JP4455227B2 - ガスの同位体存在比率を測定する方法及びそのためのシステム - Google Patents
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Description
本測定は、図4に示すシステムを使用して、標準ガス(水分を含まない)としての天然同位体比のCH4(12CH4:13CH4=98.9:1.1)の12CH4と13CH4の存在比率を測定した。図4のシステムはヘリウムなどの混合機構などを有しない従来型のシステムである。バルブV3を開とし、サンプリングバッグ1からの測定ガスを、質量分析計6(図1に示すシステムで用いたものと同じ)に通して測定した。
本実施例1は、図1に示すシステムを使用して、天然同位体比のCH4(12CH4:13CH4=98.9:1.1)とH2Oを含むガスにおける12CH4と13CH4の存在比率を測定した例である。不純物除去管4としてシリカゲルを充填した乾燥管を配置し、また分岐管12として内径1/8インチ(=3.175mm)の管(ステンレス管)を配置した。
比較例1では、図4に示すシステムを使用して、天然同位体比のCH4とH2Oを含むガスにおける12CH4と13CH4の存在比率の測定を実施した。前述のとおり、図4のシステムは、ヘリウムの混合機構などを有しない従来型のシステムである。バルブV3を開とし、サンプリングバッグ1からの測定ガスを、質量分析計6(図1に示すシステムで用いたものと同じ)に通して測定した。
比較例2は、図1に示すシステムにおいて、バルブV2は常に閉とし、測定開始時にバルブV1を開け、ヘリウムを流すことなく、サンプリングバッグ1から、天然同位体比のCH4とH2Oを含むガスを乾燥管4を経て質量分析計6に通して測定した例である。比較例2では、図1に示すシステムにおいて、ヘリウムを一切流さないので、図5に示すように、図1のシステムにおけるキャリアガスボンベ7から導管11までの機構を有しないシステムに相当している。図9はその結果を示す図である。
比較例3は、実施例1と同じく、図1の装置を使用したが、バルブV1とバルブV2との開閉を実施例1とは逆にして実施した例である。すなわち、バルブV2を開とし、続いてサンプリングバッグ1に連なるバルブV1を開とした。こうして、ヘリウムボンベ7からのヘリウムを流しながら、天然同位体比のCH4とH2Oを含む測定ガスを混合して乾燥管4に供給することによって、質量分析計6による測定を開始して実施した。
本測定は、図4に示すシステムを使用して、標準ガス(水分を含まない)としての12CH4:13CH4=60.0:40.0)の12CH4と13CH4の存在比率を測定した。バルブV3を開とし、サンプリングバッグ1からの測定ガスを、質量分析計6(図1に示すシステムで用いたものと同じ)に通して測定した。
本実施例2は、測定ガスとして12CH4と13CH4を等量混合したCH4(12CH4:13CH4=50:50)とH2Oを含むガスを使用して、実施例1と同様にして測定ガスにおける12CH4と13CH4の存在比率の測定を実施した例である。すなわち、図1において、バルブV1を開とし、続いてバルブV2を開とする。こうして、CH4とH2Oを含む測定ガスを先に流しながら、これにヘリウムを流して混合して乾燥管4に供給することによって、質量分析計6による測定を開始して測定した。常法に従い、測定ガスをイオン化し、イオン化成分を真空中で分離し、検出した。測定中は水分が乾燥管4で吸着除去される。
比較例4では、図4のシステムを使用して、12CH4と13CH4を等量混合したCH4(12CH4:13CH4=50:50)とH2Oを含むガスにおける12CH4と13CH4の存在比率の測定を実施した。バルブV3を開とし、サンプリングバッグ1からの測定ガスを、質量分析計6(図1に示すシステムで用いたものと同じ)に通して測定した。
本実施例3は、測定ガスとして12CH4と13CH4を1:2の割合に混合したCH4(12CH4:13CH4=33:67)とH2Oを含むガスを使用して、実施例1と同様にして測定ガスにおける12CH4と13CH4の存在比率の測定を実施した例である。すなわち、図1において、バルブV1を開とし、続いてバルブV2を開とし、CH4とH2Oを含む測定ガスを先に流しながら、ヘリウムを混合して乾燥管4に供給することによって、質量分析計6による測定を開始して測定した。
比較例5では、図4のシステムを使用して、12CH4と13CH4を1:2の割合に混合したCH4(12CH4:13CH4=33:67)とH2Oを含むガスにおける12CH4と13CH4の存在比率の測定を実施した。すなわち、図4において、バルブV3を開とし、サンプリングバッグ1からの測定ガスを質量分析計6(図1に示すシステムで用いたものと同じ)に通して測定した。
2、3 導管
4 不純物除去管
5 導管
6 MS
7 ヘリウムガスボンベ
9 MFC(マスフローコントローラー)
8、10〜11 導管
12 分岐管
V1〜V3 バルブ
Claims (8)
- 同位体ガスと質量数が近い不純物が含まれるメタンの同位体存在比率を測定する方法であって、
測定ガスであるメタンの容器から質量分析計に至る導管に吸着剤を充填した不純物除去管を配置するとともに、該不純物除去管への導管に測定ガスであるメタンの質量数に近接しないガスを供給する導管を臨ませ、
測定ガスであるメタンの質量数に近接しないガスを供給する前記導管に大気に開放した分岐管を連結することで測定ガスであるメタンの質量数に近接しないガスを常に大気圧で供給するようにしてなるシステムを用い、
測定ガスであるメタンの質量数に近接しないガスを前記不純物除去管へ流しながら、測定ガスであるメタンを流し、質量分析計へ流入するガス圧を常に大気圧にして該測定ガスであるメタンの同位体存在比率を測定する
ことを特徴とするメタンの同位体存在比率を測定する方法。 - 請求項1に記載のメタンの同位体存在比率を測定する方法において、前記同位体ガスと質量数が近い不純物が水分であることを特徴とするメタンの同位体存在比率を測定する方法。
- 請求項1または2に記載のメタンの同位体存在比率を測定する方法において、前記測定ガスの質量数に近接しないガスがヘリウムであることを特徴とするメタンの同位体存在比率を測定する方法。
- 請求項1〜3のいずれか1項に記載のメタンの同位体存在比率を測定する方法において、前記質量分析計が大気圧イオン化質量分析計であることを特徴とするメタンの同位体存在比率を測定する方法。
- 同位体ガスと質量数が近い不純物が含まれるメタンの同位体存在比率を測定するためのシステムであって、
測定ガスであるメタンの容器から質量分析計に至る導管に吸着剤を充填した不純物除去管を配置するとともに、該不純物除去管への導管に測定ガスであるメタンの質量数に近接しないガスを供給する導管を臨ませ、且つ、
該測定ガスの質量数に近接しないガスを供給する前記導管に大気に開放した分岐管を連結することにより該測定ガスであるメタンの質量数に近接しないガスを常に大気圧で供給することで、質量分析計へ流入するガス圧を常に大気圧にするようにしてなる
ことを特徴とするメタンの同位体存在比率を測定するためのシステム。 - 請求項5に記載のメタンの同位体存在比率を測定するためのシステムにおいて、前記同位体ガスと質量数が近い不純物が水分であることを特徴とするメタンの同位体存在比率を測定するためのシステム。
- 請求項5または6に記載のメタンの同位体存在比率を測定するためのシステムにおいて、前記測定ガスの質量数に近接しないガスがヘリウムであることを特徴とするメタンの同位体存在比率を測定するためのシステム。
- 請求項5〜7のいずれか1項に記載のメタンの同位体存在比率を測定するためのシステムにおいて、前記質量分析計が大気圧イオン化質量分析計であることを特徴とするメタンの同位体存在比率を測定するためのシステム。
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