JP2020200401A - 樹脂組成物およびそれを用いた光学フィルム - Google Patents

Abstract

【課題】光学補償フィルムに適する樹脂組成物およびそれを用いた位相差特性に優れた光学補償フィルムを提供する。
【解決手段】樹脂成分としてフルオレン骨格を含むポリカーボネート系の重合体Ａと、環上に置換基を有してもよいイソブチルα−シアノシンナメートに由来する特定の残基単位を含む共重合体Ｂを含むことを特徴とする樹脂組成物。該組成物は光学補償フィルムとして好適に使用することができる。
【選択図】なし

Description

本発明は、樹脂組成物およびそれを用いた光学フィルムに関するものであり、より詳しくは、樹脂組成物ならびに位相差特性および波長分散特性に優れた液晶ディスプレイ用の光学補償フィルムに関する。

液晶や有機ＥＬなどのフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）は、マルチメディア社会における最も重要な表示デバイスとして、携帯電話、コンピュ−タ−用モニタ−、ノ−トパソコン、テレビまで幅広く使用されている。ＦＰＤには、表示特性向上のため、多くの光学フィルムが用いられている。特に、位相差フィルムは正面や斜めから見た場合の視認性向上に必要な部材である。

位相差フィルムは、１／４波長、１／２波長板が知られており、材料としてセルロース系樹脂、ポリカーボネートや環状ポリオレフィンなどの延伸フィルムが用いられている。（例えば、特許文献１〜３参照。）特にトリアセチルセルロースフィルムなどのセルロース系樹脂からなるフィルムは、偏光子であるポリビニルアルコールとの接着性も良好なことから幅広く使用されている。

一般に、位相差フィルムは反射型液晶表示装置、タッチパネルや有機ＥＬの反射防止層としても用いられるものであり、該用途では、長波長域ほどレターデーションが大きい位相差フィルム（以下、「逆波長分散フィルム」という。）や全波長における位相差が同等である波長分散性がフラットな位相差フィルム（以下、「フラットな波長分散フィルム」という。）が求められている。反射防止層として逆波長分散フィルムが用いられる場合、位相差は測定波長λの１／４程度が好ましく、４５０ｎｍにおけるレターデーション（Ｒ_４５０）と５５０ｎｍにおけるレターデーション（Ｒ_５５０）の比Ｒ_４５０／Ｒ_５５０は０．８１に近いことが好ましい。また、逆波長分散フィルムと組み合わせてフラットな波長分散フィルムが用いられる場合、位相差は測定波長λの１／４程度が好ましく、Ｒ_４５０／Ｒ_５５０は１．００に近いことが好ましい。現在、２枚以上のフィルムを積層し上記特性を発現させている。ただし、多層とすることで層間の屈折率の違いによる外光の層間反射が大きくなる課題がある。

特許２８１８９８３号公報 特開平５−２９７２２３号公報 特開平５−３２３１２０号公報

本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は２種以上の共重合体からなる樹脂組成物が波長分散性（Ｒ_４５０／Ｒ_５５０）を調整できることにある。

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討の結果、特定の構成単位を含む２種の共重合体を含む樹脂組成物が上記課題を解決することを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、下記一般式（１）、下記一般式（２）、下記一般式（３）からなる群の少なくとも１種の残基単位を含有する重合体Ａと、下記一般式（４）、下記一般式（５）、下記一般式（６）からなる群の少なくとも１種で表される残基単位を含有する重合体Ｂを含む樹脂組成物である。

（式中、Ｒ_１およびＲ_２はそれぞれ独立してハロゲン原子、炭素数１〜１０の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１０の分岐状アルキル基、炭素数３〜６の環状アルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基（−ＯＸ１）、炭素数６〜１０のアリ−ル基、炭素数７〜２０のアラルキル基、炭素数６〜１０のアリ−ルオキシ基または炭素数７〜２０のアラルキルオキシ基である。Ｘ１は炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜６の環状アルキル基のいずれかである。
ｑおよびｒはそれぞれ独立して０〜４の整数である。
Ｗは、単結合、または、

のいずれかである。Ｒ_３〜Ｒ_８はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、フェニル基、炭素数１〜１０の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１０の分岐状アルキル基、炭素数３〜６の環状アルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基（−ＯＸ２）、アルキルカルボン酸（−Ｘ３ＣＯＯＨ）、または炭素数１〜１０のハロゲン化炭素のいずれかである。Ｘ２は炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜６の環状アルキル基のいずれかである。Ｘ３は炭素数１〜１０の直鎖状アルキレン基、炭素数１〜１０の分岐状アルキレン基のいずれかである。
ｓは１〜６の整数である。）

（式中、Ｙは炭素数１〜２０のアルキレン基、炭素数３〜２０のシクロアルキレン基、炭素数１〜２０のエーテル基、炭素数６〜２０の環状エーテル基、炭素数１〜２０のチオエーテル基、炭素数６〜２０の環状チオエーテル基、炭素数１〜２０のイミノ基、炭素数６〜２０の環状イミノ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキレン基のいずれかである。）

（式中、Ｒ_９〜Ｒ_１０はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基のいずれかである。Ｚは炭素数１〜１４のアルキレン基である。
ｎは０〜４の整数である。
Ａは単結合、炭素数１〜６のアルキル基、酸素原子、または無置換のいずれかである。）

（式中、Ｒ_１１、Ｒ_１２はそれぞれ独立して水素原子（ただし、Ｒ_１１、Ｒ_１２が共に水素原子である場合を除く。）、シアノ基、エステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ’１）、アミド基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ’２）（Ｘ’３））、またはアシル基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ’４）のいずれかである。Ｘ’１〜Ｘ’３はそれぞれ独立して炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜６の環状アルキル基のいずれかである。Ｘ’４は炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基のいずれかである。
Ｒ_１３〜Ｒ_１７はそれぞれ独立して水素原子、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、炭素数３〜１４の環状基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ニトロ基、シアノ基、アルコキシ基（−ＯＸ’５）、エステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ’６）、アミド基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ’７）（Ｘ’８））、アシル基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ’９）、アミノ基（−Ｎ（Ｘ’１０）（Ｘ’１１））、またはスルホン酸基（−ＳＯＯＸ’１２）のいずれかである。Ｒ_１３〜Ｒ_１７は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよい。Ｘ’５〜Ｘ’８は、それぞれ独立して炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜６の環状アルキル基のいずれかである。Ｘ’９〜Ｘ’１２はそれぞれ独立して水素原子、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜６の環状アルキル基のいずれかである。）

（式中、Ｒ_１８は水素原子、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基または炭素数３〜１４の環状基のいずれかである。Ｒ_１９は水素原子、カルボキシ基またはエステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ’１３）のいずれかである。
Ｒ_２０〜Ｒ_２４はそれぞれ独立して水素原子、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、炭素数３〜１４の環状基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ニトロ基、シアノ基、チオール基、スルホン酸基、アルコキシ基（−ＯＸ’１４）、エステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ’１５）、スルホニル基（−ＳＯＯＸ’１６）、アミド基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ’１７）（Ｘ’１８）または−ＮＸ’１９Ｃ（＝Ｏ）Ｘ’２０）、アシル基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ’２１）、アミノ基（−Ｎ（Ｘ’２２）（Ｘ’２３））、またはアシルオキシ基（−ＯＣ（＝Ｏ）Ｘ’２４）のいずれかである。Ｒ_２０〜Ｒ_２４は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよい。Ｘ’１３〜Ｘ’１６はそれぞれ独立して炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基のいずれかである。Ｘ’１７〜Ｘ’２４はそれぞれ独立して水素原子、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基のいずれかである。）

（式中、Ｒ_２５はヘテロ原子を１つ以上含むｍ員環複素環残基またはヘテロ原子を含まないｎ員環残基を示し、それぞれ置換基を有してもよい。前記ｍ員環複素環残基および前記ｎ員環残基は縮合環構造を形成してもよい。
ｍ、ｎはそれぞれ５〜１０の整数を示す。）。

以下に本発明を詳細に説明する。

本発明は、上記一般式（１）、上記一般式（２）、上記一般式（３）からなる群の少なくとも１種の残基単位を含有する重合体Ａと、上記一般式（４）、上記一般式（５）、上記一般式（６）からなる群の少なくとも１種で表される残基単位を含有する重合体Ｂを含む樹脂組成物である（以下、「本発明の樹脂組成物」という。）。

本発明の樹脂組成物は重合体Ａを含有する。重合体Ａは、上記一般式（１）、上記一般式（２）、上記一般式（３）からなる群の少なくとも１種の残基単位を含有する重合体である。

本発明の樹脂組成物における重合体Ａは、上記一般式（１）〜（３）で表される残基単位から明らかなように、ポリカーボネート系樹脂である。

本発明の樹脂組成物における重合体Ａは、上記一般式（１）〜（３）からなる群の少なくとも１種の残基単位を含み、好ましくは少なくとも２種の残基単位を含み、さらに好ましくは上記一般式（１）〜（３）で表される全ての残基単位を含む。これにより、本発明の樹脂組成物は耐熱性及び位相差性能がより優れる。

本発明の樹脂組成物における重合体Ａは、少なくとも上記一般式（３）で表される残基単位を有することが好ましい。この場合、上記一般式（３）は、下記一般式（７）または一般式（８）で表される残基単位の少なくともいずれかであることが好ましい。

（式中、Ｒ_９〜Ｒ_１０は、前記式（３）と同じものである。
Ｚは炭素数１〜１４のアルキレン基である。
ｎは０〜４の整数である。）

（式中、Ｒ_９〜Ｒ_１０は前記式（３）と同じものである。
Ｚは炭素数１〜１４のアルキレン基である。
ｎは０〜４の整数である。）。
本発明の一般式（３）におけるＲ_９、Ｒ_１０としては、位相差特性および透明性により優れることから、いずれか一方がシアノ基；メチルエステル基、エチルエステル基、ｎ−プロピルエステル基、イソプロピルエステル基、ｎ−ブチルエステル基、ｓｅｃ−ブチルエステル基、イソブチルエステル基、ｔｅｒｔ−ブチルエステル基等のエステル基；ジメチルアミド基、ジエチルアミド基、ジｎ−プロピルアミド基、ジイソプロピルアミド基等のアミド基；アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等のアシル基からなる群より選択され、他方が水素原子またはシアノ基であることが好ましく、いずれか一方がシアノ基、エステル基、アミド基、アシル基からなる群より選択され、他方がシアノ基であることがさらに好ましく、いずれか一方がシアノ基またはエステル基であり、他方がシアノ基であることが特に好ましい。

本発明の樹脂組成物における重合体Ａは、少なくとも上記一般式（１）で表される残基単位を有することが好ましい。この場合、一般式（１）におけるＲ_１およびＲ_２はそれぞれ独立してハロゲン原子、炭素数１〜１０の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１０の分岐状アルキル基、炭素数１〜１０の環状アルキル基、アルコキシ基（−ＯＸ１）、炭素数６〜１０のアリ−ル基、炭素数７〜２０のアラルキル基、炭素数６〜１０のアリ−ルオキシ基または炭素数７〜２０のアラルキルオキシ基のいずれかである。
ｑおよびｒはそれぞれ独立して０〜４の整数である。
Ｗは、単結合、または、

