JP2020098043A - Environment cleaning method and environment cleaning structure - Google Patents

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睦 近下
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Abstract

To provide an environment cleaning method which enables easy formation of an environment cleaning structure at low costs and further improvement of cleanliness of a clean space CS in the environment cleaning structure, and to provide the environment cleaning structure.SOLUTION: An environment cleaning method for cleaning an environment in a clean space includes: forming a frame structure on a floor surface; attaching a foreign object prevention cover to the frame structure from the inner side to define a clean space serving as a closed space in the frame structure; supplying clean air to an upper part in the clean space; and discharging air from a lower part in the clean space.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、プリント配線板の製造等の際の使用に適した環境清浄化方法および環境清浄化構体に関する。 The present invention relates to an environmental cleaning method and an environmental cleaning structure suitable for use in manufacturing a printed wiring board or the like.

近年のプリント配線板は、電子機器の小型化および部品の高密度実装化に伴って回路パターンのファインピッチ化が進んでおり、このようなファインピッチパターンの回路層を持つプリント配線板を製造する際には、異物の混入を防止して良品の歩留まりを高めるために製造装置の周囲の環境の清浄化が重要となる。 In recent years, printed wiring boards have been made finer in circuit pattern along with miniaturization of electronic devices and high-density mounting of components. A printed wiring board having a circuit layer having such a fine pitch pattern is manufactured. At this time, it is important to clean the environment around the manufacturing apparatus in order to prevent foreign matter from entering and increase the yield of non-defective products.

特許文献１は、半導体製造工場で用いられるクリーンルーム装置を開示しており、このクリーンルーム装置は半導体製造工場を、主製造エリアと、その主製造エリアの上方のプレナムチャンバと、その主製造エリアの下方の床下空間とに区画して、プレナムチャンバのフィルタ付きファンユニットで清浄化された空気をそれらの区画の間で循環させるようにしている。 Patent Document 1 discloses a clean room device used in a semiconductor manufacturing factory. This clean room device is a semiconductor manufacturing factory, and includes a main manufacturing area, a plenum chamber above the main manufacturing area, and a lower part of the main manufacturing area. And the air cleaned by the filter fan unit of the plenum chamber is circulated between the compartments.

特許文献２は、一般家庭で用いられるアレルギー患者用のクリーンブースを開示しており、このクリーンブースは、軽量パイプを組み合わせてベッドを収容する直方体状のフレーム構体を形成し、そのフレーム構体で支持した帯電防止シートでベッド周辺を囲んでクリーン域を画成し、ファンから送風される空気をフィルタ装置に通してクリーンエアとしてクリーン域の上端の吹出し部からクリーン域内に吹き込み、そのクリーンエアを、ベッドに横になるアレルギー患者の頭部側から足元側へ向けて流して、その足元付近の流出口からクリーン域外へ流出させるようにしている。 Patent Document 2 discloses a clean booth used in general households for allergic patients, and this clean booth forms a rectangular parallelepiped frame structure for accommodating a bed by combining lightweight pipes and is supported by the frame structure. The antistatic sheet surrounds the bed area to define a clean area, and the air blown from the fan is passed through the filter device as clean air and blown into the clean area from the blowout part at the upper end of the clean area. The head of the allergy patient who lies on the bed is flown from the head side toward the foot side, and is made to flow out of the clean area from the outlet near the foot side.

特開２００１−２２７７８８号公報JP, 2001-227788, A 特開平０５−２３１６８４号公報Japanese Patent Laid-Open No. 05-231684

しかしながら特許文献１記載の技術は、半導体製造工場を高さ方向に３つのエリアに区画するものであるため、複雑かつ大規模でコストが嵩むものとなる。一方、特許文献２記載の技術は、簡易で低コストに環境を清浄化できるものの、プリント配線板等の製造の際に使用すると、製造装置の周囲の環境の清浄度の点で以下の如き問題がある。 However, since the technique described in Patent Document 1 divides the semiconductor manufacturing plant into three areas in the height direction, it is complicated, large-scale, and costly. On the other hand, the technique described in Patent Document 2 can clean the environment easily and at low cost, but if it is used for manufacturing a printed wiring board or the like, the following problems arise in terms of cleanliness of the environment around the manufacturing apparatus. There is.

