JP3127784B2 - 分光測定装置のデータ処理方法 - Google Patents
分光測定装置のデータ処理方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は分光測定装置のデータ処
理方法に関し、特に、試料上の一次元領域を分光測定す
るに際し、複数の受光素子が二次元的に配置された光検
出器上に分光画像を結像させ、位置情報と波長方向の情
報とを同時に測定する分光測定装置におけるデータ処理
方法に関する。
理方法に関し、特に、試料上の一次元領域を分光測定す
るに際し、複数の受光素子が二次元的に配置された光検
出器上に分光画像を結像させ、位置情報と波長方向の情
報とを同時に測定する分光測定装置におけるデータ処理
方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】図７は、複数の微小な受光素子が二次元
的に配置された光検出器を備えている分光測定装置にお
ける光学系のブロック構成図である。図において、光源
１０から照射された光は、試料１１上の一次元（Ｙ軸）
方向に伸びる線領域で反射され、スリット１２に導かれ
る。スリット１２を通過した光はレンズ１３でコリメー
トされ、回折格子１４で分光された後、レンズ１５を介
して光検出器１６上に結像される。試料１１上でのＹ軸
方向の線領域は、光検出器１６上では図７中に示してい
る位置方向（ｙ軸方向）に結像し、図７中に示している
波長方向（ｘ軸方向）にはＹ軸方向の線領域の各点に対
応する分光強度分布が得られる。更に、試料１１をＸ軸
方向に順次移動させながら測定を行なうことにより、試
料１１上の二次元領域の分光強度分布を測定することも
可能である。
的に配置された光検出器を備えている分光測定装置にお
ける光学系のブロック構成図である。図において、光源
１０から照射された光は、試料１１上の一次元（Ｙ軸）
方向に伸びる線領域で反射され、スリット１２に導かれ
る。スリット１２を通過した光はレンズ１３でコリメー
トされ、回折格子１４で分光された後、レンズ１５を介
して光検出器１６上に結像される。試料１１上でのＹ軸
方向の線領域は、光検出器１６上では図７中に示してい
る位置方向（ｙ軸方向）に結像し、図７中に示している
波長方向（ｘ軸方向）にはＹ軸方向の線領域の各点に対
応する分光強度分布が得られる。更に、試料１１をＸ軸
方向に順次移動させながら測定を行なうことにより、試
料１１上の二次元領域の分光強度分布を測定することも
可能である。
【０００３】上記構成において、光路が理想的であると
きに光検出器１６で検出される分光画像の一例を図８に
示している。ここで、理想的な光路とは、レンズ１３、
１５やスリット１２等の光学部品の配置にずれが無く、
且つ、レンズ１３、１５に収差が無いなどの諸条件がす
べて満たされている場合である。図８中の線領域の試料
Ａに対応する分光画像として、例えば、Ｂの如き二次元
的な分光強度分布が得られる。ここで、試料１１の線領
域内での位置Ｙaに対する分光強度分布を得るために
は、図８の位置ｙaの一行（ｘ軸方向）に並ぶ受光素子
により検出された信号を順番に読み出せば良い。
きに光検出器１６で検出される分光画像の一例を図８に
示している。ここで、理想的な光路とは、レンズ１３、
１５やスリット１２等の光学部品の配置にずれが無く、
且つ、レンズ１３、１５に収差が無いなどの諸条件がす
べて満たされている場合である。図８中の線領域の試料
Ａに対応する分光画像として、例えば、Ｂの如き二次元
的な分光強度分布が得られる。ここで、試料１１の線領
域内での位置Ｙaに対する分光強度分布を得るために
は、図８の位置ｙaの一行（ｘ軸方向）に並ぶ受光素子
により検出された信号を順番に読み出せば良い。
【０００４】ところが、実際の分光測定装置では、光学
部品の相対的な位置のずれやレンズの収差などによって
光検出器１６上での結像には歪みや変形が生じる。図９
は歪みが発生している分光画像の一例を示す図である。
図８と同一の線領域Ａの測定結果であるが、図９の分光
画像Ｂには歪みが生じている。すなわち、試料１１上の
