JP2020132452A - 熱線遮蔽構造体、熱線遮蔽シート、熱線遮蔽中間膜、及び合わせガラス - Google Patents
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Abstract
【課題】
（Ａ）熱線吸収膜及び（Ｂ）熱線反射膜を有する熱線遮蔽構造体であって、前記（Ａ）熱線吸収膜が、（Ａ−１）無機酸化物及び／又は色素、（Ａ−２）２以上の（メタ）アクリロイル基と極性官能基を併せ持つバインダー樹脂、及び（Ａ−３）光重合開始剤を含有する熱線吸収膜である熱線遮蔽構造体。
【解決手段】
本発明は、熱線遮蔽構造体の基本特性である熱線遮蔽性や低ヘイズ性、透明性、可視光透過性を損なうことなく、耐衝撃性や耐久性を改善するものである。
これによって耐衝撃性や耐久性に劣る従来の熱線遮蔽構造体のみならず、今後の熱線遮蔽構造体に対しても、より優れた機能を付与することができ、従来にない熱線遮蔽構造体の提供を可能とするものである。
【選択図】なし
（Ａ）熱線吸収膜及び（Ｂ）熱線反射膜を有する熱線遮蔽構造体であって、前記（Ａ）熱線吸収膜が、（Ａ−１）無機酸化物及び／又は色素、（Ａ−２）２以上の（メタ）アクリロイル基と極性官能基を併せ持つバインダー樹脂、及び（Ａ−３）光重合開始剤を含有する熱線吸収膜である熱線遮蔽構造体。
【解決手段】
本発明は、熱線遮蔽構造体の基本特性である熱線遮蔽性や低ヘイズ性、透明性、可視光透過性を損なうことなく、耐衝撃性や耐久性を改善するものである。
これによって耐衝撃性や耐久性に劣る従来の熱線遮蔽構造体のみならず、今後の熱線遮蔽構造体に対しても、より優れた機能を付与することができ、従来にない熱線遮蔽構造体の提供を可能とするものである。
【選択図】なし
Description
本発明は、太陽光の熱輻射によって生じる車両や建物の室内温度上昇を低減するために用いられる熱線遮蔽機能を有する熱線遮蔽構造体、それを用いた熱線遮蔽シート、熱線遮蔽中間体、透明機材用中間膜、及び合わせガラスに関するものである。
近年、省エネルギーや地球環境問題の観点から、空調機器の負荷を軽減することが求められている。例えば、住宅や自動車の分野では太陽光からの熱線を遮蔽できる熱線遮蔽性シート（フィルム）等を窓ガラスに添付する、または熱線遮蔽機能を有する中間層を２枚のガラスの間に担持するなどして室内や社内の温度上昇を抑えることが行われている。
窓部材に熱線遮蔽機能を付与する方法として、特許文献１ではガラスとガラスの間に担持された中間層に熱線遮蔽機能を付与することが提案されており、吸収性の熱線吸収材料を含有した熱可塑性樹脂を中間層として用いることが例示されている。しかしながら熱線吸収材料は可視域の光も吸収するために熱線遮熱性能向上のため含有量を増やすと可視光透過率が損なわれるといった課題があり、熱線吸収材料だけでは熱線遮蔽性能の著しい向上は困難である。
特許文献２には、基材上の一方の面に、屈折率が相互に異なる二層以上の層で構成され
る熱線反射ユニットを少なくとも二つ以上有し、かつ前記基材上の反対の面に、紫外線硬
化樹脂と錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）又はアンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）を含
有する熱線吸収層を有する熱線遮断フィルムであって、当該熱線吸収層に熱伝導性フィラ
ーを含有することを特徴とする熱線遮断フィルムが開示されている。しかしながら、熱線吸収層における蓄熱による熱割れを防ぐために、熱線吸収層に熱伝導フィラーを入れる必要があり、さらに表面粗さと最大断面高さを一定範囲内とすることにより放熱を促進している。そのため、熱伝導フィラーを配合する必要があると共に、複雑な構造を必要とするため、コスト的に不利であると共に、設計自由度も低下する。
る熱線反射ユニットを少なくとも二つ以上有し、かつ前記基材上の反対の面に、紫外線硬
化樹脂と錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）又はアンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）を含
有する熱線吸収層を有する熱線遮断フィルムであって、当該熱線吸収層に熱伝導性フィラ
ーを含有することを特徴とする熱線遮断フィルムが開示されている。しかしながら、熱線吸収層における蓄熱による熱割れを防ぐために、熱線吸収層に熱伝導フィラーを入れる必要があり、さらに表面粗さと最大断面高さを一定範囲内とすることにより放熱を促進している。そのため、熱伝導フィラーを配合する必要があると共に、複雑な構造を必要とするため、コスト的に不利であると共に、設計自由度も低下する。
特許文献３には、遮熱微粒子と、ケイ素化合物、又は、酸化ジルコニウム等のジルコニ
ウム化合物若しくは酸化チタン等のチタン化合物を含むコーティング液をガラス上塗布し
た後、５００乃至６００℃で焼き付けて、遮熱粒子と酸化珪素、又は、酸化ジルコニウム
若しくは酸化チタンを含み、表面抵抗が１０ＫΩ／□の電波透過性を有する熱線反射膜が
開示されている。しかし、基材に塗布後６００℃で焼き付けて膜を作製しているため、作成プロセスの負荷が高く、またＰＥＴフィルムのような汎用の樹脂基材には適用できないという問題がある。
ウム化合物若しくは酸化チタン等のチタン化合物を含むコーティング液をガラス上塗布し
た後、５００乃至６００℃で焼き付けて、遮熱粒子と酸化珪素、又は、酸化ジルコニウム
若しくは酸化チタンを含み、表面抵抗が１０ＫΩ／□の電波透過性を有する熱線反射膜が
開示されている。しかし、基材に塗布後６００℃で焼き付けて膜を作製しているため、作成プロセスの負荷が高く、またＰＥＴフィルムのような汎用の樹脂基材には適用できないという問題がある。
また、特許文献４ではＡｇ、Ａｕ、Ｐｔ等の貴金属微粒子を用いて電波透過性あるいは
電波遮蔽性を有する熱線反射膜が開示されている。しかし、本構成では熱微粒子として貴金属を用いているため高価である事や、膜作製時に貴金属微粒子が互いに連結されている為、電波透過性能を十分に付与できないという問題がある。
電波遮蔽性を有する熱線反射膜が開示されている。しかし、本構成では熱微粒子として貴金属を用いているため高価である事や、膜作製時に貴金属微粒子が互いに連結されている為、電波透過性能を十分に付与できないという問題がある。
さらに、特許文献５では、近赤外線領域の光線を反射するコレステリック液晶と、コレステリック液晶が反射する波長より長波長の熱線を吸収する遮熱微粒子を積層した断熱部材が開示されている。しかし、コレステリック液晶が反射する波長より長波長の熱線を吸収する遮熱微粒子を積層しているが、遮熱微粒子の樹脂バインダーに対する濃度が低く、近赤外線の長波長側の遮熱効果が不十分という問題がある。
従来より、熱線遮蔽構造体は数多く研究されているが、熱線遮蔽性を向上することを目的とするものがほとんでであり、それ以外の特性が不十分である為に実用化に至っていないものも相当数存在する。
本発明は、熱線遮蔽構造体の基本特性である熱線遮蔽性や低ヘイズ性、透明性、可視光透過性を損なうことなく、耐衝撃性や耐久性を改善するものである。
これによって耐衝撃性や耐久性に劣る従来の熱線遮蔽構造体のみならず、今後の熱線遮蔽構造体に対しても、より優れた機能を付与することができ、従来にない熱線遮蔽構造体の提供を可能とするものである。
本発明は、熱線遮蔽構造体の基本特性である熱線遮蔽性や低ヘイズ性、透明性、可視光透過性を損なうことなく、耐衝撃性や耐久性を改善するものである。
これによって耐衝撃性や耐久性に劣る従来の熱線遮蔽構造体のみならず、今後の熱線遮蔽構造体に対しても、より優れた機能を付与することができ、従来にない熱線遮蔽構造体の提供を可能とするものである。
本発明者らの研究によれば、特定の構造を有するバインダー樹脂を使用することで、透明性、可視光透過率を損なわずに熱線遮蔽機能を得ることができ、耐衝撃性に非常に優れる熱線遮蔽構造体が実現することを見出し、本発明を完成させるに至った。
即ち、本発明は、以下１）〜１４）に関するものである。
１）
（Ａ）熱線吸収膜及び（Ｂ）熱線反射膜を有する熱線遮蔽構造体であって、前記（Ａ）熱線吸収膜が、（Ａ−１）無機酸化物及び／又は色素、（Ａ−２）２以上の（メタ）アクリロイル基と極性官能基を併せ持つバインダー樹脂、及び（Ａ−３）光重合開始剤を含有する熱線吸収膜である熱線遮蔽構造体。
２）
上記成分（Ａ−１）が無機酸化物及び色素である上記１）に記載の熱線遮蔽構造体。
３）
上記成分（Ａ−２）が、３以上８以下の（メタ）アクリロイル基と極性官能基を併せ持つバインダー樹脂である上記１）又は２）に記載の熱線遮蔽構造体。
４）
上記成分（Ａ−２）において、極性官能基がヒドロキシ基（ＯＨ）、又はウレタン結合（ＮＨＣＯ）である上記１）乃至３）のいずれか一項に記載の熱線遮蔽構造体。
５）
上記成分（Ａ−２）のバインダー樹脂中の含有量が、バインダー樹脂の総量１００質量部中１０質量部以上６０質量部以下である上記１）乃至４）のいずれか一項に記載の熱線遮蔽構造体。
６）
上記成分（Ａ−３）が３６５ｎｍにおけるモル吸光係数（ε）が５０以上１０００（ｍＬ／ｇ・ｃｍ）以下である上記１）乃至５）のいずれか一項に記載の熱線遮蔽構造体。
７）
更に（Ａ−４）シランカップリング剤を含有する上記１）乃至６）のいずれか一項に記載の熱線遮蔽構造体。
８）
更に（Ａ−５）分散剤を含有する上記１）乃至７）のいずれか一項に記載の熱線遮蔽構造体。
９）
上記（Ｂ）熱線反射膜が、高屈折率膜と低屈折率膜を少なくとも１層ずつ有する熱線反射膜である上記１）乃至８）のいずれか一項に記載の熱線遮蔽構造体。
１０）
上記１）乃至９）のいずれか一項に記載の熱線遮蔽構造体が、支持体の上に形成されている熱線遮熱シート。
１１）
（Ｃ）熱可塑性樹脂膜、上記１）乃至９）のいずれか一項に記載の熱線遮蔽構造体、（Ｃ）熱可塑性樹脂膜の順に積層されてなる熱線遮蔽中間膜。
１２）
（Ｃ）熱可塑性樹脂膜、上記１０）に記載の熱線遮熱シート、（Ｃ）熱可塑性樹脂膜の順に積層されてなる熱線遮蔽中間膜。
１３）
上記１）乃至９）のいずれか一項に記載の熱線構造体、上記１０）に記載の熱線遮熱シート又は上記１１）若しくは１２）に記載の熱線遮蔽中間膜を有する透明基材用中間膜。
１４）
上記１３）に記載の透明基材用中間膜が２枚のガラスの間に挿入されている合わせガラス。
即ち、本発明は、以下１）〜１４）に関するものである。
１）
（Ａ）熱線吸収膜及び（Ｂ）熱線反射膜を有する熱線遮蔽構造体であって、前記（Ａ）熱線吸収膜が、（Ａ−１）無機酸化物及び／又は色素、（Ａ−２）２以上の（メタ）アクリロイル基と極性官能基を併せ持つバインダー樹脂、及び（Ａ−３）光重合開始剤を含有する熱線吸収膜である熱線遮蔽構造体。
２）
上記成分（Ａ−１）が無機酸化物及び色素である上記１）に記載の熱線遮蔽構造体。
３）
上記成分（Ａ−２）が、３以上８以下の（メタ）アクリロイル基と極性官能基を併せ持つバインダー樹脂である上記１）又は２）に記載の熱線遮蔽構造体。
４）
上記成分（Ａ−２）において、極性官能基がヒドロキシ基（ＯＨ）、又はウレタン結合（ＮＨＣＯ）である上記１）乃至３）のいずれか一項に記載の熱線遮蔽構造体。
５）
上記成分（Ａ−２）のバインダー樹脂中の含有量が、バインダー樹脂の総量１００質量部中１０質量部以上６０質量部以下である上記１）乃至４）のいずれか一項に記載の熱線遮蔽構造体。
６）
上記成分（Ａ−３）が３６５ｎｍにおけるモル吸光係数（ε）が５０以上１０００（ｍＬ／ｇ・ｃｍ）以下である上記１）乃至５）のいずれか一項に記載の熱線遮蔽構造体。
７）
更に（Ａ−４）シランカップリング剤を含有する上記１）乃至６）のいずれか一項に記載の熱線遮蔽構造体。
８）
更に（Ａ−５）分散剤を含有する上記１）乃至７）のいずれか一項に記載の熱線遮蔽構造体。
９）
上記（Ｂ）熱線反射膜が、高屈折率膜と低屈折率膜を少なくとも１層ずつ有する熱線反射膜である上記１）乃至８）のいずれか一項に記載の熱線遮蔽構造体。
１０）
上記１）乃至９）のいずれか一項に記載の熱線遮蔽構造体が、支持体の上に形成されている熱線遮熱シート。
１１）
（Ｃ）熱可塑性樹脂膜、上記１）乃至９）のいずれか一項に記載の熱線遮蔽構造体、（Ｃ）熱可塑性樹脂膜の順に積層されてなる熱線遮蔽中間膜。
１２）
（Ｃ）熱可塑性樹脂膜、上記１０）に記載の熱線遮熱シート、（Ｃ）熱可塑性樹脂膜の順に積層されてなる熱線遮蔽中間膜。
１３）
上記１）乃至９）のいずれか一項に記載の熱線構造体、上記１０）に記載の熱線遮熱シート又は上記１１）若しくは１２）に記載の熱線遮蔽中間膜を有する透明基材用中間膜。
１４）
上記１３）に記載の透明基材用中間膜が２枚のガラスの間に挿入されている合わせガラス。
本発明の熱線遮蔽構造体は、熱線吸収層の接着性が非常に高く、その為耐衝撃性に優れるものである。また同時に可視光透過性、全日射透過率およびヘイズに関する性能が総合的に優れている。従って、本発明の熱線遮蔽構造体を用いれば、安全性が高く、高性能な熱線遮蔽機能を有する構造体や、熱線遮蔽シート、熱線遮蔽中間膜、透明基材用中間膜、及び合せガラスを低コストかつ容易に製造することができる。
本発明の熱線遮蔽構造体は、（Ａ）熱線吸収膜及び（Ｂ）熱線反射膜を有する構造体である。なお、本明細書中、上付きのＲＴＭは登録商標を意味する。
［（Ａ）熱線吸収膜］
（Ａ）熱線吸収膜は、（Ａ−１）無機酸化物及び／又は色素、（Ａ−２）２以上の（メタ）アクリロイル基と極性官能基を併せ持つバインダー樹脂、（Ａ−３）光重合開始剤を有する。
［（Ａ）熱線吸収膜］
（Ａ）熱線吸収膜は、（Ａ−１）無機酸化物及び／又は色素、（Ａ−２）２以上の（メタ）アクリロイル基と極性官能基を併せ持つバインダー樹脂、（Ａ−３）光重合開始剤を有する。
［（Ａ−１）無機酸化物及び／又は色素］
本発明の熱線吸収構造体に用いられる（Ａ）熱線吸収膜は、（Ａ−１）無機酸化物及び／又は色素を含有する。
無機酸化物としては、近赤外部から遠赤外部にかけて良好な吸収特性を有している遮熱微粒子が適しているものであれば特に限定されないが、可視光の透過性に優れているものを用いることが好ましい。例えば、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化タングステン、酸化クロム、酸化モリブデン等を例示することができる。このうち、可視光領域に光吸収性のない酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛又は酸化タングステン等の金属酸化物の微粒子が好ましく、酸化インジウム又は酸化タングステンがより好ましく、酸化インジウムの微粒子が特に好ましい。また、これらの酸化物の電気導電性を向上させるために第三成分をドープすることが好ましい。このためのドーパントとしては、酸化錫に対してはＳｂ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ等が選ばれ、酸化インジウムに対してはＺｎ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｇａ、Ｇｅ等が選ばれ、酸化亜鉛に対しては、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｎｂ等が選ばれ、酸化タングステンに対しては、Ｃｓ、Ｒｂ、Ｋ、Ｔｌ、Ｉｎ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｆｅ、Ｓｎ、Ａｌ等が選ばれる。本発明においては、錫含有酸化インジウム（ＩＴＯともいう）又はアンチモン含有酸化錫（ＡＴＯ）がより好ましく、錫含有酸化インジウム（ＩＴＯ）が更に好ましい。ドーパントの含量は特に限定されないが、ドーパントされた金属の総量に対して、１〜２０重量％程度、好ましくは、５〜１５重量％程度である。ＩＴＯにおける錫含量も同じである。
本発明の熱線吸収構造体に用いられる（Ａ）熱線吸収膜は、（Ａ−１）無機酸化物及び／又は色素を含有する。
