JP4807592B2 - 電子顕微鏡及び複合照射レンズ - Google Patents

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Description

本発明は、試料の回折図形のホログラムから顕微鏡像を再構築する電子顕微鏡及びこのような電子顕微鏡に用いる複合照射レンズに関する。
図1は、従来の電子顕微鏡における顕微鏡像の結像光路の概略を示す図である。
電子源101から供給された電子ビームは収束レンズ102によって試料103に照射される。試料103に照射された電子ビームは、対物レンズ104によって第1の顕微鏡像111を結像し、さらに中間レンズ105によって第2の顕微鏡像112を結像し、最終的に投影レンズ106によって第3の顕微鏡像113を結像する。このような従来の電子顕微鏡においては、一般に結像レンズと称される対物レンズ104、中間レンズ105及び投影レンズ106による比較的大きな結像収差が発生する。
図2は、従来の電子顕微鏡における電子レンズによる結像及び対応する数学的処理を示す模式図である。
図示しない電子源及び収束レンズによって試料121に照射された電子ビームは、電子レンズ122によって後焦点面において回折図形123を形成した後、像面において顕微鏡像124を結像する。ここで、試料121は図1の試料103に、電子レンズ122は図1の対物レンズ104に、顕微鏡像124は図1の第3の顕微鏡像113にそれぞれ対応している。
このような光学系には、図2の上部に流れを示した一連の数学的処理が対応している。すなわち、試料121下面での位相変化にフーリエ変換を施すことによって試料121の位相変化スペクトルが得られ、この位相変化スペクトルに対して電子レンズ122のコントラスト伝達関数を演算することによって、後焦点面における回折図形123に対応する像コントラストスペクトルが得られる。さらに、この像コントラストスペクトル123にフーリエ変換を施すことによって、顕微鏡像124に対応する像コントラストが得られる。
ここで、回折図形123を検出器で観測する際に強度分布は検出できるが位相は検出できないため、検出した回折図形では位相情報が失われている。このため、顕微鏡像を再構築するために必要な強度分布と位相情報の双方を得ることができず、検出器で観測した回折像に基づいてはフーリエ変換を用いて顕微鏡像を得ることはできないという問題があった。
このような問題に対して、回折図形のホログラムから位相情報を検出する方法が提案されている。ホログラムを生成するためには、試料を透過した回折波と、試料を透過しない球面波としての参照波を干渉させることが必要になる。このような回折波及び参照波を作るため、例えば特開平9−80199号公報に示すような電子線バイプリズムが提供されている。このようなバイプリズムは、試料の回折図形に平行平面波の参照波を重畳する従来のホログラフィ顕微鏡において用いられ、試料及び対物レンズの後段に設置されている。
一方、電子線リソグラフィー装置においては、スループット改善のため、マルチビーム、マルチコラムの描画装置の研究が進んでいる。ここで、マルチコラムとは、せいぜい数ミリ間隔の電子ビームコラムのことである。このような電子ビームコラムの一つとして、磁性体に複数の開口を互いに平行に設けたいわゆるレンコン型レンズが提案され、実験的にも動作が確認されている(例えば安田洋ほか、MCC−PoC(proof of concept)system評価、荷電粒子ビーム工業への応用第132委員会、第161回研究会資料、日本学術振興会、p.125−128、2003を参照。または、T.Haraguchi,T.Sakazaki,T.Satoh,M.Nakano,S.Hamaguchi,T.Kiuchi,H.Yabara,H.Yasuda J.Vac.Sci.Technol.B22,2004 Multicolumn Cell Evaluation of the proof of concept systemを参照。)。
ところで、前述したようなホログラムから位相情報を検出し、この位相情報及び強度分布に基づいて結像レンズを用いず、レンズによる結像収差の存在しない顕微鏡像が得られるような電子顕微鏡を具体的に構成して実現することが要請されている。
このような電子顕微鏡では、互いにコヒーレントな回折光と参照光を生成するため、入射電子ビームを分割するバイプリズムは試料の前段に設置する必要がある。バイプリズムと試料間に配置される複合照射レンズ(combined illumination lens)は、分割した電子ビームの一方を回折光のための平行波、他方を参照光のための球面波とするものでなければならない。
ここで、バイプリズムで分割された電子ビームは、コヒーレンシイを損なわないため高々数mmの距離となっている。このため、このような短い距離で平行波と球面波の生成という別々の作用をするような複合照射レンズを作成することはできなかった。
本願発明は、かかる課題に鑑みて提案されるものであって、回折図形のホログラムを用いることにより結像レンズによる結像収差の全くない顕微鏡像を再構築するような電子顕微鏡及びこのような電子顕微鏡に用いる複合照射レンズを提供することを目的とする。
