JP2020006600A - Mold cleaning device and method, resin molding apparatus, and manufacturing method of resin molded article - Google Patents

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Abstract

To provide a mold cleaning device capable of being used while suppressing effects by heat even when a mold is heated to a temperature at which resin molding can be conducted.SOLUTION: A mold cleaning device 10 is a device removing deposit adhered to one surface of an upper mold 251 constituting a mold 25 and a lower mold 252 facing the upper mold 251. The mold cleaning device 10 comprises: a laser beam source 11 provided outside a space between the upper mold 251 and the lower mold 252 and ejecting a laser beam; a laser beam reflection mechanism which has a reflection mirror 13 and an XY stage (reflection mirror movement mechanism) 14, and in which a direction of the reflection mirror 13 is set so that surfaces of the upper mold 251 and the lower mold 252 are irradiated with laser beam reflected in the reflection mirror 13 when the reflection mirror 13 is at a first position; and a laser beam movement part (laser beam movement mechanism) 12 arranged outside the space, and moving the laser beam to the reflection mirror 13 at the first position.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、成形型クリーニング装置及び方法、樹脂成形装置、並びに樹脂成形品製造方法に関する。   The present invention relates to a mold cleaning device and method, a resin molding device, and a method of manufacturing a resin molded product.

樹脂成形装置において成形型を用いて樹脂成形を行うと、成形品を取り出した後も成形型の表面に樹脂がわずかに付着して残り、同じ成形型で樹脂成形を繰り返し行ううちに付着物が徐々に増加してゆく。このような付着物が成形型の表面に付着した状態で樹脂成形を行うと、付着物の形状が樹脂成形品に転写される可能性がある。   When resin molding is performed using a molding die in a resin molding device, the resin slightly adheres to the surface of the molding die even after the molded product is taken out, and adhered substances are repeatedly formed by repeating the resin molding with the same molding die. It gradually increases. When resin molding is performed in a state where such attached matter is attached to the surface of the mold, the shape of the attached matter may be transferred to the resin molded product.

そこで、定期的に樹脂成形品の製造を一時停止し、成形型の付着物を除去するクリーニングが行われる。特許文献1には、成形型を構成する上型と下型の間の空間にレーザ光源を配置し、下型の上面(又は上型の下面)に沿ってレーザ光源を移動させながらレーザビームを下型(上型)に照射することにより、付着物を下型(上型)から剥離させる処理を行う装置が記載されている。   Therefore, the production of the resin molded product is temporarily stopped, and cleaning for removing the deposits on the mold is performed. Patent Literature 1 discloses that a laser light source is arranged in a space between an upper mold and a lower mold constituting a molding die, and a laser beam is moved while moving the laser light source along an upper surface of the lower mold (or a lower surface of the upper mold). It describes an apparatus for performing a process of irradiating a lower mold (upper mold) to peel off attached matter from the lower mold (upper mold).

特開2008-149705号公報JP 2008-149705 A

樹脂成形の際には、樹脂が溶融等させるために、例えば180℃前後の温度に成形型を昇温しておく必要がある。特許文献1に記載の装置では、成形型を昇温したままの状態でクリーニングを行うと、レーザ光源やそれを移動させる移動装置を成形型の近傍(例えば上型と下型の中間)に配置して使用することから、それらレーザ光源や移動装置が配置される空間の熱や、成形型からの輻射熱等の熱によって、レーザの照射位置等の精度が悪化する等の不具合を生じるおそれがある。このような不具合を回避するために成形型を一旦冷却してからクリーニングを行うと、クリーニング後に樹脂成形のために再び成形型を昇温して安定した温度になるまでの時間を含めて待ち時間が発生し、樹脂成形工程においてタクトタイムが延び、樹脂成形品の製造効率が低下するおそれがある。   In molding the resin, it is necessary to raise the temperature of the molding die to, for example, about 180 ° C. in order to melt the resin. In the apparatus described in Patent Literature 1, when cleaning is performed while the mold is heated, a laser light source and a moving device for moving the laser light source are disposed near the mold (for example, between the upper mold and the lower mold). Since the laser light source and the moving device are arranged in a space where the laser light source and the moving device are arranged, and heat such as radiation heat from a molding die, the accuracy of the laser irradiation position and the like may be deteriorated. . In order to avoid such inconveniences, once the mold is cooled and then cleaned, the waiting time including the time until the temperature of the mold is raised again to a stable temperature for resin molding after the cleaning is reached. May occur, the tact time may be extended in the resin molding process, and the production efficiency of the resin molded product may be reduced.

本発明が解決しようとする課題は、樹脂成形を行うことが可能な温度に成形型が昇温されている状態においても熱による影響を抑えつつ使用することができる成形型クリーニング装置及び方法、樹脂成形装置、並びに樹脂成形品製造方法を提供することである。   The problem to be solved by the present invention is to provide a mold cleaning apparatus and method which can be used while suppressing the influence of heat even in a state where the mold is heated to a temperature at which resin molding can be performed, and a resin. An object of the present invention is to provide a molding apparatus and a method for producing a resin molded product.

本発明に係る成形型クリーニング装置は、成形型を構成する第1型及び該第1型に対向する第2型の少なくともいずれか一方の表面に付着した付着物を除去する装置であって、
a) 前記第1型と前記第2型の間の空間の外に設けられた、前記レーザビームを出射するレーザ光源と、
b) 反射鏡と、該反射鏡を前記空間の中の第1位置と前記空間の外の第2位置との間で移動させる反射鏡移動機構とを有し、該反射鏡が該第1位置にあるときに該反射鏡で反射されるレーザビームが前記第1型又は前記第2型の表面に照射されるように該反射鏡の向きが設定されているレーザビーム反射機構と、
c) 前記空間の外に設けられた、前記レーザビームを前記第1位置にあるときの前記反射鏡に対して移動させるレーザビーム移動機構と
を備えることを特徴とする。
The mold cleaning device according to the present invention is an apparatus that removes deposits attached to at least one surface of a first mold and a second mold that faces the first mold that constitute the mold,
a) a laser light source that is provided outside a space between the first mold and the second mold and emits the laser beam;
b) a reflecting mirror, and a reflecting mirror moving mechanism for moving the reflecting mirror between a first position in the space and a second position outside the space, wherein the reflecting mirror is in the first position. A laser beam reflecting mechanism in which the direction of the reflecting mirror is set so that the laser beam reflected by the reflecting mirror is applied to the surface of the first type or the second type when the mirror is located at
c) a laser beam moving mechanism provided outside the space and configured to move the laser beam with respect to the reflector when the laser beam is at the first position.

本発明に係る成形型クリーニング方法は、成形型を構成する第1型及び該第1型に対向する第2型の少なくともいずれか一方の表面に付着した付着物を除去する方法であって、
前記第1型と前記第2型の間の空間の中に反射鏡を配置し、
前記空間の外に設けられたレーザ光源からレーザビームを出射しつつ、前記空間の外に設けられたレーザビーム移動機構により該レーザビームを前記反射鏡に対して移動させながら、該レーザビームを前記反射鏡に照射し、
前記反射鏡で反射された前記レーザビームを前記第1型又は前記第2型に照射する
ことを特徴とする。
The molding die cleaning method according to the present invention is a method for removing deposits adhering to at least one surface of a first die constituting a molding die and a second die facing the first die,
Disposing a reflecting mirror in a space between the first type and the second type;
While emitting a laser beam from a laser light source provided outside the space, while moving the laser beam with respect to the reflecting mirror by a laser beam moving mechanism provided outside the space, the laser beam Irradiate the reflector,
The laser beam reflected by the reflecting mirror is irradiated to the first type or the second type.

本発明に係る樹脂成形装置は、前記成形型と、前記成形型クリーニング装置とを備えることを特徴とする。   A resin molding device according to the present invention includes the molding die and the molding die cleaning device.

本発明に係る樹脂成形品製造方法は、前記成形型クリーニング方法を実施した後、前記成形型を用いて樹脂成形品を製造することを特徴とする。   A method for manufacturing a resin molded product according to the present invention is characterized in that after performing the mold cleaning method, a resin molded product is manufactured using the molding die.

本発明によれば、樹脂成形を行うことが可能な温度に成形型が昇温されている状態においても熱による影響を抑えつつ使用することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it can be used, suppressing the influence of heat even in the state where the temperature of the mold is raised to a temperature at which resin molding can be performed.

クリーニング後であって未だ樹脂成形を行っていない成形型(a)、並びにクリーニング後に樹脂成形を200回(b)、400回(c)、600回(d)及び800回(e)、それぞれ行った後の成形型につき、表面を撮影した電子顕微鏡写真。Molding mold (a) after cleaning and resin molding has not yet been performed, and resin cleaning 200 times (b), 400 times (c), 600 times (d) and 800 times (e), respectively, after cleaning An electron micrograph of the surface of the mold after the molding. 本発明に係る成形型クリーニング装置及びそれを有する樹脂成形装置の一実施形態を示す概略構成図。FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing an embodiment of a mold cleaning device and a resin molding device having the same according to the present invention. 本実施形態の樹脂成形装置における成形型及びその近傍の拡大図。FIG. 2 is an enlarged view of a molding die and its vicinity in the resin molding device of the present embodiment. レーザビーム移動部によるレーザビームが移動する様子を示す平面図(a)及び側面図(b)。FIG. 3A is a plan view (a) and FIG. 本実施形態の成形型クリーニング装置における反射鏡及びその付属部の斜視及び部分断面図。FIG. 2 is a perspective view and a partial cross-sectional view of a reflecting mirror and its attachment part in the mold cleaning device of the present embodiment. 反射鏡の付属部の部分断面拡大図であって、一方の回動軸体付近を表す図(a)、他方の回動軸体付近(b)を表す図、並びに他方の回動軸体が(b)の場合よりも反射鏡の反対側に移動した状態を示す図(c)。It is a partial cross-sectional enlarged view of the attachment portion of the reflector, a diagram showing the vicinity of one rotating shaft (a), a diagram showing the vicinity of the other rotating shaft (b), and the other rotating shaft is FIG. 7C shows a state where the mirror has been moved to the opposite side of the reflecting mirror as compared with the case of FIG. 反射鏡を把持する1対の把持具をシャフトで接続した状態を示す図(a)、及び一方の把持具が(a)の場合よりも反射鏡の反対側に移動した状態を示す図(b)。(A) showing a state in which a pair of holding tools for holding the reflecting mirror are connected by a shaft, and (b) showing a state in which one holding tool has been moved to the opposite side of the reflecting mirror as compared with the case of (a). ). 本実施形態の成形型クリーニング装置が使用位置(a)及び待機位置(b)にある状態を示す概略図。FIG. 3 is a schematic diagram showing a state in which the mold cleaning device of the present embodiment is at a use position (a) and a standby position (b). レーザ光源及びレーザビーム移動部と反射鏡を、Y方向に延びる連結棒で連結した構成を示す図。The figure which shows the structure which connected the laser light source and the laser beam moving part, and the reflection mirror with the connection rod extended in the Y direction. X方向におけるレーザビームの照射範囲よりもX方向の幅が大きい反射鏡を用いる例を示す図。FIG. 6 is a diagram illustrating an example in which a reflecting mirror having a width in the X direction larger than an irradiation range of a laser beam in the X direction is used. 本実施形態の樹脂成形装置における樹脂成形時の動作であって、リードフレームを下型に載置すると共に樹脂材料を下型のポットに供給した状態を示す図(a)、及び成形型を型締めして樹脂材料をキャビティに供給した状態を示す図(b)。FIG. 3A is a diagram showing an operation during resin molding in the resin molding apparatus of the present embodiment, showing a state in which a lead frame is placed on a lower mold and a resin material is supplied to a lower mold pot, FIG. 4B shows a state in which the resin material is supplied to the cavity by being tightened. パルスレーザビームのスポットがジグザグ状に移動してゆく様子を示す図。FIG. 5 is a diagram showing a state in which a spot of a pulsed laser beam moves in a zigzag manner. 下型又は上型の表面におけるレーザビームの軌跡(細実線)と、レーザビームが1回ジグザグ移動することによりレーザビームが照射される領域の境界(太破線)を示す図。FIG. 4 is a diagram showing a locus of a laser beam on the surface of a lower die or an upper die (thin solid line), and a boundary (thick broken line) of a region irradiated with the laser beam when the laser beam moves zigzag once. 成形型にパルスレーザビームが照射されることによって成形型の表面近傍にプラズマが生成される状態を示す概略図(a)、及び、プラズマにパルスレーザビームが繰り返し照射されることによってプラズマが加熱され、付着物が気化する状態を示す概略図(b)。Schematic diagram (a) showing a state where plasma is generated near the surface of the mold by irradiating the mold with a pulsed laser beam, and the plasma is heated by repeatedly irradiating the pulsed laser beam to the plasma. FIG. 3B is a schematic diagram showing a state in which the deposit is vaporized. 遮蔽部を用いる例を示す上面図(a)及び縦断面図(b)。FIG. 3A is a top view and FIG. 3B is a longitudinal sectional view illustrating an example in which a shielding unit is used. 下型又は上型の表面におけるレーザビームの軌跡の他の例であって、照射領域内を繰り返し片道移動する例(a)、及び下型又は上型の表面全体をジグザグ状に移動する例(b)を示す図。Another example of the trajectory of the laser beam on the surface of the lower mold or the upper mold, an example of repeated one-way movement in the irradiation area (a), and an example of moving the entire surface of the lower mold or the upper mold in a zigzag shape ( FIG. 反射鏡をX方向に移動させるX方向移動機構の例を示す概略図。FIG. 4 is a schematic diagram illustrating an example of an X-direction moving mechanism that moves a reflecting mirror in the X direction. 本発明に係る成形型クリーニング装置の他の実施形態を示す平面図。FIG. 5 is a plan view showing another embodiment of the mold cleaning device according to the present invention. 本発明に係る成形型クリーニング装置のさらに別の実施形態を示す図であって、第1の反射鏡を使用する状態を示す平面図(a-1)及び側面図(a-2)、並びに第2の反射鏡を使用する状態を示す平面図(b)。FIG. 10 is a view showing still another embodiment of the mold cleaning device according to the present invention, and is a plan view (a-1) and a side view (a-2) showing a state in which a first reflecting mirror is used; FIG. 4B is a plan view illustrating a state in which the second reflecting mirror is used. 成形モジュール等の複数のモジュールから成る樹脂成形ユニットの一例を示す概略構成図。The schematic block diagram which shows an example of the resin molding unit which consists of several modules, such as a molding module. 樹脂成形ユニットにおいて成形モジュールの1つに成形型クリーニング装置が搬入された状態を示す概略構成図。FIG. 3 is a schematic configuration diagram showing a state in which a molding die cleaning device is carried into one of the molding modules in the resin molding unit. 複数のモジュールから成る樹脂成形ユニットの他の例を示す概略構成図。The schematic block diagram which shows the other example of the resin molding unit which consists of several modules. 断面が円形であるレーザビームのスポット(a)及び該スポットが移動してゆく様子(b)、並びに断面が円環状であるレーザビームのスポット(c)及び該スポットが移動してゆく様子(d)を示す。A spot (a) of a laser beam having a circular cross section and a state where the spot moves (b), and a spot (c) of a laser beam having a circular cross section and a state where the spot moves (d) ).

本発明に係る成形型クリーニング装置では、樹脂成形を一時停止したうえで成形型に対してレーザビームを照射することによる処理(成形型クリーニング装置ではクリーニング)を行う際に、反射鏡移動機構によって反射鏡を第1型と第2型の間の空間の中である第1位置に移動させたうえで、該空間の外に設けられたレーザ光源によってレーザビームを該反射鏡に照射する。これにより、レーザビームは反射鏡で反射されて第1型又は第2型の表面に照射される。ここで、前記空間の外に設けられたレーザビーム移動機構によって、レーザビームを反射鏡に対して移動させることにより、第1型又は第2型の表面に照射されるレーザビームのスポットが該表面上を移動する。これにより、第1型又は第2型の表面の一定の範囲内にレーザビームが照射される。これにより、第1型又は第2型に対して、それらの表面に付着していた付着物を除去(クリーニング)する等の処理が施される。成形型の処理が終了した後、反射鏡を前記空間の外である第2位置に移動させたうえで、樹脂成形を再開する。   In the molding die cleaning apparatus according to the present invention, when performing processing by irradiating the molding die with a laser beam after temporarily stopping the resin molding (cleaning in the molding die cleaning apparatus), reflection is performed by the reflecting mirror moving mechanism. After the mirror is moved to a first position in the space between the first and second molds, a laser beam is applied to the reflecting mirror by a laser light source provided outside the space. As a result, the laser beam is reflected by the reflecting mirror and is applied to the surface of the first type or the second type. Here, a laser beam moving mechanism provided outside the space moves the laser beam with respect to the reflecting mirror, so that the spot of the laser beam applied to the surface of the first type or the second type is formed on the surface. Move up. Thereby, the laser beam is irradiated to a certain area of the surface of the first type or the second type. As a result, the first mold or the second mold is subjected to processing such as removal (cleaning) of the adhered substances adhered to the surfaces thereof. After the processing of the mold is completed, the reflecting mirror is moved to the second position outside the space, and the resin molding is restarted.

