JP2896112B2 - スクリーン印刷ステンシルの製造方法 - Google Patents
スクリーン印刷ステンシルの製造方法Info
- Publication number
- JP2896112B2 JP2896112B2 JP8015173A JP1517396A JP2896112B2 JP 2896112 B2 JP2896112 B2 JP 2896112B2 JP 8015173 A JP8015173 A JP 8015173A JP 1517396 A JP1517396 A JP 1517396A JP 2896112 B2 JP2896112 B2 JP 2896112B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- screen printing
- printing stencil
- photosensitive layer
- hollow cylinder
- manufacturing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 title claims abstract description 32
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 32
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 22
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 22
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 76
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 39
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 35
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 35
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 29
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 28
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 10
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 claims description 5
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 4
- 238000004040 coloring Methods 0.000 claims description 3
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 claims 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims 1
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 80
- 239000010408 film Substances 0.000 description 64
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 56
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 54
- 230000008569 process Effects 0.000 description 14
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 12
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 10
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 9
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 9
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 9
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 8
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 8
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 7
- 229910000480 nickel oxide Inorganic materials 0.000 description 7
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N oxonickel Chemical compound [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 6
- 230000009471 action Effects 0.000 description 5
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 5
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 5
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 5
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 4
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 3
- 238000011161 development Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 3
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 2
- GJIDOLBZYSCZRX-UHFFFAOYSA-N hydroxymethyl prop-2-enoate Chemical compound OCOC(=O)C=C GJIDOLBZYSCZRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 2
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 2
- 150000002815 nickel Chemical class 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 2
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 2
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 1,4a-dimethyl-7-propan-2-yl-2,3,4,4b,5,6,10,10a-octahydrophenanthrene-1-carboxylic acid Chemical compound C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005411 Van der Waals force Methods 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- -1 acrylic ester Chemical class 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000012822 chemical development Methods 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- KOMDZQSPRDYARS-UHFFFAOYSA-N cyclopenta-1,3-diene titanium Chemical compound [Ti].C1C=CC=C1.C1C=CC=C1 KOMDZQSPRDYARS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MKNXBRLZBFVUPV-UHFFFAOYSA-L cyclopenta-1,3-diene;dichlorotitanium Chemical compound Cl[Ti]Cl.C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 MKNXBRLZBFVUPV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- KTWOOEGAPBSYNW-UHFFFAOYSA-N ferrocene Chemical compound [Fe+2].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 KTWOOEGAPBSYNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 238000007646 gravure printing Methods 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 229940063557 methacrylate Drugs 0.000 description 1
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006552 photochemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 239000004753 textile Substances 0.000 description 1
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/12—Production of screen printing forms or similar printing forms, e.g. stencils
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C1/00—Forme preparation
- B41C1/14—Forme preparation for stencil-printing or silk-screen printing
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Printing Methods (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、スクリーン印刷ス
テンシルの製造方法に関する。
テンシルの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】スクリーン印刷ステンシルの製造方法
は、例えば、米国特許第5338627号に開示され
る。このスクリーン印刷ステンシルの製造方法は、円筒
基体の外面に少なくとも1層の感光層を適用する工程
と、所定のスクリーンパターンに従って前記感光層を前
