JP3385950B2 - ガス放電パネル及びその製造方法 - Google Patents
ガス放電パネル及びその製造方法Info
- Publication number
- JP3385950B2 JP3385950B2 JP1526698A JP1526698A JP3385950B2 JP 3385950 B2 JP3385950 B2 JP 3385950B2 JP 1526698 A JP1526698 A JP 1526698A JP 1526698 A JP1526698 A JP 1526698A JP 3385950 B2 JP3385950 B2 JP 3385950B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- gas discharge
- manufacturing
- discharge panel
- panel according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ガス放電パネル及
びその製造方法に関する。
びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来から、ガス放電パネルの一例として
は図２に示すようなＡＣ型のプラズマディスプレイパネ
ル（以下、ＰＤＰという）が知られている。以下図面を
参照しながら、従来のＰＤＰのパネル構成とその動作を
説明する。図２は、従来のＰＤＰの模式的な断面斜視図
である。
は図２に示すようなＡＣ型のプラズマディスプレイパネ
ル（以下、ＰＤＰという）が知られている。以下図面を
参照しながら、従来のＰＤＰのパネル構成とその動作を
説明する。図２は、従来のＰＤＰの模式的な断面斜視図
である。
【０００３】同図において、１はフロント基板であり、
６はバック基板である。ＰＤＰは、フロント基板１とバ
ック基板６とが対向配置され、その外周端縁部の間に
は、ガス放電用空間を形成するために低融点ガラスから
なる封止部材（図省略）により封止されており、その密
閉空間に、３００Ｔｏｒｒから５００Ｔｏｒｒの希ガス
（ヘリウム、キセノン、ネオンなどの混合ガス）が封入
された構成である。
６はバック基板である。ＰＤＰは、フロント基板１とバ
ック基板６とが対向配置され、その外周端縁部の間に
は、ガス放電用空間を形成するために低融点ガラスから
なる封止部材（図省略）により封止されており、その密
閉空間に、３００Ｔｏｒｒから５００Ｔｏｒｒの希ガス
（ヘリウム、キセノン、ネオンなどの混合ガス）が封入
された構成である。
【０００４】フロント基板１は、バックパネルガラス７
の表面にパターン形成されたアドレス電極８とそれを覆
うように成膜された隔壁下地層９と、複数の隔壁１０
と、隔壁１０同士の間に塗布されたＲＧＢの蛍光体１１
から構成されている。
の表面にパターン形成されたアドレス電極８とそれを覆
うように成膜された隔壁下地層９と、複数の隔壁１０
と、隔壁１０同士の間に塗布されたＲＧＢの蛍光体１１
から構成されている。
【０００５】ここで、隔壁１０は、上記ガス放電用空間
を区切るための手段である。このようにして区切られた
空間部１２が発光領域となるものであり、蛍光体１１
は、この発光領域毎に塗布されている。また、隔壁１０
とアドレス電極５とは同一方向に形成されており、表示
電極３はアドレス電極８と直交している。
を区切るための手段である。このようにして区切られた
空間部１２が発光領域となるものであり、蛍光体１１
は、この発光領域毎に塗布されている。また、隔壁１０
とアドレス電極５とは同一方向に形成されており、表示
電極３はアドレス電極８と直交している。
【０００６】以上のように構成されたＰＤＰは、アドレ
ス電極８、表示電極３に適当なタイミングで電圧を印加
することにより、表示画素に相当する、隔壁１０で区切
られた空間部１２で放電が起こり、紫外線が発生し、紫
外線に励起されたＲＧＢ蛍光体１１から可視光が放出さ
れ、それが画像として表示されるのである。
ス電極８、表示電極３に適当なタイミングで電圧を印加
することにより、表示画素に相当する、隔壁１０で区切
られた空間部１２で放電が起こり、紫外線が発生し、紫
外線に励起されたＲＧＢ蛍光体１１から可視光が放出さ
れ、それが画像として表示されるのである。
【０００７】次に、このような従来のＰＤＰの製造方法
について、図面を参照しながら述べる。フロント基板１
については、フロントパネルガラス２上に表示電極３を
