JP3294280B2 - パクリタクセルの製造方法 - Google Patents

パクリタクセルの製造方法

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Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は下記一般式（１）で示されるパクリタクセル
（paclitaxel）を製造する新規な方法に関するものであ
る。
［上記式中、Phはフェニルを表し、Acはアセチルを表
し、Bzはベンゾイルを表し、以下、これらは同じ意味を
有する］ 本発明は、さらに一般式（１）のパクリタクセルの製
造に用いられる新規な中間体、及びその製造方法に関す
るものである。
背景技術 （１）で示されるパクリタクセル、すなわちテルペン
タクサン（taxane）系誘導体は、広範囲な抗白血病及び
抗腫瘍活性を有する強力ながん化学療法剤である。した
がって、生物学及び化学両分野でこの化合物に相当関心
が高まっている。パクリタクセルはさらに米国を含むい
くつかの国で卵巣がんと乳がんに対する抗がん剤として
市販が許可されている。
今まで、パクリタクセルはセイヨウイチイの一種であ
るタクサス・ブレビフォリア（Taxus brevifolia）の樹
皮から分離、提供されてきた。しかしながら、その分離
及び精製工程が非常に煩わしいのみならず、これら常緑
樹の樹皮にはパクリタクセルが少量しか含まれていない
ため、このようにして提供されるパクリタクセルの量
は、ますます増加する商業的需要を充足させるには力不
足であった。
最近、化学者らはパクリタクセルの製造に適用できる
半合成経路（semi−synthesis）、及び中間体の製造方
法を含むこの化合物の新規な合成法について努力を傾注
した。しかしながら、これまでに発表された多数の合成
方法は満足できる結果を表していない。
たとえば、WO93/06094は、下記反応式１に示したよう
に、ベータラクタム化合物と７−トリエチルシリル−バ
ッカチンIIIを反応させ、次いで脱保護することによ
り、パクリタクセルを製造する方法が記載されている。
現在、この反応は所望のパクリタクセル化合物を製造す
るための最も簡略な方法として認められている。
［式中、TESはトリエチルシリルを表し、以下、同じ意
味を有する］ この方法は、カップリング反応が、ベータ−ラクタム
化合物を用いて容易に行われうる長所があるが、ベータ
−ラクタム化合物自体の合成が非常に難しく、カップリ
ング反応が無水条件下で−45℃の低温で行なわれなけれ
ばならず、ガラス製品に対する強い腐食作用および取扱
い難い性質（すなわち48％HF）を有する毒性の酸をタク
サン誘導体などの保護基として用いられるトリエチルシ
リル（TES）基を除去するのに用いられなければならな
いという多くの短所をも有している。
その他、下記反応式２に示されているように、ベータ
−ラクタムの代わりにオキサゾリジン化合物を、ジシク
ロヘキシルカルボジイミドまたは２−ジピリジルカルボ
ネートの存在下で、７−Troc−バッカチンIIIでカップ
リングさせる方法がコマーコンらのTetrahedron Letter
s,5185−5188頁,1992に記載されている。
［式中、Bocはｔ−ブトキシカルボニルを表し、Trocは
トリクロロエトキシカルボニルを表し、以下、これらは
同じ意味を有する］ パクリタクセルを製造する上記方法において、反応式
１の以前の方法で用いられた保護基（−TES）とは異な
るタクサン誘導体の新たな保護基（−Troc）が用いられ
てきた。しかしながら、かかる新たな保護基の使用によ
り、所望の生成物を得るためにより多くの反応工程が行
なわれなければならず、保護及び脱保護反応に激しい反
応条件を必要とし、その結果通算収率が低くなる。した
がって、反応式２の方法は反応式１の方法より劣るもの
と理解される。
反応式２の方法では、オキサゾリジン誘導体をタクサ
ン誘導体とカップリングさせてパクリタクセルを製造す
る。かかる目的で用いられてきた公知のオキサゾリジン
誘導体として、下記一般式（６）で示される化合物（WO
94/10169参照）及び下記一般式（７）で示される化合
物（韓国特許出願第95−703548号参照）が挙げられる。
［式中、RaはフェニルまたはRfO、ここで、Rfはアルキ
ル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロ
アルケニル、フェニルまたは窒素原子を含む複素環化合
物を表し、 RbおよびRcは相互に独立して水素、アルキル、フェニル
アルキル、フェニル、アルコキシフェニルまたはジアル
コキシフェニルを表すか、または RbおよびRcは４ないし７個の環原子を有する環状の鎖を
形成できる］ ［式中、Rdは水素、ベンゾイルまたはRgOCO−、ここ
で、Rgはアルキル、アルケニル、シクロアルキル、シク
ロアルケニルまたはビシクロアルキルを表し、 Reはトリハロメチルまたはトリハロメチルで置換された
フェニルを表す］ 上記の一般式（６）のオキサゾリジン誘導体は環の２
−位に種々の置換基を有し、さらに３−位のアミン基は
置換されたカルボニル基により必ず保護されている。３
−位のアミン基が保護されていなければ、他のオキサゾ
リジン分子の５−位のカルボン酸と反応し易いからであ
る。この種の副反応は、オキサゾリジン誘導体とタクサ
ン誘導体との間のカップリング反応よりさらに大きい反
応性を有し、その結果カップリング反応を有利に行なう
ことができない。さらに他の場合は一般式（７）のオキ
サゾリジン誘導体からわかる。すなわち、オキサゾリジ
ン環の２−位の置換基がトリハロメチルまたはトリハロ
メチルで置換されたフェニルである場合に、所望のカッ
プリング反応は３−位のアミン基が保護されていなくと
もオキサゾリジン分子間の自己カップリングのような副
反応なしに行なわれ得る。オキサゾリジン環の３−位の
アミン基の保護が必要でなければ、後の段階で保護基を
除去する必要がないなど種々の利点が期待できる。