記外面から取り去る工程と、感光層の取り去られた部分
に金属を充填して円筒スクリーンを形成する工程と、前
記円筒基体から円筒スクリーンを取り外す工程とを備え
る。
は、例えば、米国特許第5338627号に開示され
る。このスクリーン印刷ステンシルの製造方法は、円筒
基体の外面に少なくとも1層の感光層を適用する工程
と、所定のスクリーンパターンに従って前記感光層を前
記外面から取り去る工程と、感光層の取り去られた部分
に金属を充填して円筒スクリーンを形成する工程と、前
記円筒基体から円筒スクリーンを取り外す工程とを備え
る。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】前記従来の技術では、
円筒基体が中実のロール体に設計されていることから、
重量が重く扱いづらいという欠点を有する。
円筒基体が中実のロール体に設計されていることから、
重量が重く扱いづらいという欠点を有する。
【0004】本発明は、上記実情に鑑みてなされたもの
で、スクリーン印刷ステンシルの製作時に円筒形の精度
を失うことなく軽量の基体を用いることができるスクリ
ーン印刷ステンシルの製造方法を提供することを目的と
する。
で、スクリーン印刷ステンシルの製作時に円筒形の精度
を失うことなく軽量の基体を用いることができるスクリ
ーン印刷ステンシルの製造方法を提供することを目的と
する。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明によれば、中空円筒基体の外面に感光層を設
ける工程と、前記中空円筒基体の感光層に所定のスクリ
ーンパターンに従った光照射をする工程と、前記照射パ
ターンに従って前記感光層を前記中空円筒基体から取り
去る工程と、感光層の取り去られた部分に金属を充填し
て円筒スクリーンを形成する工程と、前記中空円筒基体
から形成した円筒スクリーンを取り外す工程とを備えた
スクリーン印刷ステンシルの製造方法であって、前記中
空円筒基体の感光層に光照射をする工程において、円形
断面を維持すべく前記中空円筒基体自体を圧力室として
中空円筒基体の少なくとも一端から加圧気体が導入され
ることを特徴とする。
に、本発明によれば、中空円筒基体の外面に感光層を設
ける工程と、前記中空円筒基体の感光層に所定のスクリ
ーンパターンに従った光照射をする工程と、前記照射パ
ターンに従って前記感光層を前記中空円筒基体から取り
去る工程と、感光層の取り去られた部分に金属を充填し
て円筒スクリーンを形成する工程と、前記中空円筒基体
から形成した円筒スクリーンを取り外す工程とを備えた
スクリーン印刷ステンシルの製造方法であって、前記中
空円筒基体の感光層に光照射をする工程において、円形
断面を維持すべく前記中空円筒基体自体を圧力室として
中空円筒基体の少なくとも一端から加圧気体が導入され
ることを特徴とする。
【0006】薄肉金属円筒体を回転させて観察したとこ
ろ、多かれ少なかれランダムに円筒体に生じる内部応力
にもかかわらず、適切な内部圧力を用いることによって
かなり高い精度で中空円筒体の断面を円形に形作ること
ができることが判明した。その結果、例えばレーザビー
ムを用いて中空円筒体に配置された感光層を露光してい
る間、中空円筒体が回転し、レーザビームが中空円筒体
の軸方向に移動する際でもレーザビーム焦点は常に感光
層の領域に維持されていた。すなわち、中空円筒体の形
状誤差は高い精度で補償され、優れたグラビア印刷結果
が得られた。
ろ、多かれ少なかれランダムに円筒体に生じる内部応力
にもかかわらず、適切な内部圧力を用いることによって
かなり高い精度で中空円筒体の断面を円形に形作ること
ができることが判明した。その結果、例えばレーザビー
ムを用いて中空円筒体に配置された感光層を露光してい
る間、中空円筒体が回転し、レーザビームが中空円筒体
の軸方向に移動する際でもレーザビーム焦点は常に感光
層の領域に維持されていた。すなわち、中空円筒体の形
状誤差は高い精度で補償され、優れたグラビア印刷結果
が得られた。
【0007】中空円筒体は中実円筒体に比べて比較的軽
量であることから、例えば、感光層を適用したり、その
感光層を露光したり、金属を適用して円筒スクリーンを
形成したりする際に、円筒体の位置決めや支持をより簡
単に行うことができる。その結果、円筒体が扱いやすく
なり、一層単純にスクリーン印刷ステンシルの製造方法
を実行することができるようになる。
量であることから、例えば、感光層を適用したり、その
感光層を露光したり、金属を適用して円筒スクリーンを
形成したりする際に、円筒体の位置決めや支持をより簡
単に行うことができる。その結果、円筒体が扱いやすく
なり、一層単純にスクリーン印刷ステンシルの製造方法
を実行することができるようになる。
【0008】中空円筒体の一端から気体を吹き込む場合
には、中空円筒体の他端を閉鎖してもよい。ただし、中
空円筒体の両端から気体を吹き込むこともできる。この
場合、加圧された空気が気体として用いられることが好
ましい。こういった加圧空気は、例えば、圧縮空気管回
路網から取り出されたり、円筒体の軸が回転機にクラン
プされる際に円筒体の軸に装着される軸流れ送風機を用
いて生成されたりする。
には、中空円筒体の他端を閉鎖してもよい。ただし、中
空円筒体の両端から気体を吹き込むこともできる。この
場合、加圧された空気が気体として用いられることが好
ましい。こういった加圧空気は、例えば、圧縮空気管回
路網から取り出されたり、円筒体の軸が回転機にクラン
プされる際に円筒体の軸に装着される軸流れ送風機を用
いて生成されたりする。
【0009】前述したように、レーザビームを用いて感
光層を露光することができる。このレーザビームは、感
光層に衝突し、中空円筒体がその軸回りで回転する際に
は、中空円筒体の軸方向に偏光される。この場合、中空
円筒体から感光層を取り去る際には、レーザ照射を用い
て感光層を部分的に焼き払う。この焼き払いのためにレ
ーザビーム焦点は合わされる。前記感光層は、1層に形
成されても2層に形成されてもよく、2層に形成した場
合には、その感光層は、基体の外面上に位置する接着補
強層と、この接着補強層上に位置する着色層とを備え
る。
光層を露光することができる。このレーザビームは、感
光層に衝突し、中空円筒体がその軸回りで回転する際に
は、中空円筒体の軸方向に偏光される。この場合、中空
円筒体から感光層を取り去る際には、レーザ照射を用い
て感光層を部分的に焼き払う。この焼き払いのためにレ
ーザビーム焦点は合わされる。前記感光層は、1層に形
成されても2層に形成されてもよく、2層に形成した場
合には、その感光層は、基体の外面上に位置する接着補
強層と、この接着補強層上に位置する着色層とを備え
る。
【0010】層は、アクリル酸エステル(acryla
te)樹脂およびメタクリル酸エステル(methac
rylate)樹脂や、エポキシ樹脂、不飽和ポリエス
テル樹脂(適用前または適用中に不飽和にされる)から
構成されることが好ましい。その際、共重合剤としてス
チレンを用いたり、共重合剤としてブタジエン樹脂およ
びスチレンを用いたり、橋かけポリウレタン樹脂(特に
接着促進層として)を用いたりすることができる。
te)樹脂およびメタクリル酸エステル(methac
rylate)樹脂や、エポキシ樹脂、不飽和ポリエス
テル樹脂(適用前または適用中に不飽和にされる)から
構成されることが好ましい。その際、共重合剤としてス
チレンを用いたり、共重合剤としてブタジエン樹脂およ
びスチレンを用いたり、橋かけポリウレタン樹脂(特に
接着促進層として)を用いたりすることができる。
【0011】上部樹脂層すなわち樹脂被覆層は、特に、
導入されるレーザ照射を良好に吸収する特性を有するこ
とが望ましく、金属製の基体に直接適用される接着促進
層は、金属製の中空円筒体に対して強く接着作用を及ぼ
すことが望ましい。一般に、液体状態、すなわち、橋か
け結合に先立って接着促進層の濡れ性が高ければ接着作
用が強くなるといわれている。この接着能力を向上させ
るには、例えば、表面張力を減少させる界面活性物質
(例えば、アルコール)を用いればよい。被覆層の接着
力は、機械的効果や物理化学的効果によってもたらされ
る。
導入されるレーザ照射を良好に吸収する特性を有するこ
とが望ましく、金属製の基体に直接適用される接着促進
層は、金属製の中空円筒体に対して強く接着作用を及ぼ
すことが望ましい。一般に、液体状態、すなわち、橋か
け結合に先立って接着促進層の濡れ性が高ければ接着作
用が強くなるといわれている。この接着能力を向上させ
るには、例えば、表面張力を減少させる界面活性物質
(例えば、アルコール)を用いればよい。被覆層の接着
力は、機械的効果や物理化学的効果によってもたらされ
る。
【0012】機械的効果はクランプ効果(ホック効果)
からなり、金属壁の表面荒さが貢献する。液状の接着促
進剤の表面張力が比較的低い場合には、接着促進剤が表
面荒さの奥深くまで浸透することができる。しかしなが
ら、これらの領域から残っている空気を完全に追い出す
ことは不可能である。
からなり、金属壁の表面荒さが貢献する。液状の接着促
進剤の表面張力が比較的低い場合には、接着促進剤が表
面荒さの奥深くまで浸透することができる。しかしなが
ら、これらの領域から残っている空気を完全に追い出す
ことは不可能である。
【0013】接着力の物理化学効果には、化学吸着や分
子間力(ファンデルワールス力)が含まれる。これらの
力は、実際に濡れている領域の広さに依存する。
子間力(ファンデルワールス力)が含まれる。これらの
力は、実際に濡れている領域の広さに依存する。
【0014】接着促進層は良好な濡れ性を有することが
望ましい。例えば、ポリウレタンはイソシアナート(D
esmodure)およびポリエステル(Desmop
hene)の付加重合生成物であって、特にイソシアナ
ートは物理化学的接着力成分を増強させる。
望ましい。例えば、ポリウレタンはイソシアナート(D
esmodure)およびポリエステル(Desmop
hene)の付加重合生成物であって、特にイソシアナ
ートは物理化学的接着力成分を増強させる。
【0015】2層構造の被覆層の高吸収性を向上させる
には、例えばカーボンブラックといった着色顔料を微細
分布に含ませればよい。レーザ照射は、複数回の跳ね返
りの結果として着色粒子の間で消え失せ、その結果、樹
脂層に直接に解放される熱エネルギに変換される。すな
わち、レーザ照射は分解されてしまうのである。したが
って、レーザ照射に対する樹脂基板の透過性が高くとも
問題にはならない。一般に被覆層は10〜20μmとい
った薄さに形成されることから、ある1つの層から解き
放された熱は対流によって他の層(例えば、接着促進
層)に運ばれるのである。
には、例えばカーボンブラックといった着色顔料を微細
分布に含ませればよい。レーザ照射は、複数回の跳ね返
りの結果として着色粒子の間で消え失せ、その結果、樹
脂層に直接に解放される熱エネルギに変換される。すな
わち、レーザ照射は分解されてしまうのである。したが
って、レーザ照射に対する樹脂基板の透過性が高くとも
問題にはならない。一般に被覆層は10〜20μmとい
った薄さに形成されることから、ある1つの層から解き
放された熱は対流によって他の層(例えば、接着促進
層)に運ばれるのである。
【0016】感光層を2層に分割することによって、後
続するプリント工程で作用する負荷に対して上部被覆層
を適応させることができるといった効果が生じる。被覆
層の樹脂ベース物質を選択する際には、プリント工程で
の機械的負荷や化学的負荷に抵抗する能力が念頭に置か
れる。例えば、二酸化ケイ素を大量に分散させて加える
ことによってすり減り抵抗を増加させることができると
いった具合である。接着促進層の選択にあたっては、金
属性シリンダに対して接着力が強いことが考慮される。
