JP2595246B2 - リニアリティを有するタッチセンサデバイス - Google Patents
リニアリティを有するタッチセンサデバイスInfo
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- G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
- G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
- G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
- G06F3/045—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means using resistive elements, e.g. a single continuous surface or two parallel surfaces put in contact
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- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING OR CALCULATING; COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
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- G06F2203/041—Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
- G06F2203/04113—Peripheral electrode pattern in resistive digitisers, i.e. electrodes at the periphery of the resistive sheet are shaped in patterns enhancing linearity of induced field
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この発明は、２次元システム上の座標位置を決定する
ためのデバイスに関し、特に、容易に製造され、センサ
の増大された領域にわたって良いリニアリティでもって
ポイントが決定され得るデバイスに関する。
ためのデバイスに関し、特に、容易に製造され、センサ
の増大された領域にわたって良いリニアリティでもって
ポイントが決定され得るデバイスに関する。
［従来技術とその問題点］ ２次元の平面あるいは非平面の座標システム上のある
物理的ポイントに比例した電気的信号を発生させること
が望まれる多くの技術分野がある。例えば、正確にグラ
フを再現させたり、あるいは他の技術データを表示した
り、このようなデータをコンピュータに記憶させたり、
あるいは多様な応用のためのタッチセンサを提供するた
めに望まれる。この目的のために使用されるようになっ
たデバイスとしては、座標システム上に、一方はＸ方向
で他方はＹ方向となる直交した電界が生じる電気的グラ
フイックセンサが公知である。指や他の物体でもってセ
ンサの特定の位置に対して接触あるいは応力を加えるこ
とにより、前記特定位置のＸ及びＹ座標を示す信号が生
じる。
物理的ポイントに比例した電気的信号を発生させること
が望まれる多くの技術分野がある。例えば、正確にグラ
フを再現させたり、あるいは他の技術データを表示した
り、このようなデータをコンピュータに記憶させたり、
あるいは多様な応用のためのタッチセンサを提供するた
めに望まれる。この目的のために使用されるようになっ
たデバイスとしては、座標システム上に、一方はＸ方向
で他方はＹ方向となる直交した電界が生じる電気的グラ
フイックセンサが公知である。指や他の物体でもってセ
ンサの特定の位置に対して接触あるいは応力を加えるこ
とにより、前記特定位置のＸ及びＹ座標を示す信号が生
じる。
この種のデバイスのＸ及びＹの直交する電界は、多数
のタイプのシステムにより発生されている。例えば、離
隔して配したシートの対向するエッジに、一方のシート
上の電極方向が他方のシート上の電極方向と直交するよ
うに平行電極が設けられる。一つの方向の電界は、一方
のシート上の組みの電極に電圧を印加することにより該
シート上に生じ、そして、他の電界は、他方のシートの
電極に電圧を印加することによって生じる。別の形態に
おいては、しかしながら、種々の形態の電極をただ１枚
のシートのエッジに沿って配し、これらの電極に適当な
時間遅れでもって電圧を印加するようにしたものがあ
る。このシングルシートによるセンサの一方の典型的な
グループは、抵抗性電極を用い、これに対し、他方のグ
ループは、所定の電圧を印加するためにダイオードを用
いている。
のタイプのシステムにより発生されている。例えば、離
隔して配したシートの対向するエッジに、一方のシート
上の電極方向が他方のシート上の電極方向と直交するよ
うに平行電極が設けられる。一つの方向の電界は、一方
のシート上の組みの電極に電圧を印加することにより該
シート上に生じ、そして、他の電界は、他方のシートの
電極に電圧を印加することによって生じる。別の形態に
おいては、しかしながら、種々の形態の電極をただ１枚
のシートのエッジに沿って配し、これらの電極に適当な
時間遅れでもって電圧を印加するようにしたものがあ
る。このシングルシートによるセンサの一方の典型的な
グループは、抵抗性電極を用い、これに対し、他方のグ
ループは、所定の電圧を印加するためにダイオードを用
いている。
抵抗性電極を用いているシングルシートタイプの装置
では、電極により生じたシート中央における等電位線
は、一般に各々の方向に真っ直ぐな平行線となることが
広く認められている。しかしながら、シートの周辺に近
付くにつれて、これらの等電位線は理想から外れ、非平
行で曲線になる。この弓形のような湾曲は、抵抗性電極
における電圧降下により生じる。装置のエッヂ近傍は等
電位線が非平行で湾曲することから、高リニアリティの
装置が所望されるとき、このようなリニアリティは、装
置のエッジ近傍ではなく、装置の中央近傍で達成され得
る。
では、電極により生じたシート中央における等電位線
は、一般に各々の方向に真っ直ぐな平行線となることが
広く認められている。しかしながら、シートの周辺に近
付くにつれて、これらの等電位線は理想から外れ、非平
行で曲線になる。この弓形のような湾曲は、抵抗性電極
における電圧降下により生じる。装置のエッヂ近傍は等
電位線が非平行で湾曲することから、高リニアリティの
装置が所望されるとき、このようなリニアリティは、装
置のエッジ近傍ではなく、装置の中央近傍で達成され得
る。
装置の広い領域にわたって高リニアリティを達成する
ためには、装置におけるリニアリティ領域を増大させる
ために、多数の特殊な電極システムが工夫されている。
例えば、米国特許第3,798,370号では、シートへの電圧
印加に対し、装置のエッジに沿った抵抗性エレメントで
の電圧降下が少なくとも部分的に補償されるよう、各々
のエッジに沿って電極が湾曲して配列される。このこと
は、第２図に関してそこで述べられている。
ためには、装置におけるリニアリティ領域を増大させる
ために、多数の特殊な電極システムが工夫されている。
例えば、米国特許第3,798,370号では、シートへの電圧
印加に対し、装置のエッジに沿った抵抗性エレメントで
の電圧降下が少なくとも部分的に補償されるよう、各々
のエッジに沿って電極が湾曲して配列される。このこと
は、第２図に関してそこで述べられている。
同様に、特殊な電極形態が、米国特許第4074194及び
第4178481号に示され述べられている。これらの特許で
は、等電位線の湾曲を減じセンサの与えられたサイズの
センサの有効面積を増大させるための特殊な電極が使用
されている。
第4178481号に示され述べられている。これらの特許で
は、等電位線の湾曲を減じセンサの与えられたサイズの