上述の課題を解決するため、本発明に係る電子顕微鏡は、電子ビームを発生する電子源と、前記電子源から供給された電子ビームを所定距離で収束させるコンデンサレンズと、前記コンデンサレンズから供給された電子ビームを第1及び第2電子ビームに分割する電子ビーム分割手段と、前記第1及び第2電子ビームに対して別々にレンズ作用を与える複合照射レンズ(combined illumination lens)と、前記複合照射レンズでレンズ作用を受けた第1電子ビームに照射されるように試料を保持する試料保持手段と、前記試料に照射された前記第1電子ビームと前記試料に照射されなかった前記第2電子ビームが干渉して形成されたフーリエ変換電子線ホログラムを検出する検出手段と、前記検出手段から供給された前記電子線ホログラムに所定の演算処理を施す算処理手段と、前記演算処理手段から供給された前記試料の情報を表示する表示手段と、を有する。
前記電子源はコヒーレントな電子ビームを発生し、前記電子ビーム分割手段は、前記コンデンサレンズから供給された電子ビームをコヒーレントなまま第1及び第2電子ビームに分割し、前記複合照射レンズは、前記第1電子ビームを平行波とすると共に、前記第2電子ビームを、光軸に直交する試料面上の試料近傍の点で収束する収束波として、これらを干渉させることにより、フーリエ変換電子線ホログラムを形成し、前記演算処理手段は、前記検出手段から供給された前記電子線ホログラムに所定の演算処理を施すことで、前記試料の顕微鏡像を再構築する。
前記複合照射レンズ及び前記試料保持手段の後段であって前記検出器の前段に、前記検出手段において検出される前記ホログラムを拡大する投影レンズを備える。
前記演算処理手段は、前記ホログラムにフーリエ変換を施すことで前記試料の顕微鏡像を再構築する。
前記複合照射レンズは、前記第1電子ビームに沿って設けられた前記第1電子ビームを透過させる少なくとも1つの第1開口であって、透過した前記第1電子ビームを平行波とする第1開口と、前記第2電子ビームに沿って設けられた前記第2電子ビームを透過させる少なくとも1つの第2開口であって、透過した前記第2電子ビームを収束波とする第2開口と、を有する。
前記複合照射レンズは、前記第1電子ビームを透過させる少なくとも1つの第1開口及び前記第2電子ビームを透過させる少なくとも1つの第2開口を有する第1磁性部材と、前記第1磁性部材の後段にあって前記第1開口を透過した前記第1電子ビームを透過させる開口を有する第2磁性部材と、前記第1磁性部材の後段にあって前記第2開口を透過した前記第2電子ビームを透過させる開口を有する少なくとも1つの第3磁性部材と、前記第2及び第3部材の後段にあって前記第1電子ビームを透過させる少なくとも1つの第1開口及び前記第2電子ビームを透過させる少なくとも1つの第2開口を有する第4磁性部材と、を有する。
前記第2磁性部材は前記第1電子ビームに沿って前記試料の周囲に当該試料の上流から下流にわたって設けられ、前記第3磁性部材は前記第2電子ビームに沿って前記試料の下流に設けられている。
前記第1磁性部材と前記第2磁性部材は、これらの部材の間に前記第1電子ビームに沿って間隙が存在するように配置されている。
前記第1磁性部材と前記第2磁性部材の前記第1電子ビームに沿った距離S1、前記第2磁性部材と前記第4磁性部材の前記第1電子ビームに沿った距離S2、及び前記第1磁性部材と前記第3磁性部材の前記第2電子ビームに沿った距離S3が、関係式S1+S2=S3を満たす。
前記第1及び第4磁性部材の前記第2開口は複数個あって、各前記第2開口を透過する前記第2電子ビームに沿ってそれぞれ前記第3磁性部材が設けられ、前記第1磁性部材と各前記第3磁性部材の各第2電子ビームに沿った距離がS3であることが好ましい。
前記第2磁性部材の前記第1電子ビームに沿った開口の径は、下流側が小さい。
前記第1電子ビームを透過させる第1開口を有する第1磁性部材と、前記第2電子ビームを透過させる第2開口を有する第2磁性部材と、を有し、前記第1及び第2磁性部材は同一の構成を有し、これら第1及び第2磁性部材を前記第1及び第2電子ビームに沿って所定距離にわたって位置を移動させて配置してなる。
前記複合照射レンズにおいて、前記第1及び第2電子ビーム間にこれらの電子ビームが交わるのを防止する仕切り部材を備える。
前記複合照射レンズの前段及び後段に当該複合照射レンズで生じる非点収差を補正する非点収差補正手段を備える。
本発明に係る複合照射レンズは、所定距離を有する互いに平行な第1及び第2電子ビームが入射される複合照射レンズであって、前記第1電子ビームを透過させる少なくとも1つの第1開口及び前記第2電子ビームを透過させる少なくとも1つの第2開口を有する第1磁性部材と、前記第1磁性部材の後段にあって前記第1開口を透過した前記第1電子ビームを透過させる開口を有する第2磁性部材と、前記第1磁性部材の後段にあって前記第2開口を透過した前記第2電子ビームを透過させる開口を有する少なくとも1つの第3磁性部材と、前記第2及び第3部材の後段にあって前記第1電子ビームを透過させる少なくとも1つの第1開口及び前記第2電子ビームを透過させる少なくとも1つの第2開口を有する第4磁性部材と、を有し、前記第1電子ビームを平行波とするとともに前記第2電子ビームを収束波とする。