本発明に係る成形型クリーニング装置によれば、第1型や第2型が昇温されている状態であっても、レーザ光源及びレーザビーム移動機構は該空間の外に設けられているため、それらが受ける、該空間内の熱あるいは第1型や第2型からの輻射熱等の熱による影響を抑えることができる。一方、反射鏡は、前記空間内に配置されるものの、レーザ光源及びレーザビーム移動機構よりも熱の影響を受け難い。これらの理由により、本発明に係る成形型クリーニング装置は、樹脂成形を行うことが可能な温度に成形型が昇温されている状態においても熱による影響を抑えつつ使用することができる。   According to the mold cleaning device of the present invention, the laser light source and the laser beam moving mechanism are provided outside the space even when the first mold and the second mold are being heated. It is possible to suppress the influence of heat such as heat in the space or radiant heat from the first and second molds on them. On the other hand, although the reflecting mirror is arranged in the space, it is less affected by heat than the laser light source and the laser beam moving mechanism. For these reasons, the mold cleaning device according to the present invention can be used while suppressing the influence of heat even when the mold is heated to a temperature at which resin molding can be performed.

本発明に係る成形型クリーニング装置において、前記レーザビーム移動機構はガルバノスキャンヘッドであることが好ましい。ガルバノスキャンヘッドは、1つの回動軸で回動する鏡を1個、又は回動軸の傾きが異なる鏡を2個組み合わせて用いることにより、レーザビームを1方向又は異なる2方向に移動させる装置である。これにより、第1型や第2型の表面に照射されるレーザビームのスポットを1次元状又は2次元状に移動させることができる。ガルバノスキャンヘッドは、レーザビームのスポットを高速に移動させることができるため処理時間を短くすることができる。また、レーザビームのスポットを移動させる際にガルバノスキャンヘッド自体を成形型に対して移動させる必要がないため、設置スペースを小さくすることができる。   In the mold cleaning apparatus according to the present invention, it is preferable that the laser beam moving mechanism is a galvano scan head. Galvano scan head is a device that moves a laser beam in one direction or two different directions by using one mirror that rotates with one rotation axis or a combination of two mirrors with different inclinations of the rotation axis. It is. Thereby, the spot of the laser beam applied to the surface of the first type or the second type can be moved one-dimensionally or two-dimensionally. Since the galvano scan head can move the spot of the laser beam at high speed, the processing time can be shortened. In addition, when the spot of the laser beam is moved, it is not necessary to move the galvano scan head itself with respect to the mold, so that the installation space can be reduced.

本発明に係る成形型クリーニング装置はさらに、反射鏡の向きを変更する反射方向変更機構を有するという構成を取ることができる。あるいは、本発明に係る成形型クリーニング装置は、前記反射鏡が、互いに向きが異なる第1反射鏡と第2反射鏡を含み、前記レーザビーム反射機構がさらに、前記レーザビームが照射される鏡を切り替える鏡切替機構を備えるという構成を取ることもできる。いずれの場合にも、第1型や第2型にレーザビームが入射する角度を変更することができる。例えば、レーザビームが或る方向に向かって第1型に照射されているときに、第1型のキャビティを構成する壁面がそのレーザビームに平行である場合には、入射角を変更することによって、その壁面にレーザビームを照射し易くすることができる。   The mold cleaning apparatus according to the present invention may further have a reflection direction changing mechanism for changing the direction of the reflecting mirror. Alternatively, in the mold cleaning device according to the present invention, the reflecting mirror includes a first reflecting mirror and a second reflecting mirror whose directions are different from each other, and the laser beam reflecting mechanism further includes a mirror irradiated with the laser beam. A configuration in which a mirror switching mechanism for switching is provided may be employed. In any case, the angle at which the laser beam is incident on the first mold or the second mold can be changed. For example, when the first mold is irradiated with a laser beam in a certain direction and the wall forming the cavity of the first mold is parallel to the laser beam, the incident angle is changed. In addition, the wall surface can be easily irradiated with the laser beam.

本発明に係る成形型クリーニング装置はさらに、
前記反射鏡の両側部に一対接続された第1回動軸体及び第2回動軸体と、
前記第1回動軸体及び前記第2回動軸体の少なくとも一方を軸方向に可動に保持する回動軸体保持具と
を備えるという構成を取ることができる。これにより、樹脂成形時に生成された熱によって成形型の処理時に反射鏡が熱膨張したり、あるいは反射鏡を第2位置に移動させることでの温度が低下することにより反射鏡が収縮しても、回動軸体保持具に保持された回動軸体が軸方向に移動し、反射鏡が軸方向に膨張又は収縮することが許容されるため、反射鏡の変形を抑えることができる。なお、第1回動軸体と第2回動軸体の双方をそれぞれ回動軸体保持具に軸方向に可動に保持するようにしてもよいし、他方の回動軸体を(回動軸の周りに回動することを許容しつつ)軸方向に固定するようにしてもよい。
The mold cleaning device according to the present invention further comprises:
A first rotating shaft and a second rotating shaft connected in a pair to both sides of the reflecting mirror;
It is possible to adopt a configuration including a rotating shaft holder that holds at least one of the first rotating shaft and the second rotating shaft so as to be movable in the axial direction. Accordingly, even if the reflecting mirror thermally expands during the processing of the molding die due to the heat generated during the resin molding, or the reflecting mirror shrinks due to a decrease in temperature caused by moving the reflecting mirror to the second position. Since the rotating shaft held by the rotating shaft holder is axially moved and the reflecting mirror is allowed to expand or contract in the axial direction, deformation of the reflecting mirror can be suppressed. Note that both the first rotating shaft and the second rotating shaft may be movably held in the rotating shaft holder in the axial direction, respectively, or the other rotating shaft may be (rotated). It may be fixed in the axial direction (while allowing rotation about the axis).

本発明に係る成形型クリーニング装置は、表面の少なくとも一部にコーティングが施された前記成形型に付着した付着物を除去する装置であって、前記レーザ光源及び前記レーザビーム移動機構は、前記付着物上にプラズマを生成したうえで前記付着物が気化する温度以上の温度に該プラズマを加熱可能な照射強度であって、且つ前記コーティングに損傷を与える照射強度よりも低い照射強度で、レーザビームを前記成形型に照射するものであることが望ましい。   The molding die cleaning device according to the present invention is a device for removing an adhering substance adhered to the molding die having at least a part of a surface coated thereon, wherein the laser light source and the laser beam moving mechanism include the attachment. A laser beam having an irradiation intensity capable of heating the plasma to a temperature equal to or higher than a temperature at which the attached matter is vaporized after generating plasma on the kimono, and an irradiation intensity lower than the irradiation intensity that damages the coating; Is preferably applied to the mold.

これにより、付着物の少なくとも一部は、それが気化する温度以上の温度に加熱されて気化し、成形型の表面から除去される。一方、成形型の表面には多くの場合、クロム等から成るコーティングが施されており(なお、本発明では成形型のコーティングの材料は特に限定されない)、付着物を除去する際にこのコーティングが損傷することを抑制する必要がある。レーザビームが成形型のコーティングに与えるダメージについての知見を得るために、本発明者が成形型の表面を観察することで付着物の形成過程を調べたところ、付着物は、初めは点状に付着し、その後徐々に成形型のキャビティ面のほぼ全面を覆う皮膜状の形状に近づいてゆくことが明らかになった(図1の電子顕微鏡写真に、符号Aを付して付着物を示す)。そのため、付着物が点状である段階でレーザビームを照射したときに、点状又は十分に面積が拡がっていない付着物の間隙(付着物が付着していない部分)が存在することにより、レーザビームがコーティングに直接照射され、それによりコーティングにダメージを与えるおそれがある。そこで、コーティングに損傷を与える照射強度よりも低い照射強度でレーザビームを成形型に照射することにより、コーティングが受けるダメージを抑えることができる。   As a result, at least a part of the deposit is vaporized by being heated to a temperature higher than the temperature at which the deposit is vaporized, and is removed from the surface of the mold. On the other hand, the surface of the mold is often provided with a coating made of chromium or the like (the coating material of the mold is not particularly limited in the present invention). Damage must be suppressed. The present inventor examined the formation process of the deposit by observing the surface of the mold in order to obtain knowledge on the damage that the laser beam causes to the coating of the mold. It was found that the film adhered, and then gradually approached a film-like shape covering almost the entire cavity surface of the mold (the electron microscope photograph of FIG. 1 is denoted by the letter A to indicate the adhered matter). . Therefore, when the laser beam is irradiated at the stage where the deposits are point-like, there is a gap between the deposits (the portion where the deposits do not adhere) that is point-like or the area of which is not sufficiently enlarged, and the laser is irradiated. The beam irradiates the coating directly, which can damage the coating. Therefore, by irradiating a laser beam to the mold with an irradiation intensity lower than the irradiation intensity that damages the coating, it is possible to suppress the damage to the coating.

ここで成形型に照射されるレーザビームの照射強度は、レーザ光源から出射するレーザビームの強度及びレーザビーム移動機構によるレーザビームの移動速度を、例えば、1秒あたりの走査レーザパワー密度が2〜15W/cm2となるように調整することにより定めることができる。「1秒あたりの走査レーザパワー密度」は、単位面積(単位・cm2)に単位時間(同・sec(秒))照射されるレーザのエネルギー(同・J(ジュール)=Wsec(ワット秒))で定義され、その単位はJ/(cm2sec)=Wsec/(cm2sec)、すなわちW/cm2で表される。この1秒あたりの走査レーザパワー密度は、照射されるレーザビームの平均出力を、1秒間にレーザビームのスポットが成形型に対して相対的に移動する距離と該スポットの幅とから導き出される面積とスポット1個分(移動前の初期位置に照射された分)の面積との和で除することにより求めることができる(言い換えると、1秒あたりの走査レーザパワー密度は、1秒間にレーザビームが移動しながら照射される部分における単位面積あたりの出力である)。 Here, the irradiation intensity of the laser beam irradiating the mold, the intensity of the laser beam emitted from the laser light source and the moving speed of the laser beam by the laser beam moving mechanism, for example, scanning laser power density per second is 2 ~ It can be determined by adjusting to be 15 W / cm 2 . The “scanning laser power density per second” is the energy of a laser (unit: J (joule) = Wsec (watt-second) applied to a unit area (unit, cm 2 ) for a unit time (unit, sec (second)) ), And the unit is J / (cm 2 sec) = Wsec / (cm 2 sec), that is, expressed in W / cm 2 . The scanning laser power density per second is the average output of the irradiated laser beam, the area derived from the distance that the spot of the laser beam moves relative to the mold and the width of the spot per second. And the area of one spot (the part irradiated to the initial position before movement) can be calculated by dividing the area by the sum of the area and the area of the laser beam per second. Is the output per unit area in the portion irradiated while moving).

1秒あたりの走査レーザパワー密度を2〜15W/cm2とする場合において、レーザ光源が1パルスあたりのレーザフルエンスが0.04〜0.7J/cm2であるパルスレーザビームを出射することが望ましい。また、1秒あたりの走査レーザパワー密度を2〜15W/cm2とする場合において、隣接パルスレーザビームの重なり率(後述)を85%以上とすることが望ましい。これらのいずれか一方又は両方の構成を取ることにより、成形型の表面に付着した付着物上にプラズマを生成しつつ、様々な種類の付着物が気化する温度以上の温度にプラズマを加熱することができる。 When the scanning laser power density per second is 2 to 15 W / cm 2 , it is desirable that the laser light source emits a pulsed laser beam having a laser fluence per pulse of 0.04 to 0.7 J / cm 2 . In addition, when the scanning laser power density per second is 2 to 15 W / cm 2 , it is desirable that the overlap ratio (described later) of adjacent pulse laser beams is 85% or more. By taking one or both of these configurations, it is possible to generate plasma on the adhered matter adhered to the surface of the mold, and to heat the plasma to a temperature higher than the temperature at which various kinds of adhered matter are vaporized. Can be.

ここで「重なり率」とは、プラズマが生成される空間中において1つのパルスレーザビームが占める体積のうち、隣接して生成されるパルスレーザビームと重なり合う部分の体積の割合で定義される。隣接する2つのパルスレーザビームが平行であれば、重なり率は、プラズマが生成される空間中の任意の位置における1つのパルスレーザビームのそれに垂直な断面のうち、隣接して生成されるパルスレーザビームのそれに垂直な断面と重なり合う部分の面積の割合で求めることができる。重なり率の逆数は、同一箇所に照射されるパルスレーザビームの回数に該当する。なお、仮にパルスレーザビームを移動させなければ重なり率が100%となるが、本発明ではパルスレーザビームを移動させるため、重なり率は100%未満である。   Here, the “overlap rate” is defined as the ratio of the volume of a portion overlapping with a pulse laser beam generated adjacently to the volume occupied by one pulse laser beam in the space where plasma is generated. If two adjacent pulsed laser beams are parallel, the overlap rate is determined by the pulse lasers generated adjacent to each other in the cross section perpendicular to that of one pulsed laser beam at an arbitrary position in the space where the plasma is generated. It can be determined by the ratio of the area of the portion overlapping the cross section perpendicular to that of the beam. The reciprocal of the overlap rate corresponds to the number of times of the pulse laser beam applied to the same location. If the pulse laser beam is not moved, the overlap ratio is 100%. However, in the present invention, since the pulse laser beam is moved, the overlap ratio is less than 100%.

本発明に係る成形型クリーニング装置において、
前記レーザビーム移動機構が、
前記レーザビームを前記成形型に対して第1方向に往復移動させると共に、
前記レーザビームを該第1方向に片道移動させる毎に、該レーザビームを該第1方向に垂直な第2方向に、該レーザビームが前記成形型に照射されたスポットの1個分だけ移動させる
ものであって、
さらに、前記レーザビーム移動機構と前記成形型の間に、前記第1方向における往復移動の両端の前記スポットの1個分の部分を遮蔽する遮蔽部を備える
ことが望ましい。これにより、前記両端においてレーザビームが第2方向に移動する際に、該両端以外の位置と対比して過剰に照射されるレーザビームを遮蔽部が遮蔽するため、成形型の表面をより高い均一性でクリーニングすることができる。
In the mold cleaning device according to the present invention,
The laser beam moving mechanism,
Reciprocating the laser beam in a first direction with respect to the mold,
Each time the laser beam is moved one way in the first direction, the laser beam is moved in the second direction perpendicular to the first direction by one spot of the laser beam irradiated on the mold. Thing,
Further, it is preferable that a shielding portion is provided between the laser beam moving mechanism and the mold so as to shield portions of one spot at both ends of the reciprocating movement in the first direction. Accordingly, when the laser beam moves in the second direction at the both ends, the shielding portion shields the laser beam that is excessively irradiated as compared with a position other than the both ends, so that the surface of the mold is more uniform. It can be cleaned by nature.

ここまで、本発明に係る成形型クリーニング装置について説明したが、成形型クリーニング方法、樹脂成形装置、並びに樹脂成形品製造方法も同様の作用・効果を奏する。   So far, the mold cleaning apparatus according to the present invention has been described. However, the mold cleaning method, the resin molding apparatus, and the method for manufacturing a resin molded article have the same operation and effect.

以下、図2〜図23を参照しつつ、本発明に係る成形型クリーニング装置及び方法、樹脂成形装置、並びに樹脂成形品製造方法のより具体的な実施形態を説明する。   Hereinafter, more specific embodiments of the mold cleaning apparatus and method, the resin molding apparatus, and the method of manufacturing a resin molded product according to the present invention will be described with reference to FIGS.

(1) 本実施形態の成形型クリーニング装置及び樹脂成形装置の構成
図2に示すように、本実施形態の成形型クリーニング装置10は、本実施形態の樹脂成形装置1の構成要素の一部である。樹脂成形装置1は、成形型クリーニング装置10と共に樹脂成形部20を有する。
(1) Configuration of the Mold Cleaning Device and the Resin Molding Device of the Present Embodiment As shown in FIG. 2, the mold cleaning device 10 of the present embodiment is a part of the components of the resin molding device 1 of the present embodiment. is there. The resin molding device 1 has a resin molding unit 20 together with the mold cleaning device 10.

