７７８の先端の高さを０としたときの高さＨが−１５０ｍｍとなるように設定される。

図１２及び図１４に示す状態で、エアポンプ７８２を駆動して空気を流体噴射ノズル７７８に供給すると、気体噴射ノズル７８１から空気が噴射される。この空気の噴射により発生する負圧によって、液体流路７８８ａの洗浄液が吸い上げられる。これにより、液体噴射ノズル７８０から洗浄液が噴射される。このとき、混合部ＫＡで空気と洗浄液とが混合されて混合流体が発生する。その結果、混合流体が目詰まりしたノズル２１を含むノズル面２０ａの一部の領域に噴射される。

混合流体には、ノズル２１の開口よりも小さい液滴状の洗浄液が多数含まれる。このときの流体噴射ノズル７７８からの混合流体の噴射速度は、毎秒４０ｍ以上となるように設定されている。例えば、ノズル２１の開口が円形とし、液滴の形状を球形とした場合、ノズル２１の開口径より小さい直径２０μｍ以下となる洗浄液の液滴が混合流体に含まれる。この小径となる洗浄液の液滴を小液滴ともいう。

小液滴の運動エネルギーは、記録処理中の液体の噴射動作、フラッシング動作によってノズル２１内の気液界面に伝わるエネルギーでは破壊できない程度に気液界面で固化した膜状の液体を破壊可能な運動エネルギーと同等以上であることが好ましい。

流体噴射装置７７５が噴射口７７８ｊからノズル２１に向けて噴射する洗浄液の小液滴の質量と当該小液滴のノズル２１の開口位置における飛翔速度の２乗との積は、ノズル２１の開口から噴射される液体の質量と当該液体の飛翔速度の２乗との積よりも大きくなるように設定される。

目詰まりしたノズル２１が開口する開口領域に対する流体噴射装置７７５の小液滴を含む混合流体の噴射は、目詰まりしたノズル２１と通じる圧力発生室１２の液体が、当該圧力発生室１２と対応するアクチュエーター１３０の駆動による振動板５０の振動によって加圧された状態で実行することが好ましい。流体噴射ノズル７７８から混合流体が目詰まりしたノズル２１に噴射されると、混合流体中のノズル２１の開口よりも小さい液滴状の洗浄液がノズル２１の開口を通してノズル２１内に進入する。このとき、洗浄液の小液滴は、ノズル２１内の目詰まりした部分に衝突する。

流体噴射ノズル７７８から混合流体が噴射されると、ノズル２１の開口よりも小さい液滴状の洗浄液がノズル２１内で固まった液体に衝突する。このときの洗浄液による固まった液体に対する衝撃によって、その固まった液体が破壊される。これにより、ノズル２１の目詰まりが解消される。このとき、この目詰まりが解消されたノズル２１と通じる圧力発生室１２内の液体は加圧されているため、ノズル２１内に進入した混合流体が、圧力発生室１２を経由して液体噴射部１Ａ内の奥へと進入することが抑制される。

流体噴射ノズル７７８からの混合流体の噴射を停止させる場合には、まず、流体噴射ノズル７７８から混合流体が噴射されている状態で第１電磁弁７９０を閉弁する。これにより、液体収容空間ＳＫを大気と通じる連通状態から大気と通じない非連通状態に切り替える。すると、液体収容空間ＳＫが負圧になるため、この負圧の作用により、液体噴射ノズル７８０から噴射されている洗浄液が液体流路７８８ａに引き込まれる。

液体収容空間ＳＫが負圧になることにより、液体流路７８８ａにおける洗浄液の気液界面ＫＫ、すなわち貯留タンク７８７の水頭面は、混合部ＫＡよりも下方、すなわち貯留タンク７８７側に位置する。エアポンプ７８２を停止すると、気体噴射ノズル７８１から空気が噴射されなくなる。この場合、エアポンプ７８２は、液体流路７８８ａにおける洗浄液の気液界面ＫＫが混合部ＫＡよりも下方に位置した状態で停止される。そのため、液体流路７８８ａ内の洗浄液が混合部ＫＡを越えて気体噴射ノズル７８１内に進入することが抑制される。

エアポンプ７８２から液体流路７８８ａを介した気体噴射ノズル７８１への空気の供給を停止した後、第１電磁弁７９０の閉弁状態が維持される。そのため、液体収容空間ＳＫの非連通状態が維持される。ノズル２１を洗浄した後の不要な洗浄液、ノズル２１から洗い流された不要なインクなどは、ケース８０２内からベース部材８００内へと流れ落ちる。ベース部材８００内へ流れ落ちるインク及び洗浄液は、ベース部材８００が有する廃液口から廃液タンクに回収される。

図２０に示すように、目詰まりしているノズル２１が液体噴射部１Ｂにもある場合、液体噴射部１Ａの場合と同様に、リップ部８０８が液体噴射部１Ｂの目詰まりしているノズル２１を含むノズル列ＮＬを囲んだ状態でノズル面２０ａに接触するように、支持部材８０１を介してケース８０２を移動させる。液体噴射部１Ａの場合と同様に、第１電磁弁７９０を開弁した状態で混合流体を液体噴射部１Ｂの目詰まりしているノズル２１に噴射することにより、ノズル２１の目詰まりを解消する。

流体噴射ノズル７７８からの目詰まりしたノズル２１を含む液体噴射部１Ａ及び液体噴射部１Ｂへの混合流体の噴射は、時間間隔を置いて複数回実行するようにしてもよい。この場合、時間間隔は一定であってもよいし一定でなくてもよい。このようにすれば、液体噴射部１Ａ及び液体噴射部１Ｂに噴射された混合流体が泡状になってノズル２１の開口を塞いだ場合でも、混合流体の噴射の停止中にノズル２１の開口を塞いだ泡状の混合流体が液滴状に戻る。このため、先に液体噴射部１Ａ及び液体噴射部１Ｂに噴射されて泡状になってノズル２１の開口を塞いだ混合流体によって、後から液体噴射部１Ａ及び液体噴射部１Ｂに噴射された混合流体中の液滴のノズル２１内への進入が阻まれることを抑制できる。洗浄液として防腐剤を含まない純水を用いる場合、こうした泡立ちは抑制される。

図２１に示すように、流体噴射装置７７５による液体噴射部１Ａ及び液体噴射部１Ｂの目詰まりしたノズル２１の洗浄が終了した後は、流体噴射ノズル７７８から混合流体が噴射されている状態で支持部材８０１を待機位置に移動させて、流体噴射ノズル７７８をカバー部材８０６の上壁における貫通孔８０７と対応しない位置と対向させる。このとき、流体噴射ノズル７７８とカバー部材８０６の上壁との間には僅かな隙間が形成される。

液体噴射ノズル７８０を囲む円環状の気体噴射ノズル７８１から噴射される空気が、カバー部材８０６の上壁にぶつかることによって、当該上壁に沿って流れる。これにより、円環状の気体噴射ノズル７８１から噴射される空気の内側、すなわち液体噴射ノズル７８０の上側の圧力が上昇する。この液体噴射ノズル７８０の上側の上昇した圧力によって、液体流路７８８ａ内の洗浄液が下方、すなわち貯留タンク７８７側に向けて押し込まれる。その結果、液体流路７８８ａ内における洗浄液の気液界面ＫＫが混合部ＫＡよりもずっと下方へ押し下げられた状態となる。

洗浄液の気液界面ＫＫが混合部ＫＡよりも下方へ押し下げられた状態で、エアポンプ７８２を停止すると、気体噴射ノズル７８１から空気が噴射されなくなる。この場合、エアポンプ７８２は、液体流路７８８ａにおける洗浄液の気液界面ＫＫが混合部ＫＡよりも下方側に位置した状態で停止されるため、液体流路７８８ａ内の洗浄液が混合部ＫＡを越えて気体噴射ノズル７８１内に進入することが抑制される。

エアポンプ７８２を停止した後、液体噴射部１Ａ及び液体噴射部１Ｂのノズル２１の開口から液体を排出する吸引クリーニング又はフラッシングが実行されることにより、液体噴射部１Ａ及び液体噴射部１Ｂ内に残留する洗浄液、気泡などが除去される。このときの吸引クリーニング又はフラッシングは、液体の排出量が少ない軽度のもので済む。なぜなら、混合流体の目詰まりしたノズル２１への噴射は、上述のように目詰まりしたノズル２１と通じる圧力発生室１２内のインクが加圧された状態で行われたため、混合流体が圧力発生室１２を経由して液体噴射部１Ａ及び液体噴射部１Ｂ内の奥へと進入することが抑制されたからである。

（第２実施形態）
次に、液体噴射装置７の第２実施形態について、図を参照しながら説明する。
図２２に示すように、第２実施形態の液体噴射装置７は、第１実施形態の液体噴射装置７と比較して、第１実施形態のメンテナンス装置７１０におけるワイパーユニット７５０及びフラッシングユニット７５１を、メンテナンスユニット８３０に変更したものである。第２実施形態の液体噴射装置７において、メンテナンスユニット８３０以外の構成については第１実施形態の液体噴射装置７の構成とほぼ共通する。そのため、第２実施形態では、第１実施形態と異なる点を中心に説明する。

図２３に示すように、液体噴射部１は、ノズル２１が開口するノズル面２０ａを有する４つのヘッドユニット２と、４つのヘッドユニット２の下面となるノズル面２０ａをまとめて覆うカバーヘッド４００とを備える。カバーヘッド４００には、４つのヘッドユニット２のノズル２１を露出する４つの第２露出開口部４０１がカバーヘッド４００を貫通するように設けられる。

ヘッドユニット２の下面における第２露出開口部４０１の内側の領域は、ノズル２１が開口する開口領域ＫＲとされる。液体噴射部１における開口領域ＫＲを含まない領域は、非開口領域ＨＫＲとされる。すなわち、本実施形態では、液体噴射部１の下面におけるカバーヘッド４００で覆われていない領域が開口領域ＫＲとされ、カバーヘッド４００の下面が非開口領域ＨＫＲとされる。開口領域ＫＲの撥液性は非開口領域ＨＫＲの撥液性よりも高くなるように設定されている。

ノズル面２０ａには、撥液処理として撥液膜が形成されている。撥液膜の成分及び構成は、液体噴射部１が噴射する液体に応じて変更するとよい。例えば、水系インクをはじくためには、アルキル基を含むポリオルガノシロキサンを主材料とする薄膜下地層と、フッ素を含む長鎖高分子基を有する金属アルコキシドからなる撥液膜層とを備える撥液膜が適している。

図２２に示すように、メンテナンスユニット８３０は、非記録領域ＲＡにおける整備領域ＳＡに配置される。メンテナンスユニット８３０は、ワイピング機構８３３と、ワイピング液供給機構８３４と、廃液受容部８３５と、回収部８３６とを備える。メンテナンスユニット８３０は、ワイピング液を収容するワイピング液収容部８７１を備えてもよい。ワイピング液収容部８７１は、ワイピング液供給機構８３４と接続され、収容するワイピング液をワイピング液供給機構８３４に供給するように構成される。

ワイピング液収容部８７１は、例えば交換可能なカートリッジで構成される。ワイピング液収容部８７１は、収容するワイピング液に関する情報を記憶する記憶媒体８７１ａを有する。記憶媒体８７１ａは、例えば収容するワイピング液の種類、残量などの情報を記憶する。記憶媒体８７１ａは、ワイピング液収容部８７１が液体噴射装置７に装着された状態において、制御部８１０と電気的に接続される。この状態において、制御部８１０は、記憶媒体８７１ａに記憶される情報を読み込んだり、記憶媒体８７１ａに情報を書き込んだりすることが可能となる。制御部８１０は、例えば、ワイピング液収容部８７１からワイピング液供給機構８３４にワイピング液が供給された際に、ワイピング液収容部８７１に収容されるワイピング液の残量に関する情報を更新する。

図２４に示すように、メンテナンスユニット８３０は、搬送方向Ｙに延びる土台部８３１と、土台部８３１に支持される基部８３２とを備える。基部８３２は、土台部８３１に対して、搬送方向Ｙに往復移動するように構成される。ワイピング機構８３３、ワイピング液供給機構８３４、及び廃液受容部８３５は、基部８３２に設けられる。回収部８３６は、基部８３２の上方に配置される。

図２４及び図２５に示すように、ワイピング機構８３３は、液体を吸収するように構成されるワイピング部材８４５を有する。ワイピング機構８３３は、ワイピング部材８４５により液体噴射部１のノズル面２０ａをワイピングする。ワイピングすると、液体噴射部１のノズル面２０ａに付着する液体、塵埃などがワイピング部材８４５により拭き取られる。これにより、ノズル面２０ａの汚れを除去できる。

ワイピング機構８３３は、液体噴射部１に対して相対的に移動することにより、ワイピング部材８４５によってノズル面２０ａをワイピングする。すなわち、ワイピング部材８４５は、ノズル面２０ａに対して摺動することによって、ノズル面２０ａをワイピングする。ワイピング部材８４５によりノズル面２０ａをワイピングする際、ワイピング部材８４５が液体噴射部１に対して移動してもよいし、液体噴射部１がワイピング部材８４５に対して移動してもよい。ワイピング部材８４５及び液体噴射部１の双方が移動してもよい。本実施形態では、ワイピング部材８４５が液体噴射部１に対して移動することにより、ワイピングする。本実施形態において、ノズル面２０ａをワイピングする際に、ワイピング部材８４５が液体噴射部１に対して相対的に移動する方向のことを、ワイピング方向と称する。

本実施形態のワイピング機構８３３は、ワイピング部材８４５によってノズル面２０ａをワイピングする際、カバーヘッド４００もワイピングする。すなわち、ワイピング機構８３３は、液体噴射部１において開口領域ＫＲ及び非開口領域ＨＫＲの双方をワイピング部材８４５によりワイピングする。

ワイピング機構８３３は、基部８３２に対して搬送方向Ｙの上流から着脱自在に取り付けられるように構成される。ワイピング機構８３３は、基部８３２が搬送方向Ｙに移動することにより、整備領域ＳＡに位置する液体噴射部１をワイピング部材８４５によりワイピングする。すなわち、本実施形態において、ワイピング方向は、搬送方向Ｙと一致する。基部８３２が搬送方向Ｙに移動する際に、ノズル面２０ａがワイピングされる。ノズル面２０ａのワイピングを終えた後、基部８３２は、搬送方向Ｙの逆方向に移動することによってもとの位置に戻る。ワイピング機構８３３は、基部８３２が搬送方向Ｙの逆方向に移動する際にワイピングするように構成されてもよい。この場合、ワイピング方向は、搬送方向Ｙの逆方向となる。

液体噴射部１Ａ及び液体噴射部１Ｂは、整備領域ＳＡに対して順次に移動される。ワイピング機構８３３は、基部８３２が１回往復移動することにより１つの液体噴射部１をワイピングし、筐体７５９が２回往復移動することにより２つの液体噴射部１をワイピングする。

ワイピング機構８３３は、ロール状に巻かれた長尺帯状の布シート８３７と、布シート８３７が着脱自在に装着される布ホルダー８３８とを備える。布シート８３７は、液体などを吸収する吸収性を有する。そのため、布シート８３７は、液体噴射部１が使用する液体及びワイピング液供給機構８３４が供給するワイピング液を吸収可能に構成される。布シート８３７は、基端が走査方向Ｘに延びる繰出軸８３９に接続され、且つ先端が走査方向Ｘに延びる巻取軸８４０に接続されるように設けられる。布シート８３７は、新品の状態ではそのほとんどが繰出軸８３９に巻き付けられている。すなわち、繰出軸８３９は、未使用のロール状の布シート８３７を支持する。巻取軸８４０は、使用済みのロール状の布シート８３７を支持する。

布ホルダー８３８は、搬送方向Ｙの中央部に布シート８３７が巻き掛けられる巻き掛け部８４１を備える。巻き掛け部８４１は、走査方向Ｘから見て略扇形状とされる。巻き掛け部８４１における搬送方向Ｙの上流には繰出軸８３９の両端部を回転可能に支持する繰出軸受部８４２が走査方向Ｘに対をなすように設けられる。巻き掛け部８４１における搬送方向Ｙの下流側には巻取軸８４０の両端部を回転可能に支持する巻取軸受部８４３が走査方向Ｘに対をなすように設けられる。

巻き掛け部８４１における搬送方向Ｙの中央部には、走査方向Ｘに延びる例えばゴム製の押圧ローラー８４４が設けられる。押圧ローラー８４４は、巻き掛け部８４１の中で最も高い位置に配置される。繰出軸８３９と巻取軸８４０との間に位置する布シート８３７は、押圧ローラー８４４の上面に巻き掛けられる。これにより、布シート８３７における押圧ローラー８４４に巻き掛けられた部分によって凸状となる半円筒状のワイピング部材８４５が形成される。ワイピング部材８４５は、図示しない押付部材により押圧ローラー８４４を介して上方へ押し付けられた状態にある。

ワイピング機構８３３は、布シート８３７に関する情報を記憶する記憶媒体８３８ａを備える。記憶媒体８３８ａは、例えば布シート８３７の素材、残量などの情報を記憶する。記憶媒体８３８ａは、布ホルダー８３８に取り付けられる。基部８３２には、基部８３２に布ホルダー８３８が取り付けられた状態において、記憶媒体８３８ａと接触するように位置する接続端子８３２ａが設けられる。接続端子８３２ａが記憶媒体８３８ａに接触すると、制御部８１０と記憶媒体８３８ａとが電気的に接続される。この状態において、制御部８１０は、記憶媒体８３８ａに記憶される情報を読み込んだり、記憶媒体８３８ａに情報を書き込んだりすることが可能となる。制御部８１０は、例えば、使用済みの布シート８３７を巻き取るように巻取軸８４０が回転した際に、繰出軸８３９に巻き付けられた未使用の布シート８３７の残量に関する情報を更新する。

廃液受容部８３５は、基部８３２に対して着脱自在に取り付けられる。廃液受容部８３５は、矩形枠状の枠体８４６と、枠体８４６内に収容される矩形板状の液体吸収材８４７と、液体吸収材８４７上に配置される矩形板状の網体８４８とを備える。枠体８４６は、例えば合成樹脂などによって構成される。液体吸収材８４７は、例えば不織布などによって構成される。網体８４８は、液体吸収材８４７を押えるための部材であり、例えばステンレス鋼などによって構成される。

廃液受容部８３５は、ワイピング機構８３３が液体噴射部１をワイピングする際のワイピング方向において、ワイピング機構８３３よりも下流に配置される。廃液受容部８３５は、液体噴射部１と対向する位置において、液体噴射部１のフラッシングを実行するフラッシング動作によってノズル２１から噴射された廃液を受容する。

基部８３２における廃液受容部８３５の下方には、廃液受容部８３５から流れ落ちる廃液を受容する受容凹部８４９が形成される。受容凹部８４９の底部には廃液管８５０が接続される。受容凹部８４９に流れ落ちた廃液は、廃液管８５０を介して図示しない廃液回収容器に回収される。

ワイピング液供給機構８３４は、ワイピング液をワイピング部材８４５に供給するように構成される。ワイピング液供給機構８３４は、ワイピング液収容部８７１に収容されるワイピング液をワイピング部材８４５に供給する。ワイピング液供給機構８３４がワイピング部材８４５にワイピング液を供給することにより、ワイピング機構８３３は、ワイピング液を吸収したワイピング部材８４５によりノズル面２０ａをワイピングできる。

ワイピング液を吸収したワイピング部材８４５でワイピングする場合、ワイピング液を吸収していないワイピング部材８４５でワイピングする場合と比べて、ワイピングによるノズル面２０ａへのダメージを抑制できる。ワイピング液を吸収したワイピング部材８４５でワイピングする場合、ワイピング液を吸収していないワイピング部材８４５でワイピングする場合と比べて、ノズル面２０ａの汚れを除去しやすくなる。ワイピング部材８４５は、ワイピング液を吸収している場合、ワイピング液によって湿潤した状態となる。ワイピング部材８４５は、ワイピング液を吸収していない場合、湿潤していない状態となる。

