JP2020143093A - 精製ハロゲン化カルボン酸ハロゲン化物を得るための少なくとも２つの蒸留ステップを含む蒸留プロセス、および精製ハロゲン化カルボン酸ハロゲン化物の使用 - Google Patents

Abstract

【課題】不純物の含有量が低減されたハロゲン化カルボン酸ハロゲン化物の獲得方法、不純物の含有量が低減されたハロゲン化カルボン酸ハロゲン化物の画分、ならびに農学的におよび薬学的に活性な化合物の製造と使用の提供。【解決手段】不純物の含有量が低減されている式（Ｉ）Ｒ１−Ｃ（Ｏ）Ｘ（式中、Ｒ１はフッ素化および／または塩素化Ｃ１〜Ｃ３アルキルであり、Ｘはハロゲンである）の化合物の獲得方法であって、ａ）式（Ｉ）Ｒ１−Ｃ（Ｏ）Ｘの化合物および不純物を含む粗画分を、異なる圧力で行われる少なくとも２つの蒸留ステップにかける工程と、ｂ）不純物の含有量が低減されている式（Ｉ）の前記化合物の画分を少なくとも回収する工程とを含む方法。例えばトリフルオロアセチルクロリド（ＴＦＡＣ）の獲得に適用される。【選択図】なし

Description

関連出願の相互参照
本出願は、欧州特許出願第１４１８２０３５．７号に対する優先権を主張するものであり、この出願の全内容は、あらゆる目的のために参照により本明細書に援用される。

本発明は、不純物の含有量が低減されたフッ素化および／または塩素化カルボン酸ハロゲン化物の獲得方法、不純物の含有量が低減されたフッ素化カルボン酸ハロゲン化物および／または塩素化カルボン酸ハロゲン化物の画分、ならびに農学的におよび薬学的に活性な化合物の製造でのその使用に関する。

フッ素化および／または塩素化カルボン酸ハロゲン化物、例えばトリフルオロアセチルクロリド（ＴＦＡＣ）、ジフルオロアセチルクロリド（ＤＦＡＣ）またはクロロジフルオロアセチルクロリド（ＣＤＦＡＣ）は、化学合成における、例えば除草剤、界面活性剤および医薬品の製造における貴重な中間体である。例えば、トリフルオロアセチルクロリドは、農学的に活性な成分用の環状中間体へ好適にも変換することができる、４−エトキシ−１，１，１−トリフルオロメチル−３−ブテン−２−オンの合成のための出発原料であり、例えば国際公開第２０１１／３８６０号パンフレットおよび国際公開第２０１００３７６８８号パンフレットを参照されたい。ＣＤＦＡＣは、例えば、農学的に活性な化合物用の中間体へさらに変換することができる、フルオロ置換３−オキソ−アルカン酸に変換することができ、例えば国際公開第２０１００３７６８８号パンフレットおよび国際公開第２０１２／２５４６９号パンフレットを参照されたい。ＤＦＡＣは、例えば、国際公開第２００６／６４２５１号パンフレットに記載されているように、ＣＤＫ阻害剤、または、例えば、国際公開第２００５／４２４６８号パンフレットに記載されているように、農学的に活性な化合物の合成のために使用される。

欧州特許出願公開第０６３８５３９Ａ号明細書は、−６０℃での低温凝縮器を含むワークアップ、引き続く４０ｃｍ充填塔での「精密蒸留」を使ったフッ素化カルボン酸クロリドの合成を記載している。生成物の純度は報告されていない。

独国特許第１０６９１３７号明細書は、フッ素化および塩素化カルボン酸クロリドの合成であって、生成物が蒸留される合成を記載している。実施例は、典型的な実験室規模で操作されており；生成物の純度は報告されていない。

特に、農学的におよび薬学的に活性な化合物用のビルディングブロックの工業的製造に関して、フッ素化カルボン酸ハロゲン化物の純度は、下流製品の品質、特に腐食性不純物を考慮して、装置の寿命、および廃棄物管理にとって決定的に重要である。フッ素化カルボン酸ハロゲン化物の拡張可能な精製方法が継続して工業的に必要とされている。

結果として、本発明は、不純物の含有量が低減されている式（Ｉ）Ｒ１−Ｃ（Ｏ）Ｘの化合物の獲得方法であって、ステップａ）式（Ｉ）Ｒ１−Ｃ（Ｏ）Ｘの化合物および不純物を含む粗画分を異なる圧力で行われる、少なくとも２つの蒸留ステップにかける工程を含む方法に関する。好ましい方法では、ａ）は、異なる圧力で実施される高圧蒸留ステップ、中圧蒸留ステップおよび低圧蒸留ステップからなる、少なくとも３つの蒸留ステップを含む。