センサの有効面積を増大させるための特殊な電極が使用
されている。
他の複雑な“電極”形態が米国特許第4293734号で示
されている。これらの電極は、センサのエッジに沿って
適当な間隔を隔てて位置している（例えば米国特許第42
93734号を参照）。又、米国特許第4293734号では、開示
された回路は、周囲の抵抗回路と、抵抗層に電位を導く
ための電極とを組み合わせもち、これにより、一つの変
化が他に影響し、この結果、個々の調整は不要となる。
されている。これらの電極は、センサのエッジに沿って
適当な間隔を隔てて位置している（例えば米国特許第42
93734号を参照）。又、米国特許第4293734号では、開示
された回路は、周囲の抵抗回路と、抵抗層に電位を導く
ための電極とを組み合わせもち、これにより、一つの変
化が他に影響し、この結果、個々の調整は不要となる。
更に“センサ”の一般分野に於ける別の特許は、米国
特許第4493104号である。この特許では、リニアの電圧
降下と各々のエッジに沿ってリニアの電位傾度を有する
ユニットが記述されている。リニアの電圧降下は、達成
されたとき、実際に湾曲した等電界線を含み、このこと
が、センサのエッジ間の最大有効面積を達成するため
に、湾曲を減少させるためのいくつかの手段を要求す
る。この特許は、湾曲した電界のことがらについては言
及していない。
特許第4493104号である。この特許では、リニアの電圧
降下と各々のエッジに沿ってリニアの電位傾度を有する
ユニットが記述されている。リニアの電圧降下は、達成
されたとき、実際に湾曲した等電界線を含み、このこと
が、センサのエッジ間の最大有効面積を達成するため
に、湾曲を減少させるためのいくつかの手段を要求す
る。この特許は、湾曲した電界のことがらについては言
及していない。
センサの多くのタイプは、陰極線管の形態のコンピュ
ータ端末のような画像表示器に重ね合わせて用いられ
る。このような表示器は、外に向かって湾曲した（複雑
な）エッジを有している。内側方向（又は少なくとも内
側の湾曲した電界方向）に延在する電極を有する公知の
センサがこれらの表示装置上に用いられたとき、センサ
の有効領域は、表示器の実際に利用できる領域よりも小
さくなる。
ータ端末のような画像表示器に重ね合わせて用いられ
る。このような表示器は、外に向かって湾曲した（複雑
な）エッジを有している。内側方向（又は少なくとも内
側の湾曲した電界方向）に延在する電極を有する公知の
センサがこれらの表示装置上に用いられたとき、センサ
の有効領域は、表示器の実際に利用できる領域よりも小
さくなる。
等電位線の湾曲を減じるため及び、これにより与えら
れたセンサの有効サイズを増大させるための一つのシス
テムは、欧州特許明細書第0186464号に開示されてい
る。このシステムは、センサの抵抗性の層の各々のエッ
ジに沿った一列の電極を用いていて、電極の長さ，それ
らの間隔及び各々に印加される電圧の大きさは、所定の
値に選ばれ、これにより、電極のラインに沿った電位傾
度が、電極に電圧を供給する抵抗性エレメントに沿った
電圧降下を打ち消すようになっている。
れたセンサの有効サイズを増大させるための一つのシス
テムは、欧州特許明細書第0186464号に開示されてい
る。このシステムは、センサの抵抗性の層の各々のエッ
ジに沿った一列の電極を用いていて、電極の長さ，それ
らの間隔及び各々に印加される電圧の大きさは、所定の
値に選ばれ、これにより、電極のラインに沿った電位傾
度が、電極に電圧を供給する抵抗性エレメントに沿った
電圧降下を打ち消すようになっている。
［発明の目的］ 我々は、欧州特許明細書第0186464号に開示されたの
とは別のタイプのタッチセンサを発明した。これによれ
ば、センサのエッジに沿った等電位線の湾曲を減少させ
ることによって、センサの増大された表面領域にわたっ
てリニアの出力特性を提供する。
とは別のタイプのタッチセンサを発明した。これによれ
ば、センサのエッジに沿った等電位線の湾曲を減少させ
ることによって、センサの増大された表面領域にわたっ
てリニアの出力特性を提供する。
［発明の構成］ 本発明に係るタッチセンサは、（ａ）一面にわたって
実質的に一様な抵抗率を有する抵抗性の層と、（ｂ）上
記抵抗性の層に直交した電界を与えるため抵抗性の層の
各端縁に近接して位置する複数の部分からなる抵抗性エ
レメントであって、各部分は、（ｉ）その両端で隣接す
る部分の端と相互に接続され、そして（ii）上記抵抗性
の層と電気的に接触している抵抗性エレメントと、
（ｃ）上記抵抗性エレメントに近接した所定の経路に沿
って抵抗性の層の中に並べられた、所定の実効長を有す
る複数の不連続の絶縁領域であって、隣接する絶縁領域
の間に所定の実効長及び幅を有する間隔が区画され、上
記抵抗性の層の抵抗率により所定の抵抗値を有する抵抗
性電極エレメントが上記間隔において生じ、上記絶縁領
域の実効長及び上記抵抗性電極エレメントの抵抗値は、
抵抗性電極エレメントを通して抵抗性の層に上記直交し
た電界が導入されたとき上記抵抗性電極エレメントに沿
った電圧降下に対して補償して上記経路に沿って所定の
電位傾度が生じるよう選ばれる絶縁領域と、（ｄ）上記
抵抗性の層内のリニア出力の領域内の選択された点の座
標に対応する出力信号を引き出す手段とを備える。
実質的に一様な抵抗率を有する抵抗性の層と、（ｂ）上
記抵抗性の層に直交した電界を与えるため抵抗性の層の
各端縁に近接して位置する複数の部分からなる抵抗性エ
レメントであって、各部分は、（ｉ）その両端で隣接す
る部分の端と相互に接続され、そして（ii）上記抵抗性
の層と電気的に接触している抵抗性エレメントと、
（ｃ）上記抵抗性エレメントに近接した所定の経路に沿
って抵抗性の層の中に並べられた、所定の実効長を有す
る複数の不連続の絶縁領域であって、隣接する絶縁領域
の間に所定の実効長及び幅を有する間隔が区画され、上
記抵抗性の層の抵抗率により所定の抵抗値を有する抵抗
性電極エレメントが上記間隔において生じ、上記絶縁領
域の実効長及び上記抵抗性電極エレメントの抵抗値は、
抵抗性電極エレメントを通して抵抗性の層に上記直交し
た電界が導入されたとき上記抵抗性電極エレメントに沿
った電圧降下に対して補償して上記経路に沿って所定の
電位傾度が生じるよう選ばれる絶縁領域と、（ｄ）上記
抵抗性の層内のリニア出力の領域内の選択された点の座
標に対応する出力信号を引き出す手段とを備える。
特定のサイズ及び離隔した抵抗性電極エレメントを提
供する、絶縁領域の配置が、抵抗性エレメントに沿った
いかなる電圧降下をも補償する。この電圧降下の補償を
せずに、例えば抵抗性エレメントのみが使用されたと
き、センサのエッジに沿った等電位線は湾曲し、この湾
曲した領域では検知信号は一定しないであろう。この発
明は、好都合に湾曲の程度を減じる。このように、セン
サの拡大されたエリアにわたって実質的にリニアな応答
が得られるよう、補償がなされる。この発明による好ま
しい実施例では、リニアの応答が得られるセンサの表面
領域を“動作領域”と称する。
供する、絶縁領域の配置が、抵抗性エレメントに沿った
いかなる電圧降下をも補償する。この電圧降下の補償を
せずに、例えば抵抗性エレメントのみが使用されたと
き、センサのエッジに沿った等電位線は湾曲し、この湾
曲した領域では検知信号は一定しないであろう。この発
明は、好都合に湾曲の程度を減じる。このように、セン
サの拡大されたエリアにわたって実質的にリニアな応答
が得られるよう、補償がなされる。この発明による好ま
しい実施例では、リニアの応答が得られるセンサの表面
領域を“動作領域”と称する。
この発明によるセンサの特別な利点を以下に述べる。
このセンサは、該センサに電界を生じさせるための手段
に充当される領域は最小となる。このセンサは、画像表
示デバイス上に使用されたとき、空間利用の点で最適な
利用となる。シングルシートによるセンサは、安価に製
造され、従来のデバイスで一般に生じた湾曲を減じ、あ
るいは排除する。
このセンサは、該センサに電界を生じさせるための手段
に充当される領域は最小となる。このセンサは、画像表
示デバイス上に使用されたとき、空間利用の点で最適な