一方、下記反応式３に示されているように、パクリタ
クセルを製造するもう一つの方法は韓国特許出願第94−
702930号に記載されている。
上記方法では、オキサゾリン誘導体をＣ−13に直結し
たヒドロキシ基を有するタクサン誘導体とカップリング
させてオキサゾリン置換基を有するタクサン誘導体を生
成させ、オキサゾリン環を開環させた後、脱保護してパ
クリタクセルが製造される。しかし、２−位がフェニル
基により置換されたオキサゾリン誘導体およびトリエチ
ルシリル基で保護されたタクサン誘導体を出発物質とし
て用いる場合、オキサゾリン環の開環反応と脱保護反応
は容易に行なうことができない。すなわち、強い酸性お
よび長い反応時間のような厳しい反応条件（すなわち1N
−HCl（5.5当量）、０℃、21時間）が求められるが、そ
れにもかかわらず、生産性及び反応収率が低い。
前述したように、パクリタクセルを製造するために開
発された従来の方法はベータ−ラクタム誘導体、オキサ
ゾリジン誘導体あるいはオキサゾリン誘導体のような種
々の側鎖置換基を用いている。しかし、これらの置換基
はすべて、たとえばそれ自体の合成またはタクサン誘導
体とのカップリングが難しく、置換体環の開環が厳しい
条件を必要とするなど、いくつかの問題を有している。
検討されるべき別の重要な点は、タクサン誘導体の保
護基の選択である。今まで知られているタクサン誘導体
の保護基としては、トリエチルシリルおよびトリクロロ
エトキシカルボニルが挙げられる。かかる保護基を除去
するためには、強い酸性条件あるいは長い反応時間、た
とえば48％HF/ピリジンの存在下に14時間の反応；ギ酸
溶媒中で４時間の反応；亜鉛、AcOH/MeOH＝1/1および60
℃の条件下での反応;0.5％HCl/EtOH中で30時間の反応な
どが、通常求められる。しかも、これら保護基は次のよ
うな問題を有する。トリエチルシリル基の場合には、過
剰量（20当量）の高価な塩化トリエチルシリルが保護反
応に用いられなければならず（WO 93/06094参照）；ま
たトリクロロエトキシカルボニル基の場合には、この保
護基が選択性を有しないので保護されたタクサン誘導体
を製造するために複雑な合成経路を適用しなければなら
ない（Commerconら、Tetrahedron Lettres,pp5185−518
8,1992参照）。
［発明の開示］ そこで、本発明者らは、前述した先行技術方法の種々
の問題点を解決し、パクリタクセルを製造する一層改良
された方法を開発するため、数年間にわたって集中的に
研究してきた。その結果、二つのハロメチル置換基が２
−位に存在し、３−位のアミンが保護されていない新規
なオキサゾリジン誘導体と７−位のヒドロキシ基がトリ
ハロアセチルにより保護された新規なタクサン誘導体と
の間でカップリングを行なえば、非常に温和な条件下に
側鎖置換基の開環反応および脱保護反応が容易に行われ
ることを確認できた。特に、本発明者らは、２−位に二
つのハロメチル置換基を有する新規なオキサゾリジン誘
導体を用いると、オキサゾリジン誘導体とタクサン誘導
体とのカップリング反応が３−位のアミンを保護しなく
とも、オキサゾリジン分子間の自己カップリングのよう
な副反応なしに首尾よく行われるという驚くべき事実を
見出した。
したがって、本発明の目的は（ａ）下記一般式（２）
で示されるオキサゾリジン誘導体あるいはその塩を、縮
合剤の存在下に溶媒中で下記一般式（３）で示される７
−トリハロアセチル−バッカチンIIIとカップリングさ
せて、下記一般式（４）で示されるオキサゾリジン置換
体−含有タクサンを生成させ；（ｂ）オキサゾリジン環
を酸の存在下に溶媒中で開環させ、得られた生成物を塩
基の存在下に塩化ベンゾイルと反応させて、７−位のヒ
ドロキシ基が下記一般式（５）で示されるトリハロアセ
チル基で保護された保護パクリタクセルを生成させ、
（ｃ）次いで７−位の保護基を溶媒中でアンモニアまた
はアンモニアと弱酸の塩により除去することを特徴とす
る、下記一般式（１）で示されるパクリタクセルを製造
する新規な方法を提供することである。
［式中、Ｘはハロゲンを表し、R1はトリハロアセチルを
表す］ 本発明のもう一つの目的は新規な出発物質、一般式
（２）のオキサゾリジン誘導体および一般式（３）のタ
クサン誘導体、ならびにそれらの製造方法を提供するこ
とである。
［発明を実施するための最善の態様］ 本発明によるパクリタクセルの製造方法は、次の反応
式４のように要約することができる。
［式中、ＸおよびR1はそれぞれ前述した通りである］ 以下、上記反応式４に記載の方法をさらに具体的に説
明する。
一般式（３）の７−トリハロアセチル−バッカチンII
Iと一般式（２）のオキサゾリジン誘導体とをカップリ
ングさせて一般式（４）のオキサゾリジン置換体−含有
タクサンを製造する工程（ａ）の反応は、好ましくは20
ないし60℃の温度で行なわれる。この反応に適した溶媒
は、テトラヒドロフラン、ジイソプロピルエーテル、メ
チルｔ−ブチルエーテルあるいはジオキサンのようなエ
ーテル類；メチルイソブチルケトンのようなケトン類；
アセトニトリルのようなニトリル類；エチルアセテー
ト、イソプロピルアセテートまたはｎ−ブチルアセテー
トのようなエステル類；ペンタン、ヘキサンまたはヘプ
タンのような脂肪族炭化水素類；ジクロロメタン、クロ
ロホルムまたは1,2−ジクロロエタンのような塩素化炭
化水素類；ベンゼン、トルエンまたはキシレンのような
芳香族炭化水素類；ジメチルアセトアミドまたはジメチ
ルホルムアミドのようなアミド類を含む。カップリング
反応で、一般式（２）のオキサゾリジン誘導体は、一般
式（３）の化合物に対して、過剰量で、たとえば等モル
ないし３倍モル量、好ましくは1.5ないし３倍モル量で
用いられる。このカップリング反応は、縮合剤の存在下
に、そして任意に活性化剤の存在下に行なわれる。縮合
剤としては、ジシクロヘキシルカルボジイミドのような
カルボジイミド類；および２−ジピリジルカルボネート
のような反応性カルボネート類が挙げられる。また、活
性化剤としては、４−ジメチルアミノピリジン、４−ピ
