JP4823751B2

JP4823751B2 - 描画点データ取得方法および装置並びに描画方法および装置

Info

Publication number: JP4823751B2
Application number: JP2006117384A
Authority: JP
Inventors: 満武者野; 金城　　直人
Original assignee: Fujifilm Corp
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2005-04-21
Filing date: 2006-04-21
Publication date: 2011-11-24
Anticipated expiration: 2026-04-21
Also published as: JP2006323378A

Description

本発明は、描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点を順次形成して画像を描画する際に用いられる描画点データの取得方法および装置並びにその描画点データ取得方法および装置により取得された描画点データを用いて上記描画を行う描画方法および装置に関するものである。

従来、プリント配線板やフラットパネルディスプレイの基板に所定のパターンを記録する装置として、フォトリソグラフの技術を利用した露光装置が種々提案されている。

上記のような露光装置としては、たとえば、フォトレジストが塗布された基板上に光ビームを主走査および副走査方向に走査させるとともに、その光ビームを、配線パターンを表す画像データに基づいて変調することにより配線パターンを形成する露光装置が提案されている。

上記のような露光装置として、たとえば、デジタル・マイクロミラー・デバイス（以下、ＤＭＤという）等の空間光変調素子を利用し、画像データに応じて空間光変調素子により光ビームを変調して露光を行う露光装置が種々提案されている。

そして、上記のようなＤＭＤを用いた露光装置としては、たとえば、ＤＭＤを露光面に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じてＤＭＤの多数のマイクロミラーに対応した多数の描画点データを入力し、ＤＭＤのマイクロミラーに対応した描画点群を時系列に順次形成することにより所望の画像を露光面に形成する露光装置が提案されている（たとえば特許文献１参照）。

ここで、上記のような露光装置を用いて露光を行う際には、露光面に対するＤＭＤの各位置に対応した描画点データが、上記移動にともなって順次ＤＭＤに入力されるが、上記描画点データは、たとえば、ＣＡＤステーションやＣＡＭ（Computer Aided Manufacturing）ステーション等を有するデータ作成装置において作成されたベクトル形式の画像データをラスター形式の画像データに変換し、そのラスター形式の画像データから露光面に対するＤＭＤの各位置に応じた画素データを読み出すことによって取得される（たとえば特許文献２および特許文献３参照）。

特開２００４−２３３７１８号公報特開２００３−０５７８３４号公報特開２００３−０５０４６９号公報

しかしながら、上記のようにして描画点データを取得する際、たとえば、露光対象である基板に変形などが生じている場合には、その基板の変形に応じてラスター形式の画像データから読み出す画素位置が調整されて描画点データが取得されるが、ラスター形式の画像データの解像度はベクトル形式の画像データの解像度よりも低いため、線幅などの精度が低くなってしまう場合がある。また、配線パターンに斜めの線が存在する場合には、その斜めの線にジャギが発生してしまう場合などがあり、露光精度が劣化してしまう。

また、上記のような問題を回避するため、ラスター形式の画像データの解像度を上げることも考えられるが、ラスター形式の画像データの解像度を上げるとそのデータ量が膨大になってしまうため、画像データにおける読み出し画素位置の演算に時間がかかったり、画像データへのアクセス回数も増大したりして処理速度の低下を招くおそれがある。また画像データを記憶するメモリの容量を増やす必要が生じコストアップを招くおそれもある。

本発明は、上記事情に鑑み、上記のような描画点データを取得する方法において、上記のような処理速度の低下およびコストアップを招くことなく、描画精度の向上を図ることができる描画点データ取得方法および装置並びにその描画点データ取得方法および装置により取得された描画点データを用いて描画を行う描画方法および装置を提供することを目的とするものである。

本発明の第１の描画点データ取得方法は、描画点データに基づいて描画点を描画対象上に形成して描画対象上に画像を描画する際に用いられる描画点データを取得する描画点データ取得方法において、画像の元のベクトル形式の画像データを取得するとともに、描画対象上における描画点を形成すべき位置に対応する画像データ上の位置座標を取得し、ベクトル形式の画像データと上記位置座標とに基づいて描画点の描画点データを取得することを特徴とする。

また、上記本発明の第１の描画点データ取得方法においては、画像データに基づいて決定される画像領域と位置座標とを重ね合わせ、上記位置座標が属する画像領域の画像データに基づいて描画点データを取得するようにすることができる。

また、描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点を描画対象上に順次形成して描画対象上に画像を描画する際に用いられる描画点データを取得する描画点データ取得方法であって、位置座標を、描画対象上の所定位置における描画点形成領域に対応するものとすることができる。

また、画像データに基づいて決定される画像領域と上記位置座標を含む線とを重ね合わせ、上記線が重なる画像領域の画像データに基づいて描画点データを取得するようにすることができる。また、画像データと線との交点の位置に基づいて描画点データを取得するようにすることができる。

また、画像データに表されまたは画像データから求められる画像の輪郭と、線との交点を示す交点配置情報を取得し、その交点配置情報に基づいて描画点データを取得するようにすることができる。

また、線を、複数の描画点に対応する複数の位置座標を結ぶものとすることができる。

また、線を、時系列に並ぶ複数の描画点に対応する複数の位置座標を結ぶものとすることができる。

また、描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点を描画対象上に順次形成して描画対象上に画像を描画する際に用いられる描画点データを取得する描画点データ取得方法であって、線を、時系列に並ぶ複数の描画点に対応する複数の位置座標を結ぶものとすることができる。

また、描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点を描画対象上に順次形成して描画対象上に画像を描画する際に用いられる描画点データを取得する描画点データ取得方法であって、線を、描画対象上におけるまたは描画対象上の画像空間における描画点形成領域の描画軌跡に対応するものとすることができる。

また、描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を複数有する描画点形成領域群を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点形成領域群に対応する描画点群を描画対象上に順次形成して描画対象上に画像を描画する際に用いられる描画点データを取得する描画点データ取得方法であって、線を、描画対象上の所定位置における描画点形成領域群の少なくとも一部の描画点形成領域を結ぶ線に対応するものとすることができる。

また、線にサンプリングピッチを付随させるようにすることができる。

また、画像データに基づいて決定される画像領域と上記位置座標を含む所定領域とを重ね合わせ、所定領域が重なる画像領域の画像データに基づいて描画点データを取得するようにすることができる。

また、描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を複数有する描画点形成領域群を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点形成領域群に対応する描画点群を描画対象上に順次形成して描画対象上に画像を描画する際に用いられる描画点データを取得する描画点データ取得方法であって、所定領域を、描画対象上の所定位置における描画点形成領域群の少なくとも一部の領域に対応するものとすることができる。

本発明の第２の描画点データ取得方法は、描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点を描画対象上に順次形成して描画対象上に画像を描画する際に用いられる描画点データを取得する描画点データ取得方法において、画像の元のベクトル形式の画像データを取得するとともに、画像の描画のための描画対象上におけるまたは描画対象上の画像空間における描画点形成領域の描画軌跡の情報を取得し、画像データにより表わされまたは画像データから求められる画像の輪郭と描画軌跡情報に対応する画像データ上における描画点データ軌跡との交点の配置を示す交点配置情報を取得し、交点配置情報に基づいて描画点データ軌跡に対応した描画点データを取得することを特徴とする。

また、上記本発明の第２の描画点データ取得方法において、描画点データ軌跡を交点配置情報により示される交点により区切って部分描画点データ軌跡とし、部分描画点データ軌跡に、その部分描画点データ軌跡の並ぶ順に２値化データを交互に割り当て、部分描画点データ軌跡毎に割り当てられた２値化データを、移動の方向に対応する画像データ上の走査方向について所定間隔でサンプリングして描画点データ軌跡に対応した描画点データを取得するようにすることができる。

また、交点配置情報の上記移動の方向に対応する画像データ上の走査方向の座標値を取得し、その取得した座標値を、画像データ上の走査方向の所定間隔の値でそれぞれ除算して量子化値を求め、画像データ上の走査方向に隣接する量子化値の差を求め、その差をランレングスデータとして取得し、その取得されたランレングスデータをデコードして描画点データ軌跡に対応した描画点データを取得するようにすることができる。

また、予め設定された描画対象の所定相対移動速度に対する画像の描画の際の描画対象の実移動速度の変動を示す速度変動情報を取得し、その取得した速度変動情報に基づいて、描画対象の実移動速度が相対的に遅い描画対象上の描画領域ほど描画点データの数が多くなるように上記所定間隔を変化させて描画点データを取得するようにすることができる。

また、描画対象上の所定位置に予め設けられた複数の基準マークを検出してその基準マークの位置を示す検出位置情報を取得し、その取得した検出位置情報に基づいて描画軌跡情報を取得するようにすることができる。

また、予め設定された描画対象の所定相対移動方向に対する画像の描画の際の描画対象の実移動方向のずれ情報を取得し、その取得したずれ情報に基づいて描画軌跡情報を取得するようにすることができる。

また、予め設定された描画対象の所定相対移動方向に対する画像の描画の際の描画対象の実移動方向のずれ情報を取得し、その取得したずれ情報および上記検出位置情報に基づいて描画軌跡情報を取得するようにすることができる。

本発明の第１の描画方法は、描画点データに基づいて描画点を描画対象上に形成して描画対象上に画像を描画する描画方法において、画像の元のベクトル形式の画像データを取得するとともに、描画対象上における描画点を形成すべき位置に対応する画像データ上の位置座標を取得し、ベクトル形式の画像データと上記位置座標とに基づいて描画点の描画点データを取得し、その取得した描画点データに基づいて描画点を描画対象上に形成することを特徴とする。

また、上記本発明の第１の描画方法においては、画像データに基づいて決定される画像領域と上記位置座標とを重ね合わせ、位置座標が属する画像領域の画像データに基づいて描画点データを取得するようにすることができる。

また、描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点を描画対象上に順次形成して描画対象上に画像を描画する描画方法であって、上記位置座標を、描画対象上の所定位置における描画点形成領域に対応するものとすることができる。

また、画像データに基づいて決定される画像領域と上記位置座標を含む線とを重ね合わせ、上記線が重なる画像領域の画像データに基づいて描画点データを取得するようにすることができる。

また、画像データと線との交点の位置に基づいて描画点データを取得するようにすることができる。

また、描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点を描画対象上に順次形成して描画対象上に画像を描画する描画方法であって、線を、時系列に並ぶ複数の描画点に対応する複数の位置座標を結ぶものとすることができる。

また、描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点を描画対象上に順次形成して描画対象上に画像を描画する描画方法であって、線を、描画対象上におけるまたは描画対象上の画像空間における描画点形成領域の描画軌跡に対応するものとすることができる。