図２は、特許文献２記載の環境清浄化構体を例えばプリント配線板等の製造装置への使用に適用する場合を例示している。この環境清浄化構体は、床面Ｆの、製造装置ＰＤを設置した例えば矩形の作業領域の四隅に支柱１を配置し、それらの支柱１で天板２を支持し、隣り合う支柱１同士を軽量パイプからなる連結材３で連結して角筒状の壁フレーム４を形成することでフレーム構体を構成し、その壁フレーム４に例えば帯電防止フィルム製の異物防止カバー５を外側から張って、製造装置ＰＤを収容する直方体状のクリーン空間ＣＳを画成し、天板２上に例えばフィルタ付きのファン６を設け、そのファン６から天板２の開口部２ａを通してそのクリーン空間ＣＳ内にクリーンエアを下向きに吹き込むとともに、そのクリーン空間ＣＳ内の空気を異物防止カバー５の下端と床面Ｆとの隙間の排気口７からクリーン空間ＣＳ外に排出することで、クリーン空間ＣＳ内の製造装置ＰＤの周囲に破線矢印で示すように製造装置ＰＤの周囲を清浄化するクリーンエアのダウンフローを形成する。 FIG. 2 exemplifies a case in which the environment cleaning structure described in Patent Document 2 is applied to use in a manufacturing apparatus such as a printed wiring board. In this environment cleaning structure, columns 1 are arranged at four corners of a work area, for example, a rectangle, on the floor F where the manufacturing apparatus PD is installed, and the columns 1 support the top plate 2 so that adjacent columns 1 are connected to each other. A frame structure is constructed by forming a rectangular tubular wall frame 4 by connecting with a connecting material 3 made of a light pipe, and a foreign matter prevention cover 5 made of, for example, an antistatic film is stretched from the outside on the wall frame 4. A rectangular parallelepiped clean space CS for accommodating the manufacturing apparatus PD is defined, and a fan 6 with a filter, for example, is provided on the top plate 2, and the fan 6 cleans the clean space CS through the opening 2a of the top plate 2. The air is blown downward, and the air in the clean space CS is discharged to the outside of the clean space CS from the exhaust port 7 in the gap between the lower end of the foreign matter prevention cover 5 and the floor surface F. A downflow of clean air for cleaning the periphery of the manufacturing apparatus PD is formed around the PD as indicated by a dashed arrow.

しかしながらこのような構成では、壁フレーム４の連結材３等が異物防止カバー５の内側に位置しているため、ダウンフローの気流経路に位置するその連結材３の上向き面上等に、製品やその材料等の出入り口となる異物防止カバー５の図示しない開閉部の開閉の際にその開閉部からクリーン空間ＣＳ内に入り込んだ異物が溜まる異物溜まりができてクリーン空間ＣＳ内の清浄度が低下し、その異物溜まりに溜まった異物がクリーン空間ＣＳ内の気流の変化で浮遊して製造装置ＰＤ内に侵入し、製造したプリント配線板等の良品の歩留まりが低下する可能性がある。 However, in such a configuration, since the connecting member 3 and the like of the wall frame 4 are located inside the foreign matter prevention cover 5, the product and When the open/close part (not shown) of the foreign matter prevention cover 5 that serves as an entrance/exit for the material and the like is opened/closed, a foreign matter pool is formed in which foreign matter that has entered the clean space CS from the open/close portion is accumulated, and the cleanliness in the clean space CS decreases The foreign matter accumulated in the foreign matter reservoir may float due to a change in the air flow in the clean space CS and enter the manufacturing apparatus PD, which may reduce the yield of non-defective products such as manufactured printed wiring boards.