ワイピング部材８４５がワイピング液を吸収した状態でノズル面２０ａをワイピングすることを湿潤ワイピングという。ワイピング部材８４５がワイピング液を吸収していない状態でノズル面２０ａをワイピングすることを非湿潤ワイピングという。第２実施形態における液体噴射装置７は、ワイピング部材８４５によりノズル面２０ａをワイピングする際、湿潤ワイピングを実行するように構成される。液体噴射装置７は、湿潤ワイピングと非湿潤ワイピングとを選択するように構成されてもよい。ワイピング液供給機構８３４は、湿潤ワイピングを実行する場合、ワイピング部材８４５によりノズル面２０ａをワイピングする前に、ワイピング部材８４５にワイピング液を供給する。

ワイピング液供給機構８３４は、基部８３２においてワイピング機構８３３と受容凹部８４９との間に配置される。ワイピング液供給機構８３４は、液体噴射部１又はワイピング部材８４５に対してワイピング液を噴射可能な噴射口８５１を備える。ワイピング液供給機構８３４は、噴射口８５１を上から覆うとともに噴射口８５１から液体噴射部１に向けて噴射されるワイピング液の経路８５２を形成する例えばステンレス鋼製の経路形成板８５３を備える。

本実施形態の噴射口８５１は、ワイピング液を扇形に広がるように噴射する供給ノズル８５１ａによって構成される。供給ノズル８５１ａは、回動可能に構成される。供給ノズル８５１ａが回動することにより、噴射口８５１から噴射されるワイピング液の噴射先が、液体噴射部１又はワイピング部材８４５で変更される。

供給ノズル８５１ａにはワイピング液を供給するための図示しない供給管が接続される。供給ノズル８５１ａは、不図示の供給管を介して、ワイピング液収容部８７１と接続される。この供給管には、供給ノズル８５１ａから流体を噴射させるための図示しない噴射ポンプが設けられる。この噴射ポンプは、制御部８１０によって駆動制御される。

ワイピング液供給機構８３４は、ワイピング液を含む流体を噴射するように構成されてもよい。例えば、ワイピング液供給機構８３４は、ワイピング液を噴射する供給ノズル８５１ａに加え、流体噴射装置７７５と同様に気体である空気を噴射するノズルを有してもよい。この場合、ワイピング液供給機構８３４は、ワイピング液及び空気を液体噴射部１又はワイピング部材８４５に噴射可能となる。ワイピング液供給機構８３４は、ワイピング液を噴射することと、ワイピング液を含む流体を噴射することとの双方を実行できるように構成されてもよい。

経路８５２は、ワイピング機構８３３に向かうように斜め上方に延びる。経路８５２の先端は、経路８５２内から経路８５２外へ流体が噴出される噴出開口部８５４とされる。噴出開口部８５４は、基部８３２におけるワイピング機構８３３と廃液受容部８３５との間に位置する。噴出開口部８５４の一部は、経路形成板８５３に形成された櫛歯状の遮蔽機構８５５によって遮蔽される。

遮蔽機構８５５は、噴出開口部８５４の全体にわたって走査方向Ｘに等間隔で並ぶとともに、搬送方向Ｙに延びる複数の細い遮蔽板８５６を備える。複数の遮蔽板８５６は、整備領域ＳＡに移動された液体噴射部１に、噴射口８５１から経路８５２及び噴出開口部８５４を介して流体噴射を実行する際に、開口領域ＫＲに向かう流体を遮るように配置される。

ワイピング液は、第１実施形態の液体噴射装置７における流体噴射装置７７５が使用する洗浄液と同様の液体でもよい。すなわち、ワイピング液として、純水を採用してもよいし、純水に防腐剤を含ませた液体を採用してもよい。ワイピング液は、液体噴射部１が使用する液体の表面張力より高い表面張力を有する液体を採用してもよい。例えば、ワイピング液として、表面張力が４０ｍＮ／ｍ以上且つ８０ｍＮ／ｍ以下となる液体を採用してもよい。この場合、ワイピング液として、表面張力が６０ｍＮ／ｍ以上且つ８０ｍＮ／ｍ以下となる液体を採用するとよい。

回収部８３６は、例えば矩形板状のゴムブレードなどによって構成され、装置本体１１ａに固定される。回収部８３６は、廃液受容部８３５に接触することにより、廃液受容部８３５が受容した廃液、その堆積物を削ぎ取るようにして回収する。すなわち、回収部８３６は、基部８３２の搬送方向Ｙの移動に伴う廃液受容部８３５の移動により、廃液受容部８３５の網体８４８上に付着した廃液、その堆積物を削ぎ取るようにして網体８４８上を相対的に移動する。

図２６に示すように、メンテナンスユニット８３０は、ノズル面２０ａをワイピング部材８４５によりワイピングする際に液体噴射部１とワイピング部材８４５とを相対的に移動させる相対移動機構８５７を備える。本実施形態の相対移動機構８５７は、ワイピング部材８４５を液体噴射部１に対して移動させる。

本実施形態の相対移動機構８５７は、土台部８３１に設けられ、基部８３２を搬送方向Ｙに往復移動させるように構成される。相対移動機構８５７は、土台部８３１の内側面に、回転可能に設けられた一対のプーリーを備える。一対のプーリーは、土台部８３１の内側面において、搬送方向Ｙの両端部にそれぞれ位置する。

相対移動機構８５７は、一対のプーリーに巻き掛けられた無端状のタイミングベルト８５８と、移動モーター８５９と、移動モーター８５９の回転駆動力を一対のプーリーに伝達する減速歯車群８６０とを備える。移動モーター８５９は、制御部８１０によって駆動制御される。

基部８３２には、タイミングベルト８５８の一部が連結される。移動モーター８５９の駆動によってタイミングベルト８５８が移動することにより、基部８３２が搬送方向Ｙに往復移動される。基部８３２は、ワイピング機構８３３及び廃液受容部８３５を保持する。そのため、整備領域ＳＡに液体噴射部１を移動させた状態で相対移動機構８５７によって基部８３２を液体噴射部１及び回収部８３６に対して移動させることにより、ワイピング機構８３３及び廃液受容部８３５を液体噴射部１及び回収部８３６に対して移動させることが可能である。

相対移動機構８５７は、基部８３２を搬送方向Ｙに移動させることにより、ワイピング機構８３３及び廃液受容部８３５と、液体噴射部１及び回収部８３６とを、ワイピング機構８３３が液体噴射部１をワイピングするワイピング方向に相対移動させる。

図２５及び図３２に示すように、ワイピング機構８３３の布ホルダー８３８における走査方向Ｘの一側面には、２つの第１伝達歯車８６２と、２つの第２伝達歯車８６４とが設けられる。第１伝達歯車８６２は、布ホルダー８３８に装着された布シート８３７の巻取軸８４０の一端部に設けられた巻取歯車８６１と噛合する。第２伝達歯車８６４は、押圧ローラー８４４の一端部に設けられた押圧歯車８６３と噛合する。

基部８３２には、基部８３２にワイピング機構８３３が装着された際に第１伝達歯車８６２及び第２伝達歯車８６４と噛合する伝達歯車群８６５と、伝達歯車群８６５を回転駆動する巻取モーター８６６とを有する巻取駆動機構８６７が設けられる。巻取モーター８６６は、制御部８１０によって駆動制御される。

巻取駆動機構８６７の巻取モーター８６６を駆動すると、その回転駆動力が伝達歯車群８６５を介して第１伝達歯車８６２及び第２伝達歯車８６４にそれぞれ伝達される。すると、第１伝達歯車８６２及び第２伝達歯車８６４が回転されるため、巻取歯車８６１及び押圧歯車８６３が回転される。これにより、巻取軸８４０と押圧ローラー８４４とが布シート８３７が巻き取られる方向に同期して回転される。その結果、巻取軸８４０によって布シート８３７が巻き取られる。このとき、巻取軸８４０及び押圧ローラー８４４が同期して回転することにより、押圧ローラー８４４と布シート８３７との擦れが抑制される。そのため、押圧ローラー８４４の摩耗が抑制される。

液体噴射装置７は、ノズル面２０ａをワイピング部材８４５によりワイピングする際のワイピング液の供給量を変更可能に構成される。すなわち、ワイピング液供給機構８３４は、ワイピング部材８４５に向けて噴射するワイピング液の供給量を変更可能に構成される。湿潤ワイピングを実行する際に、ワイピング部材８４５に供給されるワイピング液の供給量が少ないと、ワイピングによってノズル面２０ａにダメージが及びやすくなる。特に、液体噴射部１が使用する液体が無機顔料インクである場合、例えばカーボンなどの無機顔料がノズル面２０ａと擦れることによってノズル面２０ａにダメージが及びやすい。ノズル面２０ａに形成される撥液膜にダメージが及ぶと、ノズル面２０ａの撥液性が低下する。その結果、液体を噴射するノズル２１の噴射制度に影響する。

湿潤ワイピングを実行する際に、ワイピング部材８４５に供給されるワイピング液の供給量が多いと、ワイピング部材８４５によりノズル面２０ａをワイピングした後、ノズル面２０ａにワイピング液が残留しやすくなる。ノズル面２０ａにワイピング液が残留していると、液体を噴射するノズル２１の噴射精度に影響する。

湿潤ワイピングを実行する際に、ワイピング部材８４５に供給されるワイピング液の供給量が多いと、ワイピング部材８４５によりノズル面２０ａをワイピングする際に、ノズル面２０ａに付着する液体を吸収しきれず、ノズル面２０ａに付着する液体をノズル２１に押し込んだり、気泡をノズル２１に押し込んだりすることがある。この場合、異常ノズルが発生するおそれがある。こうしたことから、湿潤ワイピングを実行する際に、ワイピング部材８４５に供給されるワイピング液の供給量を適切な量に変更することによって、適切なワイピングを実行できる。

制御部８１０は、ノズル面２０ａをワイピング部材８４５によりワイピングする際のワイピング液の供給量を液体噴射装置７の状況に基づいて変更するようにワイピング液供給機構８３４を制御してもよい。すなわち、液体噴射装置７のメンテナンス方法として、ノズル面２０ａをワイピング部材８４５によりワイピングする際のワイピング液の供給量を液体噴射装置７の状況に基づいて変更してもよい。

液体噴射装置７の状況とは、例えば、液体噴射部１の稼働状況、ワイピング機構８３３の稼働状況などである。制御部８１０は、例えば、液体噴射装置７の設置環境、ワイピング液の残量、ノズル面２０ａの汚れ具合、前回のワイピングから経過した時間、前回のワイピング結果、目詰まりを生じているノズル２１の数、液体噴射部１が噴射する液体の種類、ワイピング部材８４５を構成する布シート８３７の素材など、こうした液体噴射装置７の状況に基づいてワイピング液の供給量を変更してもよい。

例えば、ノズル面２０ａの汚れ具合が比較的小さい場合には、ワイピング液の供給量を少なくしてもよい。例えば、ノズル面２０ａの汚れ具合が比較的大きい場合には、ワイピング液の供給量を多くしてもよい。例えば、液体噴射部１が噴射する液体が固化しやすい液体である場合には、ワイピング液の供給量を多くしてもよい。例えば、液体噴射部１が噴射する液体が固化しにくい液体である場合には、ワイピング液の供給量を少なくしてもよい。

制御部８１０は、ノズル面２０ａをワイピング部材８４５によりワイピングする際のワイピング液の供給量を検出部１５６による噴射状態の検出結果に基づいて変更してもよい。すなわち、液体噴射装置７のメンテナンス方法として、ノズル面２０ａをワイピング部材８４５によりワイピングする際のワイピング液の供給量を検出部１５６による噴射状態の検出結果に基づいて変更してもよい。検出部１５６による噴射状態の検出結果は、液体噴射装置７の状況の一例である。

例えば、検出部１５６による噴射状態の検出結果、すなわちノズル検査の結果に基づいて、目詰まりを生じているノズル２１があると推測される場合に、ワイピング液の供給量を増やしてもよい。例えば、ノズル検査の結果に基づいて、目詰まりを生じているノズル２１がないと推測される場合には、ワイピング液の供給量を減らしてもよい。

制御部８１０は、ノズル面２０ａをワイピング部材８４５によりワイピングする際のワイピング液の供給量をワイピング液収容部８７１に収容されるワイピング液の収容量に基づいて変更してもよい。例えば、液体噴射装置７のメンテナンス方法として、ワイピング液収容部８７１に収容されるワイピング液の収容量が設定値より少ない場合に湿潤ワイピングを実行する際のワイピング液の供給量を、ワイピング液収容部８７１に収容されるワイピング液の収容量が設定値以上の場合に湿潤ワイピングを実行する際のワイピング液の供給量より少なくしてもよい。

設定値とは、制御部８１０に予め設定される閾値である。制御部８１０は、ワイピング液収容部８７１に収容されるワイピング液の収容量を取得した際に、ワイピング液の収容量と設定値とを比較する。制御部８１０は、ワイピング液収容部８７１に収容されるワイピング液の収容量が設定値よりも少ない場合に、ワイピング液収容部８７１に収容されるワイピング液の収容量が少ないと推測する。この場合、制御部８１０は、湿潤ワイピングを実行する際のワイピング液の供給量を、ワイピング液収容部８７１に収容されるワイピング液の収容量が設定値以上の場合に湿潤ワイピングを実行する際のワイピング液の供給量より少なくする。こうすると、ワイピング液の収容量が少ない場合にはワイピング液の消費が抑えられる。これにより、湿潤ワイピングの実行回数を多くできる。

液体噴射装置７のメンテナンス方法として、ワイピング液収容部８７１に収容されるワイピング液の収容量が設定値より小さい第２設定値より少ない場合にワイピング液を供給しないでノズル面２０ａをワイピング部材８４５によりワイピングする非湿潤ワイピングを実行してもよい。この場合、非湿潤ワイピング動作時における液体噴射部１とワイピング部材８４５との相対移動速度は、ワイピング液の収容量が設定値以上の場合に実行する湿潤ワイピング動作時における液体噴射部１とワイピング部材８４５との相対移動速度より遅くしてもよい。

第２設定値とは、制御部８１０に予め設定される閾値である。第２設定値は、上述した設定値よりも値が小さい閾値である。第２設定値は、ワイピング液収容部８７１に収容されるワイピング液の収容量が第２設定値を下回る場合に、ワイピング液供給機構８３４がワイピング部材８４５にワイピング液を供給することが困難となる値として設定される。

制御部８１０は、ワイピング液収容部８７１に収容されるワイピング液の収容量を取得した際に、ワイピング液の収容量と設定値及び第２設定値とを比較する。制御部８１０は、ワイピング液収容部８７１に収容されるワイピング液の収容量が第２設定値を下回る場合に、ワイピング液収容部８７１に収容されるワイピング液の収容量が僅少又は０であると推測する。この場合、制御部８１０は、ワイピングとして非湿潤ワイピングを実行してもよい。

ワイピング液供給機構８３４は、非湿潤ワイピングを実行する場合、ワイピング部材８４５によりノズル面２０ａをワイピングする前に、ワイピング部材８４５にワイピング液を供給しない。非湿潤ワイピングの場合、ワイピング部材８４５にワイピング液が供給されないため、ワイピングしてもノズル面２０ａの汚れを除去しにくい。そのため、非湿潤ワイピング動作時には、湿潤ワイピング動作時よりも液体噴射部１とワイピング部材８４５との相対移動速度が遅い速度でワイピングすることにより、ノズル面２０ａの汚れを除去しやすくする。

非湿潤ワイピングの場合、ワイピング部材８４５にワイピング液が供給されないため、ワイピングによるノズル面２０ａへのダメージが懸念される。そのため、非湿潤ワイピング動作時には、湿潤ワイピング動作時よりも液体噴射部１とワイピング部材８４５との相対移動速度が遅い速度でワイピングすることにより、ワイピングによるノズル面２０ａへのダメージを低減する。

制御部８１０は、ワイピング液収容部８７１に収容されるワイピング液の収容量が第２設定値より少ない場合、ワイピングを禁止してもよい。ワイピング液収容部８７１に収容されるワイピング液の収容量が第２設定値より少ない場合、非湿潤ワイピングを実行するか、ワイピングを禁止するかをユーザーが選択できるようにしてもよい。

液体噴射装置７のメンテナンス方法として、記録処理中においてノズル２１から液体が噴射されていないときに湿潤ワイピングを実行する際のワイピング液の供給量を、記録処理を実行していないときに湿潤ワイピングを実行する際のワイピング液の供給量より少なくしてもよい。

本実施形態のように液体噴射部１が走査方向Ｘにおいて往復移動するシリアルタイプにおいて、記録処理中においてノズル２１から液体が噴射されていないときとは、記録処理中において往路移動から復路移動に切り替わるタイミング、又は復路移動から往路移動に切り替わるタイミングである。シリアルタイプの液体噴射装置７においては、液体噴射部１の移動が切り替わるタイミングにあわせて、記録媒体ＳＴが間欠的に搬送される。記録媒体ＳＴが搬送される最中、液体噴射部１は記録処理中であっても記録媒体ＳＴに液体を噴射しない。そのため、シリアルタイプの液体噴射装置７においては、記録処理中において記録媒体ＳＴが搬送されるタイミングで湿潤ワイピングを実行してもよい。このときにワイピング部材８４５に供給されるワイピング液の供給量は、記録処理を実行していないとき、例えば待機状態中に湿潤ワイピングを実行する際にワイピング部材８４５に供給されるワイピング液の供給量よりも少ない。

液体噴射部１が走査方向Ｘにおいて長尺に設けられるラインタイプにおいて、記録処理中においてノズル２１から液体が噴射されていないときとは、画像の記録が完了してから次の画像の記録を開始するまでのタイミングである。ラインタイプの液体噴射装置７においては、記録処理中のこのタイミングで湿潤ワイピングを実行してもよい。

記録処理中に湿潤ワイピングを実行する場合、ノズル面２０ａにワイピング液が残留すると記録品質に影響する。そのため、記録処理中に湿潤ワイピングを実行する場合には、ワイピング液の供給量を少なくする。こうすると、記録処理中に湿潤ワイピングを実行した際にノズル面２０ａにワイピング液が残留するおそれが低減される。これにより、湿潤ワイピングによって記録品質が低下するおそれを低減できる。

液体噴射部１は、記録処理中において、使用していないノズル２１内の液体が増粘又は固化することを抑制するためにフラッシングを実行することがある。液体噴射装置７は、記録処理中にフラッシングを実行するタイミングにあわせて、湿潤ワイピングを実行するように構成されてもよい。液体噴射装置７は、記録処理中において、その記録処理に起因してノズル面２０ａに多くの液体が付着したと判断される場合に、湿潤ワイピングを実行するように構成されてもよい。

液体噴射装置７のメンテナンス方法として、ノズル面２０ａをワイピング部材８４５によりワイピングした後に実行された検出部１５６による噴射状態の検出結果から噴射状態が異常であると推測されるノズル２１がワイピング開始側よりワイピング終了側に多い場合、ノズル面２０ａをワイピング部材８４５によりワイピングする際のワイピング液の供給量を噴射状態の検出を実行する前より多くする変更、及び液体噴射部１とワイピング部材８４５との相対移動速度を噴射状態の検出を実行する前より遅くする変更のうち、少なくとも一方を実行してもよい。

制御部８１０は、ワイピングを実行した後、ノズル検査を実行する。制御部８１０は、異常ノズルの数がワイピング開始側よりもワイピング終了側に多い場合に、ノズル面２０ａを適切にワイピングできなかったと推測する。