また、本発明に係る複合照射レンズは、所定距離を有する互いに平行な第1及び第2電子ビームが入射される複合照射レンズであって、前記第1電子ビームを透過させる第1開口を有する第1磁性部材と、前記第2電子ビームを透過させる第2開口を有する第2磁性部材と、を有し、前記第1及び第2磁性部材は同一の構成を有し、これら第1及び第2磁性部材を前記第1及び第2電子ビームに沿って所定にわたって距離位置を移動させて配置してなり、前記第1電子ビームを平行波とするとともに前記第2電子ビームを収束波とする。
前記第1及び第2電子ビーム間にこれらの電子ビームが交わるのを防止する仕切り部材を備える。
前記複合照射レンズの前段及び後段に当該複合照射レンズで生じる非点収差を補正する非点収差補正手段を備える。
本発明によると、回折図形のホログラムを用いるが、結像レンズを用いないため結像レンズによる結像収差の存在しない顕微鏡像を再構築するような電子顕微鏡及びこのような電子顕微鏡に用いる複合照射レンズを提供することができる。
図1は、従来の電子顕微鏡における顕微鏡像の結像光路の概略を示す図である。 図2は、従来の電子顕微鏡における電子レンズによる結像及び対応する数学的処理を示す模式図である。 図3は、本発明を適用した電子顕微鏡の概略的な構成を示す模式図である。 図4は、複合照射レンズの第1の具体例を示す図である。 図5は、複合照射レンズの第1の具体例の詳細を示す図である。 図6は、複合照射レンズの第2の具体例を示す図である。
以下、本発明に係る電子顕微鏡及び複合照射レンズを適用したフーリエ変換ホログラフィ電子顕微鏡の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。
図3は、このフーリエ変換ホログラフィ電子顕微鏡の概略的な構成を示す模式図である。
このフーリエ変換ホログラフィ電子顕微鏡は、試料を透過した回折光と試料を透過しない参照光とを作り出し、これらを試料より下流側で干渉させて回折図形のホログラムを検出し、このホログラムにフーリエ変換を施すことにより試料の顕微鏡像を再構築するものである。
図3に示すように、このフーリエ変換ホログラフィ電子顕微鏡10は、電子ビームL0を発生する電子源11と、電子源11から供給された電子ビームL0を集束するコンデンサレンズ12とを有している。
電子源11は、電子銃から所定の電子ビームL0を発生するものであり、電界放射型電子銃が望ましい。コンデンサレンズ12は、電子源11から供給された電子ビームL0をこの電子ビームL0に沿ってコンデンサレンズ12から所定距離に収束させるものであって、少なくとも1段のレンズから構成される。
また、このフーリエ変換ホログラフィ電子顕微鏡10は、コンデンサレンズ12から供給された電子ビームL0をコヒーレントなまま平行な第1及び第2の電子ビームL1,L2に分割する電子ビーム分割手段としてのバイプリズム13と、バイプリズム13から供給された第1及び第2電子ビームL1,L2が交わらないような隔壁(仕切り部材)としてのシールディングプレート14とを有している。
バイプリズム13は、コンデンサレンズ12から供給された電子ビームL0を互いに例えば数mm程度の離れた第1及び第2電子ビームL1,L2に分割する。
シールディングプレート14は、バイプリズム13で分割された第1及び第2電子ビームL1,L2が交わらないように、バイプリズム13の後段であって後述する複合照射レンズ15の前段の第1及び第2電子ビームL1,L2間に設けられる。このシールディングプレート14には、第1及び第2電子ビームL1,L2を効率的に遮断するように高透磁率の磁性材料が用いられる。
さらに、フーリエ変換ホログラフィ電子顕微鏡10は、シールディングプレート14の後段にあって第1電子ビームL1を平行波とするとともに第2電子ビームL2を所定距離で収束する収束波とする複合照射レンズ15と、複合照射レンズ15によって平行波とされた第1電子ビームL1上において試料を支持する試料保持手段としての試料ステージ16とを有している。
複合照射レンズ15は、バイプリズム13から供給された第1電子ビームL1を透過させる第1開口15aを有し、この第1開口15aを透過する第1電子ビームL1を平行波とする。平行波とされた第1電子ビームL1は、この第1電子ビームL1上にあるように試料ステージ16によって保持された試料に照射される。
また、複合照射レンズ15は、バイプリズム13から供給された第2電子ビームL2を透過させる第2開口15bを有し、この第2開口15bを透過する第2電子ビームL2をこの第2電子ビームL2に沿って、第1電子ビームL1上における試料の高さ位置とほぼ同じ高さになる位置において数nm程度の径に収束するような収束波とする。
複合照射レンズ15における第1及び第2開口15a,15bは、例えば数mm程度の間隔を有する第1及び第2電子ビームL1,L2に対応して、例えば数mm程度の間隔を有するように設けられる。このような複合照射レンズ15の具体的な構成については、さらに後述する。