ロリジノピリジンのようなアルキルアミノピリジン類な
どが挙げられる。一般に、縮合剤は一般式（２）のオキ
サゾリジン化合物に対して化学量論的な量で用いられ、
また活性化剤は一般式（３）の７−トリハロアセチル−
バッカチンIIIに対して化学量論的な量またはそれより
少ない量で用いられる。
一般式（５）の化合物を製造する工程（ｂ）の反応
は、オキサゾリジン環を開環させ、開環された生成物を
塩基の存在下で塩化ベンゾイルと反応させることからな
る。この反応は、一般式（４）の化合物に対して１ない
し1.5当量の酸を用いる弱酸性の条件を必要とするだけ
であり、これは出発物質として一般式（２）の新規なオ
キサゾリジン誘導体を使用することによる効果である。
反応溶液の酸度を調節するために用いられる酸類は、塩
酸、硫酸、ギ酸、硝酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、ｐ−
トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸および安息香酸
を含む。酸は一般式（４）の化合物に対して化学量論的
な量で用いられるが、最短時間で反応を完結させて副反
応を最小化するために、好ましくは1.5当量の酸が用い
られる。溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジエチル
エーテルあるいはジオキサンのようなエーテル類；アセ
トニトリルのようなニトリル類；アセトンあるいはメチ
ルイソブチルケトンのようなケトン類；エチルアセテー
ト、イソプロピルアセテートあるいはｎ−ブチルアセテ
ートのようなエステル類；ジクロロメタン、クロロホル
ムあるいは1,2−ジクロロエタンのような塩素化炭化水
素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭
化水素類；およびジメチルアセトアミドあるいはジメチ
ルホルムアミドのようなアミド類からなる群から選ばれ
た１種以上を用いることができる。この反応は、−20な
いし60℃の範囲の温度で、10ないし30分間行なうのが好
ましい。
得られた反応溶液は適切な塩基で中和した後、塩化ベ
ンゾイルと反応させて一般式（５）の７−位がトリハロ
アセチルで保護されたパクリタクセルを製造する。反応
試剤の塩化ベンゾイルは、一般式（４）のオキサゾリジ
ン置換基−含有タクサンに対して化学量論的な量で、よ
り具体的には１ないし1.2当量用いられる。塩基として
は、重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
および水酸化リチウムからなる群から選ばれた１種以上
の水溶性塩基を、一般式（４）の化合物に対して過剰
量、好ましくは３ないし20当量用いることができる。
最後に、工程（ｃ）でアンモニアあるいはアンモニア
の弱酸との塩を用いて、化合物（５）の７−位のトリハ
ロアセチル基を除去して、一般式（１）の所望の化合物
パクリタクセルを製造する。この反応で、５ないし40％
の濃度を有する水性アンモニアあるいはアンモニア−有
機溶媒溶液が一般式（５）の化合物に対して化学量論的
な量以上、好ましくは１ないし５当量用いられる。アン
モニアの弱酸との塩がアンモニアに代わる場合には、一
般式（５）の化合物に対して１ないし５当量用いられ
る。弱酸はギ酸、酢酸あるいはプロピオン酸でもよい。
溶媒としては、メタノール、エタノールあるいはイソプ
ロピルアルコールのようなアルコール類；テトラヒドロ
フラン、ジエチルエーテルあるいはジオキサンのような
エーテル類；アセトニトリルのようなニトリル類；エチ
ルアセテート、イソプロピルアセテートあるいはｎ−ブ
チルアセテートのようなエステル類；ジクロロメタン、
クロロホルムあるいは1,2−ジクロロエタンのような塩
素化炭化水素類；ベンゼン、トルエンあるいはキシレン
のような芳香族炭化水素類；およびジメチルアセトアミ
ドあるいはジメチルホルムアミドのようなアミド類から
なる群から選ばれた１種以上を用いることができる。こ
の反応は、好ましくは０ないし60℃の範囲の温度で行な
われる。従来は、タクサンの７−位の保護基を除去する
ために非常に強い酸性条件が一般に求められてきた。し
かしながら、本発明は、アンモニアまたはアンモニアの
弱酸との塩を用いる弱アルカリ性あるいは殆ど中性の条
件下で保護基を容易に除去することを可能にした。
パクリタクセルを製造する方法において出発物質とし
て用いられる一般式（３）の７−トリハロアセチル−バ
ッカチンIIIはそれ自体新規な化合物である。したがっ
て、本発明のもう一つの目的は一般式（３）の新規なタ
クサン誘導体を提供することである。
一般式（３）の７−トリハロアセチル−バッカチンII
Iは、（ｄ）下記一般式（８）で示される10−デアセチ
ル−バッカチンIIIを塩基の存在下に溶媒中でハロゲン
化トリハロアセチルと反応させて、下記一般式（９）で
示される10−デアセチル−７−トリハロアセチル−バッ
カチンIIIを得た後、（ｅ）得られた一般式（９）の化
合物を塩基の存在下に溶媒中でハロゲン化アセチルと反
応させることにより製造することができる。
［式中、R1はトリハロアセチルを表す］ 一般式（３）の化合物を製造する方法は、次の反応式
５のように要約することができる。
［式中、R1は前述した通りである］ 反応式５の工程（ｄ）では、一般式（８）の10−デア
セチル−バッカチンIIIの７位のヒドロキシ基をトリハ
ロアセチルで保護して、一般式（９）の10−デアセチル
−７−トリハロアセチル−バッカチンIIIを製造する。
保護基としてトリエチルシリルあるいはトリクロロエト
キシカルボニルを用いる従来の方法では、約20倍モル量
以上のトリエチルシリルを用いなければならないか、ま
たは数工程からなるやや複雑な方法を行なわなければな
らなかった。反面、本発明によるこの工程では、単に化
学量論的な量のトリハロアセチルを用いるだけで、タク
サン誘導体の７−位のヒドロキシ基を選択的に保護する