本発明は、環境清浄化構体を簡易かつ低コストに構成できるとともにその環境清浄化構体内のクリーン空間ＣＳの清浄度をさらに向上させることができる環境清浄化方法および環境清浄化構体の提供を目的とする。 An object of the present invention is to provide an environmental cleaning method and an environmental cleaning structure that can configure the environmental cleaning structure easily and at low cost and further improve the cleanliness of the clean space CS in the environmental cleaning structure. And

本発明の環境清浄化方法は、
床面上にフレーム構体を形成することと、
そのフレーム構体に内側から異物防止カバーを張ってそのフレーム構体内に閉鎖空間としてのクリーン空間を画成することと、
そのクリーン空間内の上部にクリーンエアを供給することと、
そのクリーン空間内の下部から空気を排出することと、
を含むものである。 The environmental cleaning method of the present invention is
Forming a frame structure on the floor,
To form a clean space as a closed space in the frame structure by extending a foreign matter prevention cover from the inside to the frame structure,
Supplying clean air to the upper part of the clean space,
Exhausting air from the bottom of the clean space,
Is included.

なお、本発明の環境清浄化方法においては、好ましくは、クリーン空間外の空気を清浄化してクリーンエアを生成し、そのクリーンエアをクリーン空間内に供給することを含む。 The environment cleaning method of the present invention preferably includes cleaning the air outside the clean space to generate clean air, and supplying the clean air into the clean space.

また、本発明の環境清浄化方法においては、好ましくは、異物防止カバーは帯電防止フィルムまたは帯電防止シートからなる。 Further, in the environment cleaning method of the present invention, the foreign matter prevention cover preferably comprises an antistatic film or an antistatic sheet.

本発明の環境清浄化構体は、
床面上に形成されたフレーム構体と、
そのフレーム構体に内側から張られてそのフレーム構体内に閉鎖空間としてのクリーン空間を画成する異物防止カバーと、
そのクリーン空間内の上部にクリーンエアを供給するクリーンエア供給口と、
そのクリーン空間内の下部から空気を排出する排気口と、
を具えている。 The environmental cleaning structure of the present invention is
A frame structure formed on the floor surface,
A foreign matter prevention cover stretched from the inside to the frame structure to define a clean space as a closed space in the frame structure,
A clean air supply port that supplies clean air to the upper part of the clean space,
An exhaust port that discharges air from the bottom of the clean space,
It is equipped with

なお、本発明の環境清浄化構体においては、好ましくは、クリーン空間外の空気を清浄化してクリーンエアを生成し、そのクリーンエアをクリーン空間内に供給するクリーンエア供給装置を具えている。 The environment cleaning structure of the present invention preferably includes a clean air supply device that cleans the air outside the clean space to generate clean air and supplies the clean air into the clean space.

また、本発明の環境清浄化構体においては、好ましくは、異物防止カバーは帯電防止フィルムまたは帯電防止シートからなる。 Further, in the environment cleaning structure of the present invention, the foreign matter prevention cover preferably comprises an antistatic film or an antistatic sheet.

本発明の環境清浄化方法の一実施形態の実施に用いられる、本発明の環境清浄化構体の一実施形態を示す説明図である。It is explanatory drawing which is used for implementation of one Embodiment of the environment cleaning method of this invention, and shows one Embodiment of the environment cleaning structure of this invention. 従来の技術に基づく環境清浄化構体の一例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows an example of the environmental purification structure based on the prior art.

図１は、本発明の環境清浄化方法の一実施形態の実施に用いられる、本発明の環境清浄化構体の一実施形態を示す説明図である。この実施形態の環境清浄化構体を用いて周囲の環境を清浄化する製造装置ＰＤは、例えばプリント配線板の製造の際に基板材をエッチングするために用いられる。 FIG. 1 is an explanatory diagram showing an embodiment of an environment cleaning structure of the present invention used for carrying out an embodiment of the environment cleaning method of the present invention. The manufacturing apparatus PD for cleaning the surrounding environment using the environment cleaning structure of this embodiment is used for etching a substrate material, for example, when manufacturing a printed wiring board.