のいずれかである。Ｒ_３〜Ｒ_８はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、フェニル基、炭素数１〜１０の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１０の分岐状アルキル基、炭素数３〜６の環状アルキル基、アルコキシ基（−ＯＸ２）、アルキルカルボン酸（−Ｘ３ＣＯＯＨ）、または炭素数１〜１０のハロゲン化炭素のいずれかである。Ｘ２は炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数６〜１２の環状基のいずれかである。Ｘ３は炭素数１〜１０の直鎖状アルキレン基、炭素数１〜１０の分岐状アルキレン基のいずれかである。
ｓは１〜６の整数である。）。
Ｒ_１およびＲ_２におけるハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられる。

Ｒ_１およびＲ_２における炭素数１〜１０の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基等が挙げられる。

Ｒ_１およびＲ_２における炭素数１〜１０の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ネオペンチル基等が挙げられる。

Ｒ_１およびＲ_２における炭素数１〜１０の環状アルキル基としては、例えば、シクロヘキシル基、シクロオクチル基等が挙げられる。

Ｒ_１およびＲ_２におけるアルコキシ基（−ＯＸ１）としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチロキシ基、ネオペンチロキシ基、ｎ−ヘキシロキシ基、ｎ−ヘプチロキシ基、ｎ−オクチロキシ基、ｎ−ノニロキシ基、ｎ−デシロキシ基等が挙げられる。

Ｒ_１およびＲ_２における炭素数６〜１０のアリ−ル基としては、例えば、フェニル基、ｐ−トリル基、ｐ−（ｎ−ヘキシル）フェニル基、ｐ−（ｎ−オクチル）フェニル基、ｐ−（２−エチルヘキシル）フェニル基等が挙げられる。

Ｒ_１およびＲ_２における炭素数７〜２０のアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェネチル基等が挙げられる。

Ｒ_１およびＲ_２における炭素数６〜１０のアリ−ルオキシ基としては、例えば、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、３−メチルフェノキシ基、４−メチルフェノキシ基、２−メトキシフェノキシ基、３−メトキシフェノキシ基、４−メトキシフェノキシ基、２−シアノフェノキシ基、３−シアノフェノキシ基、４−シアノフェノキシ基、４−メチルフェニルオキシ基、３−メチルフェニルオキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基等が挙げられる。

Ｒ_１およびＲ_２における炭素数７〜２０のアラルキルオキシ基としては、例えば、ベンジルオキシ、フェネチルオキシ基等が挙げられる。

Ｒ_３〜Ｒ_８におけるハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられる。

Ｒ_３〜Ｒ_８におけるフェニル基としては、例えば、フェニル基、メチルフェニル基、フルオロフェニル基、ジメチルフェニル基、ジフルオロフェニル基、トリメチルフェニル基、チルフルオロフェニル基、エチルフェニル基等が挙げられる。

Ｒ_３〜Ｒ_８における炭素数１〜１０の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基等が挙げられる。

Ｒ_３およびＲ_８における炭素数１〜１０の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ネオペンチル基等が挙げられる。

Ｒ_３およびＲ_８における炭素数３〜６の環状アルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。

Ｒ_３〜Ｒ_８におけるアルコキシ基（−ＯＸ２）としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチロキシ基、ネオペンチロキシ基、ｎ−ヘキシロキシ基、ｎ−ヘプチロキシ基、ｎ−オクチロキシ基、ｎ−ノニロキシ基、ｎ−デシロキシ基等が挙げられる。

Ｒ_３およびＲ_８におけるアルキルカルボン酸（−Ｘ３ＣＯＯＨ）としては、例えば、メチルカルボン酸、エチルカルボン酸、プロピルカルボン酸、ブチルカルボン酸、ペンチルカルボン酸、ヘキシルカルボン酸等が挙げられる。

Ｒ_３およびＲ_８における炭素数１〜１０のハロゲン化炭素としては、例えば、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基等が挙げられる。

本発明の樹脂組成物における重合体Ａは、少なくとも上記一般式（２）で表される残基単位を有することが好ましい。この場合、一般式（２）におけるＹは炭素数１〜２０のアルキレン基、炭素数３〜２０のシクロアルキレン基、炭素数１〜２０のエーテル基、炭素数６〜２０の環状エーテル基、炭素数１〜２０のチオエーテル基、炭素数６〜２０の環状チオエーテル基、炭素数１〜２０のイミノ基、炭素数６〜２０の環状イミノ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキレン基のいずれかである。

Ｙにおける炭素数１〜２０のアルキレン基としては、直鎖状、又は分岐状アルキレン基のいずれでもよく、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、２−メチルプロピレン基、２，２−ジメチルプロピレン基、イソプロピレン基、ブチレン基、２−メチルブチレン基、３−メチルブチレン基、２−ブチレン基、３−メチルブタン−２−イレン基、ｔｅｒｔ−ブチレン基、ペンチレン基、２−メチルペンチレン基、３−エチルペンチレン基、２，４−ジメチルペンチレン基、２−ペンチレン基、２−メチルペンタン−２−イレン基、４，４−ジメチルペンタン−２−イレン基、３−ペンチル基、３−エチルペンタン−３−イレン基、２，５−ジメチルシクロペンチレン基、ヘキシレン基、２−メチルヘキシレン基、３，３−ジメチルヘキシレン基、４−エチルヘキシレン基、２−ヘキシレン基、２−メチルヘキサン−２−イレン基、５，５−ジメチルヘキサン−２−イレン基、３−ヘキシレン基、２，４−ジメチルヘキサン−３−イレン基、ヘプチレン基、２−ヘプチレン基、３−ヘプチレン基、４−ヘプチレン基、オクチレン基、２−オクチレン基、３−オクチレン基、４−オクチレン基、ノニレン基、５−ノニレン基、デシレン基、２−デシレン基、５−デシレン基、ウンデシレン基、ドデシレン基、トリデシレン基、テトラデシレン基、ペンタデシレン基、ヘキサデシレン基、ヘプタデシレン基、オクタデシレン基、ノナデシレン基、エイコシレン基等が挙げられる。

Ｙにおける炭素数３〜２０のシクロアルキレン基としては、例えば、シクロヘキシルメチレン基、２−シクロペンチルエチレン基、３−シクロプロピルプロピレン基、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペンチレン基、３−エチルシクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、４−エチルシクロヘキシレン基、４−プロピルシクロヘキシレン基、４，４−ジメチルシクロヘキシレン基、ビシクロ［２．２．１］ヘプチレン基、シクロオクチレン基、ビシクロ［２．２．２］オクチレン基等が挙げられる。

Ｙにおける炭素数１〜２０のエーテル基としては、例えば、メチルエーテル基、メチルエチルエーテル基、エチルエーテル基、ｎ−プロピルエーテル基、ｎ−ブチルエーテル基、イソブチルエーテル基、ｔｅｒｔ−ブチルエーテル基、ｎ−ペンチルエーテル基、ネオペンチルエーテル基、ｎ−ヘキシルエーテル基、ｎ−ヘプチルエーテル基、ｎ−オクチルエーテル基、ｎ−ノニルエーテル基、ｎ−デシルエーテル基等が挙げられる。

Ｙにおける炭素数６〜２０の環状エーテル基としては、例えば、シクロヘキシルエーテル基、シクロオクチルエーテルオクチロキシ基等が挙げられる。また、該環状エーテル基を有する構成単位として、

が挙げられる。

Ｙにおける炭素数１〜２０のチオエーテル基としては、例えば、−ＣＨ_２ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＳＣＨ_２ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＳＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＳＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＳＣＨ_２−等が挙げられる。

Ｙにおける炭素数６〜２０の環状チオエーテル基としては、例えば、

等が挙げられる。

Ｙにおける炭素数１〜２０のイミノ基としては、例えば、−ＣＨ_２ＮＨＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＮＨＣＨ_２ＮＨＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＮＨＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＮＨＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＮＨＣＨ_２−基等が挙げられる。

Ｙにおける炭素数６〜２０の環状イミノ基としては、例えば、

等が挙げられる。

Ｙにおける炭素数１〜２０のハロゲン化アルキレン基としては、例えば、−ＣＦ_２−、−（ＣＦ_２）_２−、−（ＣＦ_２）_３−、−（ＣＦ_２）_４−、−（ＣＦ_２）_５−、−（ＣＦ_２）_６−、−（ＣＦ_２）_７−、−（ＣＦ_２）_８−、−（ＣＦ_２）_９−、−（ＣＦ_２）_１０−等が挙げられる。

本発明の樹脂組成物における重合体Ａが少なくとも上記一般式（２）で表される残基単位を有する場合、一般式（２）は下記一般式（９）または下記一般式（１０）のいずれかの残基単位であることが好ましく、より好ましくは一般式（９）である。これにより、本発明の樹脂組成物がより優れた位相差特性を発揮する。

（式中、ｎは３〜１０の整数である。）。
上記式（１０）の原料となる化合物は、ｎが３のとき、プロパンジオール、ｎが１０のとき、デカンジオールを表す。

本発明の樹脂組成物は重合体Ａを含有する。重合体Ａは、上記一般式（１）および上記一般式（２）または、上記一般式（１）および上記一般式（３）または、上記一般式（２）および上記一般式（３）で表される残基単位を含有することが好ましく、上記一般式（１）上記一般式（２）および上記一般式（３）残基単位を含有することがさらに好ましい。これにより、重合体Ａの波長分散性を任意に制御することができ、耐熱性が期待される。

本発明の樹脂組成物は重合体Ｂを含有する。重合体Ｂは、上記一般式（４）、上記一般式（５）、上記一般式（６）からなる群の少なくとも１種の残基単位を含有する重合体である。

本発明の樹脂組成物における重合体Ｂは、少なくとも上記一般式（４）で表される残基単位を有することが好ましい。

上記一般式（４）において、Ｒ_１１、Ｒ_１２はそれぞれ独立して水素原子（ただし、Ｒ_１１、Ｒ_１２が共に水素原子である場合を除く。）、シアノ基、エステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ’１）、アミド基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ’２）（Ｘ’３））、またはアシル基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ’４）のいずれかであるＸ’１〜Ｘ’３はそれぞれ独立して炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜６の環状アルキル基のいずれかである。Ｘ‘４は炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基のいずれかである。

上記一般式（４）において、Ｒ_１３〜Ｒ_１７はそれぞれ独立して水素原子、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、炭素数３〜１４の環状基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ニトロ基、シアノ基、アルコキシ基（−ＯＸ’５）、エステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ’６）、アミド基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ’７）（Ｘ’８））、アシル基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ’９）、アミノ基（−Ｎ（Ｘ’１０）（Ｘ’１１））、またはスルホン酸基（−ＳＯＯＸ’１２）のいずれかである。Ｒ_１３〜Ｒ_１７は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよい。Ｘ’５〜Ｘ’８は、それぞれ独立して炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜６の環状アルキル基のいずれかである。Ｘ’９〜Ｘ’１２はそれぞれ独立して水素原子、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜６の環状アルキル基のいずれかでる。）
Ｒ_１３〜Ｒ_１７における炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げられる。