ことができる。トリクロロアセチルクロリド、臭化トリ
クロロアセチル、トリブロモアセチルクロリド、臭化ト
リブロモアセチル、トリフルオロアセチルクロリド、臭
化トリフルオロアセチル、トリヨードアセチルクロリド
および臭化トリヨードアセチルからなる群から選ばれた
１種がハロゲン化トリハロアセチルとして用いられ、そ
れは通常一般式（８）の化合物に対して化学量論的な量
以上、好ましくは１ないし1.5当量用いられる。この反
応で適切に用いられる溶媒としては、テトラヒドロフラ
ン、ジイソプロピルエーテル、メチルｔ−ブチルエーテ
ルあるいはジオキサンのようなエーテル類；メチルイソ
ブチルケトンなどのケトン類；アセトニトリルのような
ニトリル類；エチルアセテート、イソプロピルアセテー
トあるいはｎ−ブチルアセテートのようなエステル類；
ペンタン、ヘキサンあるいはヘプタンのような脂肪族炭
化水素類；ジクロロメタン、クロロホルムあるいは1,2
−ジクロロエタンのような塩素化炭化水素類；ベンゼ
ン、トルエンあるいはキシレンのような芳香族炭化水素
類；ジメチルアセトアミドあるいはジメチルホルムアミ
ドのようなアミド類；およびピリジンのような塩基性溶
媒を含む。溶媒としてピリジンを用いる場合には、塩基
を用いないで反応を行うことができる。適切な塩基とし
ては、ピリジン、トリエチルアミン、イミダゾール、DB
U、ジイソプロピルエチルアミン、カリウムｔ−ブトキ
シド、ナトリウムエトキシド、ｎ−ブチルリチウム、フ
ェニルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド、水素
化ナトリウムあるいはリチウムビストリメチルシリルア
ミドなどが挙げられる。この反応は好ましくは−20ない
し60℃の温度範囲で行なわれる。
工程（ｅ）では、一般式（９）の１−デアセチル−７
−トリハロアセチル−バッカチンIIIを溶媒中で塩基の
存在下にハロゲン化アセチルと反応させて、一般式
（３）の新規な７−トリハロアセチル−バッカチンIII
を製造する。ハロゲン化アセチルは、一般式（９）の10
−デアセチル−７−トリハロアセチル−バッカチンIII
に対して化学量論的な量以上、好ましくは１ないし８当
量用いられる。適切に用いられる溶媒および塩基、なら
びに反応温度の範囲は、工程（ｄ）で述べたのと同じで
ある。
次の一般式（2a）で示されるオキサゾリジン誘導体
は、それ自体新規な化合物であり、したがってそれは本
発明のさらにもう一つの目的である。
［式中、Ｘは前述した通りであり、 Ｒは水素またはC1−C3アルキルを表す］ この化合物の最も重要な特徴は、二つのハロメチル置
換基がオキサゾリジン環の２−位に存在し、かつ３−位
のアミンが保護されていないことである。加えて、この
化合物は本発明によるパクリタクセルを製造する方法の
出発物質である一般式（２）の化合物を含む。
上述した一般式（2a）のオキサゾリジン誘導体は、次
の一般式（10）で示される（2R,3S）−フェニルイソセ
リン誘導体を、溶媒中で酸触媒の存在下に次の一般式
（11）で示される化合物と反応させて製造することがで
きる。
［式中、ＲおよびＸはそれぞれ前述した通りである］ 上記の方法を行なって製造される一般式（2a）の化合
物は、二つの形態の化合物を含む。一つは遊離酸の形態
（Ｒ＝水素）であり、もう一つはエステルの形態（Ｒ＝
アルキル）である。したがって、遊離酸の形態が好まし
ければ、一般式（2a）のエステル形態の化合物に対して
加水分解をさらに行なえばよい。
オキサゾリジン誘導体を製造する従来のあらゆる方法
は、出発物質としてフェニルイソセリンアルキルエステ
ル（エステル形態）のみを用いていた。しかしながら、
本発明では、オキサゾリジン誘導体をフェニルイソセリ
ンおよびフェニルイソセリンアルキルエステルから製造
することができる。すなわち、本発明者らは、一般式
（２）の新規なオキサゾリジン誘導体（Ｒ＝水素）がフ
ェニルイソセリンから直接製造できるという驚くべき事
実を見出した。エステル形態ではないフェニルイソセリ
ンを出発物質として用いる場合には、二工程（一工程は
フェニルイソセリンからフェニルイソセリンメチルエス
テルを製造することであり、もう一工程はオキサゾリジ
ン誘導体からメチルエステル基を除去することである）
が省かれ、したがってこれは本発明によりもたらされる
もう一つの利点である。
一般式（2a）のオキサゾリジン誘導体を製造する方法
は、次の反応式６で示すことができる。
［式中、Ｘ及びＲはそれぞれ前記の通りである］ Ｒが水素またはアルキルである一般式（2a）のオキサ
ゾリジン誘導体は、（2R,3S）−フェニルイソセリン誘
導体を溶媒中で酸触媒の存在下に一般式（11）のハロゲ
ン化アセトンと反応させて製造される。酸触媒として
は、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、トリ
フルオロメチルスルホン酸、ピリジニウムｐ−トルエン
スルホネート、アンバーライトIR−120などが用いられ
る。そして、溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジイ
ソプロピルエーテル、メチルｔ−ブチルエーテルあるい
はジオキサンのようなエーテル類；アセトニトリルのよ
うなニトリル類；エチルアセテート、イソプロピルアセ
テートあるいはｎ−ブチルアセテートのようなエステル
類；ジクロロメタン、クロロホルムあるいは1,2−ジク
ロロエタンのような塩素化炭化水素類；ベンゼン、トル
エンあるいはキシレンのような芳香族炭化水素類；およ
びジメチルアセトアミドあるいはジメチルホルムアミド
のようなアミド類から選ばれた１種以上を用いることが
できる。用いられる溶媒に溶解し難い（2R,3S）−フェ
ニルイソセリン（Ｒ＝水素）を出発物質として用いる場
合には、少量のアミド類を反応溶液に加えることによ
り、良い収率が達成され、さらに溶媒の総容積に対して
1/20倍以上の量のアミド類を加えることによって、反応
時間を短縮することができる。この反応は好ましくは30
ないし100℃の範囲の温度で行なわれる。
Ｒがアルキルである一般式（2a）の化合物が得られる
場合には、それをさらに加水分解してＲが水素である一
般式（2a）の化合物とすることができる。水酸化物のよ
うな水溶性の塩基は、加水分解用試剤として用いられ
る。この目的のために用いられる水酸化物は、たとえば
水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムな
どのアルカリ金属水酸化物を含む。加水分解用試剤は、
Ｒがアルキルである一般式（2a）のオキサゾリジン化合
物に対して好ましくは１ないし２当量用いられる。反応
溶媒としては容積比10:1ないし100:1の水−混和性有機
溶媒と水との混合溶媒が用いられる。ここで適切に用い
られる水−混和性有機溶媒は、メタノール、エタノー
ル、イソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、アセトン
およびアセトニトリルを含む。この反応は−20ないし60
℃の範囲の温度で行なうのが好ましい。加水分解が完了
した後、有機溶媒を減圧蒸留により除去して、Ｒが水素
である一般式（2a）のオキサゾリジン化合物を無機塩の
形態（RCO2M）で得る。塩の形態を遊離酸の形態（RCO
2H）に転換させるためには、酸またはpH5ないし７を有
する緩衝液を用いる。この目的のために用いられる酸と
しては、塩酸、ギ酸、酢酸およびトリフルオロ酢酸を含
む。この酸は、加水分解反応で用いられるアルカリ金属
水酸化物と同当量用いられる。
カップリング後の開環反応は、一般式（2a）の化合物
を用いると温和な条件下で容易に行なうことができるの
で、本発明によるこの化合物は、開環及び脱保護反応の
過程で非常に強い酸性条件及び長い反応時間（すなわ
ち、1H−HCl（5.5当量）、０℃、21時間）を必要とする
既存の２−フェニル−２−オキサゾリン誘導体よりさら
に有利である。
反応式６の反応で出発物質として用いられる（2R,3
S）−フェニルイソセリン誘導体またはその塩は、公知
の方法によって得られる。（米国特許5,420,337号;Comm
erconら.,Tetrahedron Letters,33,5185−5188頁,1992
年；およびKimら.,韓国特許出願第96−7304号参照）。
このようにして得られる一般式（２）のオキサゾリジ
ン化合物（Ｒ＝水素）は、酸の存在下で不安定のため、
次の一般式（2b）で示される３級アミン塩基との塩の形
態での化合物を貯蔵するのが好ましい。
［式中、Ｘは前述した通りであり、 R5、R6およびR7は相互に独立してC1−C4アルキルもしく
はフェニルアルキルを表すか、または R5およびR6は一緒になって４ないし７個の環原子を有す
る環状の鎖を形成することができる］ 本発明を以下の実施例によりさらに具体的に説明す
る。しかしながら、これらの実施例は本発明の実例を挙
げて説明するためのものであって、いかなる意味におい
ても本発明の範囲を限定するものではない。
実施例１ 10−デアセチル−７−トリクロロアセチル−バッカチン
IIIの合成 10−デアセチル−バッカチンIII30g（0.055mol）をク
ロロホルム1.35Lに溶解し、これにピリジン134mL（30当
量）を滴下した後、反応混合物を10分間攪拌した。トリ
クロロアセチルクロリド12g（0.066mol）を徐々に加え
た後、得られた混合物を室温で30分間攪拌した。次い
で、トリクロロアセチルクロリド3g（0.017mol）をさら
に加えて、全ての混合物を20分間攪拌した。溶媒を減圧
下で除去し、水100mLを残留物に加えた後、得られた溶
液をエチルアセテート700mLで抽出した。得られた有機
層を塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した後、減圧蒸留した。残留物をトルエン20
0mLに溶解させた後、０℃に冷却した。得られた微細な
固体を濾取した後、ヘキサン200mLで洗浄して、純粋な
標題化合物36g（収率:95％）を得た。
融点:216℃ ［α］D 25＝−45.3゜（ｃ＝1,CHCl3）1 H NMR（300MHz,CDCl3）；δ8.12（d,J＝7.3Hz,2H）,7.
67−7.49（m,3H）,5.67（d,J＝6.9Hz,1H）,5.61−5.55
（m,1H）,5.35（s,1H）,5.00（d,J＝8.6Hz,1H）,4.90
（m,1H）,4.38（d,J＝8.5Hz,1H）,4.22（d,J＝8.4Hz,1
H）,3.99（m,1H）,2.77−2.71（m,1H）,2.32−1.09（m,
18H） 実施例２ ７−トリクロロアセチル−バッカチンIIIの合成 実施例１で得られた10−デアセチル−７−トリクロロ
アセチル−バッカチンIII36g（0.052mol）をクロロホル
ム1.25Lに溶解した。これにピリジン125ml（30当量）を
滴下した後、混合物を10分間攪拌した。この混合物に臭
化アセチル38g（0.309mol）を徐々に加え、得られた混
合物を室温で３時間攪拌した。溶媒を減圧下で除去し、
水100mLを残留物に加えた後、得られた溶液をエチルア
セテート700mLで抽出した。得られた有機層を塩化ナト
リウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た後、減圧蒸留した。残留物をトルエン200mLに溶解し
た後、０℃に冷却した。得られた微細な固体を濾取した
後、ヘキサン200mLで洗浄して、純粋な標題化合物35.9g
（収率:94％）を得た。
融点:180℃ ［α］D 25＝−62.3゜（ｃ＝1,CHCl3）1 H NMR（300MHz,CDCl3）：δ8.13（d,J＝7.3Hz,2H）,7.
67−7.49（m,3H）,6.50（s,1H）,5.76−5.67（m,2H）,
5.00（d,J＝8.8Hz,1H）,4.89（m,1H）,4.37（d,J＝9.0H
z,1H）,4.19（d,J＝9.4Hz,1H）,4.06（m,2H）,2.73−2.