この実施形態の環境清浄化構体は、図２に示すものと同様、床面Ｆの、製造装置ＰＤを設置した例えば矩形の作業領域の四隅に支柱１を配置し、それらの支柱１で例えばプラスチック製の厚板からなる天板２を支持し、隣り合う支柱１同士を軽量角パイプからなる連結材３で連結して上下方向へ延在する横断面矩形の角筒状の壁フレーム４を形成することで直方体状のフレーム構体を構成する。 In the environment cleaning structure of this embodiment, similarly to that shown in FIG. 2, columns 1 are arranged at four corners of, for example, a rectangular work area on the floor F where the manufacturing apparatus PD is installed, and the columns 1 are made of, for example, plastic. A top plate 2 made of a thick plate made of steel is supported, and adjacent columns 1 are connected by a connecting member 3 made of a light weight square pipe to form a rectangular tubular wall frame 4 having a rectangular horizontal cross section. By doing so, a rectangular parallelepiped frame structure is formed.

しかしながらこの実施形態の環境清浄化構体は、図２に示すものと異なり、その壁フレーム４に内側から異物防止カバー５を張ってその異物防止カバー５の内側に例えば直方体状のクリーン空間ＣＳを画成し、天板２上にクリーンエア供給装置として例えばフィルタ付きのファン６を設け、そのファン６から天板２のクリーンエア供給口としての開口部２ａを通してそのクリーン空間ＣＳ内の上部にクリーンエアを下向きに吹き込むとともに、そのクリーン空間ＣＳ内の空気をクリーン空間ＣＳ内の下部の、異物防止カバー５の下端と床面Ｆとの隙間の排気口７からクリーン空間ＣＳ外に排出する。 However, unlike the structure shown in FIG. 2, the environment cleaning structure of this embodiment is provided with a foreign matter prevention cover 5 on the wall frame 4 from the inside, and a clean space CS of, for example, a rectangular parallelepiped shape is formed inside the foreign matter prevention cover 5. A fan 6 with a filter, for example, is provided on the top plate 2 as a clean air supply device, and a clean air is provided above the clean space CS from the fan 6 through an opening 2a as a clean air supply port of the top plate 2. Is blown downward, and the air in the clean space CS is discharged to the outside of the clean space CS from the exhaust port 7 in the lower portion of the clean space CS between the lower end of the foreign matter prevention cover 5 and the floor surface F.

この実施形態の環境清浄化構体を用いることで、上記実施形態の環境清浄化方法は、クリーン空間ＣＳ内の製造装置ＰＤの周囲に破線矢印で示すようにクリーンエアのダウンフローを形成して製造装置ＰＤの周囲を清浄化するとともに、異物防止カバー５で壁フレーム４を内側から覆い、連結材３の上向き面上等にクリーン空間ＣＳ内に入り込んだ異物が溜まる異物溜まりができるのを防止して、クリーン空間ＣＳ内の清浄度を向上させることができる。 By using the environment cleaning structure of this embodiment, the environment cleaning method of the above embodiment is manufactured by forming a downflow of clean air around the manufacturing apparatus PD in the clean space CS as shown by a dashed arrow. The periphery of the device PD is cleaned, and the foreign matter prevention cover 5 covers the wall frame 4 from the inside to prevent foreign matter from accumulating in the clean space CS on the upward surface of the connecting member 3 and the like. Therefore, the cleanliness in the clean space CS can be improved.

ここで、異物防止カバー５は、例えば帯電防止フィルムあるいは帯電防止シートからなるものでもよく、これらを異物防止カバー５に用いることで、異物防止カバー５への異物微粒子の付着も防止して、クリーン空間ＣＳ内の清浄度をさらに向上させることができる。なお、この明細書では日本工業規格（ＪＩＳ）の包装用語規格に従い、「フィルム」とは厚さが２５０μｍ未満のプラスチックの膜状のものをいい、「シート」とは厚さが２５０μｍ以上のプラスチックの薄板状のものをいう。 Here, the foreign matter prevention cover 5 may be made of, for example, an antistatic film or an antistatic sheet, and by using these for the foreign matter prevention cover 5, foreign matter fine particles are prevented from adhering to the foreign matter prevention cover 5 and are thus cleaned. The cleanliness in the space CS can be further improved. In this specification, in accordance with Japanese Industrial Standards (JIS) packaging terminology, “film” means a film of plastic film having a thickness of less than 250 μm, and “sheet” means a plastic film having a thickness of 250 μm or more. Is a thin plate.