無機酸化物としては、近赤外部から遠赤外部にかけて良好な吸収特性を有している遮熱微粒子が適しているものであれば特に限定されないが、可視光の透過性に優れているものを用いることが好ましい。例えば、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化タングステン、酸化クロム、酸化モリブデン等を例示することができる。このうち、可視光領域に光吸収性のない酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛又は酸化タングステン等の金属酸化物の微粒子が好ましく、酸化インジウム又は酸化タングステンがより好ましく、酸化インジウムの微粒子が特に好ましい。また、これらの酸化物の電気導電性を向上させるために第三成分をドープすることが好ましい。このためのドーパントとしては、酸化錫に対してはＳｂ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ等が選ばれ、酸化インジウムに対してはＺｎ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｇａ、Ｇｅ等が選ばれ、酸化亜鉛に対しては、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｎｂ等が選ばれ、酸化タングステンに対しては、Ｃｓ、Ｒｂ、Ｋ、Ｔｌ、Ｉｎ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｆｅ、Ｓｎ、Ａｌ等が選ばれる。本発明においては、錫含有酸化インジウム（ＩＴＯともいう）又はアンチモン含有酸化錫（ＡＴＯ）がより好ましく、錫含有酸化インジウム（ＩＴＯ）が更に好ましい。ドーパントの含量は特に限定されないが、ドーパントされた金属の総量に対して、１〜２０重量％程度、好ましくは、５〜１５重量％程度である。ＩＴＯにおける錫含量も同じである。
また、上記無機酸化物は、平均粒子径が２００ｎｍ以下、通常１〜１００ｎｍの微粒子が用いられる。該微粒子の平均粒子径としては、１０〜５０ｎｍが好ましく、より好ましくは１０〜４０ｎｍであり、最も好ましくは１０〜３０ｎｍ程度である。該平均粒子径は、ＢＥＴ（Ｂｒｕｎａｕｅｒ,Ｅｍｍｅｔ ａｎｄ Ｔｅｌｌｅｒ ｅｑｕａｔｉｏｎ）法によって求められた比表面積より算出されたものである。平均粒子径が大きくなり過ぎると熱線遮蔽シートにした際、ヘイズ値が高くなり視認性が劣ってしまう。
また、該微粒子としては、６０ＭＰａで圧縮した際の粉体抵抗（粉体抵抗測定システムＭＣＰ−ＰＤ５１型、三菱化学アナリテック株式会社製で測定）が通常１００Ω・ｃｍ以下、好ましくは１０Ω・ｃｍ以下、より好ましくは２Ω・ｃｍ以下であり、最も好ましくは、１Ω・ｃｍ以下の微粒子が用いられる。下限は特にないが、通常０．１Ω・ｃｍ以上であり、製造のし易さなどからは０．４Ω・ｃｍ以上が好ましい。粉体抵抗が１００Ω・ｃｍより高い微粒子を用いた場合、該微粒子のプラズマ振動に由来する反射が２５００ｎｍより大きくなり熱線遮蔽効果が低減する。
また、該微粒子としては、６０ＭＰａで圧縮した際の粉体抵抗（粉体抵抗測定システムＭＣＰ−ＰＤ５１型、三菱化学アナリテック株式会社製で測定）が通常１００Ω・ｃｍ以下、好ましくは１０Ω・ｃｍ以下、より好ましくは２Ω・ｃｍ以下であり、最も好ましくは、１Ω・ｃｍ以下の微粒子が用いられる。下限は特にないが、通常０．１Ω・ｃｍ以上であり、製造のし易さなどからは０．４Ω・ｃｍ以上が好ましい。粉体抵抗が１００Ω・ｃｍより高い微粒子を用いた場合、該微粒子のプラズマ振動に由来する反射が２５００ｎｍより大きくなり熱線遮蔽効果が低減する。
該微粒子の製法は、上記のものが得られれば特に制限はなく、気相合成法、液層合成法等の公知の方法により得ることができる。例えば酸化インジウム微粒子については、特開平６−２２７８１５号公報に開示されている方法で良い。すなわち、特定の微粒子元素を含んだ塩の水溶液をアルカリにより中和し、得られた沈殿物をろ過、洗浄し、高温で加熱処理することにより微粒子を得る方法である。また、酸化錫微粒子、酸化亜鉛微粒子の製法については、それぞれ特開平２−１０５８７５号公報、特開平６−２３４５２２号公報に開示されている。また、上記性能を満たす微粒子であれば、市販されているものでも構
わない。市販品としては、ＩＴＯまたは超微粒ＩＴＯ 等として、ＣＩＫナノテック株式会社、住友金属工業株式会社、三菱マテリアル株式会社等から販売されており、上記の平均粒子経と粉体抵抗値を満たすものは何れも使用可能である。その中でも、ＩＴＯ−Ｒ（ＣＩＫナノテック株式会社製）はより好ましい。
わない。市販品としては、ＩＴＯまたは超微粒ＩＴＯ 等として、ＣＩＫナノテック株式会社、住友金属工業株式会社、三菱マテリアル株式会社等から販売されており、上記の平均粒子経と粉体抵抗値を満たすものは何れも使用可能である。その中でも、ＩＴＯ−Ｒ（ＣＩＫナノテック株式会社製）はより好ましい。
また色素としては、無機系、有機系の染料および顔料のいずれでも良く特に限定されないが、可視光透過率を損なわずに熱線遮蔽性能を向上するためには波長５００ｎｍ〜６００ｎｍに極大吸収を有さない色素が好ましい。
無機系顔料として、例えばコバルト系色素、鉄系色素、クロム系色素、チタン系色素、バナジウム系色素、ジルコニウム系色素、モリブデン系色素、ルテニウム系色素、マンガン系色素、銅系色素、ランタン系色素等を用いることができる。この内好ましくはコバルト系色素、鉄系色素、クロム系色素、チタン系色素、バナジウム系色素、ジルコニウム系色素、モリブデン系色素、鉛系色素、マンガン系色素、銅系色素、ランタン系色素であり、更に好ましくはコバルト系色素、鉄系色素、クロム系色素、バナジウム系色素、ジルコニウム系色素、モリブデン系色素、マンガン系色素、銅系色素、ランタン系色素であり、特に好ましくはコバルト系色素、鉄系色素、クロム系色素、マンガン系色素、銅系色素、ランタン系色素である。
有機系顔料、有機系染料としては、例えばジイモニウム系色素、アンスラキノン系色素、アミニウム系色素、シアニン系色素、メロシアニン系色素、クロコニウム系色素、スクアリウム系色素、アズレニウム系色素、ポリメチン系色素、ナフトキノン系色素、ピリリウム系色素、ポルフィラジン系色素、ナフトラクタム系色素、アゾ系色素、縮合アゾ系色素、インジゴ系色素、ペリノン系色素等を用いることができる。このうち好ましくはポルフィラジン系色素であり、下記式（１）で表されるものが好ましい。
無機系顔料として、例えばコバルト系色素、鉄系色素、クロム系色素、チタン系色素、バナジウム系色素、ジルコニウム系色素、モリブデン系色素、ルテニウム系色素、マンガン系色素、銅系色素、ランタン系色素等を用いることができる。この内好ましくはコバルト系色素、鉄系色素、クロム系色素、チタン系色素、バナジウム系色素、ジルコニウム系色素、モリブデン系色素、鉛系色素、マンガン系色素、銅系色素、ランタン系色素であり、更に好ましくはコバルト系色素、鉄系色素、クロム系色素、バナジウム系色素、ジルコニウム系色素、モリブデン系色素、マンガン系色素、銅系色素、ランタン系色素であり、特に好ましくはコバルト系色素、鉄系色素、クロム系色素、マンガン系色素、銅系色素、ランタン系色素である。
有機系顔料、有機系染料としては、例えばジイモニウム系色素、アンスラキノン系色素、アミニウム系色素、シアニン系色素、メロシアニン系色素、クロコニウム系色素、スクアリウム系色素、アズレニウム系色素、ポリメチン系色素、ナフトキノン系色素、ピリリウム系色素、ポルフィラジン系色素、ナフトラクタム系色素、アゾ系色素、縮合アゾ系色素、インジゴ系色素、ペリノン系色素等を用いることができる。このうち好ましくはポルフィラジン系色素であり、下記式（１）で表されるものが好ましい。
環Ａ、Ｂ、Ｃ又はＤの破線部が、上記式（３）又は（４）であるとき、形成される芳香環はピリジン環であり、該破線部が上記式（５）〜（７）のいずか一つであるとき形成される芳香環はピラジン環であり、該破線部が上記式（８）であるとき、形成される芳香環はナフタレン環である。Ｚにおける第１又は第２級アミンの窒素原子上の水素の少なくとも１つを除いた残基としてはモノ低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基等を挙げることが出来る。また、酸アミド基としては、置換基を有してもよいフタル酸アミド基等を挙げることが出来る。窒素原子を含む複素環の窒素原子上の水素の少なくとも１つを除いた残基としては、置換基を有してもよいピリジノ基、置換基を有してもよいピペラジノ基、又は置換基を有してもよいピペリジノ基等を挙げることができる。
前記式（１）中、環Ａ乃至Ｄにおける芳香環としては、例えば、ベンゼン環またはナフタレン環をはじめ、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環等の窒素原子を１個又は２個含む含窒素複素芳香環が挙げられる。これらの中ではベンゼン環、ピリジン環及びナフタレン環からなる群から選択される何れか一つ又は２つの組み合わせが好ましく、全てが同じ芳香環であってもよい。環Ａ乃至Ｄのうち、平均で、１〜４個、好ましくは２〜４個の、ピリジン環又はナフタレン環を含む方が好ましい。この場合、残りはベンゼン環である。より好ましくはベンゼン環が０〜２個で、ピリジン環が０〜３個、ナフタレン環が１〜４個の範囲内で合計が４となる組合せである。更に好ましい組み合わせを挙げれば、ベンゼン環が０〜２個で、ナフタレン環が２〜４個の範囲で合計が４となる組み合わせ又はピリジン環が１〜３個及びナフタレン環が１〜３個の範囲で、両者の合計が４となる組み合わせである。なお、環Ａ 乃至Ｄ がピリジン環とナフタレン環の組合せからなる態様はより好ましい態様の一つである。また、ピリジン環の中では、前記式（４）の構造から形成されるピリジン環が好ましい。
前記式（１）において、Ｍは水素原子、金属原子、金属酸化物、金属水酸化物、又は金属ハロゲン化物を表す。Ｍが水素原子以外である場合、該Ｍは式（１）におけるポルフィリン環がいわゆる中心金属を有することを意味する。又、Ｍが水素原子である場合、該ポルフィリン環は中心金属を有しないことを意味する。
前記Ｍにおける金属原子の具体例としては例えば、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｈｇ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ又はＢｉ等が挙げられる。
金属酸化物としてはＶＯ又はＧｅＯ等が挙げられる。金属水酸化物としては例えば、Ｓｉ（ＯＨ）２、Ｃｒ（ＯＨ）２、Ｓｎ（ＯＨ）２又はＡｌＯＨ等が挙げられる。金属ハロゲン化物としては例えば、ＳｉＣｌ２、ＶＣｌ、ＶＣｌ２、ＶＯＣｌ、ＦｅＣｌ、ＧａＣｌ、ＺｒＣｌ又はＡｌＣｌ等が挙げられる。これらの中でも、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ａｌ又はＶ等の金属原子、ＶＯ等の金属酸化物、又は、ＡｌＯＨ等の金属水酸化物等が好ましい。より好ましくはＣｕ又はＶＯが挙げられ、ＶＯが最も好ましい。
前記式（１）中のＸは低級アルキル基、低級アルコキシ基、アミノ基、ニトロ基、ハロゲン基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホン酸基又はスルホンアミド基を示す。なお、本明細書における「低級」とは炭素数１〜４を示す。
Ｙにおける二価の連結基としては例えば炭素数１〜３のアルキレン基、−ＣＯ２−、−ＳＯ２−又は−ＳＯ２ＮＨ（ＣＨ２）ｃ−（ここで、ｃは０〜４を表す）が挙げられる。好ましいＹは、炭素数１〜３のアルキレン基又は−ＳＯ２ＮＨ−であり、炭素数１〜３のアルキレン基がより好ましい。好ましいＺとしては例えば、カルボキシ基、スルホン酸基、置換基を有してもよいフタルイミド基、置換基を有してもよいピペラジノ基、置換基を有してもよいピペリジノ基等を挙げることができる。より好ましいＺはカルボキシ基、スルホン酸基、又は、置換基を有してもよいフタルイミド基であり、置換基を有してもよいフタルイミド基が更に好ましい。なお、Ｚが置換基を有してもよいフタルイミド基、置換基を有してもよいピペラジノ基又は置換基を有してもよいピペリジノ基であるときの置換基としては低級アルキル基、低級アルコキシ基、置換アミノ基、ニトロ基、ハロゲン原子又はスルホン酸基等を挙げることができる。Ｚが、上記の置換基を有してもよい基であるとき、無置換又はハロゲノ置換された基が好ましい。より好ましいＺは、無置換又はハロゲノ置換フタルイミド基であり、無置換フタルイミドが最も好ましい。
式（１）の近赤外線吸収色素において置換アミノ基は特に限定されないが、例えば低級アルキル基又は低級アルコキシ基が置換したアミノ基が含まれる。なおハロゲン原子としてはＣｌ、Ｂｒ又はＩが好ましい。
前記式（１）中のａ、ｂはそれぞれ０以上１２以下、かつ、ａとｂとの和は０以上１２以下である。好ましくはａ、ｂはそれぞれ独立に０以上４以下で、且つ、ａとｂとの和は０以上４以下である。本発明においては、式（１）においてａとｂが共に０であるポルフィラジン色素が好ましい。
前記Ｍにおける金属原子の具体例としては例えば、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｈｇ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ又はＢｉ等が挙げられる。
金属酸化物としてはＶＯ又はＧｅＯ等が挙げられる。金属水酸化物としては例えば、Ｓｉ（ＯＨ）２、Ｃｒ（ＯＨ）２、Ｓｎ（ＯＨ）２又はＡｌＯＨ等が挙げられる。金属ハロゲン化物としては例えば、ＳｉＣｌ２、ＶＣｌ、ＶＣｌ２、ＶＯＣｌ、ＦｅＣｌ、ＧａＣｌ、ＺｒＣｌ又はＡｌＣｌ等が挙げられる。これらの中でも、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ａｌ又はＶ等の金属原子、ＶＯ等の金属酸化物、又は、ＡｌＯＨ等の金属水酸化物等が好ましい。より好ましくはＣｕ又はＶＯが挙げられ、ＶＯが最も好ましい。
前記式（１）中のＸは低級アルキル基、低級アルコキシ基、アミノ基、ニトロ基、ハロゲン基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホン酸基又はスルホンアミド基を示す。なお、本明細書における「低級」とは炭素数１〜４を示す。
Ｙにおける二価の連結基としては例えば炭素数１〜３のアルキレン基、−ＣＯ２−、−ＳＯ２−又は−ＳＯ２ＮＨ（ＣＨ２）ｃ−（ここで、ｃは０〜４を表す）が挙げられる。好ましいＹは、炭素数１〜３のアルキレン基又は−ＳＯ２ＮＨ−であり、炭素数１〜３のアルキレン基がより好ましい。好ましいＺとしては例えば、カルボキシ基、スルホン酸基、置換基を有してもよいフタルイミド基、置換基を有してもよいピペラジノ基、置換基を有してもよいピペリジノ基等を挙げることができる。より好ましいＺはカルボキシ基、スルホン酸基、又は、置換基を有してもよいフタルイミド基であり、置換基を有してもよいフタルイミド基が更に好ましい。なお、Ｚが置換基を有してもよいフタルイミド基、置換基を有してもよいピペラジノ基又は置換基を有してもよいピペリジノ基であるときの置換基としては低級アルキル基、低級アルコキシ基、置換アミノ基、ニトロ基、ハロゲン原子又はスルホン酸基等を挙げることができる。Ｚが、上記の置換基を有してもよい基であるとき、無置換又はハロゲノ置換された基が好ましい。より好ましいＺは、無置換又はハロゲノ置換フタルイミド基であり、無置換フタルイミドが最も好ましい。
式（１）の近赤外線吸収色素において置換アミノ基は特に限定されないが、例えば低級アルキル基又は低級アルコキシ基が置換したアミノ基が含まれる。なおハロゲン原子としてはＣｌ、Ｂｒ又はＩが好ましい。
前記式（１）中のａ、ｂはそれぞれ０以上１２以下、かつ、ａとｂとの和は０以上１２以下である。好ましくはａ、ｂはそれぞれ独立に０以上４以下で、且つ、ａとｂとの和は０以上４以下である。本発明においては、式（１）においてａとｂが共に０であるポルフィラジン色素が好ましい。
前記式（１）で表されるポルフィラジン色素の具体例を下記表２−１に化合物Ｎｏ．と共に示す。下記の例は、本発明の色素を具体的に説明するために代表的な色素を示すものであり、本発明は下記の例に限定されるものではない。また、環Ａ乃至Ｄの含窒素複素芳香環が前記式（３）、（４）及び（６）である場合、窒素原子の位置異性体が存在し、色素合成の際には異性体の混合物として得られる。これら異性体の単離は困難であり、また分析による異性体の特定も困難である。このため、通常は混合物のまま使用する。本発明の色素は、このような混合物も含むものである。本明細書においては、これらの異性体等を区別することなく、構造式で表示される場合は、便宜的に代表的な１つの構造式を記載する。表１において、Ａ乃至Ｄの欄の数字は、前記式（２）〜（８）の式番号を示し、ａ及びｂの欄には、それぞれ、ａ及びｂの値を示し、Ｘ、Ｙ及びＺの欄には基名を示した。Ｘ、Ｙ及びＺの欄における横線−は置換基が無いことを示す。