本発明はさらに、式（Ｉ）の化合物が式（ＩＩ）Ｒ１−ＣＨＸ’_２の化合物の酸化によって製造された場合に特に、前記蒸留プロセスによって得られる、不純物の含有量が低減されている式（Ｉ）Ｒ１−Ｃ（Ｏ）Ｘの化合物の画分、および不純物の含有量が低減されている画分の、薬学的にまたは農学的に活性な化合物の製造のための使用に関する。

本発明の別の態様は、不純物の含有量が低減されている式（Ｉ）Ｒ１−Ｃ（Ｏ）Ｘの化合物の獲得方法を含む、農学的にまたは薬学的に活性な化合物の製造方法である。

不純物の含有量が低減されている、式（Ｉ）Ｒ１−Ｃ（Ｏ）Ｘの化合物、特にＴＦＡＣおよびＣＤＦＡＣは有利には、異なる圧力での少なくとも２つ、好ましくは少なくとも３つの蒸留ステップを含む蒸留プロセスを適用することによって得ることができる。本方法は、物理的方法によって、式（Ｉ）Ｒ１−Ｃ（Ｏ）Ｘの化合物、特にＴＦＡＣ、ＤＦＡＣおよびＣＤＦＡＣからの不純物の効率的な分離を達成することを可能にする。（Ｉ）Ｒ１−Ｃ（Ｏ）Ｘの回収精製画分は、特に農学的にまたは薬学的に活性な化合物用の、さらなる化合物およびビルディングブロックの実験室規模または工業的規模合成および製造のための出発原料として使用することができ、一方、不純物の含有量が低減され、それは、装置の腐食の減少ならびに下流プロセスにおける不純物および廃棄物の量の減少を可能にする。本方法は、無機不純物、例えばハロゲン化水素、および有機不純物の両方を効果的に低減させる。とりわけハロゲン化水素、特にＨＣｌがかなりの量で存在する場合に、本精製方法はまた、ハロゲン化水素および減少した量の不純物を含有する画分としての前記ハロゲン化水素の回収を可能にする。そのような画分は、下流プロセスのために、例えばアルカンまたはオレフィンのオキシ塩素化に好適にも使用することができる。オキシ塩素化の一例は、エチレンからの塩化ビニルの製造である。本発明による方法は、容易に実施することができ、水蒸気加熱／水冷の使用を可能にする。

本発明による方法では、Ｒ１は、少なくとも１個のフッ素原子および／または少なくとも１個の塩素原子によって置換されている、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基である。一態様では、Ｒ１は、少なくとも１個、好ましくは少なくとも２個のフッ素原子によって置換されており；例えば、Ｒ１は、少なくともフッ素原子によって置換されたメチルであり、したがってＲ１は、ＣＨ_２Ｆ、ＣＦ_２ＨおよびＣＦ_３からなる群から選択される。別の態様では、Ｒ１は、少なくとも１個のフッ素原子および少なくとも１個の塩素原子によって置換されたメチルであり；この態様では、Ｒ１は、ＣＦＣｌＨ、ＣＦ_２ＣｌおよびＣＦＣｌ_２からなる群から選択され、ここで、ＣＦ_２Ｃｌが好ましい。さらに別の態様では、Ｒ１は、少なくとも１個の塩素原子によって置換された、かつ、他のハライド化学種によって全く置換されていないメチルであり、したがってＲ１は、ＣＨ_２Ｃｌ、ＣＣｌ_２およびＣＣｌ_３からなる群から選択される。Ｒ１は、少なくとも１個のフッ素原子、少なくとも１個のフッ素原子および少なくとも１個の塩素原子、または少なくとも１個の塩素原子によって置換されている、エチル、ｎ−プロピルおよびｉ−プロピルから選択することができる。本発明による式（Ｉ）Ｒ１−Ｃ（Ｏ）Ｘの好ましい化合物は、トリフルオロアセチルクロリド（ＴＦＡＣ）、ジフルオロアセチルクロリド（ＤＦＡＣ）、ジフルオロクロロアセチルクロリド（ＣＤＦＡＣ）およびトリクロロアセチルクロリドであり、ＴＦＡＣおよびＣＤＦＡＣが最も好ましい化合物である。一態様では、Ｒ１＝ＣＨ_２Ｃｌ、ＣＣｌ_２またはＣＣｌ_３、特にＣＨ_２Ｃｌである場合、不純物の含有量が低減されている式（Ｉ）Ｒ１−Ｃ（Ｏ）Ｘの化合物の獲得方法は、異なる圧力で行われる、少なくとも３つの蒸留ステップ、好ましくは３つの蒸留ステップを含む。

