JP3750577B2 - 処理液の流速調整装置及び該流速調整装置を備えた表面処理装置 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、筒状部を有する中空体の内面に処理液を流通させて表面処理を施す表面処理装置に関する。更に詳しくは、内燃機関のシリンダブロック内に処理液を流してメッキや電解エッチング等の表面処理を施す表面処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
通常、自動車のエンジンに用いられるアルミニウム合金製シリンダブロックのシリンダボア面には、ピストンの摺動に対する耐摩耗性を向上させるために、鋳鉄スリーブが挿入されている。しかし、この鋳鉄スリーブによってエンジンの重量が大きくなり、車両の燃費が低下するおそれがあった。そこで、近年はエンジンの軽量化や性能向上を図るため、ニッケルメッキ皮膜中にＳｉＣ等の硬いセラミックス粒子を共析させてシリンダボア面に複合メッキを施すことによって、前記鋳鉄スリーブを廃止したアルミニウム合金製シリンダブロックの開発が進められている。
なお、以下の記載においては、皮膜（ニッケルメッキ皮膜等）中に粒子（ＳｉＣの硬質セラミックス粒子等）が取り込まれることを「共析」と呼ぶ。
【０００３】
このシリンダブロックのメッキにおいては、効率よくメッキを行うため、シリンダボア内に電極を配置し、該シリンダボア内にメッキ液を流しながらメッキ処理をする方法を採用している。
ここで、シリンダブロックは、その構造によって、直列４気筒やＶ型６気筒等に分類されている。この直列４気筒シリンダブロックのシリンダボア面にメッキ処理を施す場合や、Ｖ型６気筒シリンダブロックのシリンダボア面を片バンクずつメッキ処理する場合は、シリンダボアの軸線が鉛直方向になった状態のままメッキ処理を行うため、重力などの影響は受けず、メッキ皮膜中に共析した分散粒子の共析量は皮膜全体に亘って均一となる。
【０００４】
しかし、Ｖ型シリンダブロック２０１を両バンクのシリンダ共に同時にメッキ処理する場合は、図２５及び図２６に示すように、シリンダボア面２０３のうち、車両搭載状態において傾斜した下方側に位置するメッキ皮膜２０５中の分散粒子２０７の共析量が大きくなるという問題があった。つまり、Ｖ型シリンダブロック２０１においては、図２５に示すように、シリンダボア２０９が左右の斜め上方に向けて傾斜しているため、このシリンダボア２０９内をメッキ液が流れる場合、該メッキ液中のＳｉＣ等の分散粒子（硬質粒子）２０７は、特開平１１−１２７９０号公報に記載されているように、重力の影響によって傾斜した下方側のシリンダボア面２０３におけるメッキ皮膜２０５中（図２６参照）により多く共析しやすかった。
【０００５】
この問題を解決するため、特開平８−１４４０８２号公報では、Ｖ型シリンダブロックを片バンクのシリンダずつに分けて前処理とメッキ処理を施している。しかし、この方法では、同一のシリンダブロックを２回に分けて前処理及びメッキ処理をしなげればならず、作業工数が２倍かかるため、コストが高くなると共に、メッキラインも長くなるという問題があった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、前記課題を解決し、筒状のワークの内面に処理液を流しながら皮膜を形成する場合に、前記内面の片側とこの片側に対向する他方側とで、処理液の流速を変えることができる流速調整装置及び該流速調整装置を備えた表面処理装置を提供することを目的とする。
【０００７】
本発明に係る処理液の流速調整装置は、前記目的を達成するため、一端側の蓋部に排出穴が穿設された有蓋筒状の本体を備えた処理液の流速調整装置であって、筒状のワークの開口面に前記本体の他端側を当接させ、前記ワーク内に流入させた処理液を、前記本体の内部を介して前記排出穴から排出させる際に、前記ワーク内部の被処理面の一部分における処理液の流速と、この一部分に対向する他の部分の被処理面における流速とに差異を設けるように構成している。
【０００８】
さらに、本発明に係る処理液の流速調整装置では、前記本体の内部に、複数の挿通穴を有する隔壁板を設け、該隔壁板で本体内部を軸方向に分け隔てることによって、前記他端側に位置する第１の空間及び前記一端側に位置する第２の空間を形成している。
【０００９】
前記隔壁板としては、例えば、メッキ処理用電極を取り付ける電極取付板などを用いることができる。
【００１０】
本発明に係る処理液の流速調整装置の一態様では、前記第１の空間側における本体の側壁に処理液の流出口を設け、第１の空間内に流入した処理液を前記流出口から流出させることによって、前記流出口の側における被処理面の処理液の流速を、流出口に対向する側の被処理面における処理液の流速よりも速くしている。
【００１１】
この流出口がいわゆるバイパス流路の役割を果たすため、簡単でかつ確実に被処理面における処理液の流速を速くすることができる。
【００１２】
そして、本発明に係る処理液の流速調整装置の別の態様では、前記第１の空間側における本体の側壁の内面に、切欠きによって形成した凹部を設け、この凹部側における被処理面の処理液の流速を、凹部の対向側における被処理面の処理液の流速よりも速くすることができる。
【００１３】
前記凹部によって、第１の空間における凹部側の流路面積が大きくなるため、結果的に、凹部側の被処理面における処理液の流速を速くすることができる。
【００１４】
さらに、本発明に係る処理液の流速調整装置の更に別の態様では、前記隔壁板の挿通穴を周方向に間隔を隔てて複数設けると共に、これらの挿通穴の径を、前記隔壁板の径方向の片側と、この片側に対向する他方側とで差異を設けている。
【００１５】
前記挿通穴の径を大きくした側の被処理面における処理液の流速が、他方側における被処理面の流速よりも速くなる。
【００１６】
そして、本発明に係る処理液の流速調整装置の更に別の態様では、前記隔壁板の挿通穴を、周方向に間隔を隔てて複数設けると共に、これらの挿通穴の隣同士の間隔を、前記隔壁板の径方向の一方側と他方側とで差異を設けている。
【００１７】
また、本発明に係る処理液の流速調整装置の更に別の態様では、前記隔壁板の挿通穴を周方向に間隔を隔てて複数設ける。
【００１８】
また、これと共に、この態様では、これらの挿通穴よりも小さい径を有する流通穴を設けたマスキング板を、前記隔壁板に回転可能に取り付けている。
【００１９】
そして、本発明に係る処理液の流速調整装置の更に別の態様では、前記隔壁板の挿通穴を周方向に間隔を隔てて複数設けると共に、隔壁板の径方向に摺動することによってこれらの挿通穴を塞ぐことができる遮蔽板を、前記隔壁板に摺動可能に取り付けている。
