JP2952639B2 - シートプラズマ装置 - Google Patents
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Landscapes
- Plasma Technology (AREA)
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- Drying Of Semiconductors (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、プラズマ源として働く
陰極から放出された円柱状のプラズマビームをシート状
プラズマにして陽極に導く構成を備えたシートプラズマ
装置に関するものである。
陰極から放出された円柱状のプラズマビームをシート状
プラズマにして陽極に導く構成を備えたシートプラズマ
装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】最近、プラズマ源から発生する円柱状の
プラズマビームに、永久磁石によって磁界を加え、シー
ト状にした状態で陽極に導くシートプラズマ装置が注目
を浴びている。より具体的に述べると、シートプラズマ
装置では、プラズマ源から放出された円柱状プラズマ
は、まず、永久磁石を配置されたシートプラズマ成形室
に導かれて、シート状プラズマに成形された後、例え
ば、スパッタリング加工を行うスパッタリング室に導入
されている。スパッタリング室には、ターゲットと、ス
パッタされた物質が成膜される基板とが、シート状プラ
ズマを挟む形で、互いに対向して配置されている。更
に、表面処理室には、プラズマの進行方向に対して直交
するように配置された直線状の陽極が設けられており、
ターゲットと基板との間を通過したシート状プラズマは
陽極に導かれている。
プラズマビームに、永久磁石によって磁界を加え、シー
ト状にした状態で陽極に導くシートプラズマ装置が注目
を浴びている。より具体的に述べると、シートプラズマ
装置では、プラズマ源から放出された円柱状プラズマ
は、まず、永久磁石を配置されたシートプラズマ成形室
に導かれて、シート状プラズマに成形された後、例え
ば、スパッタリング加工を行うスパッタリング室に導入
されている。スパッタリング室には、ターゲットと、ス
パッタされた物質が成膜される基板とが、シート状プラ
ズマを挟む形で、互いに対向して配置されている。更
に、表面処理室には、プラズマの進行方向に対して直交
するように配置された直線状の陽極が設けられており、
ターゲットと基板との間を通過したシート状プラズマは
陽極に導かれている。
【０００３】従来、シートプラズマ成形室をガラス等の
絶縁材料で構成したシートプラズマ装置が提案され、ま
た一方、シートプラズマ成形室及びスパッタリング室と
を同一の導電材料で構成したシートプラズマ装置も提案
されている。
絶縁材料で構成したシートプラズマ装置が提案され、ま
た一方、シートプラズマ成形室及びスパッタリング室と
を同一の導電材料で構成したシートプラズマ装置も提案
されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、シート
プラズマ成形室を絶縁材料で構成した場合、シート状に
成形する際に、プラズマが永久磁石による磁界の影響に
よりシートプラズマ成形室の内壁に衝突し、熱影響によ
りシートプラズマ成形室を損傷してしまうことがある。
プラズマ成形室を絶縁材料で構成した場合、シート状に
成形する際に、プラズマが永久磁石による磁界の影響に
よりシートプラズマ成形室の内壁に衝突し、熱影響によ
りシートプラズマ成形室を損傷してしまうことがある。
【０００５】他方、シートプラズマ成形室及びスパッタ
リング室とを導電材料で構成し、直接接続した場合、前
記夫々の部材にシートプラズマによる電流が流れて電流
ロスが多くなったり、プラズマの電位が低下して、電力
の効率が悪くなってしまうという欠点がある。
リング室とを導電材料で構成し、直接接続した場合、前
記夫々の部材にシートプラズマによる電流が流れて電流
ロスが多くなったり、プラズマの電位が低下して、電力
の効率が悪くなってしまうという欠点がある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、陰極、
陽極を備えると共に、前記陰極及び陽極間に、シートプ
ラズマを生成するシートプラズマ成形室と、該シートプ
ラズマ成形室に連結された表面処理室とを備え、両シー
トプラズマ制形質と表面処理室とは、互いに電気的に絶