本発明に使用される酸ハロゲン化物は、特に、その内容が本出願に参照により援用される米国特許第５，５６９，７８２号明細書に記載されているように、ハロゲン化前駆体アルカンの光酸化によって、例えば、得ることができる。特に、本発明において式（Ｉ）の特に好ましい化合物である、トリフルオロアセチルクロリドは、１，１，１−トリフルオロ−２，２−ジクロロエタン（ＨＣＦＣ−１２３）の光酸化によって得ることができる。式（Ｉ）の酸ハロゲン化物を製造するための他の方法は、例えば、欧州特許０６２３５７７第号明細書、米国特許第５，５４５，２９８Ａ号明細書、米国特許第４，６４３，８５１号明細書、米国特許第５，２４１，１１３号明細書、米国特許第５，６５９，０７８号明細書、米国特許第６，２５５，５２４号明細書および米国特許第７，７５４，９２７号明細書に記載されている。一般に、本発明による精製方法は、式（Ｉ）に従った化合物の製造方法にかかわらず、式（Ｉ）の化合物および不純物を含有する粗画分中の不純物を減少させるのに好適である。式（ＩＩ）Ｒ１−ＣＨＸ’_２（式中、Ｒ１は、上記と同じ定義を有し、Ｘ’は同じもしくは異なるものであり、Ｘ’は、Ｃｌ、ＦおよびＢｒからなる群から選択されるハロゲンであり、特にＸ’はＣｌである）の酸化による式（Ｉ）の化合物および不純物を含有する画分の製造は、本発明による精製方法の有効性を考慮して特に好ましい。

本発明によれば、式（Ｉ）Ｒ１−Ｃ（Ｏ）Ｘの化合物および不純物を含む粗画分は、異なる圧力で行われる少なくとも２つ、好ましくは３つの蒸留ステップにかけられる。２つの蒸留ステップが適用される場合、これらは、高圧蒸留ステップおよび低圧蒸留ステップからなる。好ましい実施形態では、ａ）は、高圧蒸留ステップ、中圧蒸留ステップおよび低圧蒸留ステップからなる、少なくとも３つの蒸留ステップを含む。好ましい実施形態によれば、高圧蒸留ステップが一番目に行われ、中圧蒸留ステップが二番目に行われ、低圧蒸留ステップが三番目に行われる。一般に、少なくとも２つ、好ましくは少なくとも３つの蒸留ステップは、化合物（Ｉ）および減少した量の不純物を含有する画分を得るために、粗画分の不純物プロファイルに適している順番で行うことができる。

本説明では、圧力へのいかなる言及も、蒸留塔の塔頂で測定される、絶対圧力に相当する。

好ましい実施形態では、３つの蒸留ステップがａ）において適用される。異なる蒸留ステップにおいて適用される圧力値に関して、中圧蒸留ステップは一般に、高圧蒸留ステップよりも少なくとも１バール低い圧力で実施される。一般に、高圧蒸留ステップと中圧蒸留ステップとの間の圧力差は１〜１０バールである。多くの場合、高圧蒸留ステップと中圧蒸留ステップとの間の圧力差は、１バール以上、好ましくは２バール以上、最も好ましくは３バール以上である。多くの場合、高圧蒸留ステップと中圧蒸留ステップとの間の圧力差は、１０バール以下、好ましくは９バール以下、最も好ましくは８バール以下である。一般に、中圧蒸留ステップと低圧蒸留ステップとの間の圧力差は０．２〜９バールである。多くの場合、中圧蒸留ステップと低圧蒸留ステップとの間の圧力差は、０．２バール以上、好ましくは０．４バール以上、最も好ましくは０．６バール以上である。多くの場合、中圧蒸留ステップと低圧蒸留ステップとの間の圧力差は、９バール以下、好ましくは８バール以下、最も好ましくは７バール以下である。

３つの蒸留ステップがａ）において適用される場合、一般に、高圧蒸留ステップにおける圧力は１２〜１８バールである。多くの場合、高圧蒸留ステップにおける圧力は、１２バール以上、好ましくは１３バール以上、最も好ましくは１４バール以上である。多くの場合、高圧蒸留ステップにおける圧力は、１８バール以下、好ましくは１７バール以下、最も好ましくは１６バール以下である。

３つの蒸留ステップがａ）において適用される場合、一般に、中圧蒸留ステップにおける圧力は６〜１２バールである。多くの場合、中圧蒸留ステップにおける圧力は、６バール以上、好ましくは６．５バール以上、最も好ましくは７バール以上である。多くの場合、高圧蒸留ステップにおける圧力は、１２バール以下、好ましくは１１バール以下、最も好ましくは１０バール以下である。

３つの蒸留ステップがａ）において適用される場合、一般に、低圧蒸留ステップにおける圧力は１〜９バールである。多くの場合、低圧蒸留ステップにおける圧力は、１バール以上、好ましくは１．５バール以上、最も好ましくは２バール以上である。多くの場合、低圧蒸留ステップにおける圧力は、９バール以下、好ましくは８バール以下、最も好ましくは７バール以下である。