形成し、それを覆って誘電体膜４を成膜し、焼成し、そ
の上に保護膜５をＥＢ蒸着法によって成膜し作製する。
について、図面を参照しながら述べる。フロント基板１
については、フロントパネルガラス２上に表示電極３を
形成し、それを覆って誘電体膜４を成膜し、焼成し、そ
の上に保護膜５をＥＢ蒸着法によって成膜し作製する。
【０００８】また、バック基板６については、バックパ
ネルガラス７上にアドレス電極８を形成し、それを覆っ
てバリア層９を成膜し、焼成し、その上一面に印刷によ
って隔壁材料を成膜した後、サンドブラスト法によっ
て、隔壁１０を形成しない部分を削り取り、焼成工程を
経てライン状になった隔壁１０を形成する。その後、隔
壁１０の間に印刷法などによって蛍光体１１を充填し、
乾燥し、焼成して製作する。
ネルガラス７上にアドレス電極８を形成し、それを覆っ
てバリア層９を成膜し、焼成し、その上一面に印刷によ
って隔壁材料を成膜した後、サンドブラスト法によっ
て、隔壁１０を形成しない部分を削り取り、焼成工程を
経てライン状になった隔壁１０を形成する。その後、隔
壁１０の間に印刷法などによって蛍光体１１を充填し、
乾燥し、焼成して製作する。
【０００９】このようにして完成したフロント基板１と
バック基板６は、周囲に低融点ガラスを封止部材として
塗布した後、焼成することで封着し、チップ管１３より
真空引きをした後、希ガスを封入し、チップオフして完
成させるものである。
バック基板６は、周囲に低融点ガラスを封止部材として
塗布した後、焼成することで封着し、チップ管１３より
真空引きをした後、希ガスを封入し、チップオフして完
成させるものである。
【００１０】現在、ＰＤＰの最大の課題は、発光効率が
低いことである。発光効率を向上させることを目的とし
て、バリア層９に可視光を反射に対する反射性を付与
し、蛍光体によって変換された可視光を効率よく外部に
放出させることが知られている（特開昭６１−２４１２
６号公報）。
低いことである。発光効率を向上させることを目的とし
て、バリア層９に可視光を反射に対する反射性を付与
し、蛍光体によって変換された可視光を効率よく外部に
放出させることが知られている（特開昭６１−２４１２
６号公報）。
【００１１】可視光に対して高い反射性を有する層を形
成するためには、電極を形成した基板上に、反射性の高
い酸化チタンなどの無機フィラーと、前記無機フィラー
と屈折率に差がある鉛ガラスなどの低融点ガラスと、有
機バインダー、有機溶剤などからなるペースト材料を一
面に塗布、乾燥後、焼成工程を経ることで行う。
成するためには、電極を形成した基板上に、反射性の高
い酸化チタンなどの無機フィラーと、前記無機フィラー
と屈折率に差がある鉛ガラスなどの低融点ガラスと、有
機バインダー、有機溶剤などからなるペースト材料を一
面に塗布、乾燥後、焼成工程を経ることで行う。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、酸化チ
タンなどの無機フィラーは融点が高いため、焼成工程で
は溶融せず、初期の粒子形状が保たれる。したがって、
バリア層形成後の隔壁形成プロセスにおいて、例えば洗
浄工程やドライフィルム現像工程などで、炭酸ナトリウ
ム水溶液などの塩基性処理液、または塩酸などの酸性処
理液により、無機フィラーの界面にある溶融性ガラスが
溶出することで、無機フィラーの脱落などが生じ、バリ
ア層の表面平滑度が著しく低下するなどの影響が現れ
る。
タンなどの無機フィラーは融点が高いため、焼成工程で
は溶融せず、初期の粒子形状が保たれる。したがって、
バリア層形成後の隔壁形成プロセスにおいて、例えば洗
浄工程やドライフィルム現像工程などで、炭酸ナトリウ
ム水溶液などの塩基性処理液、または塩酸などの酸性処
理液により、無機フィラーの界面にある溶融性ガラスが
溶出することで、無機フィラーの脱落などが生じ、バリ
ア層の表面平滑度が著しく低下するなどの影響が現れ
る。
【００１３】このため、バリア層の反射性が損なわれる
ばかりか、隔壁の安定した形成が困難であり、また、場
所によってバリア層の膜厚が変化することで、アドレス
電極による画素選択性にバラツキが生じる。したがっ
て、反射性バリア層を作成した場合、隔壁形成プロセス
や洗浄プロセスなどに大きな制限があった。
ばかりか、隔壁の安定した形成が困難であり、また、場
所によってバリア層の膜厚が変化することで、アドレス
電極による画素選択性にバラツキが生じる。したがっ