縁され、且つ、互いに異なる電位となるように、構成さ
れていることを特徴とするシートプラズマ装置が得られ
る。
陽極を備えると共に、前記陰極及び陽極間に、シートプ
ラズマを生成するシートプラズマ成形室と、該シートプ
ラズマ成形室に連結された表面処理室とを備え、両シー
トプラズマ制形質と表面処理室とは、互いに電気的に絶
縁され、且つ、互いに異なる電位となるように、構成さ
れていることを特徴とするシートプラズマ装置が得られ
る。
【０００７】
【作用】このように、シートプラズマ成形室に、スパッ
タリング室とは異なる電位を与えることにより、シート
プラズマ成形室でのシートプラズマの電流ロス等による
電力効率の低下を防止できる。
タリング室とは異なる電位を与えることにより、シート
プラズマ成形室でのシートプラズマの電流ロス等による
電力効率の低下を防止できる。
【０００８】
【実施例】以下、図面を参照して本発明を説明する。
【０００９】図１を参照すると、本発明の一実施例に係
るシート状プラズマを用いたスパッタリング装置は、圧
力勾配型プラズマ源として動作する陰極部１１を備え、
この陰極部１１は円柱状のプラズマを発生する。陰極部
１１には、円柱状プラズマをシート状に成形するシート
プラズマ成形室１２が開口部を介して接続されている。
陰極部１１とシートプラズマ成形室１２との間には、第
１及び第２中間電極１３−１、１３−２が設けられてお
り、これらの中間電極１３−１，１３−２によって、陰
極部１１からのプラズマは陰極部より引き出されて、シ
ートプラズマ成形室１２に導入される。
るシート状プラズマを用いたスパッタリング装置は、圧
力勾配型プラズマ源として動作する陰極部１１を備え、
この陰極部１１は円柱状のプラズマを発生する。陰極部
１１には、円柱状プラズマをシート状に成形するシート
プラズマ成形室１２が開口部を介して接続されている。
陰極部１１とシートプラズマ成形室１２との間には、第
１及び第２中間電極１３−１、１３−２が設けられてお
り、これらの中間電極１３−１，１３−２によって、陰
極部１１からのプラズマは陰極部より引き出されて、シ
ートプラズマ成形室１２に導入される。
【００１０】この例では、シートプラズマ成形室１２の
外側に永久磁石（この例では２列）１４が配置されてお
り、この永久磁石１４によって形成される磁場により、
円筒状プラズマはシート状プラズマ１０に成形される。
図示された例では、プラズマは図の表面に対して垂直方
向に広がり、シート状プラズマ１０を形成する。この場
合、プラズマの一部は、図示するように、永久磁石１４
によってシートプラズマ成形室１２の内壁の方向に吸引
され広がる。
外側に永久磁石（この例では２列）１４が配置されてお
り、この永久磁石１４によって形成される磁場により、
円筒状プラズマはシート状プラズマ１０に成形される。
図示された例では、プラズマは図の表面に対して垂直方
向に広がり、シート状プラズマ１０を形成する。この場
合、プラズマの一部は、図示するように、永久磁石１４
によってシートプラズマ成形室１２の内壁の方向に吸引
され広がる。
【００１１】この例の場合、シートプラズマ成形室１２
は、アルミニウム等の導体材料によって形成されてお
り、且つ、抵抗体を介して、主放電電源２２の一端に接
続されており、且つ、第１及び第２中間電極１３−１，
１３−２も抵抗器を介して主放電電源２２の一端に接続
されている。
は、アルミニウム等の導体材料によって形成されてお
り、且つ、抵抗体を介して、主放電電源２２の一端に接
続されており、且つ、第１及び第２中間電極１３−１，
１３−２も抵抗器を介して主放電電源２２の一端に接続
されている。
【００１２】シートプラズマ成形室１２からのシート状
プラズマ１０は、スリット状の開口部を備えた第３中間
電極１５を介して、スパッタリングを行う表面処理室
（以下、スパッタリング室と称することとする）１６に
導かれる。スパッタリング室１６はアルミニウム又はス
テンレス鋼等の導電材料によって形成されており、内側
に空間を有している。スパッタリング室１６内の空間に
は、シート状プラズマを受けることができるように、図
の表面に対して垂直方向に延びる陽極部１７が設けられ
ている。
プラズマ１０は、スリット状の開口部を備えた第３中間
電極１５を介して、スパッタリングを行う表面処理室
（以下、スパッタリング室と称することとする）１６に
導かれる。スパッタリング室１６はアルミニウム又はス
テンレス鋼等の導電材料によって形成されており、内側
に空間を有している。スパッタリング室１６内の空間に