また、描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を複数有する描画点形成領域群を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点形成領域群に対応する描画点群を描画対象上に順次形成して描画対象上に画像を描画する描画方法であって、線を、描画対象上の所定位置における描画点形成領域群の少なくとも一部の描画点形成領域を結ぶ線に対応するものとすることができる。

また、線にサンプリングピッチの情報を付随させるようにすることができる。

また、画像データに基づいて決定される画像領域と上記位置座標を含む所定領域とを重ね合わせ、上記所定領域が重なる画像領域の画像データに基づいて描画点データを取得するようにすることができる。

また、描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を複数有する描画点形成領域群を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点形成領域群に対応する描画点群を描画対象上に順次形成して描画対象上に画像を描画する描画方法であって、上記所定領域を、描画対象上の所定位置における描画点形成領域群の少なくとも一部の領域に対応するものとすることができる。

本発明の第２の描画方法は、描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点を描画対象上に順次形成して描画対象上に画像を描画する描画方法において、画像の元のベクトル形式の画像データを取得するとともに、画像の描画のための描画対象上におけるまたは描画対象上の画像空間上における描画点形成領域の描画軌跡の情報を取得し、画像データにより表わされまたは画像データから求められる画像の輪郭と描画軌跡情報に対応する画像データ上における描画点データ軌跡との交点の配置を示す交点配置情報を取得し、交点配置情報に基づいて描画点データ軌跡に対応した描画点データを取得し、その取得した描画点データに基づいて描画点形成領域によって描画点を描画対象上に形成することを特徴とする。

また、上記本発明の第２の描画方法においては、描画点データ軌跡を交点配置情報により示される交点により区切って部分描画点データ軌跡とし、部分描画点データ軌跡に、その部分描画点データ軌跡の並ぶ順に２値化データを交互に割り当て、その部分描画点データ軌跡毎に割り当てられた２値化データを、上記移動の方向に対応する画像データ上の走査方向について所定間隔でサンプリングして描画点データ軌跡に対応した描画点データを取得するようにすることができる。

本発明の第１の描画点データ取得装置は、描画点データに基づいて描画点を描画対象上に形成して描画対象上に画像を描画する際に用いられる描画点データを取得する描画点データ取得装置において、描画対象上における描画点を形成すべき位置に対応する、上記画像の元のベクトル形式の画像データ上の位置座標を取得する位置座標取得手段と、画像の元のベクトル形式の画像データを取得し、その取得したベクトル形式の画像データと位置座標取得手段により取得された位置座標とに基づいて描画点の描画点データを取得する描画点データ取得手段とを備えたことを特徴とする。

また、上記本発明の第１の描画点データ取得装置においては、描画点データ取得手段を、画像データに基づいて決定される画像領域と上記位置座標とを重ね合わせ、上記位置座標が属する画像領域の画像データに基づいて描画点データを取得するものとすることができる。

また、描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点を描画対象上に順次形成して描画対象上に画像を描画する際に用いられる描画点データを取得する描画点データ取得装置であって、位置座標を、描画対象上の所定位置における描画点形成領域に対応するものとすることができる。

また、描画点データ取得手段を、画像データに基づいて決定される画像領域と上記位置座標を含む線とを重ね合わせ、上記線が重なる画像領域の画像データに基づいて描画点データを取得するものとすることができる。また、描画点データ取得手段を、画像データと線との交点の位置に基づいて描画点データを取得するものとすることができる。

また、画像データに表されまたは画像データから求められる画像の輪郭と、線との交点を示す交点配置情報を取得する交点配置情報取得手段を備えるものとし、描画点データ取得手段を、交点配置情報取得手段により取得された交点配置情報に基づいて描画点データを取得するものとすることができる。

また、描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点を描画対象上に順次形成して描画対象上に画像を描画する際に用いられる描画点データを取得する描画点データ取得装置であって、線を、時系列に並ぶ複数の描画点に対応する複数の位置座標を結ぶものとすることができる。

また、描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点を描画対象上に順次形成して描画対象上に画像を描画する際に用いられる描画点データを取得する描画点データ取得装置であって、線を、描画対象上におけるまたは描画対象上の画像空間上における描画点形成領域の描画軌跡に対応するものとすることができる。

また、描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を複数有する描画点形成領域群を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点形成領域群に対応する描画点群を描画対象上に順次形成して描画対象上に画像を描画する際に用いられる描画点データを取得する描画点データ取得装置であって、線を、描画対象上の所定位置における描画点形成領域群の少なくとも一部の描画点形成領域を結ぶ線に対応するものとすることができる。

また、描画点データ取得手段を、画像データに基づいて決定される画像領域と上記位置座標を含む所定領域とを重ね合わせ、上記所定領域が重なる画像領域の画像データに基づいて描画点データを取得するものとすることができる。

また、描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を複数有する描画点形成領域群を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点形成領域群に対応する描画点群を描画対象上に順次形成して描画対象上に画像を描画する際に用いられる描画点データを取得する描画点データ取得装置であって、所定領域を、描画対象上の所定位置における描画点形成領域群の少なくとも一部の領域に対応するものとすることができる。

本発明の第２の描画点データ取得装置は、描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点を描画対象上に順次形成して描画対象上に画像を描画する際に用いられる描画点データを取得する描画点データ取得装置において、画像の描画のための描画対象上におけるまたは描画対象上の画像空間上における描画点形成領域の描画軌跡の情報を取得する描画軌跡情報取得手段と、画像の元のベクトル形式の画像データを取得し、その取得した画像データにより表わされまたは画像データから求められる画像の輪郭と描画軌跡情報に対応する画像データ上における描画点データ軌跡との交点の配置を示す交点配置情報を取得する交点配置情報取得手段と、交点配置情報取得手段により取得された交点配置情報に基づいて描画軌跡に対応した描画点データを取得する描画点データ取得手段とを備えたことを特徴とする。

また、上記本発明の第２の描画点データ取得装置においては、描画点データ取得手段を、描画点データ軌跡を交点配置情報により示される交点により区切って部分描画点データ軌跡とし、部分描画点データ軌跡に、その部分描画点データ軌跡の並ぶ順に２値化データを交互に割り当て、部分描画点データ軌跡毎に割り当てられた２値化データを、上記移動の方向に対応する画像データ上の走査方向について所定間隔でサンプリングして描画点データ軌跡に対応した描画点データを取得するようにすることができる。

また、描画点データ取得手段を、交点配置情報の上記移動の方向に対応する画像データ上の走査方向の座標値を取得し、その取得した座標値を、画像データ上の走査方向の所定間隔の値でそれぞれ除算して量子化値を求め、画像データ上の走査方向に隣接する量子化値の差を求め、その差をランレングスデータとして取得し、その取得されたランレングスデータをデコードして描画点データ軌跡に対応した描画点データを取得するようにすることができる。

また、予め設定された描画対象の所定相対移動速度に対する画像の描画の際の描画対象の実移動速度の変動を示す速度変動情報を取得する速度変動情報取得手段をさらに備えるものとし、描画点データ取得手段を、速度変動情報取得手段により取得された速度変動情報に基づいて、描画対象の実移動速度が相対的に遅い描画対象上の描画領域ほど描画点データの数が多くなるように上記所定間隔を変化させて描画点データを取得するようにすることができる。

また、描画対象上の所定位置に予め設けられた複数の基準マークを検出してその基準マークの位置を示す検出位置情報を取得する位置情報検出手段をさらに備えるものとし、描画軌跡情報取得手段を、位置情報検出手段により取得された検出位置情報に基づいて描画軌跡情報を取得するようにすることができる。

また、予め設定された描画対象の所定相対移動方向に対する画像の描画の際の描画対象の実移動方向のずれ情報を取得するずれ情報取得手段をさらに備えるものとし、描画点軌跡情報取得手段を、ずれ情報取得手段により取得されたずれ情報に基づいて描画軌跡情報を取得するものとすることができる。

また、予め設定された描画対象の所定相対移動方向に対する画像の描画の際の描画対象の実移動方向のずれ情報を取得するずれ情報取得手段をさらに備えるものとし、描画点軌跡情報取得手段を、ずれ情報取得手段により取得されたずれ情報および位置情報検出手段により取得された検出位置情報に基づいて描画軌跡情報を取得するものとすることができる。

本発明の第１の描画装置は、描画点データに基づいて描画点を描画対象上に形成して描画対象上に画像を描画する描画装置において、描画対象上における描画点を形成すべき位置に対応する、画像の元のベクトル形式の画像データ上の位置座標を取得する位置座標取得手段と、画像の元のベクトル形式の画像データを取得し、その取得したベクトル形式の画像データと上記位置座標取得手段により取得された位置座標とに基づいて描画点の描画点データを取得する描画点データ取得手段と、描画点データ取得手段により取得した描画点データに基づいて描画点を描画対象上に形成する描画手段とを備えたことを特徴とする。

また、上記本発明の第１の描画装置においては、描画点データ取得手段を、画像データに基づいて決定される画像領域と上記位置座標とを重ね合わせ、上記位置座標が属する画像領域の画像データに基づいて描画点データを取得するものとすることができる。

また、描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点を描画対象上に順次形成して描画対象上に画像を描画する描画装置であって、上記位置座標を、描画対象上の所定位置における描画点形成領域に対応するものとすることができる。

また、描画点データ取得手段を、画像データに基づいて決定される画像領域と上記位置座標を含む線とを重ね合わせ、上記線が重なる画像領域の画像データに基づいて描画点データを取得するものとすることができ。

また、描画点データ取得手段を、画像データと線との交点の位置に基づいて描画点データを取得するものとすることができる。

また、描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点を描画対象上に順次形成して描画対象上に画像を描画する描画装置であって、線を、時系列に並ぶ複数の描画点に対応する複数の位置座標を結ぶものとすることができる。

また、描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点を描画対象上に順次形成して描画対象上に画像を描画する描画装置であって、線を、描画対象上におけるまたは描画対象上の画像空間上における描画点形成領域の描画軌跡に対応するものとすることができる。

また、描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を複数有する描画点形成領域群を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点形成領域群に対応する描画点群を描画対象上に順次形成して描画対象上に画像を描画装置であって、線を、描画対象上の所定位置における描画点形成領域群の少なくとも一部の描画点形成領域を結ぶ線に対応するものとすることができる。

また、描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を複数有する描画点形成領域群を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点形成領域群に対応する描画点群を描画対象上に順次形成して描画対象上に画像を描画する描画装置であって、上記所定領域を、描画対象上の所定位置における描画点形成領域群の少なくとも一部の領域に対応するものとすることができる。