まず、樹脂成形部20の構成を説明する。樹脂成形部20は、本実施形態では移送(トランスファー)成形を行う装置であって、基盤211と、基盤211上に立設された4本(図2には2本のみ示す)のタイバー212と、上下に移動可能なようにタイバー212に保持された可動プラテン221と、タイバー212の上端に固定された固定プラテン222と、基盤211上に設けられた、可動プラテン221を上下動させるトグルリンク213とを備える。可動プラテン221の上面と固定プラテン222の下面の間には、上型(第1型)251と下型(第2型)252とが対向して設けられた成形型25が配置されている。   First, the configuration of the resin molding section 20 will be described. In the present embodiment, the resin molding section 20 is an apparatus that performs transfer molding, and includes a base 211 and four (two shown in FIG. 2) tie bars 212 erected on the base 211. A movable platen 221 held by the tie bar 212 so as to be movable up and down, a fixed platen 222 fixed to the upper end of the tie bar 212, and a toggle link 213 provided on the base 211 for moving the movable platen 221 up and down. And Between the upper surface of the movable platen 221 and the lower surface of the fixed platen 222, a molding die 25 provided with an upper die (first die) 251 and a lower die (second die) 252 facing each other is arranged.

図3に、成形型25及びその近傍を拡大して示す。上型251の下面には上方に向かってキャビティCが2個並んで形成されており、下型252の上面にも下方に向かってキャビティCが2個並んで形成されている。上型251の下面、下型252の上面、並びに各キャビティCを囲む上型251及び下型252の面には、窒化クロム製のコーティングCTが施されている。コーティングCTには、窒化クロムの代わりに、ハードクロム等の他の材料を用いてもよい。本実施形態では、キャビティは直方体状とするが、製造する樹脂成形品の形状に応じて円柱状等の形状とすることもできる。   FIG. 3 shows the molding die 25 and its vicinity in an enlarged manner. Two cavities C are formed side by side on the lower surface of the upper mold 251, and two cavities C are formed on the upper surface of the lower mold 252. The lower surface of the upper die 251, the upper surface of the lower die 252, and the surfaces of the upper die 251 and the lower die 252 surrounding each cavity C are coated with chromium nitride coating CT. Instead of chromium nitride, another material such as hard chromium may be used for the coating CT. In the present embodiment, the cavity has a rectangular parallelepiped shape, but may have a cylindrical shape or the like depending on the shape of the resin molded product to be manufactured.

下型252の2個のキャビティCの周囲にある下型252の上面はそれぞれ、リードフレームLを載置することができるようになっている。なお、リードフレームLの代わりに、基板等を下型252の上面に載置してもよい。   Each of the upper surfaces of the lower mold 252 around the two cavities C of the lower mold 252 can receive the lead frame L thereon. Note that a substrate or the like may be placed on the upper surface of the lower mold 252 instead of the lead frame L.

下型252の2個のキャビティCの間には、樹脂材料を収容するポット2521及びポット2521から樹脂材料を押し出すプランジャ2522が設けられている。また、下型252の2個のキャビティCはそれぞれ、後述のように軟化又は溶融した樹脂材料が通過する通路であるランナ2523によりポット2521と接続されている。上型251の2個のキャビティCの間であってポット2521と対向する位置には、カルブロック2511が設けられている。上型251の2個のキャビティCはそれぞれ、ランナ2513によってカルブロック2511の直下の空間と接続されている。   Between the two cavities C of the lower mold 252, a pot 2521 for storing the resin material and a plunger 2522 for extruding the resin material from the pot 2521 are provided. The two cavities C of the lower mold 252 are connected to the pot 2521 by runners 2523, which are passages through which the softened or molten resin material passes, as described later. A cull block 2511 is provided between the two cavities C of the upper mold 251 and at a position facing the pot 2521. Each of the two cavities C of the upper mold 251 is connected to a space directly below the cull block 2511 by a runner 2513.

また、樹脂成形部20は、上型251及び下型252を昇温して樹脂成形時にリードフレームL及び樹脂材料を所定の温度に維持するヒータプレート253を有する。ヒータプレート253にはヒータ2531が内蔵されている。ヒータ2531には、例えばカートリッジヒータを用いることができる。   The resin molding section 20 has a heater plate 253 that raises the temperature of the upper mold 251 and the lower mold 252 to maintain the lead frame L and the resin material at a predetermined temperature during resin molding. The heater 2531 has a built-in heater 2531. As the heater 2531, for example, a cartridge heater can be used.

成形型クリーニング装置10は、レーザ光源11と、レーザビーム移動部(レーザビーム移動機構)12と、反射鏡13と、XYステージ14と、XYステージドライバ15とを有する。   The molding die cleaning device 10 includes a laser light source 11, a laser beam moving unit (laser beam moving mechanism) 12, a reflecting mirror 13, an XY stage 14, and an XY stage driver 15.

レーザ光源11はパルスレーザを出射する光源である。本実施形態では、レーザ光源11が出射するパルスレーザは、後述の理由により、1パルスあたりのレーザフルエンスを0.04〜0.7J/cm2の範囲内、1秒あたりの走査レーザパワー密度を2〜15W/cm2の範囲内、パルス幅を1〜200nsecの範囲内、パルス繰り返し周波数を300kHz〜10MHzの範囲内とする。また、本実施形態では、レーザ光源11は、ビームに垂直な断面での形状(ビームスポット)が正方形となるように成形されていると共に該断面の中央から端部まで略等しいトップハット型の照射強度分布を有するパルスレーザビームを出射するものを用いる。なお、ビームスポットの形状は、長方形、円形、円環状等の、正方形以外の形状であってもよい。ここでビームスポットの範囲(サイズ)は、1/e2法(86%法)で定義される。スポットサイズはオフィール社、又はコヒレント社製のカメラ式ビームプロファイラで測定することができる。また、オフィール社、又はコヒレント社製のパワーメータを用いて、レーザビームの平均出力を求め、スポットサイズ及びレーザビームの平均出力から1秒あたりの走査レーザパワー密度を求めることができる。1パルスあたりのレーザフルエンスは、上記のレーザビームの平均出力をパルス繰り返し周波数で除した値である。パルス幅は、アジレント・テクノロジー社製のオシロスコープを用いて測定することができる。なお、レーザビームの平均出力は「レーザビームの平均出力[W]=パルスエネルギー[J]×パルス繰返し周波数[Hz]」の式で求めることができる。 The laser light source 11 is a light source that emits a pulse laser. In the present embodiment, the pulse laser emitted by the laser light source 11 has a laser fluence per pulse within the range of 0.04 to 0.7 J / cm 2 and a scanning laser power density per second of 2 to 15 W for the reason described later. / cm 2 , the pulse width is in the range of 1 to 200 nsec, and the pulse repetition frequency is in the range of 300 kHz to 10 MHz. Further, in this embodiment, the laser light source 11 is shaped such that the shape (beam spot) in a cross section perpendicular to the beam is a square, and the top hat type irradiation is substantially equal from the center to the end of the cross section. A device that emits a pulsed laser beam having an intensity distribution is used. The shape of the beam spot may be a shape other than a square, such as a rectangle, a circle, and a ring. Here, the range (size) of the beam spot is defined by the 1 / e 2 method (86% method). The spot size can be measured with an Ophir or Coherent camera beam profiler. Further, using a power meter manufactured by Ophir or Coherent, the average output of the laser beam is obtained, and the scanning laser power density per second can be obtained from the spot size and the average output of the laser beam. The laser fluence per pulse is a value obtained by dividing the above average output of the laser beam by the pulse repetition frequency. The pulse width can be measured using an oscilloscope manufactured by Agilent Technologies. The average output of the laser beam can be obtained by the formula of “average output of laser beam [W] = pulse energy [J] × pulse repetition frequency [Hz]”.

レーザビーム移動部12は、ガルバノスキャンヘッド121とレンズ122とを有する(図4参照)。ガルバノスキャンヘッド121は、レーザ光源11から導入されるパルスレーザビームBを、X方向(図2の紙面に垂直な方向)に繰り返し往復移動させる(図4(a))と共に、Z方向(図2の縦方向)にも移動させる(図4(b))ように出射する。レーザビーム移動部12によるパルスレーザビームの移動速度は、本実施形態では重なり率が85%以上となるようにする。この移動の際に、、パルスレーザビームBの移動範囲の大きさによっては中心位置付近と端部付近でスポットサイズが変化する可能性があり、そうすると照射強度が位置によって変化してしまう。そこで、レンズ122にテレセントリック又は照射深度が十分に長いものを用いることにより、位置によるスポットサイズの変化を抑制することが望ましい。なお、図4に示した例ではガルバノスキャンヘッド121の後段にレンズ122を配置したが、ガルバノスキャンヘッド121の前段に、複数枚のレンズを有する電動式ビーム径可変レンズ(図示省略)を配置してもよいし、レンズ122と電動式ビーム径可変レンズを併用してもよい。電動式ビーム径可変レンズを用いる場合には、前記繰り返し往復移動に合わせてビーム径を変化させることにより、成形型25の表面におけるスポットサイズを略一定にすることができる。   The laser beam moving unit 12 has a galvano scan head 121 and a lens 122 (see FIG. 4). The galvano scan head 121 repeatedly reciprocates the pulse laser beam B introduced from the laser light source 11 in the X direction (the direction perpendicular to the paper surface of FIG. 2) (FIG. 4A) and the Z direction (FIG. 2A). (In the vertical direction) (FIG. 4B). In this embodiment, the moving speed of the pulse laser beam by the laser beam moving unit 12 is set so that the overlapping ratio is 85% or more. During this movement, the spot size may change near the center position and near the end depending on the size of the moving range of the pulsed laser beam B, and the irradiation intensity will change depending on the position. Therefore, it is desirable to use a lens that is telecentric or has a sufficiently long irradiation depth as the lens 122 to suppress a change in spot size depending on the position. In the example shown in FIG. 4, the lens 122 is arranged at the subsequent stage of the galvano scan head 121, but at the preceding stage of the galvano scan head 121, an electric beam diameter variable lens (not shown) having a plurality of lenses is arranged. Alternatively, the lens 122 and a motorized variable beam diameter lens may be used in combination. In the case of using a motorized variable beam diameter lens, the spot size on the surface of the mold 25 can be made substantially constant by changing the beam diameter in accordance with the reciprocating movement.

反射鏡13は、パルスレーザビームBを反射する鏡であって、レーザビーム移動部12がパルスレーザビームBを往復移動させる範囲よりも広い幅をX方向に有する。反射鏡13には、例えば合成石英ガラス(フューズドシリカ)を含む鏡を用いることができる。また、反射鏡13の表面には、金属膜から成るコーティングが施されていてもよい。そのようなコーティングとして、金製のもの、銀製のもの、アルミ製のもの、誘電体多層膜等から最適ものを選択すればよい。   The reflecting mirror 13 is a mirror that reflects the pulse laser beam B, and has a width in the X direction wider than a range in which the laser beam moving unit 12 reciprocates the pulse laser beam B. As the reflecting mirror 13, a mirror containing, for example, synthetic quartz glass (fused silica) can be used. The surface of the reflecting mirror 13 may be coated with a metal film. As such a coating, an optimal coating may be selected from a gold coating, a silver coating, an aluminum coating, a dielectric multilayer film and the like.

反射鏡13は、図5に示すように、X方向の一方の端が第1把持具131Lで、他方の端が第2把持具131Rで、それぞれ把持されている。第1把持具131L、第2把持具131Rにはそれぞれ、X方向に延びる第1回動軸体132L、第2回動軸体132Rが設けられている。第1回動軸体132Lは軸受133Lに挿通されている。また、第2回動軸体132Rは、回動軸体可動保持具133Rに挿通されている。回動軸体可動保持具133Rは軸受であってもよい。なお、図5では、斜視図中に、第1回動軸体132L及び第2回動軸体132Rを通過するZ方向の断面を合わせて示すと共に、反射鏡13に関しては該断面よりもY方向の奥側を実線で示し、手前側を破線で示している(すなわち、反射鏡13はこの破線の部分にも存在する)。   As shown in FIG. 5, the reflecting mirror 13 has one end in the X direction held by a first holding member 131L and the other end held by a second holding member 131R. The first gripper 131L and the second gripper 131R are respectively provided with a first rotation shaft 132L and a second rotation shaft 132R extending in the X direction. The first rotation shaft 132L is inserted into the bearing 133L. The second rotating shaft 132R is inserted into the rotating shaft movable holder 133R. The rotating shaft movable holder 133R may be a bearing. In FIG. 5, a cross section in the Z direction passing through the first rotation shaft 132L and the second rotation shaft 132R is also shown in the perspective view, and the reflecting mirror 13 is more Y direction than the cross section. Is indicated by a solid line, and the near side is indicated by a broken line (that is, the reflecting mirror 13 is also present at the portion indicated by the broken line).

図6(a)に拡大して示すように、軸受133Lよりも回動軸方向の外側(X方向で反射鏡13の反対側)の第1回動軸体132Lの表面には、回動軸の回りを1周する溝1321Lが設けられている。溝1321Lには、第1固定具135Lが嵌め込まれている。なお、第1固定具135Lは溝1321Lより延出していればよく、軸受133Lよりも外径が小さい。第1固定具135Lは、第1回動軸体132Lにその径が異なるように形成された段差と第1固定具135Lで軸方向に挟むことにより、第1回動軸体132LがX方向の回動軸の回りに回動することを許容しつつ、軸受133Lを介して該回動軸に平行な方向にはほとんど移動しないように規制している。軸受133Lは、軸受保持部134Lと、反射鏡13から見て該軸受保持部134Lの外側に設けられた軸受固定具137Lに挟まれて固定されている。   As shown in FIG. 6A in an enlarged manner, the surface of the first rotating shaft 132L outside the bearing 133L in the direction of the rotating shaft (the side opposite to the reflecting mirror 13 in the X direction) is provided with a rotating shaft. A groove 1321L that makes one round around is provided. The first fixture 135L is fitted into the groove 1321L. Note that the first fixture 135L only needs to extend from the groove 1321L, and has a smaller outer diameter than the bearing 133L. The first fixing member 135L is axially sandwiched between the first fixing member 135L and a step formed on the first turning shaft member 132L so as to have a different diameter, so that the first turning shaft member 132L moves in the X direction. While allowing rotation about the rotation axis, the movement is restricted via the bearing 133L so as to hardly move in a direction parallel to the rotation axis. The bearing 133L is fixed by being sandwiched between a bearing holding portion 134L and a bearing fixture 137L provided outside the bearing holding portion 134L when viewed from the reflecting mirror 13.

また、図6(b)に拡大して示すように、回動軸体可動保持具133Rよりも回動軸方向の外側の第2回動軸体132Rの表面には溝1321Rが設けられている。溝1321Rには、第2固定具135Rが嵌め込まれている。なお、第2固定具135Rは、溝1321Rの全体に亘って設ける必要はない。回動軸体可動保持具133Rは、第2回動軸体132Rにその径が異なるように形成された段差と第2固定具135Rで軸方向に挟むことにより、軸方向には第2回動軸体132Rとの位置関係を固定しつつ、第2回動軸体132RがX方向の回動軸の回りに回動することが許容されるよう、該第2回動軸体132Rを保持している。回動軸体可動保持具133Rは、外側保持具134Rに保持されており、該外側保持具134Rに対して、第2回動軸体132Rと共に軸方向に移動可能となっている。図6(c)に、(b)の場合よりも反射鏡13が膨張し、それに伴って第2回動軸体132R及び回動軸体可動保持具133Rが反射鏡13の反対側に移動した状態の例を示す。このように第2回動軸体132R及び回動軸体可動保持具133Rが移動することにより、反射鏡13に加わる負荷を抑え、反射鏡13の変形を抑制することができる。反射鏡13が収縮する際には第2回動軸体132R及び回動軸体可動保持具133Rが逆方向に移動し、それによって反射鏡13の変形を抑制することができる。なお、回動軸体可動保持具133R、外側保持具134R及び第2固定具135Rを合わせたものを回動軸体可動保持具とみなしてもよい。   As shown in an enlarged view in FIG. 6B, a groove 1321R is provided on the surface of the second rotating shaft 132R outside the rotating shaft movable holder 133R in the rotating axis direction. . The second fixture 135R is fitted into the groove 1321R. Note that the second fixture 135R does not need to be provided over the entire groove 1321R. The rotating shaft movable holder 133R is axially sandwiched between the second fixing shaft 135R and a step formed on the second rotating shaft 132R so as to have a different diameter, so that the second rotating shaft 132R is second rotated in the axial direction. The second rotation shaft 132R is held so that the second rotation shaft 132R is allowed to rotate around the rotation axis in the X direction while fixing the positional relationship with the shaft 132R. ing. The rotating shaft movable holder 133R is held by an outer holder 134R, and is axially movable with respect to the outer holder 134R together with the second rotating shaft 132R. In FIG. 6C, the reflecting mirror 13 expands more than in the case of FIG. 6B, and accordingly, the second rotating shaft 132R and the rotating shaft movable holder 133R move to the opposite side of the reflecting mirror 13. The example of a state is shown. By moving the second rotating shaft 132R and the rotating shaft movable holder 133R in this manner, the load applied to the reflecting mirror 13 can be suppressed, and the deformation of the reflecting mirror 13 can be suppressed. When the reflecting mirror 13 contracts, the second rotating shaft 132R and the rotating shaft movable holder 133R move in the opposite directions, whereby the deformation of the reflecting mirror 13 can be suppressed. The combination of the rotating shaft movable holder 133R, the outer holder 134R, and the second fixing member 135R may be regarded as the rotating shaft movable holder.

