JP3918436B2 - 液晶表示装置の製造方法 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、液晶セル内に散乱反射層を有する液晶表示装置およびその製造方法に関し、より詳細には、視差による画像ボケが軽減され、且つ明るくて均一な反射表示品質が得られると共に製造が容易な液晶表示装置およびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
図１１は従来の反射型の液晶表示装置の一例の一部の断面図を示したものである。この液晶表示装置は単純マトリクス型の液晶セル１を備えている。液晶セル１はガラス基板やフィルム基板等からなる表示面側基板２および背面側基板３を備えている。表示面側基板２の内面には信号電極４および配向膜５が設けられている。背面側基板３の内面にはアルミニウム等からなる反射層６、赤、緑、青のカラーフィルタ要素７、保護膜８、走査電極９および配向膜１０が設けられている。
【０００３】
そして、表示面側基板２と背面側基板３とはほぼ方形枠状のシール材（図示せず）を介して貼り合わされ、シール材の内側における両基板２、３の配向膜５、１０間には液晶１１が封入されている。表示面側基板２の外面には位相差板１２が粘着剤層（図示せず）を介して貼り付けられ、その外面には偏光板１３が粘着剤層（図示せず）を介して貼り付けられ、その外面には散乱板１４が粘着剤層（図示せず）を介して貼り付けられている。
【０００４】
そして、この液晶表示装置では、散乱板１４の外面側から入射された外光を散乱板１４、偏光板１３、液晶１１、カラーフィルタ要素７等を透過させて反射層６で反射させ、この反射光をカラーフィルタ要素７、液晶１１、偏光板１３、散乱板１４等を透過させて散乱板１４の外面側に散乱出射させ、これにより表示を行う。この場合、反射層６で反射されて液晶１１、偏光板１３等を透過した光を散乱板１４で散乱させるのは、鏡面反射を防止し、視認性に優れたペーパーホワイト色を得るためである。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来のこのような液晶表示装置では、反射層６と散乱板１４との間に表示面側基板２等があるため、斜めに視角を変えた際に像が惚ける所謂視差による画像ボケが発生するという問題があった。また、視差による画像ボケを軽減するため、散乱板１４による散乱量をあまり大きくすることができず、十分なペーパーホワイト色が得られないという問題もあった。この発明の課題は、視差による画像ボケが軽減され、且つ明るくて均一な視認性に優れた表示品質が得られる液晶表示装置を単純な工程により製造することができるようにした液晶表示装置の製造方法を提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明の液晶表示装置の製造方法は、上記課題を解決するため、請求項１に記載のように、表示面側基板と背面側基板との間に液晶を封入してなる液晶セルの前記背面側基板の内面に光散乱機能と光反射機能の双方の機能を有する散乱反射層が設けられた液晶表示装置の製造方法であって、ベースフィルム上に後工程での剥離を容易にする境界面を形成するための離型層と、所定の粒径の粒子を含む光学等方性材料からなり、前記粒子の表面に沿った凹凸形状の凹凸表面を有する支持部材層とを順次積層して転写フィルムを形成する工程と、前記転写フィルムの前記支持部材層を前記背面側基板の内面に圧着した後、前記転写フィルムのうち前記ベースフィルムおよび前記離型層を前記支持部材層から剥離して、前記背面側基板の内面に凹凸表面を有する前記支持部材層を転写し、この支持部材層の凹凸面上に反射膜を形成することにより、前記背面側基板の内面に散乱反射部材層を形成する工程とを具備することを特徴とするものである。