本発明の第２の描画装置は、描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点を描画対象上に順次形成して描画対象上に画像を描画する描画装置において、画像の描画のための描画対象上におけるまたは描画対象上の画像空間上における描画点形成領域の描画軌跡の情報を取得する描画軌跡情報取得手段と、画像の元のベクトル形式の画像データを取得し、その取得した画像データにより表わされまたは画像データから求められる画像の輪郭と描画軌跡情報に対応する画像データ上における描画点データ軌跡との交点の配置を示す交点配置情報を取得する交点配置情報取得手段と、交点配置情報取得手段により取得された交点配置情報に基づいて描画軌跡に対応した複数の描画点データを取得する描画点データ取得手段と、描画点データ取得手段により取得した描画点データに基づいて描画点形成領域によって描画点を描画対象上に形成する描画手段とを備えたことを特徴とする。

また、上記本発明の第２の描画装置においては、描画点データ取得手段を、描画点データ軌跡を交点配置情報により示される交点により区切って部分描画点データ軌跡とし、部分描画点データ軌跡に、その部分描画点データ軌跡の並ぶ順に２値化データを交互に割り当て、部分描画点データ軌跡毎に割り当てられた２値化データを、上記移動の方向に対応する画像データ上の走査方向について所定間隔でサンプリングして描画点データ軌跡に対応した描画点データを取得するものとすることができる。

また、描画点データ取得手段を、交点配置情報の上記移動の方向に対応する画像データ上の走査方向の座標値を取得し、その取得した座標値を、画像データ上の走査方向の所定間隔の値でそれぞれ除算して量子化値を求め、画像データ上の走査方向に隣接する量子化値の差を求め、その差をランレングスデータとして取得し、その取得されたランレングスデータをデコードして描画点データ軌跡に対応した描画点データを取得するものとすることができる。

また、予め設定された描画対象の所定相対移動速度に対する画像の描画の際の描画対象の実移動速度の変動を示す速度変動情報を取得する速度変動情報取得手段をさらに備え、描画点データ取得手段を、速度変動情報取得手段により取得された速度変動情報に基づいて、描画対象の実移動速度が相対的に遅い描画対象上の描画領域ほど描画点データの数が多くなるように上記所定間隔を変化させて描画点データを取得するようにすることができる。

また、描画対象上の所定位置に予め設けられた複数の基準マークを検出してその基準マークの位置を示す検出位置情報を取得する位置情報検出手段をさらに備えるものとし、描画軌跡情報取得手段を、位置情報検出手段により取得された検出位置情報に基づいて描画軌跡情報を取得するものとすることができる。

ここで、上記「描画点形成領域」とは、描画対象上に描画点を形成する領域であれば如何なるものによって形成される領域でもよく、たとえば、ＤＭＤのような空間光変調素子の各変調素子によって反射されたビーム光によって形成されるビームスポットでもよいし、光源から発せられたビーム光自体によって形成されるビームスポットでもよいし、もしくはインクジェット方式のプリンタの各ノズルから吐出されたインクが付着する領域としてもよい。

また、上記「描画点データ軌跡を交点配置情報により示される交点により区切って部分描画点データ軌跡とする」とは、描画点データ軌跡を全ての交点で区切って部分描画点データ軌跡を取得するようにしてもよいし、たとえば、２つの画像が重なって一方の画像の一部が他方の画像の内側に存在するような場合には、その部分については、内側の画像の輪郭と描画点データ軌跡との交点については存在しないものして部分描画点データ軌跡を取得するようにしてもよい。

また、「２値化データ」としては、０データと１データとを用いるようにしてもよいし、その他の２値化されたデータを用いるようにしてもよい。

なお、本発明における描画点データは２値データに限らず、たとえば、ベクトル形式の画像データが多値の情報を有する場合などにおいては、その多値情報を用いて、描画点データとして多値データを取得するようにしてもよい。

本発明の描画点データ取得方法および装置並びに描画方法および装置によれば、画像の元のベクトル形式の画像データを取得し、そのベクトル形式の画像データから直接描画点データを取得するようにしたので、従来のようにベクトル形式の画像データをラスター形式の画像データに変換することなくベクトル形式の画像データから直接描画点データを取得することができ、処理速度の低下およびコストアップを招くことなく、描画精度の向上を図ることができる。

以下、図面を参照して本発明の描画点データ取得方法および装置並びに描画方法および装置の第１の実施形態を用いた露光装置について詳細に説明する。図１は、本発明の第１の実施形態を用いた露光装置の概略構成を示す斜視図である。本発明の第１の実施形態を用いた露光装置は、多層プリント配線板の各層の配線パターンを露光する装置であって、その各層の配線パターンを露光するために用いられる露光点データの取得方法に特徴を有するものであるが、まずは、露光装置の概略構成について説明する。

露光装置１０は、図１に示すように、基板１２を表面に吸着して保持する平板状の移動ステージ１４を備えている。そして、４本の脚部１６に支持された厚い板状の設置台１８の上面には、ステージ移動方向に沿って延びた２本のガイド２０が設置されている。移動ステージ１４は、その長手方向がステージ移動方向を向くように配置されると共に、ガイド２０によって往復移動可能に支持されている。

設置台１８の中央部には、移動ステージ１４の移動経路を跨ぐようにコの字状のゲート２２が設けられている。コの字状のゲート２２の端部の各々は、設置台１８の両側面に固定されている。このゲート２２を挟んで一方の側にはスキャナ２４が設けられ、他方の側には基板１２の先端および後端と、基板１２に予め設けられている円形状の複数の基準マーク１２ａの位置とを検知するための複数のカメラ２６が設けられている。

ここで、基板１２における基準マーク１２ａは、予め設定された基準マーク位置情報に基づいて基板１２上に形成された、たとえば孔である。なお、孔の他にランドやヴィアやエッチングマークを用いてもよい。また、基準マーク１２ａとして、基板１２上に露光される、回路パターンの一部などの所定のパターンを利用するようにしてもよい。また、図１においては、基準マーク１２ａを６個しか示していないが実際には多数の基準マーク１２ａが設けられている。また、基準マーク１２ａとして、基板１２のエッジを検出するようにしてもよい。

スキャナ２４およびカメラ２６はゲート２２に各々取り付けられて、移動ステージ１４の移動経路の上方に固定配置されている。なお、スキャナ２４およびカメラ２６は、これらを制御する後述するコントローラに接続されている。

スキャナ２４は、図２および図３（Ｂ）に示すように、２行５列の略マトリックス状に配列された１０個の露光ヘッド３０（３０Ａ〜３０Ｊ）を備えている。

各露光ヘッド３０の内部には、図４に示すように入射された光ビームを空間変調する空間光変調素子（ＳＬＭ）であるデジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）３６が設けられている。ＤＭＤ３６は、マイクロミラー３８が直交する方向に２次元状に多数配列されたものであり、そのマイクロミラー３８の列方向が走査方向と所定の設定傾斜角度θをなすように取り付けられている。したがって、各露光ヘッド３０による露光エリア３２は、走査方向に対して傾斜した矩形状のエリアとなる。ステージ１４の移動に伴い、基板１２には露光ヘッド３０ごとに帯状の露光済み領域３４が形成される。なお、各露光ヘッド３０に光ビームを入射する光源については図示省略してあるが、たとえば、レーザ光源などを利用することができる。

露光ヘッド３０の各々に設けられたＤＭＤ３６は、マイクロミラー３８単位でオン/オフ制御され、基板１２には、ＤＭＤ３６のマイクロミラー３８に対応したドットパターン（黒/白）が露光される。前述した帯状の露光済み領域３４は、図４に示すマイクロミラー３８に対応した２次元配列されたドットによって形成される。二次元配列のドットパターンは、走査方向に対して傾斜されていることで、走査方向に並ぶドットが、走査方向と交差する方向に並ぶドット間を通過するようになっており、高解像度化を図ることができる。なお、傾斜角度の調整のバラツキによって、利用しないドットが存在する場合もあり、たとえば、図４では、斜線としたドットは利用しないドットとなり、このドットに対応するＤＭＤ３６におけるマイクロミラー３８は常にオフ状態となる。

また、図３（Ａ）および（Ｂ）に示すように、帯状の露光済み領域３４のそれぞれが、隣接する露光済み領域３４と部分的に重なるように、ライン状に配列された各行の露光ヘッド３０の各々は、その配列方向に所定間隔ずらして配置されている。このため、たとえば、１行目の最も左側に位置する露光エリア３２Ａ、露光エリア３２Ａの右隣に位置する露光エリア３２Ｃとの間の露光できない部分は、２行目の最も左側に位置する露光エリア３２Ｂにより露光される。同様に、露光エリア３２Ｂと、露光エリア３２Ｂの右隣に位置する露光エリア３２Ｄとの間の露光できない部分は、露光エリア３２Ｃにより露光される。

次に、露光装置１０の電気的構成について説明する。露光装置１０は、図５に示すように、ＣＡＭ（Computer Aided Manufacturing）ステーションを有するデータ作成装置４０から出力された、基板１２に露光すべき露光画像を表わすベクトル形式の露光画像データを取得し、その取得したベクトル形式の露光画像データに基づいて、後述する中間ベクトルデータを生成する中間ベクトル生成手段５０、カメラ２６により撮影された基準マーク１２ａの画像に基づいて基準マーク１２ａの検出位置情報を取得する検出位置情報取得手段５２と、検出位置情報取得手段５２により取得された検出位置情報に基づいて、実際の露光の際の基板１２上における各マイクロミラー３８の露光軌跡の情報を取得する露光軌跡情報取得手段５４と、露光軌跡情報取得手段５４により取得された各マイクロミラー３８毎の露光軌跡情報と中間ベクトル生成手段５０から出力された中間ベクトルデータに基づいて、上記露光軌跡情報に対応する上記中間ベクトルデータ上における露光点データ軌跡と中間ベクトルデータによって表わされるベクトルとの交点の配置を示す交点配置情報を算出する交点配置情報算出手段５６と、交点配置情報算出手段５６により算出された交点配置情報に基づいて、各マイクロミラー３８毎の露光点データ軌跡に対応する露光点データを取得する露光点データ取得手段５８と、露光点データ取得手段５８により取得された各マイクロミラー３８毎の露光点データに基づいて露光ヘッド３０のＤＭＤ３６を制御する露光ヘッド制御部５９と、移動ステージ１４をステージ移動方向へ移動させる移動機構６０と、本露光装置全体を制御するコントローラ７０とを備えている。なお、移動機構６０は、移動ステージ１４をガイド２０に沿って往復移動させるものであれば如何なる既知の構成を採用してもよい。また、上記中間ベクトルデータ、上記露光点データ軌跡および交点配置置情報などや、上記各構成要素の作用については後で詳述する。

