JP2853340B2 - 磁気ヘッド用非磁性セラミックス材料およびその製造方法 - Google Patents

磁気ヘッド用非磁性セラミックス材料およびその製造方法

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JP2853340B2 JP2406493A JP40649390A JP2853340B2 JP 2853340 B2 JP2853340 B2 JP 2853340B2 JP 2406493 A JP2406493 A JP 2406493A JP 40649390 A JP40649390 A JP 40649390A JP 2853340 B2 JP2853340 B2 JP 2853340B2
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  • Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
  • Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、フロッピーディスクヘ
ッド,ハードディスクヘッド等の各種磁気ヘッドの構成
に欠くことの出来ないスライダーまたはスペーサとして
使用される磁気ヘッド用非磁性セラミックス材料および
その製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、特に進歩が著しい磁気記録の高密
度化・高信頼性化に伴いスライダー材料としての非磁性
セラミックス材料に対しては、高緻密化が要請されてい
る。
【0003】ところで従来磁気ヘッドを製作する場合、
Mn−Znフェライトコアとスライダーをガラスで接着
する方法が一般的であり、スイラダーとの熱膨張係数の
違いに起因する接着時にコアクラック・コア歪みによる
磁気特性劣化防止のため、25〜350℃での熱膨張係
数110〜128(×10-7/℃)を有するCaTiO
3・SrTiO3を主成分とするチタニアを用いていた。
なお、このCaTiO 3とSrTiO3固溶体の組成と熱
膨張係数の関係については、特開昭52−30162号
公報において詳述されている。
【0004】しかしながらこのチタニアの常圧焼成にお
ける緻密化は不十分であり、高緻密化達成を優先させる
HIP焼成法を基本とする製法が用いられていた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】このような従来の非磁
性セラミックス材料では、HIP焼成法による場合、1
000Kg/cm2以上にも及ぶ高圧ガス下による焼成法で
あり、高圧ガスは加熱初期に充填されたAr等の還元性
ガスの加熱による高圧化によってえられる。すなわちH
IP焼成による緻密な焼結体は、まず一次焼成と呼ばれ
る常圧焼成によって作製されたある程度の緻密さを持つ
焼結体を準備し、次にこれをHIP焼成した後、さらに
酸化雰囲気で熱処理することで得られる。このようにH
IP焼成は、常圧焼成と比較し工程数が増し、また設備
は高温・高圧用となるため高価であり、高緻密化には有
利であるが、コスト高という課題があった。
【0006】本発明は上記課題を解決するもので、コス
ト的に有利な常圧焼成法による製造が可能な磁気ヘッド
用非磁性セラミックス材料およびその製造方法を提供す
ることを目的としている。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するために、添加物として五酸化燐(P25)と二酸化
シリコン(SiO2)を含有する組成物で、かつ前記P2
5のモル%をXとし、前記SiO2のmol%をYとし
たとき下記の割合 1.5≦X≦4 0<Y≦3 Y≦−2X+8 を満たして焼成形成された構成による。
【0008】
【作用】本発明は上記構成により(αCaTiO3−β
SrTiO3)−γTiO2 (α+β+γ=1、0.1
7≦α≦0.60、0.38≦β≦0.81、0≦γ≦
0.02)相当の、CaTiO3とSrTiO3の固溶体
とTiO2の混合相からなる主組成物の緻密化を、Si
2とP25の割合を適度な値に設定することによって
生じる焼成時の液相によって高めることが出来る。
【0009】
【実施例】以下、本発明の一実施例を(表1)〜(表
3)および図1を参照しながら説明する。
【0010】まずCaCO3・SrCO3・TiO2は市
販されている平均粒径0.5μm以下、純度99%以上
の粉末を用いた。SiO2は市販されている平均粒径
0.02μm以下、純度99.9%以上の粉末を用い
た。P(燐)化合物はH3PO4の1級試薬を用いた。試
料は(表1),(表2)に示す組成に秤量し、ボールミ
ルで水による湿式混合を6時間行った。
【0011】
【表1】
【0012】
【表2】
【0013】乾燥後不透明石英の角曹と電気炉を用い
て、(表1)に示す1050℃または1140℃の温度
および大気雰囲気中での6時間の仮焼を行った。なお
(表1)に示す試料NO1,NO21,NO22,NO
42,NO43,NO63の仮焼粉の組成が、次の(化
1)の反応式1),2),3)により磁気ヘッド用非磁
性セラミックス材料の主組成物組成となるのは、公知の
事実である。
【0014】
【化1】
【0015】また試料NO21,NO42,NO63の
仮焼粉をジェットミル粉砕機によって平均粒度0.5μ
m以下にまで粉砕し、この粉砕粉と添加物を用いて(表
2)に示す組成に秤量し、同様にボールミルで水による
湿式混合を6時間行い、乾燥後1140℃での同様な仮
焼を行った。
【0016】次にこの仮焼粉を、ボールミルでアニオン
分散剤とPVAバインダーと水により8時間粉砕し、遠
心噴霧タイプの造粒機にて乾燥・造粒を行った。さらに
この造粒粉を圧力1ton/cm2で成形し、温度134
0℃と1315℃で、酸素雰囲気・大気雰囲気中にて焼
成した。焼成は、管状炉中に大気・酸素ガスを循環させ
た雰囲気にて、昇温速度150℃/Hrで最高温度まで加
熱した後3時間保持し、降温速度200℃/Hr以下で1
00℃以下まで冷却するという方式をとった。
【0017】得られた試料の緻密化は、切り出した試料
の3μmダイヤモンド粉を用いた湿式ラップ仕上げの研
磨面における気孔の分布量より求めた気孔率により評価
した。試料の熱膨張係数は、示差膨張方式にて25〜3
50℃における平均線熱膨張係数より求めた。
【0018】得られた試料の、気孔率と熱膨張係数を
(表3)に示す。
【0019】
【表3】
【0020】同一組成の主組成物についての添加物の添
加割合例として、試料1〜20についての添加物の添加
割合を示す。(表1),(表2),(表3)および図1
の結果によれば、添加物SiO2,H3PO4と主組成物
CaCO3,SrCO3,TiO2を用いて酸素雰囲気,
大気雰囲気を用いれば、常圧焼成によっても非常に緻密
でかつ必要な熱膨張係数を有する焼結体をうることがで
きることは明らかである。また試料NO2〜NO6,N
O22〜NO27,NO44〜NO48においては液相
が少なく、NO18,NO20,NO39,NO41,
NO60,NO62においては過度の液相が存在した。
従って以上の結果より、本発明内の試料NO7〜NO1
7,NO19とNO28〜NO38とNO40およびN
O49とNO59とNO61においては適度な液相が生
成し酸素雰囲気常圧焼成により、必要な熱膨張係数を有
する緻密な焼結体をうることが出来ることがわかった。
また前記特開昭52−30162号公報より、CaTi
3とSrTiO3の固溶体の熱膨張係数が、30mol
%のCaTiO3と70mol%のSrTiO3という組
成において最大となることも分かっている。
【0021】従って、添加物P25の割合Xmol%と
SiO2の割合Ymol%について、X,Yを主組成物
組成100モル%に対する割合として、図1の斜線部を
表わす下記の式 1.5≦X≦4 0≦Y≦3 Y≦−2X+8 が満たされるとき、CaTiO3とSrTiO3の固溶体
およびTiO2の混合相から構成される主組成物におい
て、必要な熱膨張係数を有する緻密体を製造できること
は明らかである。
【0022】
【発明の効果】以上の実施例から明らかなように本発明
によれば、主組成物に対し、添加物として五酸化燐(P
25)と二酸化シリコン(SiO2)を含有する組成物
で、かつ前記P25のモル%をXとし、前記SiO2
mol%をYとしたとき下記の割合 1.5≦X≦4 0<Y≦3 Y≦−2X+8 を満たして焼成形成された構成によるので、コスト的に
有利な常圧焼成法で、必要な熱膨張係数を有する緻密な
磁気ヘッド用非磁性セラミックス材料およびその製造方
法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例の磁気ヘッド用非磁性セラミ
ックス材料の添加物SiO2とP25割合の関係を、組
成0.6CaTiO3−0.38SrTiO3−0.02
TiO2の主組成物を例にとって示した図