また、感光層を取り去るには、レーザ照射によって重合
された感光層を現像するといった手法を採用することも
できる。重合作用によって露光された感光層は硬化し、
その位置を維持する一方で、非露光部は現像工程におい
て除去される。
続するプリント工程で作用する負荷に対して上部被覆層
を適応させることができるといった効果が生じる。被覆
層の樹脂ベース物質を選択する際には、プリント工程で
の機械的負荷や化学的負荷に抵抗する能力が念頭に置か
れる。例えば、二酸化ケイ素を大量に分散させて加える
ことによってすり減り抵抗を増加させることができると
いった具合である。接着促進層の選択にあたっては、金
属性シリンダに対して接着力が強いことが考慮される。
また、感光層を取り去るには、レーザ照射によって重合
された感光層を現像するといった手法を採用することも
できる。重合作用によって露光された感光層は硬化し、
その位置を維持する一方で、非露光部は現像工程におい
て除去される。
【0017】さらに、本発明の改良によれば、重合可能
な感光層が用いられる。この感光層は、中空シリンダの
表面に位置する少なくとも1層の着色された第1樹脂層
と、この第1樹脂層の上に位置する透明かつ光増感性を
持った第2樹脂層とを有する。
な感光層が用いられる。この感光層は、中空シリンダの
表面に位置する少なくとも1層の着色された第1樹脂層
と、この第1樹脂層の上に位置する透明かつ光増感性を
持った第2樹脂層とを有する。
【0018】第1樹脂層は、エネルギ散逸によって光エ
ネルギを吸収する顔料を用いて着色される。こういった
顔料は、第1樹脂層に感光性を全く与えないか、与えた
としても非常に弱い感光性を与える。この第1樹脂層上
に形成される第2樹脂層は薄く、望ましくは非常に透明
に形成され、高い比率で光増感剤を含有する。続いて、
層形成された中空シリンダは、照射を用いてパターンに
沿って露光される。その照射には、光増感剤が反応する
波長のものが用いられる。この波長は、例えば、380
〜532nmの範囲に設定され、こういった波長を得る
ために適切なレーザが用いられる。いずれの樹脂層も平
均的に5〜10μmの厚さを有する。
ネルギを吸収する顔料を用いて着色される。こういった
顔料は、第1樹脂層に感光性を全く与えないか、与えた
としても非常に弱い感光性を与える。この第1樹脂層上
に形成される第2樹脂層は薄く、望ましくは非常に透明
に形成され、高い比率で光増感剤を含有する。続いて、
層形成された中空シリンダは、照射を用いてパターンに
沿って露光される。その照射には、光増感剤が反応する
波長のものが用いられる。この波長は、例えば、380
〜532nmの範囲に設定され、こういった波長を得る
ために適切なレーザが用いられる。いずれの樹脂層も平
均的に5〜10μmの厚さを有する。
【0019】こうした手法の利点として、不要な重合現
象を防止することが挙げられる。すなわち、中空シリン
ダの表面に存在する凸凹から反射または散乱される光に
よって最初に露光される樹脂層では、重合現象が防止さ
れるのである。したがって、比較的厚みのある層でも樹
脂構造を微細に構成することが可能となり、その結果、
後続する現像工程での分離現象が防止される。
象を防止することが挙げられる。すなわち、中空シリン
ダの表面に存在する凸凹から反射または散乱される光に
よって最初に露光される樹脂層では、重合現象が防止さ
れるのである。したがって、比較的厚みのある層でも樹
脂構造を微細に構成することが可能となり、その結果、
後続する現像工程での分離現象が防止される。
【0020】こういった層は、基本的な樹脂構造と、光
開始剤と、顔料着色料とから構成される。樹脂構造とし
ては、ヒドロキシメチルアクリル酸エステル(hydr
oxymethyl acrylate)や芳香族アク
リル酸エステル(aromatic acrylat
e)、メタクリル酸メチル(methylmethac
rylate)、ポリエポキシド(polyepoxi
de)といった化合物やこれらの共重合物が用いられ
る。
開始剤と、顔料着色料とから構成される。樹脂構造とし
ては、ヒドロキシメチルアクリル酸エステル(hydr
oxymethyl acrylate)や芳香族アク
リル酸エステル(aromatic acrylat
e)、メタクリル酸メチル(methylmethac
rylate)、ポリエポキシド(polyepoxi
de)といった化合物やこれらの共重合物が用いられ
る。
【0021】光増感剤または光開始剤として、例えばチ
タノセンジクロリド、μ−クロロビス−μ−メチレン化
チタン(μ−chlorobis−μ−methyle
netitanium)およびメチルトリスチタン(m
ethyltris titanium)といったチタ
ノセンやN−ビニルピロリドン、フェロセンあるいはこ
れらの混合物が用いられる。
タノセンジクロリド、μ−クロロビス−μ−メチレン化
チタン(μ−chlorobis−μ−methyle
netitanium)およびメチルトリスチタン(m
ethyltris titanium)といったチタ
ノセンやN−ビニルピロリドン、フェロセンあるいはこ
れらの混合物が用いられる。
【0022】着色料としては、よく知られている着色顔
料が用いられる。ただし、これらの顔料は非常に微細に
分布され(約1μmの粒子サイズ)樹脂物質内に存在
し、顔料同士の間に樹脂チャネルが形成される。かかる
構成によれば、光が反射する度に、エネルギ逸脱によっ
て光エネルギが部分的に吸収され、最終的に熱に変換さ
れる。この熱による温度上昇は、しかしながら、熱誘導
の橋かけ結合を開始させるほど高くはならない。
料が用いられる。ただし、これらの顔料は非常に微細に
分布され(約1μmの粒子サイズ)樹脂物質内に存在
し、顔料同士の間に樹脂チャネルが形成される。かかる
構成によれば、光が反射する度に、エネルギ逸脱によっ
て光エネルギが部分的に吸収され、最終的に熱に変換さ
れる。この熱による温度上昇は、しかしながら、熱誘導
の橋かけ結合を開始させるほど高くはならない。
【0023】第1樹脂層は、露光中に自由となる遊離基
を捕らえる物質を含むことが望ましい。これらの遊離基
が結果的に重合工程において用いられなければ、ある程
度輪郭線の幅が広がってしまうことを防止することがで
きる。
を捕らえる物質を含むことが望ましい。これらの遊離基
が結果的に重合工程において用いられなければ、ある程
度輪郭線の幅が広がってしまうことを防止することがで
きる。
【0024】さらに、本発明の改良によれば、スクリー
ン開口が次々と様々な間隔を持つように感光層は露光さ
れる。
ン開口が次々と様々な間隔を持つように感光層は露光さ
れる。
【0025】マトリックス製版の場合、すなわち、中空
シリンダおよび感光層からなるシステムによって製版を
行う場合、スクリーン開口同士の間隔を変化させること
によってハーフトーンを実現することができる。
シリンダおよび感光層からなるシステムによって製版を
行う場合、スクリーン開口同士の間隔を変化させること
によってハーフトーンを実現することができる。
【0026】ステンシル製版、すなわち、中空シリンダ
および感光層を備えるシステムでの製版では、ハーフト
ーンの手法を用いてスクリーン開口同士の間隔を様々な
距離に実現することができる。プリント板の使用時すな
わちプリント時に様々なインク強度が用いられるハーフ
トーンは、基本的に2つの異なる手法によって生成され
る。
および感光層を備えるシステムでの製版では、ハーフト
ーンの手法を用いてスクリーン開口同士の間隔を様々な
距離に実現することができる。プリント板の使用時すな
わちプリント時に様々なインク強度が用いられるハーフ
トーンは、基本的に2つの異なる手法によって生成され
る。
【0027】第1の手法では、異なるサイズのスクリー
ン開口がデザインされる。この手法が用いられるのは、
既にスクリーンが製作され、均一の大きさのスクリーン
開口が存在し、スクリーン開口同士が均一な間隔を持つ
場合である。この場合には、スクリーン開口がいったん
コーティングによって閉鎖され、このコーティングが任
意に除去される。例えば、一方のスクリーン開口群はレ
ーザによって露光され、他のスクリーン開口群は閉鎖状
態が保たれる。
ン開口がデザインされる。この手法が用いられるのは、
既にスクリーンが製作され、均一の大きさのスクリーン
開口が存在し、スクリーン開口同士が均一な間隔を持つ
場合である。この場合には、スクリーン開口がいったん
コーティングによって閉鎖され、このコーティングが任
意に除去される。例えば、一方のスクリーン開口群はレ
ーザによって露光され、他のスクリーン開口群は閉鎖状
態が保たれる。
【0028】第2の手法では、均一な大きさのスクリー
ン開口が様々な間隔で配置される。印刷したい基板に対
して少ないインクを適用したい場合には間隔を広げてい
くのである。
ン開口が様々な間隔で配置される。印刷したい基板に対
して少ないインクを適用したい場合には間隔を広げてい
くのである。
【0029】前述の第1の手法によれば、不均一なパタ
ーンや障害物が重ねられたパターンが生成されてしま
い、インクの一種の波紋パターンにつながってしまう。
一方、本発明に適用される第2の手法によれば、スクリ
ーン開口同士の間隔が変化させられるので、インクの重
ね合わせによって生成される混合色が一層均一に形成さ
れることとなる。
ーンや障害物が重ねられたパターンが生成されてしま
い、インクの一種の波紋パターンにつながってしまう。
一方、本発明に適用される第2の手法によれば、スクリ
ーン開口同士の間隔が変化させられるので、インクの重
ね合わせによって生成される混合色が一層均一に形成さ
れることとなる。
【0030】さらに、本発明の改良によれば、感光層の
取り去られた部分に金属を充填する際、基体を内側から
補強する。この補強は、例えば、基体の内部にホースを
導入することによって実現される。このホースは、例え
ばゴム材からなり、基体の内壁に接触する。このように
して、基体すなわち中空シリンダは丸く膨張させられる
と共に、金属を適用する際に作用する機械的な荷重にも
かかわらず安定した寸法状態を維持する。ホースに空気
を吹き込んで膨張させれば、補強作用を向上させること
ができる。
取り去られた部分に金属を充填する際、基体を内側から
補強する。この補強は、例えば、基体の内部にホースを
導入することによって実現される。このホースは、例え
ばゴム材からなり、基体の内壁に接触する。このように
して、基体すなわち中空シリンダは丸く膨張させられる
と共に、金属を適用する際に作用する機械的な荷重にも
かかわらず安定した寸法状態を維持する。ホースに空気
を吹き込んで膨張させれば、補強作用を向上させること
ができる。
【0031】金属としては、例えば、ニッケルが挙げら
れ、このニッケルは電気メッキによって適用されること
ができる。中空シリンダの内部からの補強によって、例
えば、電解質漕からの浮力はほとんど補償されることと
なる。
れ、このニッケルは電気メッキによって適用されること
ができる。中空シリンダの内部からの補強によって、例
えば、電解質漕からの浮力はほとんど補償されることと
なる。
【0032】さらに、中空シリンダを基体として用いる
ことによって、中空シリンダ上に形成された円筒スクリ
ーンを容易に取り外すこともできる。適切な丸い物体を
用いて円筒スクリーンを半径方向から内側に押せばよい
のである。押した位置にくぼみが形成され、その結果、
金属スクリーンおよび基体すなわち中空シリンダ間の接
着力を破壊する局部的な剪断応力が発生する。
ことによって、中空シリンダ上に形成された円筒スクリ
ーンを容易に取り外すこともできる。適切な丸い物体を
用いて円筒スクリーンを半径方向から内側に押せばよい
のである。押した位置にくぼみが形成され、その結果、