利用となる。シングルシートによるセンサは、安価に製
造され、従来のデバイスで一般に生じた湾曲を減じ、あ
るいは排除する。
この発明によれば、一様の抵抗率を有する層を備えて
いる。この層は、透明体あるいは不透明であってもよ
く、そして通常の技術を用いて形成される。前記層の各
々のエッジにて、近接して位置し、電気的にこの層と接
触しているのが、抵抗性エレメントであり、この抵抗性
エレメントにより、エッジに沿った抵抗性の層に所定の
電圧が印加される。抵抗性エレメントから抵抗性の層へ
流れる電流は、絶縁領域を列にして並べることにより、
所定幅の該領域で制限される。例えば抵抗性の層を構成
する材料から絶縁領域に対応する部分を除去すると、電
流はこれらの絶縁領域の間を通り抜けることにより制限
されるようになる。この絶縁領域は、好ましくは、比較
的長く、好ましくは列を横切る方向となる。絶縁領域間
に介在するスペースによって電流が制限されることによ
り、列に沿って所定の電位傾度が生じる。特に、抵抗エ
レメントに沿った電圧降下に起因して絶縁領域を設けな
かった場合に存在する等電位線の湾曲を打ち消すことが
できるように、列に沿った効果的な電位傾度が選ばれ
る。
いる。この層は、透明体あるいは不透明であってもよ
く、そして通常の技術を用いて形成される。前記層の各
々のエッジにて、近接して位置し、電気的にこの層と接
触しているのが、抵抗性エレメントであり、この抵抗性
エレメントにより、エッジに沿った抵抗性の層に所定の
電圧が印加される。抵抗性エレメントから抵抗性の層へ
流れる電流は、絶縁領域を列にして並べることにより、
所定幅の該領域で制限される。例えば抵抗性の層を構成
する材料から絶縁領域に対応する部分を除去すると、電
流はこれらの絶縁領域の間を通り抜けることにより制限
されるようになる。この絶縁領域は、好ましくは、比較
的長く、好ましくは列を横切る方向となる。絶縁領域間
に介在するスペースによって電流が制限されることによ
り、列に沿って所定の電位傾度が生じる。特に、抵抗エ
レメントに沿った電圧降下に起因して絶縁領域を設けな
かった場合に存在する等電位線の湾曲を打ち消すことが
できるように、列に沿った効果的な電位傾度が選ばれ
る。
この発明による一つの実施例では、抵抗性エレメント
は、連続体で一様な抵抗率を有し、そして、抵抗性の層
の周辺のエッジで接触している。このエレメントは、一
般に、抵抗性の層の抵抗率のおよそ0.01倍の抵抗率を有
する抵抗材料のストリップで形成される。このストリッ
プの典型的な幅は、0.25cm（0.1インチ）である。抵抗
性のストリップの替わりに、抵抗性の層と連続してある
いはランダムに接触するテープが使用され得る。又、抵
抗性の層と個々の位置で電気的に接続された、連続した
抵抗性エレメントが使用され得る。例えば、前述した欧
州特許第018464号に示されたワイヤと似たものを用いる
ことができる。更に別の構成は、不連続の抵抗性エレメ
ントが使用される。選択的ないずれかの構造は、抵抗性
の層に設けられ（あるいはカバーされ）、あるいは抵抗
性の層の周辺エッジの近接して設けられる。
は、連続体で一様な抵抗率を有し、そして、抵抗性の層
の周辺のエッジで接触している。このエレメントは、一
般に、抵抗性の層の抵抗率のおよそ0.01倍の抵抗率を有
する抵抗材料のストリップで形成される。このストリッ
プの典型的な幅は、0.25cm（0.1インチ）である。抵抗
性のストリップの替わりに、抵抗性の層と連続してある
いはランダムに接触するテープが使用され得る。又、抵
抗性の層と個々の位置で電気的に接続された、連続した
抵抗性エレメントが使用され得る。例えば、前述した欧
州特許第018464号に示されたワイヤと似たものを用いる
ことができる。更に別の構成は、不連続の抵抗性エレメ
ントが使用される。選択的ないずれかの構造は、抵抗性
の層に設けられ（あるいはカバーされ）、あるいは抵抗
性の層の周辺エッジの近接して設けられる。
センサから出力信号を引き出すための手段は、多数の
形態をとる。これにより、例えば、手段は； （ａ）上記抵抗性の層の所定のポイントでの近接した
状態を検知するための容量性エレメントと、そして、上
記所定のポイントでの上記容量性エレメントの結果を測
定し上記出力信号を出力するために上記抵抗エレメント
の端部に接続された回路と；あるいは、 （ｂ）上記抵抗性の層の所定ポイントでの接触を検知
するための容量性エレメント、及び、上記所定のポイン
トでの上記容量性エレメントの結果を測定し上記出力信
号を出力するために、前記容量性エレメントと抵抗性エ
レメントの端部との間に接続された回路；あるいは、 （ｃ）上記抵抗性の層での所定のポイントにおける接
触を検知するための抵抗性エレメント、及び、上記所定
のポイントでの上記抵抗エレメントの結果を測定し上記
出力信号を出力するために、前記抵抗性エレメントと前
記抵抗性エレメントの端部との間に接続された回路；あ
るいは、 （ｄ）上記抵抗性層内に直交した電界を生じさせるた
めに上記抵抗性エレメントの端部に接続された回路、及
び、抵抗性の層上の所定のポイントと接触して、該ポイ
ントから電圧信号を得るための導電手段； を含む。後者の場合、導電手段は、好ましくは上記抵抗
性の層から一様に隔てられた、導電性フレキシブルのピ
ックオフ・シートであり、そして更に上記ピックオフ・
シートと上記抵抗性の層との間で偶発然的な接触を防止
するが、上記所定のポイントでの意図的な接触を許可す
る手段を含む。この場合、回路手段は、ピックオフ・シ
ートと抵抗性の層との間の接触点の座標に対応する出力
信号を引き出すために、ピックオフ・シートと抵抗性エ
レメントの端部との間に接続されてもよい。出力信号を
引き出すための好ましい手段は、導電性のピックオフ・
シートであるが、抵抗性の層に接触させる導電性プロー
ブのような他のシステム、あるいはセンサの所定の位置
に近接（あるいは接触）して位置する（指あるいはプロ
ーブによる）容量性あるいは抵抗性のエレメントもまた
用いられる。
形態をとる。これにより、例えば、手段は； （ａ）上記抵抗性の層の所定のポイントでの近接した
状態を検知するための容量性エレメントと、そして、上
記所定のポイントでの上記容量性エレメントの結果を測
定し上記出力信号を出力するために上記抵抗エレメント
の端部に接続された回路と；あるいは、 （ｂ）上記抵抗性の層の所定ポイントでの接触を検知
するための容量性エレメント、及び、上記所定のポイン
トでの上記容量性エレメントの結果を測定し上記出力信
号を出力するために、前記容量性エレメントと抵抗性エ
レメントの端部との間に接続された回路；あるいは、 （ｃ）上記抵抗性の層での所定のポイントにおける接
触を検知するための抵抗性エレメント、及び、上記所定
のポイントでの上記抵抗エレメントの結果を測定し上記
出力信号を出力するために、前記抵抗性エレメントと前
記抵抗性エレメントの端部との間に接続された回路；あ
るいは、 （ｄ）上記抵抗性層内に直交した電界を生じさせるた
めに上記抵抗性エレメントの端部に接続された回路、及
び、抵抗性の層上の所定のポイントと接触して、該ポイ
ントから電圧信号を得るための導電手段； を含む。後者の場合、導電手段は、好ましくは上記抵抗
性の層から一様に隔てられた、導電性フレキシブルのピ
ックオフ・シートであり、そして更に上記ピックオフ・
シートと上記抵抗性の層との間で偶発然的な接触を防止
するが、上記所定のポイントでの意図的な接触を許可す
る手段を含む。この場合、回路手段は、ピックオフ・シ
ートと抵抗性の層との間の接触点の座標に対応する出力
信号を引き出すために、ピックオフ・シートと抵抗性エ
レメントの端部との間に接続されてもよい。出力信号を
引き出すための好ましい手段は、導電性のピックオフ・
シートであるが、抵抗性の層に接触させる導電性プロー
ブのような他のシステム、あるいはセンサの所定の位置
に近接（あるいは接触）して位置する（指あるいはプロ
ーブによる）容量性あるいは抵抗性のエレメントもまた
用いられる。
絶縁領域には、好ましい長さ，幅，形及び間隔があ
る。好ましくは、絶縁体の長さ及び該絶縁体の間隔は長
方形である。しかしながら、特に絶縁領域のサイズが小