て、反射性バリア層を作成した場合、隔壁形成プロセス
や洗浄プロセスなどに大きな制限があった。
【００１４】本発明は、上述したプラズマディスプレイ
パネルのこのような課題を考慮し、従来に比べて反射性
が高く、かつ、表面が平滑なバリア層により、輝度が高
くかつ安定性の高い画像を形成できるガス放電パネルと
その製造方法を提供することを目的とする。
パネルのこのような課題を考慮し、従来に比べて反射性
が高く、かつ、表面が平滑なバリア層により、輝度が高
くかつ安定性の高い画像を形成できるガス放電パネルと
その製造方法を提供することを目的とする。
【００１５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は、第１電極を有する第１パネル基板と、前
記第１パネル基板と対向する、第２電極を有する第２パ
ネル基板と、前記第１と第２パネル基板との間にガス放
電用空間を形成するための、それら双方の基板の外周端
縁部の間に設けられた封止部と、前記第２電極を被覆す
るバリア層と、前記バリア層の上に配置され、前記ガス
放電用空間を区切る隔壁とを備えるガス放電パネルであ
って、前記バリア層が少なくとも２層からなり、前記第
１電極に接触する第１層は、光反射性の材料を含み、前
記隔壁に接触する第２層は、光透過性の材料を含むこと
を特徴とする。
め、本発明は、第１電極を有する第１パネル基板と、前
記第１パネル基板と対向する、第２電極を有する第２パ
ネル基板と、前記第１と第２パネル基板との間にガス放
電用空間を形成するための、それら双方の基板の外周端
縁部の間に設けられた封止部と、前記第２電極を被覆す
るバリア層と、前記バリア層の上に配置され、前記ガス
放電用空間を区切る隔壁とを備えるガス放電パネルであ
って、前記バリア層が少なくとも２層からなり、前記第
１電極に接触する第１層は、光反射性の材料を含み、前
記隔壁に接触する第２層は、光透過性の材料を含むこと
を特徴とする。
【００１６】また、本発明のガス放電パネルの製造方法
は、第１電極を有する第１パネル基板と、前記第１パネ
ル基板と対向する、第２電極を有する第２パネル基板
と、前記第１と第２パネル基板との間にガス放電用空間
を形成するための、それら双方の基板の外周端縁部の間
に設けられた封止部と、前記第２電極を被覆するバリア
層と、前記バリア層の上に配置され、前記ガス放電用空
間を区切る隔壁とを備えるガス放電パネルの製造方法で
あって、前記バリア層製造工程が、光反射性を有する第
１層形成工程と、第１層の上部に、光透過性を有する第
２層形成工程を含むことを特徴とする。
は、第１電極を有する第１パネル基板と、前記第１パネ
ル基板と対向する、第２電極を有する第２パネル基板
と、前記第１と第２パネル基板との間にガス放電用空間
を形成するための、それら双方の基板の外周端縁部の間
に設けられた封止部と、前記第２電極を被覆するバリア
層と、前記バリア層の上に配置され、前記ガス放電用空
間を区切る隔壁とを備えるガス放電パネルの製造方法で
あって、前記バリア層製造工程が、光反射性を有する第
１層形成工程と、第１層の上部に、光透過性を有する第
２層形成工程を含むことを特徴とする。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下、本発明のガス放電パネル及
びその製造方法に係る実施の形態を図面に基づいて説明
する。図１は、本実施の形態に係るＰＤＰの要部の構成
を示す断面図である。
びその製造方法に係る実施の形態を図面に基づいて説明
する。図１は、本実施の形態に係るＰＤＰの要部の構成
を示す断面図である。
【００１８】図に示すように、ＰＤＰはマトリクス表示
の単位発光領域に一対の表示電極３とアドレス電極８と
は対応する３電極構造を有し、蛍光体の配置形態による
分類の上で反射型と呼称される面放電型ＰＤＰである。
の単位発光領域に一対の表示電極３とアドレス電極８と
は対応する３電極構造を有し、蛍光体の配置形態による
分類の上で反射型と呼称される面放電型ＰＤＰである。
【００１９】図２のＰＤＰとの構造上の相違点は、バリ
ア層９が２層構造を有している点である。すなわち、バ
リア層９は、アドレス電極８側のバリア層９ｂと隔壁１
０側のバリア層９ａとから構成されている。
ア層９が２層構造を有している点である。すなわち、バ
リア層９は、アドレス電極８側のバリア層９ｂと隔壁１
０側のバリア層９ａとから構成されている。
【００２０】以下、バリア層９の形成工程を中心に製造