【００２０】
なお、本発明に係る表面処理装置は、前述した流速調整装置を備えている。
【００２１】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明の実施の形態に係る表面処理装置について説明する。本発明は、筒状に形成されたワークの内面に処理液を流しながら表面処理を施す場合に、皮膜中の粒子を均一に分散させる表面処理装置である。本発明の実施の形態においては、Ｖ型シリンダブロックのシリンダボア面にメッキを施す表面処理を中心に説明をする。なお、本発明は、被処理面であるシリンダボア面が傾斜した状態で処理をする場合に限定されず、シリンダボア面が上下方向に沿った状態で処理をする場合にも適用することができる。
【００２２】
本発明は、Ｖ型シリンダにおいて、傾斜したシリンダ内のメッキ液の流速をシリンダボアの各部位ごとに細かく調整することによって、即ち、傾斜したシリンダのシリンダボア内において下方側のシリンダボア面を流れるメッキ液の流速を上方側よりも速くすることができる。これによって、下方側のシリンダボア面における硬質粒子の過剰な共析を防止し、メッキ皮膜中の全体に亘ってＳｉＣなどの硬質粒子を均一に分散して共析させる表面処理である。以下、第１から第８の実施の形態に分けて、図面を参照しながら説明する。なお、まず第１の実施の形態について詳細に説明をするが、第２の実施の形態以降については、重複する内容の説明は省略する。
【００２３】
［第１の実施の形態］
図１は、第１の実施の形態に係る表面処理装置１を用いて、ワークとなるＶ型シリンダブロック３をメッキ処理している状態を示す断面図である。
床面５上には、支持台７が配置されており、該支持台７の上部には下治具９が取り付けられている。これらの支持台７と下治具９の中央部には、貫通した穴１１が形成されており、該穴１１には、下治具９の内部にメッキ液１３を流入させる流入口１５が取り付けられている。また、この支持台７の上方には、流速調整装置１７が設けられている。
【００２４】
この流速調整装置１７は、先端に伸縮可能なロッド１９を有する上側治具固定装置２１と、該ロッド１９の端部に取り付けられ、蓋部を有する流出治具２３と、該流出治具２３の下端に固定した陽極取付板（隔壁板）２５、上治具２７及びパッキン２９とを備えている。そして、整流器３１の正極側は陽極取付板２５に接続され、負極側はワーク３に接続されている。また、流出治具２３から排出されたメッキ液１３は液槽３３に流入したのち、該液槽３３から配管３５を介してワーク３中に流入するように構成されている。
【００２５】
ワークであるＶ型シリンダブロック３のシリンダボアは、左右両側の斜め上方に傾斜して形成されており、前記上治具２７もこのシリンダボアに沿って傾斜して配設されている。この上治具２７の上部には、挿通穴３７が穿設された陽極取付板２５が載置され、また、上治具２７の側壁のうち外方側（傾斜した下方側）には、流出口３９が形成されている。この流出口３９は、細い筒状に形成されており、前記上治具２７の側壁の途中から分岐したのち、配管３５を介して液槽３３に連結されている。この配管３５には、合流点４１前においてバルブ４３が配設されており、また、合流点４１以降の配管においても流量計４５とバルブ４７が配設されている。
【００２６】
そして、上治具２７、陽極取付板２５及び流出治具２３は液密状に一体化され、ロッド１９を介して上側治具固定装置２１に取り付けられているため、上下に自由に移動させることができる。
【００２７】
さらに、ワークとなるＶ型シリンダブロック３は、ヘッド面４９を上にした状態で下治具９の上に載置され、クランプ５１によって固定されている。各気筒のシリンダ５３内に陽極５５が挿入され、絶縁性のパッキン２９を介して上治具２７及び流出治具２３を上側治具固定装置２１によって押圧することにより、Ｖ型シリンダブロック３は液密状にシールされている。
【００２８】
前記構成を有する表面処理装置１を用いて処理を行う手順を簡単に説明する。ＳｉＣなどの粒子を含むメッキ液１３は、液槽３３からポンプ５７により圧送され、下治具９の下側に設けられた流入口１５から下治具９を通ってＶ型シリンダブロック３内に流入する。このＶ型シリンダブロック３内において、下治具９及びクランクケース部５９がバッファの役目を果たすため、Ｖ型シリンダブロック３内に流入するメッキ液１３の流れは均一化される。
【００２９】
次いで、メッキ液１３は左右両側のシリンダボア６１に分かれて流入するが、上治具２７には、下方側に流出口３９が設けられているため、シリンダボア６１内では下方側の方がメッキ液１３の流速が速くなる。さらに、各気筒のシリンダ５３内のメッキ液１３の流速は、流量計４５及びバルブ４３，４７により制御される。メッキ液１３を流しながら、Ｖ型シリンダブロック３をマイナス、陽極５５をプラスとして通電させることにより、シリンダボア面６３にメッキ皮膜を形成させることができる。ここで、シリンダボア６１内では下方側の方がメッキ液１３の流速が速いため、下方側のシリンダボア面６３におけるＳｉＣなどの粒子の過剰な共析を防止することができる。さらに、流出口３９への流速は、バルブ４３で制御することにより、ＳｉＣなどの粒子を均一に共析させることができる。
【００３０】
［第２の実施の形態］
前記第１の実施の形態においては、メッキ処理を施す形態について説明をしたが、第２の実施の形態においては、電解エッチング等の処理を行う場合について説明する。
図２に示すように、第２の実施の形態に係る表面処理装置７１においては、上治具７３の側壁のうち、上方側に流出口７５を設けている。
前記電解エッチングとは、電極をシリンダボア６１内に配置し、リン酸や硫酸などの電解液８３を流しながらシリンダブロック３を陽極、電極７７を陰極とし、シリンダボア面６３を腐食除去したりする処理であり、処理中に多量のガス７９が発生する。傾いたシリンダ５３では、処理中に発生したガスは矢印８１に示すように上方に流れるため、シリンダボア面６３の上方側が電解エッチングされにくい。
【００３１】
しかし、上治具７３の上方側には流出口７５を設けてあるため、上方側の電解液８３の流れがスムーズになり、かつ、流出口７５から、発生するガス７９を効率良く抜くことによって、シリンダボア面６３の処理を各部位について均一に行うことができる。
【００３２】
［第３の実施の形態］