線領域内の或る位置に対応する波長の広がりの方向は、
ｘ軸方向と一致しなくなる。従って、このような歪みや
変形がある場合には、上述のように、或る行の受光素子
による検出値を順番にｘ軸方向に読み出す方法では、正
確な分光強度分布が得られないという問題がある。更
に、この歪みや変形の状態は、光学部品の調整や分解を
行なった際には変化する可能性もあり、測定結果の信頼
性や再現性を更に低下させることになる。
部品の相対的な位置のずれやレンズの収差などによって
光検出器１６上での結像には歪みや変形が生じる。図９
は歪みが発生している分光画像の一例を示す図である。
図８と同一の線領域Ａの測定結果であるが、図９の分光
画像Ｂには歪みが生じている。すなわち、試料１１上の
線領域内の或る位置に対応する波長の広がりの方向は、
ｘ軸方向と一致しなくなる。従って、このような歪みや
変形がある場合には、上述のように、或る行の受光素子
による検出値を順番にｘ軸方向に読み出す方法では、正
確な分光強度分布が得られないという問題がある。更
に、この歪みや変形の状態は、光学部品の調整や分解を
行なった際には変化する可能性もあり、測定結果の信頼
性や再現性を更に低下させることになる。
【０００５】本発明は上記のような課題を解決するため
に成されたものであり、その目的とするところは、分光
測定装置において、光路が理想的な状態でない場合でも
正確な分光強度分布の測定が行なえ、しかも、光路の状
態が変化したときでも高い精度を保つことができるデー
タ処理方法を提供することにある。
に成されたものであり、その目的とするところは、分光
測定装置において、光路が理想的な状態でない場合でも
正確な分光強度分布の測定が行なえ、しかも、光路の状
態が変化したときでも高い精度を保つことができるデー
タ処理方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に成された本発明は、試料上の一次元領域を分光測定す
るに際し、複数の受光素子が二次元的に配列された光検
出器の一つの次元方向に該試料のスリット長手方向に対
応した像が投影され、他の次元方向に光が分散するよう
に光学系が構成される分光測定装置に用いられるデータ
処理方法において、測定対象の試料の分光測定に先立
ち、特定の分光分布及びパターンをスリット長手方向の
線領域内に有する基準試料を分光測定し、その結果得ら
れた二次元分光画像中の分光分布パターンに対応する受
光素子の位置を補正情報として記憶しておき、分光測定
する際に、前記補正情報を用いて各受光素子による検出
信号を処理することを特徴としている。
に成された本発明は、試料上の一次元領域を分光測定す
るに際し、複数の受光素子が二次元的に配列された光検
出器の一つの次元方向に該試料のスリット長手方向に対
応した像が投影され、他の次元方向に光が分散するよう
に光学系が構成される分光測定装置に用いられるデータ
処理方法において、測定対象の試料の分光測定に先立
ち、特定の分光分布及びパターンをスリット長手方向の
線領域内に有する基準試料を分光測定し、その結果得ら
れた二次元分光画像中の分光分布パターンに対応する受
光素子の位置を補正情報として記憶しておき、分光測定
する際に、前記補正情報を用いて各受光素子による検出
信号を処理することを特徴としている。
【０００７】
【作用】上記データ処理方法によれば、光検出器上でス
リット長手方向に対応した方向に生じている歪みや変形
は、以下のように補正される。すなわち、まず、波長方
向に特定の分光分布が得られるようなパターンを線領域
内に有する基準試料が用意され、この基準試料の分光測
定が実行される。この測定結果である分光分布パターン
に基づいて、波長の広がりの方向に対応する受光素子の
位置の情報が補正情報として記憶される。そして、試料
を測定する際には、この補正情報を用いて各受光素子の
検出信号を処理することにより、歪みや変形の影響が軽
減される。また、スリット長手方向に直交する方向に生
じている歪みや変形も、特定の波長域にピークを有する
ような分光分布が得られる基準試料を用いることにより
同様に補正することができる。