さければ、楕円や円等のような形状もまた適している。
る。好ましくは、絶縁体の長さ及び該絶縁体の間隔は長
方形である。しかしながら、特に絶縁領域のサイズが小
さければ、楕円や円等のような形状もまた適している。
あるセンサの実施例では、湾曲に対する制御は、抵抗
性の層の各々の周辺エッジの外側から1/3の箇所から各
コーナーに向かう箇所で最も困難となる。それ故、好ま
しい実施例では、特に構造を簡略にするために、絶縁領
域は、単にこれらの外側から1/3の領域にのみ設けられ
る。このような形態は、例えば10cm×10cm（４×４イン
チ）のような小さいセンサに対して一般的となる。
性の層の各々の周辺エッジの外側から1/3の箇所から各
コーナーに向かう箇所で最も困難となる。それ故、好ま
しい実施例では、特に構造を簡略にするために、絶縁領
域は、単にこれらの外側から1/3の領域にのみ設けられ
る。このような形態は、例えば10cm×10cm（４×４イン
チ）のような小さいセンサに対して一般的となる。
絶縁領域のサイズ，幅及び間隔は、定型あるいは可変
となる。小さいセンサ（一般には10×10cm）に対して
は、一定のサイズと間隔で十分に電圧降下を補償する。
しかしながら、大きいサイズのセンサでは、抵抗性エレ
メントに沿ってより大きい電圧降下を伴う。これによ
り、これらの場合には、電位傾度の発生に対し、より綿
密な対策が望まれる。これらの対策として、電位傾度
は、センサのコーナーから各エッジの中央にかけて減少
するのが望ましい。これらの実施例に対しては、限定的
ではないが特に、上記絶縁領域における所定の実効長
は、上記抵抗性の層の各コーナーから抵抗性の層の周辺
エッジの中央に向かって減少し、そして、隣接する絶縁
領域間の間隔の実効長、及び上記絶縁領域は、上記抵抗
性の層の各コーナーから抵抗性の層の周辺エッジの中央
に向かって増大するのが望ましい。好ましくは又、上記
絶縁領域のすべては、上記経路と直交した幅は一定であ
る。大きいセンサは、一般に30cm×30cm（12インチ×12
インチ）である。
となる。小さいセンサ（一般には10×10cm）に対して
は、一定のサイズと間隔で十分に電圧降下を補償する。
しかしながら、大きいサイズのセンサでは、抵抗性エレ
メントに沿ってより大きい電圧降下を伴う。これによ
り、これらの場合には、電位傾度の発生に対し、より綿
密な対策が望まれる。これらの対策として、電位傾度
は、センサのコーナーから各エッジの中央にかけて減少
するのが望ましい。これらの実施例に対しては、限定的
ではないが特に、上記絶縁領域における所定の実効長
は、上記抵抗性の層の各コーナーから抵抗性の層の周辺
エッジの中央に向かって減少し、そして、隣接する絶縁
領域間の間隔の実効長、及び上記絶縁領域は、上記抵抗
性の層の各コーナーから抵抗性の層の周辺エッジの中央
に向かって増大するのが望ましい。好ましくは又、上記
絶縁領域のすべては、上記経路と直交した幅は一定であ
る。大きいセンサは、一般に30cm×30cm（12インチ×12
インチ）である。
小さいセンサ（一般に10cm×10cmあるいは４インチ×
４インチ）に対し、絶縁領域の好ましい寸法を次に示
す。
４インチ）に対し、絶縁領域の好ましい寸法を次に示
す。
スペース相互間の長さ 0.7 cm（0.25インチ） 幅 0.13cm（0.05インチ） 形成された抵抗性電極 エレメント間の間隔 0.1 cm（0.04インチ） このようなサイズに対して、抵抗性電極エレメント
（絶縁領域間の間隔）は0.10×0.13インチである。実際
の抵抗値は抵抗性の層の抵抗率に依存する。
（絶縁領域間の間隔）は0.10×0.13インチである。実際
の抵抗値は抵抗性の層の抵抗率に依存する。
大きいセンサ（一般に30cm×30cmあるいは12インチ×
12インチ）に対し、絶縁領域の好ましい寸法を次に示
す。
12インチ）に対し、絶縁領域の好ましい寸法を次に示
す。
長さは、コーナーから抵抗性の層の中央にかけて2.54
cmから0.51cm（1.0〜0.2インチ）に減少。間隔は、エッ
ジのコーナーからコーナーにかけて0.06から2.03cm（0.
025〜0.8インチ）に増大。
cmから0.51cm（1.0〜0.2インチ）に減少。間隔は、エッ
ジのコーナーからコーナーにかけて0.06から2.03cm（0.
025〜0.8インチ）に増大。
センサの各々のサイズに対し、抵抗性の層の抵抗率は
好ましくは単位面積当たり10000オーム、抵抗性エレメ
ント（一般に0.25cm＝0.1インチ幅のストリップ）の抵
抗率は、好ましくは単位面積当たり100オームである。
好ましくは、抵抗性エレメントの抵抗率ＲEは、抵抗性
の層の抵抗率ＲLのおよそ0.01倍である。
好ましくは単位面積当たり10000オーム、抵抗性エレメ
ント（一般に0.25cm＝0.1インチ幅のストリップ）の抵
抗率は、好ましくは単位面積当たり100オームである。
好ましくは、抵抗性エレメントの抵抗率ＲEは、抵抗性
の層の抵抗率ＲLのおよそ0.01倍である。
抵抗性の層は、例えば、適当なインクを用いスクリー
ンプリント法により、基板上に設けることができる。絶
縁領域は、該領域上の抵抗性材料（例えばインク）の取
り除くことにより形成され得る。
ンプリント法により、基板上に設けることができる。絶
縁領域は、該領域上の抵抗性材料（例えばインク）の取
り除くことにより形成され得る。
［実施例］ 第１図を参照すると、そこには、上述した目的物を実
現するために、デバイス10の分解図が示されている。第
１図では、図示された部材は分離可能であるというよ
り、よりわかり易い説明にするために分離している。第
１図に示された特定の実施例においては、基板と見なす
ことのできる支持板12を備えている。この基板12は、硬
質あるいはフレキシブルのいずれであってもよい。基板
12の上層表面14に設けられるのは、抵抗材料からなる端
縁部材16である。この端縁部材16の抵抗値及び形態は以
下に述べられるであろう。この端縁の目的は、抵抗体の
該端縁と電気的に接触した状態となる抵抗性の層18内に
電界を導くためである。等価な構成が、抵抗性の層18を
上層表面14上に設け、そして抵抗体の端縁16を抵抗性の
層18上あるいは近接した箇所に設けることにより作られ
る。電界を生じさせるために、リード線22を介して抵抗
体の端縁16のコーナー20の各々に適当な電圧が印加され
る。
現するために、デバイス10の分解図が示されている。第
１図では、図示された部材は分離可能であるというよ
り、よりわかり易い説明にするために分離している。第
１図に示された特定の実施例においては、基板と見なす
ことのできる支持板12を備えている。この基板12は、硬
質あるいはフレキシブルのいずれであってもよい。基板
12の上層表面14に設けられるのは、抵抗材料からなる端
縁部材16である。この端縁部材16の抵抗値及び形態は以
下に述べられるであろう。この端縁の目的は、抵抗体の
該端縁と電気的に接触した状態となる抵抗性の層18内に
電界を導くためである。等価な構成が、抵抗性の層18を
上層表面14上に設け、そして抵抗体の端縁16を抵抗性の
層18上あるいは近接した箇所に設けることにより作られ
る。電界を生じさせるために、リード線22を介して抵抗
体の端縁16のコーナー20の各々に適当な電圧が印加され
る。
電圧は、絶縁領域26により作られた“抵抗性電極エレ
メント"24を介してセンサの動作領域に印加される。こ
こで用いられた“絶縁領域”という単語は、抵抗性の層
を欠いた領域を意味する。これらの絶縁領域26は、幅が
狭く、実質的に長方形であり、抵抗体の端縁16のエッジ
の内側近傍に列をなすようにして配列している。典型的
には、この絶縁領域は、これらの領域に抵抗性の層を形
成しないことにより、あるいは適した手段により、形成
された抵抗性の層を取り除くことにより形作られる。こ
れらの絶縁領域26の幅、及び該絶縁領域の列方向の間隔
に影響を与える、これらの実効長（動作領域に面してい
る実効長）が、選ばれていて、これにより、これらの絶
縁領域の間に結果として生じた抵抗性電極エレメント
が、抵抗体の端縁16に沿った電圧降下を補償するよう
な、列に沿った電位傾度を達成する。