第３の実施の形態に係る表面処理装置９１においては、図３に示すように、上治具９３の内側面のうち、下方側の面に凹部９５を形成しているため、電極９７の上部９７ａから凹部９５までの距離が下方側の方が大きく広がっている。また、電極取付板９９に穿設された挿通穴３７の大きさも、下方側の方を適宜大きめに形成している。従って、上治具９３とシリンダボア６１の下方側のメッキ液１３の流速は、上方側よりも大きくなり、シリンダボア面６３の下方側におけるＳｉＣなどの粒子の過剰な分散を防ぎ、シリンダボア面６３の皮膜全体に亘って均一に分散させることができる。
【００３３】
［第４の実施の形態］
第４の実施の形態に係る表面処理装置１０１においては、図４に示すように、上治具１０３の上方側の側壁に凹部１０５を形成しているため、電極１０７の上部１０７ａと凹部１０５との距離は、上方側の方が広がっている。また、電極取付板１０９の挿通穴３７も、上方側の方が大きく形成されているため、電解液８３をシリンダボア６１内に流すときは、上治具１０３及びシリンダボア６１の上方側の流速が大きくなる。
【００３４】
前記構成を有する表面処理装置１０１によれば、電極１０７をシリンダボア６１内に配置し、リン酸や硫酸などの電解液８３を流しながらシリンダブロック３を陽極、電極１０７を陰極として電解エッチングなどを施す場合は、処理中に発生し上方に流れるガス７９の抜けを良くできるので、シリンダボア６１内の電解エッチングの処理をシリンダボア面６３全体を均一に行うことができる。
【００３５】
［第５の実施の形態］
第５の実施の形態に係る表面処理装置１１１においては、図５〜図１０に示すように、陽極取付板２５に設けた挿通穴の大きさ、形状及び配置を変えることによって、シリンダボア内の処理液の流速を調整している。
図５は、表面処理装置１１１全体を示す断面図であり、整流器３１の正極が接続された陽極取付板２５には図６及び図７に示すような挿通穴１１３が形成されている。これらの図から判るように、上方側の流出口１１３ａは、下方側の流出口１１３ｂよりも小さく形成されているため、シリンダボア６１の下方側の方がメッキ液１３の流速が速くなる。
【００３６】
また、図８に示すように、陽極取付板２５の上方側に位置する挿通穴１１３に埋め栓１１７を施すことによっても、シリンダボア６１の下方側におけるメッキ液１３の流速を速くすることができる。
さらに、図９に示すように、上方側の挿通穴１１３ａを小さくすると共に、下方側の流出口１１３ｂを連通させて一つの長い穴に拡大すれば、メッキ液１３の流速の差を上方側と下方側とでより大きくすることができる。
なお、図１０に示すように、挿通穴１１３を細長いスリット形状の穴に形成し、シリンダボア６１内の上方側から下方側に向かって漸次的に間隔が密になるように複数個配列させている。穴の形状は、特に限定されず、楕円や台形などでも良い。
【００３７】
以上、図７〜図１０に示すような挿通穴１１３を有する陽極取付板２５によって、メッキ液１３中の粒子の沈降が抑制され、粒子が均一に分散したメッキ皮膜を得ることができる。これにより、Ｖ型シリンダブロック３のシリンダ５３を両バンクとも同時にメッキすることが可能となるため、片バンクずつメッキする場合に比較して、メッキに要するコストを半分に削減できると共に、及びメッキラインの長さも半分に短縮することができる。
【００３８】
［第６の実施の形態］
第６の実施の形態においては、図１１〜図１６に示すように、陽極取付板２５に予め穿設した挿通穴１１３を回転式マスキング板１２３又はスライド式遮蔽板１３３で塞ぐことによって、シリンダボア６１内のメッキ液１３の流速を調整している。
【００３９】
まず、図１１〜図１３は、扇形の回転式マスキング板１２３を示している。陽極取付板２５には、図１１と図１２に示すように、同一径の円形を有する挿通穴１１３が同一間隔で穿設されており、この挿通穴１１３のうち、３つを塞ぐことができる大きさの扇形の回転式マスキング板１２３が陽極取付板２５の中央部１２７を中心にピン１２９（図１３参照）によって回転可能に取り付けられている。また、回転式マスキング１２３には、前記挿通穴１１３よりも小さな径を有する別の流出口１３１が穿設されているため、図１３に示すように、シリンダボア６１の下方側におけるメッキ液１３の流速が上方側の流速よりも速くなる。前記マスキング板１２３は、特に限定されず、種々の形状と大きさとすることができる。
【００４０】
さらに、図１４〜図１６に示すように、スライド式遮蔽板１３３を挿通穴１１３にそれぞれ個別に配設している。このスライド式遮蔽板１３３を陽極取付板２５の径方向に出し入れすることによって、各々の流出口１１３を任意の大きさに塞ぐことができる。図１４には、流出口１１３の５ケ所にスライド式遮蔽板１３３を配設しているが、その個数、大きさ、及び形状はこれに限定されるものではない。
【００４１】
［第７の実施の形態］
第７の実施の形態においては、クランク軸受けジャーナル１３５が突出しているＶ型シリンダブロック１３７においてもジャーナル１３６の近傍におけるメッキ液１３の流速を均一化させることができる。
図１７〜図２０に示すＶ型シリンダブロック１３７には、クランク軸受けジャーナル１３５が突出している。図２０に示すように、このクランク軸受けジャーナル１３５の段部の近傍に陽極５５の下端部５５ａが位置するため、ジャーナル１３５の近傍におけるメッキ液１３の流速が遅くなり、メッキ液１３中の分散粒子が偏析しやすくなるおそれがある。
【００４２】
そこで、図１９に示すように、陽極取付板２５における挿通穴１１３を、クランク軸受けジャーナル１３５側に近づくにつれて徐々に大きくし、遠ざかるにつれて徐々に小さく形成している。これによって、ジャーナル側におけるメッキ液１３の流れ抵抗を小さくし、ジャーナル１３５の反対側における流れ抵抗を増加させることで、シリンダボア６１内における流速の均一性を図ることができる。
【００４３】
［第８の実施の形態］
第８の実施の形態では、水平対向エンジンにおいて、エンジン搭載状態で下側となるシリンダボア面に硬質粒子をあえて多く分散させている。
水平対向エンジン等は、エンジン搭載時に鉛直下側となるシリンダボア面がピストン荷重により特に摩耗しやすいため、この鉛直下側のシリンダボア面において、ＳｉＣ等の硬質粒子の共析量を上側よりも増加させる必要がある。
【００４４】
本発明は、このような水平対向エンジンにも適用可能であり、例えば、図２１〜図２４に示すように、直列２気筒型のシリンダブロック１４１を垂直に立てた状態でメッキをする場合において、陽極取付板２５に穿設した挿通穴の穴位置や大きさを適宜設定することによって、シリンダボア面６３の円周方向における硬質粒子の共析量を増減させることができる。
【００４５】