本発明の液晶表示装置の製造方法においては、請求項２に記載したように、散乱反射部材層を形成する工程が、支持部材層の凹凸面上に、入射光の一部分を透過させる反射膜を形成することにより背面側基板の内面に散乱半透過反射層を形成する工程であることが好ましい。その場合、請求項３記載のように、前記散乱半透過反射層の前記液晶側に保護層を積層する工程をさらに備え、前記保護層と前記支持部材層および前記液晶のうちの少なくとも２つを、それぞれの屈折率が実質的に同一な物質で形成することが好ましい。
そして、請求項１に記載の発明によれば、液晶セルの背面側基板の内面に、所定の粒径の粒子を含む光学等方性材料からなり、前記粒子の表面に沿った凹凸形状の凹凸表面を有する支持部材層により形成された散乱反射層を転写形成するから、上述した所望の散乱反射機能を備えた散乱反射層を容易に形成することができる。
【０００７】
【発明の実施の形態】
図１はこの発明の第１実施形態における反射型の液晶表示装置の要部の一部を拡大した断面図を示したものである。この液晶表示装置は単純マトリクス型の液晶セル２１を備えている。液晶セル２１はガラス基板やフィルム基板等からなる表示面側基板２２および背面側基板２３を備えている。表示面側基板２２の内面には信号電極２４および配向膜２５が設けられている。背面側基板２３の内面には、表面が凸凹な支持層２６が設けられている。支持層２６上には、支持層２６の凸凹な表面に追従する凸凹な表面を有する光反射材料からなる散乱反射層２７が設けられている。散乱反射層２７上には赤、緑、青のカラーフィルタ要素（カラーフィルタ層）２８、保護膜（平坦化膜）２９、走査電極３０および配向膜３１が設けられている。
【０００８】
そして、表示面側基板２２と背面側基板２３とはほぼ方形枠状のシール材（図示せず）を介して貼り合わされ、シール材の内側における両基板２２、２３の配向膜２５、３１間には液晶３２が封入されている。表示面側基板２２の外面には位相差板３３が粘着剤層（図示せず）を介して貼り付けられ、その外面には偏光板３４が粘着剤層（図示せず）を介して貼り付けられいる。
【０００９】
そして、この液晶表示装置では、偏光板３４の外面側から入射された外光を偏光板３４、液晶３２、カラーフィルタ要素２８等を透過させて散乱反射層２７で散乱反射させ、この散乱反射光をカラーフィルタ要素２８、液晶３２、偏光板３４等を透過させて偏光板３４の外面側に出射させ、これにより表示を行う。この場合、偏光板は液晶セル２１の表示面側に偏光板３４を１枚設けただけであり、液晶セル２１の表裏両面に設ける場合に比べて採り込んだ外光をより有効に利用することができる。
【００１０】
このように、この液晶表示装置では、液晶セル２１の背面側基板２３の内面に設けられた支持層２６上に散乱反射層２７を設けているので、すなわち、反射層に散乱層を兼ねさせているので、反射と散乱が同時に行われ、したがって視差による画像ボケを軽減することができる。
【００１１】
次に、この液晶表示装置の一部の製造方法について、つまり、散乱反射層２７の形成方法について、図２を参照して説明する。まず、図２（Ａ）に示す転写フィルム４１を用意する。この転写フィルム４１は、ポリエチレンテレフタレート等からなるベースフィルム４２の図での下面に、シリカや樹脂等からなる所定の粒径の粒子４３を含むメラミン系樹脂等からなる後工程での剥離を容易にする境界面を形成するための離型層４４、アクリル系樹脂等の光学等方性材料からなり支持層を形成するための支持部材層２６´およびプロピレン系フィルム等からなるカバーフィルム４５が順次積層された構造となっている。この場合、離型層４４の下面は、粒子４３の粒径や混入量等を制御することにより、所期の大きさの凸凹が均一に形成された面となっている。したがって、支持部材層２６´の離型層４４の下面と接する面も、離型層４４の凸凹に追従した所期の大きさの凸凹が均一に形成された面となっている。
【００１２】
次に、転写フィルム４１のうちカバーフィルム４５を支持部材層２６´から剥離し、次いで図２（Ｂ）に示すように、転写フィルム４１の支持部材層２６´の平坦な下面を背面側基板２３の上面（内面）にローラ等を用いて圧着した後、ベークすることにより支持部材層２６´を硬化させて背面側基板２３の上面に固着させる。支持部材層２６´が感光性樹脂からなる場合には、紫外線照射により硬化させるようにしてもよい。
【００１３】
次に、転写フィルム４１のうちベースフィルム４２および粒子４３を含む離型層４４を支持部材層２６´から剥離する。すると、図２（Ｃ）に示すように、背面側基板２３の上面には、所期の大きさの凸凹が均一に形成された表面を有する支持層２６が残される。次に、図２（Ｄ）に示すように、支持層２６上にスパッタ法や蒸着法等によりアルミニウム、銀、銀−パラジウム合金、銀−パラジウム−銅合金等の金属からなる反射層を成膜して散乱反射層２７を形成する。この場合、散乱反射層２７の膜厚は１０００〜１５００Å程度と比較的薄いので、散乱反射層２７は支持層２６の凸凹な表面に沿うように形成され、その表面は支持層２６の凸凹な表面に追従したそれとほぼ同じ大きさの凸凹な面となる。そして、この散乱反射層２７上に、図１に示すように、カラーフィルタ要素２８、保護膜２９、走査電極３０および配向膜３１を形成することになる。
【００１４】
このように、この散乱反射層の形成方法では、転写フィルム４１の離型層４４の下面を、粒子４３の粒径や混入量等を制御することにより、所期の大きさで均一な凸凹面とすることができるので、支持部材層２６´の離型層４４と接する面を容易に同じ大きさの所期の凸凹が均一に形成された面とすることができる。この結果、背面側基板２３の上面に転写された支持層２６上にスパッタ法や蒸着法等により散乱反射層２７を形成するだけで、散乱反射層２７の表面を容易に所期の大きさの凸凹が均一に形成された面とすることができる。
【００１５】
この場合、例えば、支持層２６をフォトリソグラフィ法により形成する場合、マスクのパターン、露光、現像、ベークの各条件で支持層２６の表面の凸凹を制御することになるので、支持層２６の表面の凸凹にばらつきが生じやすい。支持層２６の表面の凸凹にバラツキが生じた場合、その上に成膜される散乱反射層２７の表面の凸凹にもバラツキが生じるため、十分な反射輝度が得られなかったり、反射輝度のバラツキが生じたり、製品ごとに反射輝度のバラツキが生じたりしてしまう。
【００１６】
このように、支持層２６をフォトリソグラフィ法により形成する場合、散乱反射層２７の表面を所期の凸凹な面とすることは困難であり、均一な反射表示品質を得ることができない。これに対し、上記実施形態の場合には、背面側基板２３の上面に転写された支持層２６の表面を容易に所期の凸凹な面とすることができ、その上に成膜される散乱反射層２７の表面も容易に所期の凸凹な面とすることができるので、均一な反射表示品質を得ることができる。即ち、上記実施形態の場合には、所期の大きさで均一な凸凹表面を有する散乱反射層２７の形成が容易であり、ひいては均一な反射表示品質を得る液晶表示装置を容易に製造することができる。
【００１７】
次に、この発明の第２実施形態における液晶表示装置において散乱反射層を形成する場合について、図３を参照して説明する。まず、図３（Ａ）に示す転写フィルム５１を用意する。この転写フィルム５１は、ベースフィルム５２の図での下面に、離型層５３、シリカや樹脂等からなる所定の粒径の粒子５４を含むアクリル系樹脂等の光学等方性材料からなる支持部材層５５´およびカバーフィルム５６が順次積層された構造となっている。この場合、支持部材層５５´の離型層５３と接する面は、粒子５４の粒径や混入量等を制御することにより、所期の大きさの凸凹が均一に形成された面となっている。
【００１８】
次に、転写フィルム５１のうちカバーフィルム５６を支持部材層５５´から剥離し、次いで図３（Ｂ）に示すように、転写フィルム５１の支持部材層５５´の下面を背面側基板５７の上面（内面）にローラ等を用いて圧着した後、ベークすることにより支持部材層５５´を硬化させて背面側基板５７の上面に固着させる。支持層２６が感光性樹脂からなる場合には、紫外線照射により硬化させるようにしてもよい。
【００１９】
次に、転写フィルム５１のうちベースフィルム５２および離型層５３を支持部材層５５´から剥離する。すると、図３（Ｃ）に示すように、背面側基板５７の上面には、粒子５４を含む凸凹な表面を有する支持層５５が残される。次に、図３（Ｄ）に示すように、支持層５５上にスパッタ法や蒸着法等によりアルミニウム、銀、銀−パラジウム合金、銀−パラジウム−銅合金等の金属からなる散乱反射層５８を成膜する。この場合も、散乱反射層５８の膜厚は１０００〜１５００Å程度と比較的薄いので、散乱反射層５８は支持層５５の凸凹な表面に沿うように形成され、その表面つまり反射面は支持層５５の凸凹な表面に追従した所期の大きさの凸凹が均一に形成された面となる。
【００２０】
このように、この散乱反射層の形成方法では、転写フィルム５１の支持層５５の離型層５３と接する面を、粒子５４の粒径や混入量等を制御することにより、所期の凸凹な面とすることができるので、背面側基板５７の上面に転写された支持層５５上にスパッタ法や蒸着法等により散乱反射層５８を形成するだけで、散乱反射層５８の表面を容易に所期の大きさの凸凹が均一に形成された面とすることができる。したがって、均一な反射表示品質を得ることができる液晶表示装置を容易に製造することができる。なお、粒子５４を含む支持層５５を印刷法により形成するようにしてもよい。
【００２１】
次に、この発明の第３実施形態としての液晶表示装置において散乱反射層を形成する場合について、図４を参照して説明する（ただし、この場合、散乱反射層の表面は平坦である。）。まず、図４（Ａ）に示す転写フィルム６１を用意する。この転写フィルム６１は、ベースフィルム６２の図での下面に、離型層６３、二酸化チタン等の金属酸化物、シリカ、マイカ、シリコンパウダー等の光散乱粒子材料（図示せず）を含むアクリル系樹脂等の光学等方性材料からなる散乱反射層を形成するための散乱反射部材層６４´およびカバーフィルム６５が順次積層された構造となっている。
【００２２】
次に、転写フィルム６１のうちカバーフィルム６５を散乱反射層６４から剥離し、次いで図４（Ｂ）に示すように、転写フィルム６１の散乱反射部材層６４´の下面を背面側基板６６の上面（内面）にローラ等を用いて圧着した後、ベークすることにより散乱反射層６４を硬化させて背面側基板６６の上面に固着させる。散乱反射部材層６４´の光学等方性材料が感光性樹脂からなる場合には、紫外線照射により硬化させるようにしてもよい。次に、転写フィルム６１のうちベースフィルム６２および離型層６３を散乱反射部材層６４´から剥離する。すると、図４（Ｃ）に示すように、背面側基板６６の上面には、表面が平坦な散乱反射層６４が残される。
【００２３】
この場合、散乱反射層６４は、二酸化チタン等の金属酸化物、シリカ、マイカ、シリコンパウダー等の光散乱粒子材料を含むアクリル系樹脂等の光学等方性材料からなっているので、光散乱粒子材料の混入量を光を透過させることなく必要な反射と散乱の両機能が得られるように制御することにより、上述した実施形態の散乱反射層と同様に、視差による画像ボケを軽減することができ、また明るくて均一な反射表示品質を得ることができる。また、散乱反射層６４を形成する場合、転写フィルム６１の散乱反射層６４を背面側基板６６の上面に転写するだけであるので、所望の均一な反射表示品質を備えた液晶表示装置を容易に製造することができる。
【００２４】
次に、この発明の第４実施形態としての液晶表示装置において散乱反射層を形成する場合について、図５を参照して説明する。まず、図５（Ａ）に示す転写フィルム７１を用意する。この転写フィルム７１は、ベースフィルム７２の図での下面に、離型層７３、二酸化チタン等の金属酸化物、シリカ、マイカ、シリコンパウダー等の光散乱粒子材料（図示せず）を含むアクリル系樹脂等の光学等方性材料からなる散乱反射部材層７４´およびカバーフィルム７５が順次積層された構造となっている。この場合、散乱反射部材層７４´は、必要且つ十分な光散乱機能が得られるように光散乱粒子材料の含有量と膜厚を調整してある。従って、本実施形態の散乱反射層７４は、入射光の一部分は反射されずに透過する散乱半透過反射層である。
【００２５】
次に、転写フィルム７１のうちカバーフィルム７５を散乱反射部材層７４´から剥離し、次いで図５（Ｂ）に示すように、転写フィルム７１の散乱反射部材層７４´の下面を背面側基板６６の上面（内面）に予め設けられたアルミニウム、銀、銀−パラジウム合金、銀−パラジウム−銅合金等の金属からなる反射金属膜７７の上面にローラ等を用いて圧着した後、ベークすることにより散乱反射部材層７４´を硬化させて反射金属膜７７の上面に固着させる。散乱反射部材層７４´の光学等方性材料が感光性樹脂からなる場合には、紫外線照射により硬化させるようにしてもよい。次に、転写フィルム７１のうちベースフィルム７２および離型層７３を散乱反射部材層７４´から剥離する。すると、図５（Ｃ）に示すように、背面側基板６６上の反射金属膜７７の上面には、表面が平坦な散乱反射層７４が残される。
【００２６】
この場合、背面側基板６６上の反射金属膜７７の上面に、主として散乱機能を有する散乱反射層７４を設けているので、反射金属膜７７と散乱反射層７４とで必要とされる反射と散乱の両機能が発揮され、したがって視差による画像ボケを軽減することができ、また明るくて均一な反射表示品質を得ることができる。また、散乱反射層７４を形成する場合、転写フィルム７１の散乱反射部材層７４´を背面側基板６６上の反射金属膜７７の上面に転写するだけであるので、明るくて均一な反射表示品質を備えた液晶表示装置を容易に製造することができる。
【００２７】
なお、上記第３、第４実施形態では、散乱反射層６４、７４を二酸化チタン等の金属酸化物、シリカ、マイカ、シリコンパウダー等の光散乱粒子材料を含むアクリル系樹脂等の光学等方性材料により形成した場合について説明したが、これに限らず、蛍光材料を含むアクリル系樹脂等の光学等方性材料により形成するようにしてもよく、また蛍光材料のみにより形成するようにしてもよい。また、上記第３、第４実施形態では、散乱反射層６４、７４を転写法により形成する場合について説明したが、これに限らず、印刷法により形成するようにしてもよい。即ち、凸版の印刷版を用いて光散乱粒子材料や蛍光材料を含むアクリル系樹脂等の光学等方性材料を透明基板に直接印刷する方法である。
【００２８】
また、上記各実施形態では、この発明を反射型の液晶表示装置に適用した場合について説明したが、これに限らず、例えば図６に示すこの発明の第５実施形態のように、半透過反射型の液晶表示装置にも適用することができる。次に、この半透過反射型の液晶表示装置について説明するが、図６において、図１と同一名称部分には同一の符号を付し、その説明を適宜省略する。
【００２９】
図６に示す液晶表示装置では、背面側基板２３の外面に位相差板８１が粘着剤層（図示せず）を介して貼り付けられ、その外面に偏光板８２が粘着剤層（図示せず）を介して貼り付けられ、その外面側にバックライト８３が配置されている。そして、第１実施形態と同様に所定の大きさの凹凸面を備えた光学等方性材料からなる支持層２６が背面側基板２３の内面に形成され、この凹凸面上に金属層からなる散乱半透過反射層２７Ａが設けられている。散乱半透過反射層２７Ａは、膜厚を３００〜７００Å程度と薄くするかスリット等を形成することにより、必要な光散乱反射機能と光透過機能を有する構造となっている。尚、上記第３実施形態のように凹凸支持層を形成せずに散乱反射層を光学等方性材料に光散乱粒子を混入させて形成する場合は、膜厚を薄く或いは光散乱粒子材料等の混入量を少なく調整することにより、所望の散乱半透過反射層を形成することができる。
【００３０】
そして、この液晶表示装置を反射型として使用する場合には、バックライト８３を点灯させず、表示面側の偏光板３４の外面側から入射された外光を偏光板３４、液晶３２、カラーフィルタ要素２８等を透過させて散乱半透過反射層２７Ａで散乱反射させ、この散乱反射光をカラーフィルタ要素２８、液晶３２、偏光板３４等を透過させて偏光板３４の外面側に出射させ、これにより表示を行う。一方、この液晶表示装置を透過型として使用する場合には、バックライト８３を点灯させ、バックライト８３からの光を偏光板８２、散乱半透過反射層２７Ａ、カラーフィルタ要素２８、液晶３２、偏光板３４等を透過させて偏光板３４の外面側に出射させ、これにより表示を行う。
【００３１】
ところで、この液晶表示装置の散乱半透過反射層２７Ａが、図７に示すように、凸凹な表面を有する支持層２６上に設けられた金属層からなる場合、透過型として使用するとき、同図において矢印で示すように、膜厚が比較的大きい支持層２６と保護層２９との間および保護層２９と液晶（層）３２との間で屈折率の差に起因してバックライト８３から出射された平行光がそれら各部材を透過するうちに徐々に拡散されて表示の明るさが低下する。なお、散乱半透過反射層２７Ａ及びカラーフィルタ要素２８を透過する際の屈折は、夫々の膜厚が薄いために無視できる。ここで、一例として、支持層２６、散乱半透過反射層２７Ａ、カラーフィルタ要素２８、保護層２９、液晶（層）３２の各膜厚は、２．５μｍ、０．２μｍ、１．０μｍ、２．５μｍ、５μｍである。
【００３２】
そこで、まず、保護層２９と液晶３２の屈折率を実質的に同一にする。本実施形態では常光屈折率ｎoが１．５、異常光屈折率ｎeが１．９のｐ型液晶を使用しているから、保護層２９を液晶３２の常光屈折率（１．５）と同一の屈折率を有するアクリル系樹脂によって形成する。これにより、図８において矢印で示すように、保護層２９から電極３０、配向膜３１を経て液晶３２に至る光路において屈折による光の拡散がほぼ無くなる。なお、電極３０や配向膜３１も膜厚が薄いためにそれらを透過する際の屈折は無視できる。更に、支持層２６および保護層２９を液晶３２の常光屈折率（１．５）と実質的に同一の屈折率を有するアクリル系樹脂によって形成すると、図９において矢印で示すように、バックライト８３から出射された光をほとんど拡散させずに液晶３２まで透過させることができる。これにより、バックライト８３から液晶セルに入射された光が無駄なく表示に利用され、明るい表示が得られる。即ち、本実施形態の液晶表示装置によれば、反射型表示を行う場合は、散乱半透過反射層による光散乱反射機能により、表示領域全体が均一に明るい視認性に優れた反射表示品質が得られ、透過表示を行う場合は、透過光の拡散が防止されて光の利用効率に優れた明るい透過表示品質が得られる。
【００３３】
なお、上記各実施形態では、この発明を単純マトリクス型の液晶表示装置に適用した場合について説明したが、これに限定されるものではない。例えば、図１０に示すこの発明の第６実施形態のように、アクティブマトリクス型の液晶表示装置にも適用することができる。次に、このアクティブマトリクス型の液晶表示装置について説明する。
【００３４】
この液晶表示装置はアクティブマトリクス型の液晶セル９１を備えている。液晶セル９１はガラス基板やフィルム基板等からなる表示面側基板９２および背面側基板９３を備えている。表示面側基板９２の内面には赤、緑、青のカラーフィルタ要素９４、共通電極９５および配向膜９６が設けられている。背面側基板９３の内面には薄膜トランジスタ９７、絶縁膜９８、画素電極９９および配向膜１００が設けられている。この場合、絶縁膜９８は、例えば図１に示す支持層２６と同様に、所期の大きさの凸凹が均一に形成された表面を有するものからなっている。したがって、この絶縁膜９８上に設けられた画素電極９９の表面も所期の凸凹が形成された面となっている。また、画素電極９９はアルミニウム、銀、銀−パラジウム合金、銀−パラジウム−銅合金等の金属からなり、散乱反射層を兼ねている。
【００３５】
そして、表示面側基板９２と背面側基板９３とはほぼ方形枠状のシール材（図示せず）を介して貼り合わされ、シール材の内側における両基板９２、９３の配向膜９６、１００間には液晶１０１が封入されている。表示面側基板９２の外面には位相差板１０２が粘着剤層（図示せず）を介して貼り付けられ、その外面には偏光板１０３が粘着剤層（図示せず）を介して貼り付けられている。
【００３６】
そして、この液晶表示装置では、偏光板１０３の外面側から入射された外光を偏光板１０３、カラーフィルタ要素９４、液晶１０１等を透過させて画素電極９９で散乱反射させ、この散乱反射光を液晶１０１、カラーフィルタ要素９４、偏光板１０３等を透過させて偏光板１０３の外面側に出射させ、これにより表示を行う。
【００３７】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項１に記載の発明によれば、液晶セルの背面側基板の内面に、所定の粒径の粒子を含む光学等方性材料からなり、前記粒子の表面に沿った凹凸形状の凹凸表面を有する支持部材層により形成された散乱反射層を、液晶セルの背面側基板の内面に転写形成するから、上述した所望の散乱反射機能を備えた散乱反射層を容易に形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の第１実施形態における液晶表示装置の要部の一部を拡大した断面図。
【図２】（Ａ）〜（Ｄ）はそれぞれ図１に示す散乱反射層の形成方法を説明するために示す断面図。
【図３】（Ａ）〜（Ｄ）はそれぞれこの発明の第２実施形態における液晶表示装置において散乱反射層の形成方法を説明するために示す断面図。
【図４】（Ａ）〜（Ｃ）はそれぞれこの発明の第３実施形態における液晶表示装置において散乱反射層の形成方法を説明するために示す断面図。
【図５】（Ａ）〜（Ｃ）はそれぞれこの発明の第４実施形態における液晶表示装置において散乱反射層の形成方法を説明するために示す断面図。
【図６】この発明の第５実施形態における液晶表示装置の要部の断面図。
【図７】図６に示す液晶表示装置を透過型として使用する場合の問題点を説明するために示す断面図。
【図８】図７に示す問題点を解決する第１の方法を説明するために示す断面図。
【図９】図７に示す問題点を解決する第２の方法を説明するために示す断面図。
【図１０】この発明の第６実施形態における液晶表示装置の要部の断面図。
【図１１】従来の液晶表示装置の一例の一部の断面図。
【符号の説明】
２１ 液晶セル
２２ 表示面側基板
２３ 背面側基板
２４ 信号電極
２５ 配向膜
２６ 支持層
２７ 散乱反射層
２８ カラーフィルタ要素
２９ 保護膜
３０ 走査電極
３１ 配向膜
３２ 液晶
３３ 位相差板
３４ 偏光板

Claims (3)

1. 表示面側基板と背面側基板との間に液晶を封入してなる液晶セルの前記背面側基板の内面に光散乱機能と光反射機能の双方の機能を有する散乱反射層が設けられた液晶表示装置の製造方法であって、
   ベースフィルム上に後工程での剥離を容易にする境界面を形成するための離型層と、所定の粒径の粒子を含む光学等方性材料からなり、前記粒子の表面に沿った凹凸形状の凹凸表面を有する支持部材層とを順次積層して転写フィルムを形成する工程と、
   前記転写フィルムの前記支持部材層を前記背面側基板の内面に圧着した後、前記転写フィルムのうち前記ベースフィルムおよび前記離型層を前記支持部材層から剥離して、前記背面側基板の内面に凹凸表面を有する前記支持部材層を転写し、この支持部材層の凹凸面上に反射膜を形成することにより、前記背面側基板の内面に散乱反射部材層を形成する工程とを具備することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
2. 請求項１に記載の発明において、前記散乱反射部材層を形成する工程は、支持部材層の凹凸面上に、入射光の一部分を透過させる反射膜を形成することにより、背面側基板の内面に散乱半透過反射層を形成する工程であることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
3. 請求項２に記載の発明において、前記散乱半透過反射層の前記液晶側に保護層を積層する工程をさらに備え、前記保護層と前記支持部材層および前記液晶のうちの少なくとも２つを、それぞれの屈折率が実質的に同一な物質で形成することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。

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