ここでは1対の回動軸体のうちの一方(第1回動軸体132L)を第1固定具135L並びに軸受保持部134L及び軸受固定具137Lで固定された軸受133Lによって回動軸に平行な方向にはほとんど移動しないように規制しているが、双方の回動軸体を回動軸体可動保持具及び留め具によって回動軸に平行な方向に一定の範囲内で可動としてもよい。   Here, one of the pair of rotating shafts (the first rotating shaft 132L) is parallel to the rotating shaft by the first fixture 135L and the bearing 133L fixed by the bearing holding portion 134L and the bearing fixture 137L. Although it is restricted so that it is hardly moved in any direction, both rotating shafts may be movable within a certain range in a direction parallel to the rotating shaft by a rotating shaft movable holder and a fastener. .

図7(a)に示すように、第1把持具131Lと第2把持具131Rは、反射鏡13の背面側(図5に示した反射鏡13の裏側)において、2本のシャフト138(図5では図示省略)で連結されている。シャフト138は、第1把持具131Lには固定されているのに対して、第2把持具131Rにはすべり軸受(ブッシュ)139を介して取り付けられている。シャフト138は、反射鏡13が回動する際に反射鏡13に生じる捻れ等の負荷を減少させる役割を有する他、組立時に、第1回動軸体132Lと第2回動軸体132Rの回転軸中心を合わせる役割を有する。図7(b)に、(a)の場合よりも反射鏡13が膨張し、それに伴って第2把持具131Rが反射鏡13の反対側に移動した状態の例を示す。このように第2把持具131Rが移動することにより、反射鏡13に加わる負荷を抑え、反射鏡13の変形を抑制することができる。反射鏡13が収縮する際には第2把持具131Rが逆方向に移動し、それによって反射鏡13の変形を抑制することができる。   As shown in FIG. 7A, the first gripper 131L and the second gripper 131R are provided on two shafts 138 (FIG. 5) on the back side of the reflecting mirror 13 (the back side of the reflecting mirror 13 shown in FIG. 5). 5 are not shown). The shaft 138 is fixed to the first gripper 131L, while being attached to the second gripper 131R via a slide bearing (bush) 139. The shaft 138 has a role of reducing a load such as a twist generated in the reflecting mirror 13 when the reflecting mirror 13 rotates, and also rotates the first rotating shaft 132L and the second rotating shaft 132R during assembly. It has the role of aligning the axis centers. FIG. 7B shows an example in which the reflecting mirror 13 expands more than in the case of FIG. 7A and the second gripper 131R moves to the opposite side of the reflecting mirror 13 accordingly. By moving the second grip 131R in this way, the load applied to the reflecting mirror 13 can be suppressed, and the deformation of the reflecting mirror 13 can be suppressed. When the reflecting mirror 13 contracts, the second gripper 131R moves in the opposite direction, whereby the deformation of the reflecting mirror 13 can be suppressed.

反射鏡13にはさらに、回動軸の周りに該反射鏡13を回転させるモータ(反射方向変更機構)136(図2参照)が、例えばギア、又はプーリ及びベルトといった動力伝達機構(図示省略)を介して接続されている。動力伝達機構は、通常、軸受保持部134L又は外側保持具134Rの少なくとも一方に作用する。動力伝達機構から軸受保持部134L及び外側保持具134Rの一方に伝達された動力は、反射鏡13を介して他方に伝達される。その際、シャフト138は反射鏡13に掛かる捻れ等の負荷を減少させるよう働くため、反射鏡13の厚みが十分に厚くない場合であっても、変形を抑制できる。モータ136によって、反射鏡13の反射面が下向き且つY軸に対して45°傾斜したときには、パルスレーザビームBは下型252の表面に垂直に照射される。また、反射鏡13の反射面が上向き且つY軸に対して45°傾斜したときには、パルスレーザビームBは上型251の表面に垂直に照射される。一方、反射鏡13の反射面が下向き又は上向きであってY軸に対して45°以外の角度で傾斜したときには、パルスレーザビームBは下型252又は上型251の表面に対して傾斜した角度で照射される。   The reflecting mirror 13 further includes a motor (reflection direction changing mechanism) 136 (see FIG. 2) for rotating the reflecting mirror 13 about a rotation axis, and a power transmission mechanism (not shown) such as a gear or a pulley and a belt. Connected through. The power transmission mechanism normally acts on at least one of the bearing holder 134L and the outer holder 134R. The power transmitted from the power transmission mechanism to one of the bearing holder 134L and the outer holder 134R is transmitted to the other via the reflector 13. At this time, since the shaft 138 functions to reduce a load such as torsion applied to the reflector 13, deformation can be suppressed even when the thickness of the reflector 13 is not sufficiently large. When the reflecting surface of the reflecting mirror 13 is directed downward by the motor 136 and tilted by 45 ° with respect to the Y axis, the pulse laser beam B is applied to the surface of the lower mold 252 vertically. When the reflecting surface of the reflecting mirror 13 faces upward and is inclined at an angle of 45 ° with respect to the Y axis, the pulse laser beam B is irradiated perpendicularly to the surface of the upper mold 251. On the other hand, when the reflecting surface of the reflecting mirror 13 is downward or upward and is inclined at an angle other than 45 ° with respect to the Y axis, the pulse laser beam B is inclined at an angle with respect to the surface of the lower mold 252 or the upper mold 251. Irradiation.

レーザ光源11、レーザビーム移動部12及び反射鏡13は、XYステージ14上に取り付けられている。XYステージ14は、XYステージドライバ15の制御により、これらレーザ光源11、レーザビーム移動部12及び反射鏡13を、それら3つの構成要素の相対的な位置関係を維持しつつX方向及びY方向に移動させる。このXYステージ14により、クリーニング時には、X方向及びY方向のそれぞれ、上型251及び下型252のX方向及びY方向の幅よりもやや広い範囲内で反射鏡13等が移動する。それと共にXYステージ14は、Y方向には、成形型クリーニング装置10の位置を、クリーニング時には反射鏡13が上型251と下型252の間の空間内に配置される使用位置(図8(a))に、樹脂成形時には反射鏡13を含む成形型クリーニング装置10の全体が前記空間の外の位置である待機位置(図8(b))に、それぞれ配置されるように移動させる機能も有する。   The laser light source 11, the laser beam moving unit 12, and the reflecting mirror 13 are mounted on an XY stage 14. The XY stage 14 controls the laser light source 11, the laser beam moving unit 12, and the reflecting mirror 13 in the X direction and the Y direction while maintaining the relative positional relationship of the three components under the control of the XY stage driver 15. Move. During cleaning, the XY stage 14 moves the reflecting mirror 13 and the like within a range slightly wider than the widths of the upper die 251 and the lower die 252 in the X direction and the Y direction, respectively. At the same time, the XY stage 14 sets the position of the mold cleaning device 10 in the Y direction, and the use position where the reflecting mirror 13 is disposed in the space between the upper die 251 and the lower die 252 during cleaning (see FIG. )) Also has a function of moving the entire mold cleaning device 10 including the reflecting mirror 13 to a standby position (FIG. 8B) outside the space during resin molding. .

XYステージ14は、レーザ光源11、レーザビーム移動部12及び反射鏡13の相対的な位置関係を維持しつつX方向に移動させるために、図9に示すように、レーザ光源11及びレーザビーム移動部12と反射鏡13を、Y方向に延びる連結棒141で連結するようにしてもよい。ここでレーザ光源11及びレーザビーム移動部12は台112上に載置し、この台112に連結棒141を固定する。反射鏡13の側では、軸受保持部134L及び外側保持具134Rに連結棒141を固定する。これら軸受保持部134L及び外側保持具134Rには、第1回動軸体132L及び第2回動軸体132Rと同方向に延びる穴(図示せず)を設けられており、この穴に挿通されるガイド棒142に沿って反射鏡13及びその付属品である軸受保持部134Lや外側保持具134RがY方向に移動するようになっている。このような構成により、Y方向に離れて配置されているレーザ光源11及びレーザビーム移動部12と反射鏡13を、1個の動力源(図示せず)のみによりX方向に移動させることができる。このように動力源の数を少なくすることにより、動力源が成形型から受ける熱による影響を抑えるために該動力源を冷却する冷却機構(図示せず)の数も少なくすることができる。   As shown in FIG. 9, the XY stage 14 moves the laser light source 11, the laser beam moving unit 12, and the reflecting mirror 13 in the X direction while maintaining the relative positional relationship. The portion 12 and the reflecting mirror 13 may be connected by a connecting rod 141 extending in the Y direction. Here, the laser light source 11 and the laser beam moving unit 12 are mounted on a table 112, and the connecting rod 141 is fixed to the table 112. On the side of the reflecting mirror 13, the connecting rod 141 is fixed to the bearing holding portion 134L and the outer holding member 134R. The bearing holder 134L and the outer holder 134R are provided with holes (not shown) extending in the same direction as the first rotation shaft 132L and the second rotation shaft 132R, and are inserted through these holes. Along the guide rod 142, the reflecting mirror 13 and the bearing holder 134L and the outer holder 134R, which are accessories thereof, move in the Y direction. With such a configuration, the laser light source 11, the laser beam moving unit 12, and the reflecting mirror 13, which are separated from each other in the Y direction, can be moved in the X direction by only one power source (not shown). . By reducing the number of power sources in this way, the number of cooling mechanisms (not shown) for cooling the power sources in order to suppress the influence of heat received from the mold on the power sources can also be reduced.

なお、上型251と下型252のX方向の幅がレーザビーム移動部12によるパルスレーザビームBの往復移動の範囲よりも狭い場合には、XYステージ14及びXYステージドライバ15の代わりに、上記3つの構成要素をY方向のみに移動させる機構を用いてもよい。あるいは、レーザ光源11及びレーザビーム移動部12と反射鏡13のY方向の相対的な位置関係を維持することは必須ではなく、Y方向には反射鏡13のみを移動させるようにしてもよい。また、図10に示すように、成形型25のX方向におけるレーザビームの照射範囲よりもX方向の幅が大きい反射鏡13Wを用いる場合には、レーザ光源11及びレーザビーム移動部12のみをY方向に移動させればよく、X方向には反射鏡13Wを移動させる必要はない。   When the width in the X direction of the upper mold 251 and the lower mold 252 is smaller than the range of the reciprocating movement of the pulse laser beam B by the laser beam moving unit 12, the XY stage 14 and the XY stage driver 15 are used instead of the above. A mechanism for moving the three components only in the Y direction may be used. Alternatively, it is not essential to maintain the relative positional relationship between the laser light source 11 and the laser beam moving unit 12 and the reflecting mirror 13 in the Y direction, and only the reflecting mirror 13 may be moved in the Y direction. Further, as shown in FIG. 10, when using the reflecting mirror 13W having a width in the X direction larger than the irradiation range of the laser beam in the X direction of the molding die 25, only the laser light source 11 and the laser beam moving unit 12 are set to Y. The reflecting mirror 13W need not be moved in the X direction.

成形型クリーニング装置10は、上記の各構成要素の他に、上型251及び下型252の間の空間において気体を吸引して樹脂成形装置1の外に排出する気化付着物除去部(図示省略)を有していてもよい。この場合にはさらに、気化付着物除去部に気化付着物捕集フィルタ(図示省略)を設けてもよい。   In addition to the above-described components, the molding die cleaning device 10 is configured to remove a vaporized adhering matter (not shown) that sucks gas in a space between the upper die 251 and the lower die 252 and discharges the gas to the outside of the resin molding device 1. ) May be included. In this case, a vaporized deposit collecting filter (not shown) may be further provided in the vaporized deposit removing section.

(2) 本実施形態の成形型クリーニング装置及び樹脂成形装置の動作、並びに本実施形態の成形型クリーニング方法及び樹脂成形方法
本実施形態の成形型クリーニング装置10及び樹脂成形装置1の動作、並びに本実施形態の成形型クリーニング方法及び樹脂成形方法を説明する。以下ではまず、樹脂成形装置1中の樹脂成形部20による(成形型のクリーニングの動作を除いた)樹脂成形時の動作を説明し、次に樹脂成形装置1中の成形型クリーニング装置10の動作を説明する。この成形型クリーニング装置10の動作が、本発明に係る成形型クリーニング方法の実施形態に該当する。また、樹脂成形部20の動作と成形型クリーニング装置10の動作を組み合わせたものが、本発明に係る樹脂成形方法の実施形態に該当する。
(2) Operations of the Mold Cleaning Device and the Resin Molding Device of the Present Embodiment, and the Mold Cleaning Method and the Resin Molding Method of the Present Embodiment Operations of the Mold Cleaning Device 10 and the Resin Molding Device 1 of the Embodiment, and The molding die cleaning method and the resin molding method of the embodiment will be described. Hereinafter, first, an operation at the time of resin molding (excluding an operation of cleaning the molding die) by the resin molding unit 20 in the resin molding device 1 will be described. Next, an operation of the molding die cleaning device 10 in the resin molding device 1 will be described. Will be described. The operation of the mold cleaning device 10 corresponds to an embodiment of the mold cleaning method according to the present invention. A combination of the operation of the resin molding unit 20 and the operation of the mold cleaning device 10 corresponds to an embodiment of the resin molding method according to the present invention.

(2-1) 樹脂成形部20による樹脂成形時の動作
図11を用いて、樹脂成形部20により樹脂成形品を製造する際の動作を説明する。樹脂成形品を製造する際には予め、XYステージ14により、成形型クリーニング装置10の全体を待機位置(図8(b))に移動させておく。待機位置は前述のように上型251と下型252の間の空間の外の位置であり、樹脂成形品を製造する際の樹脂成形部20の動作を成形型クリーニング装置10が妨げることはない。
(2-1) Operation at the time of resin molding by the resin molding unit 20 The operation at the time of manufacturing a resin molded product by the resin molding unit 20 will be described with reference to FIG. When manufacturing a resin molded product, the entire mold cleaning device 10 is moved to a standby position (FIG. 8B) by the XY stage 14 in advance. The standby position is a position outside the space between the upper mold 251 and the lower mold 252 as described above, and the operation of the resin molding unit 20 at the time of manufacturing a resin molded product is not hindered by the mold cleaning device 10. .

まず、可動プラテン221を降下させることにより、上型251と下型252を上下に離した型開きの状態とする(図11(a))。この状態で、電子部品を上面及び下面に装着したリードフレームLを、該電子部品とキャビティCの横方向の位置を合わせるようにして、下型252の上面に載置する。また、図示せぬ樹脂材料供給機構により、ポット2521内にタブレット状の樹脂材料Pを供給する。樹脂材料Pは、例えば熱硬化性樹脂(エポキシ系樹脂等)を含有する複合材料である。樹脂材料Pには、ワックス(高級脂肪酸エステル等)、硬化促進剤(リン系触媒、アミノ系触媒等)、カップリング剤、着色剤、難燃剤、難燃助剤等が含まれていてもよい。樹脂材料供給機構は、従来の樹脂成形装置で広く用いられているものであり、詳細な説明を省略する。樹脂材料P内の熱硬化性樹脂は、ヒータプレート253から供給される熱によって、ポット2521内で軟化又は溶融する。上型251もヒータプレート253により所定の温度に昇温された状態としておく。   First, by lowering the movable platen 221, the upper die 251 and the lower die 252 are opened vertically (FIG. 11A). In this state, the lead frame L on which the electronic component is mounted on the upper surface and the lower surface is placed on the upper surface of the lower mold 252 such that the position of the electronic component and the cavity C in the horizontal direction are aligned. Further, a tablet-shaped resin material P is supplied into the pot 2521 by a resin material supply mechanism (not shown). The resin material P is a composite material containing, for example, a thermosetting resin (such as an epoxy resin). The resin material P may contain a wax (such as a higher fatty acid ester), a curing accelerator (such as a phosphorus-based catalyst or an amino-based catalyst), a coupling agent, a coloring agent, a flame retardant, or a flame retardant auxiliary. . The resin material supply mechanism is widely used in a conventional resin molding apparatus, and a detailed description is omitted. The thermosetting resin in the resin material P is softened or melted in the pot 2521 by the heat supplied from the heater plate 253. The upper mold 251 is also kept at a predetermined temperature by the heater plate 253.