湿潤ワイピングを実行する際、ワイピング部材８４５がワイピング方向に進行するにつれて、ワイピング部材８４５に含まれるワイピング液が徐々に不足する場合がある。この場合、ワイピング開始側では適切にワイピングできる一方、ワイピング終了側では適切にワイピングできないことがある。このような理由により、ノズル面２０ａにおいてワイピング開始側よりもワイピング終了側において、異常ノズルが発生しやすくなる。

本実施形態のノズル列ＮＬは、１８０個のノズル２１により構成される。そのため、ノズル列ＮＬは、ワイピング開始側に位置する９０個のノズル２１と、ワイピング終了側に位置する９０個のノズル２１とにより構成される。液体噴射部１は、ノズル列ＮＬを合計８列有する。そのため、液体噴射部１は、合計１４４０個有する。制御部８１０は、ノズル検査をした後、ノズル面２０ａにおいてワイピング開始側に位置する７２０個のノズル２１に生じた異常ノズルの数と、ワイピング終了側に位置する７２０個のノズル２１に生じた異常ノズルの数とを比較する。制御部８１０は、異常ノズルの数がワイピング開始側よりワイピング終了側に多い場合に、ワイピング終了側において拭き残しが生じたと推測する。

制御部８１０は、ノズル検査によって検出された異常ノズルの数がワイピング開始側よりワイピング終了側に多い場合、ノズル検査を実行する前よりもワイピング液の供給量を多くする変更、及び液体噴射部１とワイピング部材８４５との相対移動速度を遅くする変更のうち、少なくとも一方を実行する。すなわち、次回の湿潤ワイピング実行時におけるワイピング液の供給量を多くする、又は、次回の湿潤ワイピング実行時における液体噴射部１とワイピング部材８４５との相対移動速度を遅くする。

ワイピング液の供給量を多くすることにより、ノズル面２０ａにおけるワイピング終了側を適切にワイピングできる。液体噴射部１とワイピング部材８４５との相対移動速度を遅くすることにより、ノズル面２０ａにおいてワイピング終了側に付着する液体の拭き残しを低減できる。

液体噴射部１とワイピング部材８４５との相対移動速度が速いと、ワイピング部材がノズル面２０ａに付着する液体を吸収する前に、ワイピング部材８４５がノズル面２０ａを通過する場合がある。そのため、液体噴射部１とワイピング部材８４５との相対移動速度が速いと、拭き残しが発生する場合がある。

制御部８１０は、ワイピングを実行する前後でノズル検査を実行してもよい。この場合、制御部８１０は、ワイピングを実行する前後で実行されたノズル検査の結果を比較してもよい。こうすると、制御部８１０は、ワイピングを実行する前よりもワイピングを実行した後の方が異常ノズルの数が多い場合に、適切にワイピングできなかったと推測できる。

供給ノズル８５１ａは、走査方向Ｘに往復移動可能に構成されてもよい。こうすると、ワイピング液供給機構８３４は、走査方向Ｘにおいて、ワイピング部材８４５に対するワイピング液の供給量を変更できる。例えば、目詰まりしやすいノズル２１又はノズル列ＮＬと対応するワイピング部材８４５の一部分に対するワイピング液の供給量を増やすことができる。例えば、ノズル面２０ａにおいて異物が残留しやすい領域と対応するワイピング部材８４５の一部分に対するワイピング液の供給量を増やすことができる。ノズル面２０ａにおいて異物が残留しやすい領域とは、例えばノズル面２０ａとカバーヘッド４００との段差部分である。特に、図２３におけるノズル面２０ａとカバーヘッド４００の第２露出開口部４０１とにより形成される隅角部に異物が残留しやすい。逆に、目詰まりしにくいノズル２１又はノズル列ＮＬと対応するワイピング部材８４５の一部分に対するワイピング液の供給量を減らすことができる。ノズル面２０ａにおいて異物が残留しやすい領域と対応するワイピング部材８４５の一部分に対するワイピング液の供給量を減らすことができる。この場合、ワイピング液の消費量を低減できる。

液体噴射装置７は、操作部７０１を介してワイピング液の供給量が変更されるように構成されてもよい。こうすると、ユーザーに操作によってワイピング液の供給量をユーザーの所望する量に変更できる。そのため、ユーザーにとっての使い勝手が向上する。

図２７に示すように、操作部７０１として機能するタッチパネルには、液体噴射装置７の状況を示すステータス画面７０３が表示される。ステータス画面７０３には、液体噴射装置７が設置されている環境の温度及び湿度、稼働時間などが液体噴射装置７の状況として表示される。本実施形態のステータス画面７０３には、液体噴射装置７の状況として、「Temperature」、「Humidity」、「Passed」、「Ink」、「Job」及び「Wiper」が表示される。ステータス画面７０３は、液体噴射装置７の状況として他の情報を表示してもよい。

ステータス画面７０３において、「Passed」は、液体噴射部１に液体を充填してから経過した時間を示している。「Ink」は、液体噴射部１が使用する液体の種類を示している。「Job」は、液体噴射装置７の電源を投入してから経過した時間を示している。「Wiper」は、布シート８３７を交換してから経過した時間を示している。ユーザーは、ステータス画面７０３を見ることにより、液体噴射装置７の状況を把握する。ユーザーは、液体噴射装置７の状況に基づいて供給量を変更する。

図２８に示すように、ワイピング液の供給量を変更する場合には、供給量を変更するための変更画面７０４が操作部７０１に表示される。本実施形態の変更画面７０４には、「Standard」と示される通常設定バー７０５と、「Select」と示される選択設定バー７０６と、「ON」と示される反映ボタン７０７と、「OFF」と示されるキャンセルボタン７０８とが表示される。

通常設定バー７０５及び選択設定バー７０６は、それぞれ１０本のバー７０９が並ぶことにより構成される。１０本のバー７０９は、ワイピング液供給機構８３４が供給するワイピング液の供給量を示している。図２８においては、通常設定バー７０５において、１０本のバー７０９のうち５本のバー７０９が着色されている。すなわち、通常設定バー７０５は、ワイピング液の供給量が１０段階中のうちの５段階目として設定されていることを示している。

通常設定バー７０５は、液体噴射装置７の状況に基づいて制御部８１０が適切と推測するワイピング液の供給量を表示する。ユーザーは、通常設定バー７０５に表示されるワイピング液の供給量から変更する場合、選択設定バー７０６を選択する。選択設定バー７０６は、ユーザーの操作によって、ワイピング液の供給量を０段階から１０段階のうち任意の段階に設定できる。０段階の場合、ワイピング液の供給量は０となる。

ユーザーは、選択設定バー７０６によりワイピング液の供給量を変更した後、反映ボタン７０７又はキャンセルボタン７０８を選択する。反映ボタン７０７を選択すると、ユーザーによって操作されたワイピング液の供給量の変更がワイピング液供給機構８３４に反映される。キャンセルボタン７０８を選択すると、ユーザーによって操作されたワイピング液の供給量の変更がキャンセルされる。このようにして、ユーザーは、変更画面７０４を介して操作することにより、ワイピング液の供給量を変更する。

次に、布ホルダー８３８に布シート８３７を装着する方法について説明する。
図２９に示すように、布ホルダー８３８に布シート８３７を装着する場合には、まず、未使用のロール状の布シート８３７の中心孔８６８に繰出軸８３９を挿入する。繰出軸８３９から少し繰り出された布シート８３７の先端に巻取軸８４０を取り付ける。

図３０に示すように、次に、繰出軸８３９の両端部を一対の繰出軸受部８４２に支持させる。すると、未使用のロール状の布シート８３７が布ホルダー８３８内の一端側にセットされる。

図３１に示すように、次に、繰出軸８３９から布シート８３７を繰り出す。次に、繰り出した布シート８３７を、押圧ローラー８４４の上面を含む巻き掛け部８４１全体に上側から巻き掛ける。

図３２に示すように、次に、巻取軸８４０の両端部を、布ホルダー８３８における未使用のロール状の布シート８３７がセットされた側と反対側に位置する一対の巻取軸受部８４３に支持させる。これにより、布ホルダー８３８への布シート８３７の装着作業が完了する。布シート８３７が装着された布ホルダー８３８から布シート８３７を取り外す場合には、上述した布ホルダー８３８への布シート８３７の装着作業を逆の手順で行えばよい。

次に、液体噴射装置７をメンテナンスするメンテナンス動作について説明する。
図３３に示すように、液体噴射部１のメンテナンスを実行する場合には、まず、基部８３２を待機位置で待機させる。基部８３２が待機位置で待機する状態で、移動機構を構成するキャリッジモーター７４８の駆動によりキャリッジ７２３を移動させることにより、液体噴射部１を整備領域ＳＡに移動させる。すなわち、液体噴射部１を廃液受容部８３５及びワイピング機構８３３に対向可能な位置に移動させる。液体噴射部１と廃液受容部８３５とが対向した状態で、液体噴射部１のノズル２１から廃液受容部８３５に記録処理とは無関係に液体を廃液ＨＩとして噴射するフラッシングを実行すると、ノズル２１内のメニスカスが整えられる。

フラッシングを実行すると、廃液受容部８３５の網体８４８上に、受容した廃液ＨＩの一部が溜まる。この網体８４８上に溜まった廃液ＨＩは、乾燥することにより、増粘したり、固化して堆積物になったりして、網体８４８上に残る。

図３４に示すように、相対移動機構８５７により基部８３２を搬送方向Ｙに移動すると、網体８４８上の廃液ＨＩが回収部８３６によって削ぎ取られるようにして回収され始める。このとき、ワイピング液供給機構８３４から液体噴射部１のノズル面２０ａにおける搬送方向Ｙの上流側の端部に向けて斜めに流体ＲＴが噴射され、液体噴射部１に対する流体噴射が開始される。このとき、ワイピング液供給機構８３４は、ノズル面２０ａだけに流体ＲＴを噴射してもよいし、カバーヘッド４００にも流体ＲＴを噴射してもよい。

ワイピング液供給機構８３４は、基部８３２の移動方向である搬送方向Ｙとは反対側に向かって流体ＲＴを斜め上方に向けて噴射する。本実施形態の流体ＲＴはワイピング液のみで構成されているが、流体ＲＴはワイピング液と空気などの気体とを混合した混合流体によって構成されてもよい。液体噴射部１に噴射されて落下した流体ＲＴは、噴出開口部８５４から経路８５２に流れ込んだ後、受容凹部８４９を経由して廃液ＨＩとともに廃液管８５０を介して廃液回収容器に排出されて回収される。

図３５に示すように、相対移動機構８５７により基部８３２を搬送方向Ｙに移動すると、網体８４８上の廃液ＨＩが回収部８３６によってさらに削ぎ取られるようにして回収される。このとき、基部８３２の搬送方向Ｙへの移動に伴って液体噴射部１のノズル面２０ａに噴射される流体ＲＴの位置も搬送方向Ｙへ移動する。さらにこのとき、液体噴射部１のノズル面２０ａにおける搬送方向Ｙの上流の端部にはワイピング部材８４５が接触する。ワイピング部材８４５は、ノズル面２０ａに接触することにより、ノズル面２０ａに噴射された流体ＲＴを吸収する。すなわち、ワイピング部材８４５は、ワイピング液を吸収した状態となる。この場合、ワイピング液供給機構８３４は、ワイピング部材８４５に対して間接的にワイピング液を供給する。基部８３２の搬送方向Ｙへの移動に伴い、液体噴射部１のノズル面２０ａに対するワイピング機構８３３の湿潤ワイピングが開始される。

図３６に示すように、相対移動機構８５７により基部８３２を搬送方向Ｙに移動すると、網体８４８上の廃液ＨＩが回収部８３６によって全て削ぎ取られるようにして回収される。このため、網体８４８上の廃液ＨＩの堆積物が液体噴射部１に接触することが抑制される。この回収部８３６によって回収された廃液ＨＩは、回収部８３６に付着する。このとき、基部８３２の搬送方向Ｙへの移動に伴って液体噴射部１のノズル面２０ａに噴射される流体ＲＴの位置が液体噴射部１のノズル面２０ａにおける搬送方向Ｙの下流の端部まで移動し、液体噴射部１のノズル面２０ａ全体への流体噴射が終了する。すなわち、ワイピング液供給機構８３４からの流体ＲＴの噴射が停止される。

液体噴射部１のノズル面２０ａに接触したワイピング部材８４５は、基部８３２の移動に伴うワイピング機構８３３の液体噴射部１に対する移動により、液体噴射部１のノズル面２０ａを搬送方向Ｙへ擦らせることにより、ノズル面２０ａをワイピングする。つまり、液体噴射部１のメンテナンス動作として、液体噴射部１のノズル面２０ａに流体噴射が行われた後に、ワイピング部材８４５による液体噴射部１のノズル面２０ａのワイピングが実行される。液体噴射部１のメンテナンス動作として、液体噴射部１のノズル面２０ａに流体噴射をせず、ワイピング部材８４５に流体噴射を実行した後に、ワイピング部材８４５による液体噴射部１のノズル面２０ａのワイピングを実行してもよい。この場合、ワイピング液供給機構８３４は、ワイピング部材８４５に対して直接的にワイピング液を供給する。

次に、ワイピング液供給機構８３４による液体噴射部１のノズル面２０ａに対する流体ＲＴの噴射について説明する。
図４０に示すように、流体ＲＴは、ワイピング液供給機構８３４が液体噴射部１に対してワイピング液を噴射する場合、噴射口８５１から走査方向Ｘに扇形に広がった状態で液体噴射部１のノズル面２０ａに向けて噴射される。このとき、流体ＲＴがノズル２１内に入り込むことによってメニスカスが破壊されることを抑制するために、流体ＲＴは、ノズル面２０ａにおいてノズル２１が形成されていない領域に噴射されてもよい。カバーヘッド４００を備える場合、カバーヘッド４００に流体ＲＴを噴射してもよい。

本実施形態の場合、液体噴射部１の開口領域ＫＲに向かう流体ＲＴは、遮蔽機構８５５の複数の遮蔽板８５６によって遮られる。そのため、噴射口８５１から噴射された流体ＲＴは、非開口領域ＨＫＲに向かう。

ワイピング液供給機構８３４は、液体噴射部１のメンテナンスをするメンテナンス動作として、非開口領域ＨＫＲに対して積極的に流体ＲＴを噴射する流体噴射を実行する。この場合、非開口領域ＨＫＲにぶつかった流体ＲＴは飛散して一部が開口領域ＫＲにかかるが、噴射口８５１から噴射された流体ＲＴが開口領域ＫＲに直接かかることはほとんどない。そのため、流体ＲＴがノズル２１内に入り込んでメニスカスを破壊することが抑制される。

図３７に示すように、相対移動機構８５７により基部８３２を搬送方向Ｙに移動すると、液体噴射部１のノズル面２０ａに接触したワイピング部材８４５が液体噴射部１を通り過ぎる。これにより、ワイピング部材８４５による液体噴射部１のノズル面２０ａ全体のワイピングが終了し、液体噴射部１のメンテナンスが完了する。

次に、ワイピング部材８４５による液体噴射部１のノズル面２０ａのワイピングについて説明する。
図４１に示すように、液体噴射部１のノズル面２０ａは、上述のようにメンテナンス動作として流体噴射が行われた後、ワイピング部材８４５が搬送方向Ｙに沿ってＰ１位置、Ｐ２位置、Ｐ３位置、及びＰ４位置の順で移動することによってワイピングされる。したがって、液体噴射部１のノズル面２０ａは、流体ＲＴで濡れた状態でワイピング部材８４５によってワイピング、すなわち湿潤ワイピングを実行される。

ワイピング部材８４５は、液体噴射部１のノズル面２０ａをワイピングする場合、Ｐ２位置において最初に液体噴射部１のノズル面２０ａに接触する。すなわち、ワイピング部材８４５は、最初に、液体噴射部１のノズル面２０ａにおける非開口領域ＨＫＲである搬送方向Ｙの上流側の端部に接触する。つまり、ワイピング部材８４５は、最初に非開口領域ＨＫＲをワイピングすることにより、非開口領域ＨＫＲに付着した流体ＲＴを吸収した状態で開口領域ＫＲをワイピングする。したがって、ワイピング部材８４５は、流体ＲＴで濡れた状態で開口領域ＫＲをワイピングする。そのため、ワイピング部材８４５が開口領域ＫＲをワイピングする際に、ワイピング部材８４５が開口領域ＫＲに与えるダメージが低減される。

図３８に示すように、移動機構を構成するキャリッジモーター７４８の駆動によりキャリッジ７２３を移動させて、液体噴射部１を基部８３２が移動する領域である整備領域ＳＡと対向する位置から退避させる。

図３９に示すように、相対移動機構８５７により基部８３２を搬送方向Ｙに移動すると、ワイピング機構８３３のワイピング部材８４５及び布シート８３７におけるワイピング部材８４５よりも搬送方向Ｙの下流側の部分となる使用済みの部分が回収部８３６と接触しながら回収部８３６を通り過ぎる。

押圧ローラー８４４は、回収部８３６により、図示しない押付部材の押付力に抗して布シート８３７を介して一時的に押し下げられる。回収部８３６を通り過ぎた後には、押圧ローラー８４４は、押付部材の押付力によって、押し下げられていた位置から元の位置に戻る。すると、回収部８３６に付着させて回収した廃液ＨＩが布シート８３７によって払拭されて、回収部８３６から廃液ＨＩが除去される。したがって、ワイピング機構８３３は、液体噴射部１のノズル面２０ａをワイピングした後に、回収部８３６が回収した廃液ＨＩを払拭する。

巻取軸８４０を回転させることにより布シート８３７を所定量だけ巻き取ることによって、布シート８３７における押圧ローラー８４４に巻き掛けられた部分である使用済みのワイピング部材８４５が巻取軸８４０側に移動する。これにより、ワイピング部材８４５を未使用の布シート８３７で構成する。このとき、布シート８３７は、例えば１０ｍｍだけ巻き取られる。その後、相対移動機構８５７により基部８３２が搬送方向Ｙと反対方向に移動されて基部８３２が図３３に示す待機位置に戻される。

上記第２実施形態によれば、以下のような効果を得ることができる。
（１）液体噴射装置７は、ノズル面２０ａをワイピング部材８４５によりワイピングする際のワイピング液の供給量を変更可能に構成される。これによれば、ワイピング部材８４５に供給されるワイピング液の供給量を変更できるため、その時々に応じて適切な量のワイピング液をワイピング部材に供給できる。したがって、適切にワイピングできる。

（２）液体噴射装置７は、ノズル面２０ａをワイピング部材８４５によりワイピングする際のワイピング液の供給量を液体噴射装置７の状況に基づいて変更する制御部８１０を備えてもよい。こうすると、液体噴射装置７の状況に基づいて適切な量のワイピング液をワイピング部材８４５に供給できる。

（３）制御部８１０は、ノズル面２０ａをワイピング部材８４５によりワイピングする際のワイピング液の供給量を検出部１５６による噴射状態の検出結果に基づいて変更してもよい。こうすると、ノズル２１からの液体の噴射状態に基づいて適切な量のワイピング液をワイピング部材８４５に供給できる。

（４）制御部８１０は、ノズル面２０ａをワイピング部材８４５によりワイピングする際のワイピング液の供給量をワイピング液収容部８７１に収容されるワイピング液の収容量に基づいて変更してもよい。こうすると、ワイピング液収容部８７１に収容されるワイピング液の収容量に基づいて適切な量のワイピング液をワイピング部材８４５に供給できる。

（５）液体噴射装置７は、ワイピング液の供給量を変更するように操作される操作部７０１を備えてもよい。こうすると、操作部７０１を介することにより、ワイピング液の供給量をユーザーが任意に変更できる。