なお、検出器17の上流側に拡大レンズを挿入することによりホログラムを拡大して検出することができる。これにより、実効的なカメラ長を増加することができるため検出記録するホログラムの解像度を改善することができる。
そして、フーリエ変換ホログラフィ電子顕微鏡10は、試料に照射された第1電子ビームL1と第2電子ビームL2の干渉して形成される干渉図形の強度分布である回折図形のホログラムを検出する検出手段としての検出器17と、検出器17で検出されたホログラムにフーリエ変換を施して試料の顕微鏡像を再構成する演算処理手段としての演算処理部18と、演算処理部18から供給された試料の顕微鏡像を表示する表示手段としてのディスプレイ19とを有している。
検出器17は、第1及び第2電子ビームL1,L2に略直交する検出面を有し、この検出面における回折図形のホログラムの空間分布を検出する。この検出器17には例えばCCDを用いることができ、この検出器17で検出するホログラムを拡大するために検出器の前段にさらに投影レンズを設けることもできる。
演算処理部18は、検出器17で検出されたホログラムが重畳された回折図形にフーリエ変換を施し、逆空間から実空間の顕微鏡像に変換する。この回折図形は、回折点の空間分布という強度情報に加え、ホログラムによる位相情報を有するものであるから、強度情報と位相情報の両方を有するものである。したがって、演算処理部18は、これらの情報を用いて試料の顕微鏡像を再構築することができる。この演算処理部18には、例えばパーソナルコンピュータを用いることができる。
ディスプレイ19は、演算処理部18から得られた顕微鏡像を表示するものであり、例えばCRTディスプレイやLCDディスプレイを用いることができる。
図4は、複合照射レンズの第1の具体例を示す図である。
この第1の具体例の複合照射レンズ20は、図3に示した複合照射レンズ15にいわゆるレンコン型レンズを適用したものである。
この複合照射レンズ20は、図4(a)の断面図に示すように、例えば数mm程度の間隔Dだけ離れた第1及び第2電子ビームL1,L2に沿って配置され、これらの電子ビームL1,L2を透過するための少なくとも2つの開口を有する第1磁性部材21と、同じく第1及び第2電子ビームL1,L2に沿って第1磁性部材21に対向してその下流に配置され、これらの電子ビームL1,L2を透過するための少なくとも2つの開口を有する第2磁性部材22とを有している。
これら第1及び第2磁性部材21,22は、これらの部材に磁束を供給する第1及び第2ポールピース23,24の先端にそれぞれ取り付けられている。第1及び第2ボールピース23,24は、ヨーク25によって磁気回路を構成するように接続され、ヨーク25の内側にはコイル26が設けられている。
図4(b)は、複合照射レンズ20の第1及び第2磁性部材21,22の要部断面図である。第1磁性部材21に設けられた開口21aと、第2磁性部材22に設けられた開口22aとは、それぞれが第1又は第2電子ビームL1,L2を透過させる。これらの開口21a,22aは、それぞれが同一のレンズ作用を有する独立したレンズとして動作する複数の開口、すなわちマルチコラムを構成している。なお、本実施の形態では、後述するようにこれらのマルチコラムに磁性部材を適宜組み合わせることによって、これらの開口21a,22aにおけるレンズ作用が第1又は第2電子ビームL1,L2を透過する部位によって異なるようにしている。
図4(c)は、第1磁性部材21を第1及び第2電子ビームL1,L2の上流側から見た上面図である。第1磁性部材21には、所定径の開口21aが、ほぼ一定間隔を有して配置されている。図に示す開口21aの配置は、第1及び第2電子ビームL1,L2について4回回転対称である。このように開口21aを対称的に配置することによって、第1及び第2磁性部材21,22における磁場の分布を一様に近づけることができる。図中の領域A1,A2は、第1及び第2電子ビームL1,L2がそれぞれ入射する範囲の概略を示す。
このようないわゆるレンコン型レンズにおいては、マルチコラムの各開口21a,22aがレンズの中心軸上になくても、それぞれがその開口の中心軸について電子レンズとして作用するということが実験的に知られている。レンコン型レンズとは、このような複数の開口による各レンズがヨーク及びコイルを共有して一つの励磁電流で動作するものをさしている。
なお、この図4においては、第1及び第2磁性部材21,22に複数の開口21a,22aを示したが、これらは開口の所在を原理的に示すものであって必ずしも記載した通りであることを必要としない。本実施の形態では、第1及び第2磁性部材21,22においてそれぞれ2以上の開口21a,22aが存在すれば足りる。
図5は、複合照射レンズの第1の具体例の詳細を示す要部断面図である。この図5は、図4(b)の要部断面図における第1及び第2磁性部材21,22の周辺の構造をより詳細に示すものである。
複合照射レンズ30は、図4に示した複合照射レンズ20に相当するもので、第1及び第2電子ビームL1,L2をそれぞれ透過する第1及び第2開口31a,31bを有する第1磁性部材31と、第1磁性部材31の後段であって第1磁性部材31と距離S1の第1ギャップG1を介して対向する第1電子ビームL1上に設けられた第1電子ビームL1を透過する開口32aを有する第2磁性部材32とは、図4に示した第1磁性部材21に相当する。
ここで、第2磁性部材内の30においては、図示しない試料ステージによって第1電子ビームL1上に試料30が保持されている。第2磁性部材32は、第1電子ビームL1上にある試料30をその上流から下流にわたり取り囲むことにより、この試料30を磁気的に遮蔽するという機能も有している。
また、第1磁性部材31の後段であって第1磁性部材31と距離S3の第3ギャップG3を介して対向する第2電子ビームL2上に設けられた第2電子ビームL2を透過する開口33aを有する第3磁性部材33と、第2及び第3磁性材32,33の後段に設けられ、第2磁性部材32と距離S2の第2ギャップG2を介して対向するとともに第3磁性部材33とはギャップなしで接する、第1及び第2電子ビームL1,L2をそれぞれ透過する第1及び第2開口34a,34bを有する第4磁性部材34とは、図4に示した第2磁性部材22に相当する。
この複合照射レンズ30においては、第2部材32の上流に小さな第1ギャップG1、下流側に大きな第2ギャップG2を設けることにより、この第2部材32に入射する第1電子ビームL1にこの第2ギャップG2において弱い磁場を作用させる。この第1電子ビームL1は、図3に示したコンデンサレンズ12によって発散波となって入射するので、この弱い磁場によって平行波とする。
また、第3部材33の上流に第3ギャップG3を設けることにより、この第3部材33に入射する第2電子ビームL2にこの第3ギャップG3において強い磁場を作用させ、第2電子ビームL2が試料30の高さ位置とほぼ同じ高さ位置に収束するようにする。
この複合照射レンズ30は、試料30の上流側に配置されているため試料30に対する対物レンズとしての結像磁場は生成せず、回折図形のホログラムは無限遠に形成されるようにしている。したがって、本来は第2部材32と第4部材34間に第2ギャップG2を設ければ足りる筈である。しかしながら、第1及び第4部材31,34においては、第1及び第2電子ビームL1,L2に沿った各レンズについて与えられる磁場が相互に関連しているので、第3ギャップG3における磁場の強さを小さくするとともに各レンズに均等な磁場が供給されるように第1及び第2磁性部材31,32間に第1ギャップG1を設けている。ここで、第1乃至第3ギャップG1,G2,G3の各距離S1,S2,S3間において関係式S1+S2=S3が満たされることが各レンズに供給される磁場が均等になるために有効である。
なお、この図5において、試料30による回折光を発生するため、第1磁性部材31における第1開口31a、第2磁性部材32における開口32a、及び第4磁性部材34の第1開口34aは、第1電子ビームL1に沿ってそれぞれ1つのみ設けられる。これは、単一の第2磁性部材32内に保持された試料30に照射した第1電子ビームL1を回折光として得る必要があるからである。
一方、参照光を発生するために、第1磁性部材31における第2開口31b、第3磁性部材33における33a、及び第4磁性部材34の第2開口34bは、第2電子ビームL2に沿って、この第2電子ビームL2の入射する範囲(図4(c)の範囲A2参照)にわたって複数設けることができる。これらの複数の開口31b,33a,34b及び磁性部材33は、協働して実効的に単一のレンズとして作用し、第2電子ビームL2を収束波として数nm程度まで収束させる。
図6は、複合照射レンズの第2の具体例を示す図である。図6(a)はこの複合照射レンズの断面図であり、図6(b)はこの複合照射レンズの上面図である。
この複合照射レンズ40は、図3に示した複合照射レンズ15に相当するもので、第1電子ビームL1を透過させる開口41aを有する第1磁性部材42と、第1電子ビームL1に沿って第1磁性部材42の後段にあって第1磁性部材42と第1ギャップG1を挟んで対向する第1電子ビームL1を透過させる第1開口41aを有する第2磁性部材43とを有している。これら第1及び第2磁性部材42,43は、この複合照射レンズ40の第1及び第2電子ビームL1,L2に沿って片側となる第1側部41を構成している。
また、この複合照射レンズ40は、第2電子ビームL2を透過させる第2開口45aを有する第3磁性部材46と、第2電子ビームL2に沿って第3磁性部材46の後段にあって第3磁性部材46と第2ギャップG2を挟んで対向する第2電子ビームL2を透過させる第2開口45aを有する第4磁性部材47とを有している。これら第3及び第4磁性部材46,47は、この複合照射レンズ40の第1及び第2電子ビームL1,L2に沿って片側となる第2側部45を構成している。第2ギャップG2の間隔は、第1ギャップG1の間隔に等しい。
さらに、この複合照射レンズ40は、前記第1側部41の第1開口41a及び第2側部45の第2開口45aの間にあって第1及び第2電子ビームL1,L2が交わらないように隔壁となるシールディングプレート50と、第1側部41の第1及び第2磁性部材42,43の第1ギャップG1間にあって第1開口41aを透過する第1電子ビームL1上に試料48を支持する試料ステージ49とを有している。