69（m,1H）,2.34−1.11（m,21H） 実施例３ （4S,5R）−2,2'−ジ（クロロメチル）−４−フェニル
−1,3−オキサゾリジン−５−カルボン酸メチルエステ
ルの合成 （2R,3S）−フェニルイソセリンメチルエステル10.0g
（0.051mol）、1,3−ジクロロアセトン6.51g（0.051mo
l）およびピリジニウムｐ−トルエンスルホネート0.1g
をアセトニトリル100mLに溶解した。混合物を80℃で40
分間攪拌した後、反応溶媒を減圧蒸留により除去した。
水100mLを残留物に加えた後、エチルアセテート200mLで
抽出した。有機層に含まれている水分を無水硫酸マグネ
シウムで除去した後、溶媒を減圧留去して標題化合物1
4.1g（収率:90％）を得た。1 H NMR（300MHz,CDCl3）：δ7.47−7.28（m,5H）,4.64
−4.53（m,2H）,3.95（s,2H）,3.84（d,J＝6.0Hz,2H）,
3.78（s,3H）,3.10（d,J＝10.2Hz,1H） 実施例４ （4R,5R）−2,2'−ジ（クロロメチル）−４−フェニル
−1,3−オキサゾリジン−５−カルボン酸トリエチルア
ミン塩の合成（方法Ｉ） 実施例３で製造された（4S,5R）−2,2'−ジ（クロロ
メチル）−４−フェニル−1,3−オキサゾリジン−５−
カルボン酸メチルエステル13.0（0.043mol）をメタノー
ル50mLに溶解した後、これに3.0N水酸化リチウム水溶液
15.7mL（0.047mol）を滴下した。反応混合物を常温で30
分間攪拌した後、反応溶媒を減圧蒸留により除去した。
水30mLおよび3.0N塩酸水溶液15.7mL（0.047mol）を残留
物に加えた後、エチルアセテート200mLで抽出した。有
機層に含まれている水分を無水硫酸マグネシウムで除去
した後、これにトリエチルアミン9.0mL（0.065mol）を
滴下した。溶媒を減圧留去して、標題化合物15.7g（収
率:94％）を得た。1 H NMR（300MHz,CDCl3）：δ7.52−7.28（m,5H）,4.57
（d,J＝7.6Hz,1H）,4.46（d,J＝7.6Hz,1H）,3.94−3.81
（m,4H）,3.07（q,J＝7.1Hz,6H）,1.28（t,J＝7.1Hz,9
H） 実施例５ （4S,5R）−2,2'−ジ（クロロメチル）−４−フェニル
−1,3−オキサゾリジン−５−カルボン酸トリエチルア
ミン塩の合成（方法II） （2R,3S）−フェニルイソセリン10.0g（0.055mol）、
1,3−ジクロロアセトン7.0g（0.055mol）、ジメチルホ
ルムアミド5mLおよびピリジニウムｐ−トルエンスルホ
ネート0.1gをアセトニトリル100mLに溶解した。混合物
を80℃で１時間攪拌した後、反応溶媒を減圧蒸留により
除去した。水100mLを残留物に加えた後、エチルアセテ
ート200mLで抽出した。有機層に含まれている水分を無
水硫酸マグネシウムで除去した後、これにトリエチルア
ミン11.5mL（0.083mol）を滴下した。溶媒を減圧留去し
て、標題化合物19g（収率:88％）を得た。
実施例６ 13−［4S,5R）−2,2'−ジ（クロロメチル）−４−フェ
ニル−1,3−オキサゾリジニルカルボニル］−バッカチ
ンIIIの合成 実施例４または５で製造された（4S,5R）−2,2'−ジ
（クロロメチル）−４−フェニル−1,3−オキサゾリジ
ン−５−カルボン酸トリエチルアミン塩、および実施例
２で製造された７−トリクロロアセチル−バッカチンII
I9.8g（0.013mol）を、ジシクロヘキシルカルボジイミ
ド8.2g（0.040mol）および４−ジメチルアミノピリジン
0.1gと共に、トルエン120mLに溶解した。得られた混合
物を常温で１時間攪拌し、セライトパッド（cellitepa
d）を介して濾過し、減圧蒸留して反応溶媒を除去し
た。残留物をカラムクロマトグラフィー（溶出液：エチ
ルアセテート／ヘキサン＝1/2,v/v）に付して淡黄色固
体の標題化合物12.6g（収率:94.5％）を得た。
融点:187℃ ［α］D 25＝−24.8゜（ｃ＝0.14,CHCl3）1 H NMR（300MHz,CDCl3）：δ8.03（d,J＝7.2Hz,2H）,7.
68−7.45（m,8H）,6.39（s,1H）,6.26（t,J＝8.5Hz,1
H）,5.76−5.69（m,2H）,5.67−5.62（m,2H）,4.89（d,
J＝8.4Hz,1H）,4.65（m,1H）,4.43（d,J＝8.2Hz,1H）,
4.27（d,J＝8.4Hz,1H）,4.11（d,J＝7.3Hz,1H）,4.04
（s,2H）,3.90（m,1H）,3.82（d,J＝9.8Hz,2H）,3.20
（d,J＝10.5Hz）,2.65（m,1H）,2.15−1.14（m,21H） 実施例７ パクリタクセルの合成 実施例６で製造したカップリング生成物12g（0.012mo
l）をエチルアセテート50mLに溶解した。これに濃塩酸
1.5mL（0.018mol）を滴下し、混合物を常温で20分間攪
拌した。反応溶液を重炭酸ナトリウム12g（0.14mol）で
中和した。水100mLを混合物に加えた後、これに塩化ベ
ンゾイル1.7mL（0.014mol）を滴下した。反応溶液を常
温で10分間攪拌し、エチルアセテート300mLで抽出した
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧蒸留
により除去し、得られた残留物をメタノールとテトラヒ
ドロフランの混合溶媒（3/1,v/v）50mLに溶解した。こ
れに、メタノールに溶解した2.0Mアンモニア（6.0mL,0.
012mol）を滴下し、得られた混合物を常温で１時間攪拌
した後、反応溶媒を減圧留去した。残留物をカラムクロ
マトグラフィー（溶出液：エチルアセテート／ヘキサン
＝2/1,v/v）に付して、白色固体の標題化合物9.39g（収
率:92％）を得た。1 H NMR（300MHz,CDCl3）：δ8.15（d,J＝7.2Hz,2H）,7.