（６）液体噴射装置７のメンテナンス方法として、湿潤ワイピングを実行する際のワイピング液の供給量を液体噴射装置７の状況に基づいて変更する。これによれば、液体噴射装置７の状況に基づいて適切な量のワイピング液をワイピング部材８４５に供給できる。したがって、適切にワイピングできる。

（７）液体噴射装置７のメンテナンス方法として、記録処理中においてノズル２１から液体が噴射されていないときに湿潤ワイピングを実行する際のワイピング液の供給量を、記録処理を実行していないときに湿潤ワイピングを実行する際のワイピング液の供給量より少なくしてもよい。記録処理中において湿潤ワイピングを実行した際に、ワイピング液がノズル面２０ａに残留すると、ノズル２１から液体が適切に噴射されない場合がある。上記メンテナンス方法の場合、記録処理中において湿潤ワイピングを実行する際のワイピング液の供給量を、記録処理を実行していないときに湿潤ワイピングを実行する際のワイピング液の供給量より少なくする。そのため、記録処理中において湿潤ワイピングを実行した際に、ノズル面２０ａにワイピング液が残留するおそれが低減される。これにより、適切にワイピングできる。

（８）液体噴射装置７のメンテナンス方法として、ノズル面２０ａをワイピング部材８４５によりワイピングする際のワイピング液の供給量を検出部１５６による噴射状態の検出結果に基づいて変更してもよい。こうすると、噴射状態に基づいて適切な量のワイピング液をワイピング部材８４５に供給できる。

（９）液体噴射装置７のメンテナンス方法として、ノズル面２０ａをワイピング部材８４５によりワイピングした後に実行された検出部１５６による噴射状態の検出結果から噴射状態が異常であると推測されるノズル２１がワイピング開始側よりワイピング終了側に多い場合、ノズル面２０ａをワイピング部材８４５によりワイピングする際のワイピング液の供給量を噴射状態の検出を実行する前より多くする変更、及び液体噴射部１とワイピング部材８４５との相対移動速度を噴射状態の検出を実行する前より遅くする変更のうち、少なくとも一方を実行してもよい。噴射状態が異常であると推測されるノズル２１がワイピング開始側よりワイピング終了側に多い場合、ワイピングした際にノズル面２０ａの異物を十分に除去できなかったおそれがある。そのため、こうした場合には、ワイピング液の供給量を多くする変更、及び液体噴射部１とワイピング部材８４５との相対移動速度を遅くする変更のうち、少なくとも一方を実行することにより、ノズル面２０ａの異物をワイピングにより除去しやすくする。すなわち、上記のメンテナンス方法の場合、適切にワイピングできる。

（１０）液体噴射装置７のメンテナンス方法として、ワイピング液収容部８７１に収容されるワイピング液の収容量が設定値より少ない場合に湿潤ワイピングを実行する際のワイピング液の供給量を、ワイピング液収容部８７１に収容されるワイピング液の収容量が設定値以上の場合に湿潤ワイピングを実行する際のワイピング液の供給量より少なくしてもよい。こうすると、ワイピング液の収容量が設定値より少ない場合にワイピング液の供給量を少なくするため、ワイピング液の収容量が少ない場合にはワイピング液の消費が抑えられる。これにより、湿潤ワイピングの実行回数を多くできる。

（１１）液体噴射装置７のメンテナンス方法として、ワイピング液収容部８７１に収容されるワイピング液の収容量が設定値より小さい第２設定値より少ない場合にワイピング液を供給しないでノズル面２０ａをワイピング部材８４５によりワイピングする非湿潤ワイピングを実行し、非湿潤ワイピング動作時における液体噴射部１とワイピング部材８４５との相対移動速度は、ワイピング液の収容量が設定値以上の場合に実行する湿潤ワイピング動作時における液体噴射部１とワイピング部材８４５との相対移動速度より遅くてもよい。非湿潤ワイピングの場合、ワイピング部材８４５にワイピング液が供給されないため、ワイピングしてもノズル面２０ａの異物を除去しにくい。そのため、非湿潤ワイピング動作時には、湿潤ワイピング動作時よりも、液体噴射部１とワイピング部材８４５との相対移動速度を遅くすることにより、ノズル面２０ａの異物をワイピングにより除去しやすくなる。上記のメンテナンス方法の場合、適切にワイピングすることができる。

上記第１実施形態及び第２実施形態は、以下のように変更して実施することができる。上記第１実施形態、第２実施形態、及び以下の変更例は、技術的に矛盾しない範囲で互いに組み合わせて実施することができる。

・湿潤ワイピングを実行する際、ワイピング液供給機構８３４は、液体噴射部１にワイピング液を噴射してもよいし、ワイピング部材８４５にワイピング液を噴射してもよい。ワイピング液供給機構８３４は、ワイピング液をワイピング部材８４５に直接的に供給してもよいし、ワイピング液をワイピング部材８４５に間接的に供給してもよい。

・ワイピング液供給機構８３４は、ワイピング液を噴射する構成に限らず、ワイピング液を滴下することにより、ワイピング部材８４５にワイピング液を供給するように構成されてもよい。また、布シート８３７におけるワイピング部材８４５となる領域より操り出し側となる領域にワイピング液を滴下することにより、ワイピング液をワイピング部材８４５に間接的に供給し、ワイピング液を滴下した領域がワイピング部材８４５となる領域となるように布シート８３７を巻き取ってもよい。

・待機状態で吸引クリーニングを実行した場合、その吸引クリーニング後に湿潤ワイピングを実行しなくてもよい。吸引クリーニングを実行すると、ノズル面２０ａにノズル２１から排出された液体が多く付着する。そのため、例えば、吸引クリーニング後に非湿潤ワイピングを実行し、ノズル面２０ａに付着する液体を除去してもよい。

・吸引クリーニング後に、ゴムワイパーにより液体噴射部１の下面をワイピングしてもよい。ゴムワイパーは、ゴムなどの非吸収性の材料で形成される。そのため、ゴムワイパーによるワイピングにより、液体噴射部１の下面に付着する液体を効果的に除去できる。ゴムワイパーでワイピングする場合、ノズル面２０ａには接触しなくてもよい。この場合、ゴムワイパーは、カバーヘッド４００に接触する。ゴムワイパーは、ワイピングによってカバーヘッド４００に付着する液体を除去する。

・ノズル面２０ａをゴムワイパーでワイピングした後、湿潤ワイピングを実行してもよい。こうすると、ゴムワイパーにより液体噴射部１に付着する液体の大部分を除去した後、ワイピング部材８４５により液体噴射部１に残留する液体を除去できる。すなわち、ノズル面２０ａの汚れを効果的に除去できる。吸引クリーニングに代えて、液体噴射部１内を加圧することによりノズル２１から液体を強制的に排出させる加圧クリーニングを実行した場合でも同様である。

・待機状態で湿潤ワイピングを実行した後に、非湿潤ワイピングを実行してもよい。こうすると、湿潤ワイピングによってノズル面２０ａに付着したワイピング液を除去できる。この場合、筐体７５９が往路移動する際に湿潤ワイピングを実行し、布シート８３７を巻き取って布シート８３７のワイピング液が供給されていない領域をワイピング部材８４５とし、筐体７５９が復路移動する際に非湿潤ワイピングを実行してもよい。

・ノズル検査により異常ノズルが生じていると推察される場合には、ワイピング液収容部８７１に収容されるワイピング液の収容量が設定値より少ない場合であっても、ワイピング液の供給量を維持、又はワイピング液の供給量を多くした状態で湿潤ワイピングを実行してもよい。

・ワイピング液の供給量は、外部装置であるコンピューター１６０からの操作によって変更されてもよい。
・ワイピング機構８３３及びワイピング液供給機構８３４は、メンテナンスユニット８３０として一体化された構成に限らず、それぞれ独立して設けられる構成でもよい。

・図４２に示すように、キャリッジ７２３にアーム８６９を介して回収部８３６を取り付けてもよい。この変更例においては、キャリッジ７２３が液体噴射部１及び回収部８３６を保持する。この変更例において、メンテナンスユニット８３０の向きを９０°変更して、土台部８３１が走査方向Ｘに延びるように配置してもよい。液体噴射部１のメンテナンスを実行する場合には、キャリッジモーター７４８の駆動により、キャリッジ７２３を走査方向Ｘに沿うようにワイピング機構８３３及び廃液受容部８３５に対して移動させる。そのため、この変更例においては、キャリッジモーター７４８が相対移動機構を構成する。このようにすれば、キャリッジモーター７４８の駆動により、キャリッジ７２３とともに液体噴射部１及び回収部８３６をワイピング機構８３３及び廃液受容部８３５に対して移動させることができる。液体噴射部１のメンテナンスを実行する際のキャリッジ７２３の移動時には、基部８３２を、走査方向Ｘにおけるキャリッジ７２３とは反対の方向に移動させるようにしてもよい。

・回収部８３６は、液体噴射部１が液体を噴射する方向である重力方向Ｚに沿って変位可能に構成してもよい。このようにすれば、回収部８３６を変位させることで、回収部８３６の廃液受容部８３５に対する接触量及び回収部８３６のワイピング機構８３３に対する接触量を調節することができる。

・遮蔽機構８５５は、液体噴射部１の開口領域ＫＲに向かう流体ＲＴの噴射を遮る位置と、液体噴射部１の非開口領域ＨＫＲに向かう流体ＲＴの噴射を遮る位置との間を移動可能に構成してもよい。遮蔽機構８５５は、液体噴射部１の開口領域ＫＲ及び非開口領域ＨＫＲに向かう流体ＲＴの噴射を許容する位置に移動可能に構成してもよい。液体噴射部１が移動する場合には、上述の遮蔽機構８５５の位置変更を液体噴射部１の移動によって行うようにしてもよい。

・遮蔽機構８５５の遮蔽板８５６同士の間隔の大きさ、すなわち遮蔽板８５６の大きさを、対応する液体噴射部１の開口領域ＫＲに設けられたノズル列ＮＬから噴射される液体の種類に応じて変更するようにしてもよい。このようにすれば、液体の固化の程度によって開口領域ＫＲにおける流体ＲＴの付着量を調節することができる。

・液体噴射部１が走査方向Ｘに移動する場合、遮蔽機構８５５を例えば１箇所だけスリット形状の開口部を有する板材によって構成してもよい。この場合、液体噴射部１を移動させることにより、対応する液体噴射部１の非開口領域ＨＫＲと板材の開口部の位置とを合わせた状態で流体ＲＴを噴射するようにしてもよい。

・遮蔽機構８５５は、液体噴射部１との距離を変更できるように、変位可能に構成してもよい。このようにすれば、遮蔽機構８５５と液体噴射部１との距離を変更することにより、噴射口８５１から噴射された流体ＲＴを遮る範囲を変更することができる。

・ワイピング液供給機構８３４は、開口領域ＫＲに対する流体ＲＴの噴射方向の角度θを、０°＜θ＜９０°の範囲で変更してもよい。
・液体噴射部１における開口領域ＫＲの撥液性と非開口領域ＨＫＲの撥液性とは、実質的に同じであってもよい。

・メンテナンスユニット８３０は、布シート８３７の交換性を考慮し、装置本体１１ａの前面側となるアクセス側からワイピング機構８３３、ワイピング液供給機構８３４、及び廃液受容部８３５の順に配置するようにしてもよい。

・回収部８３６は、例えば門型の取付部材を介して、メンテナンスユニット８３０の土台部８３１に固定するようにしてもよい。
・液体噴射装置７には、回収部８３６を重力方向Ｚに沿って昇降させる昇降機構を設けてもよい。この場合、回収部８３６は、ワイピング機構８３３にワイピングされるときの高さを、廃液受容部８３５の網体８４８上の廃液ＨＩを削ぎ取るときの高さよりも高くしてもよい。

・メンテナンスユニット８３０には、廃液受容部８３５を重力方向Ｚに沿って昇降させる昇降機構を設けるようにしてもよい。この場合、廃液受容部８３５は、網体８４８上の廃液ＨＩが回収部８３６によって削ぎ取られるときの高さを、フラッシングにより噴射される液体を受けるときの高さよりも高くしてもよい。

・ワイピング機構８３３における布シート８３７は、回収部８３６を払拭する位置と、液体噴射部１をワイピングする位置とが異なるようにしてもよい。この場合、回収部８３６の払拭動作と液体噴射部１のワイピング動作との間に、布シート８３７を所定量だけ巻き取る動作を巻取軸８４０で巻き取る動作を実行するようにしてもよい。この変更例において、布シート８３７で回収部８３６を払拭する際には、その前に液体噴射部１をワイピングした位置のままでもよい。

・液体噴射部１における開口領域ＫＲの撥液性は、非開口領域ＨＫＲの撥液性よりも低くなるように設定してもよい。
・遮蔽機構８５５は省略してもよい。この場合、噴射口８５１は、液体噴射部１の非開口領域ＨＫＲを狙って流体ＲＴを噴射することが可能な供給ノズル８５１ａで構成してもよい。

・液体噴射装置７は、必ずしも、ワイピング液供給機構８３４による液体噴射部１に対する流体噴射を行った後、ワイピング部材８４５が最初に液体噴射部１における非開口領域ＨＫＲの払拭を行う必要はない。

・液体噴射装置７は、ワイピング機構８３３による回収部８３６の払拭を行う際に、必ずしも液体噴射部１を整備領域ＳＡと対向する位置から退避させる必要はない。
・液体噴射装置７における廃液受容部８３５は、ワイピング機構８３３が液体噴射部１をワイピングする際のワイピング方向において、必ずしもワイピング機構８３３よりも下流側に配置する必要はない。

・液体噴射装置７において、ワイピング機構８３３は、必ずしも液体噴射部１をワイピングした後に回収部８３６を払拭する必要はない。
・図４３に示すように、外部混合型の流体噴射ノズル７７８の代わりに、内部混合型の流体噴射ノズル７７８Ｂを用いてもよい。流体噴射ノズル７７８Ｂは、液体流路７８８ａから供給される第２液体と気体流路７８３ａから供給される空気とを混合して混合流体を生成する混合部ＫＡを内部に有する。この場合、混合部ＫＡで生成された混合流体は、流体噴射ノズル７７８Ｂの先端である上端に設けられた噴射口７７８ｊから噴射される。

・流体噴射ノズル７７８からのノズル２１を含む液体噴射部１Ａ及び液体噴射部１Ｂへ混合流体を噴射する前に、ノズル２１を含む液体噴射部１Ａ及び液体噴射部１Ｂに対して第２液体を噴射するようにしてもよい。この場合、液体噴射ノズル７８０からの第２液体の噴射は液供給ポンプ７９３を用いてもよいが、液体供給管７８８の途中位置に液体噴射ノズル７８０から第２液体を噴射させるためのポンプを別途設けてもよい。このようにすれば、ノズル２１を含む液体噴射部１Ａ及び液体噴射部１Ｂに対して、先に第２液体を噴射して後から第２液体に空気を混入して混合流体を噴射する。そのため、ノズル２１を含む液体噴射部１Ａ及び液体噴射部１Ｂに対して空気のみが噴射されることを抑制できる。したがって、ノズル２１を含む液体噴射部１Ａ及び液体噴射部１Ｂに噴射された空気がノズル２１の開口から液体噴射部１Ａ及び液体噴射部１Ｂ内の奥へ進入することを抑制できる。この場合、ノズル２１を含む液体噴射部１Ａ及び液体噴射部１Ｂへの混合流体の噴射を停止する場合においても、先に空気の噴射を停止して後から第２液体の噴射を停止することにより、ノズル２１を含む液体噴射部１Ａ及び液体噴射部１Ｂに対して空気のみが噴射されることを抑制できる。

・液体供給源７０２内の液体を貯留部７３０に供給するための加圧ポンプを設けてもよい。この場合、流体噴射ノズル７７８からの目詰まりしたノズル２１への混合流体の噴射中における目詰まりしたノズル２１と通じる圧力発生室１２内のインクの加圧は、差圧弁７３１を開放した状態で上記加圧ポンプによって行うようにしてもよい。

・流体噴射ノズル７７８からのノズル２１を含む液体噴射部１Ａ及び液体噴射部１Ｂへの混合流体の噴射を行う前に、液体噴射部１Ａ及び液体噴射部１Ｂのノズル２１を含まない領域に対して第２液体を噴射するようにしてもよい。流体噴射ノズル７７８からのノズル２１を含む液体噴射部１Ａ及び液体噴射部１Ｂへ混合流体を噴射する前に、流体噴射ノズル７７８が液体噴射部１Ａ及び液体噴射部１Ｂと対向しない位置で第２液体を噴射するようにしてもよい。このようにしても、ノズル２１を含む液体噴射部１Ａ及び液体噴射部１Ｂに対して空気のみが噴射されることを抑制できる。

・第２液体は、防腐剤を含有しない純水によって構成してもよい。このようにすれば、第２液体がノズル２１内のインクに混ざった場合に、第２液体がインクへ悪影響を及ぼすことを抑制できる。

・目詰まりしているノズル２１に混合流体を噴射する場合に、目詰まりしているノズル２１と対応するアクチュエーター１３０を記録処理中の液体の噴射時やフラッシング時と同じように駆動してもよい。このようにしても、目詰まりしているノズル２１内に混合流体が進入することを抑制できる。

・目詰まりしているノズル２１に混合流体を噴射する場合に、目詰まりしているノズル２１以外のノズル２１と対応するアクチュエーター１３０を駆動して目詰まりしているノズル２１以外のノズル２１と対応する圧力発生室１２をそれぞれ加圧するようにしてもよい。このようにすれば、目詰まりしているノズル２１以外のノズル２１内に混合流体が進入することを抑制できる。

・流体噴射装置７７５は、非記録領域ＲＡに配置してもよい。
・非記録領域ＬＡにおける流体噴射装置７７５と記録領域ＰＡとの間に、液体噴射部１Ａ及び液体噴射部１Ｂのノズル面２０ａをワイピングするワイパーを別途設けるようにしてもよい。このようにすれば、流体噴射装置７７５による液体噴射部１Ａ及び液体噴射部１Ｂへの混合流体の噴射後に、記録領域ＰＡを横切って記録部７２０をホームポジションＨＰ側へ移動させる前に混合流体で濡れたノズル面２０ａを上記ワイパーでワイピングできる。したがって、記録領域ＰＡでの記録部７２０の移動中にノズル面２０ａに付着した混合流体が垂れることを抑制できる。

・エアポンプ７８２の代わりに、工場などの設備のエアコンプレッサーを用いてもよい。この場合、気体供給管７８３における圧力調整弁７８４とエアフィルター７８５との間の位置に、気体流路７８３ａを大気開放可能な３方向電磁弁を設けてもよい。流体噴射装置７７５の不使用時に気体流路７８３ａを大気開放するようにしてもよい。

・制御部８１０が目詰まりの検出履歴に基づいて吸引クリーニングを所定回数実行しても目詰まりが解消されないノズル２１を検出した場合には、一時的にこの目詰まりが解消されないノズル２１を使用せずに、代わりに他の正常なノズル２１で液体を噴射することにより記録処理を実行するいわゆる補完印刷を実行するようにしてもよい。この場合、補完印刷後に吸引クリーニングを所定回数行っても目詰まりが解消されないノズル２１を流体噴射装置７７５で洗浄して目詰まりを解消するようにしてもよい。

・使用頻度が極めて低い種類の液体を噴射するノズル２１は、吸引クリーニング、フラッシング及びワイピングなどの普段のメンテナンスを実行せずに、使用するときが来たときに流体噴射装置７７５で洗浄して目詰まりを解消するようにしてもよい。このようにすれば、使用頻度が極めて低い種類の液体の吸引クリーニング、フラッシングでの消費量が低減される。そのため、液体を節約することができる。

