JP4473249B2 - 強誘電分域アレイ構造及びその製造方法、及び該構造を有する強誘電フィルム - Google Patents

強誘電分域アレイ構造及びその製造方法、及び該構造を有する強誘電フィルム Download PDF

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Description

本発明は、強誘電分域アレイ構造及びその製造方法、及び該強誘電分域アレイ構造を有する強誘電フィルムに関するものである。
強誘電材料は、多方向で自発分極という特性を持つ圧電材料だった。強誘電材料の単位セル内部の原子が異なる積み重ね構造(例えば、カルシウムチタン鉱構造)を有することによって、正負電荷が相対的に変位し、電気双極子モーメントを形成する。これにより、外部電界を印加しなくても、単位セルは自発分極を生じ、且つ、外部から印加する電界により、該自発分極の方向を反転し、又は方向決めることができる。強誘電結晶内部は、複数の小さい区域に分けられ、自発分極の方向が一致する区域は、強誘電分域と称して、簡単に電区と称する。該分域と該分域との間の界面は、分域壁と称する。
現在、強誘電材料は、ナノ構造組立及び光子結晶などの分野で、比較的大きな潜在的な利用価値を有する。(1)ナノ構造組立の利用分野において、主に帯電粒子が強誘電分域分極の方向に対して選択性を持つ特性を利用する。例えば、非特許文献1を参考して、強誘電材料の表面分極を利用して、各種のナノ構造を便利に組み立てることができるという現象を記載している。(2)光子結晶の利用分野において、主に強誘電分域分極化の逆方向は非線形光学係数の反逆符号を引き起こす特性を利用する。非特許文献2を参考することができ、Bergerは、準位相にマッチングする材料に対した研究を一次元から二次元まで拡張されており、且つ非線形光子結晶に関する概念を提示した。
前記応用において、非常に肝心な一歩は、必要とする特定分域構造を生成するものだった。現在、よく使われる特定分域構造を生成する方法として、以下の数種類の方法を含む。例えば、化学的拡散(Chemical In−diffusion)、電界ポリング(Electric−Field Poling)、電子ビーム(Electron Beams)或いはプローブ探針(Probe Tips)で直接に書くなどだった。しかし、前記よく使われる方法において、化学的拡散、電子ビーム及び測定子で直接に書くなどの方法を利用して、ナノオーダー(1ミクロンより小さい)強誘電分域構造を製造する効率は低く、現在、電界極化を利用しては、強誘電分域構造を製造し難い。そのため、強誘電材料のナノ構造組立分野における応用が大いに制限される。
「Atomic Polarization and Local Reactivity on Ferroelectric Surface: A New Route toward Complex Nanostructure」、Kalinin等、Nano Lett.、2002年、Vlo.2、 No.6、 589〜593 「Nonlinear Photonic Crystals」、Berge、Phys. Rev. Lett.、1998年、Vol.81、No.19、4136〜4139
本発明は、ナノオーダーの強誘電分域構造を有し、且つ製作が簡単な強誘電分域アレイ構造を提供することを第一目的とする。
本発明は、ナノオーダーの強誘電分域構造を有し、且つ製作が簡単な強誘電分域アレイ構造の製造方法を提供することを第二目的とする。
本発明は、前記強誘電分域アレイ構造を持つ強誘電フィルムを提供することを第三目的とする。
前記第一目的を達成するため、本発明に係る強誘電分域アレイ構造は、複数の強誘電分域構造を備え、前記強誘電分域構造はナノオーダー直径を持ち、且つ、強誘電フィルムの内に三角格子状に緊密に配列される。
前記第二目的を達成するため、本発明に係る強誘電分域アレイ構造の製造方法は、一つの表面を備え、且つ一定の厚さを有する強誘電フィルムを提供するステップと、前記強誘電フィルムに、前記表面に垂直なように、一定の電界を印加することにより、前記強誘電フィルム内に、強誘電分域アレイ構造を形成するステップとを備える。
前記第三目的を達成するため、本発明に係る強誘電フィルムは、強誘電分域アレイ構造を備え、前記強誘電分域アレイ構造は、複数の強誘電分域構造を備え、前記強誘電分域構造はナノオーダー直径を持ち、且つ、隣強誘電フィルムの内に三角格子状に緊密に配列される。
本発明の強誘電分域アレイ構造及びその製造方法、及び該強誘電分域アレイ構造を持つ強誘電フィルムは、強誘電フィルムの表面に垂直にように、一定の電界を印加することに介して、前記一定の電界の極化作用によって、強誘電フィルム内の強誘電分域は、自ら強誘電分域アレイ構造を生成することができる。前記強誘電分域アレイ構造の製作工藝は簡単で、且つ、前記強誘電分域アレイ構造の強誘電分域構造はナノオーダー直径を有する。