本発明の一態様では、不純物の含有量が低減されている式（Ｉ）の化合物の画分は、塔頂生成物として低圧蒸留ステップから回収される。

本発明の別の態様では、不純物の含有量が低減されている式（Ｉ）の化合物の画分は、塔底生成物として低圧蒸留ステップから回収される。

一実施形態では、３つの蒸留ステップがａ）において適用される場合、高圧蒸留ステップは、１４〜１６バールの圧力で、好ましくは１５バールで行われ、その後の中圧蒸留ステップは、８．５〜１０．５バールの圧力で、好ましくは９．５バールで行われ、その後の低圧蒸留ステップは、２〜４バールの圧力で、好ましくは３バールで行われる。この実施形態では、不純物の含有量が低減されている式（Ｉ）Ｒ１−Ｃ（Ｏ）Ｘの化合物、特にＴＦＡＣを含有する画分は多くの場合、低圧蒸留ステップにおいて運転される塔の塔頂でヘッド生成物として回収される。

別の実施形態では、３つの蒸留ステップがａ）において適用される場合、高圧蒸留ステップは、１４〜１６バールの圧力で、好ましくは１５バールで行われ、その後の中圧蒸留ステップは、６〜８バールの圧力で、好ましくは７バールで行われ、その後の低圧蒸留ステップは、５〜７バールの圧力で、好ましくは６バールで行われる。この実施形態では、不純物の含有量が低減されている式（Ｉ）Ｒ１−Ｃ（Ｏ）Ｘの化合物、特にＴＦＡＣを含有する画分は多くの場合、低圧蒸留ステップにおいて塔底生成物として回収される。

各蒸留ステップが運転される温度は、式（Ｉ）Ｒ１−Ｃ（Ｏ）Ｘの化合物および不純物を含有する粗画分の不純物プロファイル、ならびに各個々の蒸留ステップにおいて運転される圧力および塔に応じて選択される。

一実施形態では、式（Ｉ）の化合物はＴＦＡＣであり、ＴＦＡＣおよび減少した量の不純物を含有する画分は、３つの蒸留ステップがａ）において適用される、低圧蒸留ステップにおいて塔頂生成物として回収される。好ましくは、ＴＦＡＣは、米国特許第５，５６９，７８２号明細書に記載されている方法に従って製造される。このケースでは、高圧蒸留ステップが行われる温度は５０〜８０℃であり；多くの場合、温度は５０℃以上であり、好ましくは、温度は５３℃以上であり、最も好ましくは温度は５６℃以上である。この実施形態では、多くの場合、温度は８０℃以下であり、好ましくは、温度は７５℃以下であり、最も好ましくは温度は７０℃以下である。この実施形態の好ましい態様では、高圧蒸留ステップでの温度は６０〜６８℃である。多くの場合、留出物は、例えば−１０℃以下の温度で、好ましくは−２０℃以下の温度で、冷却された装置中に高圧蒸留ステップの蒸留塔の塔頂で集められる。上に記載されたように、一実施形態では、式（Ｉ）の化合物および減少した量の不純物を含有する画分は、中圧蒸留ステップの塔頂生成物として集められる。この実施形態によれば、中圧蒸留ステップが行われる温度は５０〜８０℃であり；多くの場合、温度は５０℃以上であり、好ましくは、温度は５３℃以上であり、最も好ましくは温度は５６℃以上である。この実施形態では、多くの場合、温度は８０℃以下であり、好ましくは、温度は７５℃以下であり、最も好ましくは温度は７０℃以下である。さらに、この実施形態によれば、低圧蒸留ステップが行われる温度は６０〜１１０℃であり；多くの場合、温度は６０℃以上であり、好ましくは、温度は６５℃以上であり、最も好ましくは温度は７０℃以上である。この実施形態では、多くの場合、低圧蒸留ステップにおける温度は１１０℃以下であり、好ましくは、温度は１００℃以下であり、最も好ましくは温度は９５℃以下である。この実施形態の好ましい態様では、低圧蒸留ステップにおける温度は７５〜９０℃である。

別の実施形態では、式（Ｉ）の化合物および減少した量の不純物を含有する画分は、３つの蒸留ステップがａ）において適用される、低圧蒸留ステップの塔底生成物として回収される。このことは、式（Ｉ）の化合物がＴＦＡＣであり、そして米国特許第５，５６９，７８２号明細書に記載されている光酸化に従って製造される場合に特に有用であり、意外にも、ＴＦＡＣを含有する画分中の不純物の量は、ＴＦＡＣおよび減少した量の不純物を含有する画分が塔頂生成物として回収される先の実施形態のそれと比べてさらにもっと減少する。この実施形態によれば、中圧蒸留ステップが行われる温度は９０〜１１５℃であり；多くの場合、温度は９０℃以上であり、好ましくは、温度は９４℃以上であり、最も好ましくは温度は９８℃以上である。この実施形態では、多くの場合、温度は１１５℃以下であり、好ましくは、温度は１１１℃以下であり、最も好ましくは温度は１０７℃以下である。この実施形態の好ましい態様では、中圧蒸留ステップにおける温度は１００〜１０６℃である。この実施形態の別の態様では、低圧蒸留ステップにおける温度は２５〜５５℃である。多くの場合、低圧蒸留ステップにおける温度は２５℃以上であり、好ましくは、温度は３０℃以上であり、最も好ましくは温度は３５℃以上である。この実施形態では、多くの場合、低圧蒸留ステップにおける温度は５５℃以下であり、好ましくは、温度は５０℃以下であり、最も好ましくは温度は４５℃以下である。この実施形態の好ましい態様では、低圧蒸留ステップにおける温度は３６〜４０℃である。