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 チタン酸カルシウム(CaTiO3)1
    7〜60mol%、チタン酸ストロンチウム(SrTi
    3)38〜81mol%、酸化チタン(TiO2)0〜
    2mol%でかつ前記三成分の合計が100mol%か
    らなる主組成物に対し、添加物として五酸化燐(P
    25)と二酸化シリコン(SiO2)を含有する組成物
    で、かつ前記P25のモル%をXとし、前記SiO2
    mol%をYとしたとき下記の割合 1.5≦X≦4 0<Y≦3 Y≦−2X+8 を満たして焼成形成されたことを特徴とする磁気ヘッド
    用非磁性セラミックス材料。
  2. 【請求項2】 組成物原料として、炭酸カルシユウム
    (CaCO3)と、炭酸ストロンチウム(SrCO3
    と、酸化チタン(TiO2)と、二酸化シリコン(Si
    2)と、燐(P)と酸素の化合物または燐(P)と酸
    素および水素の化合物との混合物を仮焼して得た組成物
    を用いることを特徴とする請求項1記載の磁気ヘッド用
    非磁性セラミックス材料の製造方法。
  3. 【請求項3】 常圧焼成雰囲気でかつ酸素雰囲気で焼成
    形成することを特徴とする請求項2記載の磁気ヘッド用
    非磁性セラミックス材料の製造方法。
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