76（d,J＝7.2Hz,2H）,7.64−7.37（m,1H）,7.04（d,J＝
8.8Hz,1H）,6.29（s,1H）,6.25（dd,J＝8.9Hz,J＝8.9H
z,1H）,5.80（dd,J1＝2.5Hz,J2＝8.7Hz,1H）,5.69（d,J
＝7.1Hz,1H）,4.95（dd,J1＝2.3Hz,J2＝10Hz,1H）,4.81
（dd,J1＝2.5Hz,J2＝5.0Hz,1H）,4.41（m,1H）,4.32
（d,J＝8.5Hz,1H）,4.22（d,J＝8.5Hz,1H）,3.83（d,J
＝6.9Hz,1H）,3.66（d,J＝5.3Hz,1H）,2.54−1.16（m,2
2H） 本発明による利点は、次のように要約することができ
る。
パクリタクセルを製造する既存の方法は、一般にバッ
カチンIIIの７−位のヒドロキシ基の保護のためにトリ
エチルシリルまたはトリクロロエトキシカルボニル基が
用いられている。これらの保護基の除去は強酸を用いる
非常に激しい条件を必要としている。しかしながら、本
発明では同じ位置のヒドロキシ基がトリハロアセチル基
で保護されており、弱アルカリ性または殆ど中性の温和
な条件下で容易に除去することができる（たとえば、１
当量のアンモニア／有機溶媒、20℃、１時間；あるいは
1.2当量のアンモニウムアセテート／有機溶媒、20℃、
３時間）。したがって、本発明によれば、パクリタクセ
ルを容易に、しかもより経済的に製造することができ
る。特に、反応条件の温和なことは、この方法を工業的
な規模で適用する場合に著しく有利であると予想され
る。
本発明のさらにもう一つの利点は、二つのハロメチル
置換基が２−位に存在し、３−位のアミンがバッカチン
IIIの置換基のように保護されていない新規なオキサゾ
リジン誘導体の使用にある。かかる新規なオキサゾリジ
ン誘導体は、自己カップリングのような副反応を引き起
こさず、カップリングした後の開環反応を容易にして、
生産性を向上させる。さらに、この新規なオキサゾリジ
ン誘導体はフェニルイソセリンから直接製造できるた
め、反応工程を短縮することができる。
したがって、除去し易い適切な保護基を用いることに
より、本方法は温和な条件下で高い通算収率で簡便に行
なうことができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ムン ヨン ホー 大韓民国，キョンギ―ド 463―070、ソ ンナム―シティ、ブンダン―グ、ヤタプ ―ドン ＃319―１ (72)発明者 リー クァン オク 大韓民国，ソウル 120―113、ソデムン ―ク、ヨンヒ ３―ドン ドンジンアパ ートメント ＃７―209 (72)発明者 キム ナム ドゥ 大韓民国，キョンギ―ド 449―840、ヨ ンイン―シティ スジ―ウプ ピョント クチョン―リ サムソン４スアパートメ ント ＃1101―1403 (72)発明者 ハー テー ヒー 大韓民国，キョンギ―ド 463―500、ソ ンナム―シティ、ブンダン―グ、クミ― ドン ＃220、アパートメント 405― 1206 (72)発明者 シン ジョン エー 大韓民国，ソウル 121―100、マポ― グ、ノゴサン―ドン 31―100 (72)発明者 リー クァン スン 大韓民国，ソウル 138―160、ソンパ― グ、カラク―ドン、クットンアパートメ ント ＃２―806 (72)発明者 キム ウァン ジュー 大韓民国，ソウル 138―050、ソンパ― グ、パンイ―ドン、オリンピックアパー トメント ＃311―1002 (56)参考文献 国際公開94／7879（ＷＯ，Ａ１) 国際公開94／20484（ＷＯ，Ａ１) 国際公開93／17997（ＷＯ，Ａ１) Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔ ｔ．，Ｖｏｌ．33，Ｎｏ．36，ｐ．5185 −5188（1992) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07D 305/14 C07D 263/06 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)

Claims (28)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】（ａ）下記一般式（２）で示されるオキサ
    ゾリジン誘導体またはその塩を、縮合剤の存在下に溶媒
    中で下記一般式（３）で示される７−トリハロアセチル
    −バッカチンIIIとカップリングさせて、下記一般式
    （４）で示されるオキサゾリジン置換基−含有タクサン
    を生成させ；（ｂ）オキサゾリジン環を酸の存在下に溶
    媒中で開環させ、得られた生成物を塩基の存在下にベン
    ゾイルクロリドと反応させて、７−位のヒドロキシ基が
    下記一般式（５）で示されるトリハロアセチル基で保護
    された保護パクリタクセルを生成させ；（ｃ）次いで７
    −位の保護基を溶媒中でアンモニアあるいはアンモニア
    の弱酸との塩により除去することを特徴とする、下記一
    般式（１）で示されるパクリタクセルを製造する方法。 ［式中、 Ｘはハロゲンを表し、 R1はトリハロアセチルを表す］
  2. 【請求項２】Ｘがクロロであり、R1がトリクロロアセチ
    ルである請求項１に記載の方法。
  3. 【請求項３】工程（ａ）の溶媒が、テトラヒドロフラ
    ン、ジイソプロピルエーテル、メチルｔ−ブチルエーテ
    ル、ジオキサン、メチルイソブチルケトン、アセトニト
    リル、エチルアセテート、イソプロピルアセテート、ｎ
    −ブチルアセテート、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、
    ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタ
    ン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジメチルアセトア
    ミドおよびジメチルホルムアミドから選ばれた１種以上
    である請求項１に記載の方法。
  4. 【請求項４】工程（ａ）の縮合剤が、カルボジイミド類
    あるいは反応性カルボネート類である請求項１に記載の
    方法。
  5. 【請求項５】工程（ａ）の反応が、活性化剤としての４
    −ジメチルアミノピリジンあるいは４−ピロリジノピリ
    ジンの存在下で行なわれる請求項１に記載の方法。
  6. 【請求項６】工程（ｂ）の溶媒が、テトラヒドロフラ
    ン、ジエチルエーテル、ジオキサン、アセトニトリル、
    アセトン、メチルイソブチルケトン、エチルアセテー
    ト、イソプロピルアセテート、ｎ−ブチルアセテート、
    ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタ
    ン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジメチルアセトア
    ミドおよびジメチルホルムアミドからなる群から選ばれ
    た１種以上である請求項１に記載の方法。
  7. 【請求項７】工程（ｂ）で、塩酸、硫酸、ギ酸、硝酸、
    酢酸、トリフルオロ酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メ