一般に、本発明によるａ）の少なくとも２つ、好ましくは３つの蒸留ステップのそれぞれは、１つもしくは複数の蒸留塔で実施することができる。１蒸留ステップ当たり単一の塔が好ましくは使用されるであろう。

本発明による方法に使用することができる蒸留塔は、それ自体公知である。例えば、従来のプレート塔もしくはデュアルフロー型のプレート塔が、またはあるいはバルクパッキングもしくは構造化パッキングの塔が使用されてもよい。高圧蒸留における理論段数は一般に少なくとも１０である。それは多くの場合少なくとも２０である。少なくとも３５の数が良好な結果を与える。

低圧蒸留における理論段数は一般に少なくとも５である。それは多くの場合少なくとも１５である。少なくとも３０の数が良好な結果を与える。

中圧蒸留における理論段数は一般に少なくとも６である。それは多くの場合少なくとも１６である。少なくとも３１の数が良好な結果を与える。

高圧蒸留における質量再沸比は一般に少なくとも１である。頻繁に、質量再沸比は少なくとも３である。より頻繁に、質量再沸比は少なくとも８である。少なくとも１０の質量再沸比が好ましい。

高圧蒸留における質量再沸比は一般に最大でも１００である。頻繁に、質量再沸比は最大でも５０である。より頻繁に、質量再沸比は最大でも３０である。最大でも２５の質量再沸比が好ましい。

低圧蒸留における質量還流比は一般に少なくとも２である。頻繁に、質量還流比は少なくとも４である。少なくとも５の質量還流比が好ましい。低圧塔における質量還流比は一般に最大でも５０である。頻繁に、質量還流比は最大でも３０である。最大でも２０の質量還流比が好ましい。

中圧蒸留における質量還流比は一般に少なくとも３０％である。頻繁に、質量還流比は少なくとも５０％である。少なくとも７０％の質量還流比が好ましい。低圧塔における質量還流比は一般に最大でも４０％である。頻繁に、質量還流比は最大でも５０％である。最大でも６０％の質量還流比が好ましい。

本発明による各蒸留ステップは、連続または不連続モードで運転することができる。

本発明の一実施形態では、式（Ｉ）の化合物の粗画分は、式（ＩＩ）Ｒ１−ＣＨＸ’_２（式中、Ｘ’は、同じもしくは異なるものであり、Ｘ’は、Ｃｌ、ＦおよびＢｒからなる群から選択されるハロゲンであり、特にＸ’はＣｌであり、Ｒ１は、上記と同じ定義を有する）の化合物から出発する酸化法によって得られたものである。この実施形態の好ましい一態様では、酸化法は、酸素の存在下での光酸化法であって、特に前記光酸化が、添加された元素状塩素の存在下でさらに実施される方法である。この実施形態による光酸化は、金属ヨウ化物でドープされたＨｇ高圧ランプが活性化放射線源として使用される場合であって、特に金属ヨウ化物が、ヨウ化ガリウム、ヨウ化タリウムまたはヨウ化カドミウムからなる群から選択される場合に特に有利である。そのような方法の詳細は、その全体を本明細書によって援用される、欧州特許出願公開第０６３８５３９Ａ号明細書に記載されている。

本発明の一態様では、式（Ｉ）の化合物の粗画分は、式（Ｉ）の化合物を製造する製造方法において形成された、かなりの量のＨＸ’（式中、Ｘ’は、上記のように定義される）、特にＨＣｌをさらに含有する。このことは、式（Ｉ）の化合物が、酸化法、特に、欧州特許出願公開第０６３８５３９Ａ号明細書に記載されているなどの、酸素および元素状塩素の存在下での光酸化で式（ＩＩ）の化合物から製造された場合には特に事実である。本発明による精製方法はそのケースで、式（Ｉ）の化合物を含有する粗画分中にかなりの量のＨＸ’が存在する場合に、不純物の含有量が低減されている、ＨＸ’、特にＨＣｌの画分が、蒸留ステップの１つもしくは複数において生成物流れとして回収されることを可能にする。好ましくは、不純物の含有量が低減されている、ＨＸ’、特にＨＣｌの画分は、高圧蒸留ステップの塔頂で塔頂生成物として取り出される。用語「かなりの量のＨＸ’」は、式（Ｉ）を含有する粗画分中の２〜５０重量％のＨＸ’含有量を意味することを意図する。多くの場合、粗画分中のＨＸ’含有量は、２重量％以上、より好ましくは１０重量％以上、さらにより好ましくは１３重量％以上である。多くの場合、粗画分中のＨＸ’含有量は、５０重量％以下、より好ましくは４０重量％以上、さらにより好ましくは３０重量％以上である。最も好ましい方法では、式（Ｉ）を含有する粗画分中のＨＸ’含有量は１５〜２０重量％である。好ましい態様では、ＨＸ’はＨＣｌであり、１４〜１６バールの圧力での高圧蒸留ステップにおいて塔頂生成物として回収され、−２０℃冷却装置中に捕捉される。ＨＣｌの回収画分は、少なくとも９５重量％の、より好ましくは９６重量％、最も好ましくは少なくとも９８重量％の純度を有する。