前記式（１）で表されるポルフィラジン色素は一般に公知の化合物であるか、若しくは公知の化合物に準じて容易に合成することができる。前記式（１）で表されるポルフィラジン色素は、例えば、国際公開第２０１０／１４３６１９号パンフレット及び国際公開第２０１０／０１３４５５号パンフレットに開示された公知の方法に準じて合成することができる。なお、上記方法によって得られる前記式（１）で表される化合物は、環Ａ乃至Ｄにおける含窒素複素芳香環の置換位置、及び含窒素複素芳香環の窒素原子の置換位置に関する位置異性体の混合物となることも、上記公知文献に記載の通りである。また、前記表１におけるＮｏ．３やＮｏ．１８で示される化合物は、上記国際公開パンフレットの他、例えば、特許第２５０７７８６号パンフレット及び特許第３８１３７５０号パンフレットに開示された公知の方法に準じても合成することが出来る。
また、無機酸化物と色素はいずれか一方が存在すれば本願発明の効果は得られるが、より好ましい態様としては、無機酸化物及び色素の両方を含有する態様である。
成分（Ａ−１）の熱線吸収膜中の含有量は、熱線吸収膜の総量１００質量部中５質量部以上６０質量部以下が好ましい。
この含有量の好ましい上限としては、６０質量部、更に好ましくは５０質量部、特に好ましくは４０質量部、最も好ましくは３０質量部である。
また好ましい下限としては、５質量部、更に好ましくは１０質量部、特に好ましくは１５質量部、最も好ましくは２０質量部である。
成分（Ａ−１）の熱線吸収膜中の含有量として最も好ましい範囲は２０質量部以上３０質量部以下である。
なお、無機酸化物及び色素の両方を用いる場合、無機酸価物：色素の比として、好ましくは２０：１〜１：１であり、更に好ましくは１５：１〜２：１であり、特に好ましくは１２：１〜５：１である。
この含有量の好ましい上限としては、６０質量部、更に好ましくは５０質量部、特に好ましくは４０質量部、最も好ましくは３０質量部である。
また好ましい下限としては、５質量部、更に好ましくは１０質量部、特に好ましくは１５質量部、最も好ましくは２０質量部である。
成分（Ａ−１）の熱線吸収膜中の含有量として最も好ましい範囲は２０質量部以上３０質量部以下である。
なお、無機酸化物及び色素の両方を用いる場合、無機酸価物：色素の比として、好ましくは２０：１〜１：１であり、更に好ましくは１５：１〜２：１であり、特に好ましくは１２：１〜５：１である。
［（Ａ−２）２以上の（メタ）アクリロイル基と極性官能基を併せ持つバインダー樹脂］
本発明の熱線吸収構造体に用いられる熱線吸収膜は、２以上の（メタ）アクリロイル基と極性官能基を併せ持つバインダー樹脂を含有する。なお、アクリルモノマーのような低分子化合物も、バインダーとして使用されうるものであれば、本明細書においてはバインダー樹脂と表現する。
（メタ）アクリロイル基とは、アクリロイル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ２）、又はメタクリロイル基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨ２）を意味する。
分子内に２以上の（メタ）アクリロイル基を有するとは、同一分子内にアクリロイル基及び／又はメタクリロイル基が２以上存在することを意味し、ラジカルによる重合反応部位が２以上有するものである。
極性官能基とは、例えばヒドロキシ基、カルボキシ基、ホスホ基、アミノ基、イミノ基、カルバモイル基、シアノ基、イソシアナト基、ニトロ基、ニトロソ基、ヒドラジノ基、ウレイド基、グアニジノ基、スルファニル基、スルフィノ基、スルホ基等、又はフリル基、チエニル基、ピロリル基、ピロリジニル基、ピリジル基、ピロリジノ基、ピペリジニル基、モルホリノ、基、キノリル基等の複素環基等を挙げることができる。なお、各置換基は可能であればアルキル基、アルコキシ基等で置換されていても良い。また、ウレタン結合、エーテル結合、エステル結合（（メタ）アクリロイル基中のエステル結合を除く）等置換基とは異なる極性結合部位も、本明細書においては極性官能基として記載する。
極性官能基を有する２以上の（メタ）アクリロイル基と極性官能基を併せ持つバインダー樹脂としては、例えば、ペンタエリスリトルトリアクリレート（ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０ 日本化薬製）、ジペンタエリスリトルペンタアクリレートとジペンタエリスリトルヘキサアクリレートの混合物又（ＫＡＹＡＲＡＤＲＴＭ ＤＰＨＡ 日本化薬製）、２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピルメタクリレート（７０１Ａ 新中村化学製）、エトキシ化イソシアヌル酸トリアクリレート（Ａ−９３００ 新中村化学製）、ε−カプロラクトン変性トリス−（２−アクリロキシエチル）イソシアヌレート（Ａ−９３００−１ＣＬ 新中村化学）等の（メタ）アクリレートモノマー化合物、ビスフェノールＡ型エポキシアクリレート（Ｒ−１１５Ｆ、Ｒ−１３０、Ｒ−３８１等 日本化薬製）、ビスフェノールＦ型エポキシアクリレート（ＺＦＡ−２６６Ｈ 日本化薬製）、酸変性エポキシアクリレート（ＺＡＲシリーズ、ＺＦＲシリーズ、ＺＣＲシリーズ 日本化薬製）等のエポキシアクリレート樹脂、ポリエステル系ウレタンアクリレート（ＵＸ３２０４、ＵＸ−４１０１、ＵＸＴ−６１００ 日本化薬製）、混合系ウレタンアクリレート（ＵＸ−６１０１、ＵＸ−８１０１ 日本化薬製）、ポリエーテル系ウレタンアクリレート（ＵＸ−９３７、ＵＸＦ−４００１−Ｍ３５ 日本化薬製）、エステル系ウレタンアクリレート（ＤＰＨＡ−４０Ｈ、ＵＸ−５０００、ＵＸ−５１０２Ｄ−Ｍ２０、ＵＸ−５１０３Ｄ、ＵＸ−５００５ 日本化薬製）等のウレタンアクリレート樹脂を挙げることができる。
本発明の熱線吸収構造体に用いられる熱線吸収膜は、２以上の（メタ）アクリロイル基と極性官能基を併せ持つバインダー樹脂を含有する。なお、アクリルモノマーのような低分子化合物も、バインダーとして使用されうるものであれば、本明細書においてはバインダー樹脂と表現する。
（メタ）アクリロイル基とは、アクリロイル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ２）、又はメタクリロイル基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨ２）を意味する。
分子内に２以上の（メタ）アクリロイル基を有するとは、同一分子内にアクリロイル基及び／又はメタクリロイル基が２以上存在することを意味し、ラジカルによる重合反応部位が２以上有するものである。
極性官能基とは、例えばヒドロキシ基、カルボキシ基、ホスホ基、アミノ基、イミノ基、カルバモイル基、シアノ基、イソシアナト基、ニトロ基、ニトロソ基、ヒドラジノ基、ウレイド基、グアニジノ基、スルファニル基、スルフィノ基、スルホ基等、又はフリル基、チエニル基、ピロリル基、ピロリジニル基、ピリジル基、ピロリジノ基、ピペリジニル基、モルホリノ、基、キノリル基等の複素環基等を挙げることができる。なお、各置換基は可能であればアルキル基、アルコキシ基等で置換されていても良い。また、ウレタン結合、エーテル結合、エステル結合（（メタ）アクリロイル基中のエステル結合を除く）等置換基とは異なる極性結合部位も、本明細書においては極性官能基として記載する。
極性官能基を有する２以上の（メタ）アクリロイル基と極性官能基を併せ持つバインダー樹脂としては、例えば、ペンタエリスリトルトリアクリレート（ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０ 日本化薬製）、ジペンタエリスリトルペンタアクリレートとジペンタエリスリトルヘキサアクリレートの混合物又（ＫＡＹＡＲＡＤＲＴＭ ＤＰＨＡ 日本化薬製）、２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピルメタクリレート（７０１Ａ 新中村化学製）、エトキシ化イソシアヌル酸トリアクリレート（Ａ−９３００ 新中村化学製）、ε−カプロラクトン変性トリス−（２−アクリロキシエチル）イソシアヌレート（Ａ−９３００−１ＣＬ 新中村化学）等の（メタ）アクリレートモノマー化合物、ビスフェノールＡ型エポキシアクリレート（Ｒ−１１５Ｆ、Ｒ−１３０、Ｒ−３８１等 日本化薬製）、ビスフェノールＦ型エポキシアクリレート（ＺＦＡ−２６６Ｈ 日本化薬製）、酸変性エポキシアクリレート（ＺＡＲシリーズ、ＺＦＲシリーズ、ＺＣＲシリーズ 日本化薬製）等のエポキシアクリレート樹脂、ポリエステル系ウレタンアクリレート（ＵＸ３２０４、ＵＸ−４１０１、ＵＸＴ−６１００ 日本化薬製）、混合系ウレタンアクリレート（ＵＸ−６１０１、ＵＸ−８１０１ 日本化薬製）、ポリエーテル系ウレタンアクリレート（ＵＸ−９３７、ＵＸＦ−４００１−Ｍ３５ 日本化薬製）、エステル系ウレタンアクリレート（ＤＰＨＡ−４０Ｈ、ＵＸ−５０００、ＵＸ−５１０２Ｄ−Ｍ２０、ＵＸ−５１０３Ｄ、ＵＸ−５００５ 日本化薬製）等のウレタンアクリレート樹脂を挙げることができる。
成分（Ａ−２）のバインダー樹脂として、より好ましくは２以上８以下の（メタ）アクリロイル基と極性官能基を併せ持つ場合であり、更に好ましくは３以上６以下の（メタ）アクリロイル基と極性官能基を併せ持つ場合である。反応性基である（メタ）アクリロイル基が１０以上である場合、硬化物が剛直になり過ぎて、接着強度の低下を招く可能性がある。
成分（Ａ−２）のバインダー樹脂として、更に好ましくは、極性官能基がヒドロキシ基（ＯＨ）、又はウレタン結合（ＮＨＣＯ）である。ヒドロキシ基は基材への密着性を向上する効果があり、ウレタン結合は硬化物を柔軟にする効果がある。上記例示の中では、ペンタエリスリトルトリアクリレート、２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピルメタクリレート、エトキシ化イソシアヌル酸トリアクリレート等及びウレタン樹脂を好適な成分（Ａ−２）として挙げることができ、更に好ましくは、ペンタエリスリトルトリアクリレート、ジペンタエリスリトルペンタアクリレートとジペンタエリスリトルヘキサアクリレートの混合物又はエステル系ウレタンアクリレート（ＵＸ−５０００、ＤＰＨＡ−４０Ｈ）である。
成分（Ａ−２）の熱線吸収膜中の含有量は、熱線吸収膜の総量１００質量部中２０質量部以上９５質量部以下が好ましい。
この含有量の好ましい上限としては、９５質量部、更に好ましくは９０質量部、特に好ましくは８０質量部、最も好ましくは７０質量部である。
また好ましい下限としては、２０質量部、更に好ましくは３０質量部、特に好ましくは４０質量部、最も好ましくは５０質量部である。
成分（Ａ−２）の熱線吸収膜中の含有量として最も好ましい範囲は５０質量部以上７０質量部以下である。
この含有量の好ましい上限としては、９５質量部、更に好ましくは９０質量部、特に好ましくは８０質量部、最も好ましくは７０質量部である。
また好ましい下限としては、２０質量部、更に好ましくは３０質量部、特に好ましくは４０質量部、最も好ましくは５０質量部である。
成分（Ａ−２）の熱線吸収膜中の含有量として最も好ましい範囲は５０質量部以上７０質量部以下である。
［（Ａ−３）光重合開始剤］
本発明の熱線吸収構造体に用いられる熱線吸収膜は、（Ａ−３）光重合開始剤を含有する。光ラジカル重合開始剤としては、紫外線や可視光の照射によって、ラジカルや酸を発生し、連鎖重合反応を開始させる化合物であれば特に限定されないが、例えば、ベンジルジメチルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ジエチルチオキサントン、ベンゾフェノン、２−エチルアンスラキノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、２−メチル−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノ−１−プロパン、２,４,６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスヒンオキサイド、カンファーキノン、９−フルオレノン、ジフェニルジスルヒド等を挙げることができる。具体的には、ＩＲＧＡＣＵＲＥＲＴＭ ６５１、１８４、２９５９、１２７、９０７、３６９、３７９ＥＧ、８１９、７８４、７５４、５００、ＯＸＥ０１、ＯＸＥ０２、ＤＡＲＯＣＵＲＥＲＴＭ１１７３、ＬＵＣＩＲＩＮＲＴＭ ＴＰＯ（いずれもＢＡＳＦ社製）、セイクオールＲＴＭＺ、ＢＺ、ＢＥＥ、ＢＩＰ、ＢＢＩ（いずれも精工化学株式会社製）等を挙げることができる。
本発明の熱線吸収構造体に用いられる熱線吸収膜は、（Ａ−３）光重合開始剤を含有する。光ラジカル重合開始剤としては、紫外線や可視光の照射によって、ラジカルや酸を発生し、連鎖重合反応を開始させる化合物であれば特に限定されないが、例えば、ベンジルジメチルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ジエチルチオキサントン、ベンゾフェノン、２−エチルアンスラキノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、２−メチル−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノ−１−プロパン、２,４,６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスヒンオキサイド、カンファーキノン、９−フルオレノン、ジフェニルジスルヒド等を挙げることができる。具体的には、ＩＲＧＡＣＵＲＥＲＴＭ ６５１、１８４、２９５９、１２７、９０７、３６９、３７９ＥＧ、８１９、７８４、７５４、５００、ＯＸＥ０１、ＯＸＥ０２、ＤＡＲＯＣＵＲＥＲＴＭ１１７３、ＬＵＣＩＲＩＮＲＴＭ ＴＰＯ（いずれもＢＡＳＦ社製）、セイクオールＲＴＭＺ、ＢＺ、ＢＥＥ、ＢＩＰ、ＢＢＩ（いずれも精工化学株式会社製）等を挙げることができる。
（Ａ−３）成分は、３６５ｎｍにおけるモル吸光係数（ε）が５０以上１００００（ｍＬ／ｇ・ｃｍ）以下である場合が好ましく、１００以上８０００（ｍＬ／ｇ・ｃｍ）以下である場合がさらに好ましく、１０００以上７５００（ｍＬ／ｇ・ｃｍ）以下である場合が特にに好ましい。なお、モル吸光係数は、メタノール又はアセトニトリルを溶剤として測定したものである。
３６５ｎｍにおけるモル吸光係数（ε）が１００以上１００００（ｍＬ／ｇ・ｃｍ）以下である光重合開始剤とは、ＩＲＧＡＣＵＲＥＲＴＭ ６５１（メタノール中ε＝３６０ｍＬ／ｇ・ｃｍ）、ＩＲＧＡＣＵＲＥＲＴＭ ９０７（メタノール中ε＝４７００ｍＬ／ｇ・ｃｍ）、ＩＲＧＡＣＵＲＥＲＴＭ ３６９（メタノール中ε＝７９００ｍＬ／ｇ・ｃｍ）、ＩＲＧＡＣＵＲＥＲＴＭ ３７９（メタノール中ε＝７９００ｍＬ／ｇ・ｃｍ）、ＩＲＧＡＣＵＲＥＲＴＭ ８１９（メタノール中ε＝２３００ｍＬ／ｇ・ｃｍ）、ＬＵＣＩＲＩＮＲＴＭ ＴＰＯ（アセトニトリル中ε＝４７００ｍＬ／ｇ・ｃｍ）、ＩＲＧＡＣＵＲＥＲＴＭ ＯＸＥ−０１（アセトニトリル中ε＝７０００ｍＬ／ｇ・ｃｍ）、ＩＲＧＡＣＵＲＥＲＴＭ ＯＸＥ−０２（アセトニトリル中ε＝７７００ｍＬ／ｇ・ｃｍ）等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
３６５ｎｍにおけるモル吸光係数（ε）が１００以上１００００（ｍＬ／ｇ・ｃｍ）以下である光重合開始剤とは、ＩＲＧＡＣＵＲＥＲＴＭ ６５１（メタノール中ε＝３６０ｍＬ／ｇ・ｃｍ）、ＩＲＧＡＣＵＲＥＲＴＭ ９０７（メタノール中ε＝４７００ｍＬ／ｇ・ｃｍ）、ＩＲＧＡＣＵＲＥＲＴＭ ３６９（メタノール中ε＝７９００ｍＬ／ｇ・ｃｍ）、ＩＲＧＡＣＵＲＥＲＴＭ ３７９（メタノール中ε＝７９００ｍＬ／ｇ・ｃｍ）、ＩＲＧＡＣＵＲＥＲＴＭ ８１９（メタノール中ε＝２３００ｍＬ／ｇ・ｃｍ）、ＬＵＣＩＲＩＮＲＴＭ ＴＰＯ（アセトニトリル中ε＝４７００ｍＬ／ｇ・ｃｍ）、ＩＲＧＡＣＵＲＥＲＴＭ ＯＸＥ−０１（アセトニトリル中ε＝７０００ｍＬ／ｇ・ｃｍ）、ＩＲＧＡＣＵＲＥＲＴＭ ＯＸＥ−０２（アセトニトリル中ε＝７７００ｍＬ／ｇ・ｃｍ）等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
成分（Ａ−３）の熱線吸収膜中の含有量は、熱線吸収膜の総量１００質量部中０．０１質量部以上１０質量部以下が好ましい。