このように、エンジン搭載時に下側となるシリンダボア面６３の硬質粒子１４３の共析量を増加させたシリンダブロック１４１を組み合わせて使用することで、ピストン荷重による下側における偏摩耗を防止することができる。
【００４６】
【発明の効果】
本発明によれば、傾斜した被処理面に処理液中の粒子が均一に共析した皮膜を形成することができ、また、上下に延びる被処理面には、片側と他方側とで粒子の分散度合を変えた皮膜を形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】第１の実施の形態における表面処理装置を示す断面図である。
【図２】第２の実施の形態における表面処理装置の要部を示す断面図である。
【図３】第３の実施の形態における表面処理装置を示す断面図である。
【図４】第４の実施の形態における表面処理装置の要部を示す断面図である。
【図５】第５の実施の形態における表面処理装置を示す断面図である。
【図６】本図のうち、（ａ）は図５の陽極及び陽極取付板を示す斜視図であり、（ｂ）は（ａ）の側面図である。
【図７】第５の実施の形態における陽極取付板を示す平面図である。
【図８】第５の実施の形態における別の陽極取付板を示す平面図である。
【図９】第５の実施の形態における更に別の陽極取付板を示す平面図である。
【図１０】第５の実施の形態における更に別の陽極取付板を示す平面図である。
【図１１】第６の実施の形態における陽極取付板を示す平面図である。
【図１２】図１１のマスキング板を回転させた状態の陽極取付板を示す平面図である。
【図１３】図１２のＡ−Ａ線による断面図である。
【図１４】第６の実施の形態における別の陽極取付板を示す平面図である。
【図１５】図１４のスライド式遮蔽板を移動させた状態の陽極取付板を示す平面図である。
【図１６】図１５のＢ−Ｂ線による断面図である。
【図１７】第７の実施の形態を適用することができるシリンダブロックの平面図である。
【図１８】図１７のＣ−Ｃ線による断面図である。
【図１９】第７の実施の形態における陽極取付板を示す平面図である。
【図２０】第７の実施の形態に係る表面処理装置を用いて処理をしているシリンダブロックの断面図である。
【図２１】第８の実施の形態に係る表面処理装置を用いて処理をしているシリンダブロックの断面図である。
【図２２】本図のうち、（ａ）と（ｂ）は、第８の実施の形態に係る表面処理装置に用いる陽極取付板を示す平面図である。
【図２３】本図のうち、（ａ）と（ｂ）は、第８の実施の形態に係る表面処理装置を用いて処理したシリンダブロックの断面図である。
【図２４】図２３のシリンダブロックを組み合わせて作製した水平対向エンジンの断面図である。
【図２５】従来の処理方法を用いてシリンダボア面を表面処理したシリンダブロックの断面図である。
【図２６】図２５のシリンダブロックをＤ方向から見たメッキ被膜を示す概念図である。
【符号の説明】
１，７１，９１，１０１，１１１ 表面処理装置
３，１３７，１４１ Ｖ型シリンダブロック
５ 床面
７ 支持台
９ 下治具
１１ 穴
１３ メッキ液
１５ 流入口
１７ 流速調整装置
１９ ロッド
２１ 上側治具固定装置
２３ 流出治具
２５ 陽極取付板
２７，７３，９３，１０３，１１５ 上治具
２９ パッキン
３１ 整流器
３３ 液槽
３５ 配管
３７，１１３ 挿通穴
３９，７５ 流出口
４１ 合流点
４３，４７ バルブ
４５ 流量計
４９ ヘッド面
５１ クランプ
５３ シリンダ
５５ 陽極
５７ ポンプ
５９ クランクケース部
６１ シリンダボア
６３ シリンダボア面
７７，９７，１０７ 電極
７９ ガス
８１ ガス流れ
８３ 電解液
９５，１０５ 凹部
９９ 電極取付板
１１７ 埋め栓
１２３ 回転式マスキング板
１２７ 中央部
１２９ ピン
１３１ 流出口
１３３ スライド式遮蔽板
１３５ クランク軸受けジャーナル
１４３ 硬質粒子
【発明の属する技術分野】
本発明は、筒状部を有する中空体の内面に処理液を流通させて表面処理を施す表面処理装置に関する。更に詳しくは、内燃機関のシリンダブロック内に処理液を流してメッキや電解エッチング等の表面処理を施す表面処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
通常、自動車のエンジンに用いられるアルミニウム合金製シリンダブロックのシリンダボア面には、ピストンの摺動に対する耐摩耗性を向上させるために、鋳鉄スリーブが挿入されている。しかし、この鋳鉄スリーブによってエンジンの重量が大きくなり、車両の燃費が低下するおそれがあった。そこで、近年はエンジンの軽量化や性能向上を図るため、ニッケルメッキ皮膜中にＳｉＣ等の硬いセラミックス粒子を共析させてシリンダボア面に複合メッキを施すことによって、前記鋳鉄スリーブを廃止したアルミニウム合金製シリンダブロックの開発が進められている。
なお、以下の記載においては、皮膜（ニッケルメッキ皮膜等）中に粒子（ＳｉＣの硬質セラミックス粒子等）が取り込まれることを「共析」と呼ぶ。
【０００３】
このシリンダブロックのメッキにおいては、効率よくメッキを行うため、シリンダボア内に電極を配置し、該シリンダボア内にメッキ液を流しながらメッキ処理をする方法を採用している。
ここで、シリンダブロックは、その構造によって、直列４気筒やＶ型６気筒等に分類されている。この直列４気筒シリンダブロックのシリンダボア面にメッキ処理を施す場合や、Ｖ型６気筒シリンダブロックのシリンダボア面を片バンクずつメッキ処理する場合は、シリンダボアの軸線が鉛直方向になった状態のままメッキ処理を行うため、重力などの影響は受けず、メッキ皮膜中に共析した分散粒子の共析量は皮膜全体に亘って均一となる。
【０００４】
しかし、Ｖ型シリンダブロック２０１を両バンクのシリンダ共に同時にメッキ処理する場合は、図２５及び図２６に示すように、シリンダボア面２０３のうち、車両搭載状態において傾斜した下方側に位置するメッキ皮膜２０５中の分散粒子２０７の共析量が大きくなるという問題があった。つまり、Ｖ型シリンダブロック２０１においては、図２５に示すように、シリンダボア２０９が左右の斜め上方に向けて傾斜しているため、このシリンダボア２０９内をメッキ液が流れる場合、該メッキ液中のＳｉＣ等の分散粒子（硬質粒子）２０７は、特開平１１−１２７９０号公報に記載されているように、重力の影響によって傾斜した下方側のシリンダボア面２０３におけるメッキ皮膜２０５中（図２６参照）により多く共析しやすかった。
【０００５】