は、シート状プラズマを受けることができるように、図
の表面に対して垂直方向に延びる陽極部１７が設けられ
ている。
【００１３】また、スパッタリング室１６内の陽極部１
７前方、即ち、陽極部１７に対して陰極部１１側位置
に、シート状プラズマを挟んで対向するように、ターゲ
ット部１８と、成膜されるべき基板を搭載するテーブル
１９とが設置されている。
７前方、即ち、陽極部１７に対して陰極部１１側位置
に、シート状プラズマを挟んで対向するように、ターゲ
ット部１８と、成膜されるべき基板を搭載するテーブル
１９とが設置されている。
【００１４】更に、スパッタリング室１６の外側には、
スパッタリング室１６の陰極側と陽極側とに、一対の外
部磁場発生用大径コイル２０が備えられており、これら
コイル２０による磁場によって、シート状プラズマ１０
は陽極部１７方向に導かれている。
スパッタリング室１６の陰極側と陽極側とに、一対の外
部磁場発生用大径コイル２０が備えられており、これら
コイル２０による磁場によって、シート状プラズマ１０
は陽極部１７方向に導かれている。
【００１５】図示されているように、ターゲット部１８
には、バイアス電源２１によって、負のバイアス電圧が
印加されている。また、スパッタリング室１６及び第３
中間電極１５にも、外部抵抗を介して、電圧が印加され
ている。なお、第３中間電極１５は実施例では外部抵抗
を介して電圧が印加されているが、直接、陽極電位と接
続している方が良い。ここで、陰極部１１には、約−７
０ボルトの電圧が印加されており、以下、第１及び第２
中間電極１３−１，１３−２、シートプラズマ成形室１
２、スパッタリング室１６、及び陽極部１７の順に、次
第に電位が高くなるような電圧が印加されている。この
例では、スパッタリング室１６は接地され、陽極部１７
は抵抗を介してスパッタリング室１６に接続されてい
る。また、ターゲット部１８には、負の電圧が印加され
ている。
には、バイアス電源２１によって、負のバイアス電圧が
印加されている。また、スパッタリング室１６及び第３
中間電極１５にも、外部抵抗を介して、電圧が印加され
ている。なお、第３中間電極１５は実施例では外部抵抗
を介して電圧が印加されているが、直接、陽極電位と接
続している方が良い。ここで、陰極部１１には、約−７
０ボルトの電圧が印加されており、以下、第１及び第２
中間電極１３−１，１３−２、シートプラズマ成形室１
２、スパッタリング室１６、及び陽極部１７の順に、次
第に電位が高くなるような電圧が印加されている。この
例では、スパッタリング室１６は接地され、陽極部１７
は抵抗を介してスパッタリング室１６に接続されてい
る。また、ターゲット部１８には、負の電圧が印加され
ている。
【００１６】更に、図１を参照すると、シートプラズマ
成形室１２及びスパッタリング室１６とは、上記したよ
うに、導電材料によって構成されている。このような場
合、これらシートプラズマ成形室１２及びスパッタリン
グ室１６とは、従来、電気的に接続されており、シート
プラズマ成形室１２及びスパッタリング室１６とは、同
電位に保たれているのが普通である。しかしながら、シ
ートプラズマ成形室１２及びスパッタリング室１６とが
電気的に接続された従来のシートプラズマ装置では、シ
ートプラズマ成形室１２に不可避的に電流が流れること
による電力の損失も無視できないという欠点もある。そ
して、前記の電力の損失により、スパッタリング室１６
に引き出されたシートプラズマの密度が低下してしま
う。
成形室１２及びスパッタリング室１６とは、上記したよ
うに、導電材料によって構成されている。このような場
合、これらシートプラズマ成形室１２及びスパッタリン
グ室１６とは、従来、電気的に接続されており、シート
プラズマ成形室１２及びスパッタリング室１６とは、同
電位に保たれているのが普通である。しかしながら、シ
ートプラズマ成形室１２及びスパッタリング室１６とが
電気的に接続された従来のシートプラズマ装置では、シ
ートプラズマ成形室１２に不可避的に電流が流れること
による電力の損失も無視できないという欠点もある。そ
して、前記の電力の損失により、スパッタリング室１６
に引き出されたシートプラズマの密度が低下してしま
う。
【００１７】一方、スパッタリング室１６を導電材料で
形成し、シートプラズマ成形室１２をガラス等の絶縁材
料によって形成したものも提案されているが、この構成
では、シートプラズマ成形室１２の内壁にプラズマが衝
突した際、局部的に内壁が加熱される為、高密度のプラ
ズマでは熱負荷に耐えられず、結果として、シートプラ