ポット2521内の熱硬化性樹脂が軟化又は溶融したところで、トグルリンク213により可動プラテン221を上昇させる(図11(b))。これにより、可動プラテン221上の下型252がリードフレームLを介して上型251に当接して該上型251を押し、上型251が固定プラテン222に固定されていることから、成形型25が型締めされる。この状態でプランジャ2522を上昇させることにより、ポット2521内の樹脂材料Pを、ランナ2513及び2523を通して上型251及び下型252のキャビティCに供給する。所定時間が経過すると、樹脂材料P内の熱硬化性樹脂が硬化し、リードフレームLに樹脂がモールドされた樹脂成形品が得られる。その後、トグルリンク213により可動プラテン221を下降させることにより成形型25を型開きし、樹脂成形品を成形型25から取り外す。   When the thermosetting resin in the pot 2521 is softened or melted, the movable platen 221 is raised by the toggle link 213 (FIG. 11B). As a result, the lower mold 252 on the movable platen 221 abuts on the upper mold 251 via the lead frame L and pushes the upper mold 251, and the upper mold 251 is fixed to the fixed platen 222. Is clamped. By raising the plunger 2522 in this state, the resin material P in the pot 2521 is supplied to the cavities C of the upper mold 251 and the lower mold 252 through the runners 2513 and 2523. After a lapse of a predetermined time, the thermosetting resin in the resin material P is cured, and a resin molded product in which the resin is molded on the lead frame L is obtained. Thereafter, the movable platen 221 is lowered by the toggle link 213 to open the mold 25, and the resin molded product is removed from the mold 25.

ここまでの動作を繰り返し行うことにより、樹脂成形品を多数製造することができる。しかし、樹脂成形品の製造を繰り返し行う間に、樹脂材料Pに含まれる熱硬化性樹脂やフィラー等の一部が徐々に成形型25の表面に付着してゆく。そこで、樹脂成形品を所定個数製造する毎、あるいは所定時間毎に、以下に述べるように成形型クリーニング装置10を動作させることにより、成形型25の表面をクリーニングする。   By repeatedly performing the above operations, a large number of resin molded products can be manufactured. However, a part of the thermosetting resin, the filler, and the like contained in the resin material P gradually adheres to the surface of the molding die 25 during repeated production of the resin molded product. Therefore, the surface of the molding die 25 is cleaned by operating the molding die cleaning device 10 as described below every time a predetermined number of resin molded products are manufactured or every predetermined time.

(2-2) 成形型クリーニング装置10の動作
まず、成形型25が型開きしている状態で、XYステージ14により、成形型クリーニング装置10を使用位置(図8(a))、すなわち反射鏡13が上型251と下型252の間に配置されるように移動させる(図2参照)。このとき、反射鏡13の反射面は、上向き及び下向きのいずれの状態であってもよく、前者の場合にはまず上型251をクリーニングし、後者の場合にはまず下型252をクリーニングすることになる。以下では、この時点での反射鏡13が、図2及び図4(b)に実線で示すように反射面が下向きである場合を例として説明する。成形型25に付着した付着物は、樹脂材料P、基板又はリードフレームに含まれるいずれかの材料・成分が含有しいる。また、パーティング面(上型251の下面及び下型252の上面)やランナなどの樹脂通路にも付着物が付着する場合があり、それらが連続成形を阻害するおそれがある。
(2-2) Operation of Mold Cleaning Apparatus 10 First, with the mold 25 opened, the XY stage 14 moves the mold cleaning apparatus 10 to the use position (FIG. 8A), that is, the reflecting mirror. 13 is moved so as to be disposed between the upper die 251 and the lower die 252 (see FIG. 2). At this time, the reflecting surface of the reflecting mirror 13 may be in an upward or downward state. In the former case, the upper mold 251 is first cleaned, and in the latter case, the lower mold 252 is first cleaned. become. Hereinafter, a case where the reflecting surface of the reflecting mirror 13 at this time is downward as shown by a solid line in FIGS. 2 and 4B will be described as an example. The deposit attached to the molding die 25 contains any material or component contained in the resin material P, the substrate, or the lead frame. Further, deposits may adhere to the parting surface (the lower surface of the upper die 251 and the upper surface of the lower die 252) and resin passages such as runners, which may hinder continuous molding.

この状態で、レーザ光源11は、上述した1パルスあたりのレーザフルエンス及びパルス幅を有するパルスレーザビームBを上述のパルス繰り返し周波数で出射する。これにより、パルスレーザビームBは、反射鏡13で90°反射されて下型252の表面に照射される。その際、レーザビーム移動部12は、図4(a)の平面図及び(b)の側面図で概念的に示すように、パルスレーザビームBを、X方向には所定範囲(同図中のXLとXRの間の範囲)内で繰り返し往復移動させつつ、X方向に片道1回移動する毎にZ方向にパルスレーザビームBのスポットBSの1個分ずつ所定範囲(同図中のZTとZBの間の範囲)内で移動させる。これにより、下型252の表面では、まず、パルスレーザビームBのスポットがX方向に前記所定範囲だけ移動する(図4(a))。その後、パルスレーザビームBがスポットBSの1個分だけZ方向に移動すると、パルスレーザビームBが反射鏡13で90°反射されて下型252の表面に生じるスポットBSはY方向に1個分だけ移動する(図4(b))。これにより、下型252の表面におけるスポットBSは、X方向に片道移動し、続いてスポットBSの1個分だけY方向に移動し、X方向に先程とは逆向きに移動する、というジグザグの移動を繰り返す(図12)。   In this state, the laser light source 11 emits the pulse laser beam B having the above-described laser fluence and pulse width per pulse at the above-described pulse repetition frequency. As a result, the pulse laser beam B is reflected 90 ° by the reflecting mirror 13 and is irradiated on the surface of the lower mold 252. At that time, the laser beam moving unit 12 applies the pulse laser beam B to the X direction in a predetermined range (see FIG. 4A) as conceptually shown in the plan view and the side view in FIG. While repeatedly reciprocating within the range between XL and XR, each time it moves one way in the X direction, one spot BS of the pulsed laser beam B is moved in the Z direction in a predetermined range (ZT and ZT in the figure). (Range between ZB). Thus, on the surface of the lower mold 252, first, the spot of the pulse laser beam B moves in the X direction by the predetermined range (FIG. 4A). Thereafter, when the pulse laser beam B moves in the Z direction by one spot BS, the pulse laser beam B is reflected at 90 ° by the reflecting mirror 13 and the spot BS generated on the surface of the lower mold 252 corresponds to one spot in the Y direction. (Fig. 4 (b)). Thereby, the spot BS on the surface of the lower mold 252 moves one way in the X direction, then moves by one spot BS in the Y direction, and moves in the X direction in the opposite direction to the previous one. The movement is repeated (FIG. 12).

このようにスポットBSがジグザグに移動することにより、パルスレーザビームBは下型252の表面の一部又は全部の範囲内に照射される。ここでパルスレーザビームBが下型252の表面の一部にのみ照射される場合には、1回のジグザグ移動によるパルスレーザビームBの照射が終了した後、XYステージ14は反射鏡13を下型252の表面のうち未だパルスレーザビームBが照射されていない領域の上に移動させる。なお、十分な可動距離を持つ電動ビーム径可変レンズを搭載した場合は、内部のレンズでスポットサイズを調整することができるため、レーザビーム移動部12はXYステージ14のみから成る構成とすることも可能である。そして、上記と同様の方法により、当該領域にパルスレーザビームBをジグザグ移動させながら照射する。以上の動作を繰り返すことにより、下型252の表面全体にパルスレーザビームBを照射する。図13に、下型252の表面におけるパルスレーザビームBのジグザグの軌跡を細実線で例示すると共に、1回のジグザグ移動によるパルスレーザビームBの照射領域の境界を太破線で例示する。   As the spot BS moves zigzag in this manner, the pulse laser beam B is applied to a part or the whole area of the surface of the lower mold 252. Here, when the pulse laser beam B is irradiated only on a part of the surface of the lower mold 252, after the irradiation of the pulse laser beam B by one zigzag movement is completed, the XY stage 14 moves the reflecting mirror 13 downward. The surface of the mold 252 is moved to a region not irradiated with the pulse laser beam B yet. When an electric beam diameter variable lens having a sufficient movable distance is mounted, the spot size can be adjusted by an internal lens. Therefore, the laser beam moving unit 12 may be configured to include only the XY stage 14. It is possible. Then, in the same manner as described above, the pulse laser beam B is applied to the area while moving it in a zigzag manner. By repeating the above operation, the entire surface of the lower mold 252 is irradiated with the pulse laser beam B. FIG. 13 illustrates the zigzag locus of the pulse laser beam B on the surface of the lower die 252 by a thin solid line, and the boundary of the irradiation area of the pulse laser beam B by one zigzag movement is illustrated by a thick broken line.

その後、反射鏡13を回動させることにより、反射面を下向きから上向きに切り替える。そして、下型252の場合と同様に、上型251の表面にもパルスレーザビームBを照射する。   After that, the reflecting surface is switched from downward to upward by rotating the reflecting mirror 13. Then, similarly to the case of the lower mold 252, the surface of the upper mold 251 is irradiated with the pulse laser beam B.

本実施形態の成形型クリーニング装置10では、1パルスあたりのレーザフルエンスが0.04〜0.7J/cm2の範囲内であるパルスレーザビームBを成形型25(上型251及び下型252)の表面に照射することにより、成形型25の表面にプラズマPLが生成される(図14(a))。プラズマPLの発生源は特に限定されないが、パルスレーザビームBを付着物に照射することにより、付着物AGの表面付近が高温・高圧状態となり、プラズマPLを発生させることができる。そして、上記と同じレーザフルエンスを有するパルスレーザビームBを重なり率が85%以上となるように移動させることにより、このパルスレーザビームBがプラズマPL中の同一箇所に6回以上照射され、それによって、通常の樹脂成形において成形型25の表面に付着する付着物Aが含有する樹脂を気化させることができる温度まで、プラズマPLが加熱される(図14(b))。これにより、成形型25の表面上の付着物Aの少なくとも一部が気化し、該表面から除去される。その際、プラズマPLにより加熱されたコーティングCTからの伝熱、放射(輻射)による熱が付着物AGにコーティングCT側から作用してもよい。なお、パルスレーザビームBが移動する範囲のうちX方向の両端部であってパルスレーザビームBのX方向の幅の1個分未満(例えば、重なり率が85%の場合には該幅の17/20)の部分では、パルスレーザビームBが照射される回数が6回未満となり得るが、通常は該幅が十分に小さく、その周囲で加熱されたプラズマPLが当該部分に流入するため、問題とはならない。気化した付着物AGは、成形型クリーニング装置10が気化付着物除去装置を有する場合には、成形型25の表面近傍から吸引除去される。 In the molding die cleaning apparatus 10 of the present embodiment, the pulse laser beam B having a laser fluence per pulse within the range of 0.04 to 0.7 J / cm 2 is applied to the surface of the molding die 25 (the upper die 251 and the lower die 252). The irradiation generates plasma PL on the surface of the mold 25 (FIG. 14A). The source of the plasma PL is not particularly limited, but by irradiating the deposit with the pulsed laser beam B, the vicinity of the surface of the deposit AG becomes high temperature and high pressure, and the plasma PL can be generated. Then, by moving the pulse laser beam B having the same laser fluence as described above so that the overlapping rate becomes 85% or more, the same position in the plasma PL is irradiated with the pulse laser beam B six times or more. Then, the plasma PL is heated to a temperature at which the resin contained in the deposit A adhering to the surface of the molding die 25 in normal resin molding can be vaporized (FIG. 14B). Thereby, at least a part of the deposit A on the surface of the mold 25 is vaporized and removed from the surface. At this time, heat generated by heat transfer and radiation (radiation) from the coating CT heated by the plasma PL may act on the attached matter AG from the coating CT side. It should be noted that both ends in the X direction of the range in which the pulse laser beam B moves are less than one width of the pulse laser beam B in the X direction (for example, when the overlap ratio is 85%, the width of the width is 17 times). In the part of (/ 20), the number of times of irradiation of the pulse laser beam B may be less than six times. However, the width is usually sufficiently small, and the plasma PL heated around the part flows into the part. Does not. The vaporized deposits AG are suctioned and removed from the vicinity of the surface of the molding die 25 when the mold cleaning device 10 has a vaporized deposit removal device.

上記のように上型251及び下型252がヒータプレート253によって昇温された状態では、上型251と下型252の間の空間が高温になり得る。しかし、本実施形態の成形型クリーニング装置10では、熱による悪影響を受け易いレーザ光源11及びレーザビーム移動部12は当該空間の外に配置されると共に、反射鏡13は当該空間内に配置されるもののレーザ光源11及びレーザビーム移動部12よりも熱による影響を受け難い。そのため、本実施形態の成形型クリーニング装置10は上記のような高温でも使用することができる。   In the state where the upper mold 251 and the lower mold 252 are heated by the heater plate 253 as described above, the space between the upper mold 251 and the lower mold 252 can be heated. However, in the mold cleaning device 10 of the present embodiment, the laser light source 11 and the laser beam moving unit 12 that are easily affected by heat are disposed outside the space, and the reflecting mirror 13 is disposed in the space. However, it is less affected by heat than the laser light source 11 and the laser beam moving unit 12. Therefore, the mold cleaning device 10 of the present embodiment can be used even at the high temperature as described above.

反射鏡13は、前記空間に配置されることで熱膨張する。しかし、第2回動軸体132Rが回動軸に平行な方向に、第2把持具131Rが外側保持具134Rに当接するまで移動することが許容されているため、反射鏡13が熱膨張によって変形することを抑えることができる。また、シャフト138は反射鏡13の熱膨張に伴ってすべり軸受139ですべることにより軸方向に移動するため、反射鏡13に力を付加して反射鏡13を変形させることを抑えることができる。さらに、成形型クリーニング装置10の終了後に反射鏡13を前記空間の外に退出させたときには、温度の低下に伴って反射鏡13が収縮するが、そのときにも、第2回動軸体132Rが回動軸に平行な方向に移動することが許容されているため、反射鏡13の変形を抑えることができる。   The reflecting mirror 13 thermally expands when disposed in the space. However, since the second rotation shaft 132R is allowed to move in a direction parallel to the rotation axis until the second gripper 131R comes into contact with the outer holder 134R, the reflecting mirror 13 is thermally expanded. Deformation can be suppressed. Further, since the shaft 138 moves in the axial direction by sliding on the slide bearing 139 in accordance with the thermal expansion of the reflecting mirror 13, it is possible to suppress the deformation of the reflecting mirror 13 by applying a force to the reflecting mirror 13. Further, when the reflecting mirror 13 is retracted out of the space after the completion of the mold cleaning device 10, the reflecting mirror 13 contracts with a decrease in temperature. Is allowed to move in a direction parallel to the rotation axis, so that deformation of the reflecting mirror 13 can be suppressed.

さらに、本実施形態の成形型クリーニング装置10では、上述のようにプラズマPLを発生させたうえで該プラズマPLを加熱し、その熱で付着物Aの少なくとも一部を気化させるというプロセスで付着物Aを除去することにより、より照射強度(レーザフルーエンス、レーザパワー密度)の大きいレーザビームを直接付着物Aに照射することで付着物Aを除去する場合よりも、成形型25のコーティングCTに与えるダメージを抑えることができる。   Furthermore, in the mold cleaning apparatus 10 of the present embodiment, the plasma PL is generated as described above, and then the plasma PL is heated, and the heat is used to vaporize at least a portion of the deposit A, thereby causing the deposit A to be vaporized. By removing A, the laser beam having a higher irradiation intensity (laser fluence, laser power density) is applied to the coating CT of the molding die 25 than when the deposit A is removed by directly irradiating the deposit A. Damage can be reduced.