この問題を解決するため、特開平８−１４４０８２号公報では、Ｖ型シリンダブロックを片バンクのシリンダずつに分けて前処理とメッキ処理を施している。しかし、この方法では、同一のシリンダブロックを２回に分けて前処理及びメッキ処理をしなげればならず、作業工数が２倍かかるため、コストが高くなると共に、メッキラインも長くなるという問題があった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、前記課題を解決し、筒状のワークの内面に処理液を流しながら皮膜を形成する場合に、前記内面の片側とこの片側に対向する他方側とで、処理液の流速を変えることができる流速調整装置及び該流速調整装置を備えた表面処理装置を提供することを目的とする。
【０００７】
本発明に係る処理液の流速調整装置は、前記目的を達成するため、一端側の蓋部に排出穴が穿設された有蓋筒状の本体を備えた処理液の流速調整装置であって、筒状のワークの開口面に前記本体の他端側を当接させ、前記ワーク内に流入させた処理液を、前記本体の内部を介して前記排出穴から排出させる際に、前記ワーク内部の被処理面の一部分における処理液の流速と、この一部分に対向する他の部分の被処理面における流速とに差異を設けるように構成している。
【０００８】
さらに、本発明に係る処理液の流速調整装置では、前記本体の内部に、複数の挿通穴を有する隔壁板を設け、該隔壁板で本体内部を軸方向に分け隔てることによって、前記他端側に位置する第１の空間及び前記一端側に位置する第２の空間を形成している。
【０００９】
前記隔壁板としては、例えば、メッキ処理用電極を取り付ける電極取付板などを用いることができる。
【００１０】
本発明に係る処理液の流速調整装置の一態様では、前記第１の空間側における本体の側壁に処理液の流出口を設け、第１の空間内に流入した処理液を前記流出口から流出させることによって、前記流出口の側における被処理面の処理液の流速を、流出口に対向する側の被処理面における処理液の流速よりも速くしている。
【００１１】
この流出口がいわゆるバイパス流路の役割を果たすため、簡単でかつ確実に被処理面における処理液の流速を速くすることができる。
【００１２】
そして、本発明に係る処理液の流速調整装置の別の態様では、前記第１の空間側における本体の側壁の内面に、切欠きによって形成した凹部を設け、この凹部側における被処理面の処理液の流速を、凹部の対向側における被処理面の処理液の流速よりも速くすることができる。
【００１３】
前記凹部によって、第１の空間における凹部側の流路面積が大きくなるため、結果的に、凹部側の被処理面における処理液の流速を速くすることができる。
【００１４】
さらに、本発明に係る処理液の流速調整装置の更に別の態様では、前記隔壁板の挿通穴を周方向に間隔を隔てて複数設けると共に、これらの挿通穴の径を、前記隔壁板の径方向の片側と、この片側に対向する他方側とで差異を設けている。
【００１５】
前記挿通穴の径を大きくした側の被処理面における処理液の流速が、他方側における被処理面の流速よりも速くなる。
【００１６】
そして、本発明に係る処理液の流速調整装置の更に別の態様では、前記隔壁板の挿通穴を、周方向に間隔を隔てて複数設けると共に、これらの挿通穴の隣同士の間隔を、前記隔壁板の径方向の一方側と他方側とで差異を設けている。
【００１７】
また、本発明に係る処理液の流速調整装置の更に別の態様では、前記隔壁板の挿通穴を周方向に間隔を隔てて複数設ける。
【００１８】
また、これと共に、この態様では、これらの挿通穴よりも小さい径を有する流通穴を設けたマスキング板を、前記隔壁板に回転可能に取り付けている。
【００１９】
そして、本発明に係る処理液の流速調整装置の更に別の態様では、前記隔壁板の挿通穴を周方向に間隔を隔てて複数設けると共に、隔壁板の径方向に摺動することによってこれらの挿通穴を塞ぐことができる遮蔽板を、前記隔壁板に摺動可能に取り付けている。
【００２０】
なお、本発明に係る表面処理装置は、前述した流速調整装置を備えている。
【００２１】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明の実施の形態に係る表面処理装置について説明する。本発明は、筒状に形成されたワークの内面に処理液を流しながら表面処理を施す場合に、皮膜中の粒子を均一に分散させる表面処理装置である。本発明の実施の形態においては、Ｖ型シリンダブロックのシリンダボア面にメッキを施す表面処理を中心に説明をする。なお、本発明は、被処理面であるシリンダボア面が傾斜した状態で処理をする場合に限定されず、シリンダボア面が上下方向に沿った状態で処理をする場合にも適用することができる。
【００２２】
本発明は、Ｖ型シリンダにおいて、傾斜したシリンダ内のメッキ液の流速をシリンダボアの各部位ごとに細かく調整することによって、即ち、傾斜したシリンダのシリンダボア内において下方側のシリンダボア面を流れるメッキ液の流速を上方側よりも速くすることができる。これによって、下方側のシリンダボア面における硬質粒子の過剰な共析を防止し、メッキ皮膜中の全体に亘ってＳｉＣなどの硬質粒子を均一に分散して共析させる表面処理である。以下、第１から第８の実施の形態に分けて、図面を参照しながら説明する。なお、まず第１の実施の形態について詳細に説明をするが、第２の実施の形態以降については、重複する内容の説明は省略する。
【００２３】
［第１の実施の形態］
図１は、第１の実施の形態に係る表面処理装置１を用いて、ワークとなるＶ型シリンダブロック３をメッキ処理している状態を示す断面図である。
床面５上には、支持台７が配置されており、該支持台７の上部には下治具９が取り付けられている。これらの支持台７と下治具９の中央部には、貫通した穴１１が形成されており、該穴１１には、下治具９の内部にメッキ液１３を流入させる流入口１５が取り付けられている。また、この支持台７の上方には、流速調整装置１７が設けられている。
【００２４】
この流速調整装置１７は、先端に伸縮可能なロッド１９を有する上側治具固定装置２１と、該ロッド１９の端部に取り付けられ、蓋部を有する流出治具２３と、該流出治具２３の下端に固定した陽極取付板（隔壁板）２５、上治具２７及びパッキン２９とを備えている。そして、整流器３１の正極側は陽極取付板２５に接続され、負極側はワーク３に接続されている。また、流出治具２３から排出されたメッキ液１３は液槽３３に流入したのち、該液槽３３から配管３５を介してワーク３中に流入するように構成されている。
【００２５】