本発明の最も好ましい実施形態では、ＴＦＡＣは、欧州特許出願公開第０６３８５３９Ａ号明細書に記載されているようにＯ_２およびＣｌ_２の存在下での光酸化によって１２３（１，１−ジクロロ−２，２，２−トリフルオロエタン）から製造される。この反応で生じる有機副生成物、すなわちＣＯＣｌ_２、ＣＯＦ_２および１１３ａ（１−クロロ−２，２，２−トリフルオロエタン）、ならびに残存出発原料１２３の含有量は、無機副生成物ＨＣｌおよび出発原料Ｃｌ_２と同様に、効果的に減少させることができる。この実施形態の一態様では、Ｃｌ_２は、低圧蒸留から塔頂生成物として回収された画分中に、ＴＦＡＣをまた含有する画分中に含有され、低圧蒸留においてＴＦＡＣおよび減少した量の不純物を含有する画分は、低圧蒸留ステップの塔底生成物として回収される。Ｃｌ_２／ＴＦＡＣ混合物は、光酸化ステップにリサイクルすることができる。

本発明はまた、式（Ｉ）の化合物が式（ＩＩ）の化合物の酸化によって製造された場合に特に、本発明による方法によって得られる、不純物の含有量が低減されている式（Ｉ）Ｒ１−Ｃ（Ｏ）Ｘの化合物の画分であって、好ましくは式（Ｉ）の化合物が、トリフルオロアセチルクロリド、ジフルオロアセチルクロリドおよびジフルオロクロロアセチルクロリドからなる群から選択される画分に関する。この実施形態の好ましい一態様では、式（Ｉ）の化合物は、欧州特許出願公開第０６３８５３９Ａ号明細書に記載されているように１２３の光酸化によって製造されるＴＦＡＣである。ＴＦＡＣを含有する画分が、３つの蒸留ステップがａ）において行われる、低圧蒸留ステップから塔底生成物として回収されるケースでは、回収画分中のフルオリドの含有量は非常に低い。多くの場合、フルオリド（Ｆ⁻）含有量は５０ｐｐｍよりも低い。好ましくは、フルオリド（Ｆ⁻）含有量は３０ｐｐｍよりも低く、より好ましくは、フルオリド（Ｆ⁻）含有量は１０ｐｐｍよりも低い。ＴＦＡＣを含有する画分が、低圧蒸留ステップから塔頂生成物として回収されるケースでは、回収画分中のフロオリドの含有量は低い。多くの場合、フルオリド（Ｆ⁻）含有量は１５０ｐｐｍよりも低い。好ましくは、フルオリド（Ｆ⁻）含有量は１２０ｐｐｍよりも低く、より好ましくは、フルオリド（Ｆ⁻）含有量は１００ｐｐｍよりも低い。最も好ましい態様では、フルオリド（Ｆ⁻）含有量は４０ｐｐｍよりも低い。この方法によって達成される（Ｆ⁻）含有量は多くの場合５ｐｐｍよりも高く；一般に、５〜９０ｐｐｍの（Ｆ⁻）含有量を達成することができる。（Ｆ⁻）含有量は好適には、加水分解された試料のイオンクロマトグラフィーによって測定される。さらに、ＴＦＡＣおよび減少した量の不純物を含有する画分は通常、０〜４００ｐｐｍ、好ましくは０〜３００ｐｐｍ、より好ましくは０〜２５０ｐｐｍの１２３を含有する。最も好ましくは、１２３含有量は１００ｐｐｍよりも下である。１２３含有量は好適には、ＧＣによって測定される。ＴＦＡＣおよび減少した量の不純物を含有する画分は通常、０〜３０、好ましくは０〜２０、最も好ましくは０〜１５ｐｐｍのＣｌ_２を含有する。Ｃｌ_２含有量は好適には、加水分解された試料のイオンクロマトグラフィーによって測定される。ＴＦＡＣおよび減少した量の不純物を含有する画分は通常、０〜２％、好ましくは０〜１％、より好ましくは０〜０．５％のＨＣｌを含有する。最も好ましくは、ＨＣｌ含有量は０．０１％よりも下である。ＨＣｌ含有量は好適には、加水分解された試料のイオンクロマトグラフィーによって測定される。ＴＦＡＣおよび減少した量の不純物を含有する画分は通常、０〜０．２％、好ましくは０〜０．１％、より好ましくは０〜０．０５％のＣＯＣｌ_２を含有する。最も好ましくは、ＣＯＣｌ_２含有量は０．０１％よりも下である。ＴＦＡＣおよび減少した量の不純物を含有する画分は通常、０〜０．２％、好ましくは０〜０．１％、より好ましくは０〜０．０５％のＣＯＦ_２を含有する。最も好ましくは、ＣＯＦ_２含有量は０．０１％よりも下である。ＴＦＡＣおよび減少した量の不純物を含有する画分は通常、０〜０．５％、好ましくは０〜０．２％、最も好ましくは０〜０．１％の１１３ａを含有する。ＣＯＣｌ_２、ＣＯＦ_２および１１３ａの含有量は好適には、ＧＣによって検出される。