メント"24を介してセンサの動作領域に印加される。こ
こで用いられた“絶縁領域”という単語は、抵抗性の層
を欠いた領域を意味する。これらの絶縁領域26は、幅が
狭く、実質的に長方形であり、抵抗体の端縁16のエッジ
の内側近傍に列をなすようにして配列している。典型的
には、この絶縁領域は、これらの領域に抵抗性の層を形
成しないことにより、あるいは適した手段により、形成
された抵抗性の層を取り除くことにより形作られる。こ
れらの絶縁領域26の幅、及び該絶縁領域の列方向の間隔
に影響を与える、これらの実効長（動作領域に面してい
る実効長）が、選ばれていて、これにより、これらの絶
縁領域の間に結果として生じた抵抗性電極エレメント
が、抵抗体の端縁16に沿った電圧降下を補償するよう
な、列に沿った電位傾度を達成する。
絶縁領域は、サイズ及び間隔が一定であり、抵抗性の
層18の各々のエッジの外側から1/3の箇所から各コーナ
ーの方にのみ位置している。これは、一般的に10cm×10
cmの小型のセンサの構成として好ましい。
層18の各々のエッジの外側から1/3の箇所から各コーナ
ーの方にのみ位置している。これは、一般的に10cm×10
cmの小型のセンサの構成として好ましい。
絶縁領域間のギャップ中心からギャップ中心の間隔Ｃ
は0.7cmである。絶縁領域の幅Ｂ（動作領域と直交方
向）は0.13cmで、抵抗性電極を形成する箇所である、各
間隔Ａは0.1cmである。この結果、抵抗性電極エレメン
トは、0.1cm×0.13cmの大きさとなる。実際の抵抗は、
抵抗性の層の抵抗率に依存する。この実施例では、抵抗
性の層及び抵抗性電極エレメントの抵抗率は、単位面積
あたりそれぞれ10000オームと100オームである。
は0.7cmである。絶縁領域の幅Ｂ（動作領域と直交方
向）は0.13cmで、抵抗性電極を形成する箇所である、各
間隔Ａは0.1cmである。この結果、抵抗性電極エレメン
トは、0.1cm×0.13cmの大きさとなる。実際の抵抗は、
抵抗性の層の抵抗率に依存する。この実施例では、抵抗
性の層及び抵抗性電極エレメントの抵抗率は、単位面積
あたりそれぞれ10000オームと100オームである。
図示したように抵抗性エレメント（端縁部材）16は、
連続した抵抗性エレメントであり、抵抗性の層と連続的
に接触している。この抵抗性エレメントは、以下示され
るように、抵抗性の層の抵抗率の値の0.01倍の抵抗率を
有する抵抗材料のストリップを配することにより形成さ
れる。このストリップの幅は0.1インチである。
連続した抵抗性エレメントであり、抵抗性の層と連続的
に接触している。この抵抗性エレメントは、以下示され
るように、抵抗性の層の抵抗率の値の0.01倍の抵抗率を
有する抵抗材料のストリップを配することにより形成さ
れる。このストリップの幅は0.1インチである。
抵抗体の端縁16の各々のコーナーは、リード線22を通
してコネクタ27に接続され、このコネクタ27に結合され
るケーブルにより適した回路に接続される。このケーブ
ルは、例えば、抵抗性の層内に直交した等電界が確立さ
れるよう、適当な順序で電圧を供給する。
してコネクタ27に接続され、このコネクタ27に結合され
るケーブルにより適した回路に接続される。このケーブ
ルは、例えば、抵抗性の層内に直交した等電界が確立さ
れるよう、適当な順序で電圧を供給する。
再び第１図を参照すると、フレキシブルの導電性シー
トによるピックオフ（pick・off）シート28が示されて
いて、該シート28上のコネクタ30に取り付けられたリー
ド線32を備えている（第２図にてリード線32がコネクタ
27に取り付けられているごとく）。図示しないが、抵抗
性の層18とピックオフシート28との間に絶縁材料による
ドットが一般に設けられ、これにより、抵抗性の層18と
ピックオフシート28との接触を防止するが、ピックオフ
シート28の所定の箇所が押圧されたときには電気的な接
触が許可されるようになる。
トによるピックオフ（pick・off）シート28が示されて
いて、該シート28上のコネクタ30に取り付けられたリー
ド線32を備えている（第２図にてリード線32がコネクタ
27に取り付けられているごとく）。図示しないが、抵抗
性の層18とピックオフシート28との間に絶縁材料による
ドットが一般に設けられ、これにより、抵抗性の層18と
ピックオフシート28との接触を防止するが、ピックオフ
シート28の所定の箇所が押圧されたときには電気的な接
触が許可されるようになる。
接触している間、接触したポイントの座標に対応する
電圧信号が得られる。エアーギャップを含む他の分離手
段が偶然的な接触を防止するために用いられてもよい。
電圧信号が得られる。エアーギャップを含む他の分離手
段が偶然的な接触を防止するために用いられてもよい。
第３図を参照すると、センサの別の実施例が示されて
いて、このセンサは、第１図及び第２図の構造によるセ
ンサよりもより大きいサイズのセンサに適している。
いて、このセンサは、第１図及び第２図の構造によるセ
ンサよりもより大きいサイズのセンサに適している。
この場合、電位傾度は、センサのコーナーから各エッ
ジの中央に向かうにつれ減少するのが望ましい。これに
より、この実施例によるセンサ10′では、絶縁領域26′
は、その長さが中央に向かうにつれ減少し、そしてギャ
ップ24′（抵抗体）は増大する。第３図のセンサは、エ
ッジに沿って30cm（12インチ）測定し、絶縁領域は、お
よそ2.54cmから0.51cm（１インチから0.2インチ）に減
少し、そして、単位面積あたり10000オームの抵抗率を
有する抵抗性の層に対し、介在する間隔は、およそ0.06
cmから2.03cm（0.025インチから0.8インチ）に増大す
る。ストリップの抵抗エレメントの抵抗率は、0.25cm
（0.1インチ）幅につき100オームである。
ジの中央に向かうにつれ減少するのが望ましい。これに
より、この実施例によるセンサ10′では、絶縁領域26′
は、その長さが中央に向かうにつれ減少し、そしてギャ
ップ24′（抵抗体）は増大する。第３図のセンサは、エ
ッジに沿って30cm（12インチ）測定し、絶縁領域は、お
よそ2.54cmから0.51cm（１インチから0.2インチ）に減
少し、そして、単位面積あたり10000オームの抵抗率を
有する抵抗性の層に対し、介在する間隔は、およそ0.06
cmから2.03cm（0.025インチから0.8インチ）に増大す
る。ストリップの抵抗エレメントの抵抗率は、0.25cm
（0.1インチ）幅につき100オームである。
この発明による構成によれば、適切な電圧を印加する
ことにより、実質的に湾曲のない電気等電位線が生じ
る。このように、対向する絶縁領域の列間の領域すべて
が、センサの動作領域として実質的に利用可能となる。
これにより、利用できない極めて細い端縁が存在する
が、この周辺の端縁は、周囲の縁や表示器ユニットによ
り容易にカバーされる。
ことにより、実質的に湾曲のない電気等電位線が生じ
る。このように、対向する絶縁領域の列間の領域すべて
が、センサの動作領域として実質的に利用可能となる。
これにより、利用できない極めて細い端縁が存在する
が、この周辺の端縁は、周囲の縁や表示器ユニットによ
り容易にカバーされる。
上述のことから、センサのエッジに近接した等電位線
の湾曲を実質的に排除して最大の動作領域を達成するこ
とにより、位置検知デバイスが達成されるということが
明らかである。特に、この改良は、実質的に単純化され
た製造ステップを用いて達成された。（上述した形態の
いずれかによる）低抗体の端縁及び抵抗性の層は、もし
センサが不透明ならば、適したインクによるスクリーン
プリントにより一般に製造される。透明体のセンサに対
しては、抵抗性の層は、例えば透明体の基板上に設けた
半導体の金属酸化物にすることができる。抵抗体の端縁
は、この部分に透明体にする必要はないので、適当なイ
ンクを用いてスクリーンプリント法により設けられる。
不透明あるいは透明体のセンサにおいても、エッジに近
接した絶縁領域は、抵抗性のコーティング（不透明のセ
ンサに対して特に容易になされる）を設けるばかりでな
く、完全な表面にわたって抵抗性コーティングを設けた