パルスレーザビームを発振するレーザ光源11及びレーザビーム移動部12を用いる場合において、付着物をより確実に成形型25の表面から除去し、且つ窒化クロムやハードクロム等から成るコーティングが受けるダメージをより抑えるために、パルス幅は50〜120nsec、1パルスあたりのレーザフルエンスは0.1〜0.6J/cm2、重なり率は90%以上、1秒当たりの走査レーザパワー密度が3〜11W/cm2であることが望ましい。 In the case of using the laser light source 11 and the laser beam moving unit 12 that oscillate a pulsed laser beam, the attached matter is more reliably removed from the surface of the molding die 25, and the coating made of chromium nitride, hard chrome, or the like is more damaged. in order to suppress the pulse width 50~120Nsec, laser fluence 0.1~0.6J / cm 2 per pulse, the overlap rate is 90%, the scanning laser power density per one second is 3~11W / cm 2 It is desirable.

また、パルスレーザビームを発振するレーザ光源11及びレーザビーム移動部12を用いる場合において、付着物をより確実に成形型の表面から除去し、且つ窒化クロムやハードクロム等から成るコーティングが受けるダメージをより抑えるために、前記パルス幅は50〜120nsec、前記1パルスあたりのレーザフルエンスは0.04〜0.1J/cm2、前記重なり率は98%以上、1秒当たりの走査レーザパワー密度が5〜11W/cm2という構成を取ることもできる。 Further, in the case of using the laser light source 11 and the laser beam moving unit 12 that oscillate a pulsed laser beam, the adhered substances are more reliably removed from the surface of the mold, and the coating made of chromium nitride, hard chrome, or the like is damaged. To further suppress, the pulse width is 50 to 120 nsec, the laser fluence per pulse is 0.04 to 0.1 J / cm 2 , the overlap ratio is 98% or more, and the scanning laser power density per second is 5 to 11 W / it is also possible to take a configuration that cm 2.

(3) 成形型クリーニング装置の他の実施形態
以下、本発明に係る成形型クリーニング装置の他の実施形態を説明する。
図15に示す構成では、パルスレーザビームBのスポットBSが上型251の下面又は下型252の上面上を前述の図12に示した経路で移動する場合であって、該経路のX方向(すなわちスポットBSが往復運動する方向。前記第1方向に相当。)の両端であってレーザビーム移動部12と上型251又は下型252の間に、スポットBSの1個分の幅だけパルスレーザビームBを遮蔽する遮蔽部17(図15(a)では太実線で示したもの)を設けることができる。なお、遮蔽部17は、レーザビーム移動部12と上型251の間、及びレーザビーム移動部12と下型252の間の双方に設けてもよい。
(3) Another Embodiment of Mold Cleaning Device Another embodiment of the molding device cleaning device according to the present invention will be described below.
The configuration shown in FIG. 15 is a case where the spot BS of the pulse laser beam B moves on the lower surface of the upper die 251 or the upper surface of the lower die 252 along the path shown in FIG. That is, the direction in which the spot BS reciprocates (corresponding to the first direction) between the laser beam moving unit 12 and the upper mold 251 or the lower mold 252, and the pulse laser corresponding to the width of one spot BS. A shielding part 17 (shown by a thick solid line in FIG. 15A) for shielding the beam B can be provided. The shielding unit 17 may be provided both between the laser beam moving unit 12 and the upper mold 251 and between the laser beam moving unit 12 and the lower mold 252.

この遮蔽部17が設けられる部分において、前述の実施形態のように遮蔽部17を設けることなく且つレーザ光源11からのパルスレーザビームBの出射を継続したままスポットBSをY方向(前記第2方向に相当)に移動させると、その移動の速さによっては、他の部分よりも多いパルス数でパルスレーザビームBが照射される。例えば、照射の始点となる部分又はX方向の移動とY方向の移動とが切り替わる部分は、それ以外の部分と比べてパルスレーザビームBが照射される回数が異なる箇所が存在する場合がある。また、この遮蔽部17が設けられる部分は、前述のようにパルスレーザビームBが照射される回数が6回未満となり得る位置でもある。それに対して、スポットBSの1個分だけX方向の両端において遮蔽部17によってパルスレーザビームBを遮蔽し、この遮蔽がなされていない部分を通過したパルスレーザビームBでクリーニングを行うことにより、クリーニング処理の均一性をより高くすることができる。   In the portion where the shielding portion 17 is provided, the spot BS is moved in the Y direction (the second direction) without providing the shielding portion 17 and maintaining the emission of the pulse laser beam B from the laser light source 11 as in the above-described embodiment. ), The pulsed laser beam B is irradiated with a larger number of pulses than in other parts, depending on the speed of the movement. For example, a portion serving as a starting point of irradiation or a portion where movement in the X direction and movement in the Y direction are switched may include a portion where the number of times of irradiation of the pulse laser beam B is different from other portions. The portion where the shielding portion 17 is provided is also a position where the number of times of irradiation of the pulse laser beam B can be less than six times as described above. On the other hand, the pulse laser beam B is shielded by the shielding portions 17 at both ends in the X direction by one spot BS, and cleaning is performed by the pulse laser beam B passing through the unshielded portion. Processing uniformity can be further improved.

遮蔽部17を用いる代わりに、Y方向にスポットBSを移動させる間、レーザ光源11からのパルスレーザビームBの出射を停止するようにしてもよい。また、パルスレーザビームの移動の速さを変更し、それに応じて1パルスあたりのレーザフルエンス及び/又は繰り返し周波数を変更するようにしてもよい。例えば、レーザビームをより速く移動させ、それに応じて1パルスあたりのレーザフルエンスを大きく及び/又は繰り返し周波数を大きくすることにより、同じ時間でパルスレーザビームを照射することができる領域を拡大することができる。   Instead of using the shielding unit 17, the emission of the pulse laser beam B from the laser light source 11 may be stopped while the spot BS is moved in the Y direction. Further, the moving speed of the pulse laser beam may be changed, and the laser fluence and / or the repetition frequency per pulse may be changed accordingly. For example, by moving the laser beam faster, and thereby increasing the laser fluence per pulse and / or increasing the repetition frequency, the area that can be irradiated with the pulse laser beam in the same time can be expanded. it can.

スポットBSは、図12や図13に示したようにジグザグ状に移動させること以外に、例えば図16(a)に示すように、X方向に片道移動(図中の細実線の経路)した後に、レーザ光源11からのパルスレーザビームBの出射を停止し、X方向には最初の位置に戻りながらY方向にスポットBSの1個分だけ移動し(図中の細破線の経路)、さらにX方向に片道移動するという動作を繰り返してもよい。あるいは、図16(b)に示すように、1回のジグザグ移動(又は図16(a)の片道繰り返し移動)によって、(前述のように複数の照射領域に分けることなく)クリーニング対象の全体にパルスレーザビームBを照射するようにしてもよい。   The spot BS may be moved in one direction in the X direction (path shown by a thin solid line in the figure), for example, as shown in FIG. 16A, in addition to being moved in a zigzag shape as shown in FIGS. Then, the emission of the pulse laser beam B from the laser light source 11 is stopped, and the laser beam returns to the initial position in the X direction and moves by one spot BS in the Y direction (the path indicated by the thin broken line in the figure). The operation of moving one way in the direction may be repeated. Alternatively, as shown in FIG. 16 (b), one zigzag movement (or one-way repetitive movement in FIG. 16 (a)) can be applied to the entire cleaning target (without dividing into a plurality of irradiation areas as described above). The pulse laser beam B may be applied.

反射鏡13をX方向に移動させるために、図17に示すように、X方向レール181と、X方向ベルト182と、ベルト取り付け部材183と、X方向モータ184と、X方向プーリ185、モータブロック186と、プーリブロック187と、Y方向レール188とを有するX方向移動機構18を用いてもよい。X方向レール181は上型251の直下又は下型252の直上に、それらの型を横断するようにX方向に延びるレールである。X方向ベルト182はX方向レール181に略平行に延び、ベルト取り付け部材183によって反射鏡13の軸受保持部134L又は外側保持具134Rが取り付けられている。X方向ベルト182に取り付けられた軸受保持部134L又は外側保持具134Rは、X方向レール181に支持されている。X方向モータ184はモータブロック186内に収容され、モータブロック186はX方向レール181の一方の端に固定されている。また、X方向プーリ185はプーリブロック187内に収容され、プーリブロック187はX方向レール181の他方の端に固定されている。X方向ベルト182は、X方向モータ184及びX方向プーリ185に掛けられている。モータブロック186はY方向レール188に載置されており、Y方向レール188以外のX方向移動機構18の各構成要素はY方向レール188に沿ってY方向に移動可能である。   In order to move the reflecting mirror 13 in the X direction, as shown in FIG. 17, an X direction rail 181, an X direction belt 182, a belt attaching member 183, an X direction motor 184, an X direction pulley 185, a motor block The X-direction moving mechanism 18 having the 186, the pulley block 187, and the Y-direction rail 188 may be used. The X-direction rail 181 is a rail that extends in the X direction directly under the upper mold 251 or directly above the lower mold 252 so as to cross the molds. The X-direction belt 182 extends substantially parallel to the X-direction rail 181, and the bearing holding portion 134 </ b> L or the outer holding member 134 </ b> R of the reflecting mirror 13 is attached by a belt attaching member 183. The bearing holder 134L or the outer holder 134R attached to the X-direction belt 182 is supported by the X-direction rail 181. The X-direction motor 184 is housed in a motor block 186, and the motor block 186 is fixed to one end of the X-direction rail 181. The X-direction pulley 185 is housed in a pulley block 187, and the pulley block 187 is fixed to the other end of the X-direction rail 181. The X-direction belt 182 is hung on an X-direction motor 184 and an X-direction pulley 185. The motor block 186 is mounted on a Y-direction rail 188, and each component of the X-direction moving mechanism 18 other than the Y-direction rail 188 can move in the Y-direction along the Y-direction rail 188.

このX方向移動機構18では、X方向モータ184の回転に伴ってX方向プーリ185が回転し、それによりX方向ベルト182がX方向に移動することにより、軸受保持部134L又は外側保持具134Rを介してX方向ベルト182に取り付けられた反射鏡13がX方向に移動する。このX方向移動機構18によれば、X方向モータ184が上型251及び下型252よりもX方向の外側に配置されているため、上型251及び下型252からの熱がX方向モータ184に与える影響を抑えることができる。なお、レーザ光源11及びレーザビーム移動部12をX方向に移動させるために、X方向移動機構18と同様のものを用いることもできる。   In the X-direction moving mechanism 18, the X-direction pulley 185 rotates with the rotation of the X-direction motor 184, thereby moving the X-direction belt 182 in the X-direction. The reflection mirror 13 attached to the X-direction belt 182 moves in the X-direction. According to the X-direction moving mechanism 18, since the X-direction motor 184 is disposed outside the upper mold 251 and the lower mold 252 in the X-direction, heat from the upper mold 251 and the lower mold 252 is dissipated. Can be suppressed. In addition, in order to move the laser light source 11 and the laser beam moving part 12 in the X direction, the same one as the X direction moving mechanism 18 can be used.

図18に、本発明に係る成形型クリーニング装置の他の実施形態を示す。この実施形態の成形型クリーニング装置10Aは、上記成形型クリーニング装置10と同様のレーザ光源11と、レーザビーム移動部12と、XYステージ14と、XYステージドライバ15とを有する。図18では、XYステージ14及びXYステージドライバ15は図示を省略する。また、成形型クリーニング装置10Aは、上記成形型クリーニング装置10における反射鏡13の代わりに、第1反射鏡13X及び第2反射鏡13Yを有する。さらに、成形型クリーニング装置10Aは、光路切替鏡161と光路切替鏡移動部162から成る鏡切替部(鏡切替機構)16を備える。   FIG. 18 shows another embodiment of the mold cleaning device according to the present invention. The molding die cleaning device 10A of this embodiment includes a laser light source 11, a laser beam moving unit 12, an XY stage 14, and an XY stage driver 15 similar to the molding die cleaning device 10. In FIG. 18, the XY stage 14 and the XY stage driver 15 are not shown. Further, the mold cleaning device 10A includes a first reflecting mirror 13X and a second reflecting mirror 13Y instead of the reflecting mirror 13 in the above-described mold cleaning device 10. Further, the mold cleaning device 10A includes a mirror switching unit (mirror switching mechanism) 16 including an optical path switching mirror 161 and an optical path switching mirror moving unit 162.

第1反射鏡13XはX方向に延びる回動軸で回動可能であって、レーザビーム移動部12から出射されるパルスレーザビームBの光路上に配置されている。第2反射鏡13Yは、第1反射鏡13XをZ軸の周りに90°回動させた構成を有しており、Y方向に延びる回動軸で回動可能であって、レーザビーム移動部12から出射されるパルスレーザビームBの光路の側方に配置されている。   The first reflecting mirror 13X is rotatable about a rotating shaft extending in the X direction, and is arranged on the optical path of the pulse laser beam B emitted from the laser beam moving unit 12. The second reflecting mirror 13Y has a configuration in which the first reflecting mirror 13X is rotated by 90 ° around the Z axis, is rotatable around a rotating shaft extending in the Y direction, and has a laser beam moving unit. It is arranged on the side of the optical path of the pulsed laser beam B emitted from 12.

光路切替鏡161は、反射面がZ軸に平行であって且つレーザビーム移動部12から出射されるパルスレーザビームBに対して45°傾斜した方向を向いている。光路切替鏡移動部162は、光路切替鏡161を、レーザビーム移動部12から出射されるパルスレーザビームBの光路の外(側方)と光路内の間で移動させるものである。   The light path switching mirror 161 has a reflecting surface parallel to the Z axis and faces a direction inclined by 45 ° with respect to the pulse laser beam B emitted from the laser beam moving unit 12. The optical path switching mirror moving section 162 moves the optical path switching mirror 161 between the outside (side) and the inside of the optical path of the pulse laser beam B emitted from the laser beam moving section 12.

成形型クリーニング装置10Aの動作を説明する。まず、光路切替鏡移動部162により光路切替鏡161をパルスレーザビームBの光路の外に配置した状態で、第1反射鏡13Xの反射面を下向き且つXZ平面に対して45°だけ傾斜させる。そして、前記成形型クリーニング装置10の場合と同様に、パルスレーザビームBを、レーザ光源11から出射したうえでレーザビーム移動部12によりX方向に往復移動、及びY方向に移動させる。これにより、パルスレーザビームBは第1反射鏡13Xで反射されて下型252の表面に照射される。ここでは、第1反射鏡13Xの反射面がXZ平面に対して45°傾斜しているため、パルスレーザビームBは下型252の上面に垂直に入射する。但し、そうすると、例えばキャビティCに面する側面のように、下型252中の上面に垂直な面にはパルスレーザビームBを照射し難い。そこで、ここまでの動作の終了後に、第1反射鏡13Xの反射面の角度を45°からそれ以外の大きさに変更し、下型252のX方向に平行な側面にパルスレーザビームBを照射することができる。   The operation of the mold cleaning device 10A will be described. First, with the optical path switching mirror 161 arranged outside the optical path of the pulse laser beam B by the optical path switching mirror moving unit 162, the reflecting surface of the first reflecting mirror 13X is tilted downward and inclined by 45 ° with respect to the XZ plane. Then, similarly to the case of the mold cleaning device 10, the pulse laser beam B is emitted from the laser light source 11, and then reciprocated in the X direction and moved in the Y direction by the laser beam moving unit 12. Thereby, the pulsed laser beam B is reflected by the first reflecting mirror 13X and is irradiated on the surface of the lower mold 252. Here, since the reflecting surface of the first reflecting mirror 13X is inclined by 45 ° with respect to the XZ plane, the pulse laser beam B is vertically incident on the upper surface of the lower mold 252. However, in this case, it is difficult to irradiate the pulse laser beam B to a surface perpendicular to the upper surface in the lower mold 252, for example, a side surface facing the cavity C. Therefore, after the above operation is completed, the angle of the reflecting surface of the first reflecting mirror 13X is changed from 45 ° to another size, and the side surface of the lower mold 252 parallel to the X direction is irradiated with the pulse laser beam B. can do.

続いて、第1反射鏡13Xの反射面を上向き且つXZ平面に対して45°だけ傾斜させたうえでパルスレーザビームBをレーザビーム移動部12によりX方向に往復移動、及びY方向に移動させることにより、パルスレーザビームBを上型251の表面に照射させる。このときにも、第1反射鏡13Xの反射面の角度を45°として操作を行った後に該角度を45°以外の大きさに変更することにより、上型251のX方向に平行な側面にパルスレーザビームBを照射することができる。   Subsequently, the pulse laser beam B is reciprocated in the X direction and moved in the Y direction by the laser beam moving unit 12 after the reflecting surface of the first reflecting mirror 13X is inclined upward by 45 ° with respect to the XZ plane. Thereby, the surface of the upper mold 251 is irradiated with the pulse laser beam B. Also at this time, after the operation is performed with the angle of the reflecting surface of the first reflecting mirror 13X set to 45 °, the angle is changed to a size other than 45 °, so that the side surface of the upper die 251 parallel to the X direction can be formed. Irradiation with the pulse laser beam B can be performed.