不純物の含有量が低減されている式（Ｉ）Ｒ１−Ｃ（Ｏ）Ｘの化合物の画分は、（Ｉ）がＴＦＡＣ、ＣＤＦＡＣまたはＤＦＡＣである場合に特に、農学的にまたは薬学的に活性な化合物の製造に使用することができる。本発明によって回収された画分を、農学的にまたは薬学的に活性な化合物の製造のための出発原料としてさらに利用できる方法は、例えば、上述の刊行物に見いだすことができる。

本発明はまた、本発明による方法を含む、農学的にまたは薬学的に活性な化合物の製造方法に関する。その活性な原料または中間体のさらなる製造のための下流プロセス工程は、より少ない副生成物、より少ない廃棄物、より高い選択性および装置のより低い腐食を下流プロセスにおいて実現することできるので、式（Ｉ）の化合物の得られた画分の純度から非常に恩恵を受ける。本発明によって回収された画分を、農学的にまたは薬学的に活性な化合物の製造のための出発原料としてさらに利用できる方法は、例えば、上述の刊行物に見いだすことができる。

以下の実施例は、本発明を例示することを意図するが、その範囲を限定するものではない。

参照により本明細書に援用される特許、特許出願、および刊行物のいずれかの開示が用語を不明瞭にさせ得る程度まで本出願の記載と矛盾する場合、本記載が優先するものとする。

ＴＦＡＣの製造
ＴＦＡＣを欧州特許出願公開第０６３８５３９Ａ号明細書に記載されている方法に従って製造し、粗生成物を、ＴＦＡＣおよび不純物を含有する粗画分として使用して３ステップ蒸留プロセスにかける。

実施例１：
ＴＦＡＣおよび不純物を含有する画分を、１５バールで加圧し、第１蒸留塔（ＤＮ ５０、１ｃｍ直径のセラミックフィラー、高さ６メートル、材料：Ｉｎｏｘ １．４５７１鋼）にかけた。油溜め（ｓｕｍｐ）を６３℃に保ち；第１蒸留塔の塔頂で、主としてＨＣｌを含有する画分を、−２０℃で捕捉することによって回収した。油溜めは、主としてＴＦＡＣ、１２３、Ｃｌ_２およびＣＯＣｌ_２を含有した。油溜めを次に、９．５バールで第２蒸留（塔 ＤＮ ５０、１ｃｍ直径のセラミックフィラー、高さ６メートル、材料：Ｉｎｏｘ １．４５７１鋼）にかけた。油溜めを６３℃に保ち；塔の塔頂で、５３℃で、主としてＣｌ_２および小部分のＣＯＣｌ_２を含有する画分を回収した。この第２蒸留の油溜めを次に、３バールで第３蒸留（塔 ＤＮ ５０、１ｃｍ直径のセラミックフィラー、高さ６メートル、材料：Ｉｎｏｘ １．４５７１鋼）にかけ、そこで、塔頂で（１８℃での、油溜め８４℃）ＴＦＡＣおよび減少した量の不純物を含有する画分を回収した。

実施例２：
ＴＦＡＣおよび不純物を含有する画分を、１５バールで加圧し、第１蒸留塔（ＤＮ ５０、１ｃｍ直径のセラミックフィラー、高さ６メートル、材料：Ｉｎｏｘ １．４５７１鋼）にかけた。油溜めを６３℃に保ち；第１蒸留塔の塔頂で、主としてＨＣｌを含有する画分を、−２０℃で捕捉することによって回収した。油溜めは、主としてＴＦＡＣ、１２３、Ｃｌ_２およびＣＯＣｌ_２を含有した。油溜めを次に、７バールで第２蒸留（塔 ＤＮ ５０、１ｃｍ直径のセラミックフィラー、高さ６メートル、材料：Ｉｎｏｘ １．４５７１鋼）にかけた。油溜めを１０４℃に保ち；塔の塔頂で、４０℃で主としてＴＦＡＣおよびＣｌ_２を含有する画分を回収した。この第２蒸留の油溜めを次に、６バールで第３蒸留（塔 ＤＮ ５０、１ｃｍ直径のセラミックフィラー、高さ６メートル、材料：Ｉｎｏｘ １．４５７１鋼）にかけ、そこで、塔頂で（２０℃での）主としてＴＦＡＣおよびＣｌ_２を含有する画分を蒸留した。この第３蒸留の塔底（油溜め）を、ＴＦＡＣおよび減少した量の不純物を含有する画分として回収した。