ズマ成形室１２の損傷が激しいという欠点がある。
形成し、シートプラズマ成形室１２をガラス等の絶縁材
料によって形成したものも提案されているが、この構成
では、シートプラズマ成形室１２の内壁にプラズマが衝
突した際、局部的に内壁が加熱される為、高密度のプラ
ズマでは熱負荷に耐えられず、結果として、シートプラ
ズマ成形室１２の損傷が激しいという欠点がある。
【００１８】上記した点を考慮して、図示された実施例
では、シートプラズマ成形室１２とスパッタリング室１
６とをそれぞれ導電材料によって構成すると共に、両者
を互いに電気的に絶縁し、且つ、前述したように、両者
に互いに異なる電位を与える。
では、シートプラズマ成形室１２とスパッタリング室１
６とをそれぞれ導電材料によって構成すると共に、両者
を互いに電気的に絶縁し、且つ、前述したように、両者
に互いに異なる電位を与える。
【００１９】図２をも併せ参照すると、シートプラズマ
成形室１２のスパッタリング室１６側端部には、第１の
フランジ３１が設けられる一方、スパッタリング室１６
には、第２のフランジ３２が設けられている。第１及び
第２のフランジ３１及び３２はシート状プラズマ１０の
幅方向に長く延在している。図示された例では、第１の
フランジ３１と第３中間電極部１５との間の絶縁を保つ
と共に、第２のフランジ３２と第３中間電極部１５との
間のシール性を保つために、ゴム等の絶縁材料によって
形成された甲丸リング３５が介在しており、この甲丸リ
ング３５は角型の第３中間電極１５の各辺を囲むよう
に、第１及び第２のフランジ３１及び３２の間に設けら
れている。
成形室１２のスパッタリング室１６側端部には、第１の
フランジ３１が設けられる一方、スパッタリング室１６
には、第２のフランジ３２が設けられている。第１及び
第２のフランジ３１及び３２はシート状プラズマ１０の
幅方向に長く延在している。図示された例では、第１の
フランジ３１と第３中間電極部１５との間の絶縁を保つ
と共に、第２のフランジ３２と第３中間電極部１５との
間のシール性を保つために、ゴム等の絶縁材料によって
形成された甲丸リング３５が介在しており、この甲丸リ
ング３５は角型の第３中間電極１５の各辺を囲むよう
に、第１及び第２のフランジ３１及び３２の間に設けら
れている。
【００２０】更に、第１及び第２のフランジ３１及び３
２、並びに、第３中間電極１５を相互に固定するため
に、第１及び第２のフランジ３１及び３２、並びに、第
３中間電極１５の外周に沿って複数の捩子穴が設けられ
ており、第１のフランジ３１の捩子穴には、プラスチッ
クスリーブ３６が絶縁のために埋め込まれている。ま
た、第１のフランジ３１と第３中間電極１５との間、及
び第２のフランジ３２と第３中間電極１５との間には、
それぞれ、ＦＲＰスペーサ３７が挟み込まれており、こ
の構成により、シートプラズマ成形室１２、第３中間電
極１５、及びスパッタリング室１６との間の絶縁が保持
されている。図２に示すように、第１のフランジ３１、
第３中間電極１５、及び第２のフランジ３２の捩子穴を
通して、捩子３８が取り付けられており、この捩子３８
によって、第１のフランジ３１、第３中間電極１５、及
び第２のフランジ３２は、互いに絶縁性を維持した状態
で固定される。
２、並びに、第３中間電極１５を相互に固定するため
に、第１及び第２のフランジ３１及び３２、並びに、第
３中間電極１５の外周に沿って複数の捩子穴が設けられ
ており、第１のフランジ３１の捩子穴には、プラスチッ
クスリーブ３６が絶縁のために埋め込まれている。ま
た、第１のフランジ３１と第３中間電極１５との間、及
び第２のフランジ３２と第３中間電極１５との間には、
それぞれ、ＦＲＰスペーサ３７が挟み込まれており、こ
の構成により、シートプラズマ成形室１２、第３中間電
極１５、及びスパッタリング室１６との間の絶縁が保持
されている。図２に示すように、第１のフランジ３１、
第３中間電極１５、及び第２のフランジ３２の捩子穴を
通して、捩子３８が取り付けられており、この捩子３８
によって、第１のフランジ３１、第３中間電極１５、及
び第２のフランジ３２は、互いに絶縁性を維持した状態
で固定される。
【００２１】この構成では、甲丸リング３５がプラズマ
の輻射に晒され、破損することも考えられる。このた
め、甲丸リング３５の真空側には、プラズマの輻射を遮
断するシールドカバー（図示せず）が設けられても良
い。
の輻射に晒され、破損することも考えられる。このた
め、甲丸リング３５の真空側には、プラズマの輻射を遮
断するシールドカバー（図示せず）が設けられても良