次に、上記第１の実施形態を用いた露光装置１０の作用について図面を参照しながら説明する。

まず、データ作成装置４０において、基板１２に露光すべき露光画像の元のベクトル形式の露光画像データが作成される。そして、そのベクトル形式の露光画像データは中間ベクトル生成手段５０に入力され、中間ベクトル生成手段５０は、入力されたベクトル形式の露光画像データに基づいて中間ベクトルデータを生成する。中間ベクトルデータとは、ベクトル形式の露光画像データにより表わされる露光画像の輪郭をベクトル形式のデータで表わしたものある。図６（Ａ）にベクトル形式の露光画像データで表わされる露光画像の一例を示すとともに、図６（Ｂ）に図６（Ａ）で示される露光画像の露光画像データに基づいて生成された中間ベクトルデータによって表わされるベクトルを示す。なお、図６（Ａ）における斜線部分が露光画像データにより表わされる露光画像であり、図６（Ｂ）における矢印が中間ベクトルデータによって表わされるベクトルである。また、ここでいうベクトルとは、直線により表わされるものだけでなく、図６（Ｂ）に示すように曲線により表わされるものも含むものとする。中間ベクトルデータの生成方法については、たとえば、上記ベクトル形式の露光画像データが領域ベクトルデータである場合には、その領域ベクトルデータにおける輪郭を示すデータを用いて中間ベクトルデータを生成するようにすればよい。また、上記ベクトル形式の露光画像データが線分の方向を示すデータとその線分の太さを示すデータからなるものである場合には、上記太さを示すデータに基づいて領域ベクトルデータに変換し、その領域ベクトルデータにおける輪郭を示すデータを用いて中間ベクトルデータを生成するようにすればよい。

なお、中間ベクトルデータを形成する際に、輪郭を表すベクトルを境界として一方の側がオンであるかオフであるかを示す情報を付加しておいてもよい。たとえば、Ｙが増える方向がオンもしくはオフ（Ｙ方向に平行なベクトルの場合はＸが増える方向がオンもしくはオフ）という情報を付加してもよいし、予め始点から終点に向いて右側がオンで左側がオフと決めた上で輪郭ベクトルを生成してもよい。このように中間ベクトルデータを形成しておくことによって、後述する露光点データの取得の際に、オンとオフの割り振りを容易に行うことができる。

また、本実施形態においては、図６（Ａ）に示すように、２つの露光画像が重なって配置されている場合には、図６（Ｂ）および図７に示すように、２つの露光画像を結合して１本の輪郭により表わされる１つの露光画像とし、その１つの露光画像の中間ベクトルデータを生成するものとする。ただし、このような態様に限られることなく、重なった２つの露光画像について、それぞれの中間ベクトルデータを生成するようにしてもよい。

そして、上記のようにして生成された中間ベクトルデータは、中間ベクトル生成手段５０から交点配置情報算出手段５６に出力される。

一方、上記のように中間ベクトルデータが生成されるとともに、各露光ヘッド３０のＤＭＤ３６の各マイクロミラー３８毎の、実際の露光の際の基板１２上における露光軌跡の情報が取得される。なお、多層基板を形成するときには、下層のパターンに合わせて上層のパターンを描画する必要があるが、その場合には、基板上の画像空間上における露光軌跡が規定されることになる。

具体的には、露光装置１０全体の動作を制御するコントローラ７０が移動機構６０に制御信号を出力し、移動機構６０はその制御信号に応じて移動ステージ１４を図１に示す位置からガイド２０に沿って一旦上流側に移動させた後、ステージ移動方向へ所望の速度で移動させる。

そして、上記のようにして移動する移動ステージ１４上の基板１２が複数のカメラ２６の下を通過する際、これらのカメラ２６により基板１２が撮影され、その撮影画像を表す撮影画像データが検出位置情報取得手段５２に入力される。検出位置情報取得手段５２は、入力された撮影画像データに基づいて基板１２の基準マーク１２ａの位置を示す検出位置情報を取得する。基準マーク１２ａの検出位置情報の取得方法については、たとえば、円形状の画像を抽出することにより取得するようにすればよいが、他の如何なる既知の取得方法を採用してもよい。また、上記基準マーク１２ａの検出位置情報は、具体的には座標値として取得されるが、その座標値の原点は、たとえば、基板１２の撮影画像データの４つの角のうちの１つの角のとしてもよいし、撮影画像データにおける予め設定された所定の位置でもよいし、複数の基準マーク１２ａのうちの１つの基準マーク１２ａの位置としてもよい。なお、上記検出位置情報と基準マーク位置情報の座標系は一致しているものとする。また、本実施形態においては、カメラ２６と検出位置情報取得手段５２とにより位置情報検出手段が構成されている。

そして、上記のようにして取得された基準マーク１２ａの検出位置情報は、検出位置情報取得手段５２から露光軌跡情報取得手段５４に出力される。

そして、露光軌跡情報取得手段５４において、入力された検出位置情報に基づいて、実際の露光の際の基板１２上における各マイクロミラー３８毎の露光軌跡の情報が取得される。具体的には、露光軌跡情報取得手段５４には、予め各露光ヘッド３０のＤＭＤ３６の各マイクロミラー３８が通過する位置を示す通過位置情報が、各マイクロミラー３８毎に設定されている。上記通過位置情報は、移動ステージ１４上の基板１２の設置位置に対する、各露光ヘッド３０の設置位置によって決定されるものであって予め設定されている。そして、上記基準マーク位置情報および上記検出位置情報と同じ点を原点として、ベクトルまたは複数点の座標値で表わされるものである。なお、通過位置情報の座標系も、上記基準マーク位置情報および上記検出位置情報の座標系と一致しているものとする。図８に、プレスエ程などを経ていない理想的な形状の基板１２、つまり、歪などの変形が生じておらず、基準マーク１２ａが予め設定された基準マーク位置情報１２ｂの示す位置に配置している基板１２と、所定のマイクロミラー３８の通過位置情報１２ｃとの関係を示す模式図を示す。なお、基板１２上におけるビームスポットの位置を測定した結果に基づいて、通過位置情報を求めるようにしてもよい。

そして、露光軌跡情報取得手段５４において、図９に示すように、走査方向に直交する方向について隣接する検出位置情報１２ｄを結ぶ直線と各マイクロミラー３８の通過位置情報１２ｃにより表わされる直線との交点の座標値が求められる。つまり、図９における×印の点の座標値が求められ、さらに、×印とその×印に上記直交する方向に隣接する各検出位置情報１２ｄとの距離が求められ、上記隣接する検出位置情報１２ｄのうちの一方の検出位置情報１２ｄと×印との距離と、他方の検出位置情報１２ｄと×印との距離との比が求められる。具体的には、図９におけるａ１：ｂ１、ａ２：ｂ２、ａ３：ｂ３およびａ４：ｂ４が露光軌跡情報として求められる。上記ようにして求められた比が、変形後の基板１２上におけるマイクロミラー３８の露光軌跡を表わしていることになる。つまり、実際の露光の際の基板１２上におけるマイクロミラー３８の露光軌跡（基板１２上の画像空間上の露光軌跡）を表わしていることになる。

そして、上記のようにして各マイクロミラー３８毎に求められた露光軌跡情報が、交点配置情報算出手段５６に入力される。

交点配置情報算出手段５６には、図１０に示すような、中間ベクトルデータの座標系が予め設定されている。なお、上記中間ベクトルデータの座標系は露光画像データの座標系でもあり、この座標系と、基準マーク位置情報、検出位置情報および通過位置情報の座標系は全て一致しているものとする。そして、座標系には、図１０に示すように、上記基準マーク位置情報１２ｂが示す位置に対応した位置に露光画像データ基準位置情報１２ｅが配置されている。そして、交点配置情報算出手段５６においては、まず、走査方向に直交する方向に隣接する露光画像データ基準位置情報１２ｅを結ぶ直線を、上記のようにして求めた露光軌跡情報の示す比に基づいて分割した点の座標値が求められる。つまり、以下の式を満たすような点の座標値が求められる。

ａ１：ｂ１＝Ａ１：Ｂ１
ａ２：ｂ２＝Ａ２：Ｂ２
ａ３：ｂ３＝Ａ３：Ｂ３
ａ４：ｂ４＝Ａ４：Ｂ４
そして、上記のようにして求められた分割点を結ぶ直線が求められる。上記直線は、実際の露光の際の基板１２上におけるマイクロミラー３８の露光軌跡に対応する露光画像データ上における露光点データ軌跡を示すものである。

なお、上記のように露光軌跡情報の示す比に基づいて求められた分割点を直線で結び、その直線を露光点データ軌跡としてもよいし、上記分割点をスプライン補間などによって曲線で結び、その曲線を露光点データ軌跡として取得するようにしてもよい。上記のようにスプライン補間などによって曲線で結ぶようにすれば、より基板１２の変形に忠実な露光点データ軌跡を取得することができる。また、上記スプライン補間などの演算方法に基板１２の材質の特性（たとえば、特定の方向にしか伸縮しないなど）を反映するようにすれば、さらに、より基板１２の変形に忠実な露光点データ軌跡を取得することができる。

そして、図１１に示すように、上記のようにして求められた露光点データ軌跡と中間ベクトルデータとが同じ座標系にプロットされ、中間ベクトルデータによって表わされるベクトルと露光点データ軌跡との交点の配置情報が求められる。交点配置情報とは、ここでは、上記交点の座標値である。つまり、図１１に示す交点Ａ〜Ｆの座標値が取得される。なお、図１１に示す交点Ａ〜Ｆで区切られた露光点データ軌跡が、部分描画点データ軌跡である。

ここで、上記交点配置情報の算出の方法について具体的に説明する。ここでは、たとえば、中間ベクトルデータによって表わされるベクトルが下式（１）で表わされる線分であり、露光点データ軌跡が下式（２）で表わされる線分である場合の交点配置情報の算出方法について、図１２のフローチャートを用いて説明する。

ｘ＝ａ_１ｙ＋ｂ_１，ｘ_ｓ１≦ｘ≦ｘ_ｅ１，ｙ_ｓ１≦ｙ≦ｙ_ｅ１・・・（１）
ｘ＝ａ_２ｙ＋ｂ_２，ｘ_ｓ２≦ｘ≦ｘ_ｅ２，ｙ_ｓ２≦ｙ≦ｙ_ｅ２・・・（２）
図１２のフローチャートに示すように、まず、式（１）におけるａ１と式（２）におけるａ２とが比較され、つまり両直線の傾きが比較され（Ｓ１０）、これらが同じである場合には、交点がないものとして演算を終了する（Ｓ１２）。一方、Ｓ１０においてａ_１とａ_２が異なる値である場合には、交点の計算が行われる（Ｓ１４）。具体的には以下の演算により交点のｘ座標とｙ座標とが算出される。