方法について図１を参照して説明する。バック基板６の
製造に際しては、まず、印刷や蒸着などによってガラス
基板上にアドレス電極８を形成する。
方法について図１を参照して説明する。バック基板６の
製造に際しては、まず、印刷や蒸着などによってガラス
基板上にアドレス電極８を形成する。
【００２１】次にアドレス電極８を被覆するように、バ
ックパネルガラス７の表面に溶融性ガラスペーストを塗
布して、バリア層９を形成する。
ックパネルガラス７の表面に溶融性ガラスペーストを塗
布して、バリア層９を形成する。
【００２２】このとき、平均粒径５μｍの酸化チタン８
ｗｔ％を含有した低融点鉛ガラス（酸化鉛の組成比６０
ｗｔ％、軟化点５８０℃）を主成分のガラス材料として
含むペーストを用い、焼成を行い、バリア層９ｂを形成
する。
ｗｔ％を含有した低融点鉛ガラス（酸化鉛の組成比６０
ｗｔ％、軟化点５８０℃）を主成分のガラス材料として
含むペーストを用い、焼成を行い、バリア層９ｂを形成
する。
【００２３】焼成後のバリア層９ｂは、表面粗さが５〜
６μｍの粗い面、すなわち酸化チタン材料の大きさに依
存した凸凹を有する面となる。
６μｍの粗い面、すなわち酸化チタン材料の大きさに依
存した凸凹を有する面となる。
【００２４】続いてバリア層９ｂの上に、透明性のバリ
ア層９ａ（例えばＰＬＳ３２４４）を印刷、乾燥後に所
定の温度（例えば５８０℃）で焼成を行う。バリア層９
ｂの凹凸は、バリア層９ａによって解消され、平滑性は
極めて高い。バリア層９ｂの膜厚は、３μm以上の時に
バリア層９ａの凹凸は完全に解消され、より望ましい。
ア層９ａ（例えばＰＬＳ３２４４）を印刷、乾燥後に所
定の温度（例えば５８０℃）で焼成を行う。バリア層９
ｂの凹凸は、バリア層９ａによって解消され、平滑性は
極めて高い。バリア層９ｂの膜厚は、３μm以上の時に
バリア層９ａの凹凸は完全に解消され、より望ましい。
【００２５】その後、隔壁形成を行う。隔壁形成は、例
えば以下に示すプラズマ溶射法で行う。図３は隔壁形成
する際に用いるプラズマ溶射装置とバックパネルガラス
７との概略図である。
えば以下に示すプラズマ溶射法で行う。図３は隔壁形成
する際に用いるプラズマ溶射装置とバックパネルガラス
７との概略図である。
【００２６】バリア層を設けたパック基板６に感光性フ
ィルム２３（例えば、東京応化工業株式会社製、型番α
−４５０Ｔ）と所定のパターン孔を有するフォトマスク
を重ね合わせる。しかる後、所定の露光量(例えば２５
ｍＪ／ｃｍ2）で紫外線を照射し、所定の現像液（例え
ば０．５ｗｔ％の炭酸ナトリウム水溶液）を行い、フォ
トマスクを通して露光されなかった感光性フィルムの部
分を除去し、開口部２４を形成する。
ィルム２３（例えば、東京応化工業株式会社製、型番α
−４５０Ｔ）と所定のパターン孔を有するフォトマスク
を重ね合わせる。しかる後、所定の露光量(例えば２５
ｍＪ／ｃｍ2）で紫外線を照射し、所定の現像液（例え
ば０．５ｗｔ％の炭酸ナトリウム水溶液）を行い、フォ
トマスクを通して露光されなかった感光性フィルムの部
分を除去し、開口部２４を形成する。
【００２７】次いで、陰極１４と陽極１５の間に電源１
６を用いて、電界を印加しながら直流アーク１７を発生
させ、作動ガス（アルゴンガス）１８を流してアークプ
ラズマジェット１９を生成させる。尚、２０はノズル、
２１は溶射材料、２２は粉末供給ボートである。
６を用いて、電界を印加しながら直流アーク１７を発生
させ、作動ガス（アルゴンガス）１８を流してアークプ
ラズマジェット１９を生成させる。尚、２０はノズル、
２１は溶射材料、２２は粉末供給ボートである。
【００２８】隔壁材料として、平均粒径５μｍの酸化珪
素を使用し、所定の電力（例えば５ｋＷ）のプラズマジ
ェットを生成させ、開口部２４に、感光性フィルム２３
をマスクとして所定の時間溶射し、所定の剥離液（例え
ば０．５ｗｔ％の水酸化ナトリウム水溶液）にて感光性
フィルムの除去後、ガラスペーストの焼成（例えば５８
０℃、３０分）を行い、所定の洗浄液（例えば０．１ｗ
ｔ％の塩酸）にて洗浄するものである。
素を使用し、所定の電力（例えば５ｋＷ）のプラズマジ
ェットを生成させ、開口部２４に、感光性フィルム２３
をマスクとして所定の時間溶射し、所定の剥離液（例え
ば０．５ｗｔ％の水酸化ナトリウム水溶液）にて感光性
フィルムの除去後、ガラスペーストの焼成（例えば５８
０℃、３０分）を行い、所定の洗浄液（例えば０．１ｗ
ｔ％の塩酸）にて洗浄するものである。