異物防止カバー５は、例えば塩化ビニールあるいはＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）からなるプラスチック製のフィルムやシートでもよく、それらのフィルムやシートを導電性とすることでそれらに帯電防止機能を与えて異物微粒子の付着を防止することができる。また天板２も、導電性プラスチック製の厚板とすることで帯電防止機能を与えて異物微粒子の付着を防止することができる。 The foreign matter prevention cover 5 may be a plastic film or sheet made of, for example, vinyl chloride or PET (polyethylene terephthalate). By making the film or sheet conductive, an antistatic function is given to the film or sheet to attach foreign matter particles. Can be prevented. Further, the top plate 2 is also made of a thick plate made of a conductive plastic so as to provide an antistatic function and prevent foreign particles from adhering.

異物防止カバー５や天板２を形成するプラスチックを導電性にするには、カーボンを含むプラスチック材料や、導電性ポリエーテルイミドを含むプラスチック材料、あるいは導電性フィラーを含むプラスチック材料を用いてもよく、そのプラスチック材料としては、ポリアニリン系、ポリピロール系、ポリアセチレン系、ポリチオフェン系等のものを用いることができる。 To make the plastic forming the foreign matter prevention cover 5 and the top plate 2 conductive, a plastic material containing carbon, a plastic material containing conductive polyetherimide, or a plastic material containing conductive filler may be used. As the plastic material, a polyaniline-based material, a polypyrrole-based material, a polyacetylene-based material, a polythiophene-based material, or the like can be used.

異物防止カバー５や天板２を形成するプラスチックに帯電防止機能を与えるための導電性は、１０の１０乗Ω以下の抵抗値、特には１０の５乗Ω以下の抵抗値であることが望ましい。 The conductivity for giving the antistatic function to the plastic forming the foreign matter prevention cover 5 and the top plate 2 is preferably 10 10 Ω or less, particularly 10 5 Ω or less. ..

ファン６のフィルタは、例えばＨＥＰＡ（Ｈｉｇｈ Ｅｆｆｉｃｉｅｎｃｙ Ｐａｒｔｉｃｕｌａｔｅ Ａｉｒ）フィルタであってもよく、クリーン空間ＣＳ外の空気を製造装置ＰＤの周囲に求められる所定清浄度まで清浄化できるものであれば他の種類のフィルタであってもよい。 The filter of the fan 6 may be, for example, a HEPA (High Efficiency Particulate Air) filter, and other types can be used as long as they can clean the air outside the clean space CS to a predetermined cleanliness required around the manufacturing apparatus PD. May be a filter.

従って、この実施形態の環境清浄化構体およびそれを用いたこの実施形態の環境清浄化方法によれば、環境清浄化構体を簡易かつ低コストに構成できるとともに、その環境清浄化構体内のクリーン空間ＣＳの清浄度をさらに向上させることができる。 Therefore, according to the environment cleaning structure of this embodiment and the environment cleaning method of this embodiment using the same, the environment cleaning structure can be configured easily and at low cost, and a clean space in the environment cleaning structure can be obtained. The cleanliness of CS can be further improved.

以上、図示例に基づき説明したが、この発明の環境清浄化方法および環境清浄化構体はこの例に限定されるものでなく、特許請求の範囲の記載範囲内で適宜変更し得るものであり、例えば環境清浄化構体はファン６を具えていず、他の場所で生成されて当該環境清浄化構体に供給されるクリーンエアを天板２のクリーンエア供給口からクリーン空間ＣＳ内に供給するようにしても良い。 As described above, based on the illustrated example, the environment cleaning method and the environment cleaning structure of the present invention are not limited to this example, and may be appropriately modified within the scope of the claims. For example, the environment cleaning structure does not include the fan 6, and the clean air generated in another place and supplied to the environment cleaning structure is supplied from the clean air supply port of the top plate 2 into the clean space CS. May be.