ａ_１ｙ＋ｂ_１＝ａ_２ｙ＋ｂ_２より
ｙ＝（ｂ_２−ｂ_１）/（ａ_１−ａ_２）
ｘ＝ａ_１ｙ＋ｂ_１
そして、次に、上記のようにして求められた交点のｙ座標の大きさをｙ_ｓ２およびｙ_ｅ２と比較することによって、上記交点が露光点データ軌跡上に存在するか否かが確認される（Ｓ１６）。そして、ｙ_ｓ２＜ｙ≦ｙ_ｅ２を満たさない場合には、交点がないものとして演算を終了する（Ｓ１２）。一方、ｙ_ｓ２＜ｙ≦ｙ_ｅ２を満たす場合には、ｙ_ｓ１とｙ_ｅ１が同じ値かどうかを確認することによって、中間ベクトルデータによって表わされるベクトルがｘ軸に対して平行かどうかが確認される（Ｓ１８）。そして、上記ベクトルがｘ軸に対して平行でない場合には、ｙ座標の大きさをｙ_ｓ１とｙ_ｅ１と比較することによって、上記のようにしても求めた交点が、中間ベクトルデータによって表わされるベクトル上に存在するか否かが確認される（Ｓ２０）。そして、ｙ_ｓ１＜ｙ≦ｙ_ｅ１を満たさない場合には、交点がないものとして演算を終了する（Ｓ１２）。一方、ｙ_ｓ１＜ｙ≦ｙ_ｅ１を満たす場合には、交点があるものとして上記のようにして求めたｘ座標、ｙ座標が取得される。また、Ｓ１８において、中間ベクトルデータによって表わされるベクトルがｘ軸に対して平行であると確認された場合には、ｘ座標の大きさをｘ_ｓ１とｘ_ｅ１と比較することによって、上記のようにして求めた交点が、中間ベクトルデータによって表わされるベクトル上に存在するか否かが確認される（Ｓ２２）。そして、ｘ_ｓ１＜ｘ≦ｘ_ｅ１を満たさない場合には、交点がないものとして演算を終了する（Ｓ２４）。一方、ｘ_ｓ１＜ｘ≦ｘ_ｅ１を満たす場合には、交点があるものとして上記ようにして求めたｘ座標、ｙ座標が取得される。

次に、中間ベクトルデータによって表わされるベクトルが下式（３）で表わされる曲線（円弧）であり、露光点データ軌跡が下式（４）で表わされる線分である場合の交点配置情報の算出方法について、図１３のフローチャートを用いて説明する。

（ｘ−ａ_１）^２＋（ｙ−ｂ_１）^２＝ｃ^２・・・（３）
ｘ＝ａ_２ｙ＋ｂ_２，ｘ_ｓ≦ｘ≦ｘ_ｅ，ｙ_ｓ≦ｙ≦ｙ_ｅ・・・（４）
図１３のフローチャートに示すように、まず、上式（３）と上式（４）とに基づいて、これらの交点が計算される（Ｓ３０）。なお、ここでは、上式（３）を下式（５）のように、上式（４）を下式（６）のように円の中心を原点とした座標系に変換した後、これらの交点（Ｘ，Ｙ）が求められる。

Ｘ＝ｘ−ａ_１，Ｙ＝ｙ−ｂ_１とすると上式（３）は、
Ｘ^２＋Ｙ^２＝ｃ^２・・・（５）
同じくＸ＝ｘ−ａ_１，Ｙ＝ｙ−ｂ_１とすると上式（４）は、
Ｘ＝ａ_２Ｙ＋ｄ，ｄ＝ｂ_２＋ａ_２ｂ_１−ａ_１，
ｘ_ｓ−ａ_１≦Ｘ≦ｘ_ｅ−ａ_１，ｙ_ｓ−ｂ_１≦Ｙ≦ｙ_ｅ−ｂ_１・・・（６）
そして、上式（５）および上式（６）に基づいて求められた交点が０または１つである場合には、交点なしとして演算を終了する（Ｓ３４）。なお、ここでは、接点は交点ではないとしている。一方、交点が２つ以上ある場合には、Ｙ座標の大きさを（ｙ_ｓ−ｂ_１）と（ｙ_ｅ―ｂ_１）と比較することによって、上記のようにしても求められた交点が露光点データ軌跡上に存在するか否かが確認される（Ｓ３６）。そして、ｙ_ｓ−ｂ_１＜Ｙ≦ｙ_ｅ−ｂ_１を満たさない場合には交点なしとして演算を終了する（Ｓ３４）。一方、ｙ_ｓ−ｂ_１＜Ｙ≦ｙ_ｅ−ｂ_１を満たす場合には、Ｙ座標の大きさがｙ_ｓｎおよびｙ_ｅｎ（ｎは１以上の自然数）と比較されることによって、上記のようにしても求められた交点が上式（５）で示される円上のいずれかの円弧上に存在するか否かが確認される。なお、上記ｙ_ｓｎおよびｙ_ｅｎは、図１４に示すように円弧のベクトルを各象限毎に分割した際におけるそれぞれの円弧のＹ座標の範囲を示す値である。そして、ｙ_ｓｎ＜Ｙ≦ｙ_ｅｎを満たさない場合には交点はないものとして演算を終了する（Ｓ３４）。一方、ｙ_ｓｎ＜Ｙ≦ｙ_ｅｎを満たす場合には、上式（５）で示される円上のいずれかの円弧上に上記交点が存在するものとする（Ｓ４０）。そして、Ｓ３８において交点があるとされた場合には、下式（７）を計算することによってＹ座標を元の座標系に戻し、交点のｙ座標を取得する（Ｓ４２）。

ｙ＝Ｙ＋ｂ１・・・（７）
そして、上記のようにして取得された交点Ａ〜Ｆのｙ座標が露光点データ取得手段５８に出力され、露光点データ取得手段５８において、入力された交点ｙ座標に基づいて各マイクロミラー３８毎の露光点データ列が取得される。具体的には、露光点データ取得手段５８は、図１５に示すように、交点Ａ〜Ｆのｙ座標をプロットし、そのプロットされたｙ座標に基づいて２値化露光点データを割り当てる。なお、図１５に示すｙ座標−１は、マイクロミラー３８の初期位置に対応するｙ座標の値である。

そして、さらに、図１５に示すように、ｙ座標−１〜１０までの間の間隔を０．５のピッチで区切り、ｙ座標−１から１０までの間を０．５ピッチで２値化露光画像データをサンプリングして露光点データを取得して、図１５に示すような、各マイクロミラー３８毎の露光点データ列を取得する。なお、後述するようにピッチが一定でない場合もある。

そして、上記と同様にして、各マイクロミラー３８毎について露光点データ列がそれぞれ取得され、その各マイクロミラー３８毎の露光点データ列が露光ヘッド制御部５９に出力される。

一方、上記のように各マイクロミラー３８毎の露光点データ列が露光ヘッド制御部５９に出力されるとともに、移動ステージ１４が、図１に示す下流側の位置から上流側へ所望の速度で移動させられる。

そして、基板１２の先端がカメラ２６により検出されると露光が開始される。具体的には、露光ヘッド制御部５９から各露光ヘッド３０のＤＭＤ３６に上記露光点データに基づいた制御信号が出力され、露光ヘッド３０は入力された制御信号に基づいてＤＭＤ３６のマイクロミラーをオン・オフさせて基板１２を露光する。

なお、露光ヘッド制御部５９から各露光ヘッド３０へ制御信号が出力される際には、基板１２に対する各露光ヘッド３０の各位置に対応した制御信号が、移動ステージ１４の移動にともなって順次露光ヘッド制御部５９から各露光ヘッド３０に出力されるが、このとき、たとえば、図１６に示すように、各マイクロミラー３８毎に取得されたｍ個の露光点データ列の各列から、各露光ヘッド３０の各位置に応じた露光点データを１つずつ順次読み出して各露光ヘッド３０のＤＭＤ３６に出力するようにしてもよいし、図１６に示すように取得された露光点データ列に９０度回転処理もしくは行列を用いた転置変換などを施し、図１７に示すように、基板１２に対する各露光ヘッド３０の各位置に応じたフレームデータ１〜ｍを生成し、このフレームデータ１〜ｍを各露光ヘッド３０に順次出力するようにしてもよい。

なお、上記第１の実施形態においては、露光点データ取得手段５８における露光点データの取得方法については、上記のような取得方法に限らず、たとえば、図１８に示すように、取得された交点のｙ座標の値をサンプリングピッチである０．５でそれぞれ割った後、整数化して量子化値を取得し、その隣接する量子化値の差をそれぞれ取得してこの差をランレングスデータとみなし、これをデコードすることによって、図１８に示すような露光点データ列を取得するようにしてもよい。なお、上記のようにして露光点データ列を取得する際、露光点データ列の先頭にマイクロミラーの初期位置に対応する０のデータを付加するようにすれば、図１５に示す露光点データ列と同様のものを取得することができる。

なお、上記説明においては、プレス工程などにおいて変形した基板１２に露光する際の露光点データの取得方法について説明したが、変形してない理想的な形状の基板１２に露光する際についても、上記と同様の方法を採用して露光点データを取得することができる。また、基板の変形を考慮する必要がない場合も同様である。これらの場合には、基板１２上における露光軌跡に基づいて、輪郭ベクトルと露光点データ軌跡との交点が求められる。

さらに、たとえば、図１９に示すように、走査方向について基板１２が伸縮している場合には、その伸縮の程度に応じて、露光点データ取得手段５８において、露光点データのサンプリングピッチを変化させるようにしてもよい。具体的には、たとえば、上記のように走査方向に基板１２が伸縮し、検出位置情報１２ｄと通過位置情報１２ｃとが図１９に示すような関係となり、走査方向に隣接する検出位置情報１２ｄの間隔が、理想的な長さＬの領域Ａと、基板１２が走査方向に伸びての上記間隔が長さＬの２倍となった領域Ｂと、基板１２が走査方向に縮んで上記間隔が長さＬの１/２となった領域Ｃとが存在する場合には、たとえば、領域Ａに対応する露光点データについては、サンプリングピッチを通常の０．５として露光点データをサンプリングし、領域Ｂに対応する露光点データについては、サンプリングピッチを通常のサンプリングピッチの１/２の０．２５として露光点データをサンプリングし、領域Ｃの露光点データについては、サンプリングピッチを通常のサンプリングピッチの２倍の１．０として露光点データをサンプリングするようにしてもよい。なお、上記説明においては、基板１２が走査方向にのみ伸縮した場合における露光点データの取得方法を説明したが、上記のような場合に限らず、その他の方向にも基板１２が変形している場合においても、検出位置情報１２ｄで区切られた領域毎に、マイクロミラー３８の通過位置情報の長さが異なる場合には、上記と同様にその長さに応じてサンプリングピッチを変化させるようにしてもよい。上記のように基板１２の伸縮に応じてサンプリングピッチを変化させるようにすれば、基板１２上の所望の位置に所望の露光画像を露光することができる。