但し、ここまでの動作によっても、下型252及び上型の251中のY方向に平行な側面にはパルスレーザビームBを照射することはできない。そこで、光路切替鏡移動部162は、光路切替鏡161を、レーザビーム移動部12から出射されるパルスレーザビームBの光路内に移動させる。そして、第2反射鏡13Yの反射面を下向きであってXZ平面と成す角度を45°以外の大きさとし、パルスレーザビームBを、レーザ光源11から出射したうえでレーザビーム移動部12によりX方向に往復移動、及びY方向に移動させることにより、下型252のY方向に平行な側面にパルスレーザビームBを照射することができる。さらに、電動ビーム径可変レンズを搭載した場合は、内蔵するレンズを電動で動かすことにより、前記第2反射鏡13Yの角度に合わせてスポットサイズを調整することができる。ここで述べた各操作は、上型251に対しても行うことができる。   However, even with the above operations, the side surface parallel to the Y direction in the lower mold 252 and the upper mold 251 cannot be irradiated with the pulse laser beam B. Therefore, the optical path switching mirror moving unit 162 moves the optical path switching mirror 161 into the optical path of the pulse laser beam B emitted from the laser beam moving unit 12. Then, the reflection surface of the second reflecting mirror 13Y is directed downward and the angle formed with the XZ plane is set to a value other than 45 °. The pulse laser beam B is emitted from the laser light source 11, and the laser beam moving unit 12 controls the X-direction. The pulse laser beam B can be applied to the side surface of the lower mold 252 parallel to the Y direction by reciprocating the laser beam and moving the same in the Y direction. Further, when an electric beam diameter variable lens is mounted, the spot size can be adjusted according to the angle of the second reflecting mirror 13Y by electrically moving the built-in lens. Each operation described here can also be performed on the upper mold 251.

以上のように、成形型クリーニング装置10Aによれば、下型252及び上型の251中のX方向及びY方向に平行な側面にもパルスレーザビームBを照射することができ、より確実に下型252及び上型の251をクリーニングすることができる。   As described above, according to the mold cleaning device 10A, the side surfaces parallel to the X direction and the Y direction in the lower mold 252 and the upper mold 251 can be irradiated with the pulsed laser beam B, so that the lower mold 252 and the upper mold 251 can be more reliably lowered. The mold 252 and the upper mold 251 can be cleaned.

図19に、本発明に係る成形型クリーニング装置のさらに別の実施形態である成形型クリーニング装置10Bを示す。この実施形態の成形型クリーニング装置10Bは、上記成形型クリーニング装置10と同様のレーザ光源11と、レーザビーム移動部12と、XYステージ14と、XYステージドライバ15とを有する。図19では、XYステージ14及びXYステージドライバ15は図示を省略する。また、成形型クリーニング装置10Bは、上記成形型クリーニング装置10における反射鏡13の代わりに、第1反射鏡13A及び第2反射鏡13Bを有する。さらに、成形型クリーニング装置10Bは、鏡切替部(鏡切替機構)16Aを備える   FIG. 19 shows a mold cleaning device 10B which is still another embodiment of the mold cleaning device according to the present invention. The mold cleaning device 10B of this embodiment has a laser light source 11, a laser beam moving unit 12, an XY stage 14, and an XY stage driver 15 similar to the mold cleaning device 10 described above. In FIG. 19, the XY stage 14 and the XY stage driver 15 are not shown. Further, the molding die cleaning device 10B has a first reflecting mirror 13A and a second reflecting mirror 13B instead of the reflecting mirror 13 in the molding die cleaning device 10. Further, the mold cleaning device 10B includes a mirror switching unit (mirror switching mechanism) 16A.

第1反射鏡13Aは、前述のように鏡切替部16AによってZ方向の軸の回りに回動であると共に、XY平面上の回動軸でも回動可能であって、レーザビーム移動部12から出射されるパルスレーザビームBの光路上に配置されている。第2反射鏡13Bは、Y方向に延びる回動軸で回動可能であって、レーザビーム移動部12から出射されるパルスレーザビームBの光路の側方に配置されている。鏡切替部16Aは、第1反射鏡13Aの下側に設けられており、円環状のレールに沿って第1反射鏡13AをZ方向の軸の回りに回動させるように構成されている。   The first reflecting mirror 13A is rotatable around the axis in the Z direction by the mirror switching unit 16A as described above, and is also rotatable about a rotation axis on the XY plane. It is arranged on the optical path of the emitted pulse laser beam B. The second reflecting mirror 13 </ b> B is rotatable about a rotating shaft extending in the Y direction, and is disposed on a side of the optical path of the pulse laser beam B emitted from the laser beam moving unit 12. The mirror switching unit 16A is provided below the first reflecting mirror 13A, and is configured to rotate the first reflecting mirror 13A about an axis in the Z direction along an annular rail.

成形型クリーニング装置10Bの動作を説明する。まず、鏡切替部16Aにより、第1反射鏡13Aの反射面とXY平面の交線がX軸に平行になるように第1反射鏡13Aの向きを設定する(図19(a))。その状態で、前述の成形型クリーニング装置10Aにおける第1反射鏡13Xと同様に、X方向に延びる回動軸で第1反射鏡13Aを回動させ、第1反射鏡13Aの反射面を、下向き且つXZ平面に対して45°だけ傾斜させた状態、下向き且つXZ平面に対して45°以外の角度で傾斜させた状態、上向き且つXZ平面に対して45°だけ傾斜させた状態、上向き且つXZ平面に対して45°以外の角度で傾斜させた状態、という4つの状態でそれぞれ、パルスレーザビームBを第1反射鏡13Aに照射する。これにより、パルスレーザビームBは第1反射鏡13Aで反射され、XZ平面にほぼ平行な側面を含む下型252又は上型251の表面に照射することができる。反射面を下向きにしてパルスレーザビームBを下型252に照射する際には、第1反射鏡13Aで反射されたパルスレーザビームBは、鏡切替部16Aの円環状のレールよりも内側の中空部を通過する。   The operation of the mold cleaning device 10B will be described. First, the direction of the first reflecting mirror 13A is set by the mirror switching unit 16A such that the intersection line between the reflecting surface of the first reflecting mirror 13A and the XY plane is parallel to the X axis (FIG. 19A). In this state, similarly to the first reflecting mirror 13X in the above-described mold cleaning device 10A, the first reflecting mirror 13A is rotated by a rotating shaft extending in the X direction, and the reflecting surface of the first reflecting mirror 13A is directed downward. And inclined at 45 ° to the XZ plane, downward and inclined at an angle other than 45 ° to the XZ plane, upward and inclined at 45 ° to the XZ plane, upward and XZ The pulsed laser beam B is applied to the first reflecting mirror 13A in four states, that is, in a state of being inclined at an angle other than 45 ° with respect to the plane. As a result, the pulsed laser beam B is reflected by the first reflecting mirror 13A, and can be applied to the surface of the lower mold 252 or the upper mold 251 including the side surface substantially parallel to the XZ plane. When irradiating the lower mold 252 with the pulse laser beam B with the reflecting surface facing downward, the pulse laser beam B reflected by the first reflecting mirror 13A is hollow inside the annular rail of the mirror switching unit 16A. Through the department.

次に、反射面がXY面に垂直になるように第1反射鏡13Aを直立させ、該反射面をXZ平面に対して45°の方向に向けるように、鏡切替部16Aが第1反射鏡13AをZ軸の周りに回動させる(図19(b))。この状態で、第1反射鏡13Aに照射されるパルスレーザビームBは、第1反射鏡13Aで反射されて第2反射鏡13Bに入射する。そして、第2反射鏡13Bの反射面を下向きであってXZ平面と成す角度を45°以外の大きさとし、パルスレーザビームBを、レーザ光源11から出射したうえでレーザビーム移動部12によりX方向に往復移動、及びY方向に移動させることにより、下型252のY方向に平行な側面にパルスレーザビームBを照射することができる。さらに、レンズ122として電動ビーム径可変レンズを搭載した場合は、内蔵するレンズを電動で移動させることにより、第1反射鏡13Aで反射した時と同じスポットサイズとなるように、第2反射鏡13Bで反射した場合の光路及び前記第2反射鏡13Bの角度に合わせてスポットサイズを調整することができる。ここで述べた各操作は、上型251に対しても行うことができる。   Next, the first reflecting mirror 13A is erected so that the reflecting surface is perpendicular to the XY plane, and the mirror switching unit 16A is operated by the first reflecting mirror so that the reflecting surface is oriented at 45 ° with respect to the XZ plane. 13A is rotated around the Z axis (FIG. 19B). In this state, the pulsed laser beam B applied to the first reflecting mirror 13A is reflected by the first reflecting mirror 13A and enters the second reflecting mirror 13B. The reflection surface of the second reflecting mirror 13B is directed downward, and the angle formed with the XZ plane is set to a value other than 45 °. The pulse laser beam B is emitted from the laser light source 11, and the laser beam moving unit 12 transmits the pulse laser beam B in the X direction. The pulse laser beam B can be applied to the side surface of the lower mold 252 parallel to the Y direction by reciprocating the laser beam and moving the same in the Y direction. Further, when an electric beam diameter variable lens is mounted as the lens 122, the built-in lens is moved electrically so that the second reflecting mirror 13B has the same spot size as that reflected by the first reflecting mirror 13A. The spot size can be adjusted in accordance with the optical path when the light is reflected by the light source and the angle of the second reflecting mirror 13B. Each operation described here can also be performed on the upper mold 251.

以上のように、成形型クリーニング装置10Bも成形型クリーニング装置10Aと同様に、下型252及び上型の251中のXZ平面及びXZ平面にほぼ平行な側面にもパルスレーザビームBを照射することができ、より確実に下型252及び上型の251をクリーニングすることができる。   As described above, similarly to the molding die cleaning device 10A, the molding die cleaning device 10B also irradiates the pulse laser beam B to the XZ plane and the side surface substantially parallel to the XZ plane in the lower die 252 and the upper die 251. Thus, the lower mold 252 and the upper mold 251 can be more reliably cleaned.

図20に、複数組の樹脂成形部20と、1組の成形型クリーニング装置10を備える樹脂成形ユニット30の構成を示す。この樹脂成形ユニット30は、1台の材料受入モジュール31、複数台の成形モジュール32、1台の払出モジュール33、及び1台の成形型クリーニング装置待機モジュール34を有する。材料受入モジュール31は、タブレット状の樹脂材料P、及びリードフレームLを外部から受け入れて成形モジュール32に送出するための装置であって、リードフレーム受入部311及びタブレット供給部312を有する。1台の成形モジュール32は、上記実施形態の樹脂成形装置1のうち樹脂成形部20を1台有する。図20には成形モジュール32が3台示されているが、樹脂成形ユニット30には成形モジュール32を任意の台数設けることができる。また、樹脂成形ユニット30を組み上げて使用を開始した後であっても、成形モジュール32を増減することができる。払出モジュール33は、成形モジュール32で製造された樹脂成形品を成形モジュール32から搬入して保持しておくものであって、樹脂成形品保持部331を有する。成形型クリーニング装置待機モジュール34は、成形型クリーニング装置10を使用しないときにそれを収容するものである。   FIG. 20 shows a configuration of a resin molding unit 30 including a plurality of sets of the resin molding units 20 and one set of the mold cleaning device 10. The resin molding unit 30 has one material receiving module 31, a plurality of molding modules 32, one dispensing module 33, and one molding die cleaning device standby module. The material receiving module 31 is a device for receiving the tablet-shaped resin material P and the lead frame L from the outside and sending them to the molding module 32, and has a lead frame receiving section 311 and a tablet supply section 312. One molding module 32 has one resin molding unit 20 in the resin molding apparatus 1 of the above embodiment. Although three molding modules 32 are shown in FIG. 20, any number of molding modules 32 can be provided in the resin molding unit 30. Further, even after the resin molding unit 30 has been assembled and used, the number of molding modules 32 can be increased or decreased. The dispensing module 33 carries in and holds the resin molded product manufactured by the molding module 32 from the molding module 32, and has a resin molded product holding portion 331. The mold cleaning device standby module 34 accommodates the mold cleaning device 10 when not in use.

搬送装置35は、樹脂成形ユニット30内に設けられた搬送レールに沿って、材料受入モジュール31から成形モジュール32に基板や樹脂材料を搬入すると共に、成形された樹脂成形品を成形モジュール32から払出モジュール33に搬出する装置である。また、搬送装置35は、或る成形モジュール32において成形型のクリーニングを行うときに、該成形モジュール32に成形型クリーニング装置10を搬入する(図21)と共に、該成形型のクリーニングが完了した後に成形型クリーニング装置10を該成形モジュール32から搬出する機能も有する。   The transfer device 35 carries the substrate and the resin material from the material receiving module 31 to the forming module 32 along the transfer rail provided in the resin forming unit 30 and discharges the formed resin molded product from the forming module 32. It is a device that is carried out to the module 33. In addition, when cleaning the molding die in a certain molding module 32, the transport device 35 carries the molding die cleaning device 10 into the molding module 32 (FIG. 21), and after the cleaning of the molding die is completed. It also has a function to carry out the mold cleaning device 10 from the molding module 32.

この樹脂成形ユニット30は、複数の成形モジュール32で並行して樹脂成形品を製造することができるため、樹脂成形品を大量生産するのに適している。その際、成形型に基板を取り付けてから樹脂成形品を作製したうえで搬出するまでの間には相応の時間を要することから、或る成形モジュール32で樹脂成形を製造している時間に、他の成形モジュール32に成形対象物を取り付けたり、他の成形型から樹脂成形品を搬出することにより、樹脂成形品の製造効率を高くことができると共に、搬送装置に要するコストを抑えることができる。さらに、成形型クリーニング装置10を複数台の成形モジュール32で共用することも可能である。   The resin molding unit 30 is suitable for mass-producing resin molded products because a plurality of molding modules 32 can produce resin molded products in parallel. At that time, a certain amount of time is required from mounting the substrate on the molding die to producing the resin molded article and then carrying out the molded article, so that a certain molding module 32 produces the resin molded article. By attaching the molding object to another molding module 32 or carrying out the resin molded product from another molding die, the production efficiency of the resin molded product can be increased, and the cost required for the transfer device can be suppressed. . Further, the molding die cleaning device 10 can be shared by a plurality of molding modules 32.

上記樹脂成形ユニット30では、他のモジュールと同じ列に並べて配置した成形型クリーニング装置待機モジュール34を用いているが、その代わりに、図22に示す樹脂成形ユニット30Aのように、他のモジュールが並ぶ列に沿って延びる成形型クリーニング装置収容・移動モジュール34Aを用いてもよい。樹脂成形ユニット30A中の材料受入モジュール31、成形モジュール32、及び払出モジュール33の構成は樹脂成形ユニット30の場合と同様である。成形型クリーニング装置収容・移動モジュール34Aは、成形型クリーニング装置10を収容すると共に、他のモジュールが並ぶ列の方向に成形型クリーニング装置10を移動させる成形型クリーニング装置移動部35Aを内部に有する。各成形モジュール32の樹脂成形部20から見ると、成形型クリーニング装置収容・移動モジュール34A及びその内部の成形型クリーニング装置移動部35Aは、搬送装置35の反対側に設けられている。樹脂成形ユニット30Aの動作は、成形型クリーニング装置10を成形モジュール32に搬入及び成形モジュール32から搬出する際に成形型クリーニング装置移動部35Aを用いる点を除いて、樹脂成形ユニット30と同様である。   In the resin molding unit 30, the molding die cleaning device standby module 34 arranged in the same row as the other modules is used. However, instead of the resin molding unit 30A shown in FIG. A mold cleaning device housing and moving module 34A extending along the line may be used. The configurations of the material receiving module 31, the molding module 32, and the dispensing module 33 in the resin molding unit 30A are the same as those of the resin molding unit 30. The mold cleaning device housing / moving module 34A has therein a mold cleaning device moving unit 35A that houses the mold cleaning device 10 and moves the mold cleaning device 10 in the direction in which other modules are arranged. As viewed from the resin molding unit 20 of each molding module 32, the molding die cleaning device housing / moving module 34A and the molding die cleaning device moving unit 35A therein are provided on the opposite side of the transport device 35. The operation of the resin molding unit 30A is the same as that of the resin molding unit 30 except that the molding die cleaning device moving unit 35A is used when the molding die cleaning device 10 is carried into and out of the molding module 32. .