金属スクリーンおよび基体すなわち中空シリンダ間の接
着力を破壊する局部的な剪断応力が発生する。
【0033】
【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照しつつ本発
明の好適な実施形態を説明する。
明の好適な実施形態を説明する。
【0034】本発明によれば、まず、薄肉中空シリンダ
に1層以上の感光被覆層が設けられる。中空シリンダ
は、連続した外面を持つ薄い金属シートから構成され
る。中空シリンダの肉厚は0.1〜0.3mmの範囲に
収められる。中空シリンダの長さは数mに設定され、中
空シリンダの直径は数十cm程度に設定される。
に1層以上の感光被覆層が設けられる。中空シリンダ
は、連続した外面を持つ薄い金属シートから構成され
る。中空シリンダの肉厚は0.1〜0.3mmの範囲に
収められる。中空シリンダの長さは数mに設定され、中
空シリンダの直径は数十cm程度に設定される。
【0035】図1に示すように、中空シリンダ1の被覆
は、噴射ノズル2を用いて行うことができる。この場
合、噴射ノズル2から噴出された被覆は、微細化されて
噴霧3を形成し、中空シリンダ1の外面に堆積する。こ
の噴霧の堆積によって薄い被覆膜4が形成される。この
工程では、長手軸5回りで中空シリンダ1は回転し、噴
射ノズル2はその長手軸5に平行に低速で移動される。
図2には、環状の樋を用いて被覆層を中空シリンダに被
覆する場合が示される。環状樋6の内部には被覆乳濁液
7が配置される。シールリップ9がシール点8で環状樋
6をシールすることから、被覆乳濁液7が下方に漏れる
ことはない。環状樋6はゆっくりと矢印10の方向に沿
って下降される。その結果、中空シリンダ1の外面には
薄い被覆膜4が形成される。被覆膜4を一層薄く凝結さ
せるには、環状樋6を下降させる移動速度を低くすれば
よい。
は、噴射ノズル2を用いて行うことができる。この場
合、噴射ノズル2から噴出された被覆は、微細化されて
噴霧3を形成し、中空シリンダ1の外面に堆積する。こ
の噴霧の堆積によって薄い被覆膜4が形成される。この
工程では、長手軸5回りで中空シリンダ1は回転し、噴
射ノズル2はその長手軸5に平行に低速で移動される。
図2には、環状の樋を用いて被覆層を中空シリンダに被
覆する場合が示される。環状樋6の内部には被覆乳濁液
7が配置される。シールリップ9がシール点8で環状樋
6をシールすることから、被覆乳濁液7が下方に漏れる
ことはない。環状樋6はゆっくりと矢印10の方向に沿
って下降される。その結果、中空シリンダ1の外面には
薄い被覆膜4が形成される。被覆膜4を一層薄く凝結さ
せるには、環状樋6を下降させる移動速度を低くすれば
よい。
【0036】図3には、前述の被覆工程の結果が示され
る。この図3では、縮尺度が部分的に異なっている。中
空シリンダ1の外面には被覆膜4が支持される。その被
覆膜4の厚みは、中空シリンダ1の直径やその肉厚に対
して誇張されて描かれている。
る。この図3では、縮尺度が部分的に異なっている。中
空シリンダ1の外面には被覆膜4が支持される。その被
覆膜4の厚みは、中空シリンダ1の直径やその肉厚に対
して誇張されて描かれている。
【0037】図4には、図3に示される中空シリンダが
部分的に示される。感光性の被覆膜4は、光によって重
合される性能を有する。厳密にいえば、その光による重
合は、パターン条件に応じた露光に従って行われる。よ
り正確には、被覆膜4の露光部11では、構造変化が生
起される。一般に、被覆膜4内に存在する二重結合は露
光によって分解され、被覆膜や樹脂中に存在する鎖状分
子と反応する。樹脂中にも同様に分解された二重結合が
存在する。その結果、橋かけ結合が発生し、被覆膜4は
硬化される。また、この橋かけ結合によって高い化学抵
抗が達成される。この化学抵抗によって、後続する現像
工程において、露光されていない部分すなわち抵抗の低
い樹脂部分は被覆層4から分解される。
部分的に示される。感光性の被覆膜4は、光によって重
合される性能を有する。厳密にいえば、その光による重
合は、パターン条件に応じた露光に従って行われる。よ
り正確には、被覆膜4の露光部11では、構造変化が生
起される。一般に、被覆膜4内に存在する二重結合は露
光によって分解され、被覆膜や樹脂中に存在する鎖状分
子と反応する。樹脂中にも同様に分解された二重結合が
存在する。その結果、橋かけ結合が発生し、被覆膜4は
硬化される。また、この橋かけ結合によって高い化学抵
抗が達成される。この化学抵抗によって、後続する現像
工程において、露光されていない部分すなわち抵抗の低
い樹脂部分は被覆層4から分解される。
【0038】現像工程では、中空シリンダ1の外面に配
置されて露光された被覆膜4は、中空シリンダ1の全体
と共に、樋に満たされた現像媒体に浸される。被覆膜4
の非露光部12は光の効果によって橋かけ結合しておら
ず、現像媒体によって分解される。現像液としては、例
えば、炭酸ナトリウムや水酸化カリウム、水酸化ナトリ
ウムといったアルカリ溶液が用いられることが望まし
い。こういった現像工程では、現像したい被覆膜4の表
面に、使用されていない現像溶液をシャワー状にスプレ
ーする。この現像工程の間、被覆膜が形成された中空シ
リンダ1は長手軸5回りで回転し、中空シリンダ1は部
分的に現像液に浸される。
置されて露光された被覆膜4は、中空シリンダ1の全体
と共に、樋に満たされた現像媒体に浸される。被覆膜4
の非露光部12は光の効果によって橋かけ結合しておら
ず、現像媒体によって分解される。現像液としては、例
えば、炭酸ナトリウムや水酸化カリウム、水酸化ナトリ
ウムといったアルカリ溶液が用いられることが望まし
い。こういった現像工程では、現像したい被覆膜4の表
面に、使用されていない現像溶液をシャワー状にスプレ
ーする。この現像工程の間、被覆膜が形成された中空シ
リンダ1は長手軸5回りで回転し、中空シリンダ1は部
分的に現像液に浸される。
【0039】図5には、現像工程によって得られた結果
が示される。現像工程が終了すると、被覆膜4において
橋かけ結合した露光部11は中空シリンダ1の外面に残
存する。
が示される。現像工程が終了すると、被覆膜4において
橋かけ結合した露光部11は中空シリンダ1の外面に残
存する。
【0040】その他、単一の被覆膜4に代わって、2層
構造の被覆膜を用いることもできる。この場合には、中
空シリンダ1の外面には、より光吸収力の強い被覆膜4
aが直接に形成される。樹脂ベース化合物に光吸収顔料
を多量に加えることによってこの光吸収力が与えられ
る。この第1被覆膜4a上に、ほぼ透明であって多量の
増感剤を含んだ第2被覆膜4bが形成される。ただし、
橋かけ結合を引き起こす照射露光が樹脂材に捕らえられ
る光量に依存することから、この第2被覆膜4bを完全
に透明にすることはできない。このように光が捕らえら
れることによって、光化学反応が進行し、最終的に橋か
け結合を生起させることになる。こういった第1および
第2被覆膜4a、4bが適用される2層構造は、細かく
かつシャープな輪郭線を形成したい場合に特に有効であ
る。この2層構造では、下敷きとなる顔料入り被覆膜4
aによって、わずかに傷の付いた中空シリンダ1の金属
表面によって生じる光の拡散効果を防止することがで
き、したがって、輪郭線の広がりは生じない。この手法
で必要とされる2つの異なる被覆膜4a、4bは、図1
および図2に詳述される方法のいずれかによって次々に
形成される。いずれの方法においても一方の被覆膜が形
成される度にその被覆膜は乾燥される。こういった重合
可能な被覆膜を露光するにはレーザビームが用いられ
る。この場合、レーザビームの波長は、例えば、320
〜550nmの範囲に設定される。このレーザビームに
ついては後述される。
構造の被覆膜を用いることもできる。この場合には、中
空シリンダ1の外面には、より光吸収力の強い被覆膜4
aが直接に形成される。樹脂ベース化合物に光吸収顔料
を多量に加えることによってこの光吸収力が与えられ
る。この第1被覆膜4a上に、ほぼ透明であって多量の
増感剤を含んだ第2被覆膜4bが形成される。ただし、
橋かけ結合を引き起こす照射露光が樹脂材に捕らえられ
る光量に依存することから、この第2被覆膜4bを完全
に透明にすることはできない。このように光が捕らえら
れることによって、光化学反応が進行し、最終的に橋か
け結合を生起させることになる。こういった第1および
第2被覆膜4a、4bが適用される2層構造は、細かく
かつシャープな輪郭線を形成したい場合に特に有効であ
る。この2層構造では、下敷きとなる顔料入り被覆膜4
aによって、わずかに傷の付いた中空シリンダ1の金属
表面によって生じる光の拡散効果を防止することがで
き、したがって、輪郭線の広がりは生じない。この手法
で必要とされる2つの異なる被覆膜4a、4bは、図1
および図2に詳述される方法のいずれかによって次々に
形成される。いずれの方法においても一方の被覆膜が形
成される度にその被覆膜は乾燥される。こういった重合
可能な被覆膜を露光するにはレーザビームが用いられ
る。この場合、レーザビームの波長は、例えば、320
〜550nmの範囲に設定される。このレーザビームに
ついては後述される。
【0041】しかしながら、図6に示すように、この露
光工程を実行するにあたって、熱消去やリトグラフ消去
を用いて、被覆膜4の露光部13は直接に取り去られた
り、焼き払われたりしてもよい。この場合、レーザビー
ムには高い照射パワーが必要とされるが、環境的に影響
の大きい化学的な現像工程を不要にすることができる。
光工程を実行するにあたって、熱消去やリトグラフ消去
を用いて、被覆膜4の露光部13は直接に取り去られた
り、焼き払われたりしてもよい。この場合、レーザビー
ムには高い照射パワーが必要とされるが、環境的に影響
の大きい化学的な現像工程を不要にすることができる。
【0042】続いて、中空シリンダ1に残存する樹脂被
覆膜4に対して熱硬化処理が行われる。こういった被覆
膜4は図5および図6に示される。140〜160℃程
度の温度で焼き付けあるいは焼き入れを行うことによっ
て、中空シリンダ1に残存する樹脂中に存在する全ての
二重結合に対して橋かけ結合が生じ、この熱硬化処理に
よって後続する処理工程でよい結果が得られることとな
る。
覆膜4に対して熱硬化処理が行われる。こういった被覆
膜4は図5および図6に示される。140〜160℃程
度の温度で焼き付けあるいは焼き入れを行うことによっ
て、中空シリンダ1に残存する樹脂中に存在する全ての
二重結合に対して橋かけ結合が生じ、この熱硬化処理に
よって後続する処理工程でよい結果が得られることとな
る。
【0043】この後続する処理は図7に概略的に示され
る。このニッケル形成処理は、電気メッキや化学的ニッ
ケル漕を通じて行われる。ニッケルは、橋かけ結合した
被覆膜4の間で露出されている中空シリンダ1の金属面
に蒸着する。こうしてウェブ15とスクリーン開口16
とを備えるニッケルスクリーン14が形成される。
る。このニッケル形成処理は、電気メッキや化学的ニッ
ケル漕を通じて行われる。ニッケルは、橋かけ結合した
被覆膜4の間で露出されている中空シリンダ1の金属面
に蒸着する。こうしてウェブ15とスクリーン開口16
とを備えるニッケルスクリーン14が形成される。
【0044】前述した焼き付けや焼き入れの結果、残存
する被覆膜4には化学薬品に対する抵抗が付与され、漕
液内での膨潤が抑制されることとなる。特に、電気メッ
キを用いてニッケルを形成する場合には、化学薬品に対
して十分な抵抗を持たない膜に対して、膨潤が生じるこ
とがある。この膨潤の結果、残存する被覆膜を電流が通
過してしまい、ニッケルのビードが成長してウェブ15
同士を接続し、最終的にスクリーン開口16を塞いでし
まう。
する被覆膜4には化学薬品に対する抵抗が付与され、漕