また、上記実施形態においては、露光軌跡情報取得手段５４において、基準マーク位置情報と検出位置情報とに基づいて露光軌跡情報を取得するようにしたが、必ずしも基板１２の変形を考慮して露光軌跡情報を取得するようにしなくてもよく、たとえば、露光軌跡情報取得手段５４において、基板１２の設置位置に対する各露光ヘッド３０の設置位置によって予め設定された通過位置情報を露光軌跡情報として取得し、その通過位置情報を交点配置情報算出手段５６に出力し、交点配置情報算出手段５６において、通過位置情報と中間ベクトルデータによって表わされるベクトルとの交点を算出し、この交点のｙ座標に基づいて上記と同様にして露光点データを取得するようにしてもよい。上記のような場合には、必ずしも基準マーク１２ａを設ける必要はない。また、図１に示す基準マーク１２ａは、後述する実施形態においても、使用しない場合には必ずしも設ける必要はない。基板１２の設置位置の誤差は、たとえば、基板１２のエッジを検出することによって求めることができる。

次に、本発明の描画点データ取得方法および装置並びに描画方法および装置の第２の実施形態を用いた露光装置２０について詳細に説明する。露光装置２０の外観の概略構成については、図１に示す本発明の第１の実施形態を用いた露光装置１０と同様である。

露光装置２０は、図２０に示すように、中間ベクトル生成手段５０と、移動ステージ１４のステージ移動方向と直交する方向へのずれ情報を取得するずれ情報取得手段８０と、ずれ情報取得手段８０に取得されたずれ情報に基づいて、実際の露光の際の基板１２上における各マイクロミラー３８の露光軌跡の情報を取得する露光軌跡情報取得手段８２と、露光軌跡情報取得手段８２により取得された各マイクロミラー３８毎の露光軌跡情報と中間ベクトル生成手段５０から出力された中間ベクトルデータに基づいて、上記露光軌跡情報に対応する上記中間ベクトルデータ上における露光点データ軌跡と中間ベクトルデータによって表わされるベクトルとの交点の配置を示す交点配置情報を算出する交点配置情報算出手段８４と、交点配置情報算出手段８４により算出された交点配置情報に基づいて各マイクロミラー３８毎の露光点データを取得する露光点データ取得手段８５と、露光ヘッド制御部５９と、移動機構６０と、本露光装置全体を制御するコントローラ７０とを備えている。なお、図２０において図５と同じ符号を付している構成については、上記本発明の第１の実施形態を用いた露光装置１０とその作用は同様である。

次に、露光装置２０の作用について図面を参照しながら説明する。

まず、中間ベクトル生成手段５０から交点配置情報算出手段８４に中間ベクトルデータを出力するまでの作用については上記と同様である。

そして、次に、ずれ情報取得手段８０によって移動ステージ１４のステージ移動方向への移動のずれ情報が取得される。ずれ情報とは、図２１に示すように、予め設定されたステージ移動方向（所定相対移動方向）に対する、実際の移動ステージ１４の移動方向（実移動方向）のずれを示したものである。具体的には、図２１に示すように、予め設定されたステージ移動方向への移動軌跡に対する実際の移動ステージ１４の移動軌跡の、ステージ移動方向に直交する方向についてのずれ量を所定の間隔で取得したものである。図２１に示す点線矢印の向きと長さがずれ量を示すものである。

ここで、上記のように移動ステージ１４の移動軌跡にずれがある場合、露光の際の各マイクロミラー３８の基板１２上における実際の露光軌跡は、図２２に示すように、予め設定された各マイクロミラー３８の通過位置情報１２ｃに対して上記ずれ量に応じてずれることになる。したがって、各マイクロミラー３８の実際の露光軌跡に対応した露光点データを取得する必要がある。また、図２２に示すように、マイクロミラーｍ１とマイクロミラーｍ２とは、基板１２上における同じ位置を通過するものであるが、上記のような移動ステージ１４の移動軌跡にずれがあると、これらの実際の露光軌跡は位相がずれたものになる。したがって、これらの位相ずれも考慮して露光点データを取得する必要がある。

そこで、露光装置２０においては、上記のような各マイクロミラー３８の露光軌跡のずれ量に応じた露光点データが取得される。具体的には、予め移動ステージ１４のずれ量が計測され、その計測されたずれ量が、上記のようにしてずれ量取得手段８０によって取得される。そして、ずれ量取得手段８０は、取得したずれ量を露光軌跡情報取得手段８２に出力する。ずれ量の計測方法としては、たとえば、ＩＣウェーハ・ステッパー装置などで利用されるレーザ光を用いた測定方法を用いることができる。たとえば、移動ステージ１４に、ステージ移動方向に延びる反射面を設けるとともに、その反射面に向けてレーザ光を射出するレーザ光源および上記反射面において反射した反射光を検出する検出部を設け、移動ステージ１４の移動にともなって、反射光の位相ずれを順次検出部により検出することによって上記ずれ量を計測することができる。

露光軌跡情報取得手段８２には、各マイクロミラー３８毎の通過位置情報１２ｃが設定されており、露光軌跡情報取得手段８２は、入力されたずれ量と各マイクロミラー３８毎の通過位置情報１２ｃに基づいて、露光の際の各マイクロミラー３８毎の基板１２上における実際の露光軌跡を表わす露光軌跡情報を取得する。なお、上記通過位置情報１２ｃについては、上記第１の実施形態を用いた露光装置１０の説明と同様である。

そして、その各マイクロミラー３８毎の露光軌跡情報を交点配置情報算出手段８４に出力する。交点配置情報算出手段８４は、入力された露光軌跡情報を露光点データ軌跡として、図２３に示すように、中間ベクトルデータと同じ座標系にプロットし、上記第１の実施形態と同様に、中間ベクトルデータによって表わされるベクトルと露光点データ軌跡との交点の配置情報を求める。なお、交点配置情報の算出方法については上記と同様である。

なお、図２３に示す露光点データ軌跡Ｍ１は、図２２に示すマイクロミラーｍ１の露光点データ軌跡であり、図２３に示す露光点データ軌跡Ｍ２は、図２２に示すマイクロミラーｍ２の露光点データ軌跡である。

そして、上記のようにして取得された交点配置情報のｙ座標の値が露光点データ取得手段８５に出力され、露光点データ取得手段８５において、入力された交点ｙ座標に基づいて各マイクロミラー３８毎の露光点データ列が取得される。露光点データ列の取得方法については上記と同様である。

そして、各マイクロミラー３８毎について露光点データ列がそれぞれ取得され、その各マイクロミラー３８毎の露光点データ列が露光ヘッド制御部５９に出力される。

次に、本発明の描画点データ取得方法および装置並びに描画方法および装置の第３の実施形態を用いた露光装置３０について詳細に説明する。

露光装置３０は、図２４に示すように、上記第１の実施形態を用いた露光装置１０の構成と上記第２の実施形態を用いた露光装置２０の構成とを両方兼ね備えたものである。

露光装置３０においては、上述のようにして検出位置情報取得手段５２において取得された基準マーク１２ａの検出位置情報と、上述のようにしてずれ情報取得手段８０において取得されたずれ情報とが、露光軌跡情報取得手段８６に入力される。

そして、露光軌跡情報取得手段８６は、入力された上記検出位置情報と上記ずれ情報とに基づいて、露光の際の各マイクロミラー３８毎の基板１２上における実際の露光軌跡（画像空間上における露光軌跡）を表わす露光軌跡情報を取得する。

具体的には、露光軌跡情報取得手段８６において、上記第１の実施形態と同様に、走査方向に直交する方向について隣接する検出位置情報１２ｄ同士を結ぶ直線と各マイクロミラー３８の通過位置情報１２ｃを表わす直線との交点の座標値が求められ、その交点とその交点に上記直交する方向に隣接する各検出位置情報１２ｄとの距離が求められ、上記隣接する検出位置情報１２ｄのうちの一方の検出位置情報１２ｄと交点との距離と、他方の検出位置情報１２ｄと交点との距離との比が求められる。

一方、露光軌跡情報取得手段８６は、上記第２の実施形態と同様に、入力されたずれ量と各マイクロミラー３８毎の通過位置情報１２ｃに基づいて、図２３に曲線で示されるような、各マイクロミラー３８毎の基板１２上における仮露光軌跡情報を取得する。

そして、露光軌跡情報取得手段８６は、上記のようにして求められた比と仮露光軌跡情報とを露光軌跡情報として交点配置情報算出手段８８に出力する。

そして、交点配置情報算出手段８８は、上記第１の実施形態と同様に、図２５に示すように、走査方向に直交する方向に隣接する露光画像データ基準位置情報１２ｅを結ぶ直線を、入力された比に基づいて分割した点を求めた後、その点を結ぶ直線を求め、その直線の走査方向に対する傾き分だけ仮露光軌跡情報を傾けて露光軌跡情報を表わす曲線Ｍ１’およびＭ２’を求め、その曲線を露光点データ軌跡として取得する。なお、図２５におけるＡ１：Ｂ１、Ａ２：Ｂ２は、露光軌跡情報取得手段８６から入力された比がａ１：ｂ１、ａ２：ｂ２である場合に、ａ１：ｂ１＝Ａ１：Ｂ１、ａ２：ｂ２＝Ａ２：Ｂ２を満たすような比である。

そして、上記と同様にして、各マイクロミラー３８毎の露光点データ軌跡が求められる。

そして、交点配置情報算出手段８８は、上記のようにして求められた露光点データ軌跡を、上記と同様に、中間ベクトルデータと同じ座標系にプロットし、中間ベクトルデータによって表わされるベクトルと露光点データ軌跡との交点の配置情報を求める。なお、交点配置情報の算出方法については上記と同様である。

そして、上記のようにして取得された交点配置情報のｙ座標の値が露光点データ取得手段８９に出力され、露光点データ取得手段８９において、入力された交点ｙ座標に基づいて各マイクロミラー３８毎の露光点データ列が取得される。露光点データ列の取得方法については上記と同様である。

次に、本発明の描画点データ取得方法および装置並びに描画方法および装置の第４の実施形態を用いた露光装置４０について詳細に説明する。露光装置４０の外観の概略構成については、図１に示す本発明の第１の実施形態を用いた露光装置１０と同様である。