    タンスルホン酸、および安息香酸からなる群から選ばれ
    た酸を、一般式（４）のオキサゾリジン置換基−含有タ
    クサンに対して1.5当量用いる請求項１に記載の方法。
  8. 【請求項８】工程（ｂ）でベンゾイルクロリドを一般式
    （４）のオキサゾリジン置換基−含有タクサンに対して
    １ないし1.2当量用いる請求項１に記載の方法。
  9. 【請求項９】工程（ｂ）の塩基が、重炭酸ナトリウム、
    重炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸
    化ナトリウム、水酸化カリウムおよび水酸化リチウムか
    らなる群から選ばれた１種以上である請求項１に記載の
    方法。
  10. 【請求項１０】工程（ｃ）で、５ないし40％の濃度を有
    する水性アンモニアあるいはアンモニア−有機溶媒溶液
    を、一般式（５）の化合物に対して１ないし５当量用い
    る請求項１に記載の方法。
  11. 【請求項１１】工程（ｃ）で、ギ酸、酢酸およびプロピ
    オン酸からなる群から選ばれた弱酸とのアンモニアの塩
    を、一般式（５）の化合物に対して１ないし５当量用い
    る請求項１に記載の方法。
  12. 【請求項１２】（ｄ）下記一般式（８）で示される10−
    デアセチル−バッチカンIIIを、塩基の存在下に溶媒中
    でハロゲン化トリハロアセチルと反応させて、下記一般
    式（９）で示される10−デアセチル−７−トリハロアセ
    チル−バッカチンIIIを生成させた後、（ｅ）得られた
    一般式（９）の化合物を塩基の存在下に溶媒中でハロゲ
    ン化アセチルと反応させることを特徴とする、一般式
    （３）のタクサン誘導体を製造する方法。 ［式中、R1はトリハロアセチルを表す］
  13. 【請求項１３】工程（ｄ）でトリクロロアセチルクロリ
    ド、臭化トリクロロアセチル、トリブロモアセチルクロ
    リド、臭化トリブロモアセチル、トリフルオロアセチル
    クロリド、臭化トリフルオロアセチル、トリヨードアセ
    チルクロリドおよび臭化トリヨードアセチルからなる群
    から選ばれたハロゲン化トリハロアセチルを、一般式
    （８）の化合物に対して１ないし1.5当量用いる請求項1
    2に記載の方法。
  14. 【請求項１４】ハロゲン化トリハロアセチルがトリクロ
    ロアセチルクロリドである請求項12または13に記載の方
    法。
  15. 【請求項１５】工程（ｅ）でハロゲン化アセチルを一般
    式（９）の化合物に対して１ないし８当量用いる請求項
    12に記載の方法。
  16. 【請求項１６】ハロゲン化アセチルが臭化アセチルであ
    る請求項12または15に記載の方法。
  17. 【請求項１７】工程（ｄ）または工程（ｅ）で、溶媒が
    テトラヒドロフラン、ジイソプロピルエーテル、メチル
    ｔ−ブチルエーテル、ジオキサン、メチルイソブチルケ
    トン、アセトニトリル、エチルアセテート、イソプロピ
    ルアセテート、ｎ−ブチルアセテート、ペンタン、ヘキ
    サン、ヘプタン、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2
    −ジクロロエタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジ
    メチルアセトアミド、ジメチルホルムアミドおよびピリ
    ジンからなる群から選ばれた１種以上である請求項12に
    記載の方法。
  18. 【請求項１８】工程（ｄ）または（ｅ）で、塩基がピリ
    ジン、トリエチルアミン、イミダゾール、DBU、ジイソ
    プロピルエチルアミン、カリウムｔ−ブトキシド、ナト
    リウムエトキシド、ｎ−ブチルリチウム、フェニルリチ
    ウム、リチウムジイソプロピルアミド、水素化ナトリウ
    ムおよびリチウムビストリメチルシリルアミドからなる
    群から選ばれた１種以上である請求項12に記載の方法。
  19. 【請求項１９】次の一般式（2a）で示されるオキサゾリ
    ジン誘導体またはその塩。 ［式中、Ｘは請求項１で定義した通りであり、Ｒは水素
    またはC1−C3アルキルを表す］
  20. 【請求項２０】次の一般式（2b）で示される塩の形態で
    ある請求項19に記載の化合物。 ［式中、Ｘは請求項１で定義した通りであり、 R5、R6およびR7は相互に独立してC1−C4アルキルもしく
    はフェニルアルキルを表すか、または R5とR6は一緒になって４ないし７個の環原子を有する環
    状の鎖を形成することができる］
  21. 【請求項２１】Ｘがクロロである請求項19または20に記
    載の化合物。
  22. 【請求項２２】次の一般式（10）で示される（2R,3S）
    −フェニルイソセリン誘導体を、溶媒中で酸触媒の存在
    下に次の一般式（11）で示される化合物と反応させるこ
    とを特徴とする、請求項19で定義した通りのオキサゾリ
    ジン誘導体またはその塩の製造方法。 ［式中、 Ｒは請求項19で定義した通りであり、また Ｘは請求項１で定義した通りである］
  23. 【請求項２３】溶媒がテトラヒドロフラン、ジイソプロ
    ピルエーテル、メチルｔ−ブチルエーテル、ジオキサ
    ン、アセトニトリル、エチルアセテート、イソプロピル
    アセテート、ｎ−ブチルアセテート、ジクロロメタン、
    クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、ベンゼン、トル
    エン、キシレン、ジメチルアセトアミドおよびジメチル
    ホルムアミドからなる群から選ばれた１種以上である請
    求項22に記載の方法。
  24. 【請求項２４】酸触媒がｐ−トルエンスルホン酸、メタ
    ンスルホン酸、トリフルオロメチルスルホン酸、ピリジ
    ニウムｐ−トルエンスルホネートおよびアンバーライト
    IR−120からなる群から選ばれた１種以上である請求項2
    2に記載の方法。
  25. 【請求項２５】Ｒがアルキルである一般式（2a）の化合
    物が、水溶性の塩基の存在下に溶媒中でさらに加水分解
    されて、Ｒが水素である一般式（2a）の化合物を得る、
    請求項22に記載の方法。
  26. 【請求項２６】溶媒が容積比10:1ないし100:1である水
    −混和性有機溶媒と水との混合物である請求項25に記載
    の方法。
  27. 【請求項２７】水−混和性有機溶媒がメタノール、エタ
    ノール、イソプロピルアルコール、テトラヒドロフラ
    ン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ア
    セトンおよびアセトニトリルからなる群から選ばれた１
    種以上である請求項26に記載の方法。
  28. 【請求項２８】水酸化リチウム、水酸化ナトリウムおよ
    び水酸化カリウムからなる群から選ばれた水溶性の塩基
    が、ＲがC1−C3アルキルである一般式（2a）の化合物に
    対して１ないし２当量用いられる請求項25に記載の方
    法。
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