液内での膨潤が抑制されることとなる。特に、電気メッ
キを用いてニッケルを形成する場合には、化学薬品に対
して十分な抵抗を持たない膜に対して、膨潤が生じるこ
とがある。この膨潤の結果、残存する被覆膜を電流が通
過してしまい、ニッケルのビードが成長してウェブ15
同士を接続し、最終的にスクリーン開口16を塞いでし
まう。
【0045】図7に従って中空シリンダ1にニッケルス
クリーン14が形成されると、このニッケルスクリーン
14は中空シリンダ1から取り外される。取り外された
ニッケルスクリーン14は、スクリーン印刷ステンシル
として、例えば織物印刷に用いられる。ニッケルスクリ
ーン14に均一に穴が開けられている限り、このニッケ
ルスクリーン14に再度被覆膜を施して、パターンに従
ってニッケルスクリーン14の開口を露光することもで
きる。
クリーン14が形成されると、このニッケルスクリーン
14は中空シリンダ1から取り外される。取り外された
ニッケルスクリーン14は、スクリーン印刷ステンシル
として、例えば織物印刷に用いられる。ニッケルスクリ
ーン14に均一に穴が開けられている限り、このニッケ
ルスクリーン14に再度被覆膜を施して、パターンに従
ってニッケルスクリーン14の開口を露光することもで
きる。
【0046】次に、図8を参照し、被覆膜4が形成され
た中空シリンダ1を如何に扱えば図5および図6に示さ
れる構造が得られるかを詳述する。感光性の被覆膜4を
備える中空シリンダ1は、円錐形に形成された一対の支
持部材を通じて、回転式製版機にその両端を支持され
る。レーザビームを用いて、感光性の被覆膜には、図5
および図6に示す構造を備えるパターンイメージが形成
される。
た中空シリンダ1を如何に扱えば図5および図6に示さ
れる構造が得られるかを詳述する。感光性の被覆膜4を
備える中空シリンダ1は、円錐形に形成された一対の支
持部材を通じて、回転式製版機にその両端を支持され
る。レーザビームを用いて、感光性の被覆膜には、図5
および図6に示す構造を備えるパターンイメージが形成
される。
【0047】レーザビームを用いて被覆膜4自体を焼き
払いたい場合は、波長長さ10.6μmのCO2 ガスレ
ーザが用いられる。前述した橋かけ結合を採用する場合
には、波長長さ320〜550nmのレーザが用いられ
る。
払いたい場合は、波長長さ10.6μmのCO2 ガスレ
ーザが用いられる。前述した橋かけ結合を採用する場合
には、波長長さ320〜550nmのレーザが用いられ
る。
【0048】加えて、中空シリンダ1に円形断面を持た
せるために、中空シリンダ1の内部には空気やその他の
適切な作動ガスが吹き込まれる。この気体の吹き込みに
よって、露光工程や製版工程の間、中空シリンダ1は常
に可能な限り均一な円形に保たれる。そのために、中空
シリンダ1の内部では均一なガス圧力が保持される。
せるために、中空シリンダ1の内部には空気やその他の
適切な作動ガスが吹き込まれる。この気体の吹き込みに
よって、露光工程や製版工程の間、中空シリンダ1は常
に可能な限り均一な円形に保たれる。そのために、中空
シリンダ1の内部では均一なガス圧力が保持される。
【0049】図8には、中空シリンダを露光する露光装
置の全体構成が示される。中空シリンダ1には、図3を
用いて既に詳述した被覆膜4がその外面に支持されてい
る。中空シリンダ1は、完全に閉鎖された表面を備える
薄肉の金属製シリンダから構成される。この中空シリン
ダを製造するにあたって発生する少数のボアについては
議論しない。
置の全体構成が示される。中空シリンダ1には、図3を
用いて既に詳述した被覆膜4がその外面に支持されてい
る。中空シリンダ1は、完全に閉鎖された表面を備える
薄肉の金属製シリンダから構成される。この中空シリン
ダを製造するにあたって発生する少数のボアについては
議論しない。
【0050】中空シリンダ1は2つの開口端を通じて支
持される。すなわち、支持コーン17が中空シリンダ1
の心押し台側端部に係合し、支持コーン18はシリンダ
1の主軸台側端部に係合する。主軸台19には、中空シ
リンダ1に回転動作を与える回転駆動機が設けられる。
しかも、主軸側端部では、支持コーン18によって可能
な限り気密に中空シリンダ1の開口端が閉塞される。空
気は、心押し台21の中空軸20を通じて中空シリンダ
1の内部に導入される。空気の圧力は、周囲の圧力に対
して適度に上昇させられている。この空気を送り込むに
は、例えば、円心型送風機22が設けられる。この円心
型送風機22によって、圧縮空気は空気ライン23を通
じて中空軸20に供給される。
持される。すなわち、支持コーン17が中空シリンダ1
の心押し台側端部に係合し、支持コーン18はシリンダ
1の主軸台側端部に係合する。主軸台19には、中空シ
リンダ1に回転動作を与える回転駆動機が設けられる。
しかも、主軸側端部では、支持コーン18によって可能
な限り気密に中空シリンダ1の開口端が閉塞される。空
気は、心押し台21の中空軸20を通じて中空シリンダ
1の内部に導入される。空気の圧力は、周囲の圧力に対
して適度に上昇させられている。この空気を送り込むに
は、例えば、円心型送風機22が設けられる。この円心
型送風機22によって、圧縮空気は空気ライン23を通
じて中空軸20に供給される。
【0051】キャリッジ24は、中空シリンダ1が回転
している間、中空シリンダ1の長手軸5の方向に移動す
る。キャリッジ24上には固体レーザ25が設置され、
この固体レーザ25はキャリッジ24と共に移動しなが
らパターン情報に従ってオンオフ制御される。この場
合、固体レーザ25からのレーザビームは、キャリッジ
24に搭載された偏光ミラー26によって偏光される。
この偏光によって、レーザビームは、中空シリンダ1の
半径方向から中空シリンダ1の表面に突き当たる。キャ
リッジ24を駆動するスピンドル27は、ステップモー
タ28にフランジ結合される。ガイド29の案内によっ
て、キャリッジ24の正確な水平方向移動が補償され
る。これらガイド29は、マシンヘッド30にしっかり
と固定され、中空シリンダ1の長手方向5に平行に移動
する。
している間、中空シリンダ1の長手軸5の方向に移動す
る。キャリッジ24上には固体レーザ25が設置され、
この固体レーザ25はキャリッジ24と共に移動しなが
らパターン情報に従ってオンオフ制御される。この場
合、固体レーザ25からのレーザビームは、キャリッジ
24に搭載された偏光ミラー26によって偏光される。
この偏光によって、レーザビームは、中空シリンダ1の
半径方向から中空シリンダ1の表面に突き当たる。キャ
リッジ24を駆動するスピンドル27は、ステップモー
タ28にフランジ結合される。ガイド29の案内によっ
て、キャリッジ24の正確な水平方向移動が補償され
る。これらガイド29は、マシンヘッド30にしっかり
と固定され、中空シリンダ1の長手方向5に平行に移動
する。
【0052】脚31上に配設されたマシンヘッド30に
は、心押し台21および主軸台19が支持される。心押
し台21は、中空シリンダ1の長手方向に変位すること
ができる。この変位を実現するために、心押し台21
は、マシンヘッド30に固着されたガイド32上に配置
される。その結果、中空シリンダ1の長さに応じて心押
し台21の位置を調整することができ、加えて、中空シ
リンダ1を交換する際に中空シリンダ1から心押し台2
1を引き離すことができる。心押し台21が引き離され
れば、したがって、中空シリンダ1をマシンから後方に
単に引き抜くことができる。
は、心押し台21および主軸台19が支持される。心押
し台21は、中空シリンダ1の長手方向に変位すること
ができる。この変位を実現するために、心押し台21
は、マシンヘッド30に固着されたガイド32上に配置
される。その結果、中空シリンダ1の長さに応じて心押
し台21の位置を調整することができ、加えて、中空シ
リンダ1を交換する際に中空シリンダ1から心押し台2
1を引き離すことができる。心押し台21が引き離され
れば、したがって、中空シリンダ1をマシンから後方に
単に引き抜くことができる。
【0053】角度伝達機(エンコーダ)33は、データ
ライン35を通じてコンピュータ34に中空シリンダ1
の角位置を供給する。コンピュータ34は、図示しない
制御ユニットを通じて、ライン36からステップモータ
28にステップパルスを伝達する。固体レーザ25に
は、ライン37を通じてコンピュータ34からオンオフ
指令が伝達される。
ライン35を通じてコンピュータ34に中空シリンダ1
の角位置を供給する。コンピュータ34は、図示しない
制御ユニットを通じて、ライン36からステップモータ
28にステップパルスを伝達する。固体レーザ25に
は、ライン37を通じてコンピュータ34からオンオフ
指令が伝達される。
【0054】図8に示す装置に中空シリンダ1がクラン
プされると、曲げモーメントがマシンヘッド30に作用
する。この曲げモーメントは、心押し台21および主軸
台19に作用する全圧力と、中空シリンダ1の回転軸5
およびマシンヘッド30の重心軸間の距離との積によっ
て表される。この曲げモーメントによって、主軸台19
および心押し台21間の領域では、マシンヘッド30が
中空シリンダ1に向かって湾曲する。
プされると、曲げモーメントがマシンヘッド30に作用
する。この曲げモーメントは、心押し台21および主軸
台19に作用する全圧力と、中空シリンダ1の回転軸5
およびマシンヘッド30の重心軸間の距離との積によっ
て表される。この曲げモーメントによって、主軸台19
および心押し台21間の領域では、マシンヘッド30が
中空シリンダ1に向かって湾曲する。
【0055】こういった変形は、製版機の全体寸法に対
して非常に小さいものではあるが、マシンヘッド30に
設置されて製版キャリッジ24を案内するガイド29
が、中空シリンダ1の回転軸すなわち中空シリンダ1の
母線に対して湾曲してしまう。その湾曲の大きさは、特
に、精密な製版を行っている場合に顕著に観られること
がある。
して非常に小さいものではあるが、マシンヘッド30に
設置されて製版キャリッジ24を案内するガイド29
が、中空シリンダ1の回転軸すなわち中空シリンダ1の
母線に対して湾曲してしまう。その湾曲の大きさは、特
に、精密な製版を行っている場合に顕著に観られること
がある。
【0056】このような湾曲の効果に対抗するために、
中空シリンダ1の内部には、シールピストン38が装着
される。このシールピストン38は中空シリンダ1の軸
方向に移動することができる。このようにシールピスト
ン38を中空シリンダ1に装着すれば、シールピストン
38が内壁をシールし、そのシールピストンが受ける圧
力を紐といったストランド要素によって心押し台21に
伝達することができる。この圧力の伝達作用によって、
もはやマシンヘッド32には曲げモーメントは作用しな
い。ストランド要素内の力は、張力として心押し台21
に作用する。その張力の大きさは、心押し台21に作用
する全圧力に相当し、張力の向きは、心押し台21に作
用する全圧力の方向と逆向きとなる。ここで重要なの
は、このストランド要素を通じて心押し台21には反力
が伝達されないことである。この反力を伝達させないた
めに、ストランド要素は少なくとも中空シリンダ1の回
転軸5に沿って設置される。場合によっては、第1およ
び第2偏向ローラにそのストランド要素を案内させても
よく、例えば、紐用ドラムに巻き付けたり、紐用ドラム
からの巻きを解いたりすることができる。ただし、スト
ランド要素の経路が回転軸5の位置からいくらか離れて
いてもよい。その離隔は、デザインとマシンヘッド30
の剛性との関係に依存することとなる。このような離隔
が許されるのは、製版イメージにおいてマシンヘッド3
0の湾曲が目立つのがその湾曲が任意の閾値を超えた場
合だけであるからである。
