JP2023102012A - 金属の精製方法及び金属の精製装置 - Google Patents
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Abstract
Description
[1.第1実施形態]
[1-1.構成]
図2に示す金属の精製装置1は、複数種類の元素を含む溶湯から目的の金属を精製するために用いられる。精製装置1は、精製容器2と、成形部3と、分離部4とを備える。
精製装置1で精製が行われる溶湯としては、例えば金属スクラップを溶融したものが用いられる。
精製容器2は、溶湯を保持可能な耐熱性を有する、るつぼである。具体的には、精製容器2は、磁性を有しないステンレス製の有底の円筒体である。精製容器2の材質としては、例えば、JIS-G-4303:2015に規定されるSUS304を用いることができる。
成形部3は、精製容器2に収容された精製対象金属と精製対象金属以外の元素とを含む溶湯を、回転磁場によって回転させつつ冷却することで、固相率が一定範囲の成形体を製造するように構成されている。
分離部4は、精製容器2内で成形部3が製造した成形体M2に圧力を加えることで、成形体M2を精製対象金属が含まれる純化鋳塊I1と、溶質元素の濃度が高い濃化溶湯I2とに分離するように構成されている。
図4に、精製装置1を用いた金属の精製方法のフローを示す。本実施形態の金属の精製方法は、溶融工程S10と、成形体製造工程S20と、圧搾分離工程S30とを有する。なお、各工程は、1つの精製容器2に対し行われるバッチ処理である。
本工程では、精製材料(例えばアルミニウム合金を含む金属スクラップ)を精製容器2に投入し、溶融温度まで加熱する。精製材料の溶融により溶湯が得られる。
本工程では、精製容器2に収容された溶湯を、回転磁場によって回転させつつ冷却することで、固相率が0.2以上0.7以下の成形体を製造する。
本工程では、精製容器2内で成形体に圧力を加えることで、成形体を精製対象金属が含まれる純化鋳塊と、濃化溶湯とに分離する。
以上詳述した実施形態によれば、以下の効果が得られる。
(1a)回転磁場による電磁撹拌によって金属の精製純度を高められる。また、ステンレス製の精製容器2内で成形体の製造及び圧搾分離が行われるため、安全性の向上及び精製コストの低減を図ることができる。
以上、本開示の実施形態について説明したが、本開示は、上記実施形態に限定されることなく、種々の形態を採り得ることは言うまでもない。
以下に、本開示の効果を確認するために行った試験の内容とその評価とについて説明する。
表1に示す組成のAl-4%Si合金100gを精製材料として精製容器に投入した。この合金は、鋳造用アルミニウム合金と展伸用アルミニウム合金とが混合した金属スクラップを想定したものである。なお、表1中の数値は、溶湯全体に対する質量%である。
実施例1-3と同じAl-4%合金100gを精製容器にて溶融して溶湯を得た。この溶湯を空冷し、フィルターが取り付けられたプレス機に精製容器を設置した。
表2に、実施例1-3及び比較例1-3で得られた純化鋳塊におけるSi濃度と、純化鋳塊の回収率とを示す。Si濃度は、純化鋳塊全体におけるSiの質量割合である。回収率は、溶湯(つまり精製材料)全体における純化鋳塊の質量割合である。
31…回転磁場付与装置、41…プレス機、42…フィルター。
Claims (14)
- ステンレス製の精製容器に収容された精製対象金属と前記精製対象金属以外の元素とを含む溶湯を、回転磁場によって回転させつつ冷却することで、固相率が0.2以上0.7以下の成形体を製造する工程と、
前記精製容器内で前記成形体に圧力を加えることで、前記成形体を前記精製対象金属が含まれる純化鋳塊と、濃化溶湯とに分離する工程と、
を備える、金属の精製方法。 - 請求項1に記載の金属の精製方法であって、
前記製造する工程では、前記精製対象金属の固相率が0.2以上0.7以下の前記成形体を製造する、金属の精製方法。 - 請求項1又は請求項2に記載の金属の精製方法であって、
前記回転磁場の周波数は、1Hz以上である、金属の精製方法。 - 請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の金属の精製方法であって、
前記溶湯の前記回転磁場の周方向に沿った表面における磁束密度の最大値は、20mT以上である、金属の精製方法。 - 請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の金属の精製方法であって、
前記溶湯は、アルミニウム(Al)を含み、
前記溶湯におけるAlの質量濃度は、前記溶湯に含まれる他の金属元素の質量濃度よりも大きい、金属の精製方法。 - 請求項5に記載の金属の精製方法であって、
前記溶湯は、シリコン(Si)を含み、
前記溶湯におけるSiの質量濃度は、1.0質量%以上11.0質量%以下である、金属の精製方法。 - 請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の金属の精製方法であって、
前記溶湯は、鉄(Fe)、銅(Cu)、マンガン(Mn)、マグネシウム(Mg)、クロム(Cr)、亜鉛(Zn)、及びチタン(Ti)の少なくとも1つを含み、
前記溶湯におけるFe、Cu、Mn、Mg、Cr、Zn及びTiの質量濃度の合計は、0.5質量%以上6.0質量%以下である、金属の精製方法。 - ステンレス製の精製容器と、
前記精製容器に収容された精製対象金属と前記精製対象金属以外の元素とを含む溶湯を、回転磁場によって回転させつつ冷却することで、固相率が0.2以上0.7以下の成形体を製造するように構成された成形部と、
前記精製容器内で前記成形体に圧力を加えることで、前記成形体を前記精製対象金属が含まれる純化鋳塊と、濃化溶湯とに分離するように構成された分離部と、
を備える、金属の精製装置。 - 請求項8に記載の金属の精製装置であって、
前記成形部は、前記精製対象金属の固相率が0.2以上0.7以下の前記成形体を製造する、金属の精製装置。 - 請求項8又は請求項9に記載の金属の精製装置であって、
前記回転磁場の周波数は、1Hz以上である、金属の精製装置。 - 請求項8から請求項10のいずれか1項に記載の金属の精製装置であって、
前記溶湯の前記回転磁場の周方向に沿った表面における磁束密度の最大値は、20mT以上である、金属の精製装置。 - 請求項8から請求項11のいずれか1項に記載の金属の精製装置であって、
前記溶湯は、アルミニウム(Al)を含み、
前記溶湯におけるAlの質量濃度は、前記溶湯に含まれる他の金属元素の質量濃度よりも大きい、金属の精製装置。 - 請求項12に記載の金属の精製装置であって、
前記溶湯は、シリコン(Si)を含み、
前記溶湯におけるSiの質量濃度は、1.0質量%以上11.0質量%以下である、金属の精製装置。 - 請求項8から請求項13のいずれか1項に記載の金属の精製装置であって、
前記溶湯は、鉄(Fe)、銅(Cu)、マンガン(Mn)、マグネシウム(Mg)、クロム(Cr)、亜鉛(Zn)、及びチタン(Ti)の少なくとも1つを含み、
前記溶湯におけるFe、Cu、Mn、Mg、Cr、Zn及びTiの質量濃度の合計は、0.5質量%以上6.0質量%以下である、金属の精製装置。
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