・流体噴射ノズル７７８からの目詰まりしたノズル２１への混合流体の噴射中には、必ずしも目詰まりしたノズル２１と通じる圧力発生室１２の加圧を実行する必要はない。
・ノズル２１の開口よりも小さい洗浄液の液滴の質量と当該液滴のノズル２１の開口位置における飛翔速度の２乗との積は、必ずしもノズル２１の開口から噴射される液体の質量と当該液体の飛翔速度の２乗との積よりも大きくする必要はない。

・液体噴射部１が噴射する液体はインクに限らず、例えば機能材料の粒子が液体に分散又は混合されてなる液状体などであってもよい。例えば、液晶ディスプレイ、エレクトロルミネッセンスディスプレイ及び面発光ディスプレイの製造などに用いられる電極材や色材などの材料を分散または溶解のかたちで含む液状体を噴射して記録する構成にしてもよい。

・記録媒体ＳＴは用紙に限らず、プラスチックフィルム、薄い板材などでもよいし、捺染装置などに用いられる布帛であってもよい。
・ワイピング部材８４５を構成する布シート８３７にあらかじめ含浸液を含浸しておいてもよい。

布シート８３７に含浸される含浸液について以下に詳述する。
ワイピングを実行する際のワイピング部材８４５には含浸液が含まれている。含浸液が含まれていることにより、ワイピング部材８４５を構成する布シート８３７の一例である吸収部材の表面から内部に顔料粒子が移動しやすくなり、吸収部材の表面に顔料粒子が残りにくくなる。含浸液は、浸透剤や保湿剤を含むことが好ましい。これにより、顔料粒子が吸収部材中により吸収されやすく。なお、含浸液は、無機顔料粒子を吸収部材表面から内部へ移動させることができる液であれば特に限定されない。

含浸液の表面張力は４５ｍＮ／ｍ以下であり、３５ｍＮ／ｍ以下であることが好ましい。表面張力が低いと吸収部材への無機顔料の浸透性が良好になり、拭き取り性が向上する。表面張力の測定方法としては、一般的に用いられる表面張力計、例えば、協和界面科学株式会社製の表面張力計ＣＢＶＰ−Ｚなどを用いて、ウィルヘルミー法で液温２５℃にて測定する方法が例示できる。

含浸液の含有量は、吸収部材１００質量％に対して、１０質量％以上３０質量％以下であることが好ましい。１０質量％以上であることにより、無機顔料インクを吸収部材の内側へ浸透させやすく、撥水膜が損傷するのをより抑制できる。また、３０質量％以下であることにより、ノズル面２０ａにおける含浸液の残存をより抑制でき、気泡が含浸液とともにノズル２１に浸入することに起因するドット抜けや、含浸液自体がノズル２１に浸入することに起因するドット抜けをより抑制できる。

そのほか、含浸液に含まれ得る添加剤、すなわち含浸液の成分としては、特に限定されないが、例えば、樹脂、消泡剤、界面活性剤、水、有機溶剤、及びｐＨ調製剤などが挙げられる。上記の各成分は、１種単独で用いても２種以上の併用でもよく、含有量は特に制限されない。

含浸液が消泡剤を含むと、クリーニング処理後のノズル形成面に残った含浸液が泡立つことを効果的に防止することができる。また、含浸液はポリエチレングリコールやグリセリンなどの酸性の保湿剤を多量に含む場合があるが、その場合に含浸液がｐＨ調整剤を含むと、通常、ｐＨ７．５以上の塩基性であるインク組成物に酸性の含浸液が接触することが回避できる。これにより、インク組成物が酸性側にシフトすることを防止でき、インク組成物の保存安定性がより保たれる。

また、含浸液に含まれ得る保湿剤としては、一般にインクなどに使用可能なものであれば特に制限されることなく使用できる。保湿剤としては、特に限定されないが、１気圧下相当での沸点が、好ましくは１８０℃以上、より好ましくは２００℃以上の高沸点保湿剤を用いることができる。当該沸点が上記範囲内であると、含浸液中の揮発成分が揮発することを防止でき、含浸液と接触する無機顔料含有インク組成物を確実に湿潤させて効果的に払拭することができる。

高沸点保湿剤として、特に限定されないが、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタメチレングリコール、トリメチレングリコール、２−ブテン−１，４−ジオール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、２−メチル−２，４−ペンタンジオール、トリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、イソプロピレングリコール、イソブチレングリコール、グリセリン、メソエリスリトール、及びペンタエリスリトールなどが挙げられる。

保湿剤は、１種単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。保湿剤の含有量は、含浸液の総質量である１００質量％に対して、１０〜１００質量％が好ましい。なお、保湿剤の含有量が含浸液の総質量に対して１００質量％とは、含浸液の全成分が保湿剤であることを示す。

含浸液に含まれ得る添加剤のうち浸透剤について説明する。浸透剤としては、一般にインクなどに使用可能なものであれば特に制限されることなく使用できるが、水９０質量％、浸透剤１０質量％の溶液において、該溶液の表面張力が４５ｍＮ／ｍ以下となるものを浸透剤として採用することもできる。浸透剤としては、特に限定されないが、例えば、炭素数５〜８のアルカンジオール類、グリコールエーテル類、アセチレングリコール系界面活性剤、シロキサン系界面活性剤、及びフッ素系界面活性剤からなる群より選択される一種以上が挙げられる。また、表面張力の測定は上記した方法で行なうことができる。

また、含浸液中の浸透剤の含有量は、１質量％以上４０質量％以下であることが好ましく、３質量％以上２５質量％以下であることが好ましい。１質量％以上であることにより、拭き取り性により優れる傾向にあり、また、４０質量％以下であることにより、浸透剤がノズル近傍のインクに含まれる顔料にアタックをし、分散安定性が壊れ凝集を起こすことを回避できる。

炭素数５〜８のアルカンジオール類としては、特に限定されないが、例えば、１，２−ペンタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，２−ヘキサンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，２−ヘプタンジオール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール、２，２−ジメチル−１，３−ヘキサンジオールなどが挙げられる。炭素数５〜８のアルカンジオール類は、１種単独で用いても又は２種以上を併用してもよい。

グリコールエーテル類としては、特に限定されないが、例えば、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｔ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｔ−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｔ−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｉｓｏ−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｉｓｏ−プロピルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、トリプロピレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノイソヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノイソヘキシルエーテル、トリエチレングリコールモノイソヘキシルエーテル、エチレングリコールモノイソヘプチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソヘプチルエーテル、トリエチレングリコールモノイソヘプチルエーテル、エチレングリコールモノイソオクチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソオクチルエーテル、トリエチレングリコールモノイソオクチルエーテル、エチレングリコールモノ−２−エチルヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノ−２−エチルヘキシルエーテル、トリエチレングリコールモノ−２−エチルヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノ−２−エチルペンチルエーテル、エチレングリコールモノ−２−エチルペンチルエーテル、エチレングリコールモノ−２−メチルペンチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−２−メチルペンチルエーテルなどが挙げられる。グリコールエーテル類は、１種単独で用いても又は２種以上を併用してもよい。

アセチレングリコール系界面活性剤としては、特に限定されないが、例えば、下記式で表される化合物などが挙げられる。

［式（４）中、０≦ｍ＋ｎ≦５０、Ｒ^１＊、Ｒ^２＊、Ｒ^３＊、及びＲ^４＊は各々独立してアルキル基、好ましくは炭素数１〜６のアルキル基を表す。］
式（４）で表されるアセチレングリコール系界面活性剤の中でも、好ましくは２，４，７，９−テトラメチル−５−デシン−４，７−ジオール、３，６−ジメチル−４−オクチン−３，６−ジオール、３，５−ジメチル−１−ヘキシン−３オールなどが挙げられる。式（４）で表されるアセチレングリコール系界面活性剤として市販品を利用することも可能であり、その具体例としては、いずれも「Ａｉｒ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ ａｎｄ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ．Ｉｎｃ．」より入手可能なサーフィノール８２、１０４、４４０、４６５、４８５、又はＴＧ、日信化学社製のオルフィンＳＴＧ、日信化学社製のオルフィンＥ１０１０などが挙げられる。アセチレングリコール系界面活性剤は、一種単独で用いても又は二種以上を併用してもよい。

シロキサン系界面活性剤としては、特に限定されないが、例えば、下記式（５）又は（６）で表されるものなどが挙げられる。

［式（５）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、及びＲ^７は、各々独立して、炭素数が１〜６のアルキル基、好ましくはメチル基を表す。ｊ及びｋは、各々独立して１以上の整数を表すが、好ましくは１〜５、より好ましくは１〜４、さらに好ましくは１又は２であり、ｊ＝ｋ＝１若しくはｋ＝ｊ＋１を満足することが好ましい。また、ｇは０以上の整数を表し、好ましくは１〜３であり、より好ましくは１である。さらに、ｐ及びｑはそれぞれ０以上の整数を表し、好ましくは１〜５を表す。但しｐ＋ｑは１以上の整数であり、好ましくはｐ＋ｑは２〜４である。］
式（５）で表されるシロキサン系界面活性剤としては、Ｒ^１〜Ｒ^７がすべてメチル基を表し、ｊが１〜２を表し、ｋが１〜２を表し、ｇが１〜２を表し、ｐが１以上５以下の整数を表し、ｑが０である化合物が好ましい。

［式（６）中、Ｒは水素原子又はメチル基を表し、ａは２〜１８の整数を表し、ｍは０〜５０の整数を表し、ｎは１〜５の整数を表す。］
式（６）で表されるシロキサン系界面活性剤としては、特に限定されないが、例えば、Ｒが水素原子又はメチル基を表し、ａが７〜１１の整数を表し、ｍが３０〜５０の整数を表し、ｎが３〜５の整数を表す化合物、Ｒが水素原子又はメチル基を表し、ａが９〜１３の整数を表し、ｍが２〜４の整数を表し、ｎが１〜２の整数である化合物、Ｒが水素原子又はメチル基を表し、ａが６〜１８の整数を表し、ｍが０の整数を表し、ｎが１の整数である化合物、Ｒが水素原子を表し、ａが２〜５の整数を表し、ｍが２０〜４０の整数を表し、ｎが３〜５の整数である化合物などが好ましい。

シロキサン系界面活性剤は商業的に入手可能で、市販されているものを用いてもよく、例えば、日信化学工業株式会社製のオルフィンＰＤ−５０１、日信化学工業株式会社製のオルフィンＰＤ−５７０、ビックケミー株式会社製のＢＹＫ−３４７、ビックケミー株式会社製のＢＹＫ−３４８などを用いることができる。上記シロキサン系界面活性剤は、一種単独で用いても又は二種以上を併用してもよい。

フッ素系界面活性剤は、ＷＯ２０１０／０５０６１８及びＷＯ２０１１／００７８８８に開示されている通り、低吸収性、非吸収性の記録媒体に対して良好な濡れ性を奏する溶剤として知られている。フッ素系界面活性剤としては、特に限定されないが、目的に応じて適宜選択することができ、例えばパーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステル、パーフルオロアルキルエチレンオキサイド付加物、パーフルオロアルキルベタイン、パーフルオロアルキルアミンオキサイド化合物などが挙げられる。

上記以外にもフッ素系界面活性剤として、適宜合成したものを使用してもよいし、市販品を使用してもよい。市販品としては、例えば旭硝子株式会社製のＳ・１４４、Ｓ・１４５；住友スリーエム株式会社製のＦＣ・１７０Ｃ、ＦＣ・４３０、フロラード・ＦＣ４４３０；Ｄｕｐｏｎｔ社製のＦＳＯ、ＦＳＯ・１００、ＦＳＮ、ＦＳＮ・１００、ＦＳ・３００；株式会社ネオス製のＦＴ・２５０、２５１などが挙げられる。これらの中でも、Ｄｕｐｏｎｔ社製のＦＳＯ、ＦＳＯ・１００、ＦＳＮ、ＦＳＮ・１００、ＦＳ・３００が好ましい。フッ素系界面活性剤は、一種単独で用いても又は二種以上を併用してもよい。

次に、液体噴射部１が使用する液体としてのインクについて以下に詳述する。
液体噴射装置７に使用されるインクは、組成上、樹脂を含有し、１気圧下での沸点が２９０℃のグリセリンを実質的に含有しない。インクがグリセリンを実質的に含むと、インクの乾燥性が大幅に低下してしまう。その結果、種々の媒体、特にインク非吸収性又は低吸収性の媒体において、画像の濃淡ムラが目立つだけではなく、インクの定着性も得られない。さらに、インクは、上記グリセリンを除く、１気圧下相当での沸点が２８０℃以上のアルキルポリオール類を実質的に含まないことが好ましい。

ここで、本明細書における「実質的に含まない」とは、添加する意義を十分に発揮する量以上含有させないことを意味する。これを定量的に言えば、グリセリンを、インクの総質量である１００質量％に対して、１．０質量％以上含まないことが好ましく、０．５質量％以上含まないことがより好ましく、０．１質量％以上含まないことがさらに好ましく、０．０５質量％以上含まないことがさらにより好ましく、０．０１質量％以上含まないことが特に好ましい。そして、グリセリンを０．００１質量％以上含まないことが最も好ましい。

次に、上記インクに含まれるか、又は含まれ得る添加剤、すなわちインクの成分について説明する。
［１．色材］
インクは、色材を含んでもよい。上記色材は、顔料及び染料から選択される。

［１−１．顔料］
色材として顔料を用いることにより、インクの耐光性を向上させることができる。顔料は、無機顔料及び有機顔料のいずれも使用することができる。無機顔料としては、特に限定されないが、例えば、カーボンブラック、酸化鉄、酸化チタン、及び酸化シリカが挙げられる。

有機顔料としては、特に限定されないが、例えば、キナクリドン系顔料、キナクリドンキノン系顔料、ジオキサジン系顔料、フタロシアニン系顔料、アントラピリミジン系顔料、アンサンスロン系顔料、インダンスロン系顔料、フラバンスロン系顔料、ペリレン系顔料、ジケトピロロピロール系顔料、ペリノン系顔料、キノフタロン系顔料、アントラキノン系顔料、チオインジゴ系顔料、ベンツイミダゾロン系顔料、イソインドリノン系顔料、アゾメチン系顔料、及びアゾ系顔料が挙げられる。有機顔料の具体例としては、下記のものが挙げられる。

シアンインクに使用される顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１、２、３、１５、１５：１、１５：２、１５：３、１５：４、１５：６、１５：３４、１６、１８、２２、６０、６５、６６、Ｃ．Ｉ．バットブルー４、６０が挙げられる。中でも、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：３及び１５：４のいずれかが好ましい。

マゼンタインクに使用される顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２１、２２、２３、３０、３１、３２、３７、３８、４０、４１、４２、４８（Ｃａ）、４８（Ｍｎ）、５７（Ｃａ）、５７：１、８８、１１２、１１４、１２２、１２３、１４４、１４６、１４９、１５０、１６６、１６８、１７０、１７１、１７５、１７６、１７７、１７８、１７９、１８４、１８５、１８７、２０２、２０９、２１９、２２４、２４５、２５４、２６４、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１９、２３、３２、３３、３６、３８、４３、５０が挙げられる。中でも、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２０２、及びＣ．Ｉ．ピグメントバイオレット１９からなる群から選択される一種以上が好ましい。

イエローインクに使用される顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１、２、３、４、５、６、７、１０、１１、１２、１３、１４、１６、１７、２４、３４、３５、３７、５３、５５、６５、７３、７４、７５、８１、８３、９３、９４、９５、９７、９８、９９、１０８、１０９、１１０、１１３、１１４、１１７、１２０、１２４、１２８、１２９、１３３、１３８、１３９、１４７、１５１、１５３、１５４、１５５、１６７、１７２、１８０、１８５、２１３が挙げられる。中でもＣ．Ｉ．ピグメントイエロー７４、１５５、及び２１３からなる群から選択される一種以上が好ましい。

なお、グリーンインクやオレンジインクなど、上記以外の色のインクに用いられる顔料としては、従来公知のものが挙げられる。
顔料の平均粒子径は、ノズル２１における目詰まりを抑制することができ、かつ、噴射安定性が一層良好となるため、２５０ｎｍ以下であることが好ましい。なお、本明細書における平均粒子径は、体積基準のものである。測定方法としては、例えば、レーザー回折散乱法を測定原理とする粒度分布測定装置により測定することができる。粒度分布測定装置としては、例えば、動的光散乱法を測定原理とする粒度分布計、例えば、日機装社（Nikkiso Co., Ltd.）製のマイクロトラックＵＰＡが挙げられる。

［１−２．染料］
色材として染料を用いることができる。染料としては、特に限定されることなく、酸性染料、直接染料、反応性染料、及び塩基性染料が使用可能である。色材の含有量は、インクの総質量である１００質量％に対して、０．４〜１２質量％であることが好ましく、２質量％以上５質量％以下であることがさらに好ましい。

［２．樹脂］
インクは、樹脂を含有する。インクが樹脂を含有することにより、媒体上に樹脂被膜が形成され、結果としてインクを媒体上に十分定着させて、主に画像の耐擦性を良好にする効果を発揮する。このため、樹脂エマルジョンは熱可塑性樹脂であることが好ましい。樹脂の熱変形温度は、ノズル２１の目詰まりを起こしにくく、媒体の耐擦性を持たせられるという有利な効果が得られるため、４０℃以上であることが好ましく、６０℃以上であることがより好ましい。

ここで、本明細書における「熱変形温度」は、ガラス転移温度である「Ｔｇ」又は最低造膜温度である「Ｍｉｎｉｍｕｍ Ｆｉｌｍ ｆｏｒｍｉｎｇ Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ；ＭＦＴ」で表された温度値とする。つまり、「熱変形温度が４０℃以上」とは、Ｔｇ又はＭＦＴのいずれかが４０℃以上であればよいことを意味する。なお、ＭＦＴの方がＴｇよりも樹脂の再分散性の優劣を把握しやすいため、当該熱変形温度はＭＦＴで表された温度値であることが好ましい。樹脂の再分散性に優れたインクであると、インクが固着しないためノズル２１が目詰まりしにくくなる。

上記熱可塑性樹脂の具体例として、特に限定されないが、ポリ（メタ）アクリル酸エステル又はその共重合体、ポリアクリロニトリル又はその共重合体、ポリシアノアクリレート、ポリアクリルアミド、及びポリ（メタ）アクリル酸などの（メタ）アクリル系重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、ポリイソブチレン、及びポリスチレン、並びにそれらの共重合体、並びに石油樹脂、クマロン・インデン樹脂、及びテルペン樹脂などのポリオレフィン系重合体、ポリ酢酸ビニル又はその共重合体、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール、及びポリビニルエーテルなどの酢酸ビニル系又はビニルアルコール系重合体、ポリ塩化ビニル又はその共重合体、ポリ塩化ビニリデン、フッ素樹脂、及びフッ素ゴムなどの含ハロゲン系重合体、ポリビニルカルバゾール、ポリビニルピロリドン又はその共重合体、ポリビニルピリジン、及びポリビニルイミダゾールなどの含窒素ビニル系重合体、ポリブタジエン又はその共重合体、ポリクロロプレン、及び、例えばブチルゴムであるポリイソプレンなどのジエン系重合体、並びにその他の開環重合型樹脂、縮合重合型樹脂、及び天然高分子樹脂が挙げられる。

樹脂の含有量は、インクの総質量である１００質量％に対し、１〜３０質量％であることが好ましく、１〜５質量％であることがより好ましい。含有量が上記範囲内である場合、形成される上塗り画像の光沢性及び耐擦性を一層優れたものとすることができる。また、上記インクに含有させてもよい樹脂としては、例えば、樹脂分散剤、樹脂エマルジョン、及びワックスなどが挙げられる。

［２−１．樹脂エマルジョン］
インクは、樹脂エマルジョンを含んでもよい。樹脂エマルジョンは、媒体が加熱される際、好ましくはワックスであるエマルジョンとともに樹脂被膜を形成することで、インクを媒体上に十分定着させて画像の耐擦性を良好にする効果を発揮する。上記の効果により樹脂エマルジョンを含有するインクで媒体を記録した場合、インクは特にインク非吸収性又は低吸収性の媒体上で耐擦性に優れたものとなる。

また、バインダーとして機能する樹脂エマルジョンは、インク中にエマルジョン状態で含有される。バインダーとして機能する樹脂をエマルジョン状態でインク中に含有させることにより、インクの粘度をインクジェット記録方式において適正な範囲に調整しやすく、かつ、インクの保存安定性及び噴射安定性を高めることができる。

樹脂エマルジョンとしては、以下に限定されないが、例えば、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸エステル、アクリロニトリル、シアノアクリレート、アクリルアミド、オレフィン、スチレン、酢酸ビニル、塩化ビニル、ビニルアルコール、ビニルエーテル、ビニルピロリドン、ビニルピリジン、ビニルカルバゾール、ビニルイミダゾール、及び塩化ビニリデンの単独重合体又は共重合体、フッ素樹脂、及び天然樹脂が挙げられる。中でも、メタアクリル系樹脂及びスチレン−メタアクリル酸共重合体系樹脂のいずれかが好ましく、アクリル系樹脂及びスチレン−アクリル酸共重合体系樹脂のいずれかがより好ましく、スチレン−アクリル酸共重合体系樹脂がより一層好ましい。なお、上記の共重合体は、ランダム共重合体、ブロック共重合体、交互共重合体、及びグラフト共重合体のうちいずれの形態であってもよい。

樹脂エマルジョンの平均粒子径は、インクの保存安定性及び噴射安定性を一層良好にするため、５ｎｍ〜４００ｎｍの範囲であることが好ましく、２０ｎｍ〜３００ｎｍの範囲であることがより好ましい。樹脂の中でも樹脂エマルジョンの含有量は、インクの総質量である１００質量％に対して、０．５〜７質量％の範囲であることが好ましい。含有量が上記範囲内であると、固形分濃度を低くすることができるため、噴射安定性を一層良好にすることができる。

［２−２．ワックス］
インクは、ワックスを含んでもよい。インクがワックスを含むことにより、インク非吸収性及び低吸収性の媒体上でのインクの定着性がより優れたものとなる。ワックスは、中でもエマルジョンタイプのものがより好ましい。上記ワックスとしては、以下に限定されないが、例えば、ポリエチレンワックス、パラフィンワックス、及びポリオレフィンワックスが挙げられ、中でも後述するポリエチレンワックスが好ましい。なお、本明細書において、「ワックス」とは、主に、後述する界面活性剤を使用して、固体ワックス粒子を水中に分散させたものを意味する。

上記インクがポリエチレンワックスを含むことにより、インクの耐擦性を優れたものとすることができる。ポリエチレンワックスの平均粒子径は、インクの保存安定性及び噴射安定性を一層良好にするため、５ｎｍ〜４００ｎｍの範囲であることが好ましく、５０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲であることがよき好ましい。

固形分換算されたポリエチレンワックスの含有量は、互いに独立して、インクの総質量である１００質量％に対して、０．１〜３質量％の範囲であることが好ましく、０．３〜３質量％の範囲であることがより好ましく、０．３〜１．５質量％の範囲であることがさらに好ましい。含有量が上記範囲内であると、インク非吸収性又は低吸収性の媒体上においてもインクを良好に固化・定着させることができ、かつ、インクの保存安定性及び噴射安定性を一層優れたものとすることができる。

［３．界面活性剤］
インクは、界面活性剤を含んでもよい。界面活性剤として、以下に限定されないが、例えばノニオン系界面活性剤が挙げられる。ノニオン系界面活性剤は、媒体上でインクを均一に拡げる作用がある。このため、ノニオン系界面活性剤を含むインクを用いて記録を行った場合、滲みの殆ど無い高精細な画像が得られる。このようなノニオン系界面活性剤としては、以下に限定されないが、例えば、シリコン系、ポリオキシエチレンアルキルエーテル系、ポリオキシプロピレンアルキルエーテル系、多環フェニルエーテル系、ソルビタン誘導体、及びフッ素系の界面活性剤が挙げられ、中でもシリコン系界面活性剤が好ましい。

界面活性剤の含有量は、インクの保存安定性及び噴射安定性が一層良好なものとなるため、インクの総質量である１００質量％に対して、０．１質量％以上３質量％以下の範囲であることが好ましい。

［４．有機溶剤］
インクは、公知の揮発性の水溶性有機溶剤を含んでもよい。ただし、上述のとおり、インクは、有機溶剤の一種である１気圧下での沸点が２９０℃のグリセリンを実質的に含まず、また、上記グリセリンを除く、１気圧下相当での沸点が２８０℃以上のアルキルポリオール類を実質的に含まないことが好ましい。

［５．非プロトン性極性溶媒］
インクは、非プロトン性極性溶媒を含んでもよい。インクに非プロトン性極性溶媒を含有することにより、インクに含まれる上述の樹脂粒子が溶解するため、記録処理の際にノズル２１の目詰まりを効果的に抑制することができる。また、塩化ビニルなどの媒体を溶解させる性質があるので、画像の密着性が向上する。

非プロトン性極性溶媒については、特に限定されないが、ピロリドン類、ラクトン類、スルホキシド類、イミダゾリジノン類、スルホラン類、尿素誘導体、ジアルキルアミド類、環状エーテル類、アミドエーテル類から選択される一種以上を含むことが好ましい。ピロリドン類の代表例としては、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−エチル−２−ピロリドンがあり、ラクトン類の代表例としては、γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、ε−カプロラクトンがあり、スルホキシド類の代表例としてはジメチルスルホキシド、テトラメチレンスルホキシドがある。

イミダゾリジノン類の代表例としては、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンがあり、スルホラン類の代表例としては、スルホラン、ジメチルスルホランがあり、尿素誘導体の代表例としては、ジメチル尿素、１，１，３，３−テトラメチル尿素がある。ジアルキルアミド類の代表例としては、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドがあり、環状エーテル類の代表例としては１，４−ジオキサン、テトラヒドロフランがある。

中でも、上述した効果の観点からピロリドン類、ラクトン類、スルホキシド類、アミドエーテル類が特に好ましく、２−ピロリドンが最も好ましい。上記の非プロトン性極性溶媒の含有量は、インクの総質量である１００質量％に対して、３〜３０質量％の範囲であることが好ましく、８〜２０質量％の範囲であることがより好ましい。

［６．その他の成分］
インクは、上記の成分に加えて、防かび剤、防錆剤、及びキレート化剤などをさらに含んでもよい。

インクについてさらに記載する。
［インク組成物］
本実施形態の液体噴射装置７は、無機顔料含有インク組成物を用いるものであれば特に制限されず、他のインク組成物を用いるものであってもよい。以下、本実施形態の無機顔料含有インク組成物及び他のインク組成物に含まれるか、又は含まれ得る添加剤、すなわち、インク組成物の成分を説明する。以下、無機顔料含有インク組成物及び他のインク組成物を単にまとめて「インク組成物」という。

［１．色材］
本実施形態の無機顔料含有インク組成物は、無機顔料を含むものであれば特に制限されない。また、他のインク組成物は、色材を含んでもよく、該色材は、無機顔料以外の顔料及び染料から選択される。

［１−１．顔料］
無機顔料としては、特に限定されないが、例えば、カーボンブラック、酸化鉄、酸化チタン、及び酸化シリカなどが挙げられる。

なお、無機顔料含有インク組成物に含まれる無機顔料は、平均粒子径は２００ｎｍ以上であることが好ましく、２５０ｎｍ以上であることがより好ましい。また、平均粒子径の上限は４μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは２μｍ以下である。さらに、無機顔料のモース硬度は、２．０超過であることが好ましく、５以上であることがより好ましい。また、硬度の上限は８以下であることが好ましい。上記のような範囲の無機顔料は、比較的撥液膜を傷つけやすく、通常のインクジェット記録装置では撥液膜保存性が損なわれるが、本実施形態のインクジェット記録装置であれば、上記のような範囲の無機顔料を用いた場合であっても、上述した構成を有することにより撥液膜保存性が良好になる。なお、有機顔料のモース硬度は通常１以下であり無機顔料と比較して撥液膜保存性が損なわれるおそれは少ない傾向にある。

無機顔料含有インク組成物は無機顔料を２０質量％以下含むものであることが好ましい。特に、無機顔料含有インク組成物が白色インク組成物の場合には、無機顔料濃度は５質量％以上が好ましい。上記範囲であれば無機顔料インクの求める特性を維持し、且つ本実施形態のインクジェット記録装置であれば、撥液膜保存性が保たれる。

モース硬度は、モース硬度計により測定される。モース硬度計は、Ｆ．Ｍｏｈｓにより案出されたもので、軟らかい鉱物より硬い鉱物に至る１０種の鉱物を箱に収め、軟らかいものから１度、２度、・・・・・１０度として硬度の順位を示したものである。標準鉱物は次の通りである、なお、数字は硬度を示す。１：カッ石、２：セッコウ、３：ホウカイ石、４：ホタル石、５：リンカイ石、６：セイチョウ石、７：セキエイ、８：トパーズ、９：コランダム、１０：ダイヤモンド。硬さを求める鉱物試料の面を、これらの鉱物で引っ掻いて傷を付けようとするとき、それに抵抗する力、すなわち傷が付くか付かないか程度の力により硬さを比較することができる。例えば、ホウカイ石に傷が付くときは、試料の硬さは３度より大きい。もし、ホタル石で傷が付き、逆にホタル石に傷が付かないときは、この試料の硬さは４度より小さい。このとき、試料の硬さは３〜４または３．５と示す。互いに多少傷が付くときは、試料の硬さは用いた標準鉱物と同じ順位の硬さを示す。モースの硬度計の硬さは、あくまでもその順位であって絶対値ではない。

モース硬度２．０超過を満たす無機顔料としては、特に限定されないが、例えば、金、銀、銅、アルミニウム、ニッケル、亜鉛などの単体金属；酸化セリウム、酸化クロム、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化ケイ素、酸化錫、酸化ジルコニウム、酸化鉄、酸化チタンなどの酸化物；硫酸カルシウム、硫酸バリウム、硫酸アルミニウムなどの硫酸塩；珪酸カルシウム、珪酸マグネシウムなどの珪酸塩；チッ化ホウ素、チッ化チタンなどのチッ化物；炭化ケイ素、炭化チタン、炭化ホウ素、炭化タングステン、炭化ジルコニウムなどの炭化物；ホウ化ジルコニウム、ホウ化チタンなどのホウ化物などが挙げられる。このなかでも好ましい無機顔料としては、アルミニウム、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化ケイ素などが挙げられる。より好ましくは、酸化チタン、酸化ケイ素、酸化アルミニウムが挙げられる。酸化チタンにおいては、ルチル型のものはモース硬度が７〜７．５前後に対して、アナターゼ型は６．６〜６前後である。ルチル型の酸化チタンは製造コストも低く、好ましい結晶系であり良好な白色度も発揮できる。そのため、ルチル型二酸化チタンを用いた場合には、撥液膜保存性を有し、低コストかつ良好な白色度の印刷物を作製できるインクジェット記録装置となる。

白色無機顔料としては、硫酸バリウムなどのアルカリ土類金属の硫酸塩、炭酸カルシウムなどのアルカリ土類金属の炭酸塩、微粉ケイ酸や合成ケイ酸塩などのシリカ類、ケイ酸カルシウム、アルミナ、アルミナ水和物、酸化チタン、及び酸化亜鉛などの金属化合物、並びにタルク及びクレイなどが挙げられる。特に酸化チタンは隠蔽性、着色性、及び分散粒径が好ましい白色顔料として知られている。

有機顔料としては、特に限定されないが、例えば、キナクリドン系顔料、キナクリドンキノン系顔料、ジオキサジン系顔料、フタロシアニン系顔料、アントラピリミジン系顔料、アンサンスロン系顔料、インダンスロン系顔料、フラバンスロン系顔料、ペリレン系顔料、ジケトピロロピロール系顔料、ペリノン系顔料、キノフタロン系顔料、アントラキノン系顔料、チオインジゴ系顔料、ベンツイミダゾロン系顔料、イソインドリノン系顔料、アゾメチン系顔料、及びアゾ系顔料などが挙げられる。有機顔料の具体例としては、下記のものが挙げられる。

シアンインクに使用される顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１、２、３、１５、１５：１、１５：２、１５：３、１５：４、１５：６、１５：３４、１６、１８、２２、６０、６５、６６、Ｃ．Ｉ．バットブルー４、６０などが挙げられる。中でも、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：３及び１５：４のうち少なくともいずれかが好ましい。

マゼンタインクに使用される顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２１、２２、２３、３０、３１、３２、３７、３８、４０、４１、４２、４８（Ｃａ）、４８（Ｍｎ）、５７（Ｃａ）、５７：１、８８、１１２、１１４、１２２、１２３、１４４、１４６、１４９、１５０、１６６、１６８、１７０、１７１、１７５、１７６、１７７、１７８、１７９、１８４、１８５、１８７、２０２、２０９、２１９、２２４、２４５、２５４、２６４、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１９、２３、３２、３３、３６、３８、４３、５０などが挙げられる。中でも、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２０２、及びＣ．Ｉ．ピグメントバイオレット１９からなる群から選択される一種以上が好ましい。

イエローインクに使用される顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１、２、３、４、５、６、７、１０、１１、１２、１３、１４、１６、１７、２４、３４、３５、３７、５３、５５、６５、７３、７４、７５、８１、８３、９３、９４、９５、９７、９８、９９、１０８、１０９、１１０、１１３、１１４、１１７、１２０、１２４、１２８、１２９、１３３、１３８、１３９、１４７、１５１、１５３、１５４、１５５、１６７、１７２、１８０、１８５、２１３などが挙げられる。中でもＣ．Ｉ．ピグメントイエロー７４、１５５、及び２１３からなる群から選択される一種以上が好ましい。なお、グリーンインクやオレンジインクなど、上記以外の色のインクに用いられる顔料としては、従来公知のものが挙げられる。

無機顔料以外の顔料の平均粒子径は、ノズルにおける目詰まりを抑制することができ、かつ、噴射安定性が一層良好となるため、２５０ｎｍ以下であることが好ましい。なお、本明細書における平均粒子径は、体積基準のものである。測定方法としては、例えば、レーザー回折散乱法を測定原理とする粒度分布測定装置により測定することができる。粒度分布測定装置としては、例えば、動的光散乱法を測定原理とする粒度分布計、例えば、日機装社（Ｎｉｋｋｉｓｏ Ｃｏ．， Ｌｔｄ．）製のマイクロトラックＵＰＡが挙げられる。

［１−２．染料］
本実施形態において、色材として染料を用いることができる。染料としては、特に限定されることなく、酸性染料、直接染料、反応性染料、及び塩基性染料が使用可能である。

色材の含有量は、インク組成物の総質量である１００質量％に対して、０．４〜１２質量％であることが好ましく、２〜５質量％であることがより好ましい。
［２．樹脂］
上記実施形態のインクジェット記録装置に好適に用いられるものであり、かつ、無機顔料を含有するインクは、組成上、以下の（１）又は（２）の特徴を有するものであると好ましい。

（１）インクジェット記録用インク組成物は熱変形温度１０℃以下の第１樹脂を含む。以下、「第１のインク」という。
（２）インクジェット記録用インク組成物は第２樹脂を含み且つグリセリンを実質的に含有しない。以下、「第２のインク」という。

これらのインク組成物はノズル形成面、吸収部材上で固化が起こりやすい性質を有し、撥液膜の損傷も促進しやすい傾向にあるが本願発明であればそれを良好に防止出来る。
上記第１のインクは、熱変形温度１０℃以下の第１樹脂を含むものである。このような樹脂は、布帛などの柔軟性及び吸収性に富んだ材料に対して強固に密着する性質を有する。一方、急速に被膜化及び固化が進み、ノズル形成面や吸収材料などに固形物として付着してしまう。

上記第２のインクは、１気圧下での沸点が２９０℃のグリセリンを実質的に含まない。着色インクがグリセリンを実質的に含むと、インクの乾燥性が大幅に低下してしまう。その結果、種々の被記録媒体、特にインク非吸収性又は低吸収性の被記録媒体において、画像の濃淡ムラが目立つだけではなく、インクの定着性も得られない。また、グリセリンが含まれないことで、インク内の主溶媒となる水分などが急速に揮発し、第２のインクは有機溶剤の占める割合が上昇する事になる。この場合、樹脂の熱変形温度、特に増膜温度は下がる結果となり、一層皮膜による固化が促進される。さらに、上記のグリセリンを除く、１気圧下相当での沸点が２８０℃以上のアルキルポリオール類を実質的に含まないことが好ましい。また、第２のインクの場合は、記録ヘッドに対向する位置に搬送された記録媒体を加熱する加熱機構を有する記録装置の場合、記録ヘッド付近のインクの乾燥が進み、更に課題は顕著となるが、本願発明であれば良好に防止出来る。加熱する温度としては３０℃以上８０℃以下であると、インクの保存安定性、記録画像品質の観点から好ましい。加熱機構については、特に限定されず、発熱ヒーター、熱風ヒーター、及び赤外線ヒーターなどが挙げられる。

ここで、本明細書における「実質的に含まない」とは、添加する意義を十分に発揮する量以上含有させないことを意味する。これを定量的に言えば、グリセリンが、着色インクの総質量である１００質量％に対して、１．０質量％以上含まないことが好ましく、０．５質量％以上含まないことがより好ましく、０．１質量％以上含まないことがさらに好ましく、０．０５質量％以上含まないことがさらにより好ましく、０．０１質量％以上含まないことが特に好ましく、０．００１質量％以上含まないことが最も好ましい。

第１樹脂の熱変形温度は、熱変形温度は、１０℃以下である。さらに、−１０℃以下であることが好ましく、−１５℃以下であることがより好ましい。定着樹脂のガラス転移温度が上記範囲内である場合、記録物における顔料の定着性が一層優れたものとなる結果、耐擦性が優れたものとなる。なお、熱変形温度の下限については特に限定されないが、−５０℃以上であるとよい。

第２樹脂の熱変形温度は、ヘッドの目詰まりを起こしにくく、かつ、記録物の耐擦性を良好にすることができるため、下限は４０℃以上であることが好ましく、６０℃以上であることがより好ましい。好ましい上限としては１００℃以下である。

ここで、本明細書における「熱変形温度」は、ガラス転移温度である「Ｔｇ」又は最低造膜温度である「Ｍｉｎｉｍｕｍ Ｆｉｌｍ ｆｏｒｍｉｎｇ Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ；ＭＦＴ」で表された温度値とする。つまり、「熱変形温度が４０℃以上」とは、Ｔｇ又はＭＦＴのいずれかが４０℃以上であればよいことを意味する。なお、ＭＦＴの方がＴｇよりも樹脂の再分散性の優劣を把握しやすいため、当該熱変形温度はＭＦＴで表された温度値であることが好ましい。樹脂の再分散性に優れたインク組成物であると、インク組成物が固着しないためヘッドが目詰まりしにくくなる。

本明細書におけるＴｇは示差走査熱量測定法により測定された値で記載している。また、本明細書におけるＭＦＴは、ＩＳＯ ２１１５：１９９６「標題：プラスチック−ポリマー分散−白色点温度及びフィルム形成最低温度の測定」により測定された値で記載している。

樹脂としては、特に限定されないが、例えば、ポリ（メタ）アクリル酸エステル又はその共重合体、ポリアクリロニトリル又はその共重合体、ポリシアノアクリレート、ポリアクリルアミド、及びポリ（メタ）アクリル酸などの（メタ）アクリル系重合体；ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、ポリイソブチレン、及びポリスチレン、並びにそれらの共重合体、並びに石油樹脂、クマロン・インデン樹脂、及びテルペン樹脂などのポリオレフィン系重合体；ポリ酢酸ビニル又はその共重合体、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール、及びポリビニルエーテルなどの酢酸ビニル系又はビニルアルコール系重合体；ポリ塩化ビニル又はその共重合体、ポリ塩化ビニリデン、フッ素樹脂、及びフッ素ゴムなどの含ハロゲン系重合体；ポリビニルカルバゾール、ポリビニルピロリドン又はその共重合体、ポリビニルピリジン、及びポリビニルイミダゾールなどの含窒素ビニル系重合体；ポリブタジエン又はその共重合体、ポリクロロプレン、及び、例えばブチルゴムであるポリイソプレンなどのジエン系重合体；並びにその他の開環重合型樹脂、縮合重合型樹脂、及び天然高分子樹脂など挙げられる。

樹脂の市販品として、例えば、東邦化学社（ＴＯＨＯ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｉｎｄｕｓｔｒｙ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．）製のハイテックＥ−７０２５Ｐ、ハイテックＥ−２２１３、ハイテックＥ−９４６０、ハイテックＥ−９０１５、ハイテックＥ−４Ａ、ハイテックＥ−５４０３Ｐ、ハイテックＥ−８２３７が挙げられる。樹脂の市販品として、例えば、ビックケミー・ジャパン社（ＢＹＫ Ｊａｐａｎ ＫＫ）製のＡＱＵＡＣＥＲ ５０７、ＡＱＵＡＣＥＲ ５１５、ＡＱＵＡＣＥＲ ８４０が挙げられる。樹脂の市販品として、例えば、ＢＡＳＦ社製のＪＯＮＣＲＹＬ ６７、６１１、６７８、６８０、及び６９０が挙げられる。

樹脂は、アニオン性、ノニオン性、又はカチオン性のいずれであってもよい。これらの中でも、ヘッドに適した材質という観点から、ノニオン性又はアニオン性が好ましい。樹脂は、１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

樹脂の含有量は、インク組成物の総質量である１００質量％に対し、１〜３０質量％であることが好ましく、１〜５質量％であることがより好ましい。含有量が上記範囲内である場合、形成される上塗り画像の光沢性及び耐擦性を一層優れたものとすることができる。

また、上記インク組成物に含有させてもよい樹脂としては、例えば、樹脂分散剤、樹脂エマルジョン、及びワックスなどが挙げられる。これらの中でもエマルジョンであれば密着性や耐擦性が良好であり好ましい。

［２−１．樹脂分散剤］
本実施形態のインク組成物に上記の顔料を含有させる際、顔料が水中で安定的に分散保持できるようにするため、当該インク組成物は樹脂分散剤を含むとよい。上記インク組成物が水溶性樹脂や水分散性樹脂などの樹脂分散剤を用いて分散された顔料である樹脂分散顔料を含むことにより、インク組成物が被記録媒体に付着したときに、被記録媒体とインク組成物との間及びインク組成物中の固化物間のうち少なくともいずれかの密着性を良好なものとすることができる。樹脂分散剤の中でも分散安定性に優れるため、水溶性樹脂が好ましい。

［２−２．樹脂エマルジョン］
本実施形態のインク組成物は、樹脂エマルジョンを含むと好ましい。樹脂エマルジョンは、樹脂被膜を形成することで、インク組成物を被記録媒体上に十分定着させて画像の耐擦性を良好にする効果を発揮する。上記の効果により樹脂エマルジョンを含有するインク組成物を用いて記録された記録物は、特に布帛、インク非吸収性又は低吸収性の被記録媒体上で密着性、耐擦性に優れたものとなる。一方無機顔料の固化を促進させてしまう傾向にあるが、本願発明であれば固化によって生じる課題を良好に防止する事が出来る。

また、バインダーとして機能する樹脂エマルジョンはインク組成物中にエマルジョン状態で含有されることが好ましい。バインダーとして機能する樹脂をエマルジョン状態でインク組成物中に含有させることにより、インク組成物の粘度をインクジェット記録方式において適正な範囲に調整しやすく、かつ、インク組成物の保存安定性及び噴射安定性に優れたものとなる。

樹脂エマルジョンとしては、特に限定されないが、例えば、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸エステル、アクリロニトリル、シアノアクリレート、アクリルアミド、オレフィン、スチレン、酢酸ビニル、塩化ビニル、ビニルアルコール、ビニルエーテル、ビニルピロリドン、ビニルピリジン、ビニルカルバゾール、ビニルイミダゾール、及び塩化ビニリデンの単独重合体又は共重合体、フッ素樹脂、及び天然樹脂などが挙げられる。中でも、（メタ）アクリル系樹脂及びスチレン−（メタ）アクリル酸共重合体系樹脂のうち少なくともいずれかが好ましく、アクリル系樹脂及びスチレン−アクリル酸共重合体系樹脂のうち少なくともいずれかがより好ましく、スチレン−アクリル酸共重合体系樹脂がさらに好ましい。なお、上記の共重合体は、ランダム共重合体、ブロック共重合体、交互共重合体、及びグラフト共重合体のうちいずれの形態であってもよい。

樹脂エマルジョンは、市販品を用いてもよく、以下のように乳化重合法などを利用して作製してもよい。インク組成物中の樹脂をエマルジョンの状態で得る方法としては、重合触媒及び乳化剤を存在させた水中で、上述した水溶性樹脂の単量体を乳化重合させることが挙げられる。乳化重合の際に使用される重合開始剤、乳化剤、及び分子量調整剤は従来公知の方法に準じて使用できる。

樹脂エマルジョンの平均粒子径は、インクの保存安定性及び噴射安定性を一層良好にするため、好ましくは５ｎｍ〜４００ｎｍの範囲であり、より好ましくは２０ｎｍ〜３００ｎｍの範囲である。

樹脂エマルジョンは、１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。樹脂の中でも樹脂エマルジョンの含有量は、インク組成物の総質量である１００質量％に対して、０．５〜１５質量％の範囲であることが好ましい。含有量が上記範囲内であると、固形分濃度を低くすることができるため、噴射安定性を一層良好にすることができる。

［２−３．ワックス］
本実施形態のインク組成物は、ワックスを含んでもよい。インク組成物がワックスを含むことにより、インク組成物がインク非吸収性及び低吸収性の被記録媒体上で定着性により優れたものとなる。ワックスの中でもエマルジョン又はサスペンジョンタイプのものがより好ましい。上記ワックスとしては、以下に限定されないが、例えばポリエチレンワックス、パラフィンワックス、及びポリプロピレンワックスが挙げられ、中でも後述するポリエチレンワックスが好ましい。

上記インク組成物がポリエチレンワックスを含むことにより、インクの耐擦性を優れたものとすることができる。
ポリエチレンワックスの平均粒子径は、インクの保存安定性及び噴射安定性を一層良好にするため、好ましくは５ｎｍ〜４００ｎｍの範囲であり、より好ましくは５０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲である。

固形分換算されたポリエチレンワックスの含有量は、インク組成物の総質量である１００質量％に対して、０．１〜３質量％の範囲が好ましく、０．３〜３質量％の範囲がより好ましく、０．３〜１．５質量％の範囲がさらに好ましい。含有量が上記範囲内であると、被記録媒体上においても、インク組成物を良好に固化・定着させることができ、かつ、インクの保存安定性及び噴射安定性が一層優れたものとなる。

［３．消泡剤］
本実施形態のインク組成物は、消泡剤を含み得る。より詳しく言えば、本実施形態のインク組成物又は含浸液のうち少なくともいずれかが、消泡剤を含むことが好ましい。インク組成物が消泡剤を含む場合、泡立ちを防止でき、その結果、泡がノズルの中に入り込む不具合を防止できる。

上記消泡剤としては、以下に限定されないが、例えば、シリコン系消泡剤、ポリエーテル系消泡剤、脂肪酸エステル系消泡剤、及びアセチレングリコール系消泡剤などが挙げられる。これらの中でも、表面張力及び界面張力を適正に保持する能力に優れており、かつ、気泡を殆ど生じさせないため、シリコン系消泡剤、アセチレングリコール系消泡剤が好ましい。また、消泡剤のグリフィン法に基づくＨＬＢ値は５以下がより好ましい。

［４．界面活性剤］
本実施形態のインク組成物は、界面活性剤を含んでもよい。この界面活性剤は、上記の消泡剤で挙げたものを除く、つまり、グリフィン法によるＨＬＢ値が５を上回るものに限る。界面活性剤として、以下に限定されないが、例えばノニオン系界面活性剤が挙げられる。ノニオン系界面活性剤は、被記録媒体上でインクを均一に拡げる作用がある。そのため、ノニオン系界面活性剤を含むインクを用いてインクジェット記録を行った場合、滲みの殆ど無い高精細な画像が得られる。このようなノニオン系界面活性剤としては、以下に限定されないが、例えば、シリコン系、ポリオキシエチレンアルキルエーテル系、ポリオキシプロピレンアルキルエーテル系、多環フェニルエーテル系、ソルビタン誘導体、及びフッ素系の界面活性剤などが挙げられ、中でもシリコン系界面活性剤が好ましい。

シリコン系界面活性剤は、他のノニオン系界面活性剤と比較して、被記録媒体上で滲みを生じないようにインクを均一に拡げる作用に優れる。
シリコン系界面活性剤としては、特に限定されないが、ポリシロキサン系化合物が好ましく挙げられる。当該ポリシロキサン系化合物としては、特に限定されないが、例えば、ポリエーテル変性オルガノシロキサンが挙げられる。当該ポリエーテル変性オルガノシロキサンの市販品としては、特に限定されないが、例えば、ＢＹＫ社製のＢＹＫ−３０６、ＢＹＫ−３０７、ＢＹＫ−３３３、ＢＹＫ−３４１、ＢＹＫ−３４５、ＢＹＫ−３４６、ＢＹＫ−３４８、ＢＹＫ−３４９が挙げられる。当該ポリエーテル変性オルガノシロキサンの市販品としては、例えば、信越化学工業社（Ｓｈｉｎ−Ｅｔｓｕ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．， Ｌｔｄ．）製のＫＦ−３５１Ａ、ＫＦ−３５２Ａ、ＫＦ−３５３、ＫＦ−３５４Ｌ、ＫＦ−３５５Ａ、ＫＦ−６１５Ａ、ＫＦ−９４５、ＫＦ−６４０、ＫＦ−６４２、ＫＦ−６４３、ＫＦ−６０２０、Ｘ−２２−４５１５、ＫＦ−６０１１、ＫＦ−６０１２、ＫＦ−６０１５、ＫＦ−６０１７が挙げられる。

界面活性剤は、１種単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。界面活性剤の含有量は、インクの保存安定性及び噴射安定性が一層良好なものとなるため、インクの総質量である１００質量％に対して、０．１質量％以上３質量％以下の範囲であることが好ましい。

［５．水］
本実施形態のインク組成物は、水を含有してもよい。特に、当該インクが水性インクである場合、水は、インクの主となる媒体であり、インクジェット記録において被記録媒体が加熱される際、蒸発飛散する成分となる。

水としては、例えば、イオン交換水、限外濾過水、逆浸透水、及び蒸留水などの純水、並びに超純水のような、イオン性不純物を極力除去したものが挙げられる。また、紫外線照射又は過酸化水素の添加などによって滅菌した水を用いると、顔料分散液及びこれを用いたインクを長期保存する場合にカビやバクテリアの発生を防止することができる。

水の含有量は特に制限されず、必要に応じて適宜決定すればよい。
［６．有機溶剤］
本実施形態のインク組成物は、揮発性の水溶性有機溶剤を含んでもよい。有機溶剤としては、特に限定されないが、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，２−ブタンジオール、１，２−ペンタンジオール、１，２−ヘキサンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ジエチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−ｉｓｏ−プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｉｓｏ−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｔ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｔ−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｔ−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｉｓｏ−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｉｓｏ−プロピルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、トリプロピレングリコールジメチルエーテル、メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、ｉｓｏ−プロピルアルコール、ｎ−ブタノール、２−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、ｉｓｏ−ブタノール、ｎ−ペンタノール、２−ペンタノール、３−ペンタノール、及びｔｅｒｔ−ペンタノールなどのアルコール類あるいはグリコール類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、２−オキサゾリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、及び１，１，３，３−テトラメチル尿素などが挙げられる。

有機溶剤は、１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。有機溶剤の含有量は特に制限されず、必要に応じて適宜決定すればよい。
［７．ｐＨ調整剤］
本実施形態のインク組成物は、ｐＨ調整剤を含んでもよい。ｐＨ調整剤として、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの無機アルカリ、アンモニア、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、モルホリン、リン酸二水素カリウム、及びリン酸水素二ナトリウムなどが挙げられる。

ｐＨ調整剤は、１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。ｐＨ調整剤の含有量は特に制限されず、必要に応じて適宜決定すればよい。
［８．その他の成分］
本実施形態のインク組成物は、上記の成分に加えて、防腐剤・防かび剤、防錆剤、及びキレート化剤などをさらに含んでもよい。

［９．インク組成物の製造方法］
本実施形態のインク組成物は、上述の成分、すなわち材料を任意の順序で混合し、必要に応じて濾過などを行い、不純物を除去することにより得ることができる。ここで、顔料は、あらかじめ溶媒中に均一に分散させた状態に調製してから混合することが、取り扱いが簡便になるため好ましい。

各材料の混合方法としては、メカニカルスターラーやマグネチックスターラーなどの撹拌装置を備えた容器に順次材料を添加して撹拌混合する方法が好適に用いられる。濾過方法として、例えば、遠心濾過やフィルター濾過などを必要に応じて行うことができる。

［１０．インク組成物の表面張力］
インク組成物の表面張力は、特に限定されないが、１５〜３５ｍＮ／ｍであることが好ましい。これによって、インク組成物の吸収部材への浸透性、記録した際のブリード防止性を確保が可能となり、清掃動作時のインク拭き取り性が向上する。インク組成物の表面張力も、上述のように、一般的に用いられる表面張力計、例えば、協和界面科学株式会社製の表面張力計ＣＢＶＰ−Ｚなどを用いて測定する方法が例示できる。また、インク組成物の表面張力と含浸液の表面張力の差は、１０ｍＮ／ｍ以内という関係を有することが好ましい。これによって、両者がノズル付近で混じった際に、極端にインク組成物の表面張力が低下することを防止出来る。

次に、第２液体に混合される界面活性剤の成分について説明する。
界面活性剤としては、アルキルアミン塩類、および第四級アンモニウム塩類などのカチオン性界面活性剤；ジアルキルスルホコハク酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、および脂肪酸塩類などのアニオン性界面活性剤；アルキルジメチルアミンオキシド、アルキルカルボキシベタインなどの両イオン性界面活性剤；ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル類、アセチレングリコール類、およびポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類などのノニオン性界面活性剤などを用いることができるが、これらの中でも特に、アニオン性界面活性剤もしくはノニオン性界面活性剤が好ましい。

界面活性剤の含有量は、第２液体の総質量に対して０．１〜５．０質量％であるのが好ましい。さらに、気泡性および気泡後の消泡性の観点から界面活性剤の含有量は、第２液体の総質量に対して０．５〜１．５質量％であるのが好ましい。なお、界面活性剤は、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。また、第２液体に含有される界面活性剤は、インクに含有される界面活性剤と同じであることが好ましく、例えば、インクに含有される界面活性剤がノニオン性界面活性剤の場合、ノニオン性界面活性剤としては、以下に限定されないが、例えば、シリコン系、ポリオキシエチレンアルキルエーテル系、ポリオキシプロピレンアルキルエーテル系、多環フェニルエーテル系、ソルビタン誘導体、及びフッ素系の界面活性剤が挙げられ、中でもシリコン系界面活性剤が好ましい。

特に、ロスマイルス法を用いた起泡直後および起泡５分後の泡高さが、起泡直後の泡高さが５０ｍｍ以上、起泡５分後の泡高さが５ｍｍ以下の範囲になるようにするためには、界面活性剤として、アセチレンジオールに付加モル数４〜３０でエチレンオキサイドである「ＥＯ」が付加した付加物を用い、該付加物の含有量を洗浄液全重量に対して０．１〜３．０重量％とすることが好ましい。さらに、ロスマイルス法を用いた起泡直後および起泡５分後の泡高さが、起泡直後の泡高さが１００ｍｍ以上、起泡５分後の泡高さが５ｍｍ以下の好ましい範囲になるようにするためには、アセチレンジオールに付加モル数１０〜２０でエチレンオキサイドである「ＥＯ」が付加した付加物を用い、該付加物の含有量を洗浄液全重量に対して０．５〜１．５重量％とすることが好ましい。但し、アセチレンジオールのエチレンオキサイド付加物の含有量が多すぎると、臨界ミセル濃度に達し、エマルションとなってしまうおそれがある。

界面活性剤は、記録媒体上で水性インクを濡れ広がりやすくする機能を有する。本発明で用いることのできる界面活性剤に特に制限はなく、ジアルキルスルホコハク酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、および脂肪酸塩類などのアニオン性界面活性剤；ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル類、アセチレングリコール類、およびポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類などのノニオン性界面活性剤；アルキルアミン塩類、および第四級アンモニウム塩類などのカチオン性界面活性剤；シリコーン系界面活性剤；フッ素系界面活性剤などを用いることができる。

なお、界面活性剤は第２液体である洗浄液と凝集物との間の界面活性効果により凝集物を細分化して分散させる効果がある。また、洗浄液の表面張力を下げる働きがあるため、凝集物とノズル面２０ａとの間に洗浄液が侵入しやすくなり、凝集物をノズル面２０ａから剥離しやすくする効果がある。

界面活性剤は親水部と疎水部を同一分子中に持つ化合物であれば、いずれも好適に用いることができる。具体例としては、下記式（Ｉ）〜（IV）で表わされるものが好ましい。すなわち、下記式（Ｉ）のポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル系界面活性剤、式（II）のアセチレングリコール系界面活性剤、下記式（III）のポリオキシエチレンアルキルエーテル系界面活性剤ならびに式（IV）のポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル系界面活性剤が挙げられる。

［Ｒは分岐していても良い炭素数６〜１４の炭化水素鎖、ｋ：５〜２０］

［ｍ、ｎ≦２０，０＜ｍ＋ｎ≦４０］

［Ｒは分岐してもよい炭素数６〜１４の炭化水素鎖、ｎは５〜２０］

［Ｒは炭素数６〜１４の炭化水素鎖、ｍ、ｎは２０以下の数］
前記式（Ｉ）〜（IV）の化合物以外では、例えばジエチレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコールモノアリルエーテル、ジエチレングリコールモノフェニルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、テトラエチレングリコールクロロフェニルエーテルなどの多価アルコールのアルキル及びアリールエーテル類、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロック共重合体などのノニオン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤、エタノール、２−プロパノールなどの低級アルコール類を用いることができるが、特にジエチレングリコールモノブチルエーテルが好ましい。

以下に、上述した実施形態及び変更例から把握される技術的思想及びその作用効果を記載する。
液体噴射装置は、ノズルから液体を噴射する液体噴射部と、液体を吸収するように構成されるワイピング部材により前記ノズルが複数配置されたノズル面をワイピングするワイピング機構と、ワイピング液を前記ワイピング部材に供給するワイピング液供給機構と、前記ノズル面を前記ワイピング部材でワイピングする際に前記液体噴射部と前記ワイピング部材とを相対移動させる相対移動機構と、を備え、前記ワイピング部材がワイピング液を吸収した状態で前記ノズル面をワイピングする湿潤ワイピングを実行するように構成され、前記ノズル面を前記ワイピング部材によりワイピングする際の前記ワイピング液の供給量を変更可能に構成される。