中空シリンダ1の内部には、シールピストン38が装着
される。このシールピストン38は中空シリンダ1の軸
方向に移動することができる。このようにシールピスト
ン38を中空シリンダ1に装着すれば、シールピストン
38が内壁をシールし、そのシールピストンが受ける圧
力を紐といったストランド要素によって心押し台21に
伝達することができる。この圧力の伝達作用によって、
もはやマシンヘッド32には曲げモーメントは作用しな
い。ストランド要素内の力は、張力として心押し台21
に作用する。その張力の大きさは、心押し台21に作用
する全圧力に相当し、張力の向きは、心押し台21に作
用する全圧力の方向と逆向きとなる。ここで重要なの
は、このストランド要素を通じて心押し台21には反力
が伝達されないことである。この反力を伝達させないた
めに、ストランド要素は少なくとも中空シリンダ1の回
転軸5に沿って設置される。場合によっては、第1およ
び第2偏向ローラにそのストランド要素を案内させても
よく、例えば、紐用ドラムに巻き付けたり、紐用ドラム
からの巻きを解いたりすることができる。ただし、スト
ランド要素の経路が回転軸5の位置からいくらか離れて
いてもよい。その離隔は、デザインとマシンヘッド30
の剛性との関係に依存することとなる。このような離隔
が許されるのは、製版イメージにおいてマシンヘッド3
0の湾曲が目立つのがその湾曲が任意の閾値を超えた場
合だけであるからである。
【0057】シールピストン38は、支持コーン18に
できるだけ近づくように駆動される。ただし、シールピ
ストン38は、支持コーン18に接触はしない。中空シ
リンダ1に吹き込まれる空気によって、シールピストン
38は支持コーン18に向かって移動する。製版作業が
終了すると、シールピストン38はストランド要素の働
きによって支持コーン17に向かって引っ張られる。シ
ールピストン38が支持コーン17に受けとめられるこ
とから支持コーン17からシールピストン38を落下さ
せることなく製版機から中空シリンダ1を取り外すこと
ができる。
できるだけ近づくように駆動される。ただし、シールピ
ストン38は、支持コーン18に接触はしない。中空シ
リンダ1に吹き込まれる空気によって、シールピストン
38は支持コーン18に向かって移動する。製版作業が
終了すると、シールピストン38はストランド要素の働
きによって支持コーン17に向かって引っ張られる。シ
ールピストン38が支持コーン17に受けとめられるこ
とから支持コーン17からシールピストン38を落下さ
せることなく製版機から中空シリンダ1を取り外すこと
ができる。
【0058】シールピストン38は、例えば、ボールベ
アリングを通じて中央張力アンカに支持されてもよい。
かかる支持構造によれば、中空シリンダ1が回転する
と、その回転に伴ってシールピストン38は、張力アン
カ回りで回転する。この張力アンカはストランド要素ま
たは紐に結合され、同時に、この張力アンカによってシ
ールピストン38は中空シリンダ1の軸方向に沿って駆
動される。
アリングを通じて中央張力アンカに支持されてもよい。
かかる支持構造によれば、中空シリンダ1が回転する
と、その回転に伴ってシールピストン38は、張力アン
カ回りで回転する。この張力アンカはストランド要素ま
たは紐に結合され、同時に、この張力アンカによってシ
ールピストン38は中空シリンダ1の軸方向に沿って駆
動される。
【0059】図8に示す装置の働きによって製版工程が
完了すると、前述した現像工程が行われ、図5および図
6に示す構造が得られる。この現像工程に続いて、スク
リーンの形成と、図9〜図11に従った中空シリンダか
らのスクリーンの取り外しが行われる。
完了すると、前述した現像工程が行われ、図5および図
6に示す構造が得られる。この現像工程に続いて、スク
リーンの形成と、図9〜図11に従った中空シリンダか
らのスクリーンの取り外しが行われる。
【0060】中空シリンダ1上の感光被覆膜4(フォト
レジスト層)の露光および現像が終了すると、中空シリ
ンダ1の外面には被覆膜の小さな点から構成されるパタ
ーンイメージが形成されている。この被覆膜は、水に対
して抵抗があり、ある程度は化学薬品に対して抵抗があ
ることから、後続する処理工程によっても被覆膜は残存
することとなる。この後続する処理工程では、酸性より
の塩化ニッケル電解質や硫酸化ニッケル電解質の中で表
面に純粋なニッケルが電気メッキされる。この処理工程
の中で、被覆膜の点は中空シリンダ1の表面から分離す
ることはない。この場合、電解質のpH値は3〜4の値
に設定される。また電解質の温度は40〜60℃の間に
設定される。被覆膜が、ほとんどアクリル酸エステルと
いった合成樹脂によって構成され、電解質の作用中であ
っても絶縁性を維持する必要がある。
レジスト層)の露光および現像が終了すると、中空シリ
ンダ1の外面には被覆膜の小さな点から構成されるパタ
ーンイメージが形成されている。この被覆膜は、水に対
して抵抗があり、ある程度は化学薬品に対して抵抗があ
ることから、後続する処理工程によっても被覆膜は残存
することとなる。この後続する処理工程では、酸性より
の塩化ニッケル電解質や硫酸化ニッケル電解質の中で表
面に純粋なニッケルが電気メッキされる。この処理工程
の中で、被覆膜の点は中空シリンダ1の表面から分離す
ることはない。この場合、電解質のpH値は3〜4の値
に設定される。また電解質の温度は40〜60℃の間に
設定される。被覆膜が、ほとんどアクリル酸エステルと
いった合成樹脂によって構成され、電解質の作用中であ
っても絶縁性を維持する必要がある。
【0061】図9には、電気メッキ漕の中でニッケルを
形成するニッケル形成工程が示される。電解質39に
は、薄肉の中空シリンダ1が部分的に浸されている。こ
の電解質39は、絶縁性プラスティックからなる樋40
の中に配設される。中空シリンダ1の内部には、肉厚3
〜4mmのゴムホース41が配置される。このゴムホー
ス41は1〜2barの圧縮空気によって満たされてい
る。この圧縮空気の働きによって、中空シリンダ1はほ
ぼその丸い形状を維持するだけでなく、電解質漕からの
浮力である加重が作用しても、寸法的に安定を維持す
る。通常、中空シリンダ1の直径は200〜350mm
程度に設定され、中空シリンダ1の長さは2000〜4
000mmの範囲に設定される。電解質に対して浸され
る中空シリンダの深さは、常に、中空シリンダ1の湾曲
が2、30mmを超えないように設定される。アノード
かご42によって、+20v〜+40vの直流電流が供
給され、その一方で中空シリンダ1は図示しないスリッ
プリング接点を介してゼロ電位に接続される。アノード
かご42の内部にはニッケルの塊が配置され、このニッ
ケルの塊は、印加される電圧によって電解質に融解す
る。同時に、カソードとして接続された中空シリンダの
表面にはニッケルが蒸着される。ニッケル形成工程の間
装置全体はリッド43によって覆われ、その結果、漕の
中に埃などが侵入することはなく、内部の蒸気が漏れ出
すこともない。電解質39が常に均一な濃度を保ち、形
成された水素の泡が中空シリンダ1の表面にこびりつか
ないように、管44を通じて樋40底面から空気が吹き
込まれる。加えて、中空シリンダ1は矢印45の方向に
回転されることから、中空シリンダの表面には純粋なニ
ッケルの均一な薄膜が形成される。すなわち、その薄膜
は被覆膜によって覆われていない中空シリンダの表面に
形成される。被覆膜によって覆われた点では、小さなス
クリーン開口が維持される。先立つ処理工程において、
被覆膜が小さな絶縁性の点として形成されていたからで
ある。0.1mm程度の厚さの純粋なニッケル膜46が
成長した時点で中空シリンダ1は漕から持ち上げられて
外に出される。
形成するニッケル形成工程が示される。電解質39に
は、薄肉の中空シリンダ1が部分的に浸されている。こ
の電解質39は、絶縁性プラスティックからなる樋40
の中に配設される。中空シリンダ1の内部には、肉厚3
〜4mmのゴムホース41が配置される。このゴムホー
ス41は1〜2barの圧縮空気によって満たされてい
る。この圧縮空気の働きによって、中空シリンダ1はほ
ぼその丸い形状を維持するだけでなく、電解質漕からの
浮力である加重が作用しても、寸法的に安定を維持す
る。通常、中空シリンダ1の直径は200〜350mm
程度に設定され、中空シリンダ1の長さは2000〜4
000mmの範囲に設定される。電解質に対して浸され
る中空シリンダの深さは、常に、中空シリンダ1の湾曲
が2、30mmを超えないように設定される。アノード
かご42によって、+20v〜+40vの直流電流が供
給され、その一方で中空シリンダ1は図示しないスリッ
プリング接点を介してゼロ電位に接続される。アノード
かご42の内部にはニッケルの塊が配置され、このニッ
ケルの塊は、印加される電圧によって電解質に融解す
る。同時に、カソードとして接続された中空シリンダの
表面にはニッケルが蒸着される。ニッケル形成工程の間
装置全体はリッド43によって覆われ、その結果、漕の
中に埃などが侵入することはなく、内部の蒸気が漏れ出
すこともない。電解質39が常に均一な濃度を保ち、形
成された水素の泡が中空シリンダ1の表面にこびりつか
ないように、管44を通じて樋40底面から空気が吹き
込まれる。加えて、中空シリンダ1は矢印45の方向に
回転されることから、中空シリンダの表面には純粋なニ
ッケルの均一な薄膜が形成される。すなわち、その薄膜
は被覆膜によって覆われていない中空シリンダの表面に
形成される。被覆膜によって覆われた点では、小さなス
クリーン開口が維持される。先立つ処理工程において、
被覆膜が小さな絶縁性の点として形成されていたからで
ある。0.1mm程度の厚さの純粋なニッケル膜46が
成長した時点で中空シリンダ1は漕から持ち上げられて
外に出される。
【0062】ここで、中空シリンダ1で少なくとも表面
がニッケルによって構成されている場合、漕内に中空シ
リンダが設置される以前に、中空シリンダ1の外面には
既に非常に薄い酸化ニッケル膜が形成されている。この
酸化ニッケル膜は導電率を悪化させることはなく、中空
シリンダに軽くクロム酸を注いでその酸化ニッケル膜を
強化させることさえある。空気中のニッケルに通常みら
れるこの酸化ニッケル膜によれば、親和力によって形成
された純粋ニッケル膜46の接着力はかなり減少されて
しまう。しかしながら、いったん確立された接着力は残
存し続ける。でなければ、この純粋ニッケル膜46は漕
の中でしわになってしまう。すなわち、曲げ圧力加重が
作用する側面すなわち漕に浸される中空シリンダの下半
分では、中空シリンダ1に作用する曲げ加重の結果純粋
ニッケル膜46が使いものにならなくなってしまう。
がニッケルによって構成されている場合、漕内に中空シ
リンダが設置される以前に、中空シリンダ1の外面には
既に非常に薄い酸化ニッケル膜が形成されている。この
酸化ニッケル膜は導電率を悪化させることはなく、中空
シリンダに軽くクロム酸を注いでその酸化ニッケル膜を
強化させることさえある。空気中のニッケルに通常みら
れるこの酸化ニッケル膜によれば、親和力によって形成
された純粋ニッケル膜46の接着力はかなり減少されて
しまう。しかしながら、いったん確立された接着力は残
存し続ける。でなければ、この純粋ニッケル膜46は漕
の中でしわになってしまう。すなわち、曲げ圧力加重が
作用する側面すなわち漕に浸される中空シリンダの下半
分では、中空シリンダ1に作用する曲げ加重の結果純粋
ニッケル膜46が使いものにならなくなってしまう。
【0063】確かに、添加物の加え方や、漕の制御の仕
方(温度や特定の電流負荷)によっては、形成された純
粋なニッケル膜46内部に圧力応力が確立される可能性
がある。この可能性に拘わらず、酸化ニッケルが構成さ
れる中空シリンダ1表面からニッケル膜46の接着力を