後でこれらの領域を取り除くことにより形成されてもよ
い。更には、リード線は、スクリーン法による導電性材
料を設けることにより形成することもできる。
の湾曲を実質的に排除して最大の動作領域を達成するこ
とにより、位置検知デバイスが達成されるということが
明らかである。特に、この改良は、実質的に単純化され
た製造ステップを用いて達成された。（上述した形態の
いずれかによる）低抗体の端縁及び抵抗性の層は、もし
センサが不透明ならば、適したインクによるスクリーン
プリントにより一般に製造される。透明体のセンサに対
しては、抵抗性の層は、例えば透明体の基板上に設けた
半導体の金属酸化物にすることができる。抵抗体の端縁
は、この部分に透明体にする必要はないので、適当なイ
ンクを用いてスクリーンプリント法により設けられる。
不透明あるいは透明体のセンサにおいても、エッジに近
接した絶縁領域は、抵抗性のコーティング（不透明のセ
ンサに対して特に容易になされる）を設けるばかりでな
く、完全な表面にわたって抵抗性コーティングを設けた
後でこれらの領域を取り除くことにより形成されてもよ
い。更には、リード線は、スクリーン法による導電性材
料を設けることにより形成することもできる。
ここでは単に特定の実施例が述べられているが、しか
しながら、当業者に対しては、ここで開示された内容か
らこの発明による他の実施例を実現することは可能であ
ろう。例えば、絶縁領域は直線状の列に配列されたもの
が示されているが、特定の応用に対して望まれあるいは
必要とされる場合には、このような列による領域は、湾
曲状とすることができる。
しながら、当業者に対しては、ここで開示された内容か
らこの発明による他の実施例を実現することは可能であ
ろう。例えば、絶縁領域は直線状の列に配列されたもの
が示されているが、特定の応用に対して望まれあるいは
必要とされる場合には、このような列による領域は、湾
曲状とすることができる。
［発明の効果］ この発明によれば、センサの広い動作領域にわたって
等電位線がリニアに分布するようになるので、検知した
座標に対応する正確な電気信号が出力されるようにな
る。又、構成が簡単なため安価に製造することができ
る。
等電位線がリニアに分布するようになるので、検知した
座標に対応する正確な電気信号が出力されるようにな
る。又、構成が簡単なため安価に製造することができ
る。
第１図はこの発明により構成されたデバイスの分解図、
第２図は、この発明の１実施例を示す図であり、基板に
マウントされたデバイスとともに、抵抗性の層の表面領
域と、抵抗性エレメント及び接触シートのためのリード
線とを示す図、第３図は、特により大きいサイズ用セン
サとして、別の実施例における1/4部を示す部分平面図
である。 10……センサ、12……基板、14……上層表面、16……端
縁部材、18……抵抗性の層、20……コーナ、22……リー
ド線、24……抵抗性電極エレメント、26……絶縁領域、
27,30……コネクタ、28……ピックオフシート、32……
リード線、
第２図は、この発明の１実施例を示す図であり、基板に
マウントされたデバイスとともに、抵抗性の層の表面領
域と、抵抗性エレメント及び接触シートのためのリード
線とを示す図、第３図は、特により大きいサイズ用セン
サとして、別の実施例における1/4部を示す部分平面図
である。 10……センサ、12……基板、14……上層表面、16……端
縁部材、18……抵抗性の層、20……コーナ、22……リー
ド線、24……抵抗性電極エレメント、26……絶縁領域、
27,30……コネクタ、28……ピックオフシート、32……
リード線、
Claims (19)
- 【請求項１】（ａ）一面にわたって実質的に一様な抵抗
率を有する抵抗性の層と、 （ｂ）上記抵抗性の層に直交した電界を与えるため抵抗
性の層の各端縁に近接して位置する複数の部分からなる
抵抗性エレメントであって、抵抗性エレメントの各部分
は、（ｉ）その両端で隣接する部分の端と相互に接続さ
れ、そして（ii）上記抵抗性の層と電気的に接触してい
る抵抗性エレメントと、 （ｃ）上記抵抗性エレメントに近接した所定の経路に沿
って抵抗性の層の中に並べられた、所定の実効長を有す
る複数の不連続の絶縁領域であって、隣接する絶縁領域
の間に所定の実効長及び幅を有する間隔が区画され、上
記抵抗性の層の抵抗率により所定の抵抗値を有する抵抗
性電極エレメントが上記間隔において生じ、上記絶縁領
域の実効長及び上記抵抗性電極エレメントの抵抗値は、
抵抗性電極エレメントを通して抵抗性の層に上記直交し
た電界が導入されたとき上記抵抗性電極エレメントに沿
った電圧降下に対して補償して上記経路に沿って所定の
電位傾度が生じるよう選ばれる絶縁領域と、 （ｄ）上記抵抗性の層内のリニア出力の領域内の選択さ
れた点の座標に対応する出力信号を引き出す手段と を備えたことを特徴とするタッチセンサ。 - 【請求項２】上記抵抗性エレメントは、連続していて、
一定の抵抗率を有し、そして上記抵抗性の層の端縁部で
連続して接触状態である特許請求の範囲第１項記載のセ
ンサ。 - 【請求項３】前記信号を引き出すための上記手段は、上
記抵抗性の層の所定のポイントでの近接した状態を検知
するための容量性エレメントと、上記所定のポイントで
の上記容量性エレメントの結果を測定し上記出力信号を
出力するために上記抵抗エレメントの端部に接続された
回路とからなる特許請求の範囲第１項または第２項に記
載のセンサ。 - 【請求項４】出力信号を引き出すための上記手段は、上
記抵抗性の層の所定ポイントでの接触を検知するための
容量性エレメントと、上記所定のポイントでの上記容量
性エレメントの結果を測定し上記出力信号を出力するた
めに、前記容量性エレメントと抵抗性エレメントの端部
との間に接続された回路とからなる特許請求の範囲第１
項または第２項に記載のセンサ。 - 【請求項５】出力信号を引き出すための上記手段は、上
記抵抗性の層での所定のポイントにおける接触を検知す
るための抵抗性エレメントと、上記所定のポイントでの
上記抵抗エレメントの結果を測定し上記出力信号を出力
するために、前記抵抗性エレメントと前記抵抗性エレメ
ントの端部との間に接続された回路とからなる特許請求
の範囲第１項または第２項に記載のセンサ。 - 【請求項６】出力信号を引き出すための上記手段は、上
記抵抗性層内に直交した電界を生じさせるために上記抵
抗性エレメントの端部に接続された回路と、抵抗性の層
上の所定のポイントと接触して、該ポイントから電圧信
号を得るための導電手段とからなる特許請求の範囲第１
項または第２項に記載のセンサ。 - 【請求項７】上記導電手段は、上記抵抗性の層から一様
に隔てられた、導電性のフレキシブルのピックオフ・シ
ートであり、更に該ピックオフ・シートと上記抵抗性の
層との間で偶発的な接触を防止するが、上記所定のポイ
ントでの意図的な接触を許可する手段を含む特許請求の
範囲第６項記載のセンサ。 - 【請求項８】偶発的な接触を禁止する上記手段は、上記
抵抗性の層と上記導電性のフレキシブルのピックオフ・
シートとの間に位置する多数の絶縁性のドットである特
許請求の範囲第７項記載のセンサ。 - 【請求項９】上記絶縁領域の所定の実効長は、上記抵抗
性の層の各コーナーから抵抗性の層の端縁の中央部に向
かって減少し、そして、隣接する絶縁領域間の間隔の実
効長、及び上記絶縁領域は、上記抵抗性の層の各コーナ
ーから抵抗性の層の端縁の中央に向かって増大し、そし
て、上記絶縁領域のすべては、上記経路と直交した幅が
一定である特許請求の範囲第１項ないし第８項のいずれ
かの項に記載のセンサ。 - 【請求項１０】上記絶縁領域は、上記経路の所定部位に
沿って位置し、前記所定部位は、実質的に、上記抵抗性
の層の上記端縁上でコーナーに近い1/3の部位であり、
上記絶縁領域の上記所定の実効長は一定であり、上記絶
縁領域の間の上記スペースの上記実効長は一定であり、
上記絶縁領域は、上記経路と直交した一定の幅を有する
特許請求の範囲第１項ないし９項のいずれかの項に記載
のセンサ。 - 【請求項１１】抵抗性の層の各端縁は、およそ４インチ
であり、上記各絶縁領域の上記所定の実効長はおよそ0.