ワークであるＶ型シリンダブロック３のシリンダボアは、左右両側の斜め上方に傾斜して形成されており、前記上治具２７もこのシリンダボアに沿って傾斜して配設されている。この上治具２７の上部には、挿通穴３７が穿設された陽極取付板２５が載置され、また、上治具２７の側壁のうち外方側（傾斜した下方側）には、流出口３９が形成されている。この流出口３９は、細い筒状に形成されており、前記上治具２７の側壁の途中から分岐したのち、配管３５を介して液槽３３に連結されている。この配管３５には、合流点４１前においてバルブ４３が配設されており、また、合流点４１以降の配管においても流量計４５とバルブ４７が配設されている。
【００２６】
そして、上治具２７、陽極取付板２５及び流出治具２３は液密状に一体化され、ロッド１９を介して上側治具固定装置２１に取り付けられているため、上下に自由に移動させることができる。
【００２７】
さらに、ワークとなるＶ型シリンダブロック３は、ヘッド面４９を上にした状態で下治具９の上に載置され、クランプ５１によって固定されている。各気筒のシリンダ５３内に陽極５５が挿入され、絶縁性のパッキン２９を介して上治具２７及び流出治具２３を上側治具固定装置２１によって押圧することにより、Ｖ型シリンダブロック３は液密状にシールされている。
【００２８】
前記構成を有する表面処理装置１を用いて処理を行う手順を簡単に説明する。ＳｉＣなどの粒子を含むメッキ液１３は、液槽３３からポンプ５７により圧送され、下治具９の下側に設けられた流入口１５から下治具９を通ってＶ型シリンダブロック３内に流入する。このＶ型シリンダブロック３内において、下治具９及びクランクケース部５９がバッファの役目を果たすため、Ｖ型シリンダブロック３内に流入するメッキ液１３の流れは均一化される。
【００２９】
次いで、メッキ液１３は左右両側のシリンダボア６１に分かれて流入するが、上治具２７には、下方側に流出口３９が設けられているため、シリンダボア６１内では下方側の方がメッキ液１３の流速が速くなる。さらに、各気筒のシリンダ５３内のメッキ液１３の流速は、流量計４５及びバルブ４３，４７により制御される。メッキ液１３を流しながら、Ｖ型シリンダブロック３をマイナス、陽極５５をプラスとして通電させることにより、シリンダボア面６３にメッキ皮膜を形成させることができる。ここで、シリンダボア６１内では下方側の方がメッキ液１３の流速が速いため、下方側のシリンダボア面６３におけるＳｉＣなどの粒子の過剰な共析を防止することができる。さらに、流出口３９への流速は、バルブ４３で制御することにより、ＳｉＣなどの粒子を均一に共析させることができる。
【００３０】
［第２の実施の形態］
前記第１の実施の形態においては、メッキ処理を施す形態について説明をしたが、第２の実施の形態においては、電解エッチング等の処理を行う場合について説明する。
図２に示すように、第２の実施の形態に係る表面処理装置７１においては、上治具７３の側壁のうち、上方側に流出口７５を設けている。
前記電解エッチングとは、電極をシリンダボア６１内に配置し、リン酸や硫酸などの電解液８３を流しながらシリンダブロック３を陽極、電極７７を陰極とし、シリンダボア面６３を腐食除去したりする処理であり、処理中に多量のガス７９が発生する。傾いたシリンダ５３では、処理中に発生したガスは矢印８１に示すように上方に流れるため、シリンダボア面６３の上方側が電解エッチングされにくい。
【００３１】
しかし、上治具７３の上方側には流出口７５を設けてあるため、上方側の電解液８３の流れがスムーズになり、かつ、流出口７５から、発生するガス７９を効率良く抜くことによって、シリンダボア面６３の処理を各部位について均一に行うことができる。
【００３２】
［第３の実施の形態］
第３の実施の形態に係る表面処理装置９１においては、図３に示すように、上治具９３の内側面のうち、下方側の面に凹部９５を形成しているため、電極９７の上部９７ａから凹部９５までの距離が下方側の方が大きく広がっている。また、電極取付板９９に穿設された挿通穴３７の大きさも、下方側の方を適宜大きめに形成している。従って、上治具９３とシリンダボア６１の下方側のメッキ液１３の流速は、上方側よりも大きくなり、シリンダボア面６３の下方側におけるＳｉＣなどの粒子の過剰な分散を防ぎ、シリンダボア面６３の皮膜全体に亘って均一に分散させることができる。
【００３３】
［第４の実施の形態］
第４の実施の形態に係る表面処理装置１０１においては、図４に示すように、上治具１０３の上方側の側壁に凹部１０５を形成しているため、電極１０７の上部１０７ａと凹部１０５との距離は、上方側の方が広がっている。また、電極取付板１０９の挿通穴３７も、上方側の方が大きく形成されているため、電解液８３をシリンダボア６１内に流すときは、上治具１０３及びシリンダボア６１の上方側の流速が大きくなる。
【００３４】
前記構成を有する表面処理装置１０１によれば、電極１０７をシリンダボア６１内に配置し、リン酸や硫酸などの電解液８３を流しながらシリンダブロック３を陽極、電極１０７を陰極として電解エッチングなどを施す場合は、処理中に発生し上方に流れるガス７９の抜けを良くできるので、シリンダボア６１内の電解エッチングの処理をシリンダボア面６３全体を均一に行うことができる。
【００３５】
［第５の実施の形態］
第５の実施の形態に係る表面処理装置１１１においては、図５〜図１０に示すように、陽極取付板２５に設けた挿通穴の大きさ、形状及び配置を変えることによって、シリンダボア内の処理液の流速を調整している。
図５は、表面処理装置１１１全体を示す断面図であり、整流器３１の正極が接続された陽極取付板２５には図６及び図７に示すような挿通穴１１３が形成されている。これらの図から判るように、上方側の流出口１１３ａは、下方側の流出口１１３ｂよりも小さく形成されているため、シリンダボア６１の下方側の方がメッキ液１３の流速が速くなる。
【００３６】
また、図８に示すように、陽極取付板２５の上方側に位置する挿通穴１１３に埋め栓１１７を施すことによっても、シリンダボア６１の下方側におけるメッキ液１３の流速を速くすることができる。
さらに、図９に示すように、上方側の挿通穴１１３ａを小さくすると共に、下方側の流出口１１３ｂを連通させて一つの長い穴に拡大すれば、メッキ液１３の流速の差を上方側と下方側とでより大きくすることができる。
なお、図１０に示すように、挿通穴１１３を細長いスリット形状の穴に形成し、シリンダボア６１内の上方側から下方側に向かって漸次的に間隔が密になるように複数個配列させている。穴の形状は、特に限定されず、楕円や台形などでも良い。
【００３７】