Ｒ_１３〜Ｒ_１７における炭素数１〜１２の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられる。

Ｒ_１３〜Ｒ_１７における炭素数３〜１４の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。

Ｒ_１３〜Ｒ_１７におけるハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられる。

Ｘ’５〜Ｘ’８における炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げられる。

Ｘ’５〜Ｘ’８における炭素数１〜１２の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられる。

Ｘ’５〜Ｘ’８における炭素数３〜６の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。

Ｘ’９〜Ｘ’１２における炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げられる。

Ｘ’９〜Ｘ’１２における炭素数１〜１２の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられる。

Ｘ’９〜Ｘ’１２における炭素数３〜６の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。

本発明の一般式（４）におけるＲ_１３〜Ｒ_１７としては、位相差特性および透明性により優れることから、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブチル基、シクロヘキシル基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ニトロ基、シアノ基、チオール基、スルホン酸基、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、メチルエステル基、エチルエステル基、ｎ―プロピルエステル基、イソプロピルエステル基、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ｎ−プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、アミド基、ジメチルアミド基、ジエチルアミド基、ジｎ−プロピルアミド基、ジイソプロピルアミド基、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジｎ−プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基が好ましく、ヒドロキシ基、カルボキシ基、チオール基、スルホン酸基、メチルエステル基、エチルエステル基、ｎ−プロピルエステル基、イソプロピルエステル基、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ｎ−プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、アミド基、ジメチルアミド基、ジエチルアミド基、ジｎ−プロピルアミド基、ジイソプロピルアミド基、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジｎ−プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基からなる群の１種が好ましく、ヒドロキシ基、カルボキシ基からなる群の１種がさらに好ましい。

そして、本発明の式（４）において、Ｒ_１１、Ｒ_１２のいずれか一方がシアノ基、エステル基、アミド基、アシル基からなる群より選択され、他方がシアノ基であり、かつ、Ｒ_１３〜Ｒ_１７のうち少なくとも１以上が、ヒドロキシ基、カルボキシ基、チオール基、スルホン酸基、エステル基、アミド基、アシル基、アミノ基、スルホニル基、アシルオキシ基からなる群より選択される１種以上の水素結合性置換基であることが特に好ましい。

具体的な式（４）で表される残基単位としては、例えば、α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、２−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、３−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、４−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、２，３−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、３，４−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、２−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、３−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、４−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、２，３−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、３，４−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、２−カルボキシ−３−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、３−カルボキシ−２−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、３−カルボキシ−４−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、４−カルボキシ−３−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、２−スルファニル−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、３−スルファニル−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、４−スルファニル−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、２−スルホン酸−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、３−スルホン酸−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、４−スルホン酸−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、２−メトキシカルボニル−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、３−メトキシカルボニル−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、４−メトキシカルボニル−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、２−エトキシカルボニル−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、３−エトキシカルボニル−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、４−エトキシカルボニル−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、２−ホルミル−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、３−ホルミル−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、４−ホルミル−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、２−アセチル−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、３−アセチル−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、４−アセチル−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、２−アミノ−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、３−アミノ−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、４−アミノ−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、２−メチルスルホニル−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、３−メチルスルホニル−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、４−メチルスルホニル−α−シアノケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、２−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、３−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、４−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、２，３−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、３，４−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、２−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、３−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、４−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、２，３−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、３，４−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、２−カルボキシ−３−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、３−カルボキシ−２−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、３−カルボキシ−４−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、４−カルボキシ−３−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、２−カルボキシ−４−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、４−カルボキシ−２−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、２−スルファニル−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、３−スルファニル−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、４−スルファニル−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、２−スルホン酸−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、３−スルホン酸−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、４−スルホン酸−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、２−メトキシカルボニル−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、３−メトキシカルボニル−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、４−メトキシカルボニル−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、２−エトキシカルボニル−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、３−エトキシカルボニル−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、４−エトキシカルボニル−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、２−ホルミル−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、３−ホルミル−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、４−ホルミル−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、２−アセチル−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、３−アセチル−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、４−アセチル−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、２−アミノ−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、３−アミノ−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、４−アミノ−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、２−メチルスルホニル−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、３−メチルスルホニル−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、４−メチルスルホニル−α−シアノケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、４−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３，４−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、４−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３，４−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２−カルボキシ−３−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３−カルボキシ−２−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３−カルボキシ−４−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、４−カルボキシ−３−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２−カルボキシ−４−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、４−カルボキシ−２−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２−スルファニル−α−シアノケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３−スルファニル−α−シアノケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、４−スルファニル−α−シアノケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２−スルホン酸−α−シアノケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３−スルホン酸−α−シアノケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、４−スルホン酸−α−シアノケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２−メトキシカルボニル−α−シアノケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３−メトキシカルボニル−α−シアノケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、４−メトキシカルボニル−α−シアノケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２−エトキシカルボニル−α−シアノケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３−エトキシカルボニル−α−シアノケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、４−エトキシカルボニル−α−シアノケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２−ホルミル−α−シアノケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３−ホルミル−α−シアノケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、４−ホルミル−α−シアノケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２−アセチル−α−シアノケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３−アセチル−α−シアノケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、４−アセチル−α−シアノケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２−アミノ−α−シアノケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３−アミノ−α−シアノケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、４−アミノ−α−シアノケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２−メチルスルホニル−α−シアノケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３−メチルスルホニル−α−シアノケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、４−メチルスルホニル−α−シアノケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、α−シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、２−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、３−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、４−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、３，４−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、２−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、３−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、４−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、３，４−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、２−カルボキシ−３−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、３−カルボキシ−２−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、３−カルボキシ−４−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、４−カルボキシ−３−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、２−カルボキシ−４−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、４−カルボキシ−２−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、α−シアノケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、３−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、４−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，３−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、３，４−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、３−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、４−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，３−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、３，４−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２−カルボキシ−３−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、３−カルボキシ−２−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、３−カルボキシ−４−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、４−カルボキシ−３−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、α−シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、２−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、３−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、４−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、２，３−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、３，４−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、２−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、３−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、４−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、２，３−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、３，４−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、２−カルボキシ−３−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、３−カルボキシ−２−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、３−カルボキシ−４−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、４−カルボキシ−３−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、２−カルボキシ−４−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、４−カルボキシ−２−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸イソブチル残基単位、ベンザルマロノニトリル残基単位、２−ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、３−ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、４−ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、２，３−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、３，４−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、２−カルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、３−カルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、４−カルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、２，３−ジカルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、３，４−ジカルボキシベンザルマロノニトリル残
基単位、２−カルボキシ−３−ヒドロキシ−ベンザルマロノニトリル残基単位、３−カルボキシ−２−ヒドロキシ−ベンザルマロノニトリル残基単位、３−カルボキシ−４−ヒドロキシ−ベンザルマロノニトリル残基単位、４−カルボキシ−３−ヒドロキシ−ベンザルマロノニトリル残基単位、２−スルファニル−ベンザルマロノニトリル残基単位、３−スルファニルベンザルマロノニトリル残基単位、４−スルファニルベンザルマロノニトリル残基単位、２−スルホン酸ベンザルマロノニトリル残基単位、３−スルホン酸ベンザルマロノニトリル残基単位、４−スルホン酸ベンザルマロノニトリル残基単位、２−メトキシカルボニルベンザルマロノニトリル残基単位、３−メトキシカルボニルベンザルマロノニトリル残基単位、４−メトキシカルボニルベンザルマロノニトリル残基単位、２−エトキシカルボニルベンザルマロノニトリル残基単位、３−エトキシカルボニルベンザルマロノニトリル残基単位、４−エトキシカルボニルベンザルマロノニトリル残基単位、２−ホルミルベンザルマロノニトリル残基単位、３−ホルミルベンザルマロノニトリル残基単位、４−ホルミルベンザルマロノニトリル残基単位、２−アセチルベンザルマロノニトリル残基単位、３−アセチルベンザルマロノニトリル残基単位、４−アセチルベンザルマロノニトリル残基単位、２−アミノベンザルマロノニトリル残基単位、３−アミノベンザルマロノニトリル残基単位、４−アミノベンザルマロノニトリル残基単位、２−メチルスルホニルベンザルマロノニトリル残基単位、３−メチルスルホニルベンザルマロノニトリル残基単位、４−メチルスルホニルベンザルマロノニトリル残基単位、シンナモニトリル残基単位、２−ヒドロキシシンナモニトリル残基単位、３−ヒドロキシシンナモニトリル残基単位、４−ヒドロキシシンナモニトリル残基単位、２，３−ジヒドロキシシンナモニトリル残基単位、３，４−ジヒドロキシシンナモニトリル残基単位、２−カルボキシシンナモニトリル残基単位、３−カルボキシシンナモニトリル残基単位、４−カルボキシシンナモニトリル残基単位、２，３−ジカルボキシシンナモニトリル残基単位、３，４−ジカルボキシシンナモニトリル残基単位、２−カルボキシシンナモニトリル残基単位、３−カルボキシ−２−ヒドロキシ−シンナモニトリル残基単位、３−カルボキシ−４−ヒドロキシ−シンナモニトリル残基単位、４−カルボキシ−３−ヒドロキシ−シンナモニトリル残基単位、２−カルボキシ−４−ヒドロキシ−シンナモニトリル残基単位、４−カルボキシ−３−ヒドロキシ−シンナモニトリル残基単位、カルコン残基単位、２−ヒドロキシカルコン残基単位、４−ヒドロキシカルコン残基単位、４−ヒドロキシカルコン残基単位、２，３−ジヒドロキシカルコン残基単位、３，４−ジヒドロキシカルコン残基単位、２−カルボキシカルコン残基単位、３−カルボキシカルコン残基単位、４−カルボキシカルコン残基単位、２，３−ジカルボキシカルコン残基単位、３，４−ジカルボキシカルコン残基単位、２−カルボキシカルコン残基単位、３−カルボキシ−２−ヒドロキシ−カルコン残基単位、３−カルボキシ−４−ヒドロキシ−カルコン残基単位、４−カルボキシ−３−ヒドロキシ−カルコン残基単位、２−カルボキシ−４−ヒドロキシ−カルコン残基単位、４−カルボキシ−２−ヒドロキシ−カルコン残基単位からなる群より選択される１種以上が挙げられる。

式（４）で表される残基単位としては、位相差特性および透明性により優れることから、２−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル残基単位、３−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル残基単位、４−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル残基単位、２，３−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル残基単位、２，４−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル残基単位、３，４−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル残基単位、２−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル残基単位、３−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル残基単位、４−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル残基単位、２，３−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル残基単位、２，４−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル残基単位、３，４−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル残基単位、２−カルボキシ−３−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル残基単位、３−カルボキシ−２−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル残基単位、３−カルボキシ−４−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル残基単位、４−カルボキシ−３−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル残基単位、２−ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、３−ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、４−ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、２，３−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、２，４−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、３，４−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位、２−カルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、３−カルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、４−カルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、２，３−ジカルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、２，４−ジカルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、３，４−ジカルボキシベンザルマロノニトリル残基単位、２−カルボキシ−３−ヒドロキシ−ベンザルマロノニトリル残基単位、３−カルボキシ−２−ヒドロキシ−ベンザルマロノニトリル残基単位、３−カルボキシ−４−ヒドロキシ−ベンザルマロノニトリル残基単位、４−カルボキシ−３−ヒドロキシ−ベンザルマロノニトリル残基単位からなる群より選択される１種以上が好ましい。