25インチであり、上記絶縁領域はおよそ0.05インチ幅で
あり、絶縁領域間の間隔における所定長はおよそ0.04イ
ンチであり、上記抵抗性の層の抵抗率は単位面積あたり
およそ10000オームであり、上記抵抗性エレメントは単
位面積あたりおよそ100オームの抵抗率を有する特許請
求の範囲第１項ないし10項のいずれかの項に記載のセン
サ。 - 【請求項１２】抵抗性の層の各端縁は、およそ12インチ
であり、上記各絶縁領域の上記所定の実効長は、上記抵
抗性の層の各コーナーに近い箇所のおよそ1.0インチか
ら、抵抗性の層の各端縁の中央部の0.2インチへと一様
に減少し、絶縁領域間の上記間隔の上記所定長は、上記
コーナーに近い箇所のおよそ0.025インチから、上記中
央部の0.8インチへと増大し、上記抵抗性の層は単位面
積あたりおよそ10000オームであり、上記抵抗性エレメ
ントの抵抗率は、単位面積あたりおよそ100アームであ
る特許請求の範囲第１項ないし10項のいずれかの項に記
載のセンサ。 - 【請求項１３】リニアな出力特性を有する動作領域を提
供するために、 （ａ）抵抗性の層は、実質的に一様な所定の抵抗率RLを
有する材料を含み、 （ｂ）連続している抵抗性エレメントは、実質的に一様
な抵抗率ＲEを有し、該抵抗率ＲEは前記抵抗率ＲLのお
よそ0.01倍であり、 （ｃ）不連続の複数の絶縁領域は、上記抵抗性材料を欠
いた部分であり、そして上記抵抗性の層内で、前記絶縁
領域が配列される所定の経路は、上記抵抗性エレメント
に近接し、かつ該抵抗性エレメントから上記動作領域に
向かう方向にあり、 （ｄ）出力信号を引き出すための手段は、上記直交電界
を発生させるための電圧手段と、上記抵抗性の層の上記
所定のポイントで接触させるための導電手段と、上記所
定のポイントの座標測定として該所定のポイントにおけ
る電界の電位を決定するために、上記導電手段と上記抵
抗性手段との間に接続される回路手段とを含む 特許請求の範囲第２項あるいは同項に従属するいずれか
の項に記載のタッチセンサ。 - 【請求項１４】上記絶縁領域の所定の幅は、およそ0.05
インチである特許請求の範囲第１項ないし13項のいずれ
かの項に記載のセンサ。 - 【請求項１５】上記絶縁領域は、実質的に長方形であ
り、そして介在する上記間隔は実質的に長方形である特
許請求の範囲第１項ないし14項のいずれかの項に記載の
センサ。 - 【請求項１６】上記センサからの出力信号を引き出すた
めの手段に更に含み、該出力信号は、リニアの出力特性
を有する上記動作領域内の抵抗性の層上の所定のポイン
トの座標に対応する特許請求の範囲第13項あるいは同項
に従属する他のいずれかの項に記載のセンサ。 - 【請求項１７】出力信号を引き出すための上記手段は、
上記抵抗性電極エレメントを通して電圧を印加して上記
抵抗性の層に直交した電界を生じさせるために、上記抵
抗性の層の各端縁に沿った上記抵抗性エレメントの端部
に接続される回路と、 上記抵抗性の層から一定の間隔で隔てられる導電性でフ
レキシブルのピックオフ・シートであって、上記抵抗性
の層上の上記所定のポイントでの意図的な接触により、
上記抵抗性の層内の上記直交電界に基づく、座標に対応
する電圧を検知するためのピックオフ・シートと、 上記ピックオフ・シートと上記抵抗性の層との間で偶発
的な接触を防止するが意図的な接触を許可するために、
上記抵抗性の層と上記ピックオフ・シートとの間に位置
する絶縁性のドットと、 更に、検知した電圧を測定し上記所定のポイントにおけ
る座標を引き出すために、ピックオフ・シートに接続さ
れる回路手段と、 を含む特許請求の範囲第16項に記載のセンサ。 - 【請求項１８】上記ピックオフ・シートと上記抵抗性の
層と間の接触ポイントの座標に対応する出力信号を引き
出すために、回路手段は、更に上記ピックオフ・シート
と上記抵抗性エレメントの端部との間に接続される特許
請求の範囲第17項に記載の位置検知のタッチセンサ。 - 【請求項１９】絶縁領域は、該絶縁領域間の間隔と間隔
との間隔はおよそ0.25インチであり、該間隔の長さはお
よそ0.04インチとなるよう経路に配列される特許請求の
範囲第１項ないし18項のいずれかの項に記載のセンサ。
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009265841A (ja) * | 2008-04-23 | 2009-11-12 | Fujitsu Component Ltd | 座標検出装置 |
| JP2009282558A (ja) * | 2008-05-19 | 2009-12-03 | Fujitsu Component Ltd | 座標検出装置の製造方法 |
Families Citing this family (43)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5041701A (en) * | 1988-03-15 | 1991-08-20 | Carroll Touch Incorporated | Edge linearization device for a contact input system |
| FR2645990A1 (fr) * | 1989-04-14 | 1990-10-19 | Telematique Videotex Francaise | Micro-ordinateur p ortatif a ecran-clavier tactile |
| US5332238A (en) * | 1991-07-30 | 1994-07-26 | Restaurant Technology, Inc. | Surface acoustic wave touchscreen sealing system |
| US5220136A (en) * | 1991-11-26 | 1993-06-15 | Elographics, Inc. | Contact touchscreen with an improved insulated spacer arrangement |
| US6476798B1 (en) | 1994-08-22 | 2002-11-05 | International Game Technology | Reduced noise touch screen apparatus and method |
| US5804773A (en) * | 1995-02-16 | 1998-09-08 | Elo Touchsystems, Inc. | Simplified touch screen with improved position accuracy |
| US5736688A (en) * | 1995-08-02 | 1998-04-07 | The Graphics Technology Company, Inc. | Curvilinear linearization device for touch systems |
| US5869790A (en) * | 1995-08-16 | 1999-02-09 | Alps Electric Co., Ltd. | Coordinate input apparatus having orthogonal electrodes on opposite surfaces of a dielectric substrate and through-hole connections and manufacturing method thereof |
| JP3607412B2 (ja) * | 1996-05-14 | 2005-01-05 | アルプス電気株式会社 | 座標入力装置の製造方法 |
| US5815141A (en) * | 1996-04-12 | 1998-09-29 | Elo Touch Systems, Inc. | Resistive touchscreen having multiple selectable regions for pressure discrimination |
| US6650319B1 (en) | 1996-10-29 | 2003-11-18 | Elo Touchsystems, Inc. | Touch screen based topological mapping with resistance framing design |
| US6163313A (en) * | 1997-12-12 | 2000-12-19 | Aroyan; James L. | Touch sensitive screen and method |
| US7834855B2 (en) | 2004-08-25 | 2010-11-16 | Apple Inc. | Wide touchpad on a portable computer |
| JP2003526143A (ja) | 1999-12-06 | 2003-09-02 | エロ・タッチシステムズ・インコーポレイテッド | 相対的に導電性のグリッドを用いる改良タッチ・スクリーン |
| US6593916B1 (en) | 2000-11-03 | 2003-07-15 | James L. Aroyan | Touchscreen having multiple parallel connections to each electrode in a series resistor chain on the periphery of the touch area |
| TW581971B (en) * | 2002-01-11 | 2004-04-01 | Eturbotouch Technology Inc | Method and apparatus for increasing detection accuracy of touch-controlled detector |
| US7180508B2 (en) * | 2002-09-17 | 2007-02-20 | Tyco Electronics Corporation | Dynamic corrections for a non-linear touchscreen |
| GB2404985A (en) * | 2003-08-13 | 2005-02-16 | Miontec Inc | Voltage compensated resistive touch panel |
| CN100334533C (zh) * | 2003-08-19 | 2007-08-29 | 理义科技股份有限公司 | 具电压补偿的电阻式触控面板 |