Claims (17)

1. 不純物の含有量が低減されている式（Ｉ）Ｒ１−Ｃ（Ｏ）Ｘ（式中、Ｒ１はフッ素化および／または塩素化Ｃ１〜Ｃ３アルキルであり、Ｘはハロゲンである）の化合物の獲得方法であって、ａ）式（Ｉ）Ｒ１−Ｃ（Ｏ）Ｘの化合物および不純物を含む粗画分を、異なる圧力で行われる少なくとも２つの蒸留ステップにかける工程と、ｂ）不純物の含有量が低減されている式（Ｉ）の前記化合物の画分を少なくとも回収する工程とを含む方法。
2. ａ）が、高圧蒸留ステップ、中圧蒸留ステップおよび低圧蒸留ステップからなる、少なくとも３つの蒸留ステップを含む、請求項１に記載の方法。
3. 前記高圧蒸留ステップおよび前記高圧蒸留ステップよりも少なくとも１バール低い圧力で実施される前記中圧蒸留ステップ、ならびに前記中圧蒸留ステップよりも少なくとも０．２バール低い圧力で実施される前記低圧蒸留ステップ、請求項２に記載の方法。
4. Ｒ１が、フッ素化および／または塩素化メチルならびにフッ素化および／または塩素化エチルからなる群から選択される、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
5. Ｒ１が、ＣＦ_３、ＣＣｌＦ_２、ＣＣｌ_２Ｆ、ＣＨＦ_２、ＣＨＣｌＦ、ＣＨ_２ＣｌおよびＣＣｌ_２Ｈからなる群から選択される、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
6. Ｘが、Ｃｌ、ＦおよびＢｒからなる群から選択される、好ましくはＸがＣｌである、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
7. 式（Ｉ）の前記化合物が、トリフルオロアセチルクロリド、ジフルオロアセチルクロリドおよびジフルオロクロロアセチルクロリドからなる群から選択される、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
8. 前記高圧蒸留ステップと前記中圧蒸留ステップとの間の圧力差が１〜１０バールであり、前記中圧蒸留ステップと前記低圧蒸留ステップとの間の圧力差が１〜８バールである、請求項２〜７のいずれか一項に記載の方法。
9. 前記高圧蒸留ステップにおける圧力が１２〜１８バールであり、前記中圧蒸留ステップにおける圧力が６〜１２バールであり、前記低圧蒸留ステップにおける圧力が１〜９バールである、請求項２〜８のいずれか一項に記載の方法。
10. 前記高圧蒸留ステップが一番目に行われ、前記中圧蒸留ステップが二番目に行われ、前記低圧蒸留ステップが三番目に行われる、請求項２〜９のいずれか一項に記載の方法。
11. 不純物の含有量が低減されている式（Ｉ）の前記化合物の画分が、塔頂生成物として前記低圧蒸留ステップから回収される、請求項２〜１０のいずれか一項に記載の方法。
12. 不純物の含有量が低減されている式（Ｉ）の前記化合物の画分が、塔底生成物として前記低圧蒸留ステップから回収される、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
13. 式（Ｉ）の前記化合物の画分が、式（ＩＩ）Ｒ１−ＣＨＸ’_２（式中、Ｘ’は同じもしくは異なるものであり、Ｘ’は、Ｃｌ、ＦおよびＢｒからなる群から選択されるハロゲンであり、特にＸ’はＣｌであり、Ｒ１は上記と同じ定義を有する）の化合物から出発する酸化法によって得られた、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の方法。
14. Ｘが上記と同じ定義を有する、式（Ｉ）Ｒ１−Ｃ（Ｏ）Ｘの化合物および不純物を含む前記粗画分がＨＸ、特にＨＣｌを含有し、不純物の含有量が低減されている、ＨＸ、特にＨＣｌの画分が回収される、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の方法。
15. 請求項１〜１４のいずれか一項に記載の方法によって、特に請求項１３に記載の方法によって得られる、不純物の含有量が低減されている式（Ｉ）Ｒ１−Ｃ（Ｏ）Ｘの化合物の画分であって、好ましくは式（Ｉ）の前記化合物が、トリフルオロアセチルクロリド、ジフルオロアセチルクロリドおよびジフルオロクロロアセチルクロリドからなる群から選択される画分。
16. 請求項１〜１４のいずれか一項に記載の方法を含む、農学的にまたは薬学的に活性な化合物の製造方法。
17. 薬学的にまたは農学的に活性な化合物の製造のための請求項１５に記載の画分の使用。