以上、図７〜図１０に示すような挿通穴１１３を有する陽極取付板２５によって、メッキ液１３中の粒子の沈降が抑制され、粒子が均一に分散したメッキ皮膜を得ることができる。これにより、Ｖ型シリンダブロック３のシリンダ５３を両バンクとも同時にメッキすることが可能となるため、片バンクずつメッキする場合に比較して、メッキに要するコストを半分に削減できると共に、及びメッキラインの長さも半分に短縮することができる。
【００３８】
［第６の実施の形態］
第６の実施の形態においては、図１１〜図１６に示すように、陽極取付板２５に予め穿設した挿通穴１１３を回転式マスキング板１２３又はスライド式遮蔽板１３３で塞ぐことによって、シリンダボア６１内のメッキ液１３の流速を調整している。
【００３９】
まず、図１１〜図１３は、扇形の回転式マスキング板１２３を示している。陽極取付板２５には、図１１と図１２に示すように、同一径の円形を有する挿通穴１１３が同一間隔で穿設されており、この挿通穴１１３のうち、３つを塞ぐことができる大きさの扇形の回転式マスキング板１２３が陽極取付板２５の中央部１２７を中心にピン１２９（図１３参照）によって回転可能に取り付けられている。また、回転式マスキング１２３には、前記挿通穴１１３よりも小さな径を有する別の流出口１３１が穿設されているため、図１３に示すように、シリンダボア６１の下方側におけるメッキ液１３の流速が上方側の流速よりも速くなる。前記マスキング板１２３は、特に限定されず、種々の形状と大きさとすることができる。
【００４０】
さらに、図１４〜図１６に示すように、スライド式遮蔽板１３３を挿通穴１１３にそれぞれ個別に配設している。このスライド式遮蔽板１３３を陽極取付板２５の径方向に出し入れすることによって、各々の流出口１１３を任意の大きさに塞ぐことができる。図１４には、流出口１１３の５ケ所にスライド式遮蔽板１３３を配設しているが、その個数、大きさ、及び形状はこれに限定されるものではない。
【００４１】
［第７の実施の形態］
第７の実施の形態においては、クランク軸受けジャーナル１３５が突出しているＶ型シリンダブロック１３７においてもジャーナル１３６の近傍におけるメッキ液１３の流速を均一化させることができる。
図１７〜図２０に示すＶ型シリンダブロック１３７には、クランク軸受けジャーナル１３５が突出している。図２０に示すように、このクランク軸受けジャーナル１３５の段部の近傍に陽極５５の下端部５５ａが位置するため、ジャーナル１３５の近傍におけるメッキ液１３の流速が遅くなり、メッキ液１３中の分散粒子が偏析しやすくなるおそれがある。
【００４２】
そこで、図１９に示すように、陽極取付板２５における挿通穴１１３を、クランク軸受けジャーナル１３５側に近づくにつれて徐々に大きくし、遠ざかるにつれて徐々に小さく形成している。これによって、ジャーナル側におけるメッキ液１３の流れ抵抗を小さくし、ジャーナル１３５の反対側における流れ抵抗を増加させることで、シリンダボア６１内における流速の均一性を図ることができる。
【００４３】
［第８の実施の形態］
第８の実施の形態では、水平対向エンジンにおいて、エンジン搭載状態で下側となるシリンダボア面に硬質粒子をあえて多く分散させている。
水平対向エンジン等は、エンジン搭載時に鉛直下側となるシリンダボア面がピストン荷重により特に摩耗しやすいため、この鉛直下側のシリンダボア面において、ＳｉＣ等の硬質粒子の共析量を上側よりも増加させる必要がある。
【００４４】
本発明は、このような水平対向エンジンにも適用可能であり、例えば、図２１〜図２４に示すように、直列２気筒型のシリンダブロック１４１を垂直に立てた状態でメッキをする場合において、陽極取付板２５に穿設した挿通穴の穴位置や大きさを適宜設定することによって、シリンダボア面６３の円周方向における硬質粒子の共析量を増減させることができる。
【００４５】
このように、エンジン搭載時に下側となるシリンダボア面６３の硬質粒子１４３の共析量を増加させたシリンダブロック１４１を組み合わせて使用することで、ピストン荷重による下側における偏摩耗を防止することができる。
【００４６】
【発明の効果】
本発明によれば、傾斜した被処理面に処理液中の粒子が均一に共析した皮膜を形成することができ、また、上下に延びる被処理面には、片側と他方側とで粒子の分散度合を変えた皮膜を形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】第１の実施の形態における表面処理装置を示す断面図である。
【図２】第２の実施の形態における表面処理装置の要部を示す断面図である。
【図３】第３の実施の形態における表面処理装置を示す断面図である。
【図４】第４の実施の形態における表面処理装置の要部を示す断面図である。
【図５】第５の実施の形態における表面処理装置を示す断面図である。
【図６】本図のうち、（ａ）は図５の陽極及び陽極取付板を示す斜視図であり、（ｂ）は（ａ）の側面図である。
【図７】第５の実施の形態における陽極取付板を示す平面図である。
【図８】第５の実施の形態における別の陽極取付板を示す平面図である。
【図９】第５の実施の形態における更に別の陽極取付板を示す平面図である。
【図１０】第５の実施の形態における更に別の陽極取付板を示す平面図である。
【図１１】第６の実施の形態における陽極取付板を示す平面図である。
【図１２】図１１のマスキング板を回転させた状態の陽極取付板を示す平面図である。
【図１３】図１２のＡ−Ａ線による断面図である。
【図１４】第６の実施の形態における別の陽極取付板を示す平面図である。
【図１５】図１４のスライド式遮蔽板を移動させた状態の陽極取付板を示す平面図である。
【図１６】図１５のＢ−Ｂ線による断面図である。
【図１７】第７の実施の形態を適用することができるシリンダブロックの平面図である。
【図１８】図１７のＣ−Ｃ線による断面図である。
【図１９】第７の実施の形態における陽極取付板を示す平面図である。
【図２０】第７の実施の形態に係る表面処理装置を用いて処理をしているシリンダブロックの断面図である。
【図２１】第８の実施の形態に係る表面処理装置を用いて処理をしているシリンダブロックの断面図である。
【図２２】本図のうち、（ａ）と（ｂ）は、第８の実施の形態に係る表面処理装置に用いる陽極取付板を示す平面図である。
【図２３】本図のうち、（ａ）と（ｂ）は、第８の実施の形態に係る表面処理装置を用いて処理したシリンダブロックの断面図である。
【図２４】図２３のシリンダブロックを組み合わせて作製した水平対向エンジンの断面図である。
【図２５】従来の処理方法を用いてシリンダボア面を表面処理したシリンダブロックの断面図である。
【図２６】図２５のシリンダブロックをＤ方向から見たメッキ被膜を示す概念図である。