この含有量の好ましい上限としては、７質量部、更に好ましくは５質量部、特に好ましくは４質量部、最も好ましくは３質量部である。
また好ましい下限としては、０．０１質量部、更に好ましくは０．１質量部、特に好ましくは１質量部、最も好ましくは１．５質量部である。
成分（Ａ−２）の熱線吸収膜中の含有量として最も好ましい範囲は１．５質量部以上３質量部以下である。
この含有量の好ましい上限としては、７質量部、更に好ましくは５質量部、特に好ましくは４質量部、最も好ましくは３質量部である。
また好ましい下限としては、０．０１質量部、更に好ましくは０．１質量部、特に好ましくは１質量部、最も好ましくは１．５質量部である。
成分（Ａ−２）の熱線吸収膜中の含有量として最も好ましい範囲は１．５質量部以上３質量部以下である。
［（Ａ−４）シランカップリング剤］
本発明の熱線吸収構造体に用いられる熱線吸収膜は、（Ａ−４）シランカップリング剤を含有しても良い。シランカップリング剤を含有させることで、更なる接着強度向上が実現できる。
（Ａ−４）シランカップリング剤としては、例えばビニルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−１００３）、ビニルトリエトキシシラン（ＫＢＥ−１００３）、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−３０３）、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン（ＫＢＭ−４０２）、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−４０３）、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン（ＫＢＥ−４０２）、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン（ＫＢＥ−４０３）、ｐ−スチリルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−１４０３）、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン（ＫＢＭ−５０２）、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−５０３）、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン（ＫＢＥ−５０３）、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−５１０３）、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン（ＫＢＭ−６０２）、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−６０３）、３−アミノプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−９０３）、３−アミノプロピルトリエトキシシラン（ＫＢＥ−９０３）、３−トリエトキシシリル−Ｎ−（１，３−ジメチル−ブチリデン）プロピルアミン（ＫＢＥ−９１０３Ｐ）、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−５７３）、Ｎ−（ビニルベンジル）−２−アミノエチル−３−アミノプロピルトリメトキシシランの塩酸塩（ＫＢＭ−５７５）、トリス−（トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレート（ＫＢＭ−９６５９）、３−ウレイドプロピルトリアルコキシシラン（ＫＢＢ−５８５）、３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン（ＫＢＭ−８０２）、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−８０３）、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン（ＫＢＥ−９００７Ｎ）、３−トリメトキシシリルプロピルコハク酸無水物（Ｘ−１２−９６７Ｃ）等を挙げることができる。これらは信越化学工業株式会社等によって販売されている為、市場から容易に入手可能である。
このうち、本発明の効果をより顕著に奏するものは、分子内にウレイド系のシランカップリング剤（ＫＢＥ−５８５）又は酸無水物系のシランカップリング剤（Ｘ−１２−９６７Ｃ）である。
成分（Ａ−４）を用いる場合の熱線吸収膜中の含有量は、熱線吸収膜の総量１００質量部中０．１質量部以上３５質量部以下が好ましい。
この含有量の好ましい上限としては、３０質量部、更に好ましくは２５質量部、特に好ましくは２０質量部、最も好ましくは１０質量部である。
また好ましい下限としては、１質量部、更に好ましくは３質量部、特に好ましくは５質量部、最も好ましくは６質量部である。
成分（Ａ−４）の熱線吸収膜中の含有量として最も好ましい範囲は６質量部以上１０質量部以下である。
本発明の熱線吸収構造体に用いられる熱線吸収膜は、（Ａ−４）シランカップリング剤を含有しても良い。シランカップリング剤を含有させることで、更なる接着強度向上が実現できる。
（Ａ−４）シランカップリング剤としては、例えばビニルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−１００３）、ビニルトリエトキシシラン（ＫＢＥ−１００３）、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−３０３）、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン（ＫＢＭ−４０２）、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−４０３）、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン（ＫＢＥ−４０２）、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン（ＫＢＥ−４０３）、ｐ−スチリルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−１４０３）、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン（ＫＢＭ−５０２）、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−５０３）、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン（ＫＢＥ−５０３）、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−５１０３）、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン（ＫＢＭ−６０２）、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−６０３）、３−アミノプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−９０３）、３−アミノプロピルトリエトキシシラン（ＫＢＥ−９０３）、３−トリエトキシシリル−Ｎ−（１，３−ジメチル−ブチリデン）プロピルアミン（ＫＢＥ−９１０３Ｐ）、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−５７３）、Ｎ−（ビニルベンジル）−２−アミノエチル−３−アミノプロピルトリメトキシシランの塩酸塩（ＫＢＭ−５７５）、トリス−（トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレート（ＫＢＭ−９６５９）、３−ウレイドプロピルトリアルコキシシラン（ＫＢＢ−５８５）、３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン（ＫＢＭ−８０２）、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−８０３）、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン（ＫＢＥ−９００７Ｎ）、３−トリメトキシシリルプロピルコハク酸無水物（Ｘ−１２−９６７Ｃ）等を挙げることができる。これらは信越化学工業株式会社等によって販売されている為、市場から容易に入手可能である。
このうち、本発明の効果をより顕著に奏するものは、分子内にウレイド系のシランカップリング剤（ＫＢＥ−５８５）又は酸無水物系のシランカップリング剤（Ｘ−１２−９６７Ｃ）である。
成分（Ａ−４）を用いる場合の熱線吸収膜中の含有量は、熱線吸収膜の総量１００質量部中０．１質量部以上３５質量部以下が好ましい。
この含有量の好ましい上限としては、３０質量部、更に好ましくは２５質量部、特に好ましくは２０質量部、最も好ましくは１０質量部である。
また好ましい下限としては、１質量部、更に好ましくは３質量部、特に好ましくは５質量部、最も好ましくは６質量部である。
成分（Ａ−４）の熱線吸収膜中の含有量として最も好ましい範囲は６質量部以上１０質量部以下である。
［（Ａ−５）分散剤］
本発明の熱線吸収構造体に用いられる熱線吸収膜は、（Ａ−５）分散剤を含有しても良い。分散剤を含有させることで、成分（Ａ−１）の成分中での均一性を向上することが可能である。
（Ａ−５）分散剤としては、例えば以下のものを挙げることができる。フローレンＤＯＰＡ−１５Ｂ、フローレンＤＯＰＡ−１７（共栄社化学株式会社製）、ソルプラスＡＸ５、ソルプラスＴＸ５、ソルスパース９０００、ソルスパース１２０００、ソルスパース１７０００、ソルスパース２００００、ソルスパース２１０００、ソルスパース２４０００、ソルスパース２６０００、ソルスパース２７０００、ソルスパース２８０００、ソルスパース３２０００、ソルスパース３５１００、ソルスパース５４０００、ソルシックス２５０、（日本ルーブリゾール株式会社製）、ＥＦＫＡ４００８、ＥＦＫＡ４００９、ＥＦＫＡ４０１０、ＥＦＫＡ４０１５、ＥＦＫＡ４０４６、ＥＦＫＡ４０４７、ＥＦＫＡ４０６０、ＥＦＫＡ４０８０、ＥＦＫＡ７４６２、ＥＦＫＡ４０２０、ＥＦＫＡ４０５０、ＥＦＫＡ４０５５、ＥＦＫＡ４４００、ＥＦＫＡ４４０１、ＥＦＫＡ４４０２、ＥＦＫＡ４４０３、ＥＦＫＡ４３００、ＥＦＫＡ４３２０、ＥＦＫＡ４３３０、ＥＦＫＡ４３４０、ＥＦＫＡ５０６５、ＥＦＫＡ５２２０、ＥＦＫＡ６２２０、ＥＦＫＡ６２２５、ＥＦＫＡ６２３０、ＥＦＫＡ６７００、ＥＦＫＡ６７８０、ＥＦＫＡ６７８２、ＥＦＫＡ８５０３（ＢＡＳＦジャパン株式会社製）、アジスパーＰＡ１１１、アジスパーＰＢ７１１、アジスパーＰＢ８２１、アジスパーＰＢ８２２、アジスパーＰＮ４１１、フェイメックスＬ−１２（味の素ファインテクノ株式会社製）、ＴＥＸＡＰＨＯＲ−ＵＶ２１、ＴＥＸＡＰＨＯＲ−ＵＶ６１（コグニスジャパン株式会社製）、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１０１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１０２、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１０６、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１０８、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１１０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１１１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１１６、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１３０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１４０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１４２、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１４５、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６２、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６３、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６４、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６６、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６７、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６８、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１７０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１７１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１７４、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１８０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１８２ 、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１９２、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１９３ 、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０００、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２００１ 、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０２０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０２５、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０５０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０７０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２１５５、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２１６４、ＢＹＫ２２０Ｓ、ＢＹＫ３００、ＢＹＫ３０６、ＢＹＫ３２０、ＢＹＫ３２２、ＢＹＫ３２５、ＢＹＫ３３０、ＢＹＫ３４０、ＢＹＫ３５０、ＢＹＫ３７７、ＢＹＫ３７８、ＢＹＫ３８０Ｎ、ＢＹＫ４１０、ＢＹＫ４２５、ＢＹＫ４３０（ビックケミー・ジャパン株式会社製）、ディスパロン１７５１Ｎ、ディスパロン１８３１、ディスパロン１８５０、ディスパロン１８６０、ディスパロン１９３４、ディスパロンＤＡ−４００Ｎ 、ディスパロンＤＡ−７０３−５０、ディスパロンＤＡ−７２５、ディスパロンＤＡ−７０５、ディスパロンＤＡ−７３０１、ディスパロンＤＮ−９００、ディスパロンＮＳ−５２１０、ディスパロンＮＶＩ−８５１４Ｌ、ヒップラードＥＤ−１５２、ヒップラードＥＤ−２１６ 、ヒップラードＥＤ−２５１、ヒップラードＥＤ−３６０（楠本化成株式会社）、ＦＴＸ−２０７Ｓ、ＦＴＸ−２１２Ｐ、ＦＴＸ−２２０Ｐ、ＦＴＸ−２２０Ｓ、ＦＴＸ−２２８Ｐ、ＦＴＸ−７１０ＬＬ、ＦＴＸ−７５０ＬＬ、フタージェント２１２Ｐ、フタージェント２２０Ｐ、フタージェント２２２Ｆ、フタージェント２２８Ｐ、フタージェント２４５Ｆ、フタージェント２４５Ｐ、フタージェント２５０、フタージェント２５１、フタージェント７１０ＦＭ、フタージェント７３０ＦＭ、フタージェント７３０ＬＬ、フタージェント７３０ＬＳ、フタージェント７５０ＤＭ、フタージェント７５０ＦＭ（ 株式会社ネオス製）、ＡＳ−１１００、ＡＳ−１８００、ＡＳ−２０００（東亞合成株式会社製）、カオーセラ２０００、カオーセラ２１００、ＫＤＨ−１５４、ＭＸ−２０４５Ｌ、ホモゲノールＬ−１８、ホモゲノールＬ−９５、レオドールＳＰ−０１０Ｖ、レオドールＳＰ−０３０Ｖ、レオドールＳＰ−Ｌ１０、レオドールＳＰ−Ｐ１０（花王株式会社製）、エバンＵ１０３、シアノールＤＣ９０２Ｂ、ノイゲンＥＡ−１６７、ブライサーフＡ２１９Ｂ、ブライサーフＡＬ（第一工業製薬株式会社製）、メガファックＦ−４７７、メガファック４８０ＳＦ、メガファックＦ−４８２、（ＤＩＣ株式会社製）、シルフェイスＳＡＧ５０３Ａ、ダイノール６０４（日信化学工業株式会社製）、ＳＮスパーズ２１８０、ＳＮスパーズ２１９０、ＳＮレベラーＳ−９０６（サンノプコ株式会社製）、Ｓ−３８６、Ｓ−４２０（ＡＧＣセイミケミカル株式会社製）といったものが例示できる。