【００２９】上述の実施の形態によれば、隔壁形成にお
ける現像工程、剥離工程での塩基性処理液による処理や
酸性処理液による洗浄工程を経ても、バリア層の剥離、
溶解等はいっさい起こらず、安定性および強度が極めて
高い隔壁を形成することができる。
ける現像工程、剥離工程での塩基性処理液による処理や
酸性処理液による洗浄工程を経ても、バリア層の剥離、
溶解等はいっさい起こらず、安定性および強度が極めて
高い隔壁を形成することができる。
【００３０】また、反射層の色を規定しなかったが、ガ
ス放電パネルの色調が変化しないために、白色すなわち
反射特性に可視光での波長依存性が無いことが望まし
い。
ス放電パネルの色調が変化しないために、白色すなわち
反射特性に可視光での波長依存性が無いことが望まし
い。
【００３１】また、バリア層９ａの組成として、酸化チ
タン８ｗｔ％の例を示したが、焼成後に反射性を示す材
料であればこれに限定されるものではない。ただし、黒
色顔料を含まないガラス粉末材料２０ｗｔ％以上と、前
記ガラス粉末材料との屈折率に差がある粉末材料からな
る材料を少なくとも１種類以上５〜８０ｗｔ％を含むガ
ラス材からなる組成のとき、反射性が良好で望ましい。
タン８ｗｔ％の例を示したが、焼成後に反射性を示す材
料であればこれに限定されるものではない。ただし、黒
色顔料を含まないガラス粉末材料２０ｗｔ％以上と、前
記ガラス粉末材料との屈折率に差がある粉末材料からな
る材料を少なくとも１種類以上５〜８０ｗｔ％を含むガ
ラス材からなる組成のとき、反射性が良好で望ましい。
【００３２】また、バリア層９ａ及びバリア層９ｂの軟
化点、焼成温度には特に制限はないが、バリア層９ｂを
印刷、焼成後にバリア層９ａを印刷、焼成する場合、バ
リア層９ｂの軟化点はバリア層９ａを焼成する温度より
高い方が、バリア層９ａの焼成の際にバリア層９ｂの膜
表面が乱れず、望ましい。さらに、バリア層９ｂの軟化
点とバリア層９ａの焼成温度との差が１０℃から１００
℃が最も望ましい。
化点、焼成温度には特に制限はないが、バリア層９ｂを
印刷、焼成後にバリア層９ａを印刷、焼成する場合、バ
リア層９ｂの軟化点はバリア層９ａを焼成する温度より
高い方が、バリア層９ａの焼成の際にバリア層９ｂの膜
表面が乱れず、望ましい。さらに、バリア層９ｂの軟化
点とバリア層９ａの焼成温度との差が１０℃から１００
℃が最も望ましい。
【００３３】また、２層のバリア層は、順次印刷、焼成
を行っても、２層同時に印刷後に一括焼成を行ってもよ
い。膜安定性からは、各層独立に焼成を行うことが望ま
しいが、工程の簡略化を行うために、同時焼成が望まし
い。
を行っても、２層同時に印刷後に一括焼成を行ってもよ
い。膜安定性からは、各層独立に焼成を行うことが望ま
しいが、工程の簡略化を行うために、同時焼成が望まし
い。
【００３４】なお、本実施の形態では、隔壁形成をプラ
ズマ溶射法で実施する際の処理工程を述べたが、他にサ
ンドブラスト法、リフトオフ法など、感光性フィルムを
利用し、塩基性処理液や酸性処理液による感光性樹脂の
現像工程または感光性樹脂の剥離工程を有するガス放電
パネルの製造方法やフォトペースト法など、感光性樹脂
を利用しないが、塩基性処理液や酸性処理液による現像
工程を有するガス放電パネルの製造方法、または、バリ
ア層形成後に塩基性処理液や酸性処理液を利用して基板
の洗浄を行う工程を有するガス放電パネルの製造方法に
も有効である。
ズマ溶射法で実施する際の処理工程を述べたが、他にサ
ンドブラスト法、リフトオフ法など、感光性フィルムを
利用し、塩基性処理液や酸性処理液による感光性樹脂の
現像工程または感光性樹脂の剥離工程を有するガス放電
パネルの製造方法やフォトペースト法など、感光性樹脂
を利用しないが、塩基性処理液や酸性処理液による現像
工程を有するガス放電パネルの製造方法、または、バリ
ア層形成後に塩基性処理液や酸性処理液を利用して基板
の洗浄を行う工程を有するガス放電パネルの製造方法に
も有効である。
【００３５】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、反射性が
高いバリア層と、安定性に優れた隔壁を同時に有するガ
ス放電パネルを提供することができる。
高いバリア層と、安定性に優れた隔壁を同時に有するガ
ス放電パネルを提供することができる。
【図１】本発明の一実施の形態におけるＰＤＰの要部断
面図
面図
【図２】従来のプラズマディスプレイ装置の構成を示す
斜視図
斜視図