解放する必要がある。この接着力の解放は、酸化ニッケ
ル層と純粋ニッケル膜46とのスラスト応力を解放する
ことによってなされるのがよい。
方(温度や特定の電流負荷)によっては、形成された純
粋なニッケル膜46内部に圧力応力が確立される可能性
がある。この可能性に拘わらず、酸化ニッケルが構成さ
れる中空シリンダ1表面からニッケル膜46の接着力を
解放する必要がある。この接着力の解放は、酸化ニッケ
ル層と純粋ニッケル膜46とのスラスト応力を解放する
ことによってなされるのがよい。
【0064】図10および図11に示すように、外面に
形成された純粋ニッケル膜46と共に漕から取り上げら
れた中空シリンダ1は、太めの丸い道具47の作用によ
って変形される。この道具47は、中空シリンダ1の中
心に向かって中空シリンダ1を半径方向から押圧する。
中空シリンダ1の内側にはホース41が存在していても
よい。しかも、この作業の間、中空シリンダ1は矢印4
8の方向に回転する。その結果、中空シリンダ1は、純
粋ニッケル膜46と共にわずかに内側にへこみ、圧縮点
では、図11に示すように局部的なスラスト応力49が
達成されるくぼみが形成される。このスラスト応力49
によって、酸化ニッケル層と純粋ニッケル膜46との間
の接着力は解消される。この様子を明らかにするために
図11にはホース41が示されていない。ニッケル形成
工程の間、純粋ニッケル膜46内では低い圧力応力しか
確立されないため、純粋ニッケル膜46の直径は若干大
きくなり、パターンが描かれ純粋ニッケル膜46(図7
を参照)から構成されるスクリーン14のスリーブは、
続いて中空シリンダ1から取り外されることとなる。
形成された純粋ニッケル膜46と共に漕から取り上げら
れた中空シリンダ1は、太めの丸い道具47の作用によ
って変形される。この道具47は、中空シリンダ1の中
心に向かって中空シリンダ1を半径方向から押圧する。
中空シリンダ1の内側にはホース41が存在していても
よい。しかも、この作業の間、中空シリンダ1は矢印4
8の方向に回転する。その結果、中空シリンダ1は、純
粋ニッケル膜46と共にわずかに内側にへこみ、圧縮点
では、図11に示すように局部的なスラスト応力49が
達成されるくぼみが形成される。このスラスト応力49
によって、酸化ニッケル層と純粋ニッケル膜46との間
の接着力は解消される。この様子を明らかにするために
図11にはホース41が示されていない。ニッケル形成
工程の間、純粋ニッケル膜46内では低い圧力応力しか
確立されないため、純粋ニッケル膜46の直径は若干大
きくなり、パターンが描かれ純粋ニッケル膜46(図7
を参照)から構成されるスクリーン14のスリーブは、
続いて中空シリンダ1から取り外されることとなる。
【0065】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、中空円筒
基体の内部に気体を導入することによって円形断面を維
持するので、簡単な構成で、スクリーン印刷ステンシル
の製作に軽量な基体を使用することが可能となる。
基体の内部に気体を導入することによって円形断面を維
持するので、簡単な構成で、スクリーン印刷ステンシル
の製作に軽量な基体を使用することが可能となる。
【図1】 中空シリンダの表面に感光層を噴霧する工程
を示す図である。
を示す図である。
【図2】 中空シリンダの表面に感光層を形成する工程
を示す図である。
を示す図である。
【図3】 感光層が形成された中空シリンダの長手方向
に沿った垂直断面図である。
に沿った垂直断面図である。
【図4】 感光層が露光され、部分的に重合された状態
を示す図である。
を示す図である。
【図5】 現像された状態を示す図である。
【図6】 熱消去またはリソグラフ消去によって感光層
が除去された状態を示す図である。
が除去された状態を示す図である。
【図7】 電気メッキによって金属層が形成された状態
を示す図である。
を示す図である。
【図8】 中空シリンダおよび感光層の複合体を露光す
る装置の全体構成図である。
る装置の全体構成図である。
【図9】 複合体に金属層を形成する工程を示す図であ
る。
る。
【図10】 複合体から金属層を分離させる工程を示す
図である。
図である。
【図11】 窪みの力分布を示す図10の部分断面図で
ある。
ある。
1 中空円筒基体としての中空シリンダ、4 感光層と
しての被覆膜、11感光層の露光部、12 感光層の非
露光部、13 感光層の露光部、14 円筒スクリーン
としてのニッケルスクリーン、16 スクリーン開口、
25 固体レーザ、41 ゴムホース。
しての被覆膜、11感光層の露光部、12 感光層の非
露光部、13 感光層の露光部、14 円筒スクリーン
としてのニッケルスクリーン、16 スクリーン開口、
25 固体レーザ、41 ゴムホース。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平4−347635(JP,A) 特開 平2−4261(JP,A) 特公 昭61−51549(JP,B2) 特公 昭61−11791(JP,B2) 実公 昭51−1841(JP,Y1) 米国特許4806727(US,A) 米国特許5384007(US,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) B41C 1/00 - 1/18 G03F 7/12
Claims (16)
- 【請求項1】 中空円筒基体の外面に感光層を設ける工
程と、前記中空円筒基体の感光層に所定のスクリーンパ
ターンに従った光照射をする工程と、前記照射パターン
に従って前記感光層を前記中空円筒基体から取り去る工
程と、感光層の取り去られた部分に金属を充填して円筒
スクリーンを形成する工程と、前記中空円筒基体から形
成した円筒スクリーンを取り外す工程とを備えたスクリ
ーン印刷ステンシルの製造方法であって、 前記中空円筒基体の感光層に光照射をする工程におい
て、円形断面を維持すべく前記中空円筒基体自体を圧力
室として中空円筒基体の少なくとも一端から加圧気体が
導入される ことを特徴とするスクリーン印刷ステンシル
の製造方法。 - 【請求項2】 請求項1に記載のスクリーン印刷ステン
シルの製造方法において、前記気体は基体の両端から吹
き込まれることを特徴とするスクリーン印刷ステンシル
の製造方法。 - 【請求項3】 請求項1または2に記載のスクリーン印
刷ステンシルの製造方法において、前記気体として空気
を用いたことを特徴とするスクリーン印刷ステンシルの
製造方法。 - 【請求項4】 請求項1〜3のいずれかに記載のスクリ
ーン印刷ステンシルの製造方法において、感光層はレー
ザビームによって露光されることを特徴とするスクリー
ン印刷ステンシルの製造方法。 - 【請求項5】 請求項4に記載のスクリーン印刷ステン
シルの製造方法において、レーザ照射を用いて前記感光
層を焼き払うことによって感光層を外面から取り去るこ
とを特徴とするスクリーン印刷ステンシルの製造方法。 - 【請求項6】 請求項5に記載のスクリーン印刷ステン
シルの製造方法において、前記感光層は、前記基体の外
面上に位置する接着補強層と、この接着補強層上に位置
する着色層とを備えることを特徴とするスクリーン印刷
ステンシルの製造方法。 - 【請求項7】 請求項4に記載のスクリーン印刷ステン
シルの製造方法において、レーザ照射を用いて前記感光
層を重合した後、その感光層を現像することによって感
光層を前記基体から取り去ることを特徴とするスクリー
ン印刷ステンシルの製造方法。 - 【請求項8】 請求項7に記載のスクリーン印刷ステン
シルの製造方法において、前記感光層は、前記基体の外
面上に位置する少なくとも1層の着色第1樹脂層と、こ
の第1樹脂層上に位置する透明増感第2樹脂層とを備え
ることを特徴とするスクリーン印刷ステンシルの製造方
法。 - 【請求項9】 請求項8に記載のスクリーン印刷ステン
シルの製造方法において、前記第1樹脂層は、前記第2
樹脂層よりも弱く増感されることを特徴とするスクリー
ン印刷ステンシルの製造方法。 - 【請求項10】 請求項8または9に記載のスクリーン
印刷ステンシルの製造方法において、前記第1樹脂層
は、露光中に自由となる遊離基を捕らえる物質を含むこ
とを特徴とするスクリーン印刷ステンシルの製造方法。 - 【請求項11】 請求項4〜10のいずれかに記載のス
クリーン印刷ステンシルの製造方法において、スクリー
ン開口が次々と様々な間隔を持つように前記感光層は露
光されることを特徴とするスクリーン印刷ステンシルの
製造方法。 - 【請求項12】 請求項1〜11のいずれかに記載のス
クリーン印刷ステンシルの製造方法において、感光層の
取り去られた部分に金属を充填する際、基体を内側から
補強することを特徴とするスクリーン印刷ステンシルの
製造方法。 - 【請求項13】 請求項12に記載のスクリーン印刷ス
テンシルの製造方法において、前記基体の内部にその内
壁に接するホースを導入することによって前記基体を補
強することを特徴とするスクリーン印刷ステンシルの製
造方法。 - 【請求項14】 請求項13に記載のスクリーン印刷ス
テンシルの製造方法において、前記ホースは膨らまされ
ることを特徴とするスクリーン印刷ステンシルの製造方
法。 - 【請求項15】 請求項1〜14のいずれかに記載のス
クリーン印刷ステンシルの製造方法において、前記金属
としてニッケルが用いられることを特徴とするスクリー
ン印刷ステンシルの製造方法。 - 【請求項16】 請求項1〜15のいずれかに記載のス
クリーン印刷ステンシルの製造方法において、前記基体
は内側に容易に変形し、これによって基体から円筒スク
リーンが取り外されることを特徴とするスクリーン印刷
ステンシルの製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE95102103.9 | 1995-02-15 | ||
| EP95102103A EP0728578B1 (de) | 1995-02-15 | 1995-02-15 | Verfahren zur Herstellung einer Siebdruckschablone |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0952343A JPH0952343A (ja) | 1997-02-25 |
| JP2896112B2 true JP2896112B2 (ja) | 1999-05-31 |
Family
ID=8218984
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8015173A Expired - Fee Related JP2896112B2 (ja) | 1995-02-15 | 1996-01-31 | スクリーン印刷ステンシルの製造方法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5698351A (ja) |
| EP (1) | EP0728578B1 (ja) |
| JP (1) | JP2896112B2 (ja) |
| CN (1) | CN1063135C (ja) |
| AT (1) | ATE169866T1 (ja) |
| DE (1) | DE59503264D1 (ja) |
| ES (1) | ES2122358T3 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6048446A (en) * | 1997-10-24 | 2000-04-11 | R.R. Donnelley & Sons Company | Methods and apparatuses for engraving gravure cylinders |