リット長手方向に対応した方向に生じている歪みや変形
は、以下のように補正される。すなわち、まず、波長方
向に特定の分光分布が得られるようなパターンを線領域
内に有する基準試料が用意され、この基準試料の分光測
定が実行される。この測定結果である分光分布パターン
に基づいて、波長の広がりの方向に対応する受光素子の
位置の情報が補正情報として記憶される。そして、試料
を測定する際には、この補正情報を用いて各受光素子の
検出信号を処理することにより、歪みや変形の影響が軽
減される。また、スリット長手方向に直交する方向に生
じている歪みや変形も、特定の波長域にピークを有する
ような分光分布が得られる基準試料を用いることにより
同様に補正することができる。
【０００８】
【発明の効果】従って、本発明によれば、光学部品の位
置のずれやレンズの収差等による影響を補正した分光画
像が得られるため、複雑なパターンを有する試料を測定
する場合でも緻密で正確な分光強度分布を測定すること
ができる。また、装置の調整を行なった場合でも、再
度、基準試料を測定し直して補正情報を入れ替えられる
ため、常に高い精度を保つことができる。
置のずれやレンズの収差等による影響を補正した分光画
像が得られるため、複雑なパターンを有する試料を測定
する場合でも緻密で正確な分光強度分布を測定すること
ができる。また、装置の調整を行なった場合でも、再
度、基準試料を測定し直して補正情報を入れ替えられる
ため、常に高い精度を保つことができる。
【０００９】
【実施例】以下、本発明による分光測定装置のデータ処
理方法の実施例について図を参照しつつ説明する。
理方法の実施例について図を参照しつつ説明する。
【００１０】［実施例１］まず、図１を用いて本発明に
よる第１の実施例（以下「実施例１」という）を説明す
る。実施例１では、必要な位置分解能程度の大きさの微
小パターンを線領域内の位置Ｙk(k=1〜m)に有する試料
を基準試料とする。そして、この基準試料を分光測定す
ることにより、図１のようなm本の曲線Ｃkを有する分光
画像を得る。光路が理想的である場合には、このm本の
曲線Ｃkはそれぞれｘ軸方向に伸びる直線となる筈であ
るから、曲線の状態は歪みや変形を反映したものであ
る。従って、この曲線に基づいて、基準試料上のm個の
パターンに対する波長方向と光検出器１６を構成する受
光素子との対応関係が得られる。この対応関係をメモリ
に記憶しておき、試料を測定するときには、対応関係に
基づいた順序に従って各受光素子から信号を読むように
する。
よる第１の実施例（以下「実施例１」という）を説明す
る。実施例１では、必要な位置分解能程度の大きさの微
小パターンを線領域内の位置Ｙk(k=1〜m)に有する試料
を基準試料とする。そして、この基準試料を分光測定す
ることにより、図１のようなm本の曲線Ｃkを有する分光
画像を得る。光路が理想的である場合には、このm本の
曲線Ｃkはそれぞれｘ軸方向に伸びる直線となる筈であ
るから、曲線の状態は歪みや変形を反映したものであ
る。従って、この曲線に基づいて、基準試料上のm個の
パターンに対する波長方向と光検出器１６を構成する受
光素子との対応関係が得られる。この対応関係をメモリ
に記憶しておき、試料を測定するときには、対応関係に
基づいた順序に従って各受光素子から信号を読むように
する。
【００１１】実施例１において、波長方向と受光素子と
の対応関係を得る具体的な方法を、図２を用いて以下に
説明する。基準試料の線領域Ａの中の位置Ｙk(k=1〜m)
に存するm個の微小パターンに対する分光画像Ｂにおい
て、ｘi(i=1〜n)の位置にある縦一列の受光素子（図２
の分光画像Ｂ内の斜線部）の検出値を順次読み、光強度
のピーク値が現われる受光素子の位置をｐki(k=1〜m)と
して記憶する。例えば、ｘiの位置の縦一列の受光素子
の検出値は、図２中のＰに示すように、位置Ｙkに対応
したｙ軸上の位置においてピークが発生する。このピー
クの位置（例えばｙ軸方向での受光素子の位置を示す番
号）をｐkiとして順次メモリに記憶してゆく。
の対応関係を得る具体的な方法を、図２を用いて以下に
説明する。基準試料の線領域Ａの中の位置Ｙk(k=1〜m)
に存するm個の微小パターンに対する分光画像Ｂにおい
て、ｘi(i=1〜n)の位置にある縦一列の受光素子（図２
の分光画像Ｂ内の斜線部）の検出値を順次読み、光強度
のピーク値が現われる受光素子の位置をｐki(k=1〜m)と
して記憶する。例えば、ｘiの位置の縦一列の受光素子
の検出値は、図２中のＰに示すように、位置Ｙkに対応
したｙ軸上の位置においてピークが発生する。このピー
クの位置（例えばｙ軸方向での受光素子の位置を示す番
号）をｐkiとして順次メモリに記憶してゆく。
【００１２】この操作を、i=1からｘ軸方向の受光素子
数nまで繰り返し行なうことにより、基準試料の線領域
Ａの中の位置Ｙk(k=1〜m)と、曲線Ｃkに応じた受光素子
の位置ｐki(i=1〜n)との対応関係が得られる。すなわ
ち、基準試料の線領域Ａの中の位置Ｙkの分光強度分布
を得るためには、ｐk1、ｐk2、…、ｐknの順にそこに位
置する受光素子の信号値を読み出せば良い。このよう
に、試料の線領域内の位置Ｙkと、その位置に対する波
長の広がり方向を示す受光素子の位置ｐkiとの対応関係
を補正情報としてメモリ内に記憶しておく。
数nまで繰り返し行なうことにより、基準試料の線領域
Ａの中の位置Ｙk(k=1〜m)と、曲線Ｃkに応じた受光素子
の位置ｐki(i=1〜n)との対応関係が得られる。すなわ
ち、基準試料の線領域Ａの中の位置Ｙkの分光強度分布
を得るためには、ｐk1、ｐk2、…、ｐknの順にそこに位
置する受光素子の信号値を読み出せば良い。このよう
に、試料の線領域内の位置Ｙkと、その位置に対する波
長の広がり方向を示す受光素子の位置ｐkiとの対応関係
を補正情報としてメモリ内に記憶しておく。
【００１３】実際の試料の測定の際には、位置Ｙkと位
置Ｙk+1との間に存する位置Ｙjに対しては、メモリに記
憶している曲線Ｃkと曲線Ｃk+1とに関する補正情報を読
出し、両者の重み付き平均を計算することにより曲線Ｃ
j（図３中に破線で示す曲線）を推定し、読み出すべき
受光素子の位置を決定する。これにより、試料１１の線
領域内の如何なる位置に対する分光強度も、その波長の
広がり方向に沿った適切な受光素子から検出信号が読み
出されることになる。
置Ｙk+1との間に存する位置Ｙjに対しては、メモリに記
憶している曲線Ｃkと曲線Ｃk+1とに関する補正情報を読
出し、両者の重み付き平均を計算することにより曲線Ｃ
j（図３中に破線で示す曲線）を推定し、読み出すべき
受光素子の位置を決定する。これにより、試料１１の線
領域内の如何なる位置に対する分光強度も、その波長の
広がり方向に沿った適切な受光素子から検出信号が読み
出されることになる。
【００１４】［実施例２］次に、図４を用いて第２の実
施例（以下、「実施例２」という）を説明する。図４
は、実施例２において補正情報を求める方法を説明する
ための図である。上記実施例１では、波長方向（又はｘ
軸方向）に対して、曲線Ｃk上のすべての受光素子の位
置情報をメモリに記憶させておくようにしている。その
ため、メモリの必要容量は大きくなる。実施例２は、こ
のメモリ容量を削減するために、ｘ軸方向にi=1からi=n
まで順次移動させながら曲線Ｃkに対応する受光素子の
位置ｐkiを求めるのではなく、ｘ軸方向に、所定の受光
素子数毎に移動させながら受光素子の位置を求めて記憶
してゆく。
施例（以下、「実施例２」という）を説明する。図４
は、実施例２において補正情報を求める方法を説明する
ための図である。上記実施例１では、波長方向（又はｘ
軸方向）に対して、曲線Ｃk上のすべての受光素子の位
置情報をメモリに記憶させておくようにしている。その
ため、メモリの必要容量は大きくなる。実施例２は、こ
のメモリ容量を削減するために、ｘ軸方向にi=1からi=n
まで順次移動させながら曲線Ｃkに対応する受光素子の
位置ｐkiを求めるのではなく、ｘ軸方向に、所定の受光
素子数毎に移動させながら受光素子の位置を求めて記憶
してゆく。
【００１５】すなわち、図４中の斜線部の縦一列の受光
素子についてのみ、実施例１で述べたように、光強度の
ピーク値が現われる受光素子の位置をｐki(k=1〜m)とし
て記憶する。従って、実施例１では、ｘ軸方向の受光素
子数に等しいn回繰り返し操作を行なって補正情報を求
めていたのに対し、実施例２では、その繰り返し操作の
回数を大幅に減らすことができ、その分だけ補正情報の
ためのメモリ量も削減できる。そして、ｘ軸方向にスキ
ップした間の領域に関しては、多項式近似や補間等の計
算によって曲線を定式化し、これに基づいて分光強度分
布を得るために読み出すべき受光素子の位置を決定す
る。
素子についてのみ、実施例１で述べたように、光強度の
ピーク値が現われる受光素子の位置をｐki(k=1〜m)とし
て記憶する。従って、実施例１では、ｘ軸方向の受光素
子数に等しいn回繰り返し操作を行なって補正情報を求
めていたのに対し、実施例２では、その繰り返し操作の
回数を大幅に減らすことができ、その分だけ補正情報の
ためのメモリ量も削減できる。そして、ｘ軸方向にスキ
ップした間の領域に関しては、多項式近似や補間等の計
算によって曲線を定式化し、これに基づいて分光強度分
布を得るために読み出すべき受光素子の位置を決定す
る。
【００１６】［実施例３］次に、図５を用いて第３の実
施例（以下、「実施例３」という）を説明する。実施例
３は、実施例１とは相違する基準試料を用いて補正情報
を得るようにしたものであり、図５は基準試料Ａとその
分光画像を示す図である。実施例３では、線領域内に唯
一の微小パターンを有する基準試料を用い、このパター
ンをＹ軸方向に必要な分解能程度のステップ幅で移動さ
せながら、実施例１で述べたような曲線Ｃに対応する受
光素子の位置ｐを得るようにしている。このとき、分光
画像のｘ軸方向に対しては、実施例１の如く、対応する
すべての受光素子の位置を記憶するようにしても良い
し、実施例２の如く、所定の間隔毎に対応する受光素子
の位置を記憶するようにしても良い。
施例（以下、「実施例３」という）を説明する。実施例
３は、実施例１とは相違する基準試料を用いて補正情報
を得るようにしたものであり、図５は基準試料Ａとその
分光画像を示す図である。実施例３では、線領域内に唯
一の微小パターンを有する基準試料を用い、このパター
ンをＹ軸方向に必要な分解能程度のステップ幅で移動さ
せながら、実施例１で述べたような曲線Ｃに対応する受
光素子の位置ｐを得るようにしている。このとき、分光
画像のｘ軸方向に対しては、実施例１の如く、対応する
すべての受光素子の位置を記憶するようにしても良い
し、実施例２の如く、所定の間隔毎に対応する受光素子
の位置を記憶するようにしても良い。
【００１７】［変形例］なお、上記実施例１乃至３は、
位置方向すなわちｙ軸方向の歪みや変形のみを補正する
ためのデータ処理方法であるが、実際の装置では波長方
向すなわちｘ軸方向にも歪みや変形が発生している。こ
の歪みや変形は、特定の波長域で鋭いピークを有するよ
うな輝線データを基準試料として上述と同様の方法を適
用することにより補正することができる。図６は、特定
の波長でピークを有する基準試料に対する分光画像の例
である。波長方向に歪みや変形がない場合には、スペク
トル曲線Ｌu(u=1〜3)はｙ軸方向に直線のパターンが得
られる筈であるが、図６ではｘ軸方向に歪んでいる。そ
こで、波長と、曲線Ｌuに応じた受光素子の位置との対
応関係を求め、これを補正情報とすることにより波長方
向における歪みや変形も補正することができる。
位置方向すなわちｙ軸方向の歪みや変形のみを補正する
ためのデータ処理方法であるが、実際の装置では波長方
向すなわちｘ軸方向にも歪みや変形が発生している。こ
の歪みや変形は、特定の波長域で鋭いピークを有するよ
うな輝線データを基準試料として上述と同様の方法を適
用することにより補正することができる。図６は、特定
の波長でピークを有する基準試料に対する分光画像の例
である。波長方向に歪みや変形がない場合には、スペク
トル曲線Ｌu(u=1〜3)はｙ軸方向に直線のパターンが得
られる筈であるが、図６ではｘ軸方向に歪んでいる。そ
こで、波長と、曲線Ｌuに応じた受光素子の位置との対
応関係を求め、これを補正情報とすることにより波長方
向における歪みや変形も補正することができる。
【００１８】更に必要に応じた係数をもった演算を加
え、フィルタ効果を加味することをも可能となる。
え、フィルタ効果を加味することをも可能となる。
【００１９】［装置の構成］本発明に係るデータ処理方
法を実現する分光測定装置のデータ処理部の構成例を図
１０に示す。また、図１１は図１０の構成における各処
理段階の分光画像の概念図である。２次元状の光検出器
１６で検出された信号は、各受光素子毎に一旦アナログ
／デジタル（Ａ／Ｄ）変換器１７にてデジタル信号に変
換されて第１のデータ用メモリ１８に格納される。図１
１に示すように、第１のデータ用メモリ１８における分
光画像は光学系の歪みや変形を含むものである。補正処
理部１９は、第１のデータ用メモリ１８内の適当なデー
タを順次読み出して第２のデータ用メモリ２１への書き
込みを行なう。補正処理部１９には補正情報を格納する
ための補正情報メモリ２０が接続されている。この補正
情報メモリ２０には、基準試料を測定することにより補
正情報を作成するための補正情報作成制御部（図示せ
ず）によって予め補正情報が書き込まれる。試料測定の
際、補正処理部１９では、補正情報メモリ２０内の補正
情報に基づいて二つのメモリ１８、２１の読出し及び書
込みのアドレス信号が生成される。従って、第２のデー
タ用メモリ２１における分光画像は光学系の歪みや変形
が補正されたものとなる。この第２のデータ用メモリ２
１から読み出されたデータに基づき反射率の計算等の分
析処理演算が実行される。
法を実現する分光測定装置のデータ処理部の構成例を図
１０に示す。また、図１１は図１０の構成における各処
理段階の分光画像の概念図である。２次元状の光検出器
１６で検出された信号は、各受光素子毎に一旦アナログ
／デジタル（Ａ／Ｄ）変換器１７にてデジタル信号に変
換されて第１のデータ用メモリ１８に格納される。図１
１に示すように、第１のデータ用メモリ１８における分
光画像は光学系の歪みや変形を含むものである。補正処
理部１９は、第１のデータ用メモリ１８内の適当なデー
タを順次読み出して第２のデータ用メモリ２１への書き
込みを行なう。補正処理部１９には補正情報を格納する
ための補正情報メモリ２０が接続されている。この補正
情報メモリ２０には、基準試料を測定することにより補
正情報を作成するための補正情報作成制御部（図示せ
ず）によって予め補正情報が書き込まれる。試料測定の
際、補正処理部１９では、補正情報メモリ２０内の補正
情報に基づいて二つのメモリ１８、２１の読出し及び書
込みのアドレス信号が生成される。従って、第２のデー
タ用メモリ２１における分光画像は光学系の歪みや変形
が補正されたものとなる。この第２のデータ用メモリ２
１から読み出されたデータに基づき反射率の計算等の分
析処理演算が実行される。
【００２０】図１０の構成は、補正処理部１９をＡ／Ｄ
変換器１７と第１のデータ用メモリ１８との間に設け、
第１のデータ用メモリ１８への書込みの際に適当なアド
レスを指定することにより光学系の歪みや変形を補正す
るように変形しても良い。この場合の各処理段階の分光
画像の概念図を図１２に示す。すなわち、第１のデータ
用メモリ１８における分光画像は歪みや変形が補正され
たものとなるため、第２のデータ用メモリ２１は不要と
なる。
変換器１７と第１のデータ用メモリ１８との間に設け、
第１のデータ用メモリ１８への書込みの際に適当なアド
レスを指定することにより光学系の歪みや変形を補正す
るように変形しても良い。この場合の各処理段階の分光
画像の概念図を図１２に示す。すなわち、第１のデータ
用メモリ１８における分光画像は歪みや変形が補正され
たものとなるため、第２のデータ用メモリ２１は不要と
なる。
【図１】 本発明の実施例１によるデータ処理方法の原
理を説明するための図。
理を説明するための図。
【図２】 実施例１において補正情報を求める方法を説
明するための図。
明するための図。
【図３】 実施例１において補正情報に基づくデータ処
理方法を説明するための図。
理方法を説明するための図。
【図４】 実施例２による補正情報を求める方法を説明
するための図。
するための図。
【図５】 実施例３による補正情報を求める方法を説明
するための図。
するための図。
【図６】 他の実施例によるデータ処理方法の原理を説
明するための図。
明するための図。
【図７】 本発明が適用される分光測定装置の光学系の
ブロック構成図。
ブロック構成図。
【図８】 理想的な光学系における分光画像を示す図。
【図９】 光学系が理想的でない場合の分光画像を示す
図。
図。
【図１０】 本発明によるデータ処理方法を実現する分
光測定装置のデータ処理部の構成図。
光測定装置のデータ処理部の構成図。
【図１１】 図１０の構成における各処理段階の分光画
像の概念図。
像の概念図。
【図１２】 他の実施例の構成における各処理段階の分
光画像の概念図。
光画像の概念図。
１０…光源 １１…試料 １２…スリット １４…回折格子 １６…光検出器 １８…第１のデータ用メモリ １９…補正処理部 ２０…補正情報メモリ ２１…第２のデータ用メモリ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G01N 21/00 - 21/01 G01N 21/17 - 21/61 G01J 3/00 - 3/52
Claims (1)
- 【請求項１】 試料上の一次元領域を分光測定するに際
し、複数の受光素子が二次元的に配列された光検出器の
一つの次元方向に該試料のスリット長手方向に対応した
像が投影され、他の次元方向に光が分散するように光学
系が構成される分光測定装置に用いられるデータ処理方
法において、 測定対象の試料の分光測定に先立ち、特定の分光分布及
びパターンをスリット長手方向の線領域内に有する基準
試料を分光測定し、その結果得られた二次元分光画像中
の分光分布パターンに対応する受光素子の位置を補正情
報として記憶しておき、 分光測定する際に、前記補正情報を用いて各受光素子に
よる検出信号を処理することを特徴とするデータ処理方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07168213A JP3127784B2 (ja) | 1995-06-08 | 1995-06-08 | 分光測定装置のデータ処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07168213A JP3127784B2 (ja) | 1995-06-08 | 1995-06-08 | 分光測定装置のデータ処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08334410A JPH08334410A (ja) | 1996-12-17 |
| JP3127784B2 true JP3127784B2 (ja) | 2001-01-29 |
Family
ID=15863891
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP07168213A Expired - Fee Related JP3127784B2 (ja) | 1995-06-08 | 1995-06-08 | 分光測定装置のデータ処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3127784B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6074672B2 (ja) * | 2011-10-28 | 2017-02-08 | 株式会社ミツトヨ | 変位検出装置、変位検出方法及び変位検出プログラム |
-
1995
- 1995-06-08 JP JP07168213A patent/JP3127784B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08334410A (ja) | 1996-12-17 |
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