このうち、アニオン系分散剤がより好ましく、酸価が酸価が１０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）以上４００（ｍｇＫＯＨ／ｇ）以下のアニオン系分散剤が更に好ましく、酸価が４０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）以上２５０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）以下のアニオン系分散剤が特に好ましく、酸価が５０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）以上１５０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）以下のアニオン系分散剤が最も好ましい。
本発明の熱線吸収構造体に用いられる熱線吸収膜は、（Ａ−５）分散剤を含有しても良い。分散剤を含有させることで、成分（Ａ−１）の成分中での均一性を向上することが可能である。
（Ａ−５）分散剤としては、例えば以下のものを挙げることができる。フローレンＤＯＰＡ−１５Ｂ、フローレンＤＯＰＡ−１７（共栄社化学株式会社製）、ソルプラスＡＸ５、ソルプラスＴＸ５、ソルスパース９０００、ソルスパース１２０００、ソルスパース１７０００、ソルスパース２００００、ソルスパース２１０００、ソルスパース２４０００、ソルスパース２６０００、ソルスパース２７０００、ソルスパース２８０００、ソルスパース３２０００、ソルスパース３５１００、ソルスパース５４０００、ソルシックス２５０、（日本ルーブリゾール株式会社製）、ＥＦＫＡ４００８、ＥＦＫＡ４００９、ＥＦＫＡ４０１０、ＥＦＫＡ４０１５、ＥＦＫＡ４０４６、ＥＦＫＡ４０４７、ＥＦＫＡ４０６０、ＥＦＫＡ４０８０、ＥＦＫＡ７４６２、ＥＦＫＡ４０２０、ＥＦＫＡ４０５０、ＥＦＫＡ４０５５、ＥＦＫＡ４４００、ＥＦＫＡ４４０１、ＥＦＫＡ４４０２、ＥＦＫＡ４４０３、ＥＦＫＡ４３００、ＥＦＫＡ４３２０、ＥＦＫＡ４３３０、ＥＦＫＡ４３４０、ＥＦＫＡ５０６５、ＥＦＫＡ５２２０、ＥＦＫＡ６２２０、ＥＦＫＡ６２２５、ＥＦＫＡ６２３０、ＥＦＫＡ６７００、ＥＦＫＡ６７８０、ＥＦＫＡ６７８２、ＥＦＫＡ８５０３（ＢＡＳＦジャパン株式会社製）、アジスパーＰＡ１１１、アジスパーＰＢ７１１、アジスパーＰＢ８２１、アジスパーＰＢ８２２、アジスパーＰＮ４１１、フェイメックスＬ−１２（味の素ファインテクノ株式会社製）、ＴＥＸＡＰＨＯＲ−ＵＶ２１、ＴＥＸＡＰＨＯＲ−ＵＶ６１（コグニスジャパン株式会社製）、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１０１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１０２、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１０６、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１０８、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１１０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１１１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１１６、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１３０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１４０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１４２、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１４５、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６２、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６３、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６４、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６６、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６７、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１６８、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１７０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１７１、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１７４、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１８０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１８２ 、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１９２、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ１９３ 、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０００、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２００１ 、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０２０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０２５、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０５０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２０７０、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２１５５、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ２１６４、ＢＹＫ２２０Ｓ、ＢＹＫ３００、ＢＹＫ３０６、ＢＹＫ３２０、ＢＹＫ３２２、ＢＹＫ３２５、ＢＹＫ３３０、ＢＹＫ３４０、ＢＹＫ３５０、ＢＹＫ３７７、ＢＹＫ３７８、ＢＹＫ３８０Ｎ、ＢＹＫ４１０、ＢＹＫ４２５、ＢＹＫ４３０（ビックケミー・ジャパン株式会社製）、ディスパロン１７５１Ｎ、ディスパロン１８３１、ディスパロン１８５０、ディスパロン１８６０、ディスパロン１９３４、ディスパロンＤＡ−４００Ｎ 、ディスパロンＤＡ−７０３−５０、ディスパロンＤＡ−７２５、ディスパロンＤＡ−７０５、ディスパロンＤＡ−７３０１、ディスパロンＤＮ−９００、ディスパロンＮＳ−５２１０、ディスパロンＮＶＩ−８５１４Ｌ、ヒップラードＥＤ−１５２、ヒップラードＥＤ−２１６ 、ヒップラードＥＤ−２５１、ヒップラードＥＤ−３６０（楠本化成株式会社）、ＦＴＸ−２０７Ｓ、ＦＴＸ−２１２Ｐ、ＦＴＸ−２２０Ｐ、ＦＴＸ−２２０Ｓ、ＦＴＸ−２２８Ｐ、ＦＴＸ−７１０ＬＬ、ＦＴＸ−７５０ＬＬ、フタージェント２１２Ｐ、フタージェント２２０Ｐ、フタージェント２２２Ｆ、フタージェント２２８Ｐ、フタージェント２４５Ｆ、フタージェント２４５Ｐ、フタージェント２５０、フタージェント２５１、フタージェント７１０ＦＭ、フタージェント７３０ＦＭ、フタージェント７３０ＬＬ、フタージェント７３０ＬＳ、フタージェント７５０ＤＭ、フタージェント７５０ＦＭ（ 株式会社ネオス製）、ＡＳ−１１００、ＡＳ−１８００、ＡＳ−２０００（東亞合成株式会社製）、カオーセラ２０００、カオーセラ２１００、ＫＤＨ−１５４、ＭＸ−２０４５Ｌ、ホモゲノールＬ−１８、ホモゲノールＬ−９５、レオドールＳＰ−０１０Ｖ、レオドールＳＰ−０３０Ｖ、レオドールＳＰ−Ｌ１０、レオドールＳＰ−Ｐ１０（花王株式会社製）、エバンＵ１０３、シアノールＤＣ９０２Ｂ、ノイゲンＥＡ−１６７、ブライサーフＡ２１９Ｂ、ブライサーフＡＬ（第一工業製薬株式会社製）、メガファックＦ−４７７、メガファック４８０ＳＦ、メガファックＦ−４８２、（ＤＩＣ株式会社製）、シルフェイスＳＡＧ５０３Ａ、ダイノール６０４（日信化学工業株式会社製）、ＳＮスパーズ２１８０、ＳＮスパーズ２１９０、ＳＮレベラーＳ−９０６（サンノプコ株式会社製）、Ｓ−３８６、Ｓ−４２０（ＡＧＣセイミケミカル株式会社製）といったものが例示できる。
このうち、アニオン系分散剤がより好ましく、酸価が酸価が１０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）以上４００（ｍｇＫＯＨ／ｇ）以下のアニオン系分散剤が更に好ましく、酸価が４０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）以上２５０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）以下のアニオン系分散剤が特に好ましく、酸価が５０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）以上１５０（ｍｇＫＯＨ／ｇ）以下のアニオン系分散剤が最も好ましい。
（Ａ−５）成分を含有する場合にその含有量は、熱線吸収膜の総量１００質量部中１質量部以上４５質量部以下が好ましい。
この含有量の好ましい上限としては、４０質量部、更に好ましくは３５質量部、特に好ましくは３０質量部、最も好ましくは２５質量部である。
また好ましい下限としては、５質量部、更に好ましくは８質量部、特に好ましくは１０質量部、最も好ましくは１５質量部である。
成分（Ａ−２）の熱線吸収膜中の含有量として最も好ましい範囲は１５質量部以上２５質量部以下である。
この含有量の好ましい上限としては、４０質量部、更に好ましくは３５質量部、特に好ましくは３０質量部、最も好ましくは２５質量部である。
また好ましい下限としては、５質量部、更に好ましくは８質量部、特に好ましくは１０質量部、最も好ましくは１５質量部である。
成分（Ａ−２）の熱線吸収膜中の含有量として最も好ましい範囲は１５質量部以上２５質量部以下である。
［その他成分］
本発明の熱線吸収構造体に用いられる（Ａ）熱線吸収膜は、必要に応じ、例えばレベリング剤、消泡剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、酸化防止剤、重合禁止剤架橋剤、可塑剤、無機微粒子、フィラー等を添加し、それぞれ目的とする機能性を付与することも可能である。レベリング剤としてはフッ素系化合物、シリコーン系化合物、アクリル系化合物等が挙げられる。紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、トリアジン系化合物等が挙げられ、光安定化剤としてはヒンダードアミン系化合物、ベンゾエート系化合物等が挙げられ、酸化防止剤としてはフェノール系化合物等が挙げられる。重合禁止剤としては、メトキノン、メチルハイドロキノン、ハイドロキノン等が挙げられ、架橋剤としては、前記ポリイソシアネート類、メラミン化合物等が挙げられる。可塑剤としてはジメチルフタレートやジエチルフタレートのようなフタル酸エステル、トリス（２−エチルヘキシル）トリメリテートのようなトリメリト酸エステル、ジメチルアジペートやジブチルアジペートのような脂肪族二塩基酸エステル、トリブチルホスフェートやトリフェニルホスフェートのような正燐酸エステル、グリセルトリアセテートや２−エチルヘキシルアセテートのような酢酸エステルが挙げられる。
本発明の熱線吸収構造体に用いられる（Ａ）熱線吸収膜は、必要に応じ、例えばレベリング剤、消泡剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、酸化防止剤、重合禁止剤架橋剤、可塑剤、無機微粒子、フィラー等を添加し、それぞれ目的とする機能性を付与することも可能である。レベリング剤としてはフッ素系化合物、シリコーン系化合物、アクリル系化合物等が挙げられる。紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、トリアジン系化合物等が挙げられ、光安定化剤としてはヒンダードアミン系化合物、ベンゾエート系化合物等が挙げられ、酸化防止剤としてはフェノール系化合物等が挙げられる。重合禁止剤としては、メトキノン、メチルハイドロキノン、ハイドロキノン等が挙げられ、架橋剤としては、前記ポリイソシアネート類、メラミン化合物等が挙げられる。可塑剤としてはジメチルフタレートやジエチルフタレートのようなフタル酸エステル、トリス（２−エチルヘキシル）トリメリテートのようなトリメリト酸エステル、ジメチルアジペートやジブチルアジペートのような脂肪族二塩基酸エステル、トリブチルホスフェートやトリフェニルホスフェートのような正燐酸エステル、グリセルトリアセテートや２−エチルヘキシルアセテートのような酢酸エステルが挙げられる。
［（Ｂ）熱線反射膜］
本発明の熱線遮蔽構造体は（Ｂ）熱線反射膜を有する。
熱線反射膜とは、７８０ｎｍ〜２５００ｎｍの波長の光を反射し、熱エネルギーを透過させない層を意味する。ただし、全ての熱エネルギーを完全に透過させないものである必要はなく、反射率が２０％以上、より好ましくは２５％以上程度であってもよい。
７８０ｎｍ〜２５００ｎｍの波長の光を反射する層としては、
（Ｂ−１）高屈折率層と低屈折率層の繰り返し多層構造を有する熱線反射膜、
（Ｂ−２）コレステリック液晶を用いた熱線反射膜、
（Ｂ−３）少なくともＡｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌのいずれかを含有する熱線反射層等を挙げることができる。なお、本発明において（Ｂ−１）〜（Ｂ−３）はいずれか一つを有すれば良いが、複数を組み合わせても良い。また、本発明においては、（Ｂ−１）高屈折率層と低屈折率層の繰り返し多層構造を有する熱線反射膜を用いる態様が特に好ましい。
本発明の熱線遮蔽構造体は（Ｂ）熱線反射膜を有する。
熱線反射膜とは、７８０ｎｍ〜２５００ｎｍの波長の光を反射し、熱エネルギーを透過させない層を意味する。ただし、全ての熱エネルギーを完全に透過させないものである必要はなく、反射率が２０％以上、より好ましくは２５％以上程度であってもよい。
７８０ｎｍ〜２５００ｎｍの波長の光を反射する層としては、
（Ｂ−１）高屈折率層と低屈折率層の繰り返し多層構造を有する熱線反射膜、
（Ｂ−２）コレステリック液晶を用いた熱線反射膜、
