JP2023007719A - 位置特定方法、位置特定システム及びプログラム - Google Patents
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Abstract
Description
以下の説明では、同一または類似の機能を有する構成に同一の符号を付す。そして、それら構成の重複する説明は省略する場合がある。「XXまたはYY」とは、XXとYYのうちいずれか一方の場合に限定されず、XXとYYの両方の場合も含み得る。これは選択的要素が3つ以上の場合も同様である。「XX」および「YY」は、任意の要素(例えば任意の情報)である。
(構成)
図1は、実施形態に係る校正支援システムの一例を示すブロック図である。
校正支援システム1は、校正支援装置10と、光検知測距装置20と、ターゲット30と、を含む。光検知測距装置20は、所定範囲を走査可能なレーザの光源と、反射光を検出するセンサなどを有する。光検知測距装置20は、ターゲット30へレーザ光を照射し、ターゲット30までの距離や方向を測定するライダー(LiDAR:Light Detection And Ranging)計測装置である。ターゲット30は、光検知測距装置20が光を照射する目標となる、例えば、校正用の板である。ターゲット30の表面には、周囲とは異なる反射率を有する所定の形状をしたパターン領域31が設けられている。パターン領域31の形状は、直線、円、多角形などの図形やそれらを組み合わせた幾何学模様であり、線分や曲線が割り当て容易なものであれば、任意の形状とすることができる。光検知測距装置20は、ターゲット30までの距離および方向を計測し、計測データを生成する。計測データは、離散的な点それぞれについての位置情報と反射光の輝度情報とを含んでいる。位置情報とは、例えば、光検知測距装置20(例えば、反射光を検出するセンサ)を原点とする3次元座標系における各点の座標情報である。校正支援装置10と光検知測距装置20とは、通信可能に接続されている。光検知測距装置20は、生成した計測データを校正支援装置10へ出力する。校正支援装置10は、コンピュータで構成されており、光検知測距装置20から計測データを取得すると、LiDARによって得られる距離や方向の校正に必要な補正量(後述する「ずれ量」)を算出する。
データ取得部11は、光検知測距装置20から計測データを取得する。
設定受付部12は、ユーザから入力された各種の設定情報を受け付ける。例えば、設定受付部12は、パターン領域31における目標位置Pの既知の正確な位置情報(光検知測距装置20からの位置および方向)の設定を受け付ける。目標位置Pとは、例えば、パターン領域31の重心、中心など、パターン領域31の形状に基づいて幾何学的に特定しやすい位置であることが好ましい。目標位置Pは校正の基準点として用いられる。
位置特定部131は、光検知測距装置20による計測データに基づいて、パターン領域31における目標位置Pを特定し、特定した目標位置Pの位置情報を算出する。
ずれ量算出部132は、設定受付部12が受け付けた目標位置Pの正確な位置情報と位置特定部131が算出した目標位置Pの位置情報との差を算出する。この差は、目標位置Pの真の位置とLiDARによる計測結果とのずれ量であるから、ある任意の点に対するLiDARによる計測結果に対して、このずれ量の分だけを補正すれば、この点についての真の位置情報を得ることができる。
記憶部15は、種々の情報を記憶する。例えば、記憶部15は、目標位置Pの正確な位置情報などを記憶する。
図2~図6を参照して、目標位置Pを特定する処理について説明する。図2にパターン領域31の一例を示す。図2に例示するパターン領域31は十字の形状である。また、ユーザは、目標位置Pを十字の中心に設定する。光検知測距装置20がターゲット30のパターン領域31を含む範囲へレーザ光を照射すると、図示するような離散的な点群データが得られる。点群データを構成する一つ一つの点は、レーザ光が実際に当たった位置で反射された反射光である。パターン領域31は、ターゲット30のパターン領域31以外の領域とは異なる反射率となっている。従って、点群データのうちパターン領域31で反射した光と、それ以外の領域で反射した光とは異なる輝度(明るさ、濃淡)を有している。例えば、パターン領域31が反射率の高い材料で形成されていれば、パターン領域31からの反射光の輝度は、他の領域からの反射光の輝度よりも高くなる。この性質を利用すると、反射光の輝度に基づいて、パターン領域31とそれ以外の領域とを区別し、パターン領域31の形状を認識することができる。
次に図11を参照して、校正支援装置10の動作について説明する。
図11は、実施形態に係る校正支援装置の動作の一例を示すフローチャートである。
パターン領域31が設けられたターゲット30を光検知測距装置20の測定範囲に設置する。ユーザは、ターゲット30を設置した状態における光検知測距装置20から目標位置Pまでの真の位置情報(距離や方向)を校正支援装置10へ入力する。設定受付部12は、真の位置情報を取得し(ステップS1)、記憶部15に記録する。次にユーザが、光検知測距装置20を操作して、パターン領域31を含む範囲について位置情報の計測を行う(ステップS2)。光検知測距装置20は、計測データを生成し、校正支援装置10へ出力する。計測データには、点群を構成する各点の位置情報と輝度情報とが含まれている。校正支援装置10では、データ取得部11が計測データを取得し(ステップS3)、記憶部15に記録する。次に、制御部13が、計測データを記憶部15から読み出して、計測データに含まれる各点の位置情報に基づいて反射光の点群に対応する点を3次元空間にマッピングした画像データ40を作成する(ステップS4)。制御部13は、計測データに含まれる各点の輝度情報に基づいて、マッピングした点に輝度に応じた色を設定するなどして、パターン領域31からの反射光とそれ以外の領域からの反射光を異なる態様で表示した画像データ40を作成する(図4)。例えば、画像データ40は、各画素に対して奥行きの情報と輝度情報を含める距離画像であってもよい。
以上説明したように、本実施形態によれば、LiDARの計測結果を用いてターゲット30内の任意の目標位置Pを特定することができる。目標位置Pを特定することができれば、特定した目標位置PのLiDAR計測に基づく位置情報と目標位置Pの真の位置情報とを比較することにより、LiDARによって得られる計測位置のずれ量を把握することができる。ずれ量を把握することにより、光検知測距装置20の据え付けを修正してずれ量を低減し、計測精度を向上することができる。あるいは、ずれ量を把握することにより、LiDARによる計測結果の補正方法が分かるので、計測結果を補正するソフトウェアを用いることで、LiDARの計測精度を向上することができる。