本発明は上記の各実施形態には限定されず、本発明の主旨の範囲内でさらなる種々の変形が可能である。   The present invention is not limited to the above embodiments, and various other modifications are possible within the scope of the present invention.

例えば、上記実施形態では、1パルスあたりのレーザフルエンスが0.04〜0.7J/cm2、1秒あたりの走査レーザパワー密度を2〜15W/cm2の範囲内、パルス幅が1〜200nsec、パルス繰り返し周波数が300kHz〜10MHzの各範囲内にあるパルスレーザビームを用いるが、それらの値は上記の範囲内には限定されない。また、パルスレーザビームの代わりに、連続発振するレーザのビームを用いてもよい。さらに、上記実施形態では、ビームに垂直な断面での形状が正方形となるように成形され、トップハット型の照射強度分布を有する(パルス)レーザビームを用いるが、該断面で円形、円環(リング形、凹形)状等の他の形状を有するレーザビームや、ガウス型等の他の照射強度分布を有するレーザビームを用いてもよい。図23に、断面が円形であるレーザビームのスポット(a)及び該スポットが移動してゆく様子(b)、並びに断面が円環状であるレーザビームのスポット(c)及び該スポットが移動してゆく様子(d)を示す。 For example, in the above embodiment, the laser fluence per pulse is 0.04 to 0.7 J / cm 2 , the scanning laser power density per second is 2 to 15 W / cm 2 , the pulse width is 1 to 200 nsec, and the pulse repetition is Pulsed laser beams having a frequency in the range of 300 kHz to 10 MHz are used, but their values are not limited to the above ranges. Further, a continuous oscillation laser beam may be used instead of the pulse laser beam. Further, in the above embodiment, a (pulse) laser beam which is shaped so that the cross section perpendicular to the beam becomes a square and has a top hat type irradiation intensity distribution is used. A laser beam having another shape such as a ring shape or a concave shape or a laser beam having another irradiation intensity distribution such as a Gaussian shape may be used. In FIG. 23, the spot (a) of the laser beam having a circular cross section and the manner in which the spot moves (b), and the spot (c) of the laser beam having a circular cross section and the spot moving The situation (d) is shown.

上記実施形態では、重なり率が85%以上となるようにパルスレーザビームを移動させるが、パルスレーザビームの移動速度はそれには限定されず、連続発振するレーザのビームを用いる場合には移動速度を適宜設定すればよい。また、上記実施形態では、上型251又は下型252の表面でスポットがジグザグに移動するように(パルス)レーザビームを移動させるが、スポットの移動経路はこれには限定されない。例えば、X方向に片道移動をした後に、レーザビームを停止し、X方向には最初の位置に戻りながらY方向にスポットの1個分だけ移動し、さらにX方向に片道移動するという動作を繰り返してもよい。   In the above embodiment, the pulse laser beam is moved so that the overlap ratio becomes 85% or more. However, the moving speed of the pulse laser beam is not limited thereto, and the moving speed is reduced when a continuously oscillating laser beam is used. What is necessary is just to set suitably. In the above embodiment, the (pulse) laser beam is moved so that the spot moves zigzag on the surface of the upper mold 251 or the lower mold 252, but the movement path of the spot is not limited to this. For example, after the laser beam is moved one way in the X direction, the laser beam is stopped, the laser beam returns to the initial position in the X direction, moves by one spot in the Y direction, and further moves one way in the X direction. You may.

上記実施形態では、ガルバノスキャンヘッド121を用いてパルスレーザビームBをX方向に往復移動させると共にZ方向(上型251又は下型252の表面ではスポットをY方向)させるが、その代わりに、ガルバノスキャンヘッド121ではX方向の往復移動のみを行い、反射鏡13をY方向に移動させることによって上型251又は下型252の表面でスポットをY方向させるようにしてもよい。   In the above embodiment, the pulse laser beam B is reciprocated in the X direction using the galvano scan head 121 and is moved in the Z direction (the spot is in the Y direction on the surface of the upper mold 251 or the lower mold 252). The scan head 121 may perform only the reciprocating movement in the X direction, and move the reflecting mirror 13 in the Y direction to move the spot on the surface of the upper mold 251 or the lower mold 252 in the Y direction.

10、10A、10B…成形型クリーニング装置
11…レーザ光源
112…台
12…レーザビーム移動部(レーザビーム移動機構)
121…ガルバノスキャンヘッド
122…レンズ
13、13W…反射鏡
13A、13X…第1反射鏡
13B、13Y…第2反射鏡
131L…第1把持具
131R…第2把持具
132L…第1回動軸体
132R…第2回動軸体
1321L、1321R…溝
133L…軸受
133R…回動軸体可動保持具
134L…軸受保持部
134R…外側保持具
135L…第1固定具
135R…第2固定具
136…モータ
137L…軸受固定具
14…XYステージ
141…連結棒
142…ガイド棒
15…XYステージドライバ
16、16A…鏡切替部(鏡切替機構)
161…光路切替鏡
162…光路切替鏡移動部
17…遮蔽部
18…X方向移動機構
181…X方向レール
182…X方向ベルト
183…ベルト取り付け部材
184…X方向モータ
185…X方向プーリ
186…モータブロック
187…プーリブロック
188…Y方向レール
20…樹脂成形部
211…基盤
212…タイバー
213…トグルリンク
221…可動プラテン
222…固定プラテン
25…成形型
251…上型
2511…カルブロック
2513…ランナ
252…下型
2521…ポット
2522…プランジャ
2523…ランナ
253…ヒータプレート
2531…ヒータ
30…樹脂成形ユニット
31…材料受入モジュール
311…リードフレーム受入部
312…タブレット供給部
32…成形モジュール
33…払出モジュール
331…樹脂成形品保持部
34…成形型クリーニング装置待機モジュール
34A…成形型クリーニング装置収容・移動モジュール
35…搬送装置
35A…成形型クリーニング装置移動部
A…付着物
AG…気化した付着物
B…パルスレーザビーム
BS…パルスレーザビームのスポット
C…キャビティ
CT…コーティング
L…リードフレーム
P…樹脂材料
PL…プラズマ
10, 10A, 10B ... Mold cleaning device 11 ... Laser light source 112 ... Table 12 ... Laser beam moving unit (laser beam moving mechanism)
121 Galvano scan head 122 Lenses 13 and 13W Reflecting mirrors 13A and 13X First reflecting mirrors 13B and 13Y Second reflecting mirror 131L First gripper 131R Second gripper 132L First rotating shaft 132R... Second rotating shaft 1321L, 1321R... Groove 133L... Bearing 133R... Rotating shaft movable holder 134L... Bearing holding portion 134R... Outer holding member 135L. 137L ... bearing fixture 14 ... XY stage 141 ... connecting rod 142 ... guide rod 15 ... XY stage driver 16, 16A ... mirror switching unit (mirror switching mechanism)
161, optical path switching mirror 162, optical path switching mirror moving section 17, shielding section 18, X direction moving mechanism 181, X direction rail 182, X direction belt 183, belt mounting member 184, X direction motor 185, X direction pulley 186, motor Block 187 Pulley block 188 Y-direction rail 20 Resin molding section 211 Base 212 Tie bar 213 Toggle link 221 Movable platen 222 Fixed platen 25 Mold 251 Upper mold 2511 Cul block 2513 Runner 252 Lower mold 2521 Pot 2522 Plunger 2523 Runner 253 Heater plate 2531 Heater 30 Resin molding unit 31 Material receiving module 311 Lead frame receiving unit 312 Tablet supply unit 32 Molding module 33 Dispensing module 331 Resin Molding Holding unit 34: Mold cleaning device standby module 34A: Mold cleaning device housing / moving module 35 ... Transport device 35A: Mold cleaning device moving unit A: Deposits AG: Vaporized deposits B: Pulsed laser beam BS: Pulse Laser beam spot C Cavity CT Coating L Lead frame P Resin material PL Plasma

Claims (15)

成形型を構成する第1型及び該第1型に対向する第2型の少なくともいずれか一方の表面に付着した付着物を除去する装置であって、
a) 前記第1型と前記第2型の間の空間の外に設けられた、前記レーザビームを出射するレーザ光源と、
b) 反射鏡と、該反射鏡を前記空間の中の第1位置と前記空間の外の第2位置との間で移動させる反射鏡移動機構とを有し、該反射鏡が該第1位置にあるときに該反射鏡で反射されるレーザビームが前記第1型又は前記第2型の表面に照射されるように該反射鏡の向きが設定されているレーザビーム反射機構と、
c) 前記空間の外に設けられた、前記レーザビームを前記第1位置にあるときの前記反射鏡に対して移動させるレーザビーム移動機構と
を備えることを特徴とする成形型クリーニング装置。
An apparatus for removing deposits attached to at least one surface of a first mold and a second mold opposed to the first mold that constitute a molding die,
a) a laser light source that is provided outside a space between the first mold and the second mold and emits the laser beam;
b) a reflecting mirror, and a reflecting mirror moving mechanism for moving the reflecting mirror between a first position in the space and a second position outside the space, wherein the reflecting mirror is in the first position. A laser beam reflecting mechanism in which the direction of the reflecting mirror is set so that the laser beam reflected by the reflecting mirror is applied to the surface of the first type or the second type when the mirror is located at
and c) a laser beam moving mechanism provided outside the space for moving the laser beam with respect to the reflecting mirror when the laser beam is at the first position.
前記レーザビーム移動機構がガルバノスキャンヘッドであることを特徴とする請求項1に記載の成形型クリーニング装置。   The mold cleaning apparatus according to claim 1, wherein the laser beam moving mechanism is a galvano scan head. 前記レーザビーム反射機構が、前記反射鏡の向きを変更する反射方向変更機構をさらに有することを特徴とする請求項1又は2に記載の成形型クリーニング装置。   The mold cleaning apparatus according to claim 1, wherein the laser beam reflecting mechanism further includes a reflecting direction changing mechanism that changes a direction of the reflecting mirror. 前記反射鏡が、互いに向きが異なる第1反射鏡と第2反射鏡を含み、前記レーザビーム反射機構がさらに、前記レーザビームが照射される鏡を切り替える鏡切替機構を備えることを特徴とする請求項1又は2に記載の成形型クリーニング装置。   The reflection mirror includes a first reflection mirror and a second reflection mirror having different directions, and the laser beam reflection mechanism further includes a mirror switching mechanism for switching a mirror to be irradiated with the laser beam. Item 3. The mold cleaning device according to Item 1 or 2. さらに、
前記反射鏡の両側部に一対接続された第1回動軸体及び第2回動軸体と、
前記第1回動軸体及び前記第2回動軸体の少なくとも一方を軸方向に可動に保持する回動軸体保持具と
を備えることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の成形型クリーニング装置。
further,
A first rotating shaft and a second rotating shaft connected in a pair to both sides of the reflecting mirror;
The rotating shaft holder for holding at least one of the first rotating shaft and the second rotating shaft movably in the axial direction is provided. Mold cleaning device.
表面の少なくとも一部にコーティングが施された前記成形型に付着した付着物を除去する装置であって、
前記レーザ光源及び前記レーザビーム移動機構が、前記付着物上にプラズマを生成したうえで前記付着物が気化する温度以上の温度に該プラズマを加熱可能な照射強度であって、且つ前記コーティングに損傷を与える照射強度よりも低い照射強度で、レーザビームを前記成形型に照射するものであることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の成形型クリーニング装置。
An apparatus for removing deposits attached to the mold having at least a part of its surface coated,
The laser light source and the laser beam moving mechanism generate plasma on the deposit, and have an irradiation intensity capable of heating the plasma to a temperature equal to or higher than a temperature at which the deposit vaporizes, and damage the coating. The molding die cleaning apparatus according to any one of claims 1 to 5, wherein the molding die is irradiated with a laser beam at an irradiation intensity lower than the irradiation intensity that gives the laser beam.
前記レーザビーム移動機構が、
前記レーザビームを前記成形型に対して第1方向に往復移動させると共に、
前記レーザビームを該第1方向に片道移動させる毎に、該レーザビームを該第1方向に垂直な第2方向に、該レーザビームが前記成形型に照射されたスポットの1個分だけ移動させる
ものであって、
さらに、前記レーザビーム移動機構と前記成形型の間に、前記第1方向における往復移動の両端の前記スポットの1個分の部分を遮蔽する遮蔽部を備える
ことを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の成形型クリーニング装置。
The laser beam moving mechanism,
Reciprocating the laser beam in a first direction with respect to the mold,
Each time the laser beam is moved one way in the first direction, the laser beam is moved in the second direction perpendicular to the first direction by one spot of the laser beam irradiated on the mold. Thing,
7. The image forming apparatus according to claim 1, further comprising a shielding portion between the laser beam moving mechanism and the molding die, the shielding portion shielding one portion of the spot at both ends of the reciprocating movement in the first direction. The mold cleaning device according to any one of the above.
成形型を構成する第1型及び該第1型に対向する第2型の少なくともいずれか一方の表面に付着した付着物を除去する方法であって、
前記第1型と前記第2型の間の空間の中に反射鏡を配置し、
前記空間の外に設けられたレーザ光源からレーザビームを出射しつつ、前記空間の外に設けられたレーザビーム移動機構により該レーザビームを前記反射鏡に対して移動させながら、該レーザビームを前記反射鏡に照射し、
前記反射鏡で反射された前記レーザビームを前記第1型又は前記第2型に照射する
ことを特徴とする成形型クリーニング方法。
A method for removing deposits attached to a surface of at least one of a first mold and a second mold opposed to the first mold constituting a molding die,
Disposing a reflecting mirror in a space between the first type and the second type;
While emitting a laser beam from a laser light source provided outside the space, while moving the laser beam with respect to the reflecting mirror by a laser beam moving mechanism provided outside the space, the laser beam Irradiate the reflector,
A method of cleaning a molding die, comprising irradiating the first die or the second die with the laser beam reflected by the reflecting mirror.
前記レーザビーム移動機構がガルバノスキャンヘッドであることを特徴とする請求項8に記載の成形型クリーニング方法。   The method according to claim 8, wherein the laser beam moving mechanism is a galvano scan head. 前記反射鏡の向きを変更することを特徴とする請求項8又は9に記載の成形型クリーニング方法。   The method according to claim 8, wherein the direction of the reflecting mirror is changed. 前記反射鏡が、互いに向きが異なる第1反射鏡と第2反射鏡を含み、該レーザビームが照射される鏡を切り替えることを特徴とする請求項8又は9に記載の成形型クリーニング方法。   10. The molding die cleaning method according to claim 8, wherein the reflecting mirror includes a first reflecting mirror and a second reflecting mirror having different directions, and switches a mirror to be irradiated with the laser beam. 前記反射鏡の両側部に一対接続された第1回動軸体及び第2回動軸体と、前記第1回動軸体及び前記第2回動軸体の少なくとも一方を軸方向に可動に保持する回動軸体保持具とを用いることを特徴とする請求項8〜11のいずれかに記載の成形型クリーニング方法。   A first rotating shaft and a second rotating shaft connected to both sides of the reflector in a pair, and at least one of the first rotating shaft and the second rotating shaft being movable in an axial direction; The mold cleaning method according to any one of claims 8 to 11, wherein a holding tool for holding the rotating shaft is used. 表面の少なくとも一部にコーティングが施された前記成形型に付着した付着物を除去する方法であって、
前記付着物上にプラズマを生成したうえで前記付着物が気化する温度以上の温度に該プラズマを加熱可能な照射強度であって、且つ前記コーティングに損傷を与える照射強度よりも低い照射強度で、前記レーザビームを前記成形型に照射することを特徴とする請求項8〜12のいずれかに記載の成形型クリーニング方法。
A method for removing deposits attached to the mold having at least a portion of the surface coated,
An irradiation intensity capable of heating the plasma to a temperature equal to or higher than a temperature at which the attached matter is vaporized after generating plasma on the attached matter, and an irradiation intensity lower than the irradiation intensity that damages the coating, The mold cleaning method according to claim 8, wherein the laser beam is applied to the mold.
前記成形型と、請求項1〜7のいずれかに記載の成形型クリーニング装置とを備えることを特徴とする樹脂成形装置。   A resin molding apparatus comprising the molding die and the molding die cleaning device according to claim 1. 請求項8〜13のいずれかに記載の成形型クリーニング方法を実施した後、前記成形型を用いて樹脂成形品を製造することを特徴とする樹脂成形品製造方法。   A method for producing a resin molded product, comprising: performing a molding die cleaning method according to any one of claims 8 to 13, and then producing a resin molded product using the molding die.
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