JP4129209B2 - カーボンナノ材料 - Google Patents

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本発明は表面にグラフトポリマー層を形成したカーボンナノ材料に関する。
従来、種々の固体表面に、重合開始基を介して、リビングラジカル法によるグラフト重合でグラフトポリマー層を形成して固体表面の改質を行う方法が提案されている(特開平11−263819号公報)。
特開平11−263819号公報(特許請求の範囲)
しかしながら、炭素繊維(カーボンナノファイバー)は表面活性が低く、グラフト重合によって表面特性を改質させることはできなかった。
本発明は上記課題を解決すべくなされたものであり、その目的とするところは、カーボンナノファイバー表面にグラフトポリマー層を形成したカーボンナノ材料を提供するにある。
本発明に係るカーボンナノ材料は、底の無いカップ形状をなす炭素網層が多数積層して中空筒状をなす、気相成長法によるカーボンナノファイバーの表面に、該カーボンナノファイバーに対する密着性の良いSiO 2 層からなる中間層が形成され、該SiO 2 上に、アルコキシシリル基からなる重合開始基を介してグラフト重合によりポリメチルメタクリレートからなるグラフトポリマー層が形成されていることを特徴とする。
前記カーボンナノファイバーは、表面の堆積層が除去されて炭素網層の端面が露出したカーボンナノファイバーであることを特徴とする。
また、前記カーボンナノファイバーは節の無い中空筒状をなすことを特徴とする。
また、前記カーボンナノファイバーの、内外表面の炭素網層の端面が露出していることを特徴とする。
また、前記カーボンナノファイバーの2%以上の外表面で炭素網層の端面が露出していることを特徴とする。
以上のように本発明によれば、高分子でカーボンナノファイバー(CNF)の表面を修飾することにより、CNFの溶媒および高分子マトリックス中への分散性が向上し、均一性に優れたCNF複合塗膜、CNF複合接着剤およびCNF複合樹脂材を作製できる。
以下本発明の好適な実施の形態を添付図面に基づき詳細に説明する。
本発明に用いる気相成長法によるカーボンナノファイバー(CNFともいう)は、底の無いカップ形状をなす炭素網層が積層した構造をなす(以下ヘリンボン構造のカーボンナノファイバーという)。
製造方法の一例を説明する。
反応器は公知の縦型反応器を用いた。
原料にベンゼンを用い、ほぼ20℃の蒸気圧となる分圧で、水素気流により反応器に、流量0.3l/hでチャンバーに送り込んだ。触媒はフェロセンを用い、185℃で気化させ、ほぼ3×10-7mol/sの濃度でチャンバーに送り込んだ。反応温度は約1100℃、反応時間が約20分で、直径が平均約100nmのヘリンボン構造のカーボンナノファイバーが得られた。原料の流量、反応温度を調節する(反応器の大きさによって変更される)ことで、底の無いカップ形状をなす炭素網層が多数積層され、数十nm〜数十μmの範囲に亙って節(ブリッジ)の無い中空筒状のカーボンナノファイバーが得られる。
得られるカーボンナノファイバーは直径が80〜150nm程度、長さが数十〜数百μm程度のものが得られるが、長さを数μm〜数十μmのものに調整するとよい。この長さの調整は、後記するように、この底の無いカップ形状をなす炭素網層が多数積層されたカーボンナノファイバーをグラインディングすることによって切断することによって行える。
以下、まず、上記気相成長法によるカーボンナノファイバーの特性について説明する。
図1は、上記気相成長法によって製造したヘリンボン構造のカーボンナノファイバーの透過型電子顕微鏡写真の複写図、図2はその拡大図、図3はその模式図である。
図から明らかなように、傾斜した炭素網層10を覆って、アモルファス状の余剰炭素が堆積した堆積層12が形成されていることがわかる。14は中心孔である。
このような堆積層12が形成されているカーボンナノファイバーを、400℃以上、好ましくは500℃以上、一層好ましくは520℃以上530℃以下の温度で、大気中で1〜数時間加熱することにより、堆積層12が酸化されて熱分解し、除去されて炭素網層の端面(六員環端)が一部露出する。
あるいは、超臨界水によりカーボンナノファイバーを洗浄することによっても堆積層12を除去でき、炭素網層の端面を露出させることができる。
あるいはまた上記カーボンナノファイバーを塩酸または硫酸中に浸漬し、スターラーで撹拌しつつ80℃程度に加熱しても堆積層12を除去できる。
図4は、上記のように約530℃の温度で、大気中1時間熱処理したヘリンボン構造のカーボンナノファイバーの透過型電子顕微鏡写真の複写図、図5はその拡大図、図6はさらにその拡大図、図7はその模式図である。
図5〜図7から明らかなように、上記のように熱処理を行うことによって、堆積層12の一部が除去され、炭素網層10の端面(炭素六員環端)が露出していることがわかる。なお、残留している堆積層12もほとんど分解されていて、単に付着している程度のものと考えられる。熱処理を数時間行い、また超臨界水での洗浄を併用すれば、堆積層12を100%除去することも可能である。
また、図4に明らかなように、カーボンナノファイバー10は、底の無いカップ形状をなす炭素網面が多数積層しており、少なくとも数十nm〜数十μmの範囲で中空筒状をなしている。
中心線に対する炭素網層の傾斜角は20°〜35°位である。
また、図6や図7に明確なように、炭素網層10の端面が露出している外表面および内表面の部位が、端面が不揃いで、nm(ナノメーター)、すなわち原子の大きさレベルでの微細な凹凸16を呈していることがわかる。図2に示すように、堆積層12の除去前は明確でないが、上記の熱処理により堆積層12を除去することによって、凹凸16が現れた。
露出している炭素網層10の端面は、他の原子と結びつきやすく、きわめて活性度の高いものである。これは大気中での熱処理により、堆積層12が除去されつつ、露出する炭素網層の端面に、フェノール性水酸基、カルボキシル基、キノン型カルボニル基、ラクトン基などの含酸素官能基が増大し、これら含酸素官能基が親水性、各種物質に対する親和性が高いからと考えられる。
また中空構造をなすこと、および凹凸16によるアンカー効果は大きい。
図8は、ヘリンボン構造のカーボンナノファイバー(サンプルNO.24PS)を、大気中で、1時間、それぞれ500℃、520℃、530℃、540℃で熱処理した後の、カーボンナノファイバーのラマンスペクトルを示す。
上記熱処理を行うことによって、堆積層12が除去されることは図5〜図7で示したが、図8のラマンスペクトルから明らかなように、Dピーク(1360cm-1)およびGピーク(1580cm-1)が存在することから、このものはカーボンナノファイバーであるとともに、黒鉛化構造でないカーボンナノファイバーであることが示される。
すなわち、上記ヘリンボン構造のカーボンナノファイバーは、炭素網面のずれた(グラインド)乱層構造(Turbostratic Structure)を有していると考えられる。
この乱層構造カーボンナノファイバーでは、各炭素六角網面が平行な積層構造は有しているが各六角網面が平面方向にずれた、あるいは回転した積層構造となっていて、結晶学的規則性は有しない。
この乱層構造の特徴は、層間への他の原子等のインターカレーションが生じにくい点である。このことは1つの利点でもある。すなわち、層間へ物質が入りづらいことから、前記のように、露出され、活性度の高い炭素網層の端面に原子等が担持されやすく、したがって、効率的な担持体として機能することが期待される。
図9は、上記熱処理を行って炭素網層の端面を露出させた、サンプルNO.19PSと、サンプルNO.24PSのカーボンナノファイバーのラマンスペクトルを示す。
また図10は、上記炭素網層の端面を露出させた、サンプルNO.19PSと、サンプルNO.24PSのカーボンナノファイバーに3000℃の熱処理(通常の黒鉛化処理)を行った後のカーボンナノファイバーのラマンスペクトルを示す。
図10に示すように、炭素網層の端面を露出させたカーボンナノファイバーに黒鉛化処理を行っても、Dピークが消失しないことがわかる。これは、黒鉛化処理を行っても黒鉛化していないことを示す。
図示しないが、X線回折を行っても、112面の回折線が出てこないことからも、上記カーボンナノファイバーは黒鉛化していないことが判明した。
黒鉛化処理を行っても黒鉛化しないということは、黒鉛化しやすい堆積層12が除去されているからと考えられる。また、残ったヘリンボン構造の部位が黒鉛化しないということが明らかとなった。
上記のように、高温雰囲気下でも黒鉛化しないことは、熱的に安定であることを意味する。
上記のようにして得られるヘリンボン構造をなすカーボンナノファイバーは、底の無いカップ形状、すなわち断面がハの字状をなす単位炭素網層が数万〜数十万個積層している短繊維(長さ数十μm〜数百μm)である。
上記短繊維を分断するには、水あるいは溶媒を適宜量加えて、乳鉢を用いて乳棒により緩やかにすりつぶすことによって行える。
すなわち、上記短繊維(堆積層12が形成されたもの、堆積層12が一部あるいは全部除去されたもの、いずれでもよい)を乳鉢に入れ、乳棒により機械的に緩やかに短繊維をすりつぶすのである。
乳鉢での処理時間を経験的に制御することによって、長さが数百nm〜数十μmのカーボンナノファイバーを得ることができる。
その際、環状の炭素網層は比較的強度が高く、各炭素網層間は弱いファンデアワールス力によって結合しているにすぎないので、環状炭素網層はつぶれることはなく、特に弱い結合部分の炭素網層間で分離されることとなる。
なお、上記短繊維を液体窒素中で乳鉢によりすりつぶすようにすると好適である。液体窒素が蒸発する際、空気中の水分が吸収され、氷となるので、氷とともに短繊維を乳棒によりすりつぶすことによって、機械的ストレスを軽減し、上記の単位繊維層間での分離が行える。
工業的には、上記カーボンナノファイバーをボールミリングによってグラインディング処理するとよい。
上記のように露出した炭素網層10の端面は、他の原子と結びつきやすく、きわめて活性度が高く、また大きな表面エネルギーを有するものである。これは、前記したように、大気中での熱処理により、堆積層12が除去されつつ、露出する炭素網層の端面に、フェノール性水酸基、カルボキシル基、キノン型カルボニル基、ラクトン基などの含酸素官能基が増大し、これら含酸素官能基が親水性、各種物質に対する親和性が高いからと考えられる。
本発明では上記のように表面活性を向上させた親和性の高いカーボンナノファイバーの表面に中間層を形成し、そこへ原子移動ラジカル重合法の開始基を導入した後、高分子鎖をグラフト重合させるのである。
中間層はSiO2層が好適である。
開始基は、シランカプリング剤の構成としてよく知られているアルコキシシリル基が好適である。
中間層表面の重合開始基への高分子鎖のグラフトは、ラジカル重合として行うこと、さらには、リビングラジカル重合として行うことが適当である。リビングラジカル重合によって、分子量の規制に加え、分子量分布の狭い多様な共重合体(ランダム、ブロック、組成傾斜型など)をもグラフトできることになる。また、リビングラジカル重合では、末端に官能基も導入しやすいことから、機能性の高いカーボンナノ材料を得ることができる。
上記のように、高分子でカーボンナノファイバー(CNF)の表面を修飾することにより、CNFの溶媒および高分子マトリックス中への分散性が向上し、均一性に優れたCNF複合塗膜、CNF複合接着剤およびCNF複合樹脂材を作製できる。
また、本グラフト法は、機能団の導入が容易であるため、CNF表面に各種機能を付与することができる。例えば、カルボン酸やアミン類などの機能団を導入することによりpH応答性を付与することができる。また、例えば、CNF表面をポリ(イソプロピルアクリルアミド)などの高分子で修飾することによって、熱応答性を付与したカーボンナノ材料を提供できる。
また、各種機能をCNF表面へブロック的に導入することも可能で、複数の機能を有するカーボンナノ材料の創製も可能となる。
CNF(商品名:カルベール)(1 g)を濃硫酸と30 wt%過酸化水素水の混合溶液(9:1, 100 mL)に加え、2時間超音波照射した。これを純水、100 mM水酸化ナトリウム水溶液、純水、エタノールの順で洗浄した。次に、3-aminopropyltriethoxysilane(3-アミノプロピルトリエトキシシラン)のエタノール溶液(5 mM, 13.3 g)に、強酸処理したCNF(41 mg)を分散させ、室温で30分間攪拌した後、エタノールで洗浄し、120 ℃で30分間加熱することにより、CNF表面にSiO2層を形成させた。原子移動ラジカル重合法(ATRP)の重合開始基を導入するため、6-(2-bromo-2-methylpropionyloxy)hexyltriethoxysilane(6-(2-ブロモ-2-メチルプロピルニルオキシ)ヘキシルトリエトキシシラン)のエタノール溶液(5 wt%, 7.60 g)にSiO2被覆CNF(32 mg)を分散させ、アンモニア触媒下、室温で一晩攪拌した後、エタノールで洗浄した。
フリー開始剤であるethyl 2-bromoisobutylate(EBIB)(エチル2-ブロモイソブチレート)と methyl methacrylate (MMA)(メチルメタクリレート)、CuBr/Sparteine(スパルチン)錯体を含むアニソール溶液(4 g, [MMA]:[EBIB]:[CuBr/2Sp] = 500:1:4, [MMA] = 50 wt%)に、開始基を導入したCNF(70 mg)を混合し、脱気、封管後、恒温振盪槽中(70 ℃, 50 min-1)で9時間重合した。その後、CNFをテトラヒドロフランにより洗浄し、遠心機により回収した。
グラフト重合前後の赤外吸収スペクトルを図11に示す。グラフト後において、1730 cm-1付近にPMMAのC=O伸縮由来の吸収ピークが観測されることから、PMMAがグラフトされていることがわかる。熱重量分析により、グラフト量を評価したところ、CNF 1 gあたり0.47 gのPMMA(ポリメチルメタクリレート)がグラフトされていると見積もられた。グラフトポリマーをCNFから切断するため、フッ化水素酸により処理した。図12にEBIBから成長したフリーポリマーとグラフトポリマーのゲル浸透クロマトグラフ(GPC)を示す。数平均分子量(Mn)は、それぞれ49000、47000、分子量分布指数(Mw/Mn)はそれぞれ1.46、1.58であった。これらの結果とCNFの直径および密度を考慮し、グラフト密度が0.15本/nm2と見積もられ、CNF表面へPMMAが高密度にグラフトしていることが判明した。
なお、上記実施例では、ポリメチルメタクリレートをグラフトさせたが、これに限られず、中間層上に種々の高分子をグラフトさせることができる。
気相成長法によって製造したヘリンボン構造のカーボンナノファイバーの透過型電子顕微鏡写真の複写図である。 図1の拡大図である。 図2の模式図である。 約530℃の温度で、大気中1時間熱処理したヘリンボン構造のカーボンナノファイバーの透過型電子顕微鏡写真の複写図である。 図4の拡大図である。 図5のさらに拡大図である。 図6の模式図である。 ヘリンボン構造のカーボンナノファイバー(サンプルNO.24PS)を、大気中で、1時間、それぞれ500℃、520℃、530℃、540℃で熱処理した後の、カーボンナノファイバーのラマンスペクトルを示す。 上記熱処理を行って炭素網層の端面を露出させた、サンプルNO.19PSと、サンプルNO.24PSのカーボンナノファイバーのラマンスペクトルを示す。 上記炭素網層の端面を露出させた、サンプルNO.19PSと、サンプルNO.24PSのカーボンナノファイバーに3000℃の熱処理を行った後のカーボンナノファイバーのラマンスペクトルを示す。 グラフト重合前後の赤外吸収スペクトルを示す。 EBIBから成長したフリーポリマーとグラフトポリマーのゲル浸透クロマトグラフ(GPC)を示す。
符号の説明
10 炭素網層
12 堆積層
14 中心孔
16 凹凸

Claims (5)

  1. 底の無いカップ形状をなす炭素網層が多数積層して中空筒状をなす、気相成長法によるカーボンナノファイバーの表面に、該カーボンナノファイバーに対する密着性の良いSiO 2 層からなる中間層が形成され、該SiO 2 上に、アルコキシシリル基からなる重合開始基を介してグラフト重合によりポリメチルメタクリレートからなるグラフトポリマー層が形成されていることを特徴とするカーボンナノ材料。
  2. 前記カーボンナノファイバーは、表面の堆積層が除去されて炭素網層の端面が露出したカーボンナノファイバーであることを特徴とする請求項1記載のカーボンナノ材料。
  3. 前記カーボンナノファイバーは節の無い中空筒状をなすことを特徴とする請求項1または2記載のカーボンナノ材料。
  4. 前記カーボンナノファイバーの、内外表面の炭素網層の端面が露出していることを特徴とする請求項2または3記載のカーボンナノ材料。
  5. 前記カーボンナノファイバーの2%以上の外表面で炭素網層の端面が露出していることを特徴とする請求項2〜4いずれか1項記載のカーボンナノ材料。
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