各実施形態に記載の位置特定方法、位置特定システム及びプログラムは、例えば以下のように把握される。
これにより、光検知測距装置20の構成に必要な補正量(ずれ量)を算出するための基準となる位置を特定することができる。
線分または曲線を割り当てて、線分などで形成されるエリア(図形、幾何学模様)を抽出することで、そのエリアの形状や外縁に基づいて、エリア内に設定された目標位置Pを特定することができる。
線分または曲線の交点を抽出し、その交点を頂点とするエリア(図形、幾何学模様)を抽出することで、抽出したエリアの形状や外縁に基づいて、エリア内に設定された目標位置Pを特定することができる。
エリアの重心又は中心に目標位置Pを設定することで、例えば、計測誤差などの影響で、抽出されるべき正方形が歪んで平行四辺形や台形として抽出されたとしても、(重心や中心であれば、それら歪みや誤差などにあまり影響されずに)目標位置Pの近似値を特定することができる。エリアの重心又は中心に目標位置Pを設定することで、幾何学的な計算により、目標位置Pを特定することができる。
これにより、図形の頂点などを目標位置Pとして設定した場合に、目標位置Pを特定することができる。
ずれ量を算出することにより、光検知測距装置20を校正することができる。
反射率を有する既知の形状の領域を設けることにより、輝度が異なる点群の境界を抽出することが可能になり、光源との位置関係が既知の位置に設置することにより、ずれ量の算出が可能になる。
10・・・校正支援装置
11・・・データ取得部
12・・・設定受付部
13・・・制御部
131・・・位置特定部
132・・・ずれ量算出部
14・・・出力部
15・・・記憶部
20・・・光検知測距装置
30・・・ターゲット
31・・・パターン領域
900・・・コンピュータ
901・・・CPU
902・・・主記憶装置
903・・・補助記憶装置
904・・・入出力インタフェース
905・・・通信インタフェース
Claims (10)
- 光検知測距装置の光源から対象物へ光を照射したときの反射光の輝度パターンに基づいて、輝度が異なる点群の境界を抽出するステップと、
前記境界に線分または曲線を割り当てるステップと、
前記線分または前記曲線に基づいて目標位置を特定するステップと、
を有する位置特定方法。 - 前記目標位置を特定するステップでは、
割り当てた前記線分または前記曲線によって形成されるエリア内の所定の位置を前記目標位置として特定する、
請求項1に記載の位置特定方法。 - 前記目標位置を特定するステップでは、
割り当てた前記線分または前記曲線の交点を抽出し、複数の前記交点を頂点とするエリア内の所定の位置を前記目標位置として特定する、
請求項1に記載の位置特定方法。 - 前記目標位置は、前記エリアの重心又は中心である、
請求項2または請求項3に記載の位置特定方法。 - 前記目標位置を特定するステップでは、
割り当てた前記線分または前記曲線の交点を抽出し、前記交点を前記目標位置として特定する、
請求項1に記載の位置特定方法。 - 特定した前記目標位置と、前記目標位置が本来検出されるべき位置とのずれ量を算出するステップ、
をさらに有する請求項1から請求項5の何れか1項に記載の位置特定方法。 - 前記対象物には、周囲とは異なる反射率を有する既知の形状の領域が設けられ、前記対象物は前記光源との位置関係が既知の位置に設置される、
請求項1から請求項6の何れか1項に記載の位置特定方法。 - 光検知測距装置の光源から対象物へ光を照射したときの反射光の輝度パターンに基づいて、輝度が異なる点群の境界を抽出する手段と、
前記境界に線分または曲線を割り当てる手段と、
前記線分または前記曲線に基づいて目標位置を特定する手段と、
を備える位置特定システム。 - 周囲とは異なる反射率を有する領域が設けられた対象物と、
前記対象物へ光を照射して前記対象物までの距離を計測する光検知測距装置と、
をさらに備える請求項8に記載の位置特定システム。 - コンピュータに、
光検知測距装置の光源から対象物へ光を照射したときの反射光の輝度パターンに基づいて、輝度が異なる点群の境界を抽出するステップと、
前記境界に線分または曲線を割り当てるステップと、
前記線分または前記曲線に基づいて目標位置を特定するステップと、
を実行させるプログラム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2021110742A JP7584364B2 (ja) | 2021-07-02 | 2021-07-02 | 位置特定方法、位置特定システム及びプログラム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2021110742A JP7584364B2 (ja) | 2021-07-02 | 2021-07-02 | 位置特定方法、位置特定システム及びプログラム |
Publications (2)
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| JP2023007719A true JP2023007719A (ja) | 2023-01-19 |
| JP7584364B2 JP7584364B2 (ja) | 2024-11-15 |
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ID=85112546
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP2021110742A Active JP7584364B2 (ja) | 2021-07-02 | 2021-07-02 | 位置特定方法、位置特定システム及びプログラム |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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-
2021
- 2021-07-02 JP JP2021110742A patent/JP7584364B2/ja active Active
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