【図３】本実施の形態におけるプラズマ溶射装置とバッ
クパネルとの概略図
クパネルとの概略図
１ フロント基板
２ フロントパネルガラス
３ 表示電極
４ 誘電体
５ 保護膜
６ バック基板
７ バックパネルガラス
８ アドレス電極
９ａ （隔壁側の）バリア層
９ｂ （アドレス電極側の）バリア層
１０ 隔壁
１１ 蛍光体
１２ 放電空間
１３ チップ管
１４ 陰極
１５ 陽極
１６ 電源
１７ 直流アーク
１８ 作動ガス
１９ アークプラズマジェット
２０ ノズル
２１ 溶射材料
２２ 粉末供給ボート
２３ 感光性フィルム
２４ 開口部
フロントページの続き
(72)発明者 大谷 光弘
大阪府門真市大字門真1006番地 松下電
器産業株式会社内
(72)発明者 青木 正樹
大阪府門真市大字門真1006番地 松下電
器産業株式会社内
(72)発明者 大谷 和夫
大阪府門真市大字門真1006番地 松下電
器産業株式会社内
(72)発明者 桐原 信幸
大阪府門真市大字門真1006番地 松下電
器産業株式会社内
(56)参考文献 特開 平３−20926（ＪＰ，Ａ)
特開 平８−77931（ＪＰ，Ａ)
特開 平８−212929（ＪＰ，Ａ)
特開 平８−293259（ＪＰ，Ａ)
特開 平９−213215（ＪＰ，Ａ)
特開 平10−233171（ＪＰ，Ａ)
特開 平10−334811（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
H01J 11/02
H01J 9/02
Claims (17)
- 【請求項１】 第１電極を有する第１パネル基板と、前
記第１パネル基板と対向配置された第２電極を有する第
２パネル基板と、前記第１と第２パネル基板との間にガ
ス放電用空間を形成し、前記第２電極を被覆するバリア
層と、前記バリア層の上に配置され、前記ガス放電用空
間を区切る隔壁とを備えるガス放電パネルであって、 前記バリア層が少なくとも２層からなり、前記第２電極
に接触する第１層は光反射性の材料とガラス材料を含
み、前記隔壁に接触する第２層は光透過性のガラス材料
を含むガス放電パネル。 - 【請求項２】 前記光反射性の材料は、白色であること
を特徴とする請求項１記載のガス放電パネル。 - 【請求項３】 前記バリア層の第１層は、前記ガラス材
料として黒色顔料を含まないガラス粉末材料２０重量％
以上と、前記光反射性の材料として、前記ガラス粉末材
料と異なる屈折率を有する粉末材料からなる材料を少な
くとも１種類以上５〜８０重量％を含むことを特徴とす
る請求項１又は２記載のガス放電パネル。 - 【請求項４】 前記第１層の軟化点は前記第２層の焼成
温度より高いことを特徴とする請求項１〜請求項３のい
ずれかに記載のガス放電パネル。 - 【請求項５】 前記第１層の軟化点は、前記第２層の焼
成温度より高く、その差が１０℃以上１００℃以下であ
ることを特徴とする請求項４記載のガス放電パネル。 - 【請求項６】 前記第１層の膜厚は３μm以上であるこ
とを特徴とする請求項１〜請求項５のいずれかに記載の
ガス放電パネル。 - 【請求項７】 第１電極を有する第１パネル基板と、前
記第１パネル基板と対向する、第２電極を有する第２パ
ネル基板と、前記第１と第２パネル基板との間にガス放
電用空間を形成し、前記第２電極を被覆するバリア層
と、前記バリア層の上に配置され、前記ガス放電用空間
を区切る隔壁とを備えるガス放電パネルの製造方法であ
って、 前記バリア層を製造する工程が、光反射性の材料とガラ
ス材料により第１層を形成する第１層形成工程と、前記
第１層形成後に前記第１層の上部に光透過性を有するガ
ラス材料により第２層を形成する第２層形成工程とを含
むガス放電パネルの製造方法。 - 【請求項８】 前記第１層形成工程および前記第２層形
成工程は、少なくとも溶融性ガラスと有機バインダーと
有機溶剤とを含む部材を塗布、乾燥する工程を含むこと
を特徴とする請求項７記載のガス放電パネルの製造方
法。 - 【請求項９】 前記第２層形成工程の後に、前記第１層
と前記第２層との一括焼成する工程を含むことを特徴と
する請求項７又は請求項８記載のガス放電パネルの製造
方法。 - 【請求項１０】 前記第１層形成工程および前記第２層
形成工程は、それぞれ焼成工程を含むことを特徴とする
請求項７又は請求項８記載のガス放電パネルの製造方
法。 - 【請求項１１】 前記第１層の軟化点は、前記第２層の
焼成温度より高いことを特徴とする請求項１０記載のガ
ス放電パネルの製造方法。 - 【請求項１２】 前記第２層形成工程の後に、前記第２