（Ｂ−３）少なくともＡｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌのいずれかを含有する熱線反射層等を挙げることができる。なお、本発明において（Ｂ−１）〜（Ｂ−３）はいずれか一つを有すれば良いが、複数を組み合わせても良い。また、本発明においては、（Ｂ−１）高屈折率層と低屈折率層の繰り返し多層構造を有する熱線反射膜を用いる態様が特に好ましい。
［（Ｂ−１）高屈折率層と低屈折率層の繰り返し多層構造を有する熱線反射膜］
（Ｂ−１）高屈折率層と低屈折率層の繰り返し多層構造を有する熱線反射膜は、高屈折率材料層（以下高屈折率層とも言う）と低屈折率材料層（以下低屈折率層とも言う）とを交互に積層して構成される。高屈折率層の屈折率は、好ましくは、１．６０〜２．４０程度であり、より好ましくは１．８０〜２．１０程度である。低屈折率層の屈折率は１．３０〜１．５０程度であり、好ましくは１．３４〜１．５０程度であり、両者は、少なくとも０．１、好ましくは少なくとも０．３、より好ましくは少なくとも０．４の屈折率の差を有することが好ましい。
それぞれの光学膜厚（屈折率ｎと膜厚ｄとの積ｎｄ）は反射させる波長領域の中心波長をλｃとすると、λｃ／４となるように制御されている。高屈折率材料としては酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化ハフニウム等が用いられ、低屈折率材料としては、酸化ケイ素、フッ化マグネシウム、フッ化セリウム等が用いられる。
（Ｂ−１）高屈折率層と低屈折率層の繰り返し多層構造を有する熱線反射膜は、高屈折率材料層（以下高屈折率層とも言う）と低屈折率材料層（以下低屈折率層とも言う）とを交互に積層して構成される。高屈折率層の屈折率は、好ましくは、１．６０〜２．４０程度であり、より好ましくは１．８０〜２．１０程度である。低屈折率層の屈折率は１．３０〜１．５０程度であり、好ましくは１．３４〜１．５０程度であり、両者は、少なくとも０．１、好ましくは少なくとも０．３、より好ましくは少なくとも０．４の屈折率の差を有することが好ましい。
それぞれの光学膜厚（屈折率ｎと膜厚ｄとの積ｎｄ）は反射させる波長領域の中心波長をλｃとすると、λｃ／４となるように制御されている。高屈折率材料としては酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化ハフニウム等が用いられ、低屈折率材料としては、酸化ケイ素、フッ化マグネシウム、フッ化セリウム等が用いられる。
前記高屈折率材料層、低屈折率材料層はスパッタリング、蒸着、スプレー等、公知の方法で作製することができる（例えば、特許第３３９７８２４号）。また、各屈折率材料層の微粒子をマトリックスに分散させて塗布する方法でも構わない。その際可視透過率、ヘイズ値を考慮して粒子径は２００ｎｍ以下が好ましい。
（Ｂ−１）高屈折率層と低屈折率層の繰り返し多層構造を有する熱線反射膜の特性を高効率（高反射）にするには、層数を多くすることが必要である。しかし層数を多くすると、各膜厚のバラツキ、製造コストの上昇等の問題があるので、３層以上、１１層以下が好ましい。
好ましい態様によれば、誘電体多層膜を有する本発明の熱線遮蔽構造体においては、熱線遮蔽層に、近赤外線吸収色素を含むことなく、可視光透過率７０％以上、好ましくは７５％以上、更に好ましくは８０％以上で、かつ、ヘイズが２％以下、好ましくは１．５％以下、更に好ましくは１％以下で、該熱線遮蔽構造体通過後の全日射エネルギー透過率を７０％以下、好ましくは、６５％以下、より好ましくは５５％以下を達成することが出来る。また、必要に応じて、熱線遮蔽層に、近赤外線吸収色素を含ませても良い。好ましい態様によれば、誘電体多層膜が、高屈折率層と低屈折率層の屈折率差が少なくとも０．３、より好ましくは少なくとも０．４となる材料を交互に積層し、上記の目標値を達成するように積層した誘電多層膜の場合であり、より好ましい対応においては高屈折率層が酸化チタンを含有し、低屈折率層が酸化ケイ素を含有する層であり、３層〜１１層の間で上記の目標値を達成するように交互に積層された誘電体多層膜である場合である。
好ましい態様によれば、誘電体多層膜を有する本発明の熱線遮蔽構造体においては、熱線遮蔽層に、近赤外線吸収色素を含むことなく、可視光透過率７０％以上、好ましくは７５％以上、更に好ましくは８０％以上で、かつ、ヘイズが２％以下、好ましくは１．５％以下、更に好ましくは１％以下で、該熱線遮蔽構造体通過後の全日射エネルギー透過率を７０％以下、好ましくは、６５％以下、より好ましくは５５％以下を達成することが出来る。また、必要に応じて、熱線遮蔽層に、近赤外線吸収色素を含ませても良い。好ましい態様によれば、誘電体多層膜が、高屈折率層と低屈折率層の屈折率差が少なくとも０．３、より好ましくは少なくとも０．４となる材料を交互に積層し、上記の目標値を達成するように積層した誘電多層膜の場合であり、より好ましい対応においては高屈折率層が酸化チタンを含有し、低屈折率層が酸化ケイ素を含有する層であり、３層〜１１層の間で上記の目標値を達成するように交互に積層された誘電体多層膜である場合である。
［（Ｂ−２）コレステリック液晶を用いた熱線反射膜］
（Ｂ−２）コレステリック液晶を用いた熱線反射膜は、一平面上では分子軸が一定の方向に並んでいるが、次の平面では分子軸の方向が少し角度をなしてずれ、さらに次の平面では角度がずれるという具合に、該平面の法線方向に分子軸の角度が次々にずれていく構造である。このような分子軸の方向がねじれていく構造はカイラル構造と呼ばれる。該平面の法線（カイラル軸）はコレステリック液晶層の厚み方向に略平行になっていることが好ましい。
コレステリック液晶材料に光が入射すると、特定波長領域の左回り及び右回りのうち一方の円偏光が反射される。カイラル構造において分子軸がねじれる時の回転軸を表すらせん軸と、コレステリック液晶材料の法線とが平行である場合、カイラル構造のピッチ長ｐと反射される円偏光の波長λｃとは下記数式（１）および式（２）の関係を有する。
数式（１）及び数式（２）中、λｃは反射させる波長領域の中心波長、ｎｏは液晶化合物の短軸方向の屈折率、ｎｅは液晶化合物の長軸方向の屈折率、ｎは（ｎｏ＋ｎｅ）／２、θは光の入射角（面法線からの角度）を表す。
これより、反射させる波長領域の中心波長は、コレステリック液晶材料におけるカイラル構造のピッチ長に依存する。このカイラル構造のピッチ長を変えることにより反射させる中心波長を変えることができる。
（Ｂ−２）コレステリック液晶を用いた熱線反射膜は、一平面上では分子軸が一定の方向に並んでいるが、次の平面では分子軸の方向が少し角度をなしてずれ、さらに次の平面では角度がずれるという具合に、該平面の法線方向に分子軸の角度が次々にずれていく構造である。このような分子軸の方向がねじれていく構造はカイラル構造と呼ばれる。該平面の法線（カイラル軸）はコレステリック液晶層の厚み方向に略平行になっていることが好ましい。
コレステリック液晶材料に光が入射すると、特定波長領域の左回り及び右回りのうち一方の円偏光が反射される。カイラル構造において分子軸がねじれる時の回転軸を表すらせん軸と、コレステリック液晶材料の法線とが平行である場合、カイラル構造のピッチ長ｐと反射される円偏光の波長λｃとは下記数式（１）および式（２）の関係を有する。
これより、反射させる波長領域の中心波長は、コレステリック液晶材料におけるカイラル構造のピッチ長に依存する。このカイラル構造のピッチ長を変えることにより反射させる中心波長を変えることができる。
コレステリック液晶材料の層数は、１層でもよく、２層以上でもよい。層数が２層以上あると、反射できる近赤外線の波長帯域を広げることができるので好ましい。
コレステリック液晶材料を２層以上にする場合、反射させる中心波長領域をより効率的に反射させるには、分子軸のねじれ方向が異なるコレステリック液晶層を組み合わせることが好ましい。つまり右円偏光と左円偏光の両方を反射することが可能となり、効果的な反射率を実現することができる。また、コレステリック液晶材料を２層以上にする際、反射させる波長領域を広範囲にしたい場合は、ピッチ長の異なるコレステリック液晶層を組み合わせることが好ましく、さらにねじれ方向が異なるコレステリック液晶層を組み合わせることでより広範囲な近赤外波長領域を高効率に反射することが可能である。層数、右円偏光、左円偏光コレステリック液晶層等の組合せは、製造コスト、可視光透過率等を鑑みて適切な組み合わせを用いることができる。
コレステリック液晶材料を２層以上にする場合、反射させる中心波長領域をより効率的に反射させるには、分子軸のねじれ方向が異なるコレステリック液晶層を組み合わせることが好ましい。つまり右円偏光と左円偏光の両方を反射することが可能となり、効果的な反射率を実現することができる。また、コレステリック液晶材料を２層以上にする際、反射させる波長領域を広範囲にしたい場合は、ピッチ長の異なるコレステリック液晶層を組み合わせることが好ましく、さらにねじれ方向が異なるコレステリック液晶層を組み合わせることでより広範囲な近赤外波長領域を高効率に反射することが可能である。層数、右円偏光、左円偏光コレステリック液晶層等の組合せは、製造コスト、可視光透過率等を鑑みて適切な組み合わせを用いることができる。
［（Ｂ−３）少なくともＡｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌのいずれかを含有する熱線反射層］
（Ｂ−３）少なくともＡｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌのいずれかを含有する熱線反射層は、金属導体の自由電子の電磁波遮蔽効果により生じる反射を原理としている。金属単層から成り、蒸着、スパッタリングといった乾式コーティングにより作製される。金属単層で高い反射率が得られるためコーティング回数が少なく製造プロセスへの負荷を少なくすることができる。
（Ｂ−３）少なくともＡｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌのいずれかを含有する熱線反射層は、金属導体の自由電子の電磁波遮蔽効果により生じる反射を原理としている。金属単層から成り、蒸着、スパッタリングといった乾式コーティングにより作製される。金属単層で高い反射率が得られるためコーティング回数が少なく製造プロセスへの負荷を少なくすることができる。
＜（Ａ）熱線吸収膜の製造方法＞
（Ａ−１）無機酸化物及び／又は色素、（Ａ−２）２以上の（メタ）アクリロイル基と極性官能基を併せ持つバインダー樹脂、（Ａ−３）光重合開始剤、必要に応じて、（Ａ−４）シランカップリング剤、（Ａ−５）分散剤、トルエン等の有機溶剤を混合し、最適な分散方法を用いて分散した後、例えば（Ｂ）熱線反射膜、後述する（Ｃ）熱可塑性樹脂膜、ガラス等、また剥離性を有する基材（ＰＥＴ）の上に塗布する。なお、剥離性を有する基材（例えばＰＥＴ）を用いる場合には、（Ｂ）熱線反射膜、（Ｃ）熱可塑性樹脂膜、ガラス等に転写することで熱線吸収膜の層を形成する。
（Ａ−１）無機酸化物及び／又は色素、（Ａ−２）２以上の（メタ）アクリロイル基と極性官能基を併せ持つバインダー樹脂、（Ａ−３）光重合開始剤、必要に応じて、（Ａ−４）シランカップリング剤、（Ａ−５）分散剤、トルエン等の有機溶剤を混合し、最適な分散方法を用いて分散した後、例えば（Ｂ）熱線反射膜、後述する（Ｃ）熱可塑性樹脂膜、ガラス等、また剥離性を有する基材（ＰＥＴ）の上に塗布する。なお、剥離性を有する基材（例えばＰＥＴ）を用いる場合には、（Ｂ）熱線反射膜、（Ｃ）熱可塑性樹脂膜、ガラス等に転写することで熱線吸収膜の層を形成する。
（分散方法）
好ましい分散方法はビーズミルであり、特定な分散エネルギー領域で分散させる方法を挙げることができる。分散エネルギーが該特定な範囲を外れて低すぎる場合は、粒子同士が凝集した状態となり、導電パスが形成され、表面抵抗が下がるだけでなく、シート平滑性が悪化し、近赤外反射性能の低下、高ヘイズが問題となる。また、分散エネルギーを高くし過ぎると、微粒子の近赤外反射機能が低下する事が判明した。この原因は不明であるが、あまり高エネルギーでの分散では、微粒子表面に傷が付くなど微粒子に変化が生じ、反射性能が低下すると推察される。上記の反射率と上記の表面抵抗を達成するには特定な分散エネルギー領域が存在し、該特定なエネルギー領域で分散させた場合、個々の該微粒子がバインダー成分で覆われて、該微粒子の再凝集や連結が防止され、バインダー成分中にマトリックス状に分散され、成膜した際に、上記の反射率と上記の表面抵抗を達成するものと推察される。ビーズミルを用いた場合、上記の特定なエネルギー領域としては３〜１２ｍ／ｓの周速、好ましくは３〜１１ｍ／ｓの周速、より好ましくは３〜１０ｍ／ｓの周速が適当であり、更に好ましい態様としては、４〜１２ｍ／ｓの周速又は４〜１１ｍ／ｓの周速を挙げることができ、最も好ましい態様としては、５〜１２ｍ／ｓの周速、又は、場合により、５〜１１ｍ／ｓ又は５〜１０ｍの周速を挙げることができる。上記した様に、周速が遅すぎると、微粒子を十分分散できずに、周速があまり早すぎると反射性能の低下で、遮熱性能が低下する。
好ましい分散方法はビーズミルであり、特定な分散エネルギー領域で分散させる方法を挙げることができる。分散エネルギーが該特定な範囲を外れて低すぎる場合は、粒子同士が凝集した状態となり、導電パスが形成され、表面抵抗が下がるだけでなく、シート平滑性が悪化し、近赤外反射性能の低下、高ヘイズが問題となる。また、分散エネルギーを高くし過ぎると、微粒子の近赤外反射機能が低下する事が判明した。この原因は不明であるが、あまり高エネルギーでの分散では、微粒子表面に傷が付くなど微粒子に変化が生じ、反射性能が低下すると推察される。上記の反射率と上記の表面抵抗を達成するには特定な分散エネルギー領域が存在し、該特定なエネルギー領域で分散させた場合、個々の該微粒子がバインダー成分で覆われて、該微粒子の再凝集や連結が防止され、バインダー成分中にマトリックス状に分散され、成膜した際に、上記の反射率と上記の表面抵抗を達成するものと推察される。ビーズミルを用いた場合、上記の特定なエネルギー領域としては３〜１２ｍ／ｓの周速、好ましくは３〜１１ｍ／ｓの周速、より好ましくは３〜１０ｍ／ｓの周速が適当であり、更に好ましい態様としては、４〜１２ｍ／ｓの周速又は４〜１１ｍ／ｓの周速を挙げることができ、最も好ましい態様としては、５〜１２ｍ／ｓの周速、又は、場合により、５〜１１ｍ／ｓ又は５〜１０ｍの周速を挙げることができる。上記した様に、周速が遅すぎると、微粒子を十分分散できずに、周速があまり早すぎると反射性能の低下で、遮熱性能が低下する。
（塗布方法）
塗布方法に関しては、表面を平滑に塗布できれば、特に限定はない。例えば、場合により、コンマコーター、スプレーコーター、ロールコーター、ナイフコーター等も使用出来るが、シート平滑性の為に好ましくはバーコーター、スピンコーター、ダイコーター、マイクログラビアコーター等の薄膜作製に適したコーティング装置の使用が好ましい。
（Ａ）熱線吸収膜の厚みは、一概には言えず、目的とする熱線遮蔽性能や可視光透過率、（Ｂ）熱線反射膜の種類や厚み等により決定される。本発明においては、熱線遮蔽層の可視光透過率は、少なくとも７０％以上が好ましく、より好ましくは７５％以上となる厚さに調整するのが好ましく、一般的には、乾燥後の厚さで、０．１μｍ〜５０μｍ程度の間で調整すれば良い。より好ましくは０．１μｍ〜４０μｍ程度である。樹脂バインダーとして硬化性樹脂を用いる場合、通常０．１μｍ〜３０μｍ、好ましくは０．１μｍ〜２０μｍ程度、更に好ましくは０．１μｍ〜１０μｍの間で調整することができる。上記のようにして得られた熱線遮蔽層における可視光透過率は通常５０％以上、好ましくは７０％以上、より好ましくは７５％以上である。また、該熱線遮蔽層におけるヘイズ値は通常８％以下であり、好ましくは５％以下であり、より好ましくは３％以下であり、更に好ましくは２％以下、最も好ましくは１％以下である。ヘイズ値は低い方が好ましく、本発明の好ましい態様では、０．８％以下であり、より好ましい態様では０．５％以下までにすることができる。ヘイズ値の下限は特にないが、０．１％程度までと思われる。
また（Ｂ）熱線反射膜の厚みは、用いる反射層のタイプによって大きく異なる。一般的に、塗布やスプレーなどの方法で作製される反射層は、乾燥後の厚さで、０．１μｍ〜５０μｍ程度の間が好ましくより好ましくは０．１μｍ〜４０μｍ程度である。樹脂バインダーとして硬化性樹脂を用いる場合、通常０．１μｍ〜３０μｍ、好ましくは０．１μｍ〜２０μｍ程度、更に好ましくは０．１μｍ〜１０μｍの間で調整することができる。また、蒸着やスパッタリング法で作製される場合は、通常０．１ｎｍ〜１００ｎｍであり、より好ましくは１ｎｍ〜５０ｎｍ程度である。