この構成によれば、ワイピング部材に供給されるワイピング液の供給量を変更できるため、その時々に応じて適切な量のワイピング液をワイピング部材に供給できる。したがって、適切にワイピングできる。

液体噴射装置は、前記ノズル面を前記ワイピング部材によりワイピングする際の前記ワイピング液の供給量を液体噴射装置の状況に基づいて変更する制御部を備えてもよい。
この構成によれば、液体噴射装置の状況に基づいて適切な量のワイピング液をワイピング部材に供給できる。

液体噴射装置は、前記ノズルからの液体の噴射状態を検出するように構成される検出部を備え、前記制御部は、前記ノズル面を前記ワイピング部材によりワイピングする際の前記ワイピング液の供給量を前記検出部による前記噴射状態の検出結果に基づいて変更してもよい。

この構成によれば、ノズルからの液体の噴射状態に基づいて適切な量のワイピング液をワイピング部材に供給できる。
液体噴射装置において、前記ワイピング液供給機構は、前記ワイピング液供給機構と接続されたワイピング液収容部に収容される前記ワイピング液を前記ワイピング部材に供給し、前記制御部は、前記ノズル面を前記ワイピング部材によりワイピングする際の前記ワイピング液の供給量を前記ワイピング液収容部に収容される前記ワイピング液の収容量に基づいて変更してもよい。

この構成によれば、ワイピング液収容部に収容されるワイピング液の収容量に基づいて適切な量のワイピング液をワイピング部材に供給できる。
液体噴射装置は、前記ワイピング液の供給量を変更するように操作される操作部を備えてもよい。

この構成によれば、操作部を介することにより、ワイピング液の供給量をユーザーが任意に変更できる。
液体噴射装置のメンテナンス方法として、ノズルから液体を噴射することにより記録媒体に対して記録処理を実行する液体噴射部と、液体を吸収するように構成されたワイピング部材により前記ノズルが複数配置されたノズル面をワイピングするワイピング機構と、ワイピング液を前記ワイピング部材に供給するワイピング液供給機構と、前記ノズル面を前記ワイピング部材によりワイピングする際に前記液体噴射部と前記ワイピング部材とを相対移動させる相対移動機構と、を備え、前記ワイピング部材がワイピング液を吸収した状態で前記ノズル面をワイピングする湿潤ワイピングを実行するように構成される液体噴射装置のメンテナンス方法であって、前記湿潤ワイピングを実行する際の前記ワイピング液の供給量を液体噴射装置の状況に基づいて変更してもよい。

この方法によれば、液体噴射装置の状況に基づいて適切な量のワイピング液をワイピング部材に供給できる。したがって、適切にワイピングできる。
液体噴射装置のメンテナンス方法として、前記記録処理中において前記ノズルから液体が噴射されていないときに前記湿潤ワイピングを実行する際の前記ワイピング液の供給量を、前記記録処理を実行していないときに前記湿潤ワイピングを実行する際の前記ワイピング液の供給量より少なくしてもよい。

記録処理中において湿潤ワイピングを実行した際に、ワイピング液がノズル面に残留すると、ノズルから液体が適切に噴射されない場合がある。上記方法によれば、記録処理中において湿潤ワイピングを実行する際のワイピング液の供給量を、記録処理を実行していないときに湿潤ワイピングを実行する際のワイピング液の供給量より少なくする。そのため、記録処理中において湿潤ワイピングを実行した際に、ノズル面にワイピング液が残留するおそれが低減される。これにより、適切にワイピングできる。

液体噴射装置のメンテナンス方法として、前記液体噴射装置は、前記ノズルからの液体の噴射状態を検出するように構成される検出部を備え、前記ノズル面を前記ワイピング部材によりワイピングする際の前記ワイピング液の供給量を前記検出部による前記噴射状態の検出結果に基づいて変更してもよい。

この方法によれば、噴射状態に基づいて適切な量のワイピング液をワイピング部材に供給できる。
液体噴射装置のメンテナンス方法として、前記ノズル面を前記ワイピング部材によりワイピングした後に実行された前記検出部による前記噴射状態の検出結果から前記噴射状態が異常であると推測される前記ノズルがワイピング開始側よりワイピング終了側に多い場合、前記ノズル面を前記ワイピング部材によりワイピングする際の前記ワイピング液の供給量を前記噴射状態の検出を実行する前より多くする変更、及び前記液体噴射部と前記ワイピング部材との相対移動速度を前記噴射状態の検出を実行する前より遅くする変更のうち、少なくとも一方を実行してもよい。

噴射状態が異常であると推測されるノズルがワイピング開始側よりワイピング終了側に多い場合、ワイピングした際にノズル面の異物を十分に除去できなかったおそれがある。そのため、こうした場合には、ワイピング液の供給量を多くする変更、及び液体噴射部とワイピング部材との相対移動速度を遅くする変更のうち、少なくとも一方を実行することにより、ノズル面の異物をワイピングにより除去しやすくする。すなわち、上記方法によれば、適切にワイピングできる。

液体噴射装置のメンテナンス方法として、前記ワイピング液供給機構は、前記ワイピング液供給機構と接続されたワイピング液収容部に収容される前記ワイピング液を前記ワイピング部材に供給し、前記ワイピング液収容部に収容される前記ワイピング液の収容量が設定値より少ない場合に前記湿潤ワイピングを実行する際の前記ワイピング液の供給量を、前記ワイピング液収容部に収容される前記ワイピング液の収容量が前記設定値以上の場合に前記湿潤ワイピングを実行する際の前記ワイピング液の供給量より少なくしてもよい。

この方法によれば、ワイピング液の収容量が設定値より少ない場合にワイピング液の供給量を少なくするため、ワイピング液の収容量が少ない場合にはワイピング液の消費が抑えられる。これにより、湿潤ワイピングの実行回数を多くできる。

液体噴射装置のメンテナンス方法として、前記ワイピング液収容部に収容される前記ワイピング液の収容量が前記設定値より小さい第２設定値より少ない場合に前記ワイピング液を供給しないで前記ノズル面を前記ワイピング部材によりワイピングする非湿潤ワイピングを実行し、前記非湿潤ワイピング動作時における前記液体噴射部と前記ワイピング部材との相対移動速度は、前記ワイピング液の収容量が前記設定値以上の場合に実行する前記湿潤ワイピング動作時における前記液体噴射部と前記ワイピング部材との相対移動速度より遅くてもよい。

非湿潤ワイピングの場合、ワイピング部材にワイピング液が供給されないため、ワイピングしてもノズル面の異物を除去しにくい。そのため、非湿潤ワイピング動作時には、湿潤ワイピング動作時よりも、液体噴射部とワイピング部材との相対移動速度を遅くすることにより、ノズル面の異物をワイピングにより除去しやすくなる。上記方法によれば、適切にワイピングすることができる。

１…液体噴射部、１Ａ…液体噴射部、１Ｂ…液体噴射部、２…ヘッドユニット、７…液体噴射装置、１０…流路形成基板、１１…ヘッド本体、１１ａ…装置本体、１２…圧力発生室、１５…連通板、１６…ノズル連通路、１７…第１マニホールド部、１８…第２マニホールド部、１９…供給連通路、２０…ノズルプレート、２０ａ…ノズル面、２１…ノズル、３０…保護基板、３１…保持部、３２…貫通孔、４０…流路形成部材、４１…凹部、４２…第３マニホールド部、４３…接続口、４４…導入口、４５…コンプライアンス基板、４５ａ…第１露出開口部、４６…封止膜、４７…固定基板、４８…開口部、４９…コンプライアンス部、５０…振動板、５１…弾性膜、５２…絶縁体膜、６０…第１電極、７０…圧電体層、８０…第２電極、９０…リード電極、１００…共通液室、１２０…駆動回路、１２１…配線基板、１２２…第２端子、１２３…第２端子列、１３０…アクチュエーター、１５０…検出器群、１５１…インターフェイス部、１５２…ＣＰＵ、１５３…メモリー、１５４…制御回路、１５６…検出部、１６０…コンピューター、２００…流路部材、２１０…上流流路部材、２１１…第１上流流路部材、２１２…第２上流流路部材、２１３…第３上流流路部材、２１４…接続部、２１５…ガイド壁、２１６…フィルター、２１７…第３突起部、２２０…下流流路部材、２２７…接着剤、２３０…シール部材、２３１…第４突起部、２３２…連通路、２３３…第１凹部、２３４…第２凹部、２４０…第１下流流路部材、２４１…第１突起部、２４２…第２貫通孔、２４３…第１挿通孔、２４５…支持部、２５０…第２下流流路部材、２５１…第１収容部、２５２…第２収容部、２５３…第２突起部、２５４…溝部、２５５…第２挿通孔、３００…ヘッド基板、３０１…第３貫通孔、３０２…第３挿通孔、３１０…第１端子列、３１１…第１端子、４００…カバーヘッド、４０１…第２露出開口部、５００…上流流路、５０１…第１上流流路、５０２…第２上流流路、５０２ａ…第１液体溜まり部、５０３…第３上流流路、５０３ａ…第２液体溜まり部、５０４…排出口、５０４Ａ…第１排出口、５０４Ｂ…第２排出口、６００…下流流路、６００Ａ…下流流路、６００Ｂ…下流流路、６０１…第１流路、６０２…第２流路、６０３…第３流路、６１０…第１流入口、６１１…第１流出口、６２０…第２流入口、６２１…第２流出口、７０１…操作部、７０２…液体供給源、７０３…ステータス画面、７０４…変更画面、７０５…設定バー、７０６…選択設定バー、７０７…反映ボタン、７０８…キャンセルボタン、７０９…バー、７１０…メンテナンス装置、７１１…温度センサー、７１２…支持台、７１３…搬送部、７１４ａ…搬送ローラー対、７１４ｂ…搬送ローラー対、７１５ａ…案内板、７１５ｂ…案内板、７１６ａ…供給リール、７１６ｂ…巻取リール、７１７…発熱部、７１７ａ…発熱部材、７１７ｂ…反射板、７１８…送風部、７２０…記録部、７２１…ガイド軸、７２２…ガイド軸、７２３…キャリッジ、７２５…貯留部保持体、７２６…液体供給チューブ、７２６ａ…接続部、７２７…液体供給路、７２７ａ…供給チューブ、７２８…流路アダプター、７２９…遮熱部材、７３０…貯留部、７３１…差圧弁、７４８…キャリッジモーター、７４９…搬送モーター、７５０…ワイパーユニット、７５０ａ…ワイピング部材、７５１…フラッシングユニット、７５１ａ…液体受容部、７５２…キャップユニット、７５２ａ…キャップ部、７５３…ワイピングモーター、７５４…フラッシングモーター、７５５…キャッピングモーター、７５８…レール、７５９…筐体、７６０…繰出軸、７６１…巻取軸、７６２…布シート、７６３…繰出ロール、７６４…巻取ロール、７６５…押付ローラー、７６６…駆動ローラー、７６７…従動ローラー、７６８…ベルト、７６９…液体受容面、７７０…吸引用キャップ、７７１…保湿用キャップ、７７２…チューブ、７７３…吸引ポンプ、７７５…流体噴射装置、７７７…噴射ユニット、７７８…流体噴射ノズル、７７８Ｂ…流体噴射ノズル、７７８ｊ…噴射口、７８０…液体噴射ノズル、７８１…気体噴射ノズル、７８２…エアポンプ、７８３…気体供給管、７８３ａ…気体流路、７８４…圧力調整弁、７８５…エアフィルター、７８７…貯留タンク、７８８…液体供給管、７８８ａ…液体流路、７８９…大気開放管、７９０…第１電磁弁、７９１…洗浄液カートリッジ、７９２…供給管、７９３…液供給ポンプ、７９４…第２電磁弁、８００…ベース部材、８０１…支持部材、８０２…ケース、８０３…洗浄モーター、８０４…伝達機構、８０５…側板、８０６…カバー部材、８０７…貫通孔、８０８…リップ部、８１０…制御部、８１１…リニアエンコーダー、８１２…ロータリーエンコーダー、８１４…モーター駆動回路、８１５…モーター駆動回路、８１６…モーター駆動回路、８１７…モーター駆動回路、８１８…モーター駆動回路、８１９…モーター駆動回路、８２０…ポンプ駆動回路、８２１…ポンプ駆動回路、８２２…ポンプ駆動回路、８２３…弁駆動回路、８２４…弁駆動回路、８３０…メンテナンスユニット、８３１…土台部、８３２…基部、８３２ａ…接続端子、８３３…ワイピング機構、８３４…ワイピング液供給機構、８３５…廃液受容部、８３６…回収部、８３７…布シート、８３８…布ホルダー、８３８ａ…記憶媒体、８３９…繰出軸、８４０…巻取軸、８４１…巻き掛け部、８４２…繰出軸受部、８４３…巻取軸受部、８４４…押圧ローラー、８４５…ワイピング部材、８４６…枠体、８４７…液体吸収材、８４８…網体、８４９…受容凹部、８５０…廃液管、８５１…噴射口、８５１ａ…供給ノズル、８５２…経路、８５３…経路形成板、８５４…噴出開口部、８５５…遮蔽機構、８５６…遮蔽板、８５７…相対移動機構、８５８…タイミングベルト、８５９…移動モーター、８６０…減速歯車群、８６１…巻取歯車、８６２…第１伝達歯車、８６３…押圧歯車、８６４…第２伝達歯車、８６５…伝達歯車群、８６６…巻取モーター、８６７…巻取駆動機構、８６８…中心孔、８６９…アーム、８７１…ワイピング液収容部、８７１ａ…記憶媒体、Ｆ…噴射方向、ＦＡ…受容領域、Ｈ…高さ、ＨＡ…加熱領域、ＨＩ…廃液、ＨＫＲ…非開口領域、ＨＰ…ホームポジション、ＫＡ…混合部、ＫＫ…気液界面、ＫＲ…開口領域、ＬＡ…非記録領域、ＭＡ…メンテナンス領域、ＮＬ…ノズル列、ＰＡ…記録領域、ＲＡ…非記録領域、ＲＳ…ロールシート、ＲＴ…流体、ＳＡ…整備領域、ＳＫ…液体収容空間、ＳＴ…記録媒体、ＷＡ…ワイピング領域、Ｘ…走査方向、Ｙ…搬送方向、Ｚ…重力方向。

Claims (11)

1. ノズルから液体を噴射する液体噴射部と、
   液体を吸収するように構成されるワイピング部材により前記ノズルが複数配置されたノズル面をワイピングするワイピング機構と、
   ワイピング液を前記ワイピング部材に供給するワイピング液供給機構と、
   前記ノズル面を前記ワイピング部材でワイピングする際に前記液体噴射部と前記ワイピング部材とを相対移動させる相対移動機構と、を備え、
   前記ワイピング部材がワイピング液を吸収した状態で前記ノズル面をワイピングする湿潤ワイピングを実行するように構成され、
   前記ノズル面を前記ワイピング部材によりワイピングする際の前記ワイピング液の供給量を変更可能に構成されることを特徴とする液体噴射装置。
2. 前記ノズル面を前記ワイピング部材によりワイピングする際の前記ワイピング液の供給量を液体噴射装置の状況に基づいて変更する制御部を備えることを特徴とする請求項１に記載の液体噴射装置。
3. 前記ノズルからの液体の噴射状態を検出するように構成される検出部を備え、
   前記制御部は、前記ノズル面を前記ワイピング部材によりワイピングする際の前記ワイピング液の供給量を前記検出部による前記噴射状態の検出結果に基づいて変更することを特徴とする請求項２に記載の液体噴射装置。
4. 前記ワイピング液供給機構は、前記ワイピング液供給機構と接続されたワイピング液収容部に収容される前記ワイピング液を前記ワイピング部材に供給し、
   前記制御部は、前記ノズル面を前記ワイピング部材によりワイピングする際の前記ワイピング液の供給量を前記ワイピング液収容部に収容される前記ワイピング液の収容量に基づいて変更することを特徴とする請求項２又は請求項３に記載の液体噴射装置。
5. 前記ワイピング液の供給量を変更するように操作される操作部を備えることを特徴とする請求項１から請求項４の何れか一項に記載の液体噴射装置。
6. ノズルから液体を噴射することにより記録媒体に対して記録処理を実行する液体噴射部と、
   液体を吸収するように構成されたワイピング部材により前記ノズルが複数配置されたノズル面をワイピングするワイピング機構と、
   ワイピング液を前記ワイピング部材に供給するワイピング液供給機構と、
   前記ノズル面を前記ワイピング部材によりワイピングする際に前記液体噴射部と前記ワイピング部材とを相対移動させる相対移動機構と、を備え、
   前記ワイピング部材がワイピング液を吸収した状態で前記ノズル面をワイピングする湿潤ワイピングを実行するように構成される液体噴射装置のメンテナンス方法であって、
   前記湿潤ワイピングを実行する際の前記ワイピング液の供給量を液体噴射装置の状況に基づいて変更することを特徴とする液体噴射装置のメンテナンス方法。
7. 前記記録処理中において前記ノズルから液体が噴射されていないときに前記湿潤ワイピングを実行する際の前記ワイピング液の供給量を、前記記録処理を実行していないときに前記湿潤ワイピングを実行する際の前記ワイピング液の供給量より少なくすることを特徴とする請求項６に記載の液体噴射装置のメンテナンス方法。
8. 前記液体噴射装置は、前記ノズルからの液体の噴射状態を検出するように構成される検出部を備え、
   前記ノズル面を前記ワイピング部材によりワイピングする際の前記ワイピング液の供給量を前記検出部による前記噴射状態の検出結果に基づいて変更することを特徴とする請求項７に記載の液体噴射装置のメンテナンス方法。
9. 前記ノズル面を前記ワイピング部材によりワイピングした後に実行された前記検出部による前記噴射状態の検出結果から前記噴射状態が異常であると推測される前記ノズルがワイピング開始側よりワイピング終了側に多い場合、前記ノズル面を前記ワイピング部材によりワイピングする際の前記ワイピング液の供給量を前記噴射状態の検出を実行する前より多くする変更、及び前記液体噴射部と前記ワイピング部材との相対移動速度を前記噴射状態の検出を実行する前より遅くする変更のうち、少なくとも一方を実行することを特徴とする請求項８に記載の液体噴射装置のメンテナンス方法。
10. 前記ワイピング液供給機構は、前記ワイピング液供給機構と接続されたワイピング液収容部に収容される前記ワイピング液を前記ワイピング部材に供給し、
    前記ワイピング液収容部に収容される前記ワイピング液の収容量が設定値より少ない場合に前記湿潤ワイピングを実行する際の前記ワイピング液の供給量を、前記ワイピング液収容部に収容される前記ワイピング液の収容量が前記設定値以上の場合に前記湿潤ワイピングを実行する際の前記ワイピング液の供給量より少なくすることを特徴とする請求項６から請求項９の何れか一項に記載の液体噴射装置のメンテナンス方法。
11. 前記ワイピング液収容部に収容される前記ワイピング液の収容量が前記設定値より小さい第２設定値より少ない場合に前記ワイピング液を供給しないで前記ノズル面を前記ワイピング部材によりワイピングする非湿潤ワイピングを実行し、前記非湿潤ワイピング動作時における前記液体噴射部と前記ワイピング部材との相対移動速度は、前記ワイピング液の収容量が前記設定値以上の場合に実行する前記湿潤ワイピング動作時における前記液体噴射部と前記ワイピング部材との相対移動速度より遅いことを特徴とする請求項１０に記載の液体噴射装置のメンテナンス方法。