層の少なくとも一部を塩基性または酸性処理液に接触さ
せる処理液接触工程を有することを特徴とする請求項７
〜請求項１１記載のガス放電パネルの製造方法。 - 【請求項１３】 前記隔壁を形成する隔壁形成工程に前
記処理液接触工程を含むことを特徴とする請求項１２記
載のガス放電パネルの製造方法。 - 【請求項１４】 前記隔壁形成工程は、感光性樹脂の現
像工程を含み、かつ前記現像工程が前記処理液接触工程
を含むことを特徴とする請求項１３記載のガス放電パネ
ルの製造方法。 - 【請求項１５】 前記隔壁形成工程は、感光性樹脂の剥
離工程を含み、かつ前記剥離工程が前記処理液接触工程
を含むことを特徴とする請求項１３記載のガス放電パネ
ルの製造方法。 - 【請求項１６】 前記隔壁を形成する隔壁形成工程は、
プラズマ溶射法を用いて隔壁材料を溶射する工程を含む
ことを特徴とする請求項７〜請求項１５のいずれかに記
載のガス放電パネルの製造方法。 - 【請求項１７】 基板洗浄工程は、前記処理液接触工程
である請求項１２記載のガス放電パネルの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1526698A JP3385950B2 (ja) | 1998-01-28 | 1998-01-28 | ガス放電パネル及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1526698A JP3385950B2 (ja) | 1998-01-28 | 1998-01-28 | ガス放電パネル及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11213897A JPH11213897A (ja) | 1999-08-06 |
| JP3385950B2 true JP3385950B2 (ja) | 2003-03-10 |
Family
ID=11884066
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1526698A Expired - Fee Related JP3385950B2 (ja) | 1998-01-28 | 1998-01-28 | ガス放電パネル及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3385950B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2797991A1 (fr) * | 1999-09-01 | 2001-03-02 | Thomson Plasma | Panneau d'affichage au plasma a contraste et colorimetrie ameliorees et procede fabrication d'un tel panneau |
| KR100858817B1 (ko) * | 2007-03-16 | 2008-09-17 | 삼성에스디아이 주식회사 | 플라즈마 디스플레이 패널 및 이의 제조방법 |
| KR100844784B1 (ko) * | 2007-03-27 | 2008-07-07 | 삼성에스디아이 주식회사 | 플라즈마 디스플레이 패널 |
-
1998
- 1998-01-28 JP JP1526698A patent/JP3385950B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH11213897A (ja) | 1999-08-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7432655B2 (en) | Plasma display panel using color filters to improve contrast | |
| JPH0955166A (ja) | カラープラズマディスプレイパネルおよびその製造方法 | |
| JP2004039629A (ja) | 隔壁が内蔵されたプラズマディスプレイパネル及びこの隔壁の製造方法 | |
| JPH10199402A (ja) | 表示パネルの隔壁形成方法 | |
| EP1381071B1 (en) | Plasma display device | |
| JP3645103B2 (ja) | プラズマディスプレイパネル及びその製造方法 | |