以下、図面を結び付けて、本発明の実施形態について、さらに詳しく説明する。
図1は、本発明の実施形態の強誘電分域アレイ構造の構成を示す平面図である。前記強誘電分域アレイ構造100は、複数の強誘電分域構造120を備え、前記強誘電分域構造120は、ナノオーダー直径(1ミクロンより小さい)を持ち、強誘電フィルム10’の内に三角格子状に、緊密に配列される。
図1に示すように、前記強誘電フィルム10’は、ジルコニウム酸チタン酸鉛(PbZrTiO)からなる強誘電フィルムであって、その大きさは43×43×4個の単位セル(Unit Cell)であり、即ち、その長さと幅はいずれも43個の単位セルの厚さであり、その厚さは四つの単位セルの厚さであり、単位セルごとの厚さは、約0.4ナノメートルである。もちろん、前記強誘電フィルム10’は、ほかの材質からなる強誘電フィルムでもよく、例えば、ニオブ酸リチウム(LiNbO)、ニオブ酸カリウム(KNbO)、マグネシウム酸ニオブ酸鉛(PbMgNbO)、タンタル酸リチウム(LiTaO)、タンタル酸カリウム(KTaO)、燐酸酸化チタンカリウム(KTiOPO)、ヒ酸酸化チタンカリウム(KTiOAsO)、燐酸酸化チタンルビジウム(RTiOPO)、ヒ酸酸化チタンルビジウム(RTiOAsO)、チタン酸バリウム(BaTiO)などであって、毎種類の強誘電フィルムの単位セルの大きさは、製造する材料によって違う。ここで、フィルムというものは、一つの方向で2〜100個の単位セルの厚さを持ち、ほかの二つの方向の原子は周期性に配列されたフィルムであって、準二次元材料だった。
各強誘電分域構造120は円形状の輪郭を有する。強誘電分域構造120の円形状の輪郭はすべて同じであること、すなわち、すべてが同じ直径を有するのが好ましい。また、各強誘電分域構造120は、強誘電フィルム10’の厚さ方向全体に拡がっている。
いわゆる三角格子状に緊密に配列する方式というものは、隣接する強誘電分域構造120の中心の距離がほとんど同じである理想的な状態であり、図1に示すように、点線を使って表示された三角形は、正三角形に似ている。前記三角格子状に緊密に配列された強誘電分域アレイ構造100の結晶格子定数(Crystal Lattice Constant)は、隣接する二つの強誘電分域構造120の中心の距離と同じで、約七つ単位セルの厚さであって、2.8ナノメートルだ。ここで、強誘電分域構造120の最大直径は、結晶格子定数の大きさに相当する。
前記強誘電分域アレイ構造100の結晶格子定数は、強誘電フィルム10’の厚さに係わり、強誘電フィルム10’の厚さは大きければ大きいほど、その内に形成された強誘電分域アレイ構造100の結晶格子定数は大きい。厚さの範囲が2〜100個の単位セルの強誘電フィルムに対しては、その内に形成された強誘電分域アレイ構造の結晶格子定数の大きさの分布範囲は一般的に1〜100nmで、対応する強誘電分域構造の直径の大きさの分布範囲は1〜100nmだ。前記強誘電分域構造の直径の大きさは均一ならば、最もよい。
図2は、本発明の実施形態の強誘電分域アレイ構造の製造方法を示す図である。前記強誘電分域アレイ構造100の製造方法は、以下のステップを備える。
(1)一定の厚さの強誘電フィルム10を提供する。前記強誘電フィルム10を形成する方法は、分子ビーム・エピタクシー(Molecule Beam Epitaxy)、移動強化エピタクシー(Migration Enhanced Epitaxy)、化学ビームエピタクシー(Chemical Beam Epitaxy)、有機金属化学蒸着法(Metal−Organic Chemical Vapor Deposition)、有機金属分子ビームエピタクシー(Metal−Organic Molecular Beam Epitaxy)などの方法からいずれか一つを選択して使用することができる。本実施形態は分子ビーム・エピタクシーを採用し、基板20の上表面22に、ジルコニウム酸チタン酸鉛(PbZrTiO)の強誘電フィルム10を形成し、前記強誘電フィルム10の大きさは43×43×4個単位セルだ。前記基板20は、基板20及びその上表面22に形成された強誘電フィルム10の結晶格子構造のミスマッチング率が2%より小さいような材料を選択する。前記強誘電フィルム10は、[001]結晶方向に沿って成長されており、 [100]及び[010] 結晶方向の原子が規則的に配列される。もちろん、前記強誘電フィルムの製造工程を適当に制御することを介して、前記強誘電フィルムを異なる結晶方向に沿って成長させることができる。
(2)前記強誘電フィルム10の表面12に垂直なように一定の電界を印加する。該電界は閾値電界より大きい又は等しい。厚さは、2〜100個単位セルの厚さに相当する強誘電フィルムに対して、閾値電界の分布範囲は、1×10〜5×10ボルト/メートル(V/M)だ。本実施形態において、前記電界を印加する場合、前記基板20の上表面22に形成された強誘電フィルム10を一対の平板電極30の間に置いて、電圧源40から平板電極30に電圧を印加することに介して、前記強誘電フィルム10に一定の電界を印加する。前記電界の方向は、ほとんど強誘電フィルム10の表面12に垂直に設置する。前記電圧は、閾値(最も小さい値)より大きい又は等しい場合に、強誘電分域アレイ構造を形成するための必要な電界を生成できる。前記強誘電フィルム10内は、前記外部電界の分極作用によって、強誘電分域アレイ構造100(図1に示すように)を形成し、従って、図1に示す強誘電フィルム10’を獲得することができる。前記強誘電フィルム10’は、複数の強誘電分域構造120を備え、それぞれの強誘電分域構造120は、皆ナノオーダー直径を持ち、強誘電フィルム10’内に三角格子状に緊密に配列される。前記強誘電分域構造120の分極の方向は一致する。強誘電分域構造120は、前記強誘電フィルム10’を貫通する。
前記電圧の閾値は、強誘電フィルム10の厚さに関する。前記強誘電フィルム10の厚さは大きければ大きいほど、必要とする電圧の閾値は大きい。2〜100個単位セルの厚さの強誘電フィルムに対して、必要とする電界の閾値分布範囲は、一般的に0.1〜10ボルト(V)であって、対応する電界の大きさの分布範囲は1×10〜5×10ボルト/米(V/M)である。本実施形態において、強誘電フィルム10の厚さは、四つの単位セルの厚さに相当し、必要とする電圧の閾値は約0.2Vである。強誘電フィルム10の表面12に垂直なようにな2×10V/Mの電界を印加することにより、強誘電分域アレイ構造100を獲得することができる。
前記強誘電分域アレイ構造100の強誘電分域構造120の直径は、印加する電界に関する。もし印加する電界が、一定の厚さの強誘電フィルム内に強誘電分域アレイ構造を形成するための必要な電界より大きければ、印加する電界が大きければ大きいほど、強誘電分域構造120の直径は小さい。しかし、強誘電分域アレイ構造100の結晶格子定数はほとんど変えない。
理解することができるのは、ただ強誘電フィルムに、一定の大きさを持つ局部電界を印加することにより、強誘電フィルムの局部に強誘電分域アレイ構造を形成することができる。
本実施形態において、適当な強誘電フィルムの厚さ及び該強誘電フィルムに印加する電界の大きさを選択することにより、最後に獲得する強誘電分域アレイ構造の結晶格子定数及び強誘電分域構造の直径を便利に制御することができ、その製作工程は簡単だ。
また、本実施形態の強誘電分域アレイ構造の製造方法を採用して獲得した強誘電分域アレイ構造は、ナノ構造組立及び光子結晶などの分野に応用され、及びナノメモリデバイスを作り上げるテンプレートとすることができる。
本発明の実施形態の強誘電分域アレイ構造の構成を示す平面図である。 本発明の実施形態の強誘電分域アレイ構造の製造方法を示す図である。
符号の説明
10、10’ 強誘電フィルム
100 強誘電分域アレイ構造
120 強誘電分域構造
12 強誘電フィルムの表面
20 基板
22 基板の上表面
30 平板電極
40 電圧源

Claims (7)

  1. 1ナノメートル以上100ナノメートル以下の直径の円形状の輪郭を有し、前記直径が相等しい複数の強誘電分域構造が、隣接する二つの強誘電分域構造の中心の距離を等しくし、かつ、前記中心の距離を1ナノメートル以上100ナノメートル以下として、強誘電フィルム内に三角格子状に緊密に配列された強誘電分域アレイ構造であって、
    前記強誘電分域アレイ構造の結晶格子定数が、前記中心の距離と同じであることを特徴とする強誘電分域アレイ構造。
  2. 前記複数の強誘電分域構造の分極方向は一致であることを特徴とする請求項1に記載の強誘電分域アレイ構造。
  3. 一つの表面を備え、且つ一定の厚さを有する強誘電フィルムを提供するステップと、
    前記強誘電フィルムに、前記表面に垂直なように、1×10 〜5×10 ボルト/メートルの範囲の一定の電界を印加することにより、前記強誘電フィルム内に、請求項1に記載の強誘電分域アレイ構造を形成するステップと、を備えたことを特徴とする強誘電分域アレイ構造の製造方法。
  4. 前記強誘電フィルムの形成方法は、分子ビーム・エピタクシー、移動強化エピタクシー、化学ビームエピタクシー、有機金属化学蒸着法、又は有機金属分子ビームエピタクシーを含むことを特徴とする請求項に記載の強誘電分域アレイ構造の製造方法。
  5. 前記電界は、一対の平板電極の間に一定の電圧を印加することにより形成することを特徴とする請求項に記載の強誘電分域アレイ構造の製造方法。
  6. 前記電圧の最も小さい値の分布範囲は、0.1〜10ボルトであることを特徴とする請求項に記載の強誘電分域アレイ構造の製造方法。
  7. 請求項1又は2に記載の強誘電分域アレイ構造を備えることを特徴とする強誘電フィルム。
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Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB0809840D0 (en) * 2008-05-30 2008-07-09 Univ Catholique Louvain Ferroelectric organic memories with ultra-low voltage operation
CN101913868B (zh) * 2010-08-06 2012-09-26 桂林电子科技大学 铌酸钾钠织构陶瓷与铌酸钾钠单晶的制备方法
CN102030308B (zh) * 2010-10-27 2012-08-01 复旦大学 基于铁电薄膜电畴的极化组装微小颗粒有序阵列的方法
CN102173797A (zh) * 2011-01-28 2011-09-07 上海海事大学 一种合成纳米钽铌酸钾钠粉体的方法
WO2018094397A1 (en) * 2016-11-21 2018-05-24 The Government Of The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Two-dimensional materials integrated with multiferroic layers
CN108560060B (zh) * 2018-04-18 2020-11-27 重庆科技学院 基于pfm的铌酸锂纳米畴加工及成像方法
CN108987560B (zh) * 2018-07-25 2022-02-01 湘潭大学 一种基于结晶学工程的具有多级多畴纳米结构的钙钛矿铁电薄膜及其制备方法
CN111547676B (zh) * 2020-04-10 2023-06-02 华南师范大学 一种新型铁电涡旋态纳米岛阵列的制备方法
CN113943978B (zh) * 2021-10-13 2022-06-14 南开大学 铌酸锂晶体畴结构的制备方法、光电器件
CN114262939B (zh) * 2021-11-12 2022-12-23 济南量子技术研究院 一种周期极化钽铌酸钾晶体及其制备方法
CN115850779B (zh) * 2022-12-02 2024-04-02 浙江大学 一种具有微纳阵列结构的聚偏氟乙烯基铁电薄膜的制备方法及其产品和应用
CN116314449B (zh) * 2023-02-27 2025-06-13 复旦大学 一种基于平板电容器模型的柔性铁电纳米薄膜极化方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3970959A (en) * 1973-04-30 1976-07-20 The Regents Of The University Of California Two dimensional distributed feedback devices and lasers
US5800767A (en) * 1994-09-16 1998-09-01 The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University Electric field domain patterning
CN1172367A (zh) * 1996-07-31 1998-02-04 南京大学 准周期微米超晶格的制备方法及其在激光变频方面的应用
CN1065571C (zh) * 1996-12-13 2001-05-09 南京大学 一种用电场诱导铌酸锂铁电薄膜取向生长的方法及装置
AU2002353619A1 (en) * 2002-11-16 2004-06-15 Key Sung Metal Co., Ltd. Piezoelectric ceramics crystal-oriented under electric field and method of manufacturing the same
TWI297802B (en) * 2003-03-27 2008-06-11 Univ Nat Taiwan Method of fabricating two-dimensional ferroelectric nonlinear crystals with periodically inverted domains
US7741633B2 (en) * 2005-12-31 2010-06-22 Sungkyunkwan University Foundation For Corporate Collaboration Ferroelectric oxide artificial lattice, method for fabricating the same and ferroelectric storage medium for ultrahigh density data storage device

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