また、壁フレーム４は矩形でなく他の多角形の横断面の角筒状や、円筒状としてもよく、さらに、フレーム構体の天井部分を天板２の代りに、クリーンエア供給口を持つプラスチック製のフィルムやシートで形成してもよい。そして、クリーン空間ＣＳ内あるいはファン６内に、浮遊する異物微粒子自体を空中で除電するイオナイザ等の装置を設置してもよい。 Further, the wall frame 4 may have a polygonal cross-section such as a rectangular tube shape or a cylindrical shape instead of a rectangular shape, and the ceiling portion of the frame structure is replaced with the top plate 2 and a plastic having a clean air supply port. You may form with the film or sheet|seat made from. Then, in the clean space CS or in the fan 6, a device such as an ionizer for neutralizing the floating foreign matter particles themselves in the air may be installed.

１ 支柱
２ 天板
２ａ 開口部
３ 連結材
４ 壁フレーム
５ 異物防止カバー
６ ファン
７ 排気口
ＣＳ クリーン空間
Ｆ 床面
ＰＤ 製造装置 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Support 2 Top plate 2a Opening 3 Connecting material 4 Wall frame 5 Foreign matter prevention cover 6 Fan 7 Exhaust port CS Clean space F Floor surface PD manufacturing equipment

Claims (6)

クリーン空間内の環境を清浄化する環境清浄化方法において、
床面上にフレーム構体を形成することと、
そのフレーム構体に内側から異物防止カバーを張ってそのフレーム構体内に閉鎖空間としてのクリーン空間を画成することと、
そのクリーン空間内の上部にクリーンエアを供給することと、
そのクリーン空間内の下部から空気を排出することと、
を含む。 In the environment cleaning method for cleaning the environment in a clean space,
Forming a frame structure on the floor,
To form a clean space as a closed space in the frame structure by extending a foreign matter prevention cover from the inside to the frame structure,
Supplying clean air to the upper part of the clean space,
Exhausting air from the bottom of the clean space,
including. 請求項１記載の環境清浄化方法において、
クリーン空間外の空気を清浄化してクリーンエアを生成し、そのクリーンエアをクリーン空間内に供給することを含む。 The environment cleaning method according to claim 1,
It includes cleaning the air outside the clean space to generate clean air and supplying the clean air into the clean space. 請求項１または２記載の環境清浄化方法において、異物防止カバーは帯電防止フィルムまたは帯電防止シートからなる。 In the environment cleaning method according to claim 1 or 2, the foreign matter prevention cover is made of an antistatic film or an antistatic sheet. クリーン空間内の環境を清浄化する環境清浄化構体において、
床面上に形成されたフレーム構体と、
そのフレーム構体に内側から張られてそのフレーム構体内に閉鎖空間としてのクリーン空間を画成する異物防止カバーと、
そのクリーン空間内の上部にクリーンエアを供給するクリーンエア供給口と、
そのクリーン空間内の下部から空気を排出する排気口と、
を具える。 In the environmental cleaning structure that cleans the environment in the clean space,
A frame structure formed on the floor surface,
A foreign matter prevention cover stretched from the inside to the frame structure to define a clean space as a closed space in the frame structure,
A clean air supply port that supplies clean air to the upper part of the clean space,
An exhaust port that discharges air from the bottom of the clean space,
Equipped with. 請求項４記載の環境清浄化構体において、
クリーン空間外の空気を清浄化してクリーンエアを生成し、そのクリーンエアをクリーン空間内に供給するクリーンエア供給装置を具える。 The environmental cleaning structure according to claim 4,
A clean air supply device is provided for purifying air outside the clean space to generate clean air and supplying the clean air into the clean space. 請求項４または５記載の環境清浄化構体において、
異物防止カバーは帯電防止フィルムまたは帯電防止シートからなる。 The environmental cleaning structure according to claim 4 or 5,
The foreign matter prevention cover is made of an antistatic film or an antistatic sheet.
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