JP4333590B2 - パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、電気光学装置の製造方法及び電気光学装置 - Google Patents

Description

本発明は、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、電気光学装置の製造方法及び電気光学装置に関する。

近年、電気光学装置としての液晶表示装置には、表示画像をカラー化するために、各色（赤色、緑色、青色）の着色層を備えたカラーフィルタが用いられている。そのカラーフィルタの製造方法には、着色層を形成する着色層形成材料の溶液（着色層溶液）を、遮光層（ブラックマトリックス）で囲まれる着色層形成領域に塗布し、その溶液を乾燥させることによってカラーフィルタを形成する液相プロセスが利用されている。

なかでも、その液相プロセスにおけるインクジェット法は、溶液を微小な液滴として吐出するため、他の液相プロセス（例えば、スピンコートやディスペンサ法等）に比べ、より微細な着色層を形成することができる（例えば、特許文献１）。
特開平８−１４６２１４ 号広報

ところで、こうしたインクジェット法では、吐出した液滴の隣接する着色層形成領域への漏れを回避するために、前記遮光層を、液滴に対する撥液性を備えた材料（撥液性材料）で構成している。そして、撥液性材料からなる遮光膜を基板全面に成膜し、その遮光膜をパターニングすることによって、着色層形成領域を囲む形状の遮光層を形成している。

しかしながら、上記する遮光膜のパターニング工程において、同遮光膜の微小な残渣片が着色層形成領域に存在すると、上記するインクジェット法では以下の問題を生じる。
すなわち、遮光膜が撥液性材料で構成されるため、同遮光膜の残渣片近傍では、吐出した液滴の濡れ性が低下する。そのため、吐出した液滴が着色層形成領域全体に濡れ広がらなくなり、着色層の形状（パターン形状）にバラツキを生じて液晶表示装置の表示画像に色むら等を来たす問題となる。

本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、その目的は、パターン形状の均一性を向上して生産性を向上したパターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、電気光学装置の製造方法及び電気光学装置を提供することである。

本発明のパターン形成方法は、下地層上に形成した隔壁層をパターニングすることによって隔壁を形成し、前記下地層と前記隔壁によって囲まれるパターン形成領域に、パターン形成材料を含む液滴を吐出して前記下地層上にパターンを形成するようにしたパターン形成方法において、前記隔壁層をパターニングするときに、前記パターン形成領域内の前記下地層に前記隔壁層の残渣片を形成し、前記液滴を吐出する前に、前記残渣片をマスクにして前記下地層をパターニングし、前記液滴を前記隔壁まで引き込むために、前記下地層を凹凸形状に形成するようにした。

本発明のパターン形成方法によれば、隔壁のパターニング工程で形成した残渣片によって凹凸形状を形成するため、凹凸形状を形成するための工程数を削減することができ、パターンの製造工程数の増加を抑制することができる。そして、凹凸形状に形成した下地層
の凹部に沿って、吐出した液滴を隔壁まで引き込むことができ、パターン形成領域に、均一な形状のパターンを形成することができる。ひいては、パターン形状の均一性を向上してパターンの生産性を向上することができる。

このパターン形成方法は、前記残渣片をマスクにして前記下地層をパターニングするときに、前記下地層を凹凸形状に形成しながら前記残渣片を除去するようにした。
このパターン形成方法によれば、下地層を凹凸形状に形成しながら残渣片を除去するため、同残渣片による液滴の引き込み不良を回避することができ、より均一な形状のパターンを形成することができる。

このパターン形成方法は、前記下地層の凹凸差を０．１μｍ以上にするようにした。
このパターン形成方法によれば、前記下地層の凹凸差を０．１μｍ以上にする分だけ、より大きい容量の液滴を引き込むことができ、さらに均一な形状のパターンを形成することができる。

このパターン形成方法は、前記残渣片をマスクにして前記下地層をパターニングするときに、前記下地層を凹凸形状にするためのエッチング液を、液滴吐出装置から前記パターン形成領域内に吐出するようにした。

このパターン形成方法によれば、パターン形成領域のみにエッチング液を吐出することができ、パターン形成領域以外の領域を保護するための保護層等を形成することなく、所望の下地層をエッチングして凹凸形状に形成することができる。

本発明のカラーフィルタの製造方法は、透明基板の一側面に形成した遮光層をパターニングすることによって隔壁を形成し、前記一側面と前記隔壁によって囲まれる着色層形成領域に、着色層形成材料を含む液滴を吐出して前記一側面上に着色層を形成するようにしたカラーフィルタの製造方法において、前記着色層を、上記するパターン形成方法によって形成するようにした。

本発明のカラーフィルタの製造方法によれば、着色層形状の均一性を向上してカラーフィルタの生産性を向上することができる。
本発明のカラーフィルタの製造方法は、透明基板の一側面に形成した遮光層をパターニングすることによって隔壁を形成し、前記一側面と前記隔壁によって囲まれる反射層形成領域に、反射層形成材料を含む液滴を吐出して前記一側面上に反射層を形成するようにしたカラーフィルタの製造方法において、前記反射層を、上記するパターン形成方法によって形成するようにした。

本発明のカラーフィルタの製造方法によれば、反射層形状の均一性を向上してカラーフィルタの生産性を向上することができる。
本発明のカラーフィルタは、上記するカラーフィルタの製造方法によって製造した。

本発明のカラーフィルタによれば、着色層又は反射層の形状の均一性を向上してカラーフィルタの生産性を向上することができる。
本発明のカラーフィルタは、透明基板の一側面と、前記一側面に形成した隔壁とによって囲まれる着色層形成領域に着色層形成材料を含む液滴を吐出して形成した着色層を備えるカラーフィルタにおいて、前記着色層形成領域内の前記一側面が凹凸形状である。

本発明のカラーフィルタによれば、隔壁のパターニング工程で形成した残渣片によって凹凸形状を形成するため、凹凸形状を形成するための工程数を削減することができ、カラーフィルタの製造工程数の増加を抑制することができる。そして、凹凸形状に形成される
一側面の凹部に沿って、吐出した液滴を隔壁まで引き込むことができ、着色層形成領域に、均一な形状の着色層を形成することができる。従って、着色層の形状の均一性を向上してカラーフィルタの生産性を向上することができる。

このカラーフィルタにおいて、前記一側面の凹凸差は０．１μｍ以上である。
このカラーフィルタによれば、一側面の凹凸差を０．１μｍ以上にする分だけ、より大きい容量の液滴を引き込むことができ、さらに均一な形状のパターンを形成することができる。

このカラーフィルタは、前記一側面と前記着色層との間に、反射層形成材料を含む液滴を吐出して形成した反射層を備えた。
このカラーフィルタによれば、反射層の形状の均一性を向上してカラーフィルタの生産性を向上することができる。

本発明の電気光学装置の製造方法は、電極層上に形成した隔壁層をパターニングすることによって隔壁を形成し、前記電極層と前記隔壁によって囲まれる発光素子形成領域に、発光素子形成材料を含む液滴を吐出して発光素子を形成するようにした電気光学装置の製造方法において、前記発光素子を、上記するパターン形成方法によって形成するようにした。

本発明の電気光学装置の製造方法によれば、発光素子の形状の均一性を向上して電気光学装置の生産性を向上することができる。
本発明の電気光学装置は、素子基板と対向基板との間に電気光学物質層を有する電気光学装置において、前記対向基板が、上記するカラーフィルタである。

本発明の電気光学装置によれば、カラーフィルタ形状の均一性を向上して電気光学装置の生産性を向上することができる。
本発明の電気光学装置は、上記する電気光学装置の製造方法によって製造した。

本発明の電気光学装置によれば、発光層又は正孔輸送層の形状の均一性を向上して電気光学装置の生産性を向上することができる。
本発明の電気光学装置は、電極層と、前記電極層上に形成した隔壁とによって囲まれる発光素子形成領域に、発光素子形成材料を含む液滴を吐出して形成した発光素子を備える電気光学装置において、前記発光素子形成領域の前記電極層が凹凸形状である。

本発明の電気光学装置によれば、凹凸形状に形成される電極層の凹部に沿って、吐出した液滴を隔壁まで引き込むことができ、発光素子形成領域に、均一な形状の発光素子を形成することができる。従って、発光素子の形状の均一性を向上して電気光学装置の生産性を向上することができる。

この電気光学装置において、前記電極層の凹凸差は０．１μｍ以上である。
この電気光学装置によれば、凹凸差を０．１μｍ以上にする分だけ、より大きい容量の液滴を引き込むことができ、さらに均一な形状の発光層又は正孔輸送層を形成することができる。

（第１実施形態）
以下、本発明を具体化した第１実施形態を図１〜図１６に従って説明する。図１及び図２は、電気光学装置としての液晶表示装置１０を示す概略斜視図及び概略断面図である。

液晶表示装置１０は、２端子型のスイッチング素子であるＴＦＤ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ
Ｄｉｏｄｅ）を備えたアクティブマトリックス方式の半透過型液晶表示装置である。
図１に示すように、液晶表示装置１０は、液晶パネル１１と、同液晶パネル１１に平面状の光Ｌ１を照明する照明装置１２を備えている。照明装置１２は、ＬＥＤ等の光源１２ａと、同光源１２ａから出射される光を透過して平面状の光として液晶パネル１１に照射する導光体１２ｂを備えている。尚、本実施形態では、液晶パネル１１に対して、照明装置１２側を照明側とし、照明装置１２の反対側を観測側とする。

液晶パネル１１は、その観測側と照明側に、それぞれ四角形状の素子基板１３と対向基板としてのカラーフィルタ１４を有している。図２に示すように、素子基板１３とカラーフィルタ１４は、四角枠状のシール材１５によって貼り合わされ、これら素子基板１３とカラーフィルタ１４との間の間隙に、電気光学物質層としての液晶層１６（図２参照）が封入されている。尚、シール材１５には、図２に示すように、球状の導電材１５ａが分散され、後述するカラーフィルタ１４の走査線４０と素子基板１３の走査線駆動用ＩＣ４１とを電気的に接続できるようになっている。

まず、上記液晶パネル１１の素子基板１３について以下に説明する。図３及び図４は、素子基板１３を示す要部斜視図及び平面図である。
素子基板１３は、無アルカリガラス基板からなる透明基板であって、その一側面（素子形成面１３ｓ）には、図１に示すように、一方向に延びる複数の信号線１７が形成されている。尚、本実施形態では、この信号線１７の形成方向をＸ方向とし、その信号線１７の配列方向、すなわち前記Ｘ方向と直交する方向をＹ方向とする。

信号線１７は、図３に示すように、素子形成面１３ｓ上であってタングステンタンタル等からなる第１層１７ａと、同第１層１７ａの上層であって絶縁膜で形成される第２層１７ｂと、同第２層１７ｂの上層であってクロム等からなる第３層１７ｃを有した３層構造で形成されている。各信号線１７は、図２に示すように、それぞれ素子基板１３の一側端にＡＣＦ１８ａによって実装された信号線駆動用ＩＣ１８に電気的に接続されている。信号線駆動用ＩＣ１８は、図示しない制御回路から供給される表示データに基づいて、各信号線１７に対応するデータ信号を生成し、そのデータ信号を、各信号線１７に対して一斉に所定のタイミングで出力するようになっている。

図４に示すように、各信号線１７には、電気的に接続される複数のスイッチング素子１９が形成されている。スイッチング素子１９は、図３に示すように、１対のＴＦＤ２１，２２によって構成されている。ＴＦＤ２１，ＴＦＤ２２は、タングステンタンタル等からなる共通の第１層２３ａと、同第１層２３ａの上層であって絶縁膜で形成される共通の第２層２３ｂを有し、第２層２３ｂの上層に、それぞれクロム等からなる第３層２１ｃ，２２ｃを有している。ＴＦＤ２１の第３層２１ｃは、前記信号線１７の第３層１７ｃと電気的に接続されている。ＴＦＤ２２の第３層２２ｃは、ＩＴＯ等の透明導電膜からなる画素電極２４と電気的に接続されている。

そして、信号線駆動用ＩＣ１８が信号線１７にデータ信号を出力すると、そのデータ信号が、ＴＦＤ２１の第３層２１ｃから順に、第２層２３ｂ、第１層２３ａ、第２層２３ｂ、ＴＦＤ２２の第３層２２ｃを介して、画素電極２４に供給される。すなわち、スイッチング素子１９は、電気的に逆向きのＴＦＤ２１，２２が直列に接続された、いわゆるバック・ツー・バック（ＢＴＢ）構成された素子である。

図２に示すように、画素電極２４（各信号線１７及びスイッチング素子１９）の上層には、ポリイミド等からなる配向膜２５が形成されている。配向膜２５は、ラビング処理等による配向処理が施され、同配向膜２５（素子基板１３）近傍の液晶分子の配向を設定す
るようになっている。

図１に示すように、素子基板１３の観測側の面であって画素電極２４の形成される領域には、四角板状の偏光板２６が貼り付けられている。
次に、上記液晶パネル１１のカラーフィルタ１４について以下に説明する。図５は、カラーフィルタ１４を示す平面図であって、図６は、図５のＡ−Ａに沿う断面図である。

図２に示すように、カラーフィルタ１４は、無アルカリガラス基板からなる透明基板１４ａを備えている。透明基板１４ａの観測側の面（素子基板１３側の面）には、下地層としてのフィルタ形成面１４ｓが形成されている。

そのフィルタ形成面１４ｓは、図５及び図６に示すように、多数の島状凸面３１を有し、この島状凸面３１によって、凹凸形状の凹凸面３２を形成している。その凹凸面３２は、図５に示すように、前記信号線１７の形成方向（Ｙ方向）に沿って、四角形状の小さいサイズの領域（反射層形成領域としての反射領域Ｒｒ）と、四角形状の大きいサイズの領域（透過領域Ｒｔ）が交互に繰り返すようにマトリックス状に配列形成されている。尚、この凹凸面３２は、図６に示すように、後述する凹凸形成工程（図７におけるステップＳ１４）によって、その凹凸差Ｈが０．１μｍ以上となるように形成されている。

フィルタ形成面１４ｓ上であって前記凹凸面３２の形成領域（反射領域Ｒｒと透過領域Ｒｔ）を除く領域には、図６に示すように、遮光部３３が形成されている。遮光部３３は、所定の波長からなる露光光Ｌｐｒ（図８参照）を露光すると、露光された部分のみがアルカリ性溶液等の現像液に可溶となる、いわゆるポジ型の感光性材料で形成され、例えばカーボンブラック等の遮光性材料を含有する熱硬化性樹脂によって格子状に形成されている。すなわち、遮光部３３は、照明側及び観測側から入射した光を遮光することによって、観測側に表示する画像のコントラストを向上する、いわゆるブラックマトリックスである。

図６に示すように、遮光部３３の上側には、撥液部３４が形成されている。撥液部３４は、前記遮光部３３と同じく、ポジ型の感光性材料で形成され、後述する反射層溶液Ｌｒ（図１２参照）からなる液滴Ｄｓ２及び着色層溶液Ｌｃ（図１４参照）からなる液滴Ｄｓ３を撥液する撥液性を有したフッ素系樹脂からなる樹脂層である。

そして、これら遮光部３３及び撥液部３４によって、凹凸面３２を囲う格子状の隔壁３５が形成され、その隔壁３５によって、パターン形成領域としての着色層形成領域３６が形成される。つまり、着色層形成領域３６は、凹凸面３２を底面とする小さいサイズの反射領域Ｒｒと大きいサイズの透過領域Ｒｔによって構成されている。

各反射領域Ｒｒの凹凸面３２上には、反射層３７が形成されている。反射層３７は、光を反射する金属膜であって、凹凸面３２に対応した凹凸形状に形成されている。そして、この反射層３７が凹凸形状に形成されることによって、図２に示すように、観測側から入射した外光Ｌ２が反射層３７で反射して拡散されるようになっている。一方、この反射層３７の形成されない透過領域Ｒｔでは、照明側（照明装置１２）から入射した光Ｌ１が観測側に透過するようになっている。

図５に示すように、各反射層３７の上層には、それぞれ赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）及び青色（Ｂ）を呈する赤色着色層３８Ｒ、緑色着色層３８Ｇ及び青色着色層３８Ｂが、前記信号線１７と直交する方向（Ｙ方向）に沿って、繰り返し形成されている。

各着色層３８Ｒ，３８Ｇ，３８Ｂの上層には、図６に示すように、オーバーコート層３
９が形成されている。オーバーコート層３９は、隔壁３５（遮光部３３及び撥液部３４）と同じく、アクリル樹脂やポリイミド樹脂等のポジ型の感光性材料で形成されている。尚、このオーバーコート層３９の厚さによって、図２に示すように、反射領域Ｒｒ上の液晶層１６の厚さと透過領域Ｒｔ上の液晶層１６の厚さが調整され、観測側から反射領域Ｒｒを介して再び観測側に出射する光の照度と、照明側から透過領域Ｒｔを介して観測側に出射する光の照度が均一になるようになっている。

図５に示すように、透過領域Ｒｔの凹凸面３２上には、反射領域Ｒｒと同じく、赤色着色層３８Ｒ、緑色着色層３８Ｇ及び青色着色層３８Ｂが、前記信号線１７と直交する方向（Ｙ方向）に沿って、繰り返し形成されている。

図６に示すように、前記反射領域Ｒｒのオーバーコート層３９と、透過領域Ｒｔの各着色層３８Ｒ，３８Ｇ，３８Ｂの上層には、前記信号線１７と直交する方向（Ｙ方向：図６において紙面に垂直な方向）に延びる走査線４０が、前記信号線１７の形成方向（Ｘ方向）に配列されている。走査線４０は、前記画素電極２４と同じく、ＩＴＯ等の透明導電膜によって形成され、図５に示すように、そのＸ方向の幅が、反射領域Ｒｒ（透過領域Ｒｔ）の形成ピッチのピッチ幅と略同じ幅Ｗで形成されている。

そして、図５に示すように、この走査線４０と前記画素電極２４が、観測側から見て平面的に重なり合うように配設され、その重なる領域によって、表示の最小単位である最小表示領域Ｒｐが形成される。すなわち、最小表示領域Ｒｐは、画素電極２４と略同サイズで形成され、そのＸ方向の幅が、走査線４０のＸ方向の幅（幅Ｗ）と略同幅で形成される。そして、最小表示領域Ｒｐは、１つの透過領域Ｒｔと同透過領域Ｒｔと隣接する２つの反射領域Ｒｒの略半分の領域によって形成され、透過光と反射光の双方からなる光を出射可能にしている。

図２に示すように、各走査線４０は、シール材１５内の導電材１５ａによって、信号線１７と同じく、素子基板１３の一側端にＡＣＦによって実装される走査線駆動用ＩＣ４１（図１参照）に電気的に接続されている。走査線駆動用ＩＣ４１は、図示しない制御回路から供給される走査制御信号に基づいて、複数の走査線４０の中から所定の走査線４０を所定のタイミングで選択駆動し、選択した走査線４０に走査信号を出力するようになっている。

図６に示すように、その走査線４０の上層には、ポリイミド等からなる配向膜４２が形成されている。配向膜４２は、ラビング処理等による配向処理が施され、同配向膜４２（カラーフィルタ１４）近傍の液晶分子の配向を設定できるようになっている。

図２に示すように、上記するカラーフィルタ１４のフィルタ形成面１４ｓと相対向する側の面（照射側の面）には、偏光板４３が貼着されている。
そして、データ信号の出力された画素電極２４上の走査線４０に走査信号が出力されると、データ信号と走査信号の電位差に応じて画素電極２４に接続されるスイッチング素子１９がオン状態となる。スイッチング素子１９がオン状態になると、画素電極２４に対応する最小表示領域Ｒｐ上の液晶分子の配向状態が、その最小表示領域Ｒｐを通過する光Ｌ１あるいは外光Ｌ２を変調するように維持される。そして、変調された光が偏光板４３を通過するか否かによって、液晶パネル１１の観測側に所望するフルカラーの画像が表示される。
（液晶表示装置１０の製造方法）
次に、上記する液晶表示装置１０の製造方法について図７〜図１６に従って説明する。図７は、液晶表示装置１０の製造工程を示すフローチャート、図８〜図１６は、液晶表示装置１０の製造工程を説明する説明図である。

まず、上記するカラーフィルタ１４の製造方法について説明する。
図７に示すように、はじめに、透明基板１４ａのフィルタ形成面１４ｓ全面に、遮光層材料を塗布して遮光層３３ａを形成する遮光層形成工程を行う（ステップＳ１１）。次に、遮光層３３ａ上層に撥液層材料を塗布して撥液層３４ａを形成する撥液層形成工程を行う（ステップＳ１２）。そして、遮光層形成工程及び撥液層形成工程によって、遮光層３３ａ及び撥液層３４ａによって構成される隔壁層が形成される。

図７に示すように、遮光層３３ａと撥液層３４ａを形成すると、フィルタ形成面１４ｓと相対向する位置にマスクＭｋを配置して隔壁３５を形成する隔壁形成工程を行う（ステップＳ１３）。そのマスクＭｋには、図８に示すように、所定の波長からなる露光光Ｌｐｒを透過する透過基板Ｍｋｂが備えられ、同透過基板Ｍｋｂの一側面（フィルタ形成面１４ｓと相対向する側の面）には、露光光Ｌｐｒを遮光する遮光パターンＭｋ１と、露光光Ｌｐｒを所定の割合で透過する半透過パターンＭｋ２が形成されている。尚、その遮光パターンＭｋ１は、フィルタ形成面１４ｓと相対向する状態で、前記隔壁３５（遮光部３３及び撥液部３４）に相対する形状のパターンであって、半透過パターンＭｋ２は、前記島状凸面３１と相対するパターンである。

そして、このマスクＭｋを介して露光光Ｌｐｒを隔壁層（遮光層３３ａ及び撥液層３４ａ）に露光して現像すると、フィルタ形成面１４ｓ上には、図９に示すように、遮光パターンＭｋ１と相対する位置に、遮光層３３ａ及び撥液部３４からなる隔壁３５が形成される。つまり、反射領域Ｒｒ及び透過領域Ｒｔ（着色層形成領域３６）が区画形成される。さらに、その着色層形成領域３６内であって半透過パターンＭｋ２に相対する位置には、隔壁３５よりも小さいサイズからなる遮光層３３ａの残渣（残渣片４４）が多数形成される。

図７に示すように、フィルタ形成面１４ｓ上に隔壁３５及び残渣片４４を形成すると、液滴吐出装置から着色層形成領域３６内にフッ化アンモニウム等のエッチング液Ｌｅ（図１０参照）を吐出し、隔壁３５及び残渣片４４をマスクにした凹凸面３２を形成する凹凸面形成工程を行う（ステップＳ１４）。図１０に示すように、その液滴吐出装置には、液滴吐出ヘッド４５が備えられ、その液滴吐出ヘッド４５の下側には、ノズルプレート４６が備えられている。そのノズルプレート４６の下面（ノズル形成面４６ａ）には、エッチング液Ｌｅを吐出する多数のノズル４６ｎが上方に向かって形成されている。各ノズル４６ｎの上側には、図示しない収容タンクに連通してエッチング液Ｌｅをノズル４６ｎ内に供給可能にする供給室４７が形成されている。供給室４７の上側には、上下方向に往復振動して供給室４７内の容積を拡大縮小する振動板４８と、上下方向に伸縮して同振動板を振動させる圧電素子４９が配設されている。そして、液滴吐出装置に搬送されてくる透明基板１４ａは、図１０に示すように、フィルタ形成面１４ｓをノズル形成面４６ａと平行にして位置決めされる。

ここで、供給室４７内に、エッチング液Ｌｅを供給して、液滴吐出ヘッド４５に凹凸面３２を形成するための駆動信号を入力すると、同駆動信号に基づいて、前記着色層形成領域３６直上に位置する圧電素子４９が伸縮動して供給室４７の容積を拡大縮小する。このとき、供給室４７の容積が縮小すると、縮小した容積に相対する量のエッチング液Ｌｅが、各ノズル４６ｎから微小液滴Ｄｓとして吐出され、吐出された微小液滴Ｄｓが、それぞれ対応するフィルタ形成面１４ｓに着弾する。続いて、供給室４７の容積が拡大すると、拡大した容積分のエッチング液Ｌｅが、図示しない収容タンクから供給室４７内に供給される。

つまり、液滴吐出ヘッド４５は、こうした供給室４７の拡大縮小によって、所定の容量
のエッチング液Ｌｅを各着色層形成領域３６に向かって吐出し、同着色層形成領域３６内に、エッチング液Ｌｅからなる液滴Ｄｓ１を形成する。そして、液滴Ｄｓ１を形成した状態で所定の時間だけ放置すると、着色層形成領域３６内のフィルタ形成面１４ｓがエッチングされ、図１１に示すように、残渣片４４によってマスクされた位置に凸部（島状凸面３１）が形成される。そして、島状凸面３１と周辺のフィルタ形成面１４ｓとのエッチング量の差異によって凹凸面３２が形成される。

これによって、エッチング液Ｌｅを着色層形成領域３６内にのみ供給することができ、着色層形成領域３６以外の領域（例えば、フィルタ形成面１４ｓと相対向する側の面等）に耐エッチング性の保護膜等を形成することなく凹凸面３２を形成することができる。

尚、残渣片４４は、エッチング液Ｌｅによるフィルタ形成面１４ｓのエッチングによって、そのフィルタ形成面１４ｓに対する密着性が低下し、着色層形成領域３６内からエッチング液Ｌｅを除去して洗浄する際に、同時に除去される。

図７に示すように、着色層形成領域３６内に凹凸面３２を形成すると、反射領域Ｒｒの凹凸面３２上に反射層３７を形成する反射層形成工程を行う（ステップＳ１５）。すなわち、図１２に示すように、前記液滴吐出装置の供給室４７に金属粒子等からなるパターン形成材料としての反射層形成材料の溶液（反射層溶液Ｌｒ）を供給し、前記凹凸面形成工程と同じく、液滴吐出ヘッド４５によって、反射領域Ｒｒの凹凸面３２上に、反射層溶液Ｌｒからなる微小液滴Ｄｓを吐出する。吐出された微小液滴Ｄｓは、凹凸面３２に着弾して、同凹凸面３２の凹凸に案内されながら各反射領域Ｒｒの内縁（各隔壁３５）まで引き込まれる。これによって、反射領域Ｒｒ全体に濡れ広がる反射層溶液Ｌｒの液滴Ｄｓ２を形成することができ、同液滴Ｄｓ２を乾燥して固化することによって、図１３に示すように、反射領域Ｒｒの凹凸面３２上に、同凹凸面３２の凹凸形状に対応した均一な膜厚の反射層３７を形成することができる。

図７に示すように、反射領域Ｒｒに反射層３７を形成すると、反射領域Ｒｒ及び透過領域Ｒｔ（着色層形成領域３６）に各着色層３８Ｒ，３８Ｇ，３８Ｂを形成する着色層形成工程を行う（ステップＳ１６）。すなわち、図１４に示すように、前記液滴吐出装置の供給室４７に赤色着色層３８Ｒ（緑色着色層３８Ｇ及び青色着色層３８Ｂ）を形成するためのパターン形成材料としての着色顔料を分散した分散液（着色層溶液Ｌｃ）を供給する。そして、前記反射層形成工程と同じく、液滴吐出ヘッド４５によって、反射領域Ｒｒの反射層３７上及び凹凸面３２上に、着色層溶液Ｌｃからなる微小液滴Ｄｓを吐出する。吐出された微小液滴Ｄｓは、凹凸面３２に着弾し、同凹凸面３２の凹凸に案内されながら各着色層形成領域３６の内縁（各隔壁３５）まで引き込まれる。これによって、各着色層形成領域３６全体に濡れ広がる着色層溶液Ｌｃの液滴Ｄｓ３を形成することができ、同液滴Ｄｓ３を乾燥して固化することによって、図１５に示すように、反射層３７及び凹凸面３２上に、均一な形状の赤色着色層３８Ｒ（緑色着色層３８Ｇ及び青色着色層３８Ｂ）を形成することができる。

図７に示すように、各色の着色層３８Ｒ，３８Ｇ，３８Ｂを形成すると、オーバーコート層３９を形成するオーバーコート層形成工程、走査線４０を形成する走査線形成工程及び配向膜４２を形成する配向膜形成工程を順次行う（ステップＳ１７，Ｓ１８，Ｓ１９）。すなわち、各着色層３８Ｒ，３８Ｇ，３８Ｂ上にアクリル樹脂やポリイミド樹脂等のポジ型の感光性材料を塗布し、同感光性材料をパターニングすることによって、図１６に示すように、反射領域Ｒｒの着色層３８Ｒ，３８Ｇ，３８Ｂ上にオーバーコート層３９を形成する。オーバーコート層３９を形成すると、フィルタ形成面１４ｓ全面にＩＴＯ等の透明導電膜を堆積させ、同透明導電膜をパターニングすることによって、図１６に示すように、走査線４０を形成する。走査線４０を形成すると、フィルタ形成面１４ｓ全面に、ポ
リイミド等の透明樹脂を塗布し、同透明樹脂にラビング処理等の配向処理を施して、配向膜４２を形成する。

これによって、反射領域Ｒｒに、均一な形状の反射層３７と、着色層形成領域３６に、均一な形状の着色層３８Ｒ，３８Ｇ，３８Ｂを有したカラーフィルタ１４を製造することができる。

カラーフィルタ１４を製造すると、同カラーフィルタ１４と公知の製造技術によって製造した素子基板１３をシール材１５によって貼り合せ、同シール材１５の図示しない注入口からカラーフィルタ１４と素子基板１３との間に液晶を注入して液晶層１６を形成する。液晶層１６を形成すると、カラーフィルタ１４と素子基板１３に偏光板２６，４３を貼り付け、素子基板１３に、各種駆動用ＩＣ１８，４１を実装する。これによって、液晶パネル１１を形成することができ、同液晶パネル１１に照明装置１２を装着させることによって液晶表示装置１０を製造することができる。

次に、上記のように構成した第１実施形態の効果を以下に記載する。
（１）上記実施形態によれば、各着色層３８Ｒ，３８Ｇ，３８Ｂを形成する前に、着色層形成領域３６に凹凸差が０．１μｍ以上の凹凸面３２を形成し、同凹凸面３２上あるいは反射層３７上に、着色層溶液Ｌｃの微小液滴Ｄｓを吐出して液滴Ｄｓ３を形成するようにした。

従って、微小液滴Ｄｓを凹凸面３２の凹凸形状に案内させながら着色層形成領域３６の内縁（各隔壁３５）まで引き込むことができ、着色層形成領域３６全体に濡れ広がる着色層溶液Ｌｃの液滴Ｄｓ３を形成することができる。その結果、各着色層３８Ｒ，３８Ｇ，３８Ｂを均一な形状の形成することができ、カラーフィルタ１４の生産性、ひいては液晶表示装置１０の生産性を向上することができる。

（２）上記実施形態によれば、反射領域Ｒｒの各着色層３８Ｒ，３８Ｇ，３８Ｂを形成する前に、着色層形成領域３６に凹凸面３２を形成し、同凹凸面３２上に、反射層溶液Ｌｒの微小液滴Ｄｓを吐出して液滴Ｄｓ２を形成するようにした。

従って、反射領域Ｒｒ全体に濡れ広がる反射層溶液Ｌｒの液滴Ｄｓ２を形成することができ、凹凸面３２の凹凸形状に対応した均一な膜厚の反射層３７を形成することができる。その結果、均一な形状の反射層３７を有する反射型のカラーフィルタ１４を形成することができる。

（３）上記実施形態によれば、隔壁層をパターニングするときに残渣片４４を積極的に形成し、同残渣片４４をマスクにして凹凸面３２を形成するようにした。従って、凹凸面３２を形成するためのマスク形成の工程を別途行うことなく凹凸面３２を形成することができる。その結果、カラーフィルタ１４の生産性、ひいては液晶表示装置１０の生産性を向上することができる。

（４）上記実施形態によれば、隔壁３５及び残渣片４４をマスクにしてフィルタ形成面１４ｓをエッチングするときに、エッチング液Ｌｅの洗浄によって残渣片４４を除去するようにした。従って、残渣片４４あるいは残渣を確実に除去する分だけ、微小液滴Ｄｓの濡れ性を向上することができる。

（５）上記実施形態によれば、液滴吐出装置によって、着色層形成領域３６内にのみエッチング液Ｌｅを供給するようにした。従って、着色層形成領域３６以外の領域（例えば、フィルタ形成面１４ｓと相対向する側の面等）に耐エッチング液の保護膜等を形成する
ことなく凹凸面３２を形成することができる。その結果、カラーフィルタ１４の生産性、ひいでは液晶表示装置１０の生産性を向上することができる。
（第２実施形態）
次に、本発明を具体化した第２実施形態を、図１７〜図１９に従って説明する。尚、第２実施形態では、上記する第１実施形態の下地層（フィルタ形成面１４ｓ）を変更して電気光学装置としての有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ（有機ＥＬディスプレイ）に具体化したものである。そのため以下では、変更点である下地層について詳細に説明する。

図１７に示すように、有機ＥＬディスプレイ５０には透明基板５１が備えられている。透明基板５１は、四角形状に形成される無アルカリガラス基板であって、その一側面（素子形成面５１ｓ）には、一方向（図１７におけるＸ方向）に延びる複数の走査線５２と、同走査線５２と直交する方向（図１７におけるＹ方向）に延びる複数の信号線５３と、同信号線５３に併設される電源線５４を有している。

走査線５２及び信号線５３は、それぞれ対応する走査線駆動回路５５及び信号線駆動回路５６に接続されている。走査線駆動回路５５は、図示しない制御回路から供給される走査制御信号に基づいて、複数の走査線５２の中から所定の走査線５２を所定のタイミングで選択駆動し、選択した走査線５２に走査信号を出力するようになっている。信号線駆動回路５６は、図示しない制御回路から供給される表示データに基づいて表示データ信号を生成し、その表示データ信号を対応する信号線５３に所定のタイミングで出力するようになっている。電源線５４は、それぞれ図示しない共通電源線に接続され駆動電源を各電源線５４に供給するようになっている。

これら信号線５３と走査線５２の交差する位置には、対応する信号線５３、電源線５４及び走査線５２に接続されることによってマトリックス状に配列される複数の画素５７が形成されている。

図１８は、画素５７のレイアウトを示す概略平面図であって、図１９は、図１８の一点鎖線Ａ−Ａに沿う概略断面図である。
図１８に示すように、画素５７内には、制御素子形成領域５８及び発光素子形成領域５９が区画形成されている。制御素子形成領域５８内には、スイッチング用ＴＦＴ６１、駆動用ＴＦＴ６２及び保持キャパシタ６３が備えられている。

スイッチング用ＴＦＴ６１のゲートＧ１、ソースＳ１及びドレインＤ１は、それぞれ対応する走査線５２、信号線５３及び保持キャパシタ６３の下部電極６３ｂに電気的に接続されている。駆動用ＴＦＴ６２のゲートＧ２、ソースＳ２及びドレインＤ２は、それぞれ保持キャパシタ６３の前記下部電極６３ｂ（スイッチング用ＴＦＴ６１のドレインＤ１）、保持キャパシタ６３の上部電極６３ｔ及び後述する発光素子形成領域５９の陽極６４と接続されている。

保持キャパシタ６３は、前記下部電極６３ｂと前記上部電極６３ｔとの間に容量膜としての絶縁膜６５（図１９参照）を有するキャパシタであって、その上部電極６３ｔは、対応する電源線５４に電気的に接続されている。そして、これら各ＴＦＴ６１，６２、保持キャパシタ６３、各種配線５２，５３，５４の層間及び線間には、シリコン酸化膜等からなる絶縁膜６５（図１９参照）が形成され、この絶縁膜６５によって各層間及び線間が電気的に絶縁されている。

そして、走査線駆動回路５５が、順次走査線５２を介して対応するスイッチング用ＴＦＴ６１のゲートＧ１に走査信号を入力する（線順次走査）すると、選択されたスイッチン
グ用ＴＦＴ６１が選択期間中だけオン状態になる。スイッチング用ＴＦＴ６１がオン状態となると、信号線駆動回路５６から出力される表示データ信号が、対応する信号線５３及びスイッチング用ＴＦＴ６１を介して保持キャパシタ６３の下部電極６３ｂに供給される。表示データ信号が下部電極６３ｂに供給されると、保持キャパシタ６３は、その表示データ信号に相対する電荷を前記容量膜に蓄積する。そして、スイッチング用ＴＦＴ６１がオフ状態になると、保持キャパシタ６３に蓄積される電荷に相対した駆動電流が、駆動用ＴＦＴ６２を介して発光素子形成領域５９の電極層としての陽極６４に供給される。

次に、上記する画素５７の発光素子形成領域５９の構成について以下に説明する。
図１８に示すように、各画素５７の上側には、発光素子形成領域５９が形成されている。図１９に示すように、発光素子形成領域５９であって前記絶縁膜６５の上層には、透明電極としての陽極６４が形成されている。陽極６４は、光透過性を有する透明導電膜であって、図１８に示すように、その一端が駆動用ＴＦＴ６２のドレインＤ２に電気的に接続されている。

その陽極６４の上面は、第１実施形態と同じく、多数の島状凸面６４ａを有し、この島状凸面６４ａによって、凹凸形状の凹凸面６４ｂを形成している。
陽極６４の上層には、各陽極６４を互いに絶縁する隔壁部６６が形成されている。隔壁部６６は、後述する液滴を撥液するフッ素系樹脂等の有機材料で形成され、所定の波長からなる露光光を露光すると、露光された部分のみがアルカリ性溶液等の現像液に可溶となる、いわゆるポジ型の感光性材料で形成されている。

その隔壁部６６であって陽極６４の略中央位置には、上側に向かってテーパ状に開口する収容孔６７が形成されている。そして、隔壁部６６に収容孔６７が形成されることによって、陽極６４上面（凹凸面６４ｂ）を囲う隔壁６８が形成され、その隔壁６８と凹凸面６４ｂによってパターン形成領域としての有機ＥＬ層形成領域が形成される。

その有機ＥＬ層形成領域（凹凸面６４ｂ上層）には、パターンとしての有機エレクトロルミネッセンス層（有機ＥＬ層６９）が形成されている。この有機ＥＬ層６９は、正孔輸送層と発光層の２層からなる有機化合物層である。この有機ＥＬ層６９は、第１実施形態と同じく、パターン形成材料としての発光素子形成材料を含む液滴を収容孔６７内に形成し、その液滴を乾燥することにより形成されている。尚、本実施形態における各有機ＥＬ層６９は、それぞれ対応する色の光を発光する発光素子形成材料、すなわち赤色の光を発光する赤色発光素子形成材料又は緑色の光を発光する緑色発光素子形成材料又は青色を発光する青色発光素子形成材料によって形成されている。

その有機ＥＬ層６９の上側には、アルミニウム等の光反射性を有する金属膜からなる陰極７０が形成されている。陰極７０は、素子形成面５１ｓ略全面を覆うように形成され、各画素５７が共有することによって各発光素子形成領域５９に共通する電位を供給するようになっている。そして、本実施形態では、これら陽極６４、有機ＥＬ層６９及び陰極７０によって、発光素子としての有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ素子７１）を構成している。

陰極７０（有機ＥＬ素子７１）の上側には、エポキシ樹脂等からなる接着層７２が形成され、その接着層７２を介して素子形成面５１ｓを覆う封止基板７３が透明基板５１に貼着されている。封止基板７３は、無アルカリガラス基板であって、各有機ＥＬ素子７１及び各種配線５２，５３，５４等の酸化等を防止するようになっている。

そして、データ信号に応じた駆動電流が陽極６４に供給されると、有機ＥＬ層６９は、その駆動電流に応じた輝度で発光する。この際、有機ＥＬ層６９から陰極７０側に向かっ
て発光された光は、同陰極７０によって反射される。そのため、有機ＥＬ層６９から発光された光は、その殆どが、陽極６４、絶縁膜６５及び透明基板５１を通過して、透明基板５１の裏面（表示面５１ｔ）側から外方に向かって出射される。すなわち、データ信号に基づくフルカラーの画像が有機ＥＬディスプレイ５０の表示面５１ｔに表示される。

次に、有機ＥＬディスプレイ５０の製造方法について以下に説明する。
まず、透明基板５１の素子形成面５１ｓ上に各ＴＦＴ６１，６２、各種配線５２，５３，５４、絶縁膜６５を公知の有機ＥＬディスプレイ製造技術に基づいて形成する。続いて、素子形成面５１ｓ全面（絶縁膜６５上）に透明導電膜を堆積し、同透明導電膜をパターニングすることによって陽極６４を形成する。

陽極６４を形成すると、素子形成面５１ｓ全面（陽極６４及び絶縁膜６５上）にフッ素系樹脂等の有機材料を塗布して隔壁層を形成し、同隔壁層を所定の波長からなる露光光に露光する。この際、第１実施形態のマスクＭｋと同じく、所定の波長からなる露光光を透過する透過基板上に、露光光を遮光する遮光パターンと、露光光を所定の割合で透過する半透過パターンを有したマスクを配置することによって、陽極６４上面に隔壁６８（収容孔６７）を形成し、第１実施形態と同じく、多数の残渣片を形成する。

そして、第１実施形態と同じく、陽極６４をエッチングするためのエッチング液を液滴吐出ヘッド４５から収容孔６７内に吐出すると、陽極６４上面に、残渣片に相対する凸面が形成され、陽極６４上面に凹凸面６４ｂを形成することができる。

続いて、液滴吐出ヘッド４５から発光素子形成材料の溶液からなる微小液滴を収容孔６７内に吐出すると、吐出された微小液滴は、凹凸面６４ｂに着弾して、同凹凸面６４ｂの凹凸に案内されながら各収容孔６７の内縁（各隔壁６８）まで引き込まれる。これによって、収容孔６７全体に濡れ広がる発光素子形成材料の液滴を形成することができ、同液滴を乾燥して固化することによって、凹凸面６４ｂ上に、均一な形状の有機ＥＬ層６９を形成することができる。

有機ＥＬ層６９を形成すると、素子形成面５１ｓ全面（有機ＥＬ層６９及び隔壁層２２上）にアルミニウム等の金属膜からなる陰極７０を堆積し、陽極６４、有機ＥＬ層６９及び陰極７０からなる有機ＥＬ素子７１を形成する。有機ＥＬ素子７１を形成すると、陰極７０の上側全面にエポキシ樹脂等を塗布して接着層７２を形成し、その接着層７２を介して封止基板７３を透明基板５１に貼着する。

これによって、有機ＥＬ層６９の形状を均一にした有機ＥＬディスプレイ５０を製造することができる。
上記のように構成した第２実施形態によれば、有機ＥＬ層６９を形成する前に、陽極６４に凹凸面６４ｂを形成し、同凹凸面６４ｂ上に、発光素子形成材料の液滴を形成するようにした。従って、有機ＥＬ層形成領域の内縁（隔壁６８）まで濡れ広がる液滴を形成することができる。その結果、有機ＥＬ層６９を均一な形状の形成することができ、有機ＥＬディスプレイ５０の生産性を向上することができる。

尚、上記実施形態は以下のように変更してもよい。
・上記第１実施形態では、各着色層３８Ｒ，３８Ｇ，３８Ｂをストライプ状に形成したが、これに限らず、モザイク状やデルタ状に形成するものであってもよい。
・上記第１実施形態では、エッチング液Ｌｅを液滴吐出装置によって吐出するようにしたが、これに限らず、フィルタ形成面１４ｓをエッチング液Ｌｅに浸漬するようにしてもよい。
・上記第１実施形態では、２つのＴＦＤを備える構成にしたが、これに限定されるもので
なく、所望の素子設計によって、例えば１つのＴＦＤからなる構成にしてもよい。あるいは、１つ以上のＴＦＴを備える構成にしてもよい。
・上記第２実施形態では、２つのＴＦＴを備える構成にしたが、これに限定されるものでなく、所望の素子設計によって、例えば１つのＴＦＴや多数のＴＦＴからなる構成にしてもよい。
・上記実施形態では、下地層としてのフィルタ形成面１４ｓ及び陽極６４に凹凸面３２，６４ｂを形成する構成にした。これに限らず、例えば各種配線１７，４０を液滴によって形成するときに、同配線１７，４０の下地層に凹凸面３２を形成するようにしてもよく、液滴を固化することによって形成するパターンの下地層に凹凸面３２を形成するものであればよい。
・上記実施形態では、液滴Ｄｓ２，Ｄｓ３をインクジェット法によって形成するようにしたが、これに限定されるものでなく、例えばスピンコート法やディスペンサ法によって形成するようにしてもよい。
・上記実施形態では、電気光学装置を液晶表示装置１０と有機ＥＬディスプレイ５０に具体化したが、これに限定されるものでなく、例えば平面状の電子放出素子を備え、同素子から放出された電子による蛍光物質の発光を利用した電界効果型ディスプレイ（ＦＥＤやＳＥＤ等）であってもよい。

本発明を具体化した第１実施形態の液晶表示装置を示す概略平面図。 同じく、液晶表示装置を示す側断面図。 同じく、素子基板を示す要部斜視図。 同じく、素子基板を示す平面図。 同じく、カラーフィルタを示す平面図。 同じく、カラーフィルタを示す側断面図。 同じく、液晶表示装置の製造方法を示すフローチャート。 同じく、液晶表示装置の製造方法を示す側断面図。 同じく、液晶表示装置の製造方法を示す側断面図。 同じく、液晶表示装置の製造方法を示す側断面図。 同じく、液晶表示装置の製造方法を示す側断面図。 同じく、液晶表示装置の製造方法を示す側断面図。 同じく、液晶表示装置の製造方法を示す側断面図。 同じく、液晶表示装置の製造方法を示す側断面図。 同じく、液晶表示装置の製造方法を示す側断面図。 同じく、液晶表示装置の製造方法を示す側断面図。 本発明を具体化した第２実施形成の有機ＥＬディスプレイを示す斜視図。 同じく、画素を示す平面図。 同じく、発光素子を示す側断面図。

符号の説明

１０…電気光学装置としての液晶表示装置、１４…対向基板としてのカラーフィルタ、１４ａ，５１…透明基板，３２，６４ｂ…下地層としての凹凸面、３３ａ…隔壁層を構成する遮光層、３４ａ…隔壁層を構成する撥液層、３５，６８…隔壁、３６…パターン形成領域としての着色層形成領域、３７…反射層、３８Ｒ，３８Ｇ，３８Ｂ…パターンとしての着色層、４４…残渣片、５０…電気光学装置としての有機ＥＬディスプレイ、５９…発光素子形成領域、６４…電極層としての陽極、Ｄｓ２，Ｄｓ３…液滴、Ｈ…凹凸差、Ｌｅ…エッチング液、Ｒｒ…反射層形成領域としての反射領域。

Claims (9)

1. 下地層上に形成した隔壁層をパターニングすることによって隔壁を形成し、前記下地層と前記隔壁によって囲まれるパターン形成領域に、パターン形成材料を含む液滴を吐出して前記下地層上にパターンを形成するようにしたパターン形成方法において、
   前記隔壁層をパターニングするときに、前記パターン形成領域内の前記下地層に前記隔壁層の残渣片を形成し、前記液滴を吐出する前に、前記残渣片をマスクにして前記下地層をパターニングし、前記液滴を前記隔壁まで引き込むために、前記下地層を凹凸形状に形成するようにしたこと特徴とするパターン形成方法。
2. 請求項１に記載するパターン形成方法において、
   前記残渣片をマスクにして前記下地層をパターニングするときに、前記下地層を凹凸形状に形成しながら前記残渣片を除去するようにしたことを特徴とするパターン形成方法。
3. 請求項１又は２に記載するパターン形成方法において、
   前記下地層の凹凸差を０．１μｍ以上にするようにしたことを特徴とするパターン形成方法。
4. 請求項１〜３のいずれか１つに記載するパターン形成方法において、
   前記残渣片をマスクにして前記下地層をパターニングするときに、前記下地層を凹凸形状にするためのエッチング液を、液滴吐出装置から前記パターン形成領域内に吐出するようにしたパターン形成方法。
5. 透明基板の一側面に形成した遮光層をパターニングすることによって隔壁を形成し、前記一側面と前記隔壁によって囲まれる着色層形成領域に、着色層形成材料を含む液滴を吐出して前記一側面上に着色層を形成するようにしたカラーフィルタの製造方法において、
   前記着色層を、請求項１〜４のいずれか１つに記載するパターン形成方法によって形成するようにしたこと特徴とするカラーフィルタの製造方法。
6. 透明基板の一側面に形成した遮光層をパターニングすることによって隔壁を形成し、前記一側面と前記隔壁によって囲まれる反射層形成領域に、反射層形成材料を含む液滴を吐出して前記一側面上に反射層を形成するようにしたカラーフィルタの製造方法において、
   前記反射層を、請求項１〜４のいずれか１つに記載するパターン形成方法によって形成するようにしたこと特徴とするカラーフィルタの製造方法。
7. 請求項５又は６に記載するカラーフィルタの製造方法によって製造したカラーフィルタ。
8. 電極層上に形成した隔壁層をパターニングすることによって隔壁を形成し、前記電極層と前記隔壁によって囲まれる発光素子形成領域に、発光素子形成材料を含む液滴を吐出して発光素子を形成するようにした電気光学装置の製造方法において、
   前記発光素子を、請求項１〜４のいずれか１つに記載するパターン形成方法によって形成するようにしたこと特徴とする電気光学装置の製造方法。
9. 請求項８に記載する電気光学装置の製造方法によって製造した電気光学装置。

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