| US6549309B1 (en) | 1998-02-10 | 2003-04-15 | Illinois Tool Works Inc. | Holography apparatus, method and product |
| US6388780B1 (en) | 2000-05-11 | 2002-05-14 | Illinois Tool Works Inc. | Hologram production technique |
| DE102010027638B4 (de) * | 2010-07-19 | 2012-04-12 | Christoph Deininger | Vorrichtung zum Bearbeiten von Rohren mittels eines Laserstrahls |
| CN105206174A (zh) * | 2015-09-10 | 2015-12-30 | 东莞市雷崴电子有限公司 | 一种电池标贴的制作方法 |
| CN110058492B (zh) * | 2019-04-20 | 2022-06-10 | 绍兴市嘉诚感光材料有限公司 | 一种圆网感光胶的制备方法 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4806727A (en) | 1985-02-12 | 1989-02-21 | Schablonentechnik Kufstein Gesellschaft M.B.H. | Apparatus for producing a screen printing stencil |
| US5384007A (en) | 1992-10-21 | 1995-01-24 | Schablonentechnik Kuestein Ges. M.B.H. | Process for manufacturing a screen printing stencil |
| JP6111791B2 (ja) | 2013-03-28 | 2017-04-12 | 日本電気株式会社 | ネットワーク管理システム、ネットワーク管理装置、サーバ、ネットワーク管理方法、及びプログラム |
| JP6151549B2 (ja) | 2013-04-22 | 2017-06-21 | Hoya株式会社 | 内視鏡用光源装置 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1231258B (de) * | 1964-08-14 | 1966-12-29 | Kaete Klemm Geb Nacke | Vorrichtung zum Festhalten duennwandiger Metallhuelsen zum Aufkopieren von Druck-vorlagen fuer die Herstellung von Druckformen an Filmdruckmaschinen |
| NL6608264A (ja) * | 1966-06-15 | 1967-12-18 | ||
| AT284875B (de) * | 1967-01-17 | 1970-10-12 | Peter Zimmer | Vorrichtung zur Herstellung von nahtlosen zylindrischen Hülsen |
| AT304587B (de) * | 1971-12-28 | 1973-01-10 | Zimmer Peter | Vorrichtung zur Herstellung nahtloser zylindrischer Hülsen |
| NL8800354A (nl) * | 1988-02-12 | 1989-09-01 | Kufstein Schablonentech Gmbh | Spanwals alsmede inrichting voorzien van een dergelijke spanwals. |
| CA2068614C (en) * | 1991-05-15 | 2003-12-16 | Eiji Ozaki | Esterase genes, esterase, recombinant plasmids and transformants containing the recombinant plasmid and methods of producing optically active carboxylic acids and their enantiomeric esters using said transformants |
| US5338627A (en) * | 1992-05-22 | 1994-08-16 | Think Laboratory Co., Ltd. | Method for manufacturing rotary screen |
-
1995
- 1995-02-15 AT AT95102103T patent/ATE169866T1/de not_active IP Right Cessation
- 1995-02-15 DE DE59503264T patent/DE59503264D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1995-02-15 ES ES95102103T patent/ES2122358T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1995-02-15 EP EP95102103A patent/EP0728578B1/de not_active Expired - Lifetime
-
1996
- 1996-01-31 JP JP8015173A patent/JP2896112B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1996-02-01 CN CN96100482A patent/CN1063135C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1996-02-15 US US08/601,769 patent/US5698351A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4806727A (en) | 1985-02-12 | 1989-02-21 | Schablonentechnik Kufstein Gesellschaft M.B.H. | Apparatus for producing a screen printing stencil |
| US5384007A (en) | 1992-10-21 | 1995-01-24 | Schablonentechnik Kuestein Ges. M.B.H. | Process for manufacturing a screen printing stencil |
| JP6111791B2 (ja) | 2013-03-28 | 2017-04-12 | 日本電気株式会社 | ネットワーク管理システム、ネットワーク管理装置、サーバ、ネットワーク管理方法、及びプログラム |
| JP6151549B2 (ja) | 2013-04-22 | 2017-06-21 | Hoya株式会社 | 内視鏡用光源装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1063135C (zh) | 2001-03-14 |
| CN1133782A (zh) | 1996-10-23 |
| EP0728578A1 (de) | 1996-08-28 |
| DE59503264D1 (de) | 1998-09-24 |
| EP0728578B1 (de) | 1998-08-19 |
| JPH0952343A (ja) | 1997-02-25 |
| US5698351A (en) | 1997-12-16 |
| ES2122358T3 (es) | 1998-12-16 |
| ATE169866T1 (de) | 1998-09-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6413700B1 (en) | Masked presensitized printing plate intermediates and method of imaging same | |
| US5804353A (en) | Lasers engravable multilayer flexographic printing element | |
| US5798202A (en) | Laser engravable single-layer flexographic printing element | |
| US7036430B2 (en) | Method for producing a flexographic printing plate formed by inkjetted fluid | |
| JPH04501684A (ja) | 平版プレート及びそれらに画像を形成するための方法及び手段 | |
| KR20030024542A (ko) | 스크린 인쇄판, 스크린 인쇄판의 제조 방법 및 제조 장치,스크린 인쇄 방법 및 장치, 및 스크린 인쇄물 | |
| JPH11188834A (ja) | 画像形成方法 | |
| JP2014528856A (ja) | 無水オフセット印刷用の印刷版を製造するための方法 | |
| EP0947324A1 (en) | Printing method and printing device for realising the same | |
| JPH0255770B2 (ja) | ||
| JPH0952343A (ja) | スクリーン印刷ステンシルの製造方法 | |
| US6899814B2 (en) | Creating a mask for producing a printing plate | |
| JPH11314472A (ja) | 円筒状印刷媒体 | |
| KR20090129983A (ko) | 쿠션성을 가지는 그라비아판 및 그 제조방법 | |
| JPH07195654A (ja) | 凸版印刷、特にフレキソ印刷のための消去可能な印刷版を備えた装置 | |
| JP3216127B2 (ja) | 多孔状感光体及びその製造方法 | |
| JP2008037086A (ja) | 直描型印刷原版およびその製造方法ならびにこれを用いた製版方法 | |
| CN108700803B (zh) | 凸版印刷版的生成式制造的方法 | |
| JP2002091018A (ja) | 印刷版の製造方法並びにそれを用いて製造されたスクリーン印刷版及びグラビア印刷版 | |
| JPH07117207A (ja) | 製版方法 | |
| JP2006088526A (ja) | スクリーン印刷製版装置 | |
| JP2001030457A (ja) | 異なった画像形成システムのための画像形成要素 | |
| JP2007090541A (ja) | レーザー彫刻用材料およびレーザー彫刻用印刷版原版 | |
| JP2008046447A (ja) | 印刷版の製造方法 | |
| JPH11254854A (ja) | 直描型水なし平版印刷版原版および直描型水なし平版印刷版の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |