JP3473244B2 - コロナ発生装置 - Google Patents

コロナ発生装置

Info

Publication number
JP3473244B2
JP3473244B2 JP1722196A JP1722196A JP3473244B2 JP 3473244 B2 JP3473244 B2 JP 3473244B2 JP 1722196 A JP1722196 A JP 1722196A JP 1722196 A JP1722196 A JP 1722196A JP 3473244 B2 JP3473244 B2 JP 3473244B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
corona
electrode
dielectric ceramic
ceramic substrate
number density
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP1722196A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH09213452A (ja
Inventor
建 行村
英一 吉田
和幸 久保田
修 山岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Murata Manufacturing Co Ltd filed Critical Murata Manufacturing Co Ltd
Priority to JP1722196A priority Critical patent/JP3473244B2/ja
Publication of JPH09213452A publication Critical patent/JPH09213452A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3473244B2 publication Critical patent/JP3473244B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Lasers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】この発明は、コロナ発生装置
に関するもので、特に、レーザ装置の予備電離のために
用いるコロナ発生装置に関するものである。 【0002】 【従来の技術】たとえば放電励起エキシマレーザにおい
て、レーザ光を効率良く発生させるためには、放電エネ
ルギーを効率良く放電媒質に投入することが重要であ
る。そのためには、予備電離を十分に行ない、高い電子
数密度を得ることが重要である。予備電離方式には、ア
ーク方式、X線方式、およびコロナ方式がある。アーク
方式は、生成される電子数密度が高いという長所がある
が、安定な励起放電の維持が難しい。X線方式は、電子
数密度が高く、安定な励起放電も可能であるが、放射線
制御のための装置が大型化してしまう。コロナ方式は、
安定な励起放電が可能であり、かつ放射線制御の必要も
ないが、予備電離効果が低く、生成される電子数密度が
低いという問題がある。 【0003】図5から図7を参照して、上述のコロナ方
式による予備電離を行なう従来のコロナ発生装置1は、
誘電体セラミック基材2を備え、この誘電体セラミック
基材2の一方面上には、図5にハッチングを施すことに
より示すように、電極3が全面またはほぼ全面にわたっ
て形成され、同じく他方面上には、図6に示すように、
スリット状に延びる電極非形成部4を有する電極5が形
成されている。電極非形成部4の各側にある電極5の各
部分は、図示しないが、互いに接続されており、同電位
である。 【0004】従来の他のコロナ発生装置1aでは、図6
に示した他方面上に形成された電極5に代えて、図7に
示すように、複数の円形の島状の電極非形成部4aを有
する電極5aが形成されている。前述したように、コロ
ナ方式では、予備電離効果が低く、生成される電子数密
度が低いという問題は、このようなコロナ発生装置1ま
たは1aの電極3と電極5または5aとの間に交流また
はパルス電圧を印加すると、電極5または5aの端、言
い換えると、電極非形成部4または4aとの境界部が高
電界となり、コロナが発生する、ということに起因す
る。すなわち、コロナ発生に寄与する部分は、電極5ま
たは5aの端に限られ、電極5または5aの他の領域
は、コロナ発生に寄与しないにもかかわらず、ここにも
電流が流れるため、コロナ発生部以外を流れる電流、つ
まり予備電離に関与しない電流が大きくなり、その結
果、予備電離の効率が悪くなり、電子数密度が低くなる
のである。 【0005】 【発明が解決しようとする課題】そこで、この発明の目
的は、コロナ方式の利点を維持しつつ、アーク方式に匹
敵する電子数密度を得ることができる、コロナ発生装置
を提供しようとすることである。 【0006】 【課題を解決するための手段】この発明は、誘電体セラ
ミック基材、およびこの誘電体セラミック基材を挟んで
対向するように設けられた電極とを備える、レーザ装置
の予備電離用コロナ発生装置に向けられるものであっ
て、上述した技術的課題を解決するため、一方の電極を
針状電極から構成し、この針状電極を、誘電体セラミッ
ク基材に対して点接触するように圧接させたことを特徴
としている。 【0007】 【発明の効果】この発明によれば、一方の電極である針
状電極が誘電体セラミック基材に対して点接触するよう
に圧接しているので、交流またはパルス電圧を印加した
とき、この針状電極の点接触している部分において、高
電界となり、コロナを発生させる。その結果、コロナ発
生に寄与しない部分で流れる電流を少なくすることがで
きることから、電離の効率を高めることができ、そのた
め、電子数密度を高めることができる。 【0008】したがって、この発明に係るコロナ発生装
置を、たとえばエキシマレーザのようなレーザ装置にお
ける予備電離のために適用すれば、アーク方式に匹敵す
るレーザ光の発生効率をコロナ方式で得ることができる
ようになる。 【0009】 【発明の実施の形態】図1は、この発明の一実施形態に
よるコロナ発生装置11を示す図解的斜視図であり、図
2は、図1に示したコロナ発生装置11の図解的側面図
である。コロナ発生装置11は、誘電体セラミック基材
12を備え、その一方面上には、平面的に延びる平面電
極13が全面またはほぼ全面にわたって形成される。誘
電体セラミック基材12の他方面には、針状電極14
接触するように圧している。針状電極14は、図1
では4個のものが図示されているが、その個数は、単に
1個でも、あるいは他の複数個であってもよい。 【0010】このようなコロナ発生装置11において、
針状電極14側をアース接続しながら、平面電極13と
針状電極14との間に、交流またはパルス電圧を印加す
れば、図1に示すように、針状電極14が誘電体セラミ
ック基材12に接触する部分において、高電界となり、
コロナ15が発生する。上述した誘電体セラミック基材
12は、限定するものではないが、たとえば、チタン酸
バリウム系、チタン酸ストロンチウム系、チタン酸鉛系
のような誘電体セラミックから構成される。 【0011】また、平面電極13は、たとえばニッケル
から構成されるが、これに限らず、レーザチャンバ中の
ガス、たとえばフッ素や塩素を含むガスに侵されないも
の、かつこれらのガスを侵さないもの、たとえば、銅、
真鍮、ステンレス鋼、金、あるいはこれらで表面をめっ
きしたもので構成されてもよい。また、針状電極14
は、たとえばステンレス鋼から構成されるが、これに限
らず、平面電極13の場合と同様、レーザチャンバ中の
ガス、たとえばフッ素や塩素を含むガスに侵されないも
の、かつこれらのガスを侵さないもの、たとえば、銅、
真鍮、ニッケル、金、あるいはこれらで表面をめっきし
たもので構成されてもよい。 【0012】針状電極14は、図示の態様では、その根
元から先端に向かって徐々に細くされることによって、
先端において尖った形状を有していたが、先端において
のみ細く尖った形状を有していても、根元から先端まで
細いままの形状であってもよい。 【0013】 【実験例】図1および図2を参照して、比誘電率が68
00のチタン酸バリウム系誘電体セラミックからなる誘
電体セラミック基材12上に、ニッケルからなる平面電
極13およびステンレス鋼からなる針状電極14を設
け、コロナ発生装置11を得た。 【0014】このコロナ発生装置11を図3に示すコロ
ナ発生回路16に組み込み、コロナを発生させた。コロ
ナ発生回路16において、コロナ発生装置11は、コン
デンサ17および回路インダクタンス18と直列に接続
され、充電インダクタンス19がコロナ発生装置11と
並列に接続されている。また、コンデンサ17の充電電
圧に基づいて得られるパルス電圧をコロナ発生装置11
に印加するため、スイッチ20が設けられている。この
ようなコロナ発生回路16において、コンデンサ17が
充電された後に、スイッチ20を閉じると、コロナ発生
装置11にパルス電圧が印加され、図1に示すように、
コロナ15が発生する。 【0015】なお、実験では、コンデンサ17として2
nFのものを、回路インダクタンス18として300n
Hのものを、充電インダクタンス19として30μHの
ものを、それぞれ使用した。上述のようにしてコロナ1
5を発生している2個のコロナ発生装置11を、電子数
密度測定回路21の並行平板電極22の両側に、それぞ
れ、10mmの間隔を隔てて配置し、電子数密度を測定し
た。その結果が、図4に示されている。なお、図4に
は、図3のコロナ発生回路16をパルス電圧印加回路と
して用い、コロナ発生装置11に代えて、ステンレス針
を用いたアーク方式による電子数密度も併せて示されて
いる。 【0016】図4から、この実験例によれば、コロナ方
式は、アーク方式に匹敵する、むしろアーク方式より高
い電子数密度を示していることがわかる。特に、コンデ
ンサ17の充電電圧が高くなるほど、コロナ方式の方が
より優れた結果を示すことがわかる。なお、上述の実験
例では、誘電体セラミック基材12として、比誘電率が
6800の誘電体セラミックからなるものを用いたが、
比誘電率がそれ以下のもの、あるいは、10500、1
6000といったそれ以上の誘電体セラミックを用いて
も、ほぼ同等の電子数密度を示すことが確認されてい
る。この比誘電率に関しては、1000以上であること
が望ましい。
【図面の簡単な説明】 【図1】この発明の一実施形態によるコロナ発生装置1
1を図解的に示す斜視図である。 【図2】図1に示したコロナ発生装置11を図解的に示
す側面図である。 【図3】図1に示したコロナ発生装置11による電子数
密度を測定するために実験例において用いられたコロナ
発生回路16および電子数密度測定回路21を示す図で
ある。 【図4】この発明に従って実施された実験例で得られた
コロナ発生装置11による電子数密度を、アーク方式に
よる電子数密度と比較して示す図である。 【図5】従来のコロナ発生装置1を図解的に示す斜視図
である。 【図6】図5に示したコロナ発生装置1の反対側の面を
図解的に示す斜視図である。 【図7】従来の他のコロナ発生装置1aを図解的に示
す、図6に相当の図である。 【符号の説明】 11 コロナ発生装置 12 誘電体セラミック基材 13 平面電極 14 針状電極 15 コロナ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山岡 修 京都府長岡京市天神二丁目26番10号 株 式会社村田製作所内 (56)参考文献 特開 平7−313833(JP,A) 特開 平8−151201(JP,A) 特開 平5−89942(JP,A) 実開 昭62−166230(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01T 19/00 - 23/00 H01S 3/00

Claims (1)

  1. (57)【特許請求の範囲】 【請求項1】 誘電体セラミック基材、および前記誘電
    体セラミック基材を挟んで対向するように設けられた電
    極とを備える、レーザ装置の予備電離用コロナ発生装置
    において、 一方の前記電極は、針状電極からなり、前記誘電体セラ
    ミック基材に対して点接触するように圧接していること
    を特徴とする、コロナ発生装置。
JP1722196A 1996-02-02 1996-02-02 コロナ発生装置 Expired - Lifetime JP3473244B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1722196A JP3473244B2 (ja) 1996-02-02 1996-02-02 コロナ発生装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1722196A JP3473244B2 (ja) 1996-02-02 1996-02-02 コロナ発生装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH09213452A JPH09213452A (ja) 1997-08-15
JP3473244B2 true JP3473244B2 (ja) 2003-12-02

Family

ID=11937898

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1722196A Expired - Lifetime JP3473244B2 (ja) 1996-02-02 1996-02-02 コロナ発生装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3473244B2 (ja)

Also Published As

Publication number Publication date
JPH09213452A (ja) 1997-08-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Trunec et al. Experimental study of atmospheric pressure glow discharge
JP2980985B2 (ja) レーザー用のプレ・イオン化装置
Wong et al. Vacuum spark as a reproducible x‐ray source
US5014289A (en) Long life electrodes for large-area x-ray generators
JPS58155643A (ja) グロー放電発生装置
JP3473244B2 (ja) コロナ発生装置
Nagata et al. A compact high-power nitrogen laser
CA1067612A (en) Laser and its method of operation
CN100399650C (zh) 脉冲气体激光器的预电离装置
JPH01296596A (ja) プラズマx線発生装置
JP2824069B2 (ja) エキシマレーザ装置
JPH0415162B2 (ja)
JP2001177173A (ja) ガスレーザ発振器
JPS63133583A (ja) 紫外光予備電離パルスガスレ−ザ装置
JPH0318753B2 (ja)
RU2037244C1 (ru) Многозазорный разрядник с параллельно включенными зазорами
JPH0344429B2 (ja)
JPS63168942A (ja) プラズマx線源
JPH0730177A (ja) パルスレーザ発振装置
JP4049347B2 (ja) 放電励起式レーザ装置
Wang et al. New Intense Electron Beam Generation By Pseudospark Discharge
JP3054504B2 (ja) イオン発生電極構造
Modis Multiwire proportional chambers with good performance and stability at high intensities
JP3159528B2 (ja) 放電励起エキシマレーザ装置
CN111952824A (zh) 一种强电晕预电离装置

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080919

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080919

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090919

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090919

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100919

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100919

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110919

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120919

Year of fee payment: 9