露光装置４０は、図２６に示すように、上記第１の実施形態を用いた露光装置１０の構成に加えてさらに、基板１２の移動の速度変動情報を予め取得する速度変動情報取得手段９０を備えている。そして露光点データ取得手段９１は、速度変動情報取得手段９０により取得された速度変動情報に基づいて、移動ステージ１４の移動の速度が遅いほどサンプリングピッチを短くする。なお、図２６において図５と同じ符号を付している構成については、上記第１の実施形態を用いた露光装置１０とその作用は同様である。また、上記基板１２の移動の速度変動情報とは、本実施形態においては、移動ステージ１４の移動機構６０の制御精度に応じて発生する移動速度のムラである。

図２７は、実際の露光の際の基板１２上における所定のマイクロミラー３８の露光軌跡とそのマイクロミラー３８により露光点を露光するタイミングとを表わしたものである。なお、図２７における点線矢印が、移動ステージの速度変動がない場合におけるマイクロミラー３８の露光軌跡と露光タイミングとを表わしたものであり、実線矢印が、移動ステージの速度変動がある場合におけるマイクロミラー３８の露光軌跡と露光タイミングを表わしたものである。そして、直線上において矢印を付した部分がマイクロミラー３８による露光点の露光タイミングを示している。なお、図２７においては、説明の都合上、２つの露光軌跡を別々の直線で示しているが、これらの露光軌跡は同一のマイクロミラーの露光軌跡である。そして、図２７におけるＰ１〜Ｐ８は、基板１２上に露光される画像を構成する各画素を示したものである。また、露光タイミングと移動ステージ１４の移動速度とは、所望の解像度で基板１２上に露光画像が露光されるように相対的な関係をもって予め設定されているものである。

図２７に示すように、移動ステージ１４の速度変動がない場合には、各画素Ｐ１〜Ｐ８は、マイクロミラー３８によって１つの露光点により露光される。つまり、１つの画素に対して、マイクロミラー３８が露光する露光点の数は１つである。

一方、移動ステージ１４の速度変動がある場合には、各画素Ｐ１〜Ｐ８を露光する露光点の数は、その速度変動に応じて異なる。具体的には、１つの画素の幅を移動ステージ１４が移動する間に露光タイミングが２回以上ある場合には、つまり相対的に遅い速度で移動ステージ１４が移動して露光される領域は、各画素は２以上の露光点によって露光されることになる。そして、１つの画素の幅を移動ステージ１４が移動する間に露光タイミングが全くない場合には、つまり相対的に速い速度で移動ステージ１４が移動して露光される領域は、各画素は露光されない。

図２７においては、画素Ｐ１,Ｐ５を露光する際には、移動ステージ１４は相対的に遅い速度で移動し、画素Ｐ４,Ｐ８を露光する際には、移動ステージ１４は相対的に早い速度で移動し、画素Ｐ２,Ｐ３,Ｐ６,Ｐ７を露光する際には、移動ステージ１４は予め設定された一定の速度で移動している。

したがって、上記のような移動ステージの速度変動に応じて露光点データを取得する必要がある。

そこで、露光点データ取得手段９１は速度変動情報取得手段９０により取得された速度変動情報に応じた数の露光点データが取得されるように、サンプリングピッチを変化させる。速度変動情報とは、具体的には、たとえば、所定の露光タイミングピッチにおける移動ステージ１４のステージ移動方向への移動距離の変動情報であり、速度変動情報取得手段９０に予め設定される。

そして、上記のように速度変動情報取得手段９０に予め設定された速度変動情報が、露光点データ取得手段９１に出力され、露光点データ取得手段９１は、たとえば、移動ステージ１４の移動速度に変化がない場合には、サンプリングピッチを通常のサンプリングピッチ０．５として露光点データを取得し、移動ステージ１４の移動速度に変化がある場合には、その速度変動に応じたサンプリングピッチで露光点データを取得する。たとえば、図２７の実線矢印で示したような速度変動がある場合には、画素Ｐ１および画素Ｐ５を露光するための露光点データを取得する際には、サンプリングピッチを短くして３つの露光点データが取得されるようにする。また、画素Ｐ４および画素Ｐ８を露光するための露光点データを取得する際には、サンプリングピッチを長くして露光点データを取得しないようにする。そして、画素Ｐ２,Ｐ３,Ｐ６,Ｐ７を露光するための露光データを取得する際には、通常のサンプリングピッチとして１つの露光点データを取得するようにする。

そして、上記のようにして取得された露光点データが移動ステージ１４の移動に応じて順次露光ヘッド制御部５９に出力され、露光ヘッド制御部５９から各露光ヘッド３０のマイクロミラー３８にその露光点データに応じた制御信号が出力され、その制御信号に応じてマイクロミラーがオン・オフされて基板１２に露光点が露光される。

なお、上記第４の実施形態の露光装置４０において、検出位置情報取得手段５２により検出位置情報を取得し、その検出位置情報に基づいて露光軌跡情報取得手段５４において露光軌跡情報を取得し、交点配置情報算出手段５６において、上記露光軌跡情報に基づいて露光点データ軌跡を求めた後、その露光点データ軌跡と中間ベクトルデータによって表わされるベクトルとの交点を求め、その交点のｙ座標に２値化露光画像データを割り当てるまでの作用については、上記第１の実施形態の露光装置１０と同様である。そして、上記のようにして割り当てられた２値化露光画像データからサンプリングして露光点データを取得する際に、上記のような方法を採用することができる。

また、上記第２、第３の実施形態の露光装置においても、上記と同様の方法を用いて露光点データを取得するようにすることができる。その場合においても露光点データ軌跡と中間ベクトルデータによって表わされるベクトルとの交点を求め、その交点のｙ座標に２値化露光画像データを割り当てるまでの作用については、上記第２、第３の実施形態の露光装置と同様である。

また、上記第２の実施形態の露光装置において、上記第４の実施形態の露光装置のように速度変動情報に応じて取得する露光点データの数を変化させるようにすれば、たとえば、移動ステージ１４の蛇行を補正できるだけでなく、ヨーイングも考慮した補正を行うことができる。なお、ヨーイングとは、移動ステージ１４の蛇行に、移動ステージ１４の回転が加わったものである。上記のような移動ステージ１４の回転により、各マイクロミラー３８の基板１２上の像の位置が変化するとともに、所定の露光タイミングピッチにおける移動ステージ１４のステージ移動方向への移動距離が変化することになるので、つまり上記回転により移動ステージ１４の局所的速度変動が生じるので、上記像の位置変動および速度変動情報に応じて露光点データの数を変化させるようにすればよい。なお、蛇行成分を０として回転成分のみを考慮してもよい。

また、上記第１〜第４の実施形態を全て用いた露光装置とすることもできる。そのように構成した場合における露光装置の作用について、図２８および図２９のフローチャートを用いて簡単に説明する。なお、詳細な作用については上記説明と同様である。

まず、露光軌跡情報取得手段５４に各露光ヘッド３０のＤＭＤ３６の各マイクロミラー３８の通過位置情報が入力設定され（Ｓ１０）、移動ステージ１４のずれ情報および速度変動情報がそれぞれずれ情報取得手段８０、速度変動情報取得手段９０に入力設定される（Ｓ１２）。そして、データ作成装置４０において作成されたベクトル形式の露光画像データが中間ベクトル生成手段５０に入力され（Ｓ１４）、中間ベクトル生成手段５０において、上記露光画像データに基づいて中間ベクトルデータが生成され、その中間ベクトルデータは交点配置情報算出手段５６に出力される（Ｓ１６）。

一方、上記のように中間ベクトルデータが生成されるとともに、露光装置１０全体の動作を制御するコントローラ７０が移動機構６０に制御信号を出力し、移動機構６０はその制御信号に応じて移動ステージ１４を図１に示す位置からガイド２０に沿って一旦上流側の所定の初期位置まで移動させた後、ステージ移動方向へ所望の速度で移動させる（Ｓ１８）。

そして、上記のようにして移動する移動ステージ１４上の基板１２に基準マーク１２ａがカメラ２６によって撮影され、その撮影画像データに基づいて検出位置情報取得手段５２によって検出位置情報が取得される（Ｓ２０）
そして、上記のようにして取得された検出位置情報が、検出位置情報取得手段５２から露光軌跡情報取得手段５４に出力されるとともに、ずれ情報取得手段において設定されたずれ情報が露光軌跡情報取得手段５４に出力される。そして、露光軌跡情報取得手段５４において、基板１２上における各マイクロミラー３８の露光軌跡情報が算出されるが、具体的には、まず、第１の実施形態の露光装置において説明したように、走査方向に直交する方向について隣接する検出位置情報１２ｄを結ぶ直線と各マイクロミラー３８の通過位置情報１２ｃを表わす直線との交点の座標値が求められ、上記交点とその交点に上記直交する方向に隣接する各検出位置情報１２ｄとの距離が求められ、上記隣接する検出位置情報１２ｄのうちの一方の検出位置情報１２ｄと上記交点との距離と、他方の検出位置情報１２ｄと上記交点との距離との比が求められる。具体的には、図９におけるａ１：ｂ１、ａ２：ｂ２、ａ３：ｂ３およびａ４：ｂ４が露光軌跡情報として求められる。なお、上記比は、上記のようにして取得された検出位置情報からずれ量を差し引いた後に求められる。（Ｓ２０）。

また、露光軌跡情報取得手段５４においては、上記のような比が算出されるとともに、入力されたずれ量と各マイクロミラー３８の通過位置情報とに基づいて各マイクロミラー３８毎の仮露光軌跡情報が求められ、この仮露光軌跡情報と上記比とが露光軌跡情報として取得され、交点配置情報算出手段５６に出力される。なお、比と仮露光軌跡を求める順番は逆でもよい。そして、交点配置情報算出手段５６においては、図２５で説明したようにして露光軌跡情報に対応する露光点データ軌跡を表わす曲線が求められ（Ｓ２４）、上記のようにして求められた露光点データ軌跡を、上記と同様に、中間ベクトルデータと同じ座標系にプロットし、中間ベクトルデータによって表わされるベクトルと露光点データ軌跡との交点の配置情報を求める（Ｓ２６）。交点配置情報の算出方法については上記と同様である。

そして、上記のようにして取得された交点配置情報のｙ座標の値が露光点データ取得手段５８に出力され、そのｙ座標の値に基づいて、上記のように２値化露光画像データが割り当てられる（Ｓ２８）。

そして、露光点データ取得手段５８には、速度変動情報取得手段９０において取得された速度変動情報が入力され、上記第４の実施形態の露光装置において説明したように、上記速度変動情報に応じたサンプリングピッチが設定され、そのサンプリングピッチで２値化露光画像データがサンプリングされて各マイクロミラー３８毎の露光点データ列が取得される（Ｓ３０）。露光点データ列の取得方法については上記と同様である。

なお、このとき速度変動情報だけでなく、基板１２の走査方向への伸縮も考慮して、つまり、基板１２の検出位置情報１２ｄで区切られた領域毎のマイクロミラー３８の通過位置情報の長さも考慮してサンプリングピッチを決定することが望ましい。

そして、上記のようにして取得された各マイクロミラー３８毎の露光点データの列に９０度回転処理もしくは行列を用いた転置変換などが施され、図１７に示すように、基板１２に対する各露光ヘッド３０の各位置に応じたフレームデータ１〜ｍが生成される（Ｓ３２）。

一方、上記のようにフレームデータ１〜ｍが生成されるとともに、移動ステージ１４が、図１に示す下流側の位置から上流側へ所望の速度で移動させられる。そして、基板１２の先端がカメラ２６により検出されると露光が開始され、上記フレームデータ１〜ｍが移動ステージ１４の移動に応じて各露光ヘッド３０にその位置に応じて順次出力され、各露光ヘッド３０によりフレームデータに基づいた露光画像が基板１２上に露光される（Ｓ３４）。そして、全てのフレームデータが露光ヘッド３０に入力され、露光が終了すると再び移動ステージ１４は上流側に移動する（Ｓ３６）。そして、次の基板１２がある場合にはその基板１２に交換された後、再びＳ１６からの処理が行われ、次の基板１２がない場合にはそのまま終了する（Ｓ３４）。

上記第１〜第４の実施形態の露光装置によれば、露光画像を表わすベクトル形式の露光画像データを取得するとともに、露光画像の露光の際の基板１２上におけるマイクロミラー３８の露光軌跡の情報を取得し、露光画像データにより表わされる露光画像の輪郭と露光軌跡情報に対応する露光画像データ上における露光点データ軌跡との交点の配置を示す交点配置情報を取得し、交点配置情報に基づいて露光点データ軌跡に対応した露光点データを取得するようにしたので、従来のようにベクトル形式の露光画像データをラスター形式の露光画像データに変換することなくベクトル形式の露光画像データから直接露光点データを取得することができ、処理速度の低下およびコストアップを招くことなく、露光精度の向上を図ることができる。

図３０に、上記第１〜第４の実施形態の露光装置の効果を視覚的に表わした模式図を示す。図３０（Ａ）はラスター形式の露光画像データを用いて露光した場合の露光画像を示す図であり、図３０（Ｂ）はベクトル形式の露光画像データを用いて露光した場合の露光画像を示したものである。なお、図３０（Ａ），（Ｂ）における黒丸はマイクロミラーを示したものであり、点線矢印はマイクロミラーとそのマイクロミラーにより露光される露光画素との対応関係を示したものである。

また、上記第１の実施形態の露光装置のように、基板１２上の所定位置に予め設けられた複数の基準マーク１２ａを検出してその基準マーク１２ａの位置を示す検出位置情報１２ｄを取得し、その取得した検出位置情報１２ｄに基づいて露光軌跡情報を取得するようにした場合には、たとえば、基板１２に変形が生じたような場合でも、その変形後の基板１２上におけるマイクロミラー３８の露光軌跡の情報を予め取得し、その露光軌跡情報に対応した露光点データを露光画像データから取得することができるので、上記変形に応じた露光画像を基板１２上に描画することができる。したがって、たとえば、多層プリント配線板を形成する際には、各層の配線パターンをその各層の変形に応じて形成することができるので各層の配線パターンの位置合わせを高精度に行うことができる。

また、上記第２および第３の実施形態の露光装置のように、予め設定された基板１２の所定移動方向に対する露光画像の露光の際の基板１２の実移動方向のずれ情報を取得し、その取得したずれ情報に基づいて露光軌跡情報を取得するようにした場合には、基板１２の移動方向にずれが生じた場合においても、その移動方向のずれに応じた露光軌跡の情報を予め取得し、その露光軌跡情報に対応した露光点データを露光画像データから取得することができるので、上記移動方向のずれに影響されることなく基板１２上の所望の位置に所望の露光画像を描画することができる。

また、上記第４の実施形態の露光装置のように、予め設定された基板１２の所定移動速度に対する露光画像の露光の際の基板１２の実移動速度の変動を示す速度変動情報を取得し、その取得した速度変動情報に基づいて、基板１２の実移動速度が相対的に遅い基板１２上の露光領域ほど描画点データの数が多くなるようにサンプリングピッチを変化させて露光点データを取得するようにした場合には、移動ステージ１４の移動速度のムラに影響されることなく、基板１２上の所望の位置に所望の露光画像を露光することができる。

また、上記第１〜第４の実施形態の露光装置においては、上記のようにベクトル形式の露光画像データ上に、基板１２の変形などに応じて取得された露光点データ軌跡を対応させて露光点データを取得するようにしたが、検出位置情報に対応させて露光画像データを変形し、その変形した露光画像データと同様に変形した露光点データ軌跡とに基づいて露光点データを取得するようにしてもよい。なお、誤差の性質に応じて、画像データの変形で吸収するものと、露光点データ軌跡（ピッチ成分を含む）の変形で吸収するものとを分けるようにしてもよい。たとえば、基板の変形や設置位置の誤差は、画像データの変形で対応し、移動ステージの搬送誤差などは、露光点データ軌跡の変形で対応するようにしてもよい。この場合、移動ステージの搬送誤差などを考慮しなければ、露光点データ軌跡を不変とすることもできる。

また、上記第１〜第４の実施形態の露光装置においては、中間ベクトルデータを生成し、この中間ベクトルデータを利用して露光点データ軌跡と露光画像データにより表される露光画像の輪郭の交点を求めるようにしたが、必ずしも中間ベクトルデータは生成しなくても上記交点を求めることができる。たとえば、図３１に示すように、ベクトル形式の露光画像データが、方向と長さを示す線分データＤ１と太さデータＤ２とからなるものである場合には、まず、図３１に矢印で示す露光点データ軌跡と線分データＤ１との交点０を求め、下式（１）より角度θ１を求め、その角度θ１に基づいて下式（２）よりＯＰの長さを求め、そのＯＰの長さに基づいて下式（３）より交点Ｐの座標を求めることができる。また、交点Ｑの座標も、上記と同様に、θ１、θ２、θ３、ＱＰおよびＯｘとＯｙに基づいて求めるようにすればよい。なお、図３１におけるＬ１およびＬ２はｘ方向に平行な直線である。

θ１＝θ３−θ２・・・（１）
ＯＰ＝（Ｄ２/２） × （１/ｓｉｎθ１）・・・（２）
Ｐｘ＝Ｏｘ＋ＯＰ×ｃｏｓθ３、Ｐｙ＝Ｏｙ＋ＯＰ×ｓｉｎθ３・・・（３）
但し、Ｐｘは交点Ｐのｘ座標、Ｐｙは交点Ｐのｙ座標
Ｏｘは点Ｏのｘ座標、Ｏｙは点Ｏのｙ座標
また、ベクトル形式の露光画像データから露光点データを取得する方法としては、上記第１〜第４の実施形態で説明した方法に限らず、その他の方法も考えることができる。たとえば、図３２に示すように、基板１２上における露光点Ｐ１の位置に対応する露光画像データＤ上の位置座標（ｘ１,ｙ１）を取得し、ベクトル形式の露光画像データＤと上記位置座標（ｘ１,ｙ１）とに基づいて露光点の露光点データを取得することができる。具体的には、たとえば、ベクトル形式の露光画像データが、図３３に示すように、方向と長さを示す線分データＤ１と太さデータＤ２とからなるものである場合には、露光点Ｐ１と線分Ｄ１との距離Ｌ３を求め、Ｌ３とＤ２/２との大きさを比較して露光点Ｐ１が露光画像データにより表される露光画像上にあるか否かを判定し、露光画像上にある場合には、そのベクトル形式の露光画像データにより示される値を露光点Ｐ１の露光点データとして取得するようにすればよい。なお、上記ベクトル形式の露光画像データにより示される値は２値に限らず、多値でもよい。一方、露光点Ｐ１が露光画像上にない場合には、露光点Ｐ１の露光点データとして０を取得するようにすればよい。

また、上記露光点Ｐ１の位置座標は、図３４に示すように、基板１２上の所定位置におけるマイクロミラー３８の位置を示すものとすることができる。

また、図３５に示すように、露光画像データＤに基づいて決定される複数の露光画像と露光点Ｐ１の位置座標を含む線Ｌ４とを重ね合わせ、線Ｌ４が重なる露光画像の露光画像データに基づいて露光点データを取得するようにすることができる。

また、図３６に示すように、上記線Ｌ４を、基板１２上におけるマイクロミラー３８の露光軌跡とすることができる。

また、図３７に示すように、上記線Ｌ４を、基板１２上の所定位置におけるＤＭＤ３６の各マイクロミラー３８を結ぶ直線とすることができる。この場合、まず、ベクトルの開始点の位置座標（たとえば、所定の１つのマイクロミラーの位置座標）を取得した後、この始点から延びる直線と露光画像データＤの輪郭ベクトルとの交点を計算し、各交点間もしくはそれ以外の区間に含まれるマイクロミラーについて露光点データを算出する。直線の形状は、ビームスポットの配列に基づいて固定値として設定してもよいし、上述の露光軌跡の場合と同様に、基板の変形や移動ステージの搬送誤差などを考慮して変形したものとしてもよい。

また、図３８に示すように、露光画像データに基づいて決定される複数の露光画像と露光点Ｐ１の位置座標を含む所定領域Ａとを重ね合わせ、所定領域Ａが重なる露光画像の露光画像データに基づいて露光点データを取得するようにすることができる。

また、図３９に示すように、所定領域Ａを、基板１２上の所定位置におけるＤＭＤ３６の領域とすることができる。たとえば、ＤＭＤ３６の像の全部または一部毎に、領域Ａを設定するようにしてもよい。

また、図４０（Ａ）,（Ｂ）に示すように、露光画像データＤ上における所定の矩形領域Ｓを設定し、その矩形領域Ｓ内について、ＤＭＤ３６の領域と露光画像との重なりを求め、その重なり部分の露光画像データに基づいて露光点Ｐ１の露光点データを取得するようにしてもよい。

また、上記実施形態では、空間光変調素子としてＤＭＤを備えた露光装置について説明したが、このような反射型空間光変調素子の他に、透過型空間光変調素子を使用することもできる。

また、上記実施形態では、いわゆるフラッドベッドタイプの露光装置を例に挙げたが、感光材料が巻きつけられるドラムを有する、いわゆるアウタードラムタイプの露光装置としてもよい。

また、上記実施形態の露光対象である基板１２は、プリント配線基板だけでなく、フラットパネルディスプレイの基板であってもよい。この場合、パターンは、カラーフィルター、ブラックマトリックス、ＴＦＴなどの半導体回路、その他の各種の構造体であってもよい。また、基板１２の形状は、シート状のものであっても、長尺状のもの（フレキシブル