【符号の説明】
１，７１，９１，１０１，１１１ 表面処理装置
３，１３７，１４１ Ｖ型シリンダブロック
５ 床面
７ 支持台
９ 下治具
１１ 穴
１３ メッキ液
１５ 流入口
１７ 流速調整装置
１９ ロッド
２１ 上側治具固定装置
２３ 流出治具
２５ 陽極取付板
２７，７３，９３，１０３，１１５ 上治具
２９ パッキン
３１ 整流器
３３ 液槽
３５ 配管
３７，１１３ 挿通穴
３９，７５ 流出口
４１ 合流点
４３，４７ バルブ
４５ 流量計
４９ ヘッド面
５１ クランプ
５３ シリンダ
５５ 陽極
５７ ポンプ
５９ クランクケース部
６１ シリンダボア
６３ シリンダボア面
７７，９７，１０７ 電極
７９ ガス
８１ ガス流れ
８３ 電解液
９５，１０５ 凹部
９９ 電極取付板
１１７ 埋め栓
１２３ 回転式マスキング板
１２７ 中央部
１２９ ピン
１３１ 流出口
１３３ スライド式遮蔽板
１３５ クランク軸受けジャーナル
１４３ 硬質粒子
Claims (7)
- 一端側の蓋部に排出穴が穿設された有蓋筒状の本体を備えた処理液の流速調整装置であって、筒状のワークの開口面に前記本体の他端側を当接させ、前記ワーク内に流入させた処理液を、前記本体の内部を介して前記排出穴から排出させる際に、前記ワーク内部の被処理面の一部分における処理液の流速と、この一部分に対向する他の部分の被処理面における流速とに差異を設けるようにした処理液の流速調整装置であって、前記本体の内部に、複数の挿通穴を有する隔壁板を設け、該隔壁板で本体内部を軸方向に分け隔てることによって、前記他端側に位置する第１の空間及び前記一端側に位置する第２の空間を形成し、前記第１の空間側における本体の側壁に処理液の流出口を設け、第１の空間内に流入した処理液を前記流出口から流出させることによって、前記流出口の側における被処理面の処理液の流速を、流出口に対向する側の被処理面における処理液の流速よりも速くしたことを特徴とする処理液の流速調整装置。
- 一端側の蓋部に排出穴が穿設された有蓋筒状の本体を備えた処理液の流速調整装置であって、筒状のワークの開口面に前記本体の他端側を当接させ、前記ワーク内に流入させた処理液を、前記本体の内部を介して前記排出穴から排出させる際に、前記ワーク内部の被処理面の一部分における処理液の流速と、この一部分に対向する他の部分の被処理面における流速とに差異を設けるようにした処理液の流速調整装置であって、前記本体の内部に、複数の挿通穴を有する隔壁板を設け、該隔壁板で本体内部を軸方向に分け隔てることによって、前記他端側に位置する第１の空間及び前記一端側に位置する第２の空間を形成し、前記第１の空間側における本体の側壁の内面に、切欠きによって形成した凹部を設け、この凹部側における被処理面の処理液の流速を、凹部の対向側における被処理面の処理液の流速よりも速くしたことを特徴とする処理液の流速調整装置。
- 一端側の蓋部に排出穴が穿設された有蓋筒状の本体を備えた処理液の流速調整装置であって、筒状のワークの開口面に前記本体の他端側を当接させ、前記ワーク内に流入させた処理液を、前記本体の内部を介して前記排出穴から排出させる際に、前記ワーク内部の被処理面の一部分における処理液の流速と、この一部分に対向する他の部分の被処理面における流速とに差異を設けるようにした処理液の流速調整装置であって、前記本体の内部に、複数の挿通穴を有する隔壁板を設け、該隔壁板で本体内部を軸方向に分け隔てることによって、前記他端側に位置する第１の空間及び前記一端側に位置する第２の空間を形成し、前記隔壁板の挿通穴を周方向に間隔を隔てて複数設けると共に、これらの挿通穴の径を、前記隔壁板の径方向の片側と、この片側に対向する他方側とで差異を設けたことを特徴とする処理液の流速調整装置。
- 一端側の蓋部に排出穴が穿設された有蓋筒状の本体を備えた処理液の流速調整装置であって、筒状のワークの開口面に前記本体の他端側を当接させ、前記ワーク内に流入させた処理液を、前記本体の内部を介して前記排出穴から排出させる際に、前記ワーク内部の被処理面の一部分における処理液の流速と、この一部分に対向する他の部分の被処理面における流速とに差異を設けるようにした処理液の流速調整装置であって、前記本体の内部に、複数の挿通穴を有する隔壁板を設け、該隔壁板で本体内部を軸方向に分け隔てることによって、前記他端側に位置する第１の空間及び前記一端側に位置する第２の空間を形成し、前記隔壁板の挿通穴を、周方向に間隔を隔てて複数設けると共に、これらの挿通穴の隣同士の間隔を、前記隔壁板の径方向の一方側と他方側とで差異を設けたことを特徴とする処理液の流速調整装置。
- 一端側の蓋部に排出穴が穿設された有蓋筒状の本体を備えた処理液の流速調整装置であって、筒状のワークの開口面に前記本体の他端側を当接させ、前記ワーク内に流入させた処理液を、前記本体の内部を介して前記排出穴から排出させる際に、前記ワーク内部の被処理面の一部分における処理液の流速と、この一部分に対向する他の部分の被処理面における流速とに差異を設けるようにした処理液の流速調整装置であって、前記本体の内部に、複数の挿通穴を有する隔壁板を設け、該隔壁板で本体内部を軸方向に分け隔てることによって、前記他端側に位置する第１の空間及び前記一端側に位置する第２の空間を形成し、前記隔壁板の挿通穴を周方向に間隔を隔てて複数設けると共に、これらの挿通穴よりも小さい径を有する流通穴を設けたマスキング板を、前記隔壁板に回転可能に取り付けたことを特徴とする処理液の流速調整装置。
- 一端側の蓋部に排出穴が穿設された有蓋筒状の本体を備えた処理液の流速調整装置であって、筒状のワークの開口面に前記本体の他端側を当接させ、前記ワーク内に流入させた処理液を、前記本体の内部を介して前記排出穴から排出させる際に、前記ワーク内部の被処理面の一部分における処理液の流速と、この一部分に対向する他の部分の被処理面における流速とに差異を設けるようにした処理液の流速調整装置であって、前記本体の内部に、複数の挿通穴を有する隔壁板を設け、該隔壁板で本体内部を軸方向に分け隔てることによって、前記他端側に位置する第１の空間及び前記一端側に位置する第２の空間を形成し、前記隔壁板の挿通穴を周方向に間隔を隔てて複数設けると共に、隔壁板の径方向に摺動することによってこれらの挿通穴を塞ぐことができる遮蔽板を、前記隔壁板に摺動可能に取り付けたことを特徴とする処理液の流速調整装置。
- 前記請求項１〜６のいずれかに記載された流速調整装置を備えたことを特徴とする表面処理装置。
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