この複合照射レンズ40は、同一の構造及びギャップを有する第1及び第2側部41,45を図中の矢印Aに示すように、第1及び第2電子ビームL1,L2に沿って第1側部41を第2側部45に対して下流側に所定距離にわたって位置を移動させることによって構成したものである。
このような構成を有する複合照射レンズ40は、第1側部41の第1ギャップG1が第2側部45の第2ギャップG2より下流側にあるので、第1及び第2側部41,45は各ギャップG1,G2における磁場によって左右異なった作用をさせることができる。すなわち、第1側部41は第1ギャップG1による弱い磁場により第1電子ビームL1を平行波とし、第2側部45は第2ギャップG2による強い磁場により第2電子ビームL2を収束波とする。シールディングプレート50は、これら第1及び第2側部41,45の磁場が混じらないように隔壁となっている。
なお、この複合照射レンズ40は、第1及び第2電子ビームL1,L2に対して2回回転対象であるので、軸対称性の破れによる非点収差が発生する。このような非点収差は、この複合照射レンズ40の前段及び後段に4極子レンズを配置することにより低減することができる。

Claims (23)

  1. 電子ビームを発生する電子源と、
    前記電子源から供給された電子ビームを所定距離で収束させるコンデンサレンズと、
    前記コンデンサレンズから供給された電子ビームを第1及び第2電子ビームに分割する電子ビーム分割手段と、
    前記第1及び第2電子ビームに対して別々にレンズ作用を与える複合照射レンズと、
    前記複合照射レンズでレンズ作用を受けた第1電子ビームに照射されるように試料を保持する試料保持手段と、
    前記試料に照射された前記第1電子ビームと前記試料に照射されなかった前記第2電子ビームが干渉して形成されたフーリエ変換電子線ホログラムを検出する検出手段と、
    前記検出手段から供給された前記電子線ホログラムに所定の演算処理を施す演算処理手段と、
    前記演算処理手段から供給された前記試料の情報を表示する表示手段と、
    を有することを特徴とする電子顕微鏡。
  2. 前記電子源はコヒーレントな電子ビームを発生し、
    前記電子ビーム分割手段は、前記コンデンサレンズから供給された電子ビームをコヒーレントなまま第1及び第2電子ビームに分割し、
    前記複合照射レンズは、前記第1電子ビームを平行波とすると共に、前記第2電子ビームを、光軸に直交する試料面上の試料近傍の点で収束する収束波として、これらを干渉させることにより、フーリエ変換電子線ホログラムを形成し、
    前記演算処理手段は、前記検出手段から供給された前記電子線ホログラムに所定の演算処理を施すことで、前記試料の顕微鏡像を再構築することを特徴とする請求項1記載の電子顕微鏡。
  3. 前記複合照射レンズ及び前記試料保持手段の後段であって前記検出器の前段に、前記検出手段において検出される前記ホログラムを拡大する投影レンズを備えることを特徴とする請求項1記載の電子顕微鏡。
  4. 前記演算処理手段は、前記ホログラムにフーリエ変換を施すことで前記試料の顕微鏡像を再構築することを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の電子顕微鏡。
  5. 前記複合照射レンズは、
    前記第1電子ビームに沿って設けられた前記第1電子ビームを透過させる少なくとも1つの第1開口であって、透過した前記第1電子ビームを平行波とする第1開口と、
    前記第2電子ビームに沿って設けられた前記第2電子ビームを透過させる少なくとも1つの第2開口であって、透過した前記第2電子ビームを収束波とする第2開口と、
    を有する請求項1乃至3のいずれかに記載の電子顕微鏡。
  6. 前記複合照射レンズは、
    前記第1電子ビームを透過させる少なくとも1つの第1開口及び前記第2電子ビームを透過させる少なくとも1つの第2開口を有する第1磁性部材と、
    前記第1磁性部材の後段にあって前記第1開口を透過した前記第1電子ビームを透過させる開口を有する第2磁性部材と、
    前記第1磁性部材の後段にあって前記第2開口を透過した前記第2電子ビームを透過させる開口を有する少なくとも1つの第3磁性部材と、
    前記第2及び第3部材の後段にあって前記第1電子ビームを透過させる少なくとも1つの第1開口及び前記第2電子ビームを透過させる少なくとも1つの第2開口を有する第4磁性部材と、
    を有する請求項5記載の電子顕微鏡。
  7. 前記第2磁性部材は前記第1電子ビームに沿って前記試料の周囲に当該試料の上流から下流にわたって設けられ、前記第3磁性部材は前記第2電子ビームに沿って前記試料の下流に設けられていることを特徴とする請求項6記載の電子顕微鏡。
  8. 前記第1磁性部材と前記第2磁性部材は、これらの部材の間に前記第1電子ビームに沿って間隙が存在するように配置されていることを特徴とする請求項7記載の電子顕微鏡。
  9. 前記第1磁性部材と前記第2磁性部材の前記第1電子ビームに沿った距離S1、前記第2磁性部材と前記第4磁性部材の前記第1電子ビームに沿った距離S2、及び前記第1磁性部材と前記第3磁性部材の前記第2電子ビームに沿った距離S3が、関係式S1+S2=S3を満たすことを特徴とする請求項7又は8記載の電子顕微鏡。
  10. 前記第1及び第4磁性部材の前記第2開口は複数個あって、各前記第2開口を透過する前記第2電子ビームに沿ってそれぞれ前記第3磁性部材が設けられ、前記第1磁性部材と各前記第3磁性部材の各第2電子ビームに沿った距離がS3であることを特徴とする請求項9記載の電子顕微鏡。
  11. 前記第2磁性部材の前記第1電子ビームに沿った開口の径は、下流側が小さいことを特徴とする請求項7記載の電子顕微鏡。
  12. 前記第1電子ビームを透過させる第1開口を有する第1磁性部材と、
    前記第2電子ビームを透過させる第2開口を有する第2磁性部材と、
    を有し、前記第1及び第2磁性部材は同一の構成を有し、これら第1及び第2磁性部材を前記第1及び第2電子ビームに沿って所定にわたって距離位置を移動させて配置してなることを特徴とする請求項5記載の電子顕微鏡。
  13. 前記複合照射レンズにおいて、前記第1及び第2電子ビーム間にこれらの電子ビームが交わるのを防止する仕切り部材を備えることを特徴とする請求項12記載の電子顕微鏡。
  14. 前記複合照射レンズの前段及び後段に当該複合照射レンズで生じる非点収差を補正する非点収差補正手段を備えることを特徴とする請求項12又は13記載の電子顕微鏡。
  15. 所定距離を有する互いに平行な第1及び第2電子ビームが入射される複合照射レンズであって、
    前記第1電子ビームを透過させる少なくとも1つの第1開口及び前記第2電子ビームを透過させる少なくとも1つの第2開口を有する第1磁性部材と、
    前記第1磁性部材の後段にあって前記第1開口を透過した前記第1電子ビームを透過させる開口を有する第2磁性部材と、
    前記第1磁性部材の後段にあって前記第2開口を透過した前記第2電子ビームを透過させる開口を有する少なくとも1つの第3磁性部材と、
    前記第2及び第3部材の後段にあって前記第1電子ビームを透過させる少なくとも1つの第1開口及び前記第2電子ビームを透過させる少なくとも1つの第2開口を有する第4磁性部材と、
    を有し、前記第1電子ビームを平行波とするとともに前記第2電子ビームを収束波とすることを特徴とする複合照射レンズ。
  16. 前記第2磁性部材は前記第1電子ビームに沿って前記試料の周囲に当該試料の上流から下流にわたって設けられ、前記第3磁性部材は前記第2電子ビームに沿って前記試料の下流に設けられていることを特徴とする請求項15記載の複合照射レンズ。
  17. 前記第1磁性部材と前記第2磁性部材は、これらの部材の間に前記第1電子ビームに沿って間隙が存在するように配置されていることを特徴とする請求項16記載の複合照射レンズ。
  18. 前記第1磁性部材と前記第2磁性部材の前記第1電子ビームに沿った距離S1、前記第2磁性部材と前記第4磁性部材の前記第1電子ビームに沿った距離S2、及び前記第1磁性部材と前記第3磁性部材の前記第2電子ビームに沿った距離S3が、関係式S1+S2=S3を満たすことを特徴とする請求項15又は17記載の複合照射レンズ。
  19. 前記第1及び第4磁性部材の前記第2開口は複数個あって、各前記第2開口を透過する前記第2電子ビームに沿ってそれぞれ前記第3磁性部材が設けられ、前記第1磁性部材と各前記第3磁性部材の各第2電子ビームに沿った距離がS3であることを特徴とする請求項15記載の複合照射レンズ。
  20. 前記第2磁性部材の前記第1電子ビームに沿った開口の径は、下流側が小さいことを特徴とする請求項16記載の複合照射レンズ。
  21. 所定距離を有する互いに平行な第1及び第2電子ビームが入射される複合照射レンズであって、
    前記第1電子ビームを透過させる第1開口を有する第1磁性部材と、
    前記第2電子ビームを透過させる第2開口を有する第2磁性部材と、
    を有し、前記第1及び第2磁性部材は同一の構成を有し、これら第1及び第2磁性部材を前記第1及び第2電子ビームに沿って所定距離にわたって位置を移動させて配置してなり、前記第1電子ビームを平行波とするとともに前記第2電子ビームを収束波とすることを特徴とする複合照射レンズ。
  22. 前記第1及び第2電子ビーム間にこれらの電子ビームが交わるのを防止する仕切り部材を備えることを特徴とする請求項21記載の複合照射レンズ。
  23. 前記複合照射レンズの前段及び後段に当該複合照射レンズで生じる非点収差を補正する非点収差補正手段を備えることを特徴とする請求項22記載の複合照射レンズ。
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Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5420678B2 (ja) * 2009-12-11 2014-02-19 株式会社日立製作所 電子線バイプリズム装置および電子線装置
EP2365514B1 (en) * 2010-03-10 2015-08-26 ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH Twin beam charged particle column and method of operating thereof
CN109493284B (zh) * 2018-09-11 2020-06-02 华中科技大学 一种使用非精确模糊核的显微图像自适应重建方法
DE102019004124B4 (de) * 2019-06-13 2024-03-21 Carl Zeiss Multisem Gmbh Teilchenstrahl-System zur azimutalen Ablenkung von Einzel-Teilchenstrahlen sowie seine Verwendung und Verfahren zur Azimut-Korrektur bei einem Teilchenstrahl-System
US11460419B2 (en) 2020-03-30 2022-10-04 Fei Company Electron diffraction holography
US11456149B2 (en) * 2020-03-30 2022-09-27 Fei Company Methods and systems for acquiring 3D diffraction data
US20210305007A1 (en) * 2020-03-30 2021-09-30 Fei Company Dual beam bifocal charged particle microscope
US11404241B2 (en) 2020-03-30 2022-08-02 Fei Company Simultaneous TEM and STEM microscope
JP2025038781A (ja) * 2023-09-07 2025-03-19 株式会社ニューフレアテクノロジー 電磁レンズ及びマルチ電子ビーム照射装置

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54122970A (en) * 1978-03-16 1979-09-22 Jeol Ltd Objective lens for scanning electronic microscope or the like
JPS5894254U (ja) * 1981-12-18 1983-06-25 株式会社日立製作所 電子線ホログラフイ−用光学装置
JPS6465762A (en) * 1987-09-04 1989-03-13 Hitachi Ltd Electron beam holography device
JP2966474B2 (ja) * 1990-05-09 1999-10-25 株式会社日立製作所 電子線ホログラフィ装置
JP2002117800A (ja) * 2000-10-05 2002-04-19 Jeol Ltd 電子線バイプリズム装置を備えた電子顕微鏡
JP2004171922A (ja) * 2002-11-20 2004-06-17 Univ Nagoya 透過型電子顕微鏡及び立体観察法
JP2004296908A (ja) * 2003-03-27 2004-10-21 Canon Inc 露光装置

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3276816B2 (ja) 1995-09-12 2002-04-22 日本電子株式会社 電子線バイプリズム
JP4301724B2 (ja) * 2000-12-06 2009-07-22 株式会社アドバンテスト 電子ビーム露光装置及び電子レンズ

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54122970A (en) * 1978-03-16 1979-09-22 Jeol Ltd Objective lens for scanning electronic microscope or the like
JPS5894254U (ja) * 1981-12-18 1983-06-25 株式会社日立製作所 電子線ホログラフイ−用光学装置
JPS6465762A (en) * 1987-09-04 1989-03-13 Hitachi Ltd Electron beam holography device
JP2966474B2 (ja) * 1990-05-09 1999-10-25 株式会社日立製作所 電子線ホログラフィ装置
JP2002117800A (ja) * 2000-10-05 2002-04-19 Jeol Ltd 電子線バイプリズム装置を備えた電子顕微鏡
JP2004171922A (ja) * 2002-11-20 2004-06-17 Univ Nagoya 透過型電子顕微鏡及び立体観察法
JP2004296908A (ja) * 2003-03-27 2004-10-21 Canon Inc 露光装置

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