い。
【００２２】図２の例では、シートプラズマ成形室１２
と第３中間電極１５とスパッタリング室１６との間のシ
ール性及び絶縁のために、甲丸リング３５及びＦＲＰス
ペーサ３７を使用したが、第１のフランジ３１と、第３
中間電極１５及び第２のフランジ３２との間に、夫々の
部材の接触部に、例えば、テフロン等のフランジ材を介
在させるようにしても良い。
と第３中間電極１５とスパッタリング室１６との間のシ
ール性及び絶縁のために、甲丸リング３５及びＦＲＰス
ペーサ３７を使用したが、第１のフランジ３１と、第３
中間電極１５及び第２のフランジ３２との間に、夫々の
部材の接触部に、例えば、テフロン等のフランジ材を介
在させるようにしても良い。
【００２３】図１に戻ると、永久磁石１４はシートプラ
ズマ成形室１２の外側に配置されているため、シートプ
ラズマ成形室１２内部に配置する場合に比較して、永久
磁石１４がプラズマに晒されず、しかも、永久磁石１４
を水冷等により冷却する必要もない。
ズマ成形室１２の外側に配置されているため、シートプ
ラズマ成形室１２内部に配置する場合に比較して、永久
磁石１４がプラズマに晒されず、しかも、永久磁石１４
を水冷等により冷却する必要もない。
【００２４】図３を図１と共に参照すると、図１に使用
される永久磁石１４は、シート状プラズマの幅方向に間
隔をおいて配置された複数個の永久磁石片４１と、複数
個の永久磁石片４１の上面側及び下面側に設けられた鉄
心４２とを備えている。また、鉄心４２は永久磁石１４
の組立の容易さを考慮すれば、上下面側の一方を非磁性
体の部材（ステンレス材等）にすれば組立やすい。各永
久磁石片４１の上面側は、Ｎ極或いはＳ極のいずれか一
方となるように着磁されており、図の下面側は、他方の
極を持つように着磁されているものとする。図１の例で
は、図３の永久磁石１４が２つ設置されると共に、これ
ら２つの永久磁石は矩形形状のシートプラズマ成形室１
２の４辺に沿って配置されている。
される永久磁石１４は、シート状プラズマの幅方向に間
隔をおいて配置された複数個の永久磁石片４１と、複数
個の永久磁石片４１の上面側及び下面側に設けられた鉄
心４２とを備えている。また、鉄心４２は永久磁石１４
の組立の容易さを考慮すれば、上下面側の一方を非磁性
体の部材（ステンレス材等）にすれば組立やすい。各永
久磁石片４１の上面側は、Ｎ極或いはＳ極のいずれか一
方となるように着磁されており、図の下面側は、他方の
極を持つように着磁されているものとする。図１の例で
は、図３の永久磁石１４が２つ設置されると共に、これ
ら２つの永久磁石は矩形形状のシートプラズマ成形室１
２の４辺に沿って配置されている。
【００２５】尚、第３中間電極１５はシート状プラズマ
の輻射による損傷を防止するために、水冷されている。
の輻射による損傷を防止するために、水冷されている。
【００２６】図４及び図５を参照すると、本発明の他の
実施例に係るシートプラズマ装置は、導電材料によって
形成されたシートプラズマ成形室１２とスパッタリング
室１６を備え、両者は互いに電気的に接続された状態に
ある。また、スパッタリング室１６の内側には、シート
状プラズマ１０を通過させるスリットを備えた第３中間
電極１５が設けられている。
実施例に係るシートプラズマ装置は、導電材料によって
形成されたシートプラズマ成形室１２とスパッタリング
室１６を備え、両者は互いに電気的に接続された状態に
ある。また、スパッタリング室１６の内側には、シート
状プラズマ１０を通過させるスリットを備えた第３中間
電極１５が設けられている。
【００２７】更に、この実施例では、シートプラズマ成
形室１２の永久磁石１４と対向する部分に、矩形形状の
空間を囲む導電性のフレーム４５が位置付けられてお
り、このフレーム４５はシートプラズマ成形室１２の内
壁と絶縁性突起部４６によって絶縁されている。また、
導電性のフレーム４５は抵抗器を介して外部電源に接続
され、第３中間電極１５及びスパッタリング室１６とは
異なる電位に保たれている。また、フレーム４５は外部
電源に接続されていなくても、プラズマにより電位が保
たれる。
形室１２の永久磁石１４と対向する部分に、矩形形状の
空間を囲む導電性のフレーム４５が位置付けられてお
り、このフレーム４５はシートプラズマ成形室１２の内
壁と絶縁性突起部４６によって絶縁されている。また、
導電性のフレーム４５は抵抗器を介して外部電源に接続
され、第３中間電極１５及びスパッタリング室１６とは
異なる電位に保たれている。また、フレーム４５は外部