塗布方法に関しては、表面を平滑に塗布できれば、特に限定はない。例えば、場合により、コンマコーター、スプレーコーター、ロールコーター、ナイフコーター等も使用出来るが、シート平滑性の為に好ましくはバーコーター、スピンコーター、ダイコーター、マイクログラビアコーター等の薄膜作製に適したコーティング装置の使用が好ましい。
（Ａ）熱線吸収膜の厚みは、一概には言えず、目的とする熱線遮蔽性能や可視光透過率、（Ｂ）熱線反射膜の種類や厚み等により決定される。本発明においては、熱線遮蔽層の可視光透過率は、少なくとも７０％以上が好ましく、より好ましくは７５％以上となる厚さに調整するのが好ましく、一般的には、乾燥後の厚さで、０．１μｍ〜５０μｍ程度の間で調整すれば良い。より好ましくは０．１μｍ〜４０μｍ程度である。樹脂バインダーとして硬化性樹脂を用いる場合、通常０．１μｍ〜３０μｍ、好ましくは０．１μｍ〜２０μｍ程度、更に好ましくは０．１μｍ〜１０μｍの間で調整することができる。上記のようにして得られた熱線遮蔽層における可視光透過率は通常５０％以上、好ましくは７０％以上、より好ましくは７５％以上である。また、該熱線遮蔽層におけるヘイズ値は通常８％以下であり、好ましくは５％以下であり、より好ましくは３％以下であり、更に好ましくは２％以下、最も好ましくは１％以下である。ヘイズ値は低い方が好ましく、本発明の好ましい態様では、０．８％以下であり、より好ましい態様では０．５％以下までにすることができる。ヘイズ値の下限は特にないが、０．１％程度までと思われる。
また（Ｂ）熱線反射膜の厚みは、用いる反射層のタイプによって大きく異なる。一般的に、塗布やスプレーなどの方法で作製される反射層は、乾燥後の厚さで、０．１μｍ〜５０μｍ程度の間が好ましくより好ましくは０．１μｍ〜４０μｍ程度である。樹脂バインダーとして硬化性樹脂を用いる場合、通常０．１μｍ〜３０μｍ、好ましくは０．１μｍ〜２０μｍ程度、更に好ましくは０．１μｍ〜１０μｍの間で調整することができる。また、蒸着やスパッタリング法で作製される場合は、通常０．１ｎｍ〜１００ｎｍであり、より好ましくは１ｎｍ〜５０ｎｍ程度である。
本明細書においては、（Ａ）熱線吸収膜及び（Ｂ）熱線反射膜を有する構成を、「熱線遮蔽構造体」と定義する。この「熱線遮蔽構造体」はそれ自体で流通する場合や、他のフィルム積層体において形成される場合が想定されるが、上記構造になっている場合には「熱線遮蔽構造体」とする。
また、上記「熱線遮蔽構造体」を支持体の上に形成した場合には、「熱線遮蔽シート」と定義する。支持体としては無機材料、有機材料の何れであっても良いが、例えばＰＥＴフィルムやＴＡＣフィルムといった光学用途に用いられる有機フィルムが好ましい。また、例えば剥離ＰＥＴ上に形成した場合も、「熱線遮蔽シート」であり、この状態での流通が容易である。
そして、上記「熱線遮蔽構造体」及び／又は「熱線遮蔽シート」を、後述する（Ｃ）熱可塑性樹脂膜上に形成したものを「熱線遮蔽中間膜」と定義する。（Ｃ）熱可塑性樹脂膜は、１枚であっても、複数枚であっても良いが、通常は上記「熱線遮蔽構造体」及び／又は「熱線遮蔽シート」を挟み込む形で２枚使用する。また、（Ｃ）熱可塑性樹脂膜上への形成方法としては、上記「熱線遮蔽シート」をそのまま（Ｃ）熱可塑性樹脂膜上へ形成する方法や、剥離ＰＥＴ上に形成し、「熱線遮蔽シート」を（Ｃ）熱可塑性樹脂膜上へ転写して（この場合、形成後、剥離ＰＥＴを取り除く）形成することもできる。
上記「熱線遮蔽中間膜」は、「透明基材用中間膜」として用いることができる。透明基材とは、例えばガラス、ポリカーボネートを挙げることができるが、ガラスを使用し、合わせガラスとする場合が特に好ましい。
また、上記「熱線遮蔽構造体」を支持体の上に形成した場合には、「熱線遮蔽シート」と定義する。支持体としては無機材料、有機材料の何れであっても良いが、例えばＰＥＴフィルムやＴＡＣフィルムといった光学用途に用いられる有機フィルムが好ましい。また、例えば剥離ＰＥＴ上に形成した場合も、「熱線遮蔽シート」であり、この状態での流通が容易である。
そして、上記「熱線遮蔽構造体」及び／又は「熱線遮蔽シート」を、後述する（Ｃ）熱可塑性樹脂膜上に形成したものを「熱線遮蔽中間膜」と定義する。（Ｃ）熱可塑性樹脂膜は、１枚であっても、複数枚であっても良いが、通常は上記「熱線遮蔽構造体」及び／又は「熱線遮蔽シート」を挟み込む形で２枚使用する。また、（Ｃ）熱可塑性樹脂膜上への形成方法としては、上記「熱線遮蔽シート」をそのまま（Ｃ）熱可塑性樹脂膜上へ形成する方法や、剥離ＰＥＴ上に形成し、「熱線遮蔽シート」を（Ｃ）熱可塑性樹脂膜上へ転写して（この場合、形成後、剥離ＰＥＴを取り除く）形成することもできる。
上記「熱線遮蔽中間膜」は、「透明基材用中間膜」として用いることができる。透明基材とは、例えばガラス、ポリカーボネートを挙げることができるが、ガラスを使用し、合わせガラスとする場合が特に好ましい。
［（Ｃ）熱可塑性樹脂膜］
（Ｃ）熱可塑性樹脂膜は、例えばポチビニルブチラール、高密度ポリエチレン樹脂、低密度ポリエチレン樹脂、直鎖状低密度ポリエチレン樹脂、超低密度ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリブタジエン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリメチルペンテン樹脂、ポリスチレン樹脂、エチレン酢酸ビニルコポリマー、アイオノマー樹脂、エチレンビニルアルコール共重合樹脂、エチレンアクリル酸エチル共重合体、アクリロニトリル・スチレン樹脂、アクリロニトリル・塩素化ポリスチレン・スチレン共重合樹脂、アクリロニトリル・アクリルゴム・スチレン共重合樹脂、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合樹脂、アクリロニトリル・ＥＰＤＭ・スチレン共重合樹脂、シリコーンゴム・アクリロニトリル・スチレン共重合樹脂、セルロース・アセテート・ブチレート樹脂、酢酸セルロース樹脂、メタクリル樹脂、エチレン・メチルメタクリレートコポリマー樹脂、エチレン・エチルアクリレート樹脂、塩化ビニル樹脂、塩素化ポリエチレン樹脂、ポリ４フッ化エチレン樹脂、４フッ化エチレン・６フッ化プロピレン共重合樹脂、４フッ化エチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合樹脂、４フッ化エチレン・エチレン共重合樹脂、ポリ３フッ化塩化エチレン樹脂、ポリフッ化ビニリデン樹脂、ナイロン４，６、ナイロン６、ナイロン６，６、ナイロン６，１０、ナイロン６，１２、ナイロン１２、ナイロン６，Ｔ、ナイロン９，Ｔ、芳香族ナイロン樹脂、ポリアセタール樹脂、超高分子量ポリエチレン樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、非晶性コポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、変性ポリフェニレンエーテル樹脂、熱可塑性ポリウレタンエラストマー、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、液晶ポリマー、ポリテトラフロロエチレン樹脂、ポリフロロアルコキシ樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリケトン樹脂、熱可塑性ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリサルフォン樹脂、ポリエーテルサルフォン樹脂、生分解樹脂、バイオマス樹脂等を主成分とする膜を例示することができる。この内好ましくはポリビニルブチラール膜である。
また、本発明の熱線遮蔽構造体では、（Ｃ）熱可塑性樹脂膜を２層以上用いても良く、好ましい態様は２層用いた場合である。
（Ｃ）熱可塑性樹脂膜は、例えばポチビニルブチラール、高密度ポリエチレン樹脂、低密度ポリエチレン樹脂、直鎖状低密度ポリエチレン樹脂、超低密度ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリブタジエン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリメチルペンテン樹脂、ポリスチレン樹脂、エチレン酢酸ビニルコポリマー、アイオノマー樹脂、エチレンビニルアルコール共重合樹脂、エチレンアクリル酸エチル共重合体、アクリロニトリル・スチレン樹脂、アクリロニトリル・塩素化ポリスチレン・スチレン共重合樹脂、アクリロニトリル・アクリルゴム・スチレン共重合樹脂、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合樹脂、アクリロニトリル・ＥＰＤＭ・スチレン共重合樹脂、シリコーンゴム・アクリロニトリル・スチレン共重合樹脂、セルロース・アセテート・ブチレート樹脂、酢酸セルロース樹脂、メタクリル樹脂、エチレン・メチルメタクリレートコポリマー樹脂、エチレン・エチルアクリレート樹脂、塩化ビニル樹脂、塩素化ポリエチレン樹脂、ポリ４フッ化エチレン樹脂、４フッ化エチレン・６フッ化プロピレン共重合樹脂、４フッ化エチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合樹脂、４フッ化エチレン・エチレン共重合樹脂、ポリ３フッ化塩化エチレン樹脂、ポリフッ化ビニリデン樹脂、ナイロン４，６、ナイロン６、ナイロン６，６、ナイロン６，１０、ナイロン６，１２、ナイロン１２、ナイロン６，Ｔ、ナイロン９，Ｔ、芳香族ナイロン樹脂、ポリアセタール樹脂、超高分子量ポリエチレン樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、非晶性コポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、変性ポリフェニレンエーテル樹脂、熱可塑性ポリウレタンエラストマー、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、液晶ポリマー、ポリテトラフロロエチレン樹脂、ポリフロロアルコキシ樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリケトン樹脂、熱可塑性ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリサルフォン樹脂、ポリエーテルサルフォン樹脂、生分解樹脂、バイオマス樹脂等を主成分とする膜を例示することができる。この内好ましくはポリビニルブチラール膜である。
また、本発明の熱線遮蔽構造体では、（Ｃ）熱可塑性樹脂膜を２層以上用いても良く、好ましい態様は２層用いた場合である。
＜熱線遮蔽シート＞
本発明における熱線遮蔽シートは、該熱線遮蔽構造体が、合わせガラス化した際に透明性を担保できる支持体上に形成されていれば支障はなく、無機材料又は有機材料の何れであってもよい。例えば、ＰＥＴフィルムやＴＡＣフィルム等の、光学用途に用いられる有機フィルムを用いても良いし、前記（Ｃ）熱可塑性樹脂膜に直接塗工もしくは転写しても良い。また、近赤外線を吸収する機能や反射する機能等を有する機能性のシートであってもよい。通常、樹脂シート、無機ガラス板など光の透過性を阻害しない薄い板状体が使用される。厚さは特に限定されないが、通常、１０μｍ〜３ｍｍ程度である。
本発明における熱線遮蔽シートは、該熱線遮蔽構造体が、合わせガラス化した際に透明性を担保できる支持体上に形成されていれば支障はなく、無機材料又は有機材料の何れであってもよい。例えば、ＰＥＴフィルムやＴＡＣフィルム等の、光学用途に用いられる有機フィルムを用いても良いし、前記（Ｃ）熱可塑性樹脂膜に直接塗工もしくは転写しても良い。また、近赤外線を吸収する機能や反射する機能等を有する機能性のシートであってもよい。通常、樹脂シート、無機ガラス板など光の透過性を阻害しない薄い板状体が使用される。厚さは特に限定されないが、通常、１０μｍ〜３ｍｍ程度である。
＜熱線遮蔽用中間膜＞
本発明の熱線遮蔽構造体及び／又は熱線遮蔽シートは上記（Ｃ）熱可塑性樹脂膜を用いて、熱線遮蔽用中間膜として用いることができる。
この場合、（Ｃ）熱可塑性樹脂膜、熱線遮蔽構造体、（Ｃ）熱可塑性樹脂膜の順に積層されてなる熱線遮蔽用中間膜や、（Ｃ）熱可塑性樹脂膜、熱線遮蔽シート、（Ｃ）熱可塑性樹脂膜の順に積層されてなる熱線遮蔽用中間膜が特に好ましい。その際に、熱線遮蔽構造体又は熱線遮蔽シートと、一方もしくは双方の（Ｃ）熱可塑性樹脂膜は、貼り合わされた状態でも良く、それぞれ独立の状態で用いても良い。ただし、加工性等を鑑みると、熱線遮蔽構造体又は熱線遮蔽シートと、一方もしくは双方の（Ｃ）熱可塑性樹脂膜が、何らかの形で一体化されている事が好ましい。
本発明の熱線遮蔽構造体及び／又は熱線遮蔽シートは上記（Ｃ）熱可塑性樹脂膜を用いて、熱線遮蔽用中間膜として用いることができる。
この場合、（Ｃ）熱可塑性樹脂膜、熱線遮蔽構造体、（Ｃ）熱可塑性樹脂膜の順に積層されてなる熱線遮蔽用中間膜や、（Ｃ）熱可塑性樹脂膜、熱線遮蔽シート、（Ｃ）熱可塑性樹脂膜の順に積層されてなる熱線遮蔽用中間膜が特に好ましい。その際に、熱線遮蔽構造体又は熱線遮蔽シートと、一方もしくは双方の（Ｃ）熱可塑性樹脂膜は、貼り合わされた状態でも良く、それぞれ独立の状態で用いても良い。ただし、加工性等を鑑みると、熱線遮蔽構造体又は熱線遮蔽シートと、一方もしくは双方の（Ｃ）熱可塑性樹脂膜が、何らかの形で一体化されている事が好ましい。
熱線遮蔽構造体又は熱線遮蔽シートと、一方もしくは双方の（Ｃ）熱可塑性樹脂膜を貼り合せる方法としては、特に限定はないが、例えば熱圧着または粘着剤を塗布し粘着層を形成した後に貼り合わせる感圧接着法、液状接着材層を塗布形成後に紫外線硬化や加熱硬化にて接着し転写する方法等が挙げられる。接着剤を用いないプラズマ接合法等を用いても良い。その中では、生産性の観点から、粘着層または接着層を必要としない熱圧着やプラズマ接合方式が好ましい。
前記、熱線遮蔽用中間膜の構成には、（Ｃ）熱可塑性樹脂膜の内側に、熱線遮蔽構造体、熱線遮蔽シート以外の機能を有する層を有していても良い。追加する機能は、特に限定はないが、可視光透過率が大きく損なわれない物が好ましい。具体的には、遮音性を有する層や、自動車用のヘッドアップディスプレイ等に対応した映像投影機能を有する層等が挙げられる。追加する機能の数に制限は無く、またこれらの層は、熱線遮蔽構造体に形成されていても良く、それぞれ独立に形成された層を貼り合せて用いても良い。
＜透明基材用中間膜＞
上記「熱線遮蔽中間膜」は、「透明基材用中間膜」として用いることができる。透明基材とは、例えばガラス、ポリカーボネートを挙げることができるが、ガラスを使用し、合わせガラスとする場合が特に好ましい。
上記「熱線遮蔽中間膜」は、「透明基材用中間膜」として用いることができる。透明基材とは、例えばガラス、ポリカーボネートを挙げることができるが、ガラスを使用し、合わせガラスとする場合が特に好ましい。
＜合わせガラス＞
第１のガラス板と第２のガラス板の間に前記透明基材用中間膜を配置するよう貼合わせることで、本発明の合わせガラスを製造することができる。
具体的には、第１のガラス板と第２のガラス板の間に透明基材用中間膜を配置するよう貼合わせる。その際に、２枚のガラス間の気泡を除くため、減圧下で圧着する第一の圧着段階（予備圧着）と、気泡の発生を抑えつつ高い密着性を発現させるため、高温高圧下で圧着する第二の圧着段階（本圧着）を経て作製されるのが一般的である。
第１のガラス板と第２のガラス板の間に前記透明基材用中間膜を配置するよう貼合わせることで、本発明の合わせガラスを製造することができる。
具体的には、第１のガラス板と第２のガラス板の間に透明基材用中間膜を配置するよう貼合わせる。その際に、２枚のガラス間の気泡を除くため、減圧下で圧着する第一の圧着段階（予備圧着）と、気泡の発生を抑えつつ高い密着性を発現させるため、高温高圧下で圧着する第二の圧着段階（本圧着）を経て作製されるのが一般的である。
以下、実施例、比較例により本発明を詳細に説明する。尚、本発明はその趣旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。
［製造例１］
（熱線反射層用高屈折率樹脂塗布液の作製）