本発明の樹脂組成物における重合体Ｂは、少なくとも上記一般式（５）で表される残基単位を有することが好ましい。

上記一般式（５）において、Ｒ_１８は水素原子、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基または炭素数３〜１４の環状基のいずれかである。

Ｒ_１９は水素原子、カルボキシ基またはエステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ’１３）のいずれかである。

Ｒ_２０〜Ｒ_２４はそれぞれ独立して水素原子、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、炭素数３〜１４の環状基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ニトロ基、シアノ基、チオール基、スルホン酸基、アルコキシ基（−ＯＸ’１４）、エステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ’１５）、スルホニル基（−ＳＯＯＸ’１６）、アミド基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ’１７）（Ｘ’１８）または−ＮＸ’１９Ｃ（＝Ｏ）Ｘ’２０）、アシル基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ’２１）、アミノ基（−Ｎ（Ｘ’２２）（Ｘ’２３））、またはアシルオキシ基（−ＯＣ（＝Ｏ）Ｘ’２４）のいずれかである。Ｒ_２０〜Ｒ_２４は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよい。

Ｘ’１３〜Ｘ’１６は、それぞれ独立して炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基のいずれかである。Ｘ’１７〜Ｘ’２４はそれぞれ独立して水素原子、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基のいずれかである。）を示す。

Ｒ_１８及びＲ_２０〜Ｒ_２４における炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げられる。

Ｒ_１８及びＲ_２０〜Ｒ_２４における炭素数１〜１２の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられる。

Ｒ_１８及びＲ_２０〜Ｒ_２４における炭素数３〜１４の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。

Ｒ_２０〜Ｒ_２４におけるハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられる。

Ｘ’１３〜Ｘ’２４における炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げられる。

Ｘ’１３〜Ｘ’２４における炭素数１〜１２の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられる。

Ｘ’１３〜Ｘ’２４における炭素数３〜１４の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。

上記式（５）で示される残基単位としては、例えば、スチレン残基単位、α−メチルスチレン残基単位、ｐ−ヒドロキシスチレン残基単位、ｐ−カルボキシスチレン残基単位等のスチレン類残基単位；２−ビニルナフタレン残基等のビニルナフタレン類残基単位；ケイ皮酸残基単位；ケイ皮酸メチル残基単位、ケイ皮酸エチル残基単位、ケイ皮酸イソプロピル残基単位などのケイ皮酸エステル残基単位等およびその置換基付加物等が挙げられる。

本発明の樹脂組成物における重合体Ｂは、少なくとも上記一般式（６）で表される残基単位を有することが好ましい。

上記一般式（６）において、Ｒ_２５はヘテロ原子を１つ以上含むｍ員環複素環残基またはヘテロ原子を含まないｎ員環残基を示し、それぞれ置換基を有してもよい。前記ｍ員環複素環残基および前記ｎ員環残基は縮合環構造を形成してもよい。
ｍ、ｎはそれぞれ５〜１０の整数を示す。

Ｒ_２５におけるヘテロ原子としては、例えば、酸素原子、窒素原子、硫黄原子等が挙げられる。

上記式（６）で示される残基単位としては、例えば、１−ビニルピロール残基単位等のビニルピロール類残基単位；１−ビニルインドール残基単位；９−ビニルカルバゾール残基単位；２−ビニルキノリン残基単位等のビニルキノリン類残基単位；１−ビニルイソキノリン残基単位；２−ビニルピリジン残基単位等のビニルピリジン類残基単位；１−ビニルイミダゾール残基単位等のビニルイミダゾール類残基単位；５−ビニル−２−ピラゾリン残基単位；２−ビニルピラジン残基単位；ビニル−ｓ−トリアジン残基単位；１０−ビニル−９−ヒドロアクリジン残基単位；１−ビニルテトラゾール残基単位等のビニルテトラゾール類残基単位；Ｎ−ビニルピロリドン残基単位；Ｎ−ビニル−ε−カプロラクタム残基単位；Ｎ−ビニルスクシンイミド残基単位；Ｎ−ビニルフタルイミド残基単位；Ｎ−ビニルサッカリン残基単位；２−ビニルフラン残基単位等のビニルフラン類残基単位；２−ビニルベンゾフラン残基単位；２−ビニルチオフェン残基単位等のビニルチオフェン類残基単位；２−ビニルベンゾオキサゾール残基単位；Ｎ−ビニルオキサゾリドン残基単位；２−ビニルチアゾール残基単位；２−ビニルベンゾチアゾール残基単位等およびその置換基付加物等が挙げられる。

上記式（５）で示される残基単位及び上記式（６）で示される残基単位の中でも、位相差特性および透明性により優れることから、スチレン残基単位、α−メチルスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン残基単位、ｐ−カルボキシスチレン残基単位等のスチレン類残基単位；２−ビニルナフタレン残基等のビニルナフタレン類残基単位；１−ビニルインドール残基単位；９−ビニルカルバゾール残基単位；Ｎ−ビニルスクシンイミド残基単位；Ｎ−ビニルフタルイミド残基単位；２−ビニルフラン残基単位等のビニルフラン類残基単位；２−ビニルベンゾフラン残基単位；ケイ皮酸残基単位；ケイ皮酸メチル残基単位、ケイ皮酸エチル残基単位、ケイ皮酸イソプロピル残基単位などのケイ皮酸エステル残基単位等およびその置換基付加物等が好ましく、スチレン残基単位、１−ビニルナフタレン残基単位、２−ビニルナフタレン残基単位、１−ビニルインドール残基単位、９−ビニルカルバゾール残基単位、Ｎ−ビニルスクシンイミド残基単位、Ｎ−ビニルフタルイミド残基単位、２−ビニルフラン残基単位、２−ビニルベンゾフラン残基単位（これらの残基単位は環状基上の水素が任意の置換基で置換されていてもよい。）からなる群より選択される１種以上がさらに好ましい。

具体的な重合体Ｂとしては、光学特性に優れるフィルムが得られるため、４−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−２−ビニルナフタレン共重合体、４−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−１−ビニルインドール共重合体、４−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−９−ビニルカルバゾール共重合体、４−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−Ｎ−ビニルスクシンイミド共重合体、４−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−Ｎ−ビニルフタルイミド共重合体、４−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−２−ビニルフラン共重合体、４−ヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−２−ビニルベンゾフラン共重合体、２，３−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−スチレン共重合体、２，３−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−２−ビニルナフタレン共重合体、２，３−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−１−ビニルインドール共重合体、２，３−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−９−ビニルカルバゾール共重合体、２，３−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−Ｎ−ビニルスクシンイミド共重合体、２，３−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−Ｎ−ビニルフタルイミド共重合体、２，３−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−２−ビニルフラン共重合体、２，３−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−２−ビニルベンゾフラン共重合体、２，４−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−スチレン共重合体、２，４−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−２−ビニルナフタレン共重合体、２，４−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−１−ビニルインドール共重合体、２，４−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−９−ビニルカルバゾール共重合体、２，４−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−Ｎ−ビニルスクシンイミド共重合体、２，４−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−Ｎ−ビニルフタルイミド共重合体、２，４−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−２−ビニルフラン共重合体、２，４−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−２−ビニルベンゾフラン共重合体、３，４−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−スチレン共重合体、３，４−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−２−ビニルナフタレン共重合体、３，４−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−１−ビニルインドール共重合体、３，４−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−９−ビニルカルバゾール共重合体、３，４−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−Ｎ−ビニルスクシンイミド共重合体、３，４−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−Ｎ−ビニルフタルイミド共重合体、３，４−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−２−ビニルフラン共重合体、３，４−ジヒドロキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−２−ビニルベンゾフラン共重合体、４−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−スチレン共重合体、４−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−２−ビニルナフタレン共重合体、４−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−１−ビニルインドール共重合体、４−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−９−ビニルカルバゾール共重合体、４−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−Ｎ−ビニルスクシンイミド共重合体、４−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−Ｎ−ビニルフタルイミド共重合体、４−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−２−ビニルフラン共重合体、４−カルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−２−ビニルベンゾフラン共重合体、２，３−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−スチレン共重合体、２，３−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−２−ビニルナフタレン共重合体、２，３−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−１−ビニルインドール共重合体、２，３−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−９−ビニルカルバゾール共重合体、２，３−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−Ｎ−ビニルスクシンイミド共重合体、２，３−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−Ｎ−ビニルフタルイミド共重合体、２，３−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−２−ビニルフラン共重合体、２，３−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−２−ビニルベンゾフラン共重合体、２，４−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−スチレン共重合体、２，４−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−２−ビニルナフタレン共重合体、２，４−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−１−ビニルインドール共重合体、２，４−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−９−ビニルカルバゾール共重合体、２，４−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−Ｎ−ビニルスクシンイミド共重合体、２，４−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−Ｎ−ビニルフタルイミド共重合体、２，４−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−２−ビニルフラン共重合体、２，４−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−２−ビニルベンゾフラン共重合体、３，４−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−スチレン共重合体、３，４−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−２−ビニルナフタレン共重合体、３，４−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−１−ビニルインドール共重合体、３，４−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−９−ビニルカルバゾール共重合体、３，４−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−Ｎ−ビニルスクシンイミド共重合体、３，４−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−Ｎ−ビニルフタルイミド共重合体、３，４−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−２−ビニルフラン共重合体、３，４−ジカルボキシ−α−シアノケイ皮酸エステル−２−ビニルベンゾフラン共重合体、４−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−スチレン共重合体、４−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−２−ビニルナフタレン共重合体、４−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−１−ビニルインドール共重合体、４−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−９−ビニルカルバゾール共重合体、４−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−Ｎ−ビニルスクシンイミド共重合体、４−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−Ｎ−ビニルフタルイミド共重合体、４−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−２−ビニルフラン共重合体、４−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−２−ビニルベンゾフラン共重合体、２，３−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル−スチレン共重合体、２，３−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル−２−ビニルナフタレン共重合体、２，３−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル−１−ビニルインドール共重合体、２，３−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル−９−ビニルカルバゾール共重合体、２，３−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル−Ｎ−ビニルスクシンイミド共重合体、２，３−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル−Ｎ−ビニルフタルイミド共重合体、２，３−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル−２−ビニルフラン共重合体、２，３−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル−２−ビニルベンゾフラン共重合体、２，４−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル−スチレン共重合体、２，４−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル−２−ビニルナフタレン共重合体、２，４−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル−１−ビニルインドール共重合体、２，４−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル−９−ビニルカルバゾール共重合体、２，４−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル−Ｎ−ビニルスクシンイミド共重合体、２，４−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル−Ｎ−ビニルフタルイミド共重合体、２，４−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル−２−ビニルフラン共重合体、２，４−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル−２−ビニルベンゾフラン共重合体、３，４−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル−スチレン共重合体、３，４−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル−２−ビニルナフタレン共重合体、３，４−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル−１−ビニルインドール共重合体、３，４−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル−９−ビニルカルバゾール共重合体、３，４−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル−Ｎ−ビニルスクシンイミド共重合体、３，４−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル−Ｎ−ビニルフタルイミド共重合体、３，４−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル−２−ビニルフラン共重合体、３，４−ジヒドロキシベンザルマロノニトリル−２−ビニルベンゾフラン共重合体、４−カルボキシベンザルマロノニトリル−スチレン共重合体、４−カルボキシベンザルマロノニトリル−２−ビニルナフタレン共重合体、４−カルボキシベンザルマロノニトリル−１−ビニルインドール共重合体、４−カルボキシベンザルマロノニトリル−９−ビニルカルバゾール共重合体、４−カルボキシベンザルマロノニトリル−Ｎ−ビニルスクシンイミド共重合体、４−カルボキシベンザルマロノニトリル−Ｎ−ビニルフタルイミド共重合体、４−カルボキシベンザルマロノニトリル−２−ビニルフラン共重合体、４−カルボキシベンザルマロノニトリル−２−ビニルベンゾフラン共重合体、２，３−ジカルボキシベンザルマロノニトリル−スチレン共重合体、２，３−ジカルボキシベンザルマロノニトリル−２−ビニルナフタレン共重合体、２，３−ジカルボキシベンザルマロノニトリル−１−ビニルインドール共重合体、２，３−ジカルボキシベンザルマロノニトリル−９−ビニルカルバゾール共重合体、２，３−ジカルボキシベンザルマロノニトリル−Ｎ−ビニルスクシンイミド共重合体、２，３−ジカルボキシベンザルマロノニトリル−Ｎ−ビニルフタルイミド共重合体、２，３−ジカルボキシベンザルマロノニトリル−２−ビニルフラン共重合体、２，３−ジカルボキシベンザルマロノニトリル−２−ビニルベンゾフラン共重合体、２，４−ジカルボキシベンザルマロノニトリル−スチレン共重合体、２，４−ジカルボキシベンザルマロノニトリル−２−ビニルナフタレン共重合体、２，４−ジカルボキシベンザルマロノニトリル−１−ビニルインドール共重合体、２，４−ジカルボキシベンザルマロノニトリル−９−ビニルカルバゾール共重合体、２，４−ジカルボキシベンザルマロノニトリル−Ｎ−ビニルスクシンイミド共重合体、２，４−ジカルボキシベンザルマロノニトリル−Ｎ−ビニルフタルイミド共重合体、２，４−ジカルボキシベンザルマロノニトリル−２−ビニルフラン共重合体、２，４−ジカルボキシベンザルマロノニトリル−２−ビニルベンゾフラン共重合体、３，４−ジカルボキシベンザルマロノニトリル−スチレン共重合体、３，４−ジカルボキシベンザルマロノニトリル−２−ビニルナフタレン共重合体、３，４−ジカルボキシベンザルマロノニトリル−１−ビニルインドール共重合体、３，４−ジカルボキシベンザルマロノニトリル−９−ビニルカルバゾール共重合体、３，４−ジカルボキシベンザルマロノニトリル−Ｎ−ビニルスクシンイミド共重合体、３，４−ジカルボキシベンザルマロノニトリル−Ｎ−ビニルフタルイミド共重合体、３，４−ジカルボキシベンザルマロノニトリル−２−ビニルフラン共重合体、３，４−ジカルボキシベンザルマロノニトリル−２−ビニルベンゾフラン共重合体が好ましい。

本発明の重合体Ｂは、本発明の範囲を超えない限り、前述した残基単位以外の他の単量体残基単位を含有する共重合体であってもよい。他の単量体残基単位としては、アクリル酸残基単位；アクリル酸メチル残基単位、アクリル酸エチル残基単位、アクリル酸ブチル残基単位などのアクリル酸エステル類残基単位；メタクリル酸残基単位；メタクリル酸メチル残基単位、メタクリル酸エチル残基単位、メタクリル酸ブチル残基単位などのメタクリル酸エステル類残基単位；アクリル酸２−ヒドロキシメチル残基単位等のアクリル酸ヒドロキシエステル残基単位；メタクリル酸２−ヒドロキシメチル残基単位等のメタクリル酸ヒドロキシエステル残基単位；酢酸ビニル残基単位、プロピオン酸ビニル残基単位などのビニルエステル類残基単位；アクリロニトリル残基単位；メタクリロニトリル残基単位；メチルビニルエーテル残基単位、エチルビニルエーテル残基単位、ブチルビニルエーテル残基単位などのビニルエーテル残基単位；フマル酸ジエチル残基単位等のフマル酸エステル類残基単位； Ｎ−メチルマレイミド残基単位、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド残基単位、Ｎ−フェニルマレイミド残基単位等のＮ−置換マレイミド類残基単位；エチレン残基単位、プロピレン残基単位などのオレフィン類残基単位より選ばれる１種または２種以上を挙げることができる。

本発明の樹脂組成物は重合体Ｂを含有する。重合体Ｂは、上記一般式（４）および上記一般式（５）または、上記一般式（４）および上記一般式（６）または、上記一般式（５）および上記一般式（６）で表される残基単位を含有することが好ましく、上記一般式（４）、上記一般式（５）および上記一般式（６）残基単位を含有することがさらに好ましい。これにより、本発明の樹脂組成物の耐熱性および重合体Ａとの高親和性が期待される。

本発明の樹脂組成物は、波長分散性を良好に調整させるために、樹脂組成物の全量に対し、重合体Ａの含有量が１０重量％以上９９重量％以下、重合体Ｂの含有量が１重量％以上９０％重量以下であることが好ましい。さらに好ましくは重合体Ａの含有量が３０重量％以上９０重量％以下、重合体Ｂの含有量が１０重量％以上７０重量％以下、またさらに好ましくは重合体Ａの含有量が４０重量％以上８０重量％以下、重合体Ｂの含有量が２０重量％以上６０％重量％以下である。

本発明の樹脂組成物は、重合体Ａおよび重合体Ｂの重量平均分子量がそれぞれ３，０００以上５００，０００以下であることが好ましい。

重合体Ａの重量平均分子量はさらに好ましくは３０，０００以上５００，０００以下、またさらに好ましくは５０，０００以上５００，０００以下である。これにより、本発明の樹脂組成物より得られる光学フィルムがより良好な機械的強度を発現する。

一方、重合体Ｂの重量平均分子量はさらに好ましくは５０，０００以上５００，０００以下、またさらに好ましくは７０，０００以上５００，０００以下である。これにより、本発明の樹脂組成物より得られる光学フィルムの波長分散性をより良好に調整することができる。

重量平均分子量は、例えばゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーにより測定することができる。

本発明の樹脂組成物より得られるフィルムの耐熱性がより優れたものとなるために、そのガラス転移温度は９０℃以上２５５℃以下であることが好ましい。

重合体Ａのガラス転移温度は、好ましくは１２５℃以上２５５℃以下、さらに好ましくは１３０℃以上２５５℃以下である。重合体Ｂのガラス転移温度は好ましくは９０℃以上２５５℃以下、さらに好ましくは１３０℃以上２５５℃以下である。これにより、本発明樹脂組成物を用いて位相差フィルムとした場合、携帯電話やタブレット端末、車載用ディスプレイといった広範な用途へと応用が可能となる。

ガラス転移温度は、例えば示差走査熱量測定により測定することができる。

本発明の樹脂組成物における重合体Ａは、一般に用いられるいかなる重合方法で製造してもよく、例えば、ホスゲン法、エステル交換法等が挙げられる。ホスゲン法による重合は特許−５５４４６８１号と同様な条件、操作で行うことが好ましい。エステル交換法による重合方法は特許第４９３８１５１号と同様な条件、操作で行うことが好ましい。

本発明の樹脂組成物における重合体Ｂの製造方法としては、該樹脂が得られる限りにおいて如何なる方法により製造してもよい。例えば、上記式（４）〜（６）で示される残基単位に係る単量体とこれと共重合可能な単量体を併用し、ラジカル重合を行うことにより製造することができる。ラジカル重合の方法としては、例えば、塊状重合法、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法等のいずれもが採用可能である。

ラジカル重合を行う際の重合開始剤としては、例えば、ベンゾイルパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、アセチルパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシアセテート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、２，５−ジメチル−２，５−ジ（２−エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン等の有機過酸化物；２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２−ブチロニトリル）、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、ジメチル−２’−アゾビスイソブチレート、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）等のアゾ系開始剤等が挙げられる。

そして、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法を採用する場合において使用可能な溶媒として特に制限はなく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族溶媒；メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール系溶媒；シクロヘキサン；ジオキサン；テトラヒドロフラン；アセトン；メチルエチルケトン；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド；ジメチルスルホキシド；酢酸イソプロピル；水等が挙げられ、これらの混合溶媒も挙げられる。

また、ラジカル重合を行う際の重合温度は、重合開始剤の分解温度に応じて適宜設定することができ、反応の制御が容易であることから、一般的には３０〜１５０℃の範囲で行うことが好ましい。

また、重合体Ｂは、前駆体を介して得られたものでもよい。

本発明の樹脂組成物は、重合体Ａと重合体Ｂとをブレンドすることによって得られるものである。

光学補償フィルムとして用いるとき、該光学補償フィルムが目的の位相差特性を発現することを特徴とするものである。すなわち、共重合体Ａが正の複屈折を示し、かつ共重合体Ｂが負の複屈折を有し、優れた相溶性を示すことから、これらをブレンドして得られる本発明に係る樹脂組成物を用いる時、実用的な透明性を有し、かつ位相差特性に優れる光学補償フィルムを得ることができるのである。

本発明の樹脂組成物における重合体Ａと重合体Ｂの組成のブレンド割合は、位相差フィルムとする際の位相差の制御に好適なため、重合体Ａが１０重量以上９９重量％以下および重合体Ｂが１重量％以上９０重量％以下であることが好ましい。

ブレンドの方法としては、溶融ブレンド、溶液ブレンド等の方法を用いることができる。溶融ブレンド法とは加熱により樹脂を溶融させて混練することにより製造する方法である。溶液ブレンド法とは樹脂を溶剤に溶解しブレンドする方法である。溶液ブレンドに用いる溶剤としては、例えば、塩化メチレン、クロロホルムなどの塩素系溶剤；トルエン、キシレンなどの芳香族溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等のケトン溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル溶剤；メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール溶剤；ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル溶剤；ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等を用いることができる。各樹脂および添加剤を溶剤に溶解したのちブレンドすることも可能であり、各樹脂の粉体、ペレット等を混練後、溶剤に溶解させることも可能である。

本発明の樹脂組成物は光学フィルム（以下、「本発明の光学フィルム」という。）として好適に使用することができ、光学補償フィルムや位相差フィルムとして特に好適に使用することができる。

本発明の光学フィルムは、フィルムの取扱い性及び光学部材の薄膜化への適合性の観点から、厚みが５μｍ以上２００μｍ以下であることが好ましく、５μｍ以上１５０μｍ以下であることがさらに好ましく、５μｍ以上１２０μｍ以下であることが特に好ましい。

本発明の光学フィルムの位相差は測定波長λの１／４程度が好ましい。逆波長分散フィルムとして用いられた場合、４５０ｎｍにおけるレターデーション（Ｒ_４５０）と５５０ｎｍにおけるレターデーション（Ｒ_５５０）の比Ｒ_４５０／Ｒ_５５０は０．８１に近いと高画質化が期待される。また、逆波長分散フィルムと組み合わせてフラットな波長分散フィルムが用いられた場合、Ｒ_４５０／Ｒ_５５０は１．００に近いと高画質化が期待される。共重合体Ａ、共重合体Ｂをブレンドし本発明の組成物とすることにより、共重合体Ａの高い波長分散性を共重合体Ｂにより低減化させ、好適な波長分散性へと調整することが可能となる。本発明の樹脂組成物より得られる光学フィルムのＲ_４５０／Ｒ_５５０は、位相差フィルムとした場合、高画質化のため０．７５以上１．０２以下が好ましい。

本発明の樹脂組成物は、光学フィルムとする際の熱安定性を向上させるために酸化防止剤を含有していても良い。酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、ラクトン系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、ヒドロキシルアミン系酸化防止剤、ビタミンＥ系酸化防止剤、その他酸化防止剤等が挙げられ、これら酸化防止剤はそれぞれ単独でもよく、２種以上を組み合わせてもよい。

本発明の樹脂組成物は、光学フィルムとする際の耐候性を高めるためヒンダードアミン系光安定剤や紫外線吸収剤を含有していてもよい。紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン、トリアジン、ベンゾエート等が挙げられる。

本発明の樹脂組成物は、いわゆる可塑剤として知られる化合物を、光学フィルムとする際の機械的性質向上、柔軟性を付与、耐吸水性付与、水蒸気透過率低減、レターデーション調整等の目的で添加してもよく、可塑剤としては、例えば、リン酸エステルやカルボン酸エステル等が挙げられる。また、アクリル系ポリマーなども用いられる。

リン酸エステルとしては、例えば、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、フェニルジフェニルホスフェート等を挙げることが出来る。

カルボン酸エステルとしては、例えば、フタル酸エステル、クエン酸エステル、脂肪酸エステル、グリセロールエステル、アルキルフタリルアルキルグリコレート等を挙げることができる。フタル酸エステルとしては、例えば、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジオクチルフタレート及びジエチルヘキシルフタレート等が挙げられ、またクエン酸エステルとしては、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル等を挙げることが出来る。また、脂肪酸エステルとしては、例えば、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバチン酸ジブチル等が挙げられ、グリセロールエステルとしては、例えば、トリアセチン、トリメチロールプロパントリベンゾエート等が挙げられ、アルキルフタリルアルキルグリコレートとしては、例えば、メチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルプロピルグリコレート、プロピルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルメチルグリコレート、ブチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルオクチルグリコレート、エチルフタリルオクチルグリコレート、オクチルフタリルメチルグリコレート、オクチルフタリルエチルグリコレート等を挙げることが出来る。これら可塑剤は単独でもよく、２種以上混合して使用してもよい。

本発明の樹脂組成物は、発明の主旨を超えない範囲で、その他ポリマー、界面活性剤、高分子電解質、導電性錯体、顔料、染料、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、滑剤等を含有していてもよい。

酸化防止剤、安定剤、可塑剤等は、前述の重合体Ａと重合体Ｂをブレンドする際に添加してもよく、組成物をフィルムに製膜する際に添加してもよい。

本発明の光学フィルムは、必要に応じて他樹脂を含むフィルムと積層することができる。他樹脂としては、例えば、ポリエーテルサルフォン、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリナフタレンテレフタレート、ポリカーボネート、環状ポリオレフィン、マレイミド系樹脂、フッ素系樹脂、ポリイミド等が挙げられる。また、ハードコート層やガスバリア層を積層することも可能である。

本発明の光学フィルムを位相差フィルムとして用いる場合、位相差フィルムは、本発明の光学フィルムを一軸以上の方向に延伸して得られたフィルムであることが好ましい。

本発明の樹脂組成物より得られる光学フィルムの製造方法としては、特に制限はなく、例えば、溶融製膜法、溶液キャスト法等の方法が挙げられる。

溶融製膜する方法は、具体的にはＴダイを用いた溶融押出法、カレンダ−成形法、熱プレス法、共押出法、共溶融法、多層押出、インフレ−ション成形法等があり、特に限定されないが、中でも後の延伸処理のし易さから、Ｔダイを用いた溶融押出法が好ましい。

溶融製膜法で光学フィルムを成形する場合、よりフィルム厚みを均一にするのに好適で、かつ、よりフィルムの欠陥や着色を防ぐのに好適な成形方法となるため、成形温度は好ましくは２００〜２６５℃、さらに好ましくは２１０〜２６０℃、特に好ましくは２２０〜２５８℃である。ここで、該成形温度とは、溶融製膜法における成形時の温度であって、通常、溶融樹脂を押出すダイス出口の温度を測定した値である。

溶液キャスト法は、本発明の樹脂組成物を溶媒に溶解した溶液（以下、「ド−プ」という。）を支持基盤上に流延した後、加熱等により溶媒を除去してフィルムを得る方法である。その際、ド−プを支持基盤上に流延する方法としては、Ｔダイ法、ドクタ−ブレ−ド法、バ−コ−タ−法、ロ−ルコ−タ−法、リップコ−タ−法等が用いられる。特に工業的にはダイからド−プをベルト状またはドラム状の支持基板に連続的に押し出す方法が最も一般的である。用いられる支持基板としては、例えば、ガラス基板、ステンレスやフェロタイプ等の金属基板、ポリエチレンテレフタレ−ト等のフィルム等がある。溶液キャスト法において、高い透明性を有し、かつ厚み精度、表面平滑性に優れたフィルムを製膜する際には、ド−プの溶液粘度は極めて重要な因子であり、１０〜２００００ｃＰｓが好ましく、１００〜１００００ｃＰｓであることがさらに好ましい。

本発明の光学フィルムは、前記製膜法により得られた膜をさらに延伸製膜することが好ましく、一軸延伸またはアンバランス二軸延伸することが特に好ましい。

延伸の温度は特に制限はないが、良好な位相差特性が得られることから、好ましくは５０〜２００℃、さらに好ましくは１００〜１８０℃である。一軸延伸の延伸倍率は良好な位相差特性が得られることから、１．０５〜３．５倍が好ましく、１．１〜３．０倍がさらに好ましい。アンバランス二軸延伸の延伸倍率は良好な位相差特性が得られることから、長さ方向には１．０５〜３．５倍が好ましく、１．１〜３．０倍がさらに好ましく、幅方向には１．０〜１．２倍が好ましく、１．０〜１．１倍がさらに好ましい。延伸温度、延伸倍率により面内位相差（Ｒｅ）を制御することができる。

以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、実施例により示す諸物性は、以下の方法により測定した。

＜重合体の解析＞
核磁気共鳴測定装置（日本電子製、商品名ＪＮＭ−ＥＣＺ４００Ｓ／Ｌ１）を用い、プロトン核磁気共鳴分光（１Ｈ−ＮＭＲ）スペクトル分析より求めた。また、１Ｈ−ＮＭＲスペクトル分析により求めることが困難であるものについては、元素分析装置（Ｐｅｒｋｉｎ Ｅｌｍｅｒ製、商品名２４００ＩＩ）を用い、ＣＨＮ元素分析により求めた。
＜平均分子量の測定＞
ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）装置（東ソー製、商品名ＨＬＣ８３２０ＧＰＣ（カラムＧＭＨＨＲ―Ｈを装着））を用い、テトラヒドロフランまたはＮ，Ｎ―ジメチルホルムアミドを溶媒として、４０℃で測定し、標準ポリスチレン換算値として求めた。
＜位相差特性の測定＞
試料傾斜型自動複屈折計（ＡＸＯＭＥＴＲＩＣＳ製、商品名：ＡｘｏＳｃａｎ）を用いて波長５８９ｎｍの光を用いて光学補償フィルムの面内位相差Ｒｅ、面外位相差Ｒｔｈ、Ｎｚ係数を測定した。
＜波長分散特性の測定＞
試料傾斜型自動複屈折計（ＡＸＯＭＥＴＲＩＣＳ製、商品名：ＡｘｏＳｃａｎ）を用い、波長４５０ｎｍの光による位相差Ｒｅ（４５０）と波長５５０ｎｍの光による位相差Ｒｅ（５５０）の比として光学補償フィルムの波長分散特性を測定した。

［合成例１］
以下の試薬を反応容器に投入した。
ベンズアルデヒド ２４０．０ｇ（２．２６モル）
シアノ酢酸イソブチル ３１９．ｇ（２．２６モル）
臭化リチウム ８６．８ｇ（０．４５モル）
ここで、ベンズアルデヒドは東京化成工業社製、シアノ酢酸イソブチルは東京化成工業社製、臭化リチウムは和光純薬社製を用いた。
上記試薬を８０℃、１８時間反応（Ｋｎｏｅｖｅｎａｇｅｌ縮合）させた。得られた反応生成物に対してヘキサン洗浄および純水洗浄を行い、真空乾燥することでイソブチルα−シアノシンナメート（以下、「ｉＢＣＣ」ともいう）を得た。

［合成例２］
以下試薬を反応容器に投入した。
４−カルボキシベンズアルデヒド １０２．０ｇ（０．６８モル）
シアノ酢酸イソブチル ９５．９ｇ（０．６８モル）
ピペリジン ５．７９ｇ（０．０６８モル）
ここで、４−カルボキシベンズアルデヒドは東京化成工業社製、ピペリジンは東京化成工業社製を用いた。
上記試薬を６０℃、５時間反応（Ｋｎｏｅｖｅｎａｇｅｌ縮合）させた。得られた反応生成物に対してメタノール洗浄を行い、真空乾燥することでイソブチルα−シアノ−４−カルボキシシンナメート（以下、「ｉＢＣＣＣ」ともいう）を得た。

［実施例１］
以下の試薬を反応容器に投入した。
ＢＣＦ １４．８ｇ（０．０３９モル）
ＢＰＡ １０．７ｇ（０．０４７モル）
６Ｄ ６．９ｇ（０．０５９モル）
ＤＰＣ ３１．６ｇ（０．１５モル）
炭酸水素ナトリウム ０．０７３×１０^−３ｇ（０．８７×１０^−６モル）
ここで、ＢＣＦはビスクレゾールフルオレン（大阪ガスケミカル社製）を表す。ＢＰＡは２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（東京化成工業社製）を表す。６Ｄは１，６−ヘキサンジオール（東京化成工業社製）を表す。ＤＰＣはジフェニルカーボネート（東京化成工業社製）を表す。炭酸水素ナトリウム（和光純薬社製）は水溶液にして触媒として投入した。上記の試薬を、フェノ−ル回収用の冷却管と、攪拌機を具備した反応容器に投入した。容器内を窒素雰囲気下にして、反応の第１段目の工程として、加熱槽温度を２００℃に加熱し、必要に応じて攪拌しながら、原料を溶解させた（約１５分）。次いで、第２段目の工程として加熱槽温度を２２０℃に加熱し、発生するフェノ−ルを反応容器外へ抜き出した。さらに、第３段目の工程として圧力を常圧から１３．３ｋＰａにし、発生するフェノ−ルを反応容器外へ抜き出した。反応容器全体を１５分保持した後、第４段目の工程として、反応容器内の圧力を６．６７ｋＰａとし、加熱槽温度を２３０℃まで１５分で上昇させ、発生するフェノ−ルを反応容器外へ抜き出した。攪拌機の攪拌トルクが上昇してくるので、最終工程として、８分で２５０℃まで昇温し、反応容器内の圧力を０．２００ｋＰａ以下に到達させた。重合反応終了後、生成した反応物を塩化メチレンに溶解させ、メタノ−ルの中へ投入し再沈殿した。得られた沈殿物をろ過し、メタノ−ルで洗浄した後、真空乾燥しポリカーボネート樹脂（重合体Ａ）を得た（Ｍｗ＝３．１×１０^４）。

［実施例２］
投入した試薬を以下の組成比とした以外は、実施例１と同様に重合反応を行い、ポリカーボネート樹脂（重合体Ａ）を得た（Ｍｗ＝６．０×１０^４）。
ＢＣＦ １９．４ｇ（０．０５１モル）
ＢＰＰ １１．７ｇ（０．０３４モル）
８Ｄ ９．１ｇ（０．０６４モル）
ＤＰＣ ３１．６ｇ（０．１５モル）
炭酸水素ナトリウム ０．０７３×１０^−３ｇ（０．８７×１０^−６モル）
ここで、ＢＰＰはビスフェノールＰ（東京化成工業社製）を表す。８Ｄは１，８−オクタンジオール（東京化成工業社製）を表す。

［実施例３］
投入した試薬を以下の組成比とした以外は、実施例１と同様に重合反応を行い、ポリカーボネート樹脂（重合体Ａ）を得た（Ｍｗ＝５．２×１０^４）。
ＢＣＦ ９．８５ｇ（０．０２６モル）
ＢＸＰ ６．９９ｇ（０．０１７モル）
ＣＨＤＭ １１．６ｇ（０．０８１モル）
ＤＰＣ ３１．６ｇ（０．１５モル）
炭酸水素ナトリウム ０．０７３×１０^−３ｇ（０．８７×１０^−６モル）
ここで、ＢＸＰはα，α‘−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−１，４−ジイソプロピルベンゼン（東京化成工業社製）を表す。ＣＨＤＭはシクロヘキサンジメタノール（東京化成工業社製）を表す。

［実施例４］
容量５０ｍＬのガラスアンプルに以下の試薬を投入した。
ｉＢＣＣ ４．３４ｇ（０．０１９モル）
９ＶＫ ３．６６ｇ（０．０１９モル）
２，５−ジメチル−２，５−ジ（２−エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン
０．２７ｇ（０．０００３モル）
テトラヒドロフラン ７．１０ｇ
ここで、ｉＢＣＣはイソブチルα−シアノシンナメートを表し、合成例１で得られたものを用いた。９ＶＫは９−ビニルカルバゾール（東京化成工業社製社製）を表す。２，５−ジメチル−２，５−ジ（２−エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン（日本日油社製）は重合開始剤である。テトラヒドロフランは東京化成工業社製を用いた。

該アンプルに対して、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６２℃の恒温槽に入れ、４８時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフランに溶解させた。このポリマー溶液をメタノール中に滴下して析出させた後、６０℃で１０時間真空乾燥することにより、ｉＢＣＣ／ ９ＶＫ共重合体（重合体Ｂ）７．４１ｇを得た（収率：９３％、Ｍｗ＝６．５×１０^４）。

［実施例５］
容量５０ｍＬのガラスアンプルに以下の試薬を投入した。
ｉＢＣＣＣ ４．００ｇ（０．０１５モル）
９ＶＫ ３．５３ｇ（０．０１８モル）
ｉＢＡ ０．４７ｇ（０．００４モル）
ドデシルメルカプタン ０．１５７ｇ（０．００７モル）
２，５−ジメチル−２，５−ジ（２−エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン
０．２６ｇ（０．０００３モル）
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド ７．１０ｇ
ここで、ｉＢＣＣＣはイソブチルα−シアノ−４−カルボキシシンナメートを表し、合成例２で得られたものを用いた。ｉＢＡはアクリル酸イソブチル（東京化成工業社製）を表す。ドデシルメルカプタン（東京化成社製）は連鎖移動剤である。Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドは東京化成社製を用いた。
該アンプルに対して窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６２℃の恒温槽に入れ、２４時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフランに溶解させた。このポリマー溶液をメタノール中に滴下して析出させた後、６０℃で１０時間真空乾燥することにより、ｉＢＣＣＣ／９ＶＫ／ｉＢＡ共重合体（重合体Ｂ）６．９５ｇを得た（収率：８７％、Ｍｗ＝７．１×１０^４）。

［実施例６］
投入した試薬を以下の組成比とした以外は、実施例５と同様の重合反応を行い、ｉＢＣＣＣ／９ＶＫ／ｉＢＡ共重合体（重合体Ｂ）７．２４ｇを得た（収率９１％、Ｍｗ＝７．０×１０^４）。
ｉＢＣＣＣ ３．２１ｇ（０．０１２モル）
９ＶＫ ３．７９ｇ（０．０２０モル）
ｉＢＡ １．００ｇ（０．００８モル）
ドデシルメルカプタン ０．１０５ｇ（０．００５モル）
２，５−ジメチル−２，５−ジ（２−エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン
０．２８ｇ（０．０００３モル）
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド ７．１０ｇ
［実施例７］
投入した試薬を以下の組成比とした以外は、実施例５と同様の重合反応を行い、ｉＢＣＣＣ／９ＶＫ／ｉＢＡ共重合体（重合体Ｂ）７．２４ｇを得た（収率９１％、Ｍｗ＝５．８×１０^４）。
ｉＢＣＣＣ ２．３１ｇ（０．００８モル）
９ＶＫ ４．０７ｇ（０．０２１モル）
ｉＢＡ １．６２ｇ（０．０１３モル）
ドデシルメルカプタン ０．０６６ｇ（０．０００３モル）
２，５−ジメチル−２，５−ジ（２−エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン
０．３０ｇ（０．０００４モル）
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド ７．１０ｇ
［実施例８］
投入した試薬を以下の組成比とした以外は、実施例５と同様の重合反応を行い、ｉＢＣＣＣ／９ＶＫ／ＥＨＡ共重合体（重合体Ｂ）７．３０ｇを得た（収率９１％、Ｍｗ＝６．２×１０^４）。
ｉＢＣＣＣ ２．１１ｇ（０．００８モル）
９ＶＫ ３．７４ｇ（０．０１９モル）
ＥＨＡ ２．１４ｇ（０．０１２モル）
ドデシルメルカプタン ０．０３２ｇ（０．０００２モル）
２，５−ジメチル−２，５−ジ（２−エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン
０．２８ｇ（０．０００３モル）
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド ７．１０ｇ
ここで、ＥＨＡはアクリル酸エチルヘキシル（東京化成工業社製）を表す。

［実施例９］
投入した試薬を以下の組成比とした以外は、実施例５と同様の重合反応を行い、ｉＢＣＣＣ／９ＶＫ／ＤｎＢＩ共重合体（重合体Ｂ）３．６７ｇを得た（収率９２％、Ｍｗ＝６．９×１０^４）。
ｉＢＣＣＣ １．４４ｇ（０．００５モル）
９ＶＫ １．７０ｇ（０．００９モル）
ＤｎＢＩ ０．８５ｇ（０．００４モル）
ドデシルメルカプタン ０．０２９ｇ（０．０００１モル）
２，５−ジメチル−２，５−ジ（２−エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン
０．１２ｇ（０．０００１モル）
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド ７．１０ｇ
ここで、ＤｎＢＩはイタコン酸ジｎ−ブチル（東京化成工業社製）を表す。

［合成例３］
以下の試薬を反応容器に投入した。
ＢＰＡ ５．７５ｇ（０．０１５モル）
ＤＰＣ ３１．６ｇ（０．１５モル）
炭酸水素ナトリウム ０．０７３×１０^−３ｇ（０．８７×１０^−６モル）
炭酸水素ナトリウムを水溶液にして触媒として投入した。上記試薬を、フェノ−ル回収用の冷却管と、攪拌翼を具備した反応容器に投入した。窒素雰囲気下にて、反応の第１段目の工程として、加熱槽温度を２００℃に加熱し、必要に応じて攪拌しながら、原料を溶解させた（ 約１５分）。次いで、第２段目の工程として加熱槽温度を２２０℃に加熱し、発生するフェノ−ルを反応容器外へ抜き出した。さらに、第３段目の工程として圧力を常圧から１３．３ｋＰａにし、発生するフェノ−ルを反応容器外へ抜き出した。反応容器全体を１５分保持した後、第４段目の工程として、反応容器内の圧力を６．６７ｋＰａとし、加熱槽温度を２３０℃まで１５分で上昇させ、発生するフェノ−ルを反応容器外へ抜き出した。攪拌機の攪拌トルクが上昇してくるので、最終工程として、８分で２５０℃ まで昇温し、反応容器内の圧力を０．２００ｋＰａ以下に到達させた。重合反応終了後、生成した反応物を塩化メチレンに溶解させ、メタノ−ルの中へ投入し再沈殿した。沈殿したポリマ−をろ過し、メタノ−ルで洗浄した後、真空乾燥しポリカーボネート樹脂を得た（Ｍｗ＝５．０×１０^４）。

［実施例１０］
実施例１により得られた重合体Ａ ９．０ｇおよび実施例４により得られた重合体Ｂ １．０ｇをメチルエチルケトン１８．６ｇに溶解させて３５重量％の透明樹脂溶液を得た。その透明樹脂溶液をコーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃、１５分の後１５５℃、５分にて２段乾燥し、フィルムを得た（重合体Ａ：９０重量％、重合体Ｂ：１０重量％）。得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１２３℃で２．０倍に一軸延伸した。得られた光学補償フィルムの位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に示す。
得られた光学補償フィルムは、重合体Ａのみの比較例１と比べ波長分散性が低下していた。このことから、実施例４により得られた重合体Ｂを添加することにより波長分散性を調整できていることがわかる。

［実施例１１］
実施例１により得られた重合体Ａ ９．０ｇおよび実施例５により得られた重合体Ｂ １．０ｇをメチルエチルケトン１８．６ｇに溶解させて３５重量％の透明樹脂溶液を得た。その透明樹脂溶液をコーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５５℃にて２段乾燥し、フィルムを得た（重合体Ａ：９０重量％、重合体Ｂ：１０重量％）。得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１２３℃で２．０倍に一軸延伸した。得られた光学補償フィルムの位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。
得られた光学補償フィルムは、重合体Ａのみの比較例１と比べ波長分散性が低下していた。このことから、実施例５により得られた重合体Ｂを添加することにより波長分散性を調整できていることがわかる。

［実施例１２］
実施例２により得られた重合体Ａ ９．０ｇおよび実施例５により得られた重合体Ｂ １．０ｇをメチルエチルケトン１８．６ｇに溶解させて３５重量％の透明樹脂溶液を得た。その透明樹脂溶液をコーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５５℃にて２段乾燥し、フィルムを得た（重合体Ａ：９０重量％、重合体Ｂ：１０重量％）。得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１３８℃で２．０倍に一軸延伸した。得られた光学補償フィルムの位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。
得られた光学補償フィルムは、重合体Ａのみの比較例２と比べ波長分散性が低下していた。このことから、実施例５により得られた重合体Ｂを添加することにより波長分散性を調整できていることがわかる。

［実施例１３］
実施例２により得られた重合体Ａ ９．０ｇおよび実施例６により得られた重合体Ｂ １．０ｇをメチルエチルケトン１８．６ｇに溶解させて３５重量％の透明樹脂溶液を得た。その透明樹脂溶液をコーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５５℃にて２段乾燥し、フィルムを得た（重合体Ａ：９０重量％、重合体Ｂ：１０重量％）。得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１３８℃で２．０倍に一軸延伸した。得られた光学補償フィルムの位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。
得られた光学補償フィルムは、重合体Ａのみの比較例２と比べ波長分散性が低下していた。このことから、実施例６により得られた共重合体Ｂを添加することにより波長分散性を調整できていることがわかる。

［実施例１４］
実施例２により得られた重合体Ａ ９．０ｇおよび実施例７により得られた重合体Ｂ １．０ｇをメチルエチルケトン１８．６ｇに溶解させて３５重量％の透明樹脂溶液を得た。その透明樹脂溶液をコーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５５℃にて２段乾燥し、フィルムを得た（重合体Ａ：９０重量％、重合体Ｂ：１０重量％）。得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１２７℃で２．０倍に一軸延伸した。得られた光学補償フィルムの位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。
得られた光学補償フィルムは、重合体Ａのみの比較例２と比べ波長分散性が低下していた。このことから、実施例７により得られた重合体Ｂを添加することにより波長分散性を調整できていることがわかる。

［実施例１５］
実施例２により得られた重合体Ａ ９．０ｇおよび実施例８により得られた重合体Ｂ １．０ｇをメチルエチルケトン１８．６ｇに溶解させて３５重量％の透明樹脂溶液を得た。その透明樹脂溶液をコーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５５℃にて２段乾燥し、フィルムを得た（重合体Ａ：９０重量％、重合体Ｂ：１０重量％）。得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１１７℃で２．０倍に一軸延伸した。得られた光学補償フィルムの位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。
得られた光学補償フィルムは、重合体Ａのみの比較例２と比べ波長分散性が低下していた。このことから、実施例８により得られた重合体Ｂを添加することにより波長分散性を調整できていることがわかる。

［実施例１６］
実施例２により得られた重合体Ａ ９．０ｇおよび実施例９により得られた重合体Ｂ １．０ｇをメチルエチルケトン１８．６ｇに溶解させて３５重量％の透明樹脂溶液を得た。その透明樹脂溶液をコーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５５℃にて２段乾燥し、フィルムを得た（重合体Ａ：９０重量％、重合体Ｂ：１０重量％）。得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１２７℃で２．０倍に一軸延伸した。得られた光学補償フィルムの位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。
得られた光学補償フィルムは、重合体Ａのみの比較例２と比べ波長分散性が低下していた。このことから、実施例９により得られた重合体Ｂを添加することにより波長分散性を調整できていることがわかる。

［実施例１７］
実施例３により得られた重合体Ａ ９．０ｇおよび実施例７により得られた重合体Ｂ １．０ｇをメチルエチルケトン１８．６ｇに溶解させて３５重量％の透明樹脂溶液を得た。その透明樹脂溶液をコーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５５℃にて２段乾燥し、フィルムを得た（重合体Ａ：９０重量％、重合体Ｂ：１０重量％）。得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１１９℃で２．０倍に一軸延伸した。得られた光学補償フィルムの位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。
得られた光学補償フィルムは、重合体Ａのみの比較例３と比べ波長分散性が低下していた。このことから、実施例７により得られた共重合体Ｂを添加することにより波長分散性を調整できていることがわかる。

［比較例１］
実施例１により得られた重合体Ａ １０．０ｇをメチルエチルケトン１８．６ｇに溶解させて３５重量％の透明樹脂溶液を得た。その透明樹脂溶液をコーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５５℃にて２段乾燥し、フィルムを得た。得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１１９℃で２．５倍に一軸延伸した。得られた光学補償フィルムの位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。
得られた光学補償フィルムの波長分散性は、Ｒ_４５０／Ｒ_５５０＝１．０３を示した。

［比較例２］
実施例２により得られた重合体Ａ １０．０ｇをメチルエチルケトン１８．６ｇに溶解させて３５重量％の透明樹脂溶液を得た。その透明樹脂溶液をコーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５５℃にて２段乾燥し、フィルムを得た。得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１１９℃で２．５倍に一軸延伸した。得られた光学補償フィルムの位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。
得られた光学補償フィルムの波長分散性は、Ｒ_４５０／Ｒ_５５０＝１．０３を示した。

［比較例３］
実施例３により得られた重合体Ａ １０．０ｇをメチルエチルケトン１８．６ｇに溶解させて３５重量％の透明樹脂溶液を得た。その透明樹脂溶液をコーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後１５５℃にて２段乾燥し、フィルムを得た。得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１１９℃で２．０倍に一軸延伸した。得られた光学補償フィルムの位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。
得られた光学補償フィルムの波長分散性は、Ｒ_４５０／Ｒ_５５０＝１．０３を示した。

［比較例４］
実施例１により得られた重合体Ａ ９．０ｇとポリメタクリル酸メチル（東京化成工業社製、「ＰＭＭＡ」と略記する。Ｍｗ＝１２×１０^４）をクロロホルム１８．６ｇに溶解させて３５重量％の白濁した樹脂溶液を得た。その樹脂溶液をコーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後８０℃にて２段乾燥し、フィルムを得た。得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１２３℃で２．０倍に一軸延伸したが、高ヘーズのため位相差特性、波長分散特性の測定が困難であった。

［比較例５］
合成例３により得られたポリマー ９．０ｇと実施例７により得られた重合体Ｂ １．０ｇをクロロホルム１８．６ｇに溶解させて３５重量％の白濁した樹脂溶液を得た。その樹脂溶液をコーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度４０℃の後８０℃にて２段乾燥し、フィルムを得た。得られたフィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で２．０倍に一軸延伸したが、高ヘーズのため位相差特性、波長分散特性の測定が困難であった。

Claims (6)

1. 下記一般式（１）、下記一般式（２）、下記一般式（３）からなる群の少なくとも１種の残基単位を含有する重合体Ａと、下記一般式（４）、下記一般式（５）、下記一般式（６）からなる群の少なくとも１種の残基単位を含有する重合体Ｂを含む樹脂組成物。
   （式中、Ｒ_１およびＲ_２はそれぞれ独立してハロゲン原子、炭素数１〜１０の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１０の分岐状アルキル基、炭素数６〜１２の環状アルキル基、アルコキシ基（−ＯＸ１）、炭素数６〜１０のアリ−ル基、炭素数７〜２０のアラルキル基、炭素数６〜１０のアリ−ルオキシ基または炭素数７〜２０のアラルキルオキシ基のいずれかである。Ｘ１は炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜６の環状アルキル基のいずれかである。
   ｑおよびｒはそれぞれ独立して０〜４の整数である。
   Ｗは、単結合、または、
   のいずれかである。Ｒ_３〜Ｒ_８はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、フェニル基、炭素数１〜１０の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１０の分岐状アルキル基、炭素数３〜６の環状アルキル基、アルコキシ基（−ＯＸ２）、アルキルカルボン酸（−Ｘ３ＣＯＯＨ）、または炭素数１〜１０のハロゲン化炭素のいずれかである。Ｘ２は炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜６の環状アルキル基のいずれかである。Ｘ３は炭素数１〜１０の直鎖状アルキレン基、炭素数１〜１０の分岐状アルキレン基のいずれかである。
   ｓは１〜６の整数である。）
   （式中、Ｙは炭素数１〜２０のアルキレン基、炭素数３〜２０のシクロアルキレン基、炭素数１〜２０のエーテル基、炭素数６〜２０の環状エーテル基、炭素数１〜２０のチオエーテル基、炭素数６〜２０の環状チオエーテル基、炭素数１〜２０のイミノ基、炭素数６〜２０の環状イミノ基、炭素数１〜２０のハロゲン化アルキレン基のいずれかである。）
   （式中、Ｒ_９〜Ｒ_１０はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基のいずれかである。Ｚは炭素数１〜１４のアルキレン基である。
   ｎは０〜４の整数である。
   Ａは単結合、炭素数１〜６のアルキル基、酸素原子、または無置換のいずれかである。）
   （式中、Ｒ_１１、Ｒ_１２はそれぞれ独立して水素原子（ただし、Ｒ_１１、Ｒ_１２が共に水素原子である場合を除く。）、シアノ基、エステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ’１）、アミド基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ’２）（Ｘ’３））、またはアシル基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ’４）のいずれかである。Ｘ’１〜Ｘ’３はそれぞれ独立して炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜６の環状アルキル基のいずれかである。Ｘ‘４は炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基のいずれかである。
   式中、Ｒ_１３〜Ｒ_１７はそれぞれ独立して水素原子、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、炭素数３〜１４の環状基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ニトロ基、シアノ基、アルコキシ基（−ＯＸ’５）、エステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ’６）、アミド基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ’７）（Ｘ’８））、アシル基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ’９）、アミノ基（−Ｎ（Ｘ’１０）（Ｘ’１１））、またはスルホン酸基（−ＳＯＯＸ’１２）のいずれかである。Ｒ_１３〜Ｒ_１７は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよい。Ｘ’５〜Ｘ’８は、それぞれ独立して炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜６の環状アルキル基のいずれかである。Ｘ’９〜Ｘ’１２はそれぞれ独立して水素原子、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜６の環状アルキル基のいずれかである。））
   （式中、Ｒ_１８は水素原子、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基または炭素数３〜１４の環状基のいずれかである。
   Ｒ_１９は水素原子、カルボキシ基またはエステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ’１３）のいずれかである。
   Ｒ_２０〜Ｒ_２４はそれぞれ独立して水素原子、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、炭素数３〜１４の環状アルキル基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ニトロ基、シアノ基、チオール基、スルホン酸基、アルコキシ基（−ＯＸ’１４）、エステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ’１５）、スルホニル基（−ＳＯＯＸ’１６）、アミド基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ’１７）（Ｘ’１８）または−ＮＸ１９Ｃ（＝Ｏ）Ｘ’２０）、アシル基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ’２１）、アミノ基（−Ｎ（Ｘ’２２）（Ｘ’２３））、またはアシルオキシ基（−ＯＣ（＝Ｏ）Ｘ’２４）のいずれかである。Ｒ_２０〜Ｒ_２４は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよい。Ｘ’１３〜Ｘ’１６はそれぞれ独立して炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基のいずれかである。Ｘ’１７〜Ｘ’２４はそれぞれ独立して水素原子、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基のいずれかである
   （式中、Ｒ_２５はヘテロ原子を１つ以上含むｍ員環複素環残基またはヘテロ原子を含まないｎ員環残基を示し、それぞれ置換基を有してもよい。前記ｍ員環複素環残基および前記ｎ員環残基は縮合環構造を形成してもよい。
   ｍ、ｎはそれぞれ５〜１０の整数を示す。）
2. 樹脂組成物の全重量に対し、重合体Ａの含有量が１０重量％以上９９重量％以下、重合体Ｂの含有量が１重量％以上９０重量％以下である請求項１に記載の樹脂組成物。
3. 重合体Ａおよび重合体Ｂの重量平均分子量がそれぞれ３，０００以上〜５００，０００以下である請求項１または２いずれかに記載の樹脂組成物。
4. 重合体Ａおよび重合体Ｂのガラス転移温度がそれぞれ９０℃以上２５５℃以下である請求項１乃至３いずれか一項に記載の樹脂組成物。
5. 請求項１乃至４いずれか一項に記載の樹脂組成物を含む光学フィルム。
6. 請求項５に記載の光学フィルムを一軸以上の方向に延伸してなる位相差フィルム。