JP2555023B2 - 太陽電池 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、受光面が粗面である太陽電池に係り、素子
の開放電圧、曲線因子の向上に好適な太陽電池に関す
る。

〔発明の背景〕

従来の太陽電池としては、特開昭48−32946号公報に
あるように、受光面を粗面としたものがあるが、この粗
面に電極を形成していたため、電極形成時に接合を破壊
して、開放電圧、曲線因子を低下させる問題があつた。

〔発明の目的〕 本発明の目的は、受光面が粗面である太陽電池におい
て、接合破壊を防止することができる高効率な太陽電池
を提供することにある。

〔発明の概要〕

高効率太陽電池を得るための主要因として、入射光の
受光面反射の低減が上げられる。その一例として受光面
を粗面とし受光損失を低減させるような素子構造があ
る。さらに、前述した粗面を得るためには、（100）基
板に対する（111）面の選択エツチング（テクスチヤー
エツチング）を行ない、基板表面に無数の四角錐を形成
するのが一般的である。しかし、太陽電池の製造におい
て、テクスチヤーエツチング後基板にpn接合を形成し、
受光面電極を印刷により形成する際、前述した四角錐の
先端が欠け、接合破壊を越し、飽和電池の増加により、
開放電圧、曲線因子を低下させていた。

本発明は、受光面が粗面である太陽電池の電極形成部
を平坦面とすることにより、前述した影響を防止可能と
したものである。

〔発明の実施例〕

本発明の一実施例を第１図により製造工程に従つて説
明する。

第１図（ａ）に示すように、ｐ型シリコン基板（（10
0），ρ＝１〜1.5Ω・cm）１を用い、第１図（ｂ）のよ
うに水酸化カリウムを３〜４％含む水溶液（75℃に加
熱）に30分浸漬しテクスチヤーエツチングを行なう。次
に、表面電極パターンに合わせてエツチングレジスト２
を印刷形成し、表面電極形成部をHF/HNO₃＝1/5液にてミ
ラーエツチングを行ない、平坦面を得る（第１図（ｃ）
〜（ｄ））。さらに、第１図（ｅ）に示すようにPOCl₃
拡散によりn⁺層３を形成してｐ−ｎ接合J₁を形成後、第
１図（ｆ）のように裏面へのAlペースト印刷後、700℃,
5分間の熱処理により、ｐ−p⁺接合J₂を形成し、n⁺−ｐ
−p⁺の接合構成を得る。以後、第１図（ｇ）に示すごと
くAgペースト印刷、熱処理により、表裏電極5,6を形成
し、半田７をデイツプ後太陽電池を得る。下表に、従来
例との特性比較を示す。

実施例太陽電池の特性は、従来例に比べ、開放電圧、
曲線因子で改善が見られ、本発明が、粗面を有する太陽
電池に対して、好適な構造であるという結果を示した。

〔発明の効果〕

本発明によれば、受光面が粗面である太陽電池の電極
形成部を平坦面とすることにより、電極形成時に、接合
破壊を防止でき、高効率な太陽電池を得る効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図（ａ）〜（ｇ）は本発明太陽電池の一実施例をそ
の製造工程に沿つて説明する断面図である。 １……ｐ型基板、２……レジスト、３……n⁺層、４……
p⁺層、５……受光面電極、６……裏面電極、７……半
面。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 守田 啓一 日立市幸町３丁目１番１号 株式会社日 立製作所日立工場内 (56)参考文献 特開 昭61−69178（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−148875（ＪＰ，Ａ) 特開 昭51−150287（ＪＰ，Ａ)

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】受光面が粗面であるn⁺−ｐ−n⁺接合型太陽
   電池において、該受光面における電極形成部の半導体表
   面が平坦面となっていることを特徴とする太陽電池。