電源に接続されていなくても、プラズマにより電位が保
たれる。
【００２８】この構成によっても、電流ロス等による電
力損失を防止できる。また、図４では、シートプラズマ
成形室１２を導電材料で形成した場合について説明した
が、シートプラズマ成形室１２は絶縁材料で形成されて
いても良い。この場合、絶縁性突起部４６は不要にな
る。
力損失を防止できる。また、図４では、シートプラズマ
成形室１２を導電材料で形成した場合について説明した
が、シートプラズマ成形室１２は絶縁材料で形成されて
いても良い。この場合、絶縁性突起部４６は不要にな
る。
【００２９】以上述べた実施例では、プラズマ源である
陰極部から放出された円柱状のプラズマビームをシート
プラズマ成形室内において、成形室外部に配置された永
久磁石の磁場により、流れ方向には閉じ込められ、幅方
向には拡散したシート状プラズマを生成する。図示され
た実施例の場合、シートプラズマ成形室全体、或いは、
成形室内に配置されたフレームが一つの電極として働
き、シート状プラズマはコイル２０の作る外部磁場に沿
って効率良く、第３中間電極のスリットを通り抜け、ス
パッタリング室へと導かれ、陽極部に達する。
陰極部から放出された円柱状のプラズマビームをシート
プラズマ成形室内において、成形室外部に配置された永
久磁石の磁場により、流れ方向には閉じ込められ、幅方
向には拡散したシート状プラズマを生成する。図示され
た実施例の場合、シートプラズマ成形室全体、或いは、
成形室内に配置されたフレームが一つの電極として働
き、シート状プラズマはコイル２０の作る外部磁場に沿
って効率良く、第３中間電極のスリットを通り抜け、ス
パッタリング室へと導かれ、陽極部に達する。
【００３０】また、上に述べた実施例では、スパッタリ
ングを行う場合についてのみ説明したが、本発明は何等
これに限定されることなく、他の表面処理、例えば、反
応性スパッタリング、イオンプレーティング、プラズマ
ＣＶＤ等にも適用可能である。
ングを行う場合についてのみ説明したが、本発明は何等
これに限定されることなく、他の表面処理、例えば、反
応性スパッタリング、イオンプレーティング、プラズマ
ＣＶＤ等にも適用可能である。
【００３１】
【発明の効果】本発明では、シートプラズマ成形室に金
属を使用し、例えば、スパッタリング室とは異なる電位
を持たせることにより、シートプラズマ成形室全体或い
はその一部を電極として動作させている。この結果、シ
ート状プラズマの安定性が改善され、且つ、シートプラ
ズマ成形室の耐熱性も改善された。
属を使用し、例えば、スパッタリング室とは異なる電位
を持たせることにより、シートプラズマ成形室全体或い
はその一部を電極として動作させている。この結果、シ
ート状プラズマの安定性が改善され、且つ、シートプラ
ズマ成形室の耐熱性も改善された。
【図１】本発明の一実施例に係るシートプラズマ装置の
全体構成を説明するための断面図である。
全体構成を説明するための断面図である。
【図２】図１の一部をより詳細に説明するための断面図
である。
である。
【図３】図１で使用される永久磁石をより詳細に説明す
るための斜視図である。
るための斜視図である。
【図４】本発明の他の実施例に係るシートプラズマ装置
の要部を説明するための断面図である。
の要部を説明するための断面図である。
【図５】図４に使用されるフレームを説明するための斜
視図である。
視図である。
１０ シート状プラズマ １１ 陰極部 １２ シートプラズマ成形室 １３−１，１３−２ 第１及び第２中間電極 １４ 永久磁石 １５ 第３中間電極 １６ スパッタリング室 １７ 陽極部 １８ ターゲット部 １９ 基板用テーブル ２０ コイル ２１ バイアス電源 ２２ 主放電電源 ３１、３２ フランジ ３５ 甲丸リング ３６ プラスチックスリーブ ３７ スペーサ ４５ フレーム ４６ 絶縁性突起
Claims (5)
- 【請求項１】 陰極、陽極を備えると共に、前記陰極及
び陽極間に、シートプラズマを生成するシートプラズマ
成形室と、該シートプラズマ成形室に連結された表面処
理室とを備え、両シートプラズマ制形質と表面処理室と
は、互いに電気的に絶縁され、且つ、互いに異なる電位
となるように、構成されていることを特徴とするシート
プラズマ装置。 - 【請求項２】 請求項１において、前記シートプラズマ
成形室と表面処理室とは、それぞれ導電体によって構成
されていると共に、互いに絶縁されており、かつ、両者
には、互いに異なる電位が与えられていることを特徴と
するシートプラズマ装置。 - 【請求項３】 陰極、陽極を備えると共に、前記陰極及
び陽極間に、シートプラズマを生成するシートプラズマ
成形室と、該シートプラズマ成形室に連結された表面処
理室とを備え、前記シートプラズマ成形室内には、前記
シート状プラズマを挟むように設けられた導電性フレー
ムが設けられ、該導電性フレームと前記表面処理室と
は、互いに異なる電位となるように構成されていること
を特徴とするシートプラズマ装置。 - 【請求項４】 請求項１において、前記シートプラズマ
成形室と前記表面処理室は、それぞれ連結部分にフラン
ジを備えており、前記両フランジ間にはテフロン材料の
絶縁体が介在していることを特徴とするシートプラズマ
装置。 - 【請求項５】 請求項１において、前記両シートプラズ
マ成形室と表面処理室は、導体材料によって構成される
と共に、両者の連結部分にはフランジが設けられてお
り、且つ、両フランジ間には、甲丸リングによって形成
された絶縁体が介在していることを特徴とするシートプ
ラズマ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6092386A JP2952639B2 (ja) | 1994-04-28 | 1994-04-28 | シートプラズマ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6092386A JP2952639B2 (ja) | 1994-04-28 | 1994-04-28 | シートプラズマ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07296988A JPH07296988A (ja) | 1995-11-10 |
| JP2952639B2 true JP2952639B2 (ja) | 1999-09-27 |
Family
ID=14052989
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6092386A Expired - Fee Related JP2952639B2 (ja) | 1994-04-28 | 1994-04-28 | シートプラズマ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2952639B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010111897A (ja) * | 2008-11-05 | 2010-05-20 | Shinmaywa Industries Ltd | 真空処理装置 |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4711046B2 (ja) * | 2004-11-30 | 2011-06-29 | Ｎｏｋ株式会社 | 密封構造 |
| JP5080977B2 (ja) * | 2005-12-06 | 2012-11-21 | 新明和工業株式会社 | シートプラズマ成膜装置 |
| JP2009079274A (ja) * | 2007-09-27 | 2009-04-16 | Shin Meiwa Ind Co Ltd | 絶縁フランジ、絶縁フランジ機構及び真空成膜装置 |
| JP2009235497A (ja) * | 2008-03-27 | 2009-10-15 | Shinmaywa Industries Ltd | スパッタリング装置 |
| JP5292084B2 (ja) * | 2008-12-16 | 2013-09-18 | 新明和工業株式会社 | 真空成膜装置 |
-
1994
- 1994-04-28 JP JP6092386A patent/JP2952639B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010111897A (ja) * | 2008-11-05 | 2010-05-20 | Shinmaywa Industries Ltd | 真空処理装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07296988A (ja) | 1995-11-10 |
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|---|---|---|---|
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