平均一次粒子径３５ｎｍである酸化チタン微粒子（商品名「ＴＴＯ−５１Ａ」、石原産業株式会社製）１．４部、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（日本化薬株式会社製）０．４部、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン（ＢＡＳＦジャパン株式会社製「イルガキュア９０７」）０．０５部、および分散剤（商品名「ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−２００１」、ビック・ケミージャパン株式会社製）０．３部をトルエン７部中に加え高屈折率樹脂塗布液を作製した。
（熱線反射層用高屈折率樹脂塗布液の作製）
平均一次粒子径３５ｎｍである酸化チタン微粒子（商品名「ＴＴＯ−５１Ａ」、石原産業株式会社製）１．４部、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（日本化薬株式会社製）０．４部、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン（ＢＡＳＦジャパン株式会社製「イルガキュア９０７」）０．０５部、および分散剤（商品名「ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−２００１」、ビック・ケミージャパン株式会社製）０．３部をトルエン７部中に加え高屈折率樹脂塗布液を作製した。
（熱線反射層用低屈折率樹脂塗布液の作製）
ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ ０．４部およびイルガキュア９０７ ０．０５部をＭＥＫ４部に溶解した溶液中に、中空シリカ微粒子（商品名「スルーリア」、平均一次粒子径５０ｎｍ、固形分濃度２０重量％、日揮触媒化成株式会社製、分散媒：メチルイソブチルケトン）３部を分散させ低屈折率樹脂層塗布液を調製した。
ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ ０．４部およびイルガキュア９０７ ０．０５部をＭＥＫ４部に溶解した溶液中に、中空シリカ微粒子（商品名「スルーリア」、平均一次粒子径５０ｎｍ、固形分濃度２０重量％、日揮触媒化成株式会社製、分散媒：メチルイソブチルケトン）３部を分散させ低屈折率樹脂層塗布液を調製した。
［製造例２］
（熱線吸収層用樹脂塗布液の作製）
表1に記載したバインダー樹脂として紫外線硬化型樹脂（ＫＡＹＡＲＡＤシリーズ日本化薬株式会社製） ６０部、イルガキュア９０７ ３部および分散剤ＥＦＫＡ５０６５（ＢＡＳＦジャパン株式会社製）８部を、ＭＥＫ ２００部に溶解させた溶液中にスズドープ酸化インジウム微粒子（商品名「ＩＴＯ−Ｒ」、ＣＩＫナノテック株式会社製）２０部、銅（ＩＩ）２，３−ナフタロシアニン（シグマアルドリッチジャパン合同会社製）２部を分散させ熱線吸収層用樹脂塗布液１を調整した。
なお、使用したバインダー樹脂の詳細は以下である。
ＰＥＴ３０（ペンタエリスリトルトリアクリレート ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０）
ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトルペンタアクリレートとジペンタエリスリトルヘキサアクリレートの混合物又 ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ）
ＵＸ５０００（エステル系ウレタンアクリレート ＫＡＹＡＲＡＤ ＵＸ−５０００）
ＤＰＨＡ ４０Ｈ（エステル系ウレタンアクリレート ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ−４０Ｈ）
ＰＥＴ３０／ＤＰＨＡ（１／１）（ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０とＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡを等重量で混合したもの）
ＴＭＰＴＡ（トリメチロールプロパントリアクリレート ＫＡＹＡＲＡＤ ＴＭＰＴＡ）
Ｒ６８４（トリシクロデカンジメチロールジアクリレート ＫＡＹＡＲＡＤ Ｒ−６８４）
ＮＰＧＤＡ（ネオペンチルグリコールジアクリレート ＫＡＹＡＲＡＤ ＮＰＧＤＡ）
（熱線吸収層用樹脂塗布液の作製）
表1に記載したバインダー樹脂として紫外線硬化型樹脂（ＫＡＹＡＲＡＤシリーズ日本化薬株式会社製） ６０部、イルガキュア９０７ ３部および分散剤ＥＦＫＡ５０６５（ＢＡＳＦジャパン株式会社製）８部を、ＭＥＫ ２００部に溶解させた溶液中にスズドープ酸化インジウム微粒子（商品名「ＩＴＯ−Ｒ」、ＣＩＫナノテック株式会社製）２０部、銅（ＩＩ）２，３−ナフタロシアニン（シグマアルドリッチジャパン合同会社製）２部を分散させ熱線吸収層用樹脂塗布液１を調整した。
なお、使用したバインダー樹脂の詳細は以下である。
ＰＥＴ３０（ペンタエリスリトルトリアクリレート ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０）
ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトルペンタアクリレートとジペンタエリスリトルヘキサアクリレートの混合物又 ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ）
ＵＸ５０００（エステル系ウレタンアクリレート ＫＡＹＡＲＡＤ ＵＸ−５０００）
ＤＰＨＡ ４０Ｈ（エステル系ウレタンアクリレート ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ−４０Ｈ）
ＰＥＴ３０／ＤＰＨＡ（１／１）（ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０とＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡを等重量で混合したもの）
ＴＭＰＴＡ（トリメチロールプロパントリアクリレート ＫＡＹＡＲＡＤ ＴＭＰＴＡ）
Ｒ６８４（トリシクロデカンジメチロールジアクリレート ＫＡＹＡＲＡＤ Ｒ−６８４）
ＮＰＧＤＡ（ネオペンチルグリコールジアクリレート ＫＡＹＡＲＡＤ ＮＰＧＤＡ）
［製造例３］
（熱線遮蔽層の作製）
基材として５０μｍ厚みのポリエステル製フィルム（商品名「Ａ４３００」 東洋クロス株式会社製）を用い、マイクログラビアコーターにより基材上に高屈折率樹脂塗布液を乾燥後層厚１２０ｎｍの厚みになるように塗布し、６０℃で１分乾燥後、紫外線照射することで基材上に高屈折率樹脂層を作製した。続いて高屈折樹脂層上に低屈折率樹脂塗布液を乾燥後層厚１５０ｎｍの厚みになるよう塗布し、６０℃で１分乾燥後、紫外線照射することで基材上に高屈折樹脂層、低屈折樹脂層の順に積層した。以降同様に高屈折率樹脂層、低屈折率樹脂層、高屈折率層、低屈折率層の順に積層し、計６層の熱線反射層を作製した。次いで、熱線反射層上に熱線吸収層用樹脂塗布液１または２を、乾燥後層厚１．５μｍの厚みになるように塗布し、６０℃で１分乾燥後、紫外線照射することで熱線吸収層を作製した。これにより基材上に６層の熱線反射層と熱線吸収層を有する熱線遮蔽層を作製した。
（熱線遮蔽層の作製）
基材として５０μｍ厚みのポリエステル製フィルム（商品名「Ａ４３００」 東洋クロス株式会社製）を用い、マイクログラビアコーターにより基材上に高屈折率樹脂塗布液を乾燥後層厚１２０ｎｍの厚みになるように塗布し、６０℃で１分乾燥後、紫外線照射することで基材上に高屈折率樹脂層を作製した。続いて高屈折樹脂層上に低屈折率樹脂塗布液を乾燥後層厚１５０ｎｍの厚みになるよう塗布し、６０℃で１分乾燥後、紫外線照射することで基材上に高屈折樹脂層、低屈折樹脂層の順に積層した。以降同様に高屈折率樹脂層、低屈折率樹脂層、高屈折率層、低屈折率層の順に積層し、計６層の熱線反射層を作製した。次いで、熱線反射層上に熱線吸収層用樹脂塗布液１または２を、乾燥後層厚１．５μｍの厚みになるように塗布し、６０℃で１分乾燥後、紫外線照射することで熱線吸収層を作製した。これにより基材上に６層の熱線反射層と熱線吸収層を有する熱線遮蔽層を作製した。
［製造例４］
（シート状接着樹脂１の作製）
ポリビニルブチラール樹脂３６０ｇ、トリエチレングリコールビス（２−エチルブチレート）１３０ｇを、３本ロールミキサーにより約７０℃で１５分間練りこみ混合することでシート状接着樹脂原料を得た。次いで押出し成形機を用い成形温度２００℃で押出し成形することで、厚み約０．４ｍｍのシート状接着樹脂１を作製した。
（シート状接着樹脂１の作製）
ポリビニルブチラール樹脂３６０ｇ、トリエチレングリコールビス（２−エチルブチレート）１３０ｇを、３本ロールミキサーにより約７０℃で１５分間練りこみ混合することでシート状接着樹脂原料を得た。次いで押出し成形機を用い成形温度２００℃で押出し成形することで、厚み約０．４ｍｍのシート状接着樹脂１を作製した。
［製造例５］
(剥離接着力評価用サンプルの作製)
製造例３で得られた熱線遮蔽層の熱線吸収層の上に、製造例４で得られたシート状接着樹脂１を２５ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切断した物を重ねあわせ、真空バッグに入れ−０．０９ＭＰａまで真空ポンプで減圧し、減圧下で１１０℃、３０分間保持し予備圧着した。その後、オートクレーブにて圧力１．５Ｍｐａ、１５０℃の条件で３０分間保持し本圧着し、剥離接着力評価用サンプルを作製した。
(剥離接着力評価用サンプルの作製)
製造例３で得られた熱線遮蔽層の熱線吸収層の上に、製造例４で得られたシート状接着樹脂１を２５ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切断した物を重ねあわせ、真空バッグに入れ−０．０９ＭＰａまで真空ポンプで減圧し、減圧下で１１０℃、３０分間保持し予備圧着した。その後、オートクレーブにて圧力１．５Ｍｐａ、１５０℃の条件で３０分間保持し本圧着し、剥離接着力評価用サンプルを作製した。
［実施例１〜５および比較例１〜３］
（熱線遮蔽構造体を配置した合わせガラスの作製）
厚さ２ｍのソーダガラス（３０ｃｍ角）、製造例４で得られたシート状接着樹脂１、製造例３で作製した熱線遮蔽層、製造例４で得られたシート状接着樹脂１、厚さ２ｍｍのグリーンガラス（３０ｃｍ角）の順で重ねあわせた後、真空バッグに入れ、−０．０９ＭＰａまで真空ポンプで減圧した。その後、減圧下で１１０℃、３０分間保持し予備圧着した。予備圧着後、オートクレーブにて圧力１．５Ｍｐａ、１５０℃の条件で３０分間保持し本圧着した。その後常温常圧まで戻すことで、本発明の熱線遮蔽構造体を配置した合わせガラスを作製した。
（熱線遮蔽構造体を配置した合わせガラスの作製）
厚さ２ｍのソーダガラス（３０ｃｍ角）、製造例４で得られたシート状接着樹脂１、製造例３で作製した熱線遮蔽層、製造例４で得られたシート状接着樹脂１、厚さ２ｍｍのグリーンガラス（３０ｃｍ角）の順で重ねあわせた後、真空バッグに入れ、−０．０９ＭＰａまで真空ポンプで減圧した。その後、減圧下で１１０℃、３０分間保持し予備圧着した。予備圧着後、オートクレーブにて圧力１．５Ｍｐａ、１５０℃の条件で３０分間保持し本圧着した。その後常温常圧まで戻すことで、本発明の熱線遮蔽構造体を配置した合わせガラスを作製した。
（剥離接着力評価）
実施例１〜５および比較例１〜３の熱線遮蔽構造体に用いた熱線遮蔽層を用いて、製造例５に記載の通り剥離接着力評価用サンプルを作製した。得られたサンプルを、２０℃５０％ＲＨで１５時間保持し、ＥＺ−Ｔｅｓｔ（（株）島津製作所製）にて密着力試験（１８０°剥離、剥離速度１００ｍｍ／ｍｉｎ）をして、剥離接着力を評価した。
実施例１〜５および比較例１〜３の熱線遮蔽構造体に用いた熱線遮蔽層を用いて、製造例５に記載の通り剥離接着力評価用サンプルを作製した。得られたサンプルを、２０℃５０％ＲＨで１５時間保持し、ＥＺ−Ｔｅｓｔ（（株）島津製作所製）にて密着力試験（１８０°剥離、剥離速度１００ｍｍ／ｍｉｎ）をして、剥離接着力を評価した。
（落球試験）
実施例１〜５および比較例１〜３で作製した３０ｃｍ角の合せガラスのグリーンガラス側に対して、重さ２２６０g（直径８２ｍｍ）を４ｍの高さから落下させた。落球後に、反対側（ソーダガラス側）に剥離したガラス片を集め、剥離したガラス片の重量を測定した。
実施例１〜５および比較例１〜３で作製した３０ｃｍ角の合せガラスのグリーンガラス側に対して、重さ２２６０g（直径８２ｍｍ）を４ｍの高さから落下させた。落球後に、反対側（ソーダガラス側）に剥離したガラス片を集め、剥離したガラス片の重量を測定した。
実施例１〜５および比較例１〜３の熱線遮蔽層作製用の熱線吸収層用樹脂塗布液に使用したバインダー樹脂、実施例１〜５および比較例１〜３の熱線遮蔽構造体に用いた熱線遮蔽層の剥離接着力および実施例１〜５および比較例１〜３の熱線遮蔽構造体を配置した合わせガラスの落球試験結果を表２に示す。
表２よりアクリロイル基と極性官能基を併せ持つバインダー樹脂を用いた実施例１〜５は、熱線吸収膜とシート状接着樹脂１との１８０度剥離強度（１８０度ピール強度）が８Ｎ以上と高く、落球試験のガラス片剥離の重さも１５ｇ未満となっており、安全性、信頼性の高い構成となっている。
対して極性官能基を持たないバインダー樹脂を用いた比較例１〜３は、１８０度剥離強度（１８０度ピール強度）が６．５Ｎ未満であり、落球試験のガラス片剥離の重さも１５ｇ以上であるため、耐衝撃性が大きく損なわれている。
対して極性官能基を持たないバインダー樹脂を用いた比較例１〜３は、１８０度剥離強度（１８０度ピール強度）が６．５Ｎ未満であり、落球試験のガラス片剥離の重さも１５ｇ以上であるため、耐衝撃性が大きく損なわれている。
本発明の熱線遮蔽構造体は、熱線吸収層の接着性が非常に高く、その為耐衝撃性に優れるものである。また同時に可視光透過性、全日射透過率およびヘイズに関する性能が総合的に優れている。従って、住宅や自動車の空間の温度上昇を抑え、空調機器の負荷を軽減し、省エネルギーや地球環境問題に貢献できるものである。
Claims (14)
- （Ａ）熱線吸収膜及び（Ｂ）熱線反射膜を有する熱線遮蔽構造体であって、前記（Ａ）熱線吸収膜が、（Ａ−１）無機酸化物及び／又は色素、（Ａ−２）２以上の（メタ）アクリロイル基と極性官能基を併せ持つバインダー樹脂、及び（Ａ−３）光重合開始剤を含有する熱線吸収膜である熱線遮蔽構造体。
- 前記成分（Ａ−１）が無機酸化物及び色素である請求項１に記載の熱線遮蔽構造体。
- 前記成分（Ａ−２）が、３以上８以下の（メタ）アクリロイル基と極性官能基を併せ持つバインダー樹脂である請求項１又は２に記載の熱線遮蔽構造体。
- 前記成分（Ａ−２）において、極性官能基がヒドロキシ基（ＯＨ）、又はウレタン結合（ＮＨＣＯ）である請求項１乃至３のいずれか一項に記載の熱線遮蔽構造体。
- 前記成分（Ａ−２）のバインダー樹脂中の含有量が、バインダー樹脂の総量１００質量部中１０質量部以上６０質量部以下である請求項１乃至４のいずれか一項に記載の熱線遮蔽構造体。
- 前記成分（Ａ−３）が３６５ｎｍにおけるモル吸光係数（ε）が５０以上１０００（ｍＬ／ｇ・ｃｍ）以下である請求項１乃至５のいずれか一項に記載の熱線遮蔽構造体。
- 更に（Ａ−４）シランカップリング剤を含有する請求項１乃至６のいずれか一項に記載の熱線遮蔽構造体。
- 更に（Ａ−５）分散剤を含有する請求項１乃至７のいずれか一項に記載の熱線遮蔽構造体。
- 前記（Ｂ）熱線反射膜が、高屈折率膜と低屈折率膜を少なくとも１層ずつ有する熱線反射膜である請求項１乃至８のいずれか一項に記載の熱線遮蔽構造体。
- 請求項１乃至９のいずれか一項に記載の熱線遮蔽構造体が、支持体の上に形成されている熱線遮熱シート。
- （Ｃ）熱可塑性樹脂膜、請求項１乃至９のいずれか一項に記載の熱線遮蔽構造体、（Ｃ）熱可塑性樹脂膜の順に積層されてなる熱線遮蔽中間膜。
- （Ｃ）熱可塑性樹脂膜、請求項１０に記載の熱線遮熱シート、（Ｃ）熱可塑性樹脂膜の順に積層されてなる熱線遮蔽中間膜。
- 請求項１乃至９のいずれか一項に記載の熱線構造体、請求項１０に記載の熱線遮熱シート又は請求項１１若しくは１２に記載の熱線遮蔽中間膜を有する透明基材用中間膜。
- 請求項１３に記載の透明基材用中間膜が２枚のガラスの間に挿入されている合わせガラス。
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