| US7339579B2 (en) * | 2003-12-15 | 2008-03-04 | 3M Innovative Properties Company | Wiring harness and touch sensor incorporating same |
| US7307624B2 (en) * | 2003-12-30 | 2007-12-11 | 3M Innovative Properties Company | Touch sensor with linearized response |
| US7227538B2 (en) * | 2004-02-25 | 2007-06-05 | 3M Innovative Properties Company | Touch sensor with linearized response |
| WO2006068782A2 (en) * | 2004-12-22 | 2006-06-29 | 3M Innovative Properties Company | Touch sensors incorporating capacitively coupled electrodes |
| JP4718920B2 (ja) * | 2005-07-13 | 2011-07-06 | 富士通コンポーネント株式会社 | 座標検出装置 |
| US20070126707A1 (en) * | 2005-12-02 | 2007-06-07 | Jones Terence A | Linearized touch sensor having protective coating |
| US9442600B2 (en) * | 2005-12-19 | 2016-09-13 | 3M Innovative Properties Company | Touch sensitive projection screen |
| US20070152983A1 (en) | 2005-12-30 | 2007-07-05 | Apple Computer, Inc. | Touch pad with symbols based on mode |
| US8022935B2 (en) | 2006-07-06 | 2011-09-20 | Apple Inc. | Capacitance sensing electrode with integrated I/O mechanism |
| US7973771B2 (en) * | 2007-04-12 | 2011-07-05 | 3M Innovative Properties Company | Touch sensor with electrode array |
| US20090174679A1 (en) | 2008-01-04 | 2009-07-09 | Wayne Carl Westerman | Selective Rejection of Touch Contacts in an Edge Region of a Touch Surface |
| US8169417B2 (en) * | 2008-01-21 | 2012-05-01 | Young Fast Optoelectronics Co. | Signal transfer assembly of touch panel |
| JP2009199145A (ja) * | 2008-02-19 | 2009-09-03 | Young Fast Optoelectronics Co Ltd | タッチパネルの信号伝導構造 |
| EP2247998B1 (en) * | 2008-02-28 | 2019-04-10 | New York University | Method and apparatus for providing input to a processor, and a sensor pad |
| GB2458464A (en) * | 2008-03-18 | 2009-09-23 | Young Fast Optoelectronics Co | Touch panel signal transfer assembly |
| FR2929022B1 (fr) * | 2008-03-20 | 2011-08-26 | Young Fast Optoelectronics Co | Ensemble de transfert de signaux pour un panneau tactile. |
| JP5086886B2 (ja) * | 2008-05-15 | 2012-11-28 | 富士通コンポーネント株式会社 | 座標検出装置の製造方法 |
| JP2009277047A (ja) * | 2008-05-15 | 2009-11-26 | Fujitsu Component Ltd | 座標検出装置 |
| US8294047B2 (en) | 2008-12-08 | 2012-10-23 | Apple Inc. | Selective input signal rejection and modification |
| TWI401588B (zh) * | 2008-12-26 | 2013-07-11 | Higgstec Inc | 具有平行電極結構之觸控面板 |
| US8599565B2 (en) * | 2009-04-21 | 2013-12-03 | Fujitsu Component Limited | Touchscreen panel, electronic apparatus and method of fabricating touchscreen panel |
| USD654213S1 (en) * | 2010-09-21 | 2012-02-14 | Sergey Nersesov | Lighting appliance |
| JP5757800B2 (ja) | 2011-06-24 | 2015-08-05 | 富士通コンポーネント株式会社 | タッチパネル |
| US11237687B2 (en) | 2019-01-25 | 2022-02-01 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Systems and methods for touch detection using electric field tomography through resistive sheet |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4079194A (en) * | 1976-08-09 | 1978-03-14 | Victor Kley | Graphical data entry pad |
| US4214122A (en) * | 1979-03-06 | 1980-07-22 | Kley, Fitting, Fitting, Nalley And Smith | Resistive planar graphical entry device |
| FR2523737B1 (fr) * | 1982-03-17 | 1985-09-06 | Electro Resistance | Dispositif electronique de guidage |
| US4622437A (en) * | 1984-11-29 | 1986-11-11 | Interaction Systems, Inc. | Method and apparatus for improved electronic touch mapping |
| US4661655B1 (en) * | 1984-12-24 | 1997-01-21 | Elographics Inc | Electrographic touch sensor and method of reducing bowed equipotential fields therein |
| US4649232A (en) * | 1985-06-07 | 1987-03-10 | Scriptel Corporation | Electrographic apparatus |
| US4665283A (en) * | 1985-11-01 | 1987-05-12 | Scriptel Corporation | Electrographic apparatus |
-
1986
- 1986-06-09 US US06/871,991 patent/US4797514A/en not_active Expired - Lifetime
-
1987
- 1987-06-05 EP EP87305020A patent/EP0249417B1/en not_active Expired
- 1987-06-05 DE DE8787305020T patent/DE3781938T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1987-06-08 JP JP62143023A patent/JP2595246B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009265841A (ja) * | 2008-04-23 | 2009-11-12 | Fujitsu Component Ltd | 座標検出装置 |
| US9256337B2 (en) | 2008-04-23 | 2016-02-09 | Fujitsu Component Limited | Coordinate detection apparatus |
| US9778809B2 (en) | 2008-04-23 | 2017-10-03 | Fujitsu Component Limited | Coordinate detection apparatus |
| JP2009282558A (ja) * | 2008-05-19 | 2009-12-03 | Fujitsu Component Ltd | 座標検出装置の製造方法 |
Also Published As
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| DE3781938T2 (de) | 1993-05-19 |
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