| JP3385950B2 (ja) | ガス放電パネル及びその製造方法 | |
| US7489079B2 (en) | Plasma display having a recessed part in a discharge cell | |
| JPH11204043A (ja) | プラズマディスプレイパネル及びその製造方法 | |
| JP3409784B2 (ja) | プラズマディスプレイ表示装置およびその製造方法 | |
| JPH10241576A (ja) | カラープラズマディスプレイパネル | |
| JPH08222135A (ja) | プラズマディスプレイパネルの製造方法 | |
| JP2004253334A (ja) | プラズマディスプレイパネルの電極形成方法 | |
| KR100412089B1 (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널과 이의 제조방법 | |
| JP2001236891A (ja) | プラズマディスプレイパネル及びプラズマディスプレイパネルの製造方法 | |
| JP2001210242A (ja) | プラズマディスプレイパネル及びその製造方法 | |
| JP2005116349A (ja) | プラズマディスプレイ装置 | |
| JP3558043B2 (ja) | プラズマディスプレイ表示装置の製造方法 | |
| KR100719034B1 (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법 | |
| KR100692060B1 (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법 | |
| JP2002134004A (ja) | プラズマディスプレイパネルの製造方法 | |
| JP2001243877A (ja) | プラズマディスプレイパネルの製造方法 | |
| KR20030093549A (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법 | |
| KR20060073328A (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법 | |
| JPH1186740A (ja) | プラズマディスプレイパネル用基板 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080110 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 6 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090110 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 6 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090110 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100110 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100110 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 8 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110110 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110110 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120110 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130110 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 11 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140110 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |