JP4329569B2 - 液状材料の塗布方法、カラーフィルタの製造方法、エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法、およびプラズマ表示装置の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、吐出装置および材料塗布方法に関し、特にカラーフィルタ基板の製造、エレクトロルミネッセンス表示装置の製造、およびプラズマ表示装置の製造に好適な吐出装置および材料塗布方法に関する。

カラーフィルタ、エレクトロルミネッセンス表示装置などの製造に用いられるインクジェット装置が知られている（例えば特許文献１）。

特開２００２−２２１６１６号公報

表示装置の大型化に伴ない、カラーフィルタ基板の被吐出部（フィルタ層が設けられるべき領域）の大きさも大きくなっている。被吐出部のサイズが大きい場合には、描画分解能を変えて塗布工程を行うと効果的である。そうすれば、被吐出部内の隅々にまで液状のカラーフィルタ材料が塗れ広がりやすいからである。ところが、１回の走査期間中に描画分解能を変化させることは、制御の複雑化を招くので、複数の異なる描画分解能で１つの被吐出部に材料を塗布するためには、複数の走査期間を要することになる。そして、複数の走査期間を要する場合には、塗布工程の時間が長くなりやすい。

本発明は上記課題を鑑みてなされたものであり、その目的の一つは、塗布工程が複数の走査期間を要する場合に、塗布工程の時間を短縮することである。

本発明の材料塗布方法は、基体を載せるステージと、ノズルから液状の材料を吐出するヘッドと、を備えた吐出装置を用いて、前記基体の被吐出部に前記液状の材料を塗布する材料塗布方法であって、前記被吐出部に対する前記ノズルの相対位置を第１の速度で変えながら、前記被吐出部に前記ノズルから前記液状の材料を吐出するステップ（Ａ）と、前記被吐出部に対する前記ノズルの相対位置を前記第１の速度より速い第２の速度で変えながら、前記被吐出部に前記ノズルから前記液状の材料を吐出するステップ（Ｂ）と、を含んでいる。

上記構成によって得られる効果の一つは、塗布工程が複数の走査期間を要する場合に、塗布工程の時間を短縮できることである。

本発明のある態様によれば、前記ステップ（Ａ）は、前記被吐出部に対する前記ノズルの相対位置を前記第１の速度で変えながら、前記被吐出部に前記ノズルから前記液状の材料を、所定周期にしたがって吐出するステップ（Ａ１）を含み、前記ステップ（Ｂ）は、前記被吐出部に対する前記ノズルの相対位置を前記第２の速度で変えながら、前記被吐出部に前記ノズルから前記液状の材料を、前記所定周期にしたがって吐出するステップ（Ｂ１）を含む。

本発明の他の態様によれば、前記ステップ（Ａ）は、前記被吐出部に対する前記ノズルの相対位置を前記第１の速度で変えながら、前記被吐出部に前記ノズルから、１回の吐出あたり前記液状の材料を第１の体積だけ吐出するステップ（Ａ２）を含み、前記ステップ（Ｂ）は、前記被吐出部に対する前記ノズルの相対位置を前記第２の速度で変えながら、前記被吐出部に前記ノズルから、１回の吐出当たり前記液状の材料を第１の体積より大きい第２の体積だけ吐出するステップ（Ｂ２）を含む。

本発明は、種々の態様で実現することが可能であり、例えば、カラーフィルタ基板の製造方法や、エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法や、プラズマ表示装置の製造方法などの態様で実現できる。

本発明の吐出装置は、被吐出部を有する基体を載せるステージと、ノズルから液状の材料を吐出するヘッドと、前記被吐出部に対する前記ノズルの相対位置を変える走査部と、
を備えている。そして、第１の走査期間には、前記走査部は前記被吐出部に対する前記ノズルの相対位置を第１の速度で変え、第２の走査期間には、前記走査部が、前記被吐出部に対する前記ノズルの相対位置を前記第１の速度より速い第２の速度で変える。

（Ａ．吐出装置１００Ｒの全体構成）
図１の吐出装置１００Ｒは、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒを保持するタンク１０１Ｒと、チューブ１１０Ｒと、チューブ１１０Ｒを介してタンク１０１Ｒから液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが供給される吐出走査部１０２と、を備えた材料塗布装置である。そして、吐出走査部１０２は、グランドステージＧＳと、吐出ヘッド部１０３と、第１位置制御装置１０４と、ステージ１０６と、第２位置制御装置１０８と、制御部１１２と、を備えている。

吐出ヘッド部１０３は、ステージ１０６側に液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出する複数のヘッド１１４（図２）を保持している。これら複数のヘッド１１４のそれぞれは、制御部１１２からの信号に応じて、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒの液滴を吐出する。そして、タンク１０１Ｒと、吐出ヘッド部１０３における複数のヘッド１１４とは、チューブ１１０Ｒで連結されており、タンク１０１Ｒから複数のヘッド１１４のそれぞれに液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが供給される。

ここで、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒは、本発明の「液状の材料」に対応する。「液状の材料」とは、ヘッド１１４のノズル（後述）から液滴として吐出可能な粘度を有する材料をいう。この場合、材料が水性であると油性であるとを問わない。ノズルから吐出可能な流動性（粘度）を備えていれば十分で、固体物質が混入していても全体として流動体であればよい。

第１位置制御装置１０４は、制御部１１２からの信号に応じて、吐出ヘッド部１０３をＸ軸方向、およびＸ軸方向に直交するＺ軸方向に沿って移動させる。さらに、第１位置制御装置１０４は、Ｚ軸に平行な軸の回りで吐出ヘッド部１０３を回転させる機能も有する。本実施形態では、Ｚ軸方向は、鉛直方向（つまり重力加速度の方向）に平行な方向である。

具体的には、第１位置制御装置１０４は、Ｘ軸方向に延びる一対のリニアモータと、Ｘ軸方向に延びる一対のＸ軸ガイドレールと、Ｘ軸エアスライダと、キャリッジ回動部と、支持構造体１４と、を備えている。支持構造体１４は、これら一対のリニアモータと、一対のＸ軸ガイドレールと、一対のＸ軸エアスライダと、キャリッジ回動部とを、ステージ１０６からＺ軸方向に所定距離だけ離れた位置に固定している。一方、Ｘ軸エアスライダは、一対のＸ軸ガイドレールに移動可能に支持されている。そして、Ｘ軸エアスライダは、一対のリニアモータの働きによって、一対のＸ軸ガイドレールに沿ってＸ軸方向に移動する。吐出ヘッド部１０３はキャリッジ回動部を介してＸ軸エアスライダと連結されているので、吐出ヘッド部１０３は、Ｘ軸エアスライダとともにＸ軸方向に移動する。なお、吐出ヘッド部１０３は、吐出ヘッド部１０３におけるノズル（後述）がステージ１０６側を向くように、Ｘ軸エアスライダに支持されている。なお、キャリッジ回動部はサーボモータを有しており、吐出ヘッド部１０３をＺ軸に平行な軸の回りで回転させる機能を有する。

第２位置制御装置１０８は、制御部１１２からの信号に応じて、Ｘ軸方向およびＺ軸方向の双方に直交するＹ軸方向に沿ってステージ１０６を移動させる。さらに、第２位置制御装置１０８は、Ｚ軸に平行な軸の回りでステージ１０６を回転させる機能も有する。具体的には、第２位置制御装置１０８は、Ｙ軸方向に延びる一対のリニアモータと、Ｙ軸方向に延びる一対のＹ軸ガイドレールと、Ｙ軸エアスライダと、支持ベースと、θテーブルと、を備えている。一対のリニアモータおよび一対のＹ軸ガイドレールは、グランドステージＧＳ上に位置している。一方、Ｙ軸エアスライダは、一対のＹ軸ガイドレールに移動可能に支持されている。そして、Ｙ軸エアスライダは、一対のリニアモータの働きによって、一対のＹ軸ガイドレールに沿ってＹ軸方向に移動する。Ｙ軸エアスライダは、支持ベースおよびθテーブルを介してステージ１０６の裏面に連結されているので、ステージ１０６は、Ｙ軸エアスライダとともにＹ軸方向に移動する。なお、θテーブルはモータを有しており、ステージ１０６をＺ軸に平行な軸の回りで回転させる機能を有する。

なお、本明細書では、第１位置制御装置１０４および第２位置制御装置１０８を、「走査部」または「ロボット」とも表記する。

本実施形態におけるＸ軸方向、Ｙ軸方向、およびＺ軸方向は、吐出ヘッド部１０３およびステージ１０６のどちらか一方が他方に対して相対移動する方向に一致している。また、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、およびＺ軸方向を規定するＸＹＺ座標系の仮想的な原点は、吐出装置１００Ｒの基準部分に固定されている。本明細書において、Ｘ座標、Ｙ座標、およびＺ座標とは、このようなＸＹＺ座標系における座標である。なお、上記の仮想的な原点は、基準部分だけでなく、ステージ１０６に固定されていてもよいし、吐出ヘッド部１０３に固定されていてもよい。

上述のように、吐出ヘッド部１０３は第１位置制御装置１０４によってＸ軸方向に移動させられる。一方、ステージ１０６は第２位置制御装置１０８によってＹ軸方向に移動させられる。つまり、第１位置制御装置１０４および第２位置制御装置１０８によって、ステージ１０６に対するヘッド１１４の相対位置が変わる。より具体的には、これらの動作によって、吐出ヘッド部１０３、ヘッド１１４、またはノズル１１８（図２）は、ステージ１０６上で位置決めされた被吐出部に対して、Ｚ軸方向に所定の距離を保ちながら、Ｘ軸方向およびＹ軸方向に相対的に移動、すなわち相対的に走査する。ここで、静止した被吐出部に対して吐出ヘッド部１０３がＹ軸方向に移動してもよい。そして吐出ヘッド部１０３がＹ軸方向に沿って所定の２点間を移動する期間内に、静止した被吐出部に対してノズル１１８（図２）から液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出してもよい。「相対移動」または「相対走査」とは、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出する側と、そこからの吐出物が着弾する側（被吐出部側）の少なくとも一方を他方に対して移動することを含む。

さらに、吐出ヘッド部１０３、ヘッド１１４、またはノズル１１８（図２）が相対移動するとは、ステージ、基体、または被吐出部に対するこれらの相対位置が変わることである。このため、本明細書では、吐出ヘッド部１０３、ヘッド１１４、またはノズル１１８が吐出装置１００Ｒに対して静止して、ステージ１０６のみが移動する場合であっても、吐出ヘッド部１０３、ヘッド１１４、またはノズル１１８が、ステージ１０６、基体、または被吐出部に対して相対移動すると表記する。また、相対走査または相対移動と、材料の吐出と、の組合せを指して「塗布走査」と表記することもある。

吐出ヘッド部１０３およびステージ１０６は上記以外の平行移動および回転の自由度をさらに有している。ただし、本実施形態では、上記自由度以外の自由度に関する記載は説明を平易にする目的で省略されている。

制御部１１２は、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出すべき相対位置を表す吐出データを外部情報処理装置から受け取るように構成されている。制御部１１２の詳細な構成および機能は、後述する。

（Ｂ．ヘッド）
図２に示すヘッド１１４は、吐出ヘッド部１０３が有する複数のヘッド１１４の一つである。図２は、ステージ１０６側からヘッド１１４を眺めた図であり、ヘッド１１４の底面を示している。ヘッド１１４は、Ｘ軸方向に延びるノズル列１１６を有している。ノズル列１１６は、Ｘ軸方向にほぼ均等に並んだ複数のノズル１１８からなる。これら複数のノズル１１８は、ヘッド１１４のＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰが約７０μｍとなるように配置されている。ここで、「ヘッド１１４のＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰ」は、ヘッド１１４におけるノズル１１８のすべてを、Ｘ軸方向に直交する方向からＸ軸上に射像して得られた複数のノズル像間のピッチに相当する。

ノズル列１１６におけるノズル１１８の数は１８０個である。ただし、ノズル列１１６の両端のそれぞれ１０ノズルは「休止ノズル」として設定されている。そして、これら２０個の「休止ノズル」からは液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出されない。このため、ヘッド１１４における１８０個のノズル１１８のうち、１６０個のノズル１１８が液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出するノズル１１８として機能する。本明細書では、これら１６０個のノズル１１８を「吐出ノズル１１８Ｔ」と表記することもある。

なお、１つのヘッド１１４におけるノズル１１８の数は、１８０個に限定されない。１つのヘッド１１４に３６０個のノズルが設けられていてもよい。

図３（ａ）および（ｂ）に示すように、それぞれのヘッド１１４は、インクジェットヘッドである。より具体的には、それぞれのヘッド１１４は、振動板１２６と、ノズルプレート１２８と、を備えている。振動板１２６と、ノズルプレート１２８と、の間には、２つのタンク１０１Ｒ（図１）から孔１３１を介して供給される液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが常に充填される液たまり１２９が位置している。

また、振動板１２６と、ノズルプレート１２８と、の間には、複数の隔壁１２２が位置している。そして、振動板１２６と、ノズルプレート１２８と、１対の隔壁１２２と、によって囲まれた部分がキャビティ１２０である。キャビティ１２０はノズル１１８に対応して設けられているため、キャビティ１２０の数とノズル１１８の数とは同じである。キャビティ１２０には、１対の隔壁１２２間に位置する供給口１３０を介して、液たまり１２９から液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが供給される。

振動板１２６上には、それぞれのキャビティ１２０に対応して、振動子１２４が位置する。振動子１２４は、ピエゾ素子１２４Ｃと、ピエゾ素子１２４Ｃを挟む１対の電極１２４Ａ、１２４Ｂと、を含む。この１対の電極１２４Ａ、１２４Ｂの間に駆動電圧を与えることで、対応するノズル１１８から液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。なお、ノズル１１８からＺ軸方向に液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出されるように、ノズル１１８の形状が調整されている。

制御部１１２（図１）は、複数の振動子１２４のそれぞれに互いに独立に信号を与えるように構成されていてもよい。つまり、ノズル１１８から吐出されるカラーフィルタ材料１１１Ｒの体積が、制御部１１２からの信号に応じてノズル１１８毎に制御されてもよい。そのような場合には、ノズル１１８のそれぞれから吐出されるカラーフィルタ材料１１１Ｒの体積は、０ｐｌ〜４２ｐｌ（ピコリットル）の間で可変にしてもよい。また、制御部１１２は、後述するように、塗布工程の間に吐出動作を行うノズル１１８と、吐出動作を行わないノズル１１８と、を設定することでもできる。

本明細書では、１つのノズル１１８と、ノズル１１８に対応するキャビティ１２０と、キャビティ１２０に対応する振動子１２４と、を含んだ部分を「吐出部１２７」と表記することもある。この表記によれば、１つのヘッド１１４は、ノズル１１８の数と同じ数の吐出部１２７を有する。吐出部１２７は、ピエゾ素子の代わりに電気熱変換素子を有してもよい。つまり、吐出部１２７は、電気熱変換素子による材料の熱膨張を利用して材料を吐出する構成を有していてもよい。

（Ｃ．制御部）
次に、制御部１１２の構成を説明する。図４に示すように、制御部１１２は、入力バッファメモリ２００と、記憶手段２０２と、処理部２０４と、走査駆動部２０６と、ヘッド駆動部２０８と、を備えている。バッファメモリ２００と処理部２０４とは相互に通信可能に接続されている。処理部２０４と記憶手段２０２とは、相互に通信可能に接続されている。処理部２０４と走査駆動部２０６とは相互に通信可能に接続されている。処理部２０４とヘッド駆動部２０８とは相互に通信可能に接続されている。また、走査駆動部２０６は、第１位置制御装置１０４および第２位置制御装置１０８と相互に通信可能に接続されている。同様にヘッド駆動部２０８は、複数のヘッド１１４のそれぞれと相互に通信可能に接続されている。

入力バッファメモリ２００は、吐出装置１００Ｒの外部に位置するホストコンピュータ（不図示）から、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒの液滴Ｄを吐出するための吐出データを受け取る。入力バッファメモリ２００は、吐出データを処理部２０４に供給し、処理部２０４は吐出データを記憶手段２０２に格納する。図４では、記憶手段２０２はＲＡＭである。

処理部２０４は、記憶手段２０２内の吐出データに基づいて、被吐出部に対するノズル１１８の相対位置を示すデータを走査駆動部２０６に与える。走査駆動部２０６はこのデータと、後述する吐出周期ＥＰ（図５）と、に応じたステージ駆動信号を第２位置制御装置１０８に与える。この結果、被吐出部に対してヘッド１１４が相対走査する。一方、処理部２０４は、記憶手段２０２に記憶された吐出データに基づいて、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒの吐出に必要な吐出信号ＥＳをヘッド１１４に与える。この結果、ヘッド１１４における対応するノズル１１８から、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒの液滴Ｄが吐出される。

制御部１１２は、ＣＰＵ、ＲＯＭ、ＲＡＭ、バスを含んだコンピュータであってもよい。この場合には、制御部１１２の上記機能は、コンピュータによって実行されるソフトウェアプログラムによって実現される。もちろん、制御部１１２は、専用の回路（ハードウェア）によって実現されてもよい。

次に制御部１１２におけるヘッド駆動部２０８の構成と機能を説明する。

図５（ａ）に示すように、ヘッド駆動部２０８は、１つの駆動信号生成部２０３と、複数のアナログスイッチＡＳと、を有する。図５（ｂ）に示すように、駆動信号生成部２０３は駆動信号ＤＳを生成する。駆動信号ＤＳの電位は、基準電位Ｌに対して時間的に変化する。具体的には、駆動信号ＤＳは、吐出周期ＥＰで繰り返される複数の吐出波形Ｐを含む。ここで、吐出波形Ｐは、ノズル１１８から１つの液滴を吐出するために、対応する振動子１２４の一対の電極間に印加されるべき駆動電圧波形に対応する。

駆動信号ＤＳは、アナログスイッチＡＳのそれぞれの入力端子に供給される。アナログスイッチＡＳのそれぞれは、吐出部１２７のそれぞれに対応して設けられている。つまり、アナログスイッチＡＳの数と吐出部１２７の数（つまりノズル１１８の数）とは同じである。

処理部２０４は、ノズル１１８のオン・オフを表す選択信号ＳＣ（ｉ）を、アナログスイッチＡＳのそれぞれに与える。ここで、選択信号ＳＣ（ｉ）は、アナログスイッチＡＳ毎に独立にハイレベルおよびローレベルのどちらかの状態を取り得る。一方、アナログスイッチＡＳは、駆動信号ＤＳと選択信号ＳＣ（ｉ）とに応じて、振動子１２４の電極１２４Ａに吐出信号ＥＳ（ｉ）を供給する。具体的には、選択信号ＳＣ（ｉ）がハイレベルの場合には、アナログスイッチＡＳは電極１２４Ａに吐出信号ＥＳ（ｉ）として駆動信号ＤＳを伝播する。一方、選択信号ＳＣ（ｉ）がローレベルの場合には、アナログスイッチＡＳが出力する吐出信号ＥＳ（ｉ）の電位は基準電位Ｌとなる。振動子１２４の電極１２４Ａに駆動信号ＤＳが与えられると、その振動子１２４に対応するノズル１１８から液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。なお、それぞれの振動子１２４の電極１２４Ｂには基準電位Ｌが与えられている。

図５（ｂ）に示す例では、２つの吐出信号ＥＳ（１）、ＥＳ（２）のそれぞれにおいて、吐出周期ＥＰの２倍の周期２ＥＰで吐出波形Ｐが現れるように、２つの選択信号ＳＣ（１）、ＳＣ（２）のそれぞれにおいてハイレベルの期間とローレベルの期間とが設定されている。これによって、対応する２つのノズル１１８のそれぞれから、周期２ＥＰで液状の材料が吐出される。また、これら２つのノズル１１８に対応する振動子１２４のそれぞれには、共通の駆動信号生成部２０３からの共通の駆動信号ＤＳが与えられている。このため、２つのノズル１１８からほぼ同じタイミングで液状の材料（カラーフィルタ材料）が吐出される。なお、図５（ｂ）における吐出信号ＥＳ（３）には、なんら駆動波形Ｐが現れないように、対応する選択信号ＳＣ（３）はローレベルに維持されている。

本実施形態では、周期２ＥＰは、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒの有効吐出周期ＥＰＭである。ここで、有効吐出周期ＥＰＭの逆数を有効吐出周波数ＥＦと表記する。有効吐出周期ＥＰＭ（または有効吐出周波数ＥＦ）とは、ヘッド１１４からカラーフィルタ材料１１１Ｒが正常に吐出され得る範囲の周期（周波数）である。この範囲より短い有効吐出周期ＥＰＭでは、カラーフィルタ材料１１１Ｒを正常に吐出することは簡単ではない。本実施形態のカラーフィルタ材料１１１Ｒの場合には、有効吐出周期ＥＰＭの範囲は、およそ５０μｓｅｃ以上（０Ｈｚより大きく２０ｋＨｚ以下）である。有効吐出周期ＥＰＭの範囲は、カラーフィルタ材料、エレクトロルミネッセンス表示装置用の発光材料や、プラズマ表示装置において用いられる蛍光材料や、導電性薄膜材料毎に異なり得る。

以上の構成によって、吐出装置１００Ｒは、制御部１１２に与えられた吐出データに応じて、液状の材料１１１の塗布を行う。

（Ｄ．カラーフィルタ基板）
図６（ａ）および（ｂ）に示す基体１０Ａは、後述の実施形態２において説明する製造装置１による処理を経て、カラーフィルタ基板１０となる基板である。基体１０Ａは、マトリクス状に配置された複数の被吐出部１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂを有する。

具体的には、基体１０Ａは、光透過性を有する支持基板１２と、支持基板１２上に形成されたブラックマトリクス１４と、ブラックマトリクス１４上に形成されたバンク１６と、を含む。ブラックマトリクス１４は遮光性を有する材料で形成されている。そして、ブラックマトリクス１４とブラックマトリクス１４上のバンク１６とは、支持基板１２上にマトリクス状の複数の光透過部分、すなわちマトリクス状の複数の画素領域、が規定されるように位置している。

それぞれの画素領域において、支持基板１２、ブラックマトリクス１４、およびバンク１６で規定される凹部は、被吐出部１８Ｒ、被吐出部１８Ｇ、被吐出部１８Ｂに対応する。被吐出部１８Ｒは、赤の波長域の光線のみを透過するフィルタ層１１１ＦＲが形成されるべき領域であり、被吐出部１８Ｇは、緑の波長域の光線のみを透過するフィルタ層１１１ＦＧが形成されるべき領域であり、被吐出部１８Ｂは、青の波長域の光線のみを透過するフィルタ層１１１ＦＢが形成されるべき領域である。

図６（ｂ）に示す基体１０Ａは、Ｘ軸方向とＹ軸方向との双方に平行な仮想平面上に位置している。そして、複数の被吐出部１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂが形成するマトリクスの行方向および列方向は、それぞれＸ軸方向およびＹ軸方向と平行である。基体１０Ａにおいて、被吐出部１８Ｒ、被吐出部１８Ｇ、および被吐出部１８Ｂは、Ｘ軸方向にこの順番で周期的に並んでいる。一方、被吐出部１８Ｒ同士はＹ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでおり、また、被吐出部１８Ｇ同士はＹ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでおり、そして、被吐出部１８Ｂ同士はＹ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでいる。なお、被吐出部１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂの平面像は、長手方向を有する多角形である。

（Ｅ．塗布工程）
本実施形態の塗布工程の説明を平易にする目的で、いくつかの定義を導入する。まず、「走査期間」とは、ステージ１０６に対するヘッド１１４または吐出ヘッド部１０３の相対位置が、Ｙ軸方向に走査範囲の一端Ｅ１から他端Ｅ２（図１１）、または他端Ｅ２から一端Ｅ１まで至る期間を意味する。１回の走査期間を「１パスの期間」と表記することもある。

ここで、「走査範囲」とは、図１１に示すように、基体１０Ａ上のすべての被吐出部１８Ｒに材料を塗布できるように、吐出ヘッド部１０３の一辺がステージ１０６に対して相対移動する範囲を意味する。このため、走査範囲によってすべての被吐出部１８Ｒが覆われている。本実施形態では、吐出ヘッド部１０３は、走査範囲を１回の走査期間内に移動する。

なお、場合によって用語「走査範囲」は、ステージ１０６に対して１つのノズル１１８（図２）が相対移動する範囲を意味することもあるし、１つのノズル列１１６（図２）が相対移動する範囲を意味することもあるし、ヘッド１１４（図２）が相対移動する範囲を意味することもある。

さらに、ステージ１０６に対して、吐出ヘッド部１０３、ヘッド１１４（図２）、またはノズル１１８（図２）が相対移動するとは、ステージ１０６、基体１０Ａ、または被吐出部１８Ｒに対するこれらの相対位置が変わることを意味する。このため、本明細書では、吐出ヘッド部１０３、ヘッド１１４、またはノズル１１８が吐出装置１００Ｒに対して静止するとともに、ステージ１０６のみが移動する場合であっても、吐出ヘッド部１０３、ヘッド１１４、またはノズル１１８が、ステージ１０６、基体１０Ａ、または被吐出部１８Ｒに対して相対移動すると表記する。また、相対走査または相対移動と、材料の吐出と、の組合せを指して「塗布走査」と表記することもある。

以下では、説明の便宜上、複数の被吐出部１８Ｒのそれぞれに吐出されるべき液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒの総体積が、１０ｑピコリットルであるとする。ここで、ｑは説明を一般化する目的で導入された定数である。ｑの値は基体１０Ａ毎に異なり得る。

塗布工程が開始される前に、フォーク部を有する搬送装置（図７には不図示）が基体１０Ａをステージ１０６上に載せる。具体的は、複数の被吐出部１８Ｒが形成するマトリクスの行の方向および列の方向が、Ｘ軸方向およびＹ軸方向に一致するように、基体１０Ａがステージ１０６上で配置される。本実施形態では、被吐出部１８Ｒの長手方向がＹ軸方向に一致するように、基体１０Ａが配向される。

塗布工程が開始されると、制御部１１２が、第１位置制御装置１０４を介して、吐出ノズル１１８Ｔの少なくとも１つが、被吐出部１８Ｒに対応するように、ステージ１０６に対する吐出ヘッド部１０３の相対位置をＸ軸方向に沿って調整する。

（Ｅ１．第１の走査期間）
吐出装置１００Ｒは、第１の走査期間に、被吐出部１８Ｒのそれぞれに、１０μｍの描画分解能で液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒを塗布する。つまり吐出装置１００Ｒによって、被吐出部１８Ｒのそれぞれの内部に、１０μｍの間隔で複数のカラーフィルタ材料１１１Ｒの液滴Ｄが着弾する。本実施形態では、被吐出部１８ＲのＹ軸方向の吐出可能範囲ＹＥの長さがほぼ６５μｍなので、被吐出部１８Ｒに１０μｍのピッチでならぶ６つの位置のそれぞれに、液滴Ｄが着弾する。

ここで、図１０を用いて、「吐出可能範囲ＹＥ」について説明する。図１０に示すように、吐出ノズル１１８が、被吐出部１８ＲのＹ軸方向の吐出可能範囲ＹＥ内にあれば、液滴Ｄを正常に被吐出部１８Ｒ内に着弾させることができる。一方、吐出ノズル１１８ＴがＹ軸方向の吐出可能範囲ＹＥ外にある場合には、吐出ノズル１１８Ｔからの液滴Ｄは正常に被吐出部１８Ｒに着弾し得ない。例えば、図１０に示すように、吐出ノズル１１８Ｔからの液滴Ｄが、被吐出部１８Ｒに着弾する前にバンク１６に衝突したり、着弾後にバンク１６を乗り越えたりする。Ｙ軸方向の吐出可能範囲ＹＥの長さは、吐出される液滴Ｄの体積や大きさに依存して変化し得る。例えば、液滴Ｄの体積が大きければ、吐出可能範囲ＹＥはより小さくなる。

被吐出部１８ＲのＹ軸方向の吐出可能範囲ＹＥの長さは、被吐出部１８ＲのＹ座標範囲ＥＹＴの長さ以下である。ここで、「Ｙ座標範囲ＥＹＴ」とは、Ｙ軸方向に沿った被吐出部１８Ｒの端から端までの範囲である。本実施形態では、Ｙ座標範囲ＥＹＴの長さは被吐出部１８Ｒの長辺の長さに等しい。被吐出部１８ＲのＸ軸方向の吐出可能範囲ＸＥも、吐出可能範囲ＹＥと同様に決まる。

ところで、「描画分解能」は、例えば、隣合う２つの着弾位置間の距離で表され得る。着弾位置とは、液滴Ｄを着弾させるべき位置である。また、より高い「描画分解能」で液滴Ｄを吐出することは、より細かい間隔で液滴Ｄを着弾させることを意味する。

制御部１１２は、第１の走査期間を開始する。具体的には、第１の走査期間のうちに、制御部１１２は、ステージ１０６に対する吐出ヘッド部１０３の相対位置を、走査範囲の一端Ｅ１から他端Ｅ２まで、Ｙ軸方向に変化させる。

本実施形態では、制御部１１２は、Ｙ軸方向の正の方向（図７（ａ）の右から左）に、相対移動速度ｖ１で、ステージ１０６に対する吐出ノズル１１８Ｔの相対位置を変化させる。そして、吐出ノズル１１８Ｔが被吐出部１８Ｒに対応する領域内を相対移動している場合には、ヘッド１１４は、有効吐出周期ＥＰＭ（つまり有効吐出周波数ＥＦの逆数）にしたがって、その吐出ノズル１１８Ｔから液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒの液滴Ｄを吐出する。この場合、具体的には、ヘッド１１４は、有効吐出周期ＥＰＭ毎にその吐出ノズル１１８Ｔから液滴Ｄを吐出する。この結果、被吐出部１８Ｒのそれぞれに、１つの吐出ノズル１１８Ｔから６つの液滴Ｄが吐出される。図７（ａ）には、第１の走査期間の着弾位置が黒丸で示されている。

さて、第１の走査期間に、１つの吐出ノズル１１８Ｔから１回の吐出によって吐出される液滴Ｄの体積は、ほぼ１ｑピコリットルである。このため、第１の走査期間に、複数の被吐出部のそれぞれに吐出されるカラーフィルタ材料１１１Ｒの体積は、６ｑピコリットルである。ここで、被吐出部ｌ８Ｒに吐出すべきカラーフィルタ材料１１１Ｒの体積の総体積は１０ｑピコリットルだから、第１の走査期間によって、総体積の６／１０の体積のカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。

ステージ１０６に対する吐出ノズル１１８Ｔの相対移動速度は、描画分解能と有効吐出周波数ＥＦとに基づいて決まる。描画分解能が１０μｍであり、有効吐出周波数ＥＦが２０ｋＨｚである場合には、相対移動速度Ｖ１は、ほぼ２００ｍｍ／ｓ（つまり、２０ｋＨｚ×１０μｍ）であればよい。したがって、有効吐出周波数ＥＦが２０ｋＨｚのカラーフィルタ材料１１１Ｒを用いる場合には、吐出装置１００Ｒの相対移動速度Ｖ１を２００ｍｍ／ｓに設定すれば、１０μｍの描画分解能で被吐出部１８Ｒを塗布できる。

第１の走査期間に着弾した液滴Ｄは、それぞれの着弾位置から、図７（ｂ）に示すように、周囲に塗れ広がっていく。なお、図７（ｂ）における円の大きさは、着弾したそれぞれの液滴Ｄの体積の大きさを模式的に表している。なお、説明の便宜上、これらの円がバンク１６を超えるように描かれているが、実際には、バンク１６で囲まれた被吐出部１８Ｒ内に、着弾したカラーフィルタ材料１１１Ｒは留まる。

第１の走査期間が終了すると、制御部１１２は、吐出ヘッド部１０３の相対位置が走査範囲の一端Ｅ１に戻るように、ステージ１０６を移動させる。

第１の走査期間によって、複数の被吐出部１８Ｒのそれぞれに対して、吐出されるべき総体積の６／１０の体積のカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。このため、第１の走査期間の後の第２の走査期間によって、４／１０の体積のカラーフィルタ材料１１１Ｒが被吐出部１８Ｒに吐出されればよい。

（Ｅ２．第２の走査期間）
第２の走査期間には、制御部１１２は、吐出ノズル１１８Ｔの１回の吐出によって吐出される液滴Ｄの体積を、２ｑピコリットルに設定する。ここで、被吐出部１８Ｒに吐出されるべき液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒは、残り４ｑピコリットルなので、被吐出部１８Ｒに対する吐出回数は２回であればよい。さて、描画分解能が６５μｍより短ければ、被吐出部１８Ｒに２回吐出できる。本実施形態では、制御部１１２は第２の走査期間の描画分解能を、吐出可能範囲の６５μｍより小さい値であって、かつ第１の走査期間の描画分解能１０μｍよりも長い値にセットする。具体的には、制御部１１２は、第２の走査期間の描画分解能を２０μｍにセットする。

そして、有効吐出周波数ＥＦが２０ｋＨｚなので、ステージ１０６に対する吐出ノズル１１８Ｔの相対移動速度ｖ２は、４００ｍｍ／ｓ（つまり、２０ｋＨｚ×３０μｍ）である。

制御部１１２は、第２の走査期間を開始する。具体的には、第２の走査期間のうちに、制御部１１２は、ステージ１０６に対する吐出ヘッド部１０３の相対位置を、走査範囲の一端Ｅ１から他端Ｅ２まで、Ｙ軸方向に変化させる。

本実施形態では、制御部１１２は、Ｙ軸方向の正の方向（図８（ａ）の右から左）に、相対移動速度ｖ２で、ステージ１０６に対する吐出ノズル１１８Ｔの相対位置を変化させる。そして、吐出ノズル１１８Ｔが被吐出部１８Ｒに対応する領域内を相対移動している場合には、ヘッド１１４は、有効吐出周期ＥＰＭ（つまり有効吐出周波数ＥＦの逆数）にしたがって、その吐出ノズル１１８Ｔから液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒの液滴Ｄを吐出する。この場合、具体的には、ヘッド１１４は、有効吐出周期ＥＰＭ毎にその吐出ノズル１１８Ｔから液滴Ｄを吐出する。この結果、被吐出部１８Ｒのそれぞれに、１つの吐出ノズル１１８Ｔから２つの液滴Ｄが吐出される。図８（ａ）には、第２の走査期間の着弾位置が黒丸で示されている。なお、比較のために、図８（ａ）には、第１の走査期間の着弾位置が白丸で示されている。

第２の走査期間に着弾した液滴Ｄは、それぞれの着弾位置から、図８（ｂ）に示すように、周囲に塗れ広がっている。なお、図８（ｂ）における円の大きさは、着弾したそれぞれの液滴Ｄの体積の大きさを模式的に表している。なお、説明の便宜上、これらの円がバンク１６を超えるように描かれているが、実際には、バンク１６で囲まれた被吐出部１８Ｒ内に、着弾したカラーフィルタ材料１１１Ｒは留まる。

なお、第２の走査期間に吐出ヘッド部１０３は、Ｅ１からＥ２に向けて相対移動したが、Ｅ２からＥ１に向けて相対移動してもよい。

（Ｆ．比較例）
図９を参照しながら、第２の走査期間の相対移動速度が、第１の走査期間の相対移動速度ｖ１と同じである例を説明する。図９に示すように、第２の走査期間の相対移動速度もｖ１であれば、第２の走査期間に、被吐出部１８Ｒに液滴Ｄを吐出できる回数は、最大で６回である。第２の走査期間に吐出されるべきカラーフィルタ材料１１１Ｒの体積は４ｑピコリットルなので、１回の吐出によって吐出される体積が０．７ｑピコリットル以上に設定されれば、１つの被吐出部１８Ｒに必要な体積（１０ｑピコリットル）のカラーフィルタ材料１１１Ｒを、被吐出部１８Ｒに吐出し得る。

（Ｇ．効果の検証）
図１２は、本実施形態の塗布工程に必要な時間を説明するグラフである。走査範囲（図１１）のＥ１とＥ２との間の長さが１８００ｍｍである。また、走査範囲内の範囲であって、被吐出部１８Ｒが形成するマトリクスに対応するＹ軸方向の範囲が１６００ｍｍである。本実施形態では、被吐出部１８Ｒが形成するマトリクスに対応するＹ軸方向の範囲の境界をＥ３とＥ４とで表す。Ｅ１とＥ３との間の距離は１００ｍｍである。また、Ｅ４とＥ２との間の距離も１００ｍｍである。

第１の走査期間の場合には、吐出ヘッド部１０３は、Ｅ１とＥ３との間をほぼ０．５秒で通過するとともに、Ｅ１からＥ３に至るまでに、相対移動速度が０からｖ１になるように、等加速度運動する。一方、吐出ヘッド部１０３は、Ｅ４とＥ２との間をほぼ０．５秒で通過するとともに、Ｅ４からＥ２に至るまでに、相対移動速度がｖ１から０になるように、等加速度運動する。Ｅ３とＥ４との間では、吐出ヘッド１０３は、ステージ１０６に対して相対移動速度ｖ１（２００ｍｍ／ｓ）でＹ軸方向に等速運動する。したがって、吐出ヘッド部１０３が走査範囲のＥ１からＥ２まで至るまでに、ほぼ９秒（つまり、０．５＋（１８００−１００−１００）／２００＋０．５）かかる。

第２の走査期間の場合には、吐出ヘッド部１０３は、Ｅ１とＥ３との間をほぼ０．５秒で通過するとともに、Ｅ１からＥ３に至るまでに、相対移動速度が０からｖ２になるように、等加速度運動する。一方、吐出ヘッド部１０３は、Ｅ４とＥ２との間をほぼ０．５秒で通過するとともに、Ｅ４からＥ２に至るまでに、相対移動速度がｖ２から０になるように、等加速度運動する。さて、Ｅ３とＥ４との間では、吐出ヘッド１０３は、ステージ１０６に対して相対移動速度ｖ２（４００ｍｍ／ｓ）でＹ軸方向に等速運動する。したがって、吐出ヘッド部１０３が走査範囲のＥ１からＥ２まで至るまでに、ほぼ５秒（つまり、０．５＋（１８００−１００−１００）／４００＋０．５）かかる。

したがって、本実施形態の塗布工程によれば、第１の走査期間と第２の走査期間とにかかる時間は、ほぼ１４秒である。

一方、上記比較例のように、被吐出部の形状が本実施形態の被吐出部１８Ｒの形状と同じであり、被吐出部に吐出されるべき液状のカラーフィルタ材料の総体積が本実施形態の体積と同じ場合に、第１の走査期間の相対移動速度と、第２の走査期間の相対移動速度とを同じ（ｖ２＝ｖ１）にすれば、ほぼ１８秒（つまり９秒×２）だけ必要になる。

このように本実施形態の塗布工程によれば、塗布工程の時間が短縮される。

（実施形態２）
実施形態１では、第１の走査期間に吐出される液滴Ｄの体積と、第２の走査期間に吐出される液滴Ｄの体積とは異なっている。しかしながら、本実施形態において示すように、第１の走査期間に吐出される液滴Ｄの体積と、第２の走査期間に吐出される液滴Ｄの体積とは同じであってもよい。液滴Ｄの体積が同じであっても、複数の走査期間に亘って被吐出部１８Ｒに液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒを塗布する場合に、ある１つの走査期間における吐出回数が、他の走査期間における吐出回数よりも少ない場合には、それに応じて、その１つの走査期間の相対移動速度が、他の走査期間の相対移動速度より大きければ、実施形態１の効果と同様の効果が得られる。

吐出装置１００Ｒは、画像データと相対移動速度データとに応じて、塗布工程を行う。。以下では、第１の走査期間に吐出される液滴Ｄの体積と、第２の走査期間に吐出される液滴Ｄの体積とは同じ場合について、制御部１１２が、画像データと相対移動速度データとを生成するフローを説明する。

図１３に示すステップＳ０において、制御部１１２が処理を開始する。そして、ステップＳ０の次のステップＳ１において、吐出データが表す被吐出部１８Ｒの形状や大きさに基づいて、必要とされる最低限の描画分解能を決定する。そして、決定された描画分解能から、第１の走査期間の相対移動速度ｖ１を決める。具体的は、必要とされる描画分解能と、有効吐出周波数ＥＦとの積を求めることで、相対移動速度ｖ１を求める。また、第１の走査期間の描画分解能が決まれば、第１の走査期間に１つの被吐出部１８Ｒに液滴Ｄが吐出される吐出回数ＥＪ１も決まる。なお、吐出データは、外部のホストコンピュータから、予め制御部１１２に与えられている。

ステップＳ１の次のステップＳ３において、１つの被吐出部１８Ｒにとって必要とされる吐出全回数（総体積に比例する値）と、吐出回数ＥＪ１との差を取ることで、第２の走査期間に１つの被吐出部１８Ｒに必要となる吐出回数ＥＪ２を導出する。次にステップＳ３の次のステップＳ５において、導出された吐出回数ＥＪ２が、第１の走査期間の吐出回数ＥＪ１以下か否かを判定する。ステップＳ５において、吐出回数ＥＪ２が吐出回数ＥＪ１以下であると判定された場合（ステップＳ５がＹＥＳ）には、処理はステップＳ７に移行する。ステップＳ７において、吐出回数ＥＪ２と吐出可能範囲ＹＥとに応じて、第２の走査期間の描画分解能を求める。そしてステップＳ７の次のステップＳ９において、導出された描画分解能と、有効吐出周波数ＥＦとに基づいて、第２の走査期間の相対移動速度ｖ２を導出する。

上記ステップＳ５において、吐出回数ＥＪ２が吐出回数ＥＪ１より大きいと判定された場合（ステップＳ５がＮＯ）には、処理はステップＳ１１に移行する。ステップＳ１１において、第３の走査期間について、１つの被吐出部１８Ｒ当たりの吐出回数ＥＪ３を、吐出回数ＥＪ２から吐出回数ＥＪ１を引いた値に設定する。また、第２の走査期間の吐出回数ＥＪ２に、吐出回数ＥＪ１の値を代入する。図１３のステップＳ１１における表記「ＥＪ３＝ＥＪ２−ＥＪ１」および「ＥＪ２＝ＥＪ１」は、この順番でこれらの演算が実行されることを意味しており、どちらの演算も、右辺の数値を左辺の変数に代入することを意味している。

ステップＳ１１の次のステップＳ１３において、吐出回数ＥＪ３が吐出回数ＥＪ１以下か否かが判定される。吐出回数ＥＪ３が吐出回数ＥＪ１以下の場合（ステップＳ１３がＹＥＳ）には、処理はステップＳ１５に移行する。ステップＳ１５において、吐出回数ＥＪ３と吐出可能範囲ＹＥとに応じて、第３の走査期間の描画分解能を求める。そして、ステップＳ１５の次のステップＳ１７において、第３の走査期間の描画分解能と、有効吐出周波数ＥＦとに基づいて、第３の走査期間の相対移動速度ｖ３を導出する。なお、ステップＳ１７において、第２の走査期間の相対移動速度はｖ１に設定される。

上記ステップＳ１３において、吐出回数ＥＪ３が吐出回数ＥＪ１より大きいと判定された場合（ステップＳ１３がＮＯ）には、処理はステップＳ１９に移行する。ステップＳ１９において、第４の走査期間について、１つの被吐出部１８Ｒ当たりの吐出回数ＥＪ４を、吐出回数ＥＪ３から吐出回数ＥＪ１を引いた値に設定する。また、第３の走査期間の吐出回数ＥＪ３に、吐出回数ＥＪ１の値を代入する。図１３のステップＳ１９における表記「ＥＪ４＝ＥＪ３−ＥＪ１」および「ＥＪ３＝ＥＪ１」は、この順番でこれらの演算が実行されることを意味しており、どちらの演算も、右辺の数値を左辺の変数に代入することを意味している。

ステップＳ１９の次のステップＳ２１において、吐出回数ＥＪ４と吐出可能範囲ＹＥとに応じて、第４の走査期間の描画分解能を求める。そして、ステップＳ２１の次のステップＳ２３において、第４の走査期間の描画分解能と、有効吐出周波数ＥＦとに基づいて、第４の走査期間の相対移動速度ｖ４を導出する。なお、ステップＳ２３において、第２の走査期間の相対移動速度および第３の走査期間の相対移動速度は、ｖ１に設定される。

ステップＳ９、ステップＳ１７、またはステップＳ２３の次に、ステップＳ２５において、画像データと、相対移動速度データとを作成する。画像データは、走査期間毎の着弾位置（吐出位置）を示すデータであり、相対移動速度データは、走査期間毎の相対移動速度を示すデータである。

そして、ステップＳ２５の次のステップＳ２７において、制御部１１２は、生成された画像データと、相対移動速度データとに応じて、吐出装置１００Ｒの塗布工程を実行する。そして、基体１０Ａ上の複数の被吐出部１８Ｒのすべてに、カラーフィルタ材料１１１Ｒが塗布された場合には、ステップＳ２９において、すべての処理を終了する。

なお、吐出装置１００Ｒにおける制御部１１２が画像データと相対移動速度データとを生成する代わりに、吐出装置１００Ｒの外部のホストコンピュータが、上述のフローにしたがって、画像データと相対移動速度データとを生成してもよい。

（実施形態３）
実施形態１および２では、被吐出部１８Ｒにカラーフィルタ材料１１１Ｒを塗布する工程を説明した。以下では、製造装置１によってカラーフィルタ基板１０が得られるまでの一連の工程を説明する。

図１４に示す製造装置１は、図６の基体１０Ａの被吐出部１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂのそれぞれに対して、対応するカラーフィルタ材料を吐出する装置である。具体的には、製造装置１は、被吐出部１８Ｒのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｒを塗布する吐出装置１００Ｒと、被吐出部１８Ｒ上のカラーフィルタ材料１１１Ｒを乾燥させる乾燥装置１５０Ｒと、被吐出部１８Ｇのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｇを塗布する１００Ｇと、被吐出部１８Ｇ上のカラーフィルタ材料１１１Ｇを乾燥させる乾燥装置１５０Ｇと、被吐出部１８Ｂのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｂを塗布する１００Ｂと、被吐出部１８Ｂのカラーフィルタ材料１１１Ｂを乾燥させる乾燥装置１５０Ｂと、カラーフィルタ材料１１１Ｒ、１１１Ｇ、１１１Ｂを再度加熱（ポストベーク）するオーブン１６０と、ポストベークされたカラーフィルタ材料１１１Ｒ，１１１Ｇ、１１１Ｂの層の上に保護膜２０を設ける吐出装置１００Ｃと、保護膜２０を乾燥させる乾燥装置１５０Ｃと、乾燥された保護膜２０を再度加熱して硬化する硬化装置１６５と、を備えている。さらに製造装置１は、吐出装置１００Ｒ、乾燥装置１５０Ｒ、吐出装置１００Ｇ、乾燥装置１５０Ｇ、吐出装置１００Ｂ、乾燥装置１５０Ｂ、吐出装置１００Ｃ、乾燥装置１５０Ｃ、硬化装置１６５の順番に基体１０Ａを搬送する搬送装置１７０も備えている。搬送装置１７０は、フォーク部と、フォーク部を上下移動させる駆動部と、自走部と、を備えている。

吐出装置１００Ｒの構成は実施形態１において説明したため、説明を省略する。吐出装置１００Ｇの構成と、吐出装置１００Ｂの構成と、吐出装置１００Ｃの構成とは、いずれも基本的に吐出装置１００Ｒの構造と同じある。ただし、吐出装置１００Ｒにおけるタンク１０１Ｒとチューブ１１０Ｒとの代わりに、吐出装置１００Ｇがカラーフィルタ材料１１１Ｇ用のタンクとチューブとを備える点で、吐出装置１００Ｇの構成は吐出装置１００Ｒの構成と異なる。同様に、タンク１０１Ｒとチューブ１１０Ｒとの代わりに、吐出装置１００Ｂがカラーフィルタ材料１１１Ｂ用のタンクとチューブとを備える点で、吐出装置１００Ｂの構成は吐出装置１００Ｒの構成と異なる。さらに、タンク１０１Ｒとチューブ１１０Ｒとの代わりに、吐出装置１００Ｃが保護膜材料用のタンクとチューブとを備える点で吐出装置１００Ｃの構成は吐出装置１００Ｒの構成と異なる。なお、本実施形態における液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒ，１１１Ｇ、１１１Ｂのそれぞれは、本発明の「液状の材料」の一例である。

まず、以下の手順にしたがって図６の基体１０Ａを作成する。まず、スパッタ法または蒸着法によって、支持基板１２上に金属薄膜を形成する。その後、フォトリソグラフィー工程によってこの金属薄膜から格子状のブラックマトリクス１４を形成する。ブラックマトリクス１４の材料の例は、金属クロムや酸化クロムである。なお、支持基板１２は、可視光に対して光透過性を有する基板、例えばガラス基板である。続いて、支持基板１２およびブラックマトリクス１４を覆うように、ネガ型の感光性樹脂組成物からなるレジスト層を塗布する。そして、そのレジスト層の上にマトリクスパターン形状に形成されたマスクフィルム密着させながら、このレジスト層を露光する。その後、レジスト層の未露光部分をエッチング処理で取り除くことで、バンク１６が得られる。以上の工程によって、基体１０Ａが得られる。

なお、バンク１６に代えて、樹脂ブラックからなるバンクを用いても良い。その場合は、金属薄膜（ブラックマトリクス１４）は不要となり、バンク層は、１層のみとなる。

次に、大気圧下の酸素プラズマ処理によって、基体１０Ａを親液化する。この処理によって、支持基板１２と、ブラックマトリクス１４と、バンク１６と、で規定されたそれぞれの凹部（画素領域の一部）における支持基板１２の表面と、ブラックマトリクス１４の表面と、バンク１６の表面と、が親液性を呈するようになる。さらに、その後、基体１０Ａに対して、４フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理を行う。４フッ化メタンを用いたプラズマ処理によって、それぞれの凹部におけるバンク１６の表面がフッ化処理（撥液性に処理）され、このことで、バンク１６の表面が撥液性を呈するようになる。なお、４フッ化メタンを用いたプラズマ処理によって、先に親液性を与えられた支持基板１２の表面およびブラックマトリクス１４の表面は若干親液性を失うが、それでもこれら表面は親液性を維持する。このように、支持基板１２と、ブラックマトリクス１４と、バンク１６と、によって規定された凹部の表面に所定の表面処理が施されることで、凹部の表面が被吐出部１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂとなる。

なお、支持基板１２の材質、ブラックマトリクス１４の材質、およびバンク１６の材質によっては、上記のような表面処理を行わなくても、所望の親液性および撥液性を呈する表面が得られることもある。そのような場合には、上記表面処理を施さなくても、支持基板１２と、ブラックマトリクス１４と、バンク１６と、によって規定された凹部の表面が被吐出部１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂである。

被吐出部１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂが形成された基体１０Ａは、搬送装置１７０によって、吐出装置１００Ｒのステージ１０６に運ばれる。そして、図１５（ａ）に示すように、吐出装置１００Ｒは、被吐出部１８Ｒのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｒの層が形成されるように、吐出データに応じて、ヘッド１１４からカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出する。より具体的には、吐出装置１００Ｒは、実施形態１で説明した塗布工程を行うことで、複数の被吐出部１８Ｒのそれぞれに、カラーフィルタ材料１１１Ｒを塗布する。

基体１０Ａの被吐出部１８Ｒのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｒの層が形成された場合には、搬送装置１７０が基体１０Ａを乾燥装置１５０Ｒ内に位置させる。そして、被吐出部１８Ｒ上のカラーフィルタ材料１１１Ｒを完全に乾燥させることで、被吐出部１８Ｒ上にフィルタ層１１１ＦＲを得る。

次に搬送装置１７０は、基体１０Ａを吐出装置１００Ｇのステージ１０６に位置させる。そして、図１５（ｂ）に示すように、吐出装置１００Ｇは、被吐出部１８Ｇのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｇの層が形成されるように、被吐出部１８Ｇに対応した吐出データに応じて、ヘッド１１４からカラーフィルタ材料１１１Ｇを吐出する。より具体的には、吐出装置１００Ｇは、実施形態１で説明した塗布工程を行うことで、複数の被吐出部１８Ｇのそれぞれに、カラーフィルタ材料１１１Ｇを塗布する。

基体１０Ａの被吐出部１８Ｇのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｇの層が形成された場合には、搬送装置１７０が基体１０Ａを乾燥装置１５０Ｇ内に位置させる。そして、被吐出部１８Ｇ上のカラーフィルタ材料１１１Ｇを完全に乾燥させることで、被吐出部１８Ｇ上にフィルタ層１１１ＦＧを得る。

次に搬送装置１７０は、基体１０Ａを吐出装置１００Ｂのステージ１０６に位置させる。そして、図１５（ｃ）に示すように、吐出装置１００Ｂは、被吐出部１８Ｂのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｂの層が形成されるように、被吐出部１８Ｂに対応した吐出データに応じて、ヘッド１１４からカラーフィルタ材料１１１Ｂを吐出する。より具体的には、吐出装置１００Ｂは、実施形態１で説明した塗布工程を行うことで、複数の被吐出部１８Ｂのそれぞれに、カラーフィルタ材料１１１Ｂを塗布する。

基体１０Ａの被吐出部１８Ｂのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｂの層が形成された場合には、搬送装置１７０が基体１０Ａを乾燥装置１５０Ｂ内に位置させる。そして、被吐出部１８Ｂ上のカラーフィルタ材料１１１Ｂを完全に乾燥させることで、被吐出部１８Ｂ上にフィルタ層１１１ＦＢを得る。

次に搬送装置１７０は、基体１０Ａを、オーブン１６０内に位置させる。その後、オーブン１６０はフィルタ層１１１ＦＲ、１１１ＦＧ、１１１ＦＢを再加熱（ポストベーク）する。

次に搬送装置１７０は、基体１０Ａを吐出装置１００Ｃのステージ１０６に位置させる。そして、吐出装置１００Ｃは、フィルタ層１１１ＦＲ、１１１ＦＧ、１１１ＦＢ、およびバンク１６を覆って保護膜２０が形成されるように、液状の保護膜材料を吐出する。フィルタ層１１１ＦＲ，１１１ＦＧ、１１１ＦＢ、およびバンク１６を覆う保護膜２０が形成された後に、搬送装置１７０は基体１０Ａをオーブン１５０Ｃ内に位置させる。そして、オーブン１５０Ｃが保護膜２０を完全に乾燥させた後に、硬化装置１６５が保護膜２０を加熱して完全に硬化することで、基体１０Ａはカラーフィルタ基板１０となる。

（実施形態４）
次に、本発明をエレクトロルミネッセンス表示装置の製造装置に適用した例を説明する。

図１６（ａ）および（ｂ）に示す基体３０Ａは、後述する製造装置２（図１７）による処理によって、エレクトロルミネッセンス表示装置３０となる基板である。基体３０Ａは、マトリクス状に配置された複数の被吐出部３８Ｒ、３８Ｇ、３８Ｂを有する。

具体的には、基体３０Ａは、支持基板３２と、支持基板３２上に形成された回路素子層３４と、回路素子層３４上に形成された複数の画素電極３６と、複数の画素電極３６の間に形成されたバンク４０と、を有している。支持基板は、可視光に対して光透過性を有する基板であり、例えばガラス基板である。複数の画素電極３６のそれぞれは、可視光に対して光透過性を有する電極であり、例えば、ＩＴＯ（Indium-Tin Oxide）電極である。また、複数の画素電極３６は、回路素子層３４上にマトリクス状に配置されており、それぞれが画素領域を規定する。そして、バンク４０は、格子状の形状を有しており、複数の画素電極３６のそれぞれを囲む。また、バンク４０は、回路素子層３４上に形成された無機物バンク４０Ａと、無機物バンク４０Ａ上に位置する有機物バンク４０Ｂとからなる。

回路素子層３４は、支持基板３２上で所定の方向に延びる複数の走査電極と、複数の走査電極を覆うように形成された絶縁膜４２と、絶縁膜４２上に位置するとともに複数の走査電極が延びる方向に対して直交する方向に延びる複数の信号電極と、走査電極および信号電極の交点付近に位置する複数のスイッチング素子４４と、複数のスイッチング素子４４を覆うように形成されたポリイミドなどの層間絶縁膜４５と、を有する層である。それぞれのスイッチング素子４４のゲート電極４４Ｇおよびソース電極４４Ｓは、それぞれ対応する走査電極および対応する信号電極と電気的に接続されている。層間絶縁膜４５上には複数の画素電極３６が位置する。層間絶縁膜４５には、各スイッチング素子４４のドレイン電極４４Ｄに対応する部位にスルーホール４４Ｖが設けられており、このスルーホール４４Ｖを介して、スイッチング素子４４と、対応する画素電極３６と、の間の電気的接続が形成されている。また、バンク４０に対応する位置にそれぞれのスイッチング素子４４が位置している。つまり、図１３（ｂ）の紙面に垂直な方向から観察すると、複数のスイッチング素子４４のそれぞれは、バンク４０に覆われるように位置している。

基体３０Ａの画素電極３６とバンク４０とで規定される凹部（画素領域の一部）は、被吐出部３８Ｒ、被吐出部３８Ｇ、被吐出部３８Ｂに対応する。被吐出部３８Ｒは、赤の波長域の光線を発光する発光層２１１ＦＲが形成されるべき領域であり、被吐出部３８Ｇは、緑の波長域の光線を発光する発光層２１１ＦＧが形成されるべき領域であり、被吐出部３８Ｂは、青の波長域の光線を発光する発光層２１１ＧＢが形成されるべき領域である。

図１６（ｂ）に示す基体３０Ａは、Ｘ軸方向とＹ軸方向との双方に平行な仮想平面上に位置している。そして、複数の被吐出部３８Ｒ、３８Ｇ、３８Ｂが形成するマトリクスの行方向および列方向は、それぞれＸ軸方向およびＹ軸方向と平行である。基体３０Ａにおいて、被吐出部３８Ｒ、被吐出部３８Ｇ、および被吐出部３８Ｂは、Ｘ軸方向にこの順番で周期的に並んでいる。一方、被吐出部３８Ｒ同士はＹ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでおり、また、被吐出部３８Ｇ同士はＹ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでおり、同様に、被吐出部３８Ｂ同士はＹ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでいる。なお、被吐出部３８Ｒ、３８Ｇ、３８Ｂの平面像は、長手方向を有する矩形である。

図１７に示す製造装置２は、図１６の基体３０Ａの被吐出部３８Ｒ，３８Ｇ、３８Ｂのそれぞれに対して、対応する発光材料を吐出する装置である。製造装置２は、被吐出部３８Ｒのすべてに発光材料２１１Ｒを塗布する吐出装置２００Ｒと、被吐出部３８Ｒ上の発光材料２１１Ｒを乾燥させる乾燥装置２５０Ｒと、被吐出部３８Ｇのすべてに発光材料２１１Ｇを塗布する吐出装置２００Ｇと、被吐出部３８Ｇ上の発光材料２１１Ｇを乾燥させる乾燥装置２５０Ｇと、被吐出部３８Ｂのすべてに発光材料２１１Ｂを塗布する吐出装置２００Ｂと、被吐出部３８Ｂ上の発光材料Ｂを乾燥させる乾燥装置２５０Ｂと、を備えている。さらに製造装置２は、吐出装置２００Ｒ、乾燥装置２５０Ｒ、吐出装置２００Ｇ、乾燥装置２５０Ｇ、吐出装置２００Ｂ、乾燥装置２５０Ｂの順番に基体３０Ａを搬送する搬送装置２７０も備えている。搬送装置２７０は、フォーク部と、フォーク部を上下移動させる駆動部と、自走部と、を備えている。

図１８に示す吐出装置２００Ｒは、液状の発光材料２１１Ｒを保持するタンク２０１Ｒと、チューブ２１０Ｒと、チューブ２１０Ｒを介してタンク２０１Ｒから発光材料２１１Ｒが供給される吐出走査部１０２と、を備える。吐出走査部１０２の構成は、実施形態１の吐出走査部１０２（図１）の構成と同じであるため、同様な構成要素には同一の参照符号を付けるとともに、重複する説明を省略する。また、吐出装置２００Ｇの構成と吐出装置２００Ｂの構成とは、どちらも基本的に吐出装置２００Ｒの構造と同じある。ただし、タンク２０１Ｒとチューブ２１０Ｒとの代わりに、吐出装置２００Ｇが発光材料２１１Ｇ用のタンクとチューブとを備える点で、吐出装置２００Ｇの構成は吐出装置２００Ｒの構成と異なる。同様に、タンク２０１Ｒとチューブ２１０Ｒとの代わりに、吐出装置２００Ｂが発光材料２１１Ｂ用のタンクとチューブとを備える点で、吐出装置２００Ｂの構成は吐出装置２００Ｒの構成と異なる。なお、本実施形態における液状の発光材料２１１Ｒ、２１１Ｂ、２１１Ｇは、本発明の液状の材料の一例である。

製造装置２を用いたエレクトロルミネッセンス表示装置３０の製造方法を説明する。まず、公知の製膜技術とパターニング技術とを用いて、図１６に示す基体３０Ａを製造する。

次に、大気圧下の酸素プラズマ処理によって、基体３０Ａを親液化する。この処理によって、画素電極３６とバンク４０とで規定されたそれぞれの凹部（画素領域の一部）における画素電極３６の表面、無機物バンク４０Ａの表面、および有機物バンク４０Ｂの表面が、親液性を呈するようになる。さらに、その後、基体３０Ａに対して、４フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理を行う。４フッ化メタンを用いたプラズマ処理によって、それぞれの凹部における有機物バンク４０Ｂの表面がフッ化処理（撥液性に処理）されて、このことで有機物バンク４０Ｂの表面が撥液性を呈するようになる。なお、４フッ化メタンを用いたプラズマ処理によって、先に親液性を与えられた画素電極３６の表面および無機物バンク４０Ａの表面は、若干親液性を失うが、それでも親液性を維持する。このように、画素電極３６と、バンク４０と、によって規定された凹部の表面に所定の表面処理が施されることで、凹部の表面が被吐出部３８Ｒ、３８Ｇ、３８Ｂとなる。

なお、画素電極３６の材質、無機物バンク４０Ａの材質、および有機物バンク４０Ｂの材質によっては、上記のような表面処理を行わなくても、所望の親液性および撥液性を呈する表面が得られることもある。そのような場合には、上記表面処理を施さなくても、画素電極３６と、バンク４０と、によって規定された凹部の表面は被吐出部３８Ｒ、３８Ｇ、３８Ｂである。

ここで、表面処理が施された複数の画素電極３６のそれぞれの上に、対応する正孔輸送層３７Ｒ、３７Ｇ、３７Ｂを形成してもよい。正孔輸送層３７Ｒ、３７Ｇ、３７Ｂが、画素電極３６と、後述の発光層２１１ＲＦ、２１１ＧＦ、２１１ＢＦと、の間に位置すれば、エレクトロルミネッセンス表示装置の発光効率が高くなる。複数の画素電極３６のそれぞれの上に正孔輸送層を設ける場合には、正孔輸送層と、バンク４０と、によって規定された凹部が、被吐出部３８Ｒ、３８Ｇ、３８Ｂに対応する。

なお、正孔輸送層３７Ｒ、３７Ｇ、３７Ｂをインクジェット法により形成することも可能である。この場合、正孔輸送層３７Ｒ、３７Ｇ、３７Ｂを形成するための材料を含む溶液を各画素領域ごとに所定量塗布し、その後、乾燥させることにより正孔輸送層を形成することができる。

被吐出部３８Ｒ，３８Ｇ、３８Ｂが形成された基体３０Ａは、搬送装置２７０によって、吐出装置２００Ｒのステージ１０６に運ばれる。そして、図１９（ａ）に示すように、吐出装置２００Ｒは、被吐出部３８Ｒのすべてに発光材料２１１Ｒの層が形成されるように、吐出データに応じて、ヘッド１１４から発光材料２１１Ｒを吐出する。より具体的には、吐出装置２００Ｒは、実施形態１で説明した塗布工程を行うことで、複数の被吐出部３８Ｒのそれぞれに、発光材料２１１Ｒを塗布する。

基体３０Ａの被吐出部３８Ｒのすべてに発光材料２１１Ｒの層が形成された場合には、搬送装置２７０が基体３０Ａを乾燥装置２５０Ｒ内に位置させる。そして、被吐出部３８Ｒ上の発光材料２１１Ｒを完全に乾燥させることで、被吐出部３８Ｒ上に発光層２１１ＦＲを得る。

次に搬送装置２７０は、基体３０Ａを吐出装置２００Ｇのステージ１０６に位置させる。そして、図１９（ｂ）に示すように、吐出装置２００Ｇは、被吐出部３８Ｇのすべてに発光材料２１１Ｇの層が形成されるように、被吐出部３８Ｇに対応した吐出データに応じて、ヘッド１１４から発光材料２１１Ｇを吐出する。より具体的には、吐出装置２００Ｇは、実施形態１で説明した塗布工程を行うことで、複数の被吐出部３８Ｇのそれぞれに、発光材料２１１Ｇを塗布する。

基体３０Ａの被吐出部３８Ｇのすべてに発光材料２１１Ｇの層が形成された場合には、搬送装置２７０が基体３０Ａを乾燥装置２５０Ｇ内に位置させる。そして、被吐出部３８Ｇ上の発光材料２１１Ｇを完全に乾燥させることで、被吐出部３８Ｇ上に発光層２１１ＦＧを得る。

次に搬送装置２７０は、基体３０Ａを吐出装置２００Ｂのステージ１０６に位置させる。そして、図１９（ｃ）に示すように、吐出装置２００Ｂは、被吐出部３８Ｂのすべてに発光材料２１１Ｂの層が形成されるように、被吐出部３８Ｂに対応した吐出データに応じて、ヘッド１１４から発光材料２１１Ｂを吐出する。より具体的には、吐出装置２００Ｂは、実施形態１で説明した塗布工程を行うことで、複数の被吐出部３８Ｂのそれぞれに、発光材料２１１Ｂを塗布する。

基体３０Ａの被吐出部３８Ｂのすべてに発光材料２１１Ｂの層が形成された場合には、搬送装置２７０が基体３０Ａを乾燥装置２５０Ｂ内に位置させる。そして、被吐出部３８Ｂ上の発光材料２１１Ｂを完全に乾燥させることで、被吐出部３８Ｂ上に発光層２１１ＦＢを得る。

図１９（ｄ）に示すように、次に、発光層２１１ＦＲ，２１１ＦＧ、２１１ＦＢ、およびバンク４０を覆うように対向電極４６を設ける。対向電極４６は陰極として機能する。その後、封止基板４８と基体３０Ａとを、互いの周辺部で接着することで、図１９（ｄ）に示すエレクトロルミネッセンス表示装置３０が得られる。なお、封止基板４８と基体３０Ａとの間には不活性ガス４９が封入されている。

エレクトロルミネッセンス表示装置３０において、発光層２１１ＦＲ、２１１ＦＧ、２１１ＦＢから発光した光は、画素電極３６と、回路素子層３４と、支持基板３２と、を介して射出する。このように回路素子層３４を介して光を射出するエレクトロルミネッセンス表示装置は、ボトムエミッション型の表示装置と呼ばれる。

（実施形態５）
本発明をプラズマ表示装置の背面基板の製造装置に適用した例を説明する。

図２０（ａ）および（ｂ）に示す基体５０Ａは、後述する製造装置３（図２１）による処理によって、プラズマ表示装置の背面基板５０Ｂとなる基板である。基体５０Ａは、マトリクス状に配置された複数の被吐出部５８Ｒ、５８Ｇ、５８Ｂを有する。

具体的には、基体５０Ａは、支持基板５２と、支持基板５２上にストライプ状に形成された複数のアドレス電極５４と、アドレス電極５４を覆うように形成された誘電体ガラス層５６と、格子状の形状を有するとともに複数の画素領域を規定する隔壁６０と、を含む。複数の画素領域はマトリクス状に位置しており、複数の画素領域が形成するマトリクスの列のそれぞれは、複数のアドレス電極５４のそれぞれに対応する。このような基体５０Ａは、公知のスクリーン印刷技術で形成される。

基体５０Ａのそれぞれの画素領域において、誘電体ガラス層５６および隔壁６０によって規定される凹部が、被吐出部５８Ｒ、被吐出部５８Ｇ、被吐出部５８Ｂに対応する。被吐出部５８Ｒは、赤の波長域の光線を発光する蛍光層３１１ＦＲが形成されるべき領域であり、被吐出部５８Ｇは、緑の波長域の光線を発光する蛍光層３１１ＦＧが形成されるべき領域であり、被吐出部５８Ｂは、青の波長域の光線を発光する蛍光層３１１ＦＢが形成されるべき領域である。

図２０（ｂ）に示す基体５０Ａは、Ｘ軸方向とＹ軸方向との双方に平行な仮想平面上に位置している。そして、複数の被吐出部５８Ｒ，５８Ｇ、５８Ｂが形成するマトリクスの行方向および列方向は、それぞれＸ軸方向およびＹ軸方向と平行である。基体５０Ａにおいて、被吐出部５８Ｒ、被吐出部５８Ｇ、および被吐出部５８Ｂは、Ｘ軸方向にこの順番で周期的に並んでいる。一方、被吐出部５８Ｒ同士はＹ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでおり、また、被吐出部５８Ｇ同士はＹ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでおり、同様に、被吐出部５８Ｂ同士はＹ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでいる。なお、被吐出部５８Ｒ、５８Ｇ、５８Ｂの平面像は、長手方向を有する矩形である。

図２１に示す製造装置３は、図２０の基体５０Ａの被吐出部５８Ｒ，５８Ｇ、５８Ｂのそれぞれに対して、対応する蛍光材料を吐出する装置である。製造装置３は、被吐出部５８Ｒのすべてに蛍光材料３１１Ｒを塗布する吐出装置３００Ｒと、被吐出部５８Ｒ上の蛍光材料３１１Ｒを乾燥させる乾燥装置３５０Ｒと、被吐出部５８Ｇのすべてに蛍光材料３１１Ｇを塗布する吐出装置３００Ｇと、被吐出部５８Ｇ上の蛍光材料３１１Ｇを乾燥させる乾燥装置３５０Ｇと、被吐出部５８Ｂのすべてに蛍光材料３１１Ｂを塗布する吐出装置３００Ｂと、被吐出部５８Ｂ上の蛍光材料３１１Ｂを乾燥させる乾燥装置３５０Ｂと、を備えている。さらに製造装置３は、吐出装置３００Ｒ、乾燥装置３５０Ｒ、吐出装置３００Ｇ、乾燥装置３５０Ｇ、吐出装置３００Ｂ、乾燥装置３５０Ｂの順番に基体５０Ａを搬送する搬送装置３７０も備えている。搬送装置３７０は、フォーク部と、フォーク部を上下移動させる駆動部と、自走部と、を備えている。

図２２に示す吐出装置３００Ｒは、液状の蛍光材料３１１Ｒを保持するタンク３０１Ｒと、チューブ３１０Ｒと、チューブ３１０Ｒを介してタンク３０１Ｒからカラーフィルタ材料が供給される吐出走査部１０２と、を備える。吐出走査部１０２の構成は、実施形態１において説明したため重複する説明を省略する。

吐出装置３００Ｇの構成と吐出装置３００Ｂの構成とは、どちらも基本的に吐出装置３００Ｒの構造と同じある。ただし、タンク３０１Ｒとチューブ３１０Ｒとの代わりに、吐出装置３００Ｇが蛍光材料３１１Ｇ用のタンクとチューブとを備える点で、吐出装置３００Ｇの構成は吐出装置３００Ｒの構成と異なる。同様に、タンク３０１Ｒとチューブ３１０Ｒとに代えて、吐出装置３００Ｂが蛍光材料３１１Ｂ用のタンクとチューブとを備える点で、吐出装置３００Ｂの構成は吐出装置３００Ｒの構成と異なる。なお、本実施形態における液状の蛍光材料３１１Ｒ、３１１Ｂ、３１１Ｇは、発光材料の一種であるとともに、本発明の「液状の材料」に対応する。

製造装置３を用いたプラズマ表示装置の製造方法を説明する。まず、公知のスクリーン印刷技術によって、支持基板５２上に、複数のアドレス電極５４と、誘電体ガラス層５６と、隔壁６０と、を形成して、図２０に示す基体５０Ａを得る。

次に、大気圧下の酸素プラズマ処理によって、基体５０Ａを親液化する。この処理によって、隔壁６０および誘電体ガラス層５６によって規定されたそれぞれの凹部（画素領域の一部）の隔壁６０の表面、誘電体ガラス層５６の表面が、親液性を呈し、これらの表面が被吐出部５８Ｒ，５８Ｇ、５８Ｂとなる。なお、材質によっては、上記のような表面処理を行わなくても、所望の親液性を呈する表面が得られることもある。そのような場合には、上記表面処理を施さなくても、隔壁６０と、誘電体ガラス層５６と、によって規定された凹部の表面は、被吐出部５８Ｒ，５８Ｇ、５８Ｂである。

被吐出部５８Ｒ，５８Ｇ、５８Ｂが形成された基体５０Ａは、搬送装置３７０によって、吐出装置３００Ｒのステージ１０６に運ばれる。そして、図２３（ａ）に示すように、吐出装置３００Ｒは、被吐出部５８Ｒのすべてに蛍光材料３１１Ｒの層が形成されるように、吐出データに応じて、ヘッド１１４から蛍光材料３１１Ｒを吐出する。より具体的には、吐出装置３００Ｒは、実施形態１で説明した塗布工程を行うことで、複数の被吐出部５８Ｒのそれぞれに、蛍光材料３１１Ｒを塗布する。

基体５０Ａの被吐出部５８Ｒのすべてに蛍光材料３１１Ｒの層が形成された場合には、搬送装置３７０が基体５０Ａを乾燥装置３５０Ｒ内に位置させる。そして、被吐出部５８Ｒ上の蛍光材料３１１Ｒを完全に乾燥させることで、被吐出部５８Ｒ上に蛍光層３１１ＦＲを得る。

次に搬送装置３７０は、基体５０Ａを吐出装置３００Ｇのステージ１０６に位置させる。そして、図２３（ｂ）に示すように、吐出装置３００Ｇは、被吐出部５８Ｇのすべてに蛍光材料３１１Ｇの層が形成されるように、被吐出部５８Ｇに対応した吐出データに応じて、ヘッド１１４から蛍光材料３１１Ｇを吐出する。より具体的には、吐出装置３００Ｇは、実施形態１で説明した塗布工程を行うことで、複数の被吐出部５８Ｇのそれぞれに、蛍光材料３１１Ｇを塗布する。

基体５０Ａの被吐出部５８Ｇのすべてに蛍光材料３１１Ｇの層が形成された場合には、搬送装置３７０が基体５０Ａを乾燥装置３５０Ｇ内に位置させる。そして、被吐出部５８Ｇ上の蛍光材料３１１Ｇを完全に乾燥させることで、被吐出部５８Ｇ上に蛍光層３１１ＦＧを得る。

次に搬送装置３７０は、基体５０Ａを吐出装置３００Ｂのステージ１０６に位置させる。そして、図２３（ｃ）に示すように、吐出装置３００Ｂは、被吐出部５８Ｂのすべてに蛍光材料３１１Ｂの層が形成されるように、被吐出部５８Ｂに対応した吐出データに応じて、ヘッド１１４から蛍光材料３１１Ｂを吐出する。より具体的には、吐出装置３００Ｂは、実施形態１で説明した塗布工程を行うことで、複数の被吐出部５８Ｂのそれぞれに、蛍光材料３１１Ｂを塗布する。

基体５０Ａの被吐出部５８Ｂのすべてに蛍光材料Ｂの層が形成された場合には、搬送装置３７０が基体５０Ａを乾燥装置３５０Ｂ内に位置させる。そして、被吐出部５８Ｂ上の蛍光材料３１１Ｂを完全に乾燥させることで、被吐出部５８Ｂ上に蛍光層３１１ＦＢを得る。

以上の工程によって、基体５０Ａはプラズマ表示装置の背面基板５０Ｂとなる。

次に図２４に示すように、背面基板５０Ｂと、前面基板５０Ｃと、を公知の方法によって貼り合わせてプラズマ表示装置５０が得られる。前面基板５０Ｃは、ガラス基板６８と、ガラス基板６８上で互いに平行にパターニングされた表示電極６６Ａおよび表示スキャン電極６６Ｂと、表示電極６６Ａおよび表示スキャン電極６６Ｂとを覆うように形成された誘電体ガラス層６４と、誘電体ガラス層６４上に形成されたＭｇＯ保護層６２と、を有する。背面基板５０Ｂと前面基板５０Ｃとは、背面基板５０Ｂのアドレス電極５４と、前面基板５０Ｃの表示電極６６Ａ・表示スキャン電極６６Ｂとが、互いに直交するように位置合わせされている。各隔壁６０で囲まれるセル（画素領域）には、所定の圧力で放電ガス６９が封入されている。

（実施形態６）
次に本発明を、電子放出素子を備えた画像表示装置の製造装置に適用した例を説明する。

図２５（ａ）および（ｂ）に示す基体７０Ａは、後述する製造装置３（図２６）による処理によって、画像表示装置の電子源基板７０Ｂとなる基板である。基体７０Ａは、マトリクス状に配置された複数の被吐出部７８を有する。

具体的には、基体７０Ａは、基体７２と、基体７２上に位置するナトリウム拡散防止層７４と、ナトリウム拡散防止層７４上に位置する複数の素子電極７６Ａ、７６Ｂと、複数の素子電極７６Ａ上に位置する複数の金属配線７９Ａと、複数の素子電極７６Ｂ上に位置する複数の金属配線７９Ｂと、を備えている。複数の金属配線７９ＡのそれぞれはＹ軸方向に延びる形状を有する。一方、複数の金属配線７９ＢのそれぞれはＸ軸方向に延びる形状を有する。金属配線７９Ａと金属配線７９Ｂとの間には絶縁膜７５が形成されているので、金属配線７９Ａと金属配線７９Ｂとは電気的に絶縁されている。

１対の素子電極７６Ａおよび素子電極７６Ｂを含む部分は１つの画素領域に対応する。１対の素子電極７６Ａおよび素子電極７６Ｂは、互いに所定の間隔だけ離れてナトリウム拡散防止層７４上で対向している。ある画素領域に対応する素子電極７６Ａは、対応する金属配線７９Ａと電気的に接続されている。また、その画素領域に対応する素子電極７６Ｂは、対応する金属配線７９Ｂと電気的に接続されている。なお、本明細書では、基体７２とナトリウム拡散防止層７４とを合わせた部分を支持基板と表記することもある。

基体７０Ａのそれぞれの画素領域において、素子電極７６Ａの一部と、素子電極７６Ｂの一部と、素子電極７６Ａと素子電極７６Ｂとの間で露出したナトリウム拡散防止層７４とが、被吐出部７８に対応する。より具体的には、被吐出部７８は、導電性薄膜４１１Ｆ（図２９）が形成されるべき領域であり、導電性薄膜４１１Ｆは、素子電極７６Ａの一部と、素子電極７６Ｂの一部と、素子電極７６Ａ，７６Ｂの間のギャップとを覆うように形成される。図２５（ｂ）において点線で示すように、本実施形態における被吐出部７８の平面形状は円形である。このように、本発明の被吐出部の平面形状は、Ｘ座標範囲とＹ座標範囲とで決まる円形でも構わない。

図２５（ｂ）に示す基体７０Ａは、Ｘ軸方向とＹ軸方向との双方に平行な仮想平面上に位置している。そして、複数の被吐出部７８が形成するマトリクスの行方向および列方向は、それぞれＸ軸方向およびＹ軸方向と平行である。つまり、基体７０Ａにおいて、複数の被吐出部７８は、Ｘ軸方向およびＹ軸方向に並んでいる。なお、Ｘ軸方向およびＹ軸方向は互いに直交する。

被吐出部７８同士のＸ軸方向に沿った間隔Ｌ、すなわちピッチは、ほぼ１９０μｍである。また、被吐出部７８ＲのＸ軸方向の長さ（Ｘ座標範囲の長さ）はほぼ１００μｍであり、Ｙ軸方向の長さ（Ｙ座標範囲の長さ）もほぼ１００μｍである。

図２６に示す製造装置４は、図２５の基体７０Ａの被吐出部７８のそれぞれに対して、導電性薄膜材料４１１を吐出する装置である。具体的には、製造装置４は、被吐出部７８のすべてに導電性薄膜材料４１１を塗布する吐出装置４００と、被吐出部７８上の導電性薄膜材料４１１を乾燥させる乾燥装置４５０と、を備えている。さらに製造装置４は、吐出装置４００、乾燥装置４５０の順番に基体７０Ａを搬送する搬送装置４７０も備えている。搬送装置４７０は、フォーク部と、フォーク部を上下移動させる駆動部と、自走部と、を備えている。

図２７に示す吐出装置４００は、液状の導電性薄膜材料４１１を保持するタンク４０１と、チューブ４１０と、チューブ４１０を介してタンク４０１から導電性薄膜材料４１１が供給される吐出走査部１０２と、を備える。吐出走査部１０２の説明は、実施形態１で説明したため省略する。本実施形態では、液状の導電性薄膜材料４１１は有機パラジウム溶液である。なお、本実施形態における液状の導電性薄膜材料４１１は、本発明の「液状の材料」の一例である。

製造装置４を用いた画像表示装置の製造方法を説明する。まず、ソーダガラスなどから形成された基体７２上に、ＳｉＯ₂を主成分とするナトリウム拡散防止層７４を形成する。具体的には、スパッタ法を用いて基体７２上に厚さ１μｍのＳｉＯ₂膜を形成することによってナトリウム拡散防止層７４を得る。次に、ナトリウム拡散防止層７４上に、スパッタ法または真空蒸着法によって厚さ５ｎｍのチタニウム層を形成する。そして、フォトリソグラフィー技術およびエッチング技術を用いて、そのチタニウム層から、互いに所定の距離だけ離れて位置する１対の素子電極７６Ａおよび素子電極７６Ｂを複数対形成する。

その後、スクリーン印刷技術を用いて、ナトリウム拡散防止層７４および複数の素子電極７６Ａ上にＡｇペーストを塗布して焼成することで、Ｙ軸方向に延びる複数の金属配線７９Ａを形成する。次に、スクリーン印刷技術を用いて、各金属配線７９Ａの一部分にガラスペーストを塗布して焼成することで、絶縁膜７５を形成する。そして、スクリーン印刷技術を用いて、ナトリウム拡散防止層７４および複数の素子電極７６Ｂ上にＡｇペーストを塗布して焼成することで、Ｘ軸方向に延びる複数の金属配線７９Ｂを形成する。なお、金属配線７９Ｂを作製する場合には、金属配線７９Ｂが絶縁膜７５を介して金属配線７９Ａと交差するようにＡｇペーストを塗布する。以上のような工程によって、図２５に示す基体７０Ａを得る。

次に、大気圧下の酸素プラズマ処理によって、基体７０Ａを親液化する。この処理によって、素子電極７６Ａの表面の一部と、素子電極７６Ｂの表面の一部と、素子電極７６Ａと素子電極７６Ｂとの間で露出した支持基板の表面とは、親液化される。そして、これらの表面が被吐出部７８となる。なお、材質によっては、上記のような表面処理を行わなくても、所望の親液性を呈する表面が得られることもある。そのような場合には、上記表面処理を施さなくても、素子電極７６Ａの表面の一部と、素子電極７６Ｂの表面の一部と、素子電極７６Ａと素子電極７６Ｂとの間で露出したナトリウム拡散防止層７４の表面とは、被吐出部７８となる。

被吐出部７８が形成された基体７０Ａは、搬送装置４７０によって、吐出装置４００のステージ１０６に運ばれる。そして、図２８に示すように、吐出装置４００は、被吐出部７８のすべてに導電性薄膜４１１Ｆが形成されるように、実施形態１で説明した吐出データに応じて、ヘッド１１４から導電性薄膜材料４１１を吐出する。より具体的には、吐出装置４００は、実施形態１で説明した塗布工程を行うことで、複数の被吐出部７８のそれぞれに、導電性薄膜材料４１１を塗布する。

また、本実施形態では、被吐出部７８上に着弾した導電性薄膜材料４１１の液滴の直径が６０μｍから８０μｍの範囲となるように、制御部１１２はヘッド１１４に信号を与える。基体７０Ａの被吐出部７８のすべてに導電性薄膜材料４１１の層が形成された場合には、搬送装置４７０が基体７０Ａを乾燥装置４５０内に位置させる。そして、被吐出部７８上の導電性薄膜材料４１１を完全に乾燥させることで、被吐出部７８上に酸化パラジウムを主成分とする導電性薄膜４１１Ｆを得る。このように、それぞれの画素領域において、素子電極７６Ａの一部と、素子電極７６Ｂの一部と、素子電極７６Ａと素子電極７６Ｂとの間に露出したナトリウム拡散防止層７４と、を覆う導電性薄膜４１１Ｆが形成される。

次に素子電極７６Ａおよび素子電極７６Ｂとの間に、パルス状の所定の電圧を印加することで、導電性薄膜４１１Ｆの一部分に電子放出部４１１Ｄを形成する。なお、素子電極７６Ａおよび素子電極７６Ｂとの間の電圧の印加を、有機物雰囲気下および真空条件下でもそれぞれ行うことが好ましい。そうすれば、電子放出部４１１Ｄからの電子放出効率がより高くなるからである。素子電極７６Ａと、対応する素子電極７６Ｂと、電子放出部４１１Ｄが設けられた導電性薄膜４１１Ｆと、は電子放出素子である。また、それぞれの電子放出素子は、それぞれの画素領域に対応する。

以上の工程によって、図２９に示すように、基体７０Ａは電子源基板７０Ｂとなる。

次に図３０に示すように、電子源基板７０Ｂと、前面基板７０Ｃと、を公知の方法によって貼り合わせて画像表示装置７０が得られる。前面基板７０Ｃは、ガラス基板８２と、ガラス基板８２上にマトリクス状に位置する複数の蛍光部８４と、複数の蛍光部８４を覆うメタルプレート８６と、を有する。メタルプレート８６は、電子放出部４１１Ｄからの電子ビームを加速するための電極として機能する。電子源基板７０Ｂと前面基板７０Ｃとは、複数の電子放出素子のそれぞれが、複数の蛍光部８４のそれぞれに対向するように、位置合わせされている。また、電子源基板７０Ｂと、前面基板７０Ｃとの間は、真空状態に保たれている。

なお、上記の電子放出素子を備えた画像表示装置７０は、ＳＥＤ(Surface-Conduction Electron-Emitter Display）またはＦＥＤ（Field Emission Display)と呼ばれることもある。また、本明細書では、液晶表示装置、エレクトロルミネッセンス表示装置、プラズマ表示装置、電子放出素子を利用した画像表示装置など、を「電気光学装置」と表記することもある。ここで、本明細書でいう「電気光学装置」とは、複屈折性の変化や、旋光性の変化や、光散乱性の変化などの光学的特性の変化（いわゆる電気光学効果）を利用する装置に限定されず、信号電圧の印加に応じて光を射出、透過、または反射する装置全般を意味する。

実施形態１の吐出装置を示す模式図。 実施形態１のヘッドにおけるノズルの配置を示す模式図。 （ａ）および（ｂ）は実施形態１のヘッドにおける吐出部を示す模式図。 実施形態１の吐出装置における制御部の機能ブロック図。 （ａ）および（ｂ）は実施形態１から６の吐出装置におけるヘッド駆動部の模式図。 （ａ）は実施形態１の基体の断面を示す模式図であり、（ｂ）は実施形態１の基体の上面を示す模式図。 （ａ）および（ｂ）は、実施形態１の塗布工程を説明する図。 （ａ）および（ｂ）は、実施形態１の塗布工程を説明する図。 比較例の塗布工程を説明する図。 実施形態１の吐出可能範囲を説明する図。 実施形態１の走査期間および走査範囲を説明する模式図。 実施形態１の相対移動速度を示す模式図。 実施形態２の画像データおよび相対移動速度データを生成するフローを示す図。 実施形態３のカラーフィルタ基板の製造装置を示す模式図。 実施形態３のカラーフィルタ基板の製造方法を説明する図。 （ａ）は実施形態４の基体の断面を示す模式図であり、（ｂ）は実施形態４の基体の上面を示す模式図。 実施形態４のエレクトロルミネッセンス表示装置の製造装置を示す模式図。 実施形態４の吐出装置を示す模式図。 実施形態４のエレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法を説明する図。 （ａ）は実施形態５の基体の断面を示す模式図であり、（ｂ）は実施形態５の基体の上面を示す模式図。 実施形態５のプラズマ表示装置の製造装置を示す模式図。 実施形態５の吐出装置を示す模式図。 実施形態５のプラズマ表示装置の製造方法を説明する図。 実施形態５の製造方法によって製造されるプラズマ表示装置の断面を示す模式図。 （ａ）は実施形態６の基体の断面を示す模式図であり、（ｂ）は実施形態６の上面を示す模式図。 実施形態６の表示装置の製造装置を示す模式図。 実施形態６の吐出装置を示す模式図。 実施形態６の表示装置の製造方法を説明する図。 実施形態６の表示装置の製造方法を説明する図。 実施形態６の製造方法によって製造される表示装置の断面を示す模式図。

符号の説明

１０Ａ…基体、１０…カラーフィルタ基板、１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂ…被吐出部、１００Ｒ、１００Ｇ，１００Ｂ…吐出装置、１０２…吐出走査部、１０３…吐出ヘッド、１０４…第１位置制御装置、１０６…ステージ、１０８…第２位置制御装置、１１０…チューブ、１１０Ｒ…チューブ、１１１Ｒ…カラーフィルタ材料、１１２…制御部、１１４…ヘッド、１１６…ノズル列、１１８…ノズル。

Claims (6)

1. ヘッドと基体の被吐出部とを第１の相対移動速度で相対移動させながら、前記ヘッドから前記被吐出部に第１の液状材料を吐出するステップ（Ａ）と、
   前記第１の相対移動速度より早い第２の相対移動速度で前記ヘッドと前記被吐出部とを相対移動させながら、前記第１の液状材料の上に第２の液状材料を吐出するステップ（Ｂ）とを有することを特徴とする液状材料の塗布方法。
2. 前記ステップ（Ａ）は、前記第１の液状材料を所定周期で吐出するステップ（Ａ１）を有し、
   前記ステップ（Ｂ）は前記第２の液状材料を前期所定周期で吐出するステップ（Ｂ１）を有することを特徴とする請求項１に記載の液状材料の塗布方法。
3. 前記ステップ（Ａ）は、１回の吐出当たり第１の体積の前記第１の液状材料を吐出するステップ（Ａ２）を有し、
   前記ステップ（Ｂ）は、１回の吐出当たり第２の体積の前記第２の液状材料を吐出するステップ（Ｂ２）を有し、前記第２の体積は前記第１の体積より大きいことを特徴とする請求項１記載の液状材料の塗布方法。
4. 請求項１乃至３のいずれか１項に記載の液状材料の塗布方法を用いたカラーフィルタの製造方法であって、前記液状材料がカラーフィルタ材料であることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
5. 請求項１乃至３のいずれか１項に記載の液状材料の塗布方法を用いたエレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法であって、前記液状材料が発光材料であることを特徴とするエレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。
6. 請求項１乃至３のいずれか１項に記載の液状材料の塗布方法を用いたプラズマ表示装置の製造方法であって、前記液状材料が発光材料であることを特徴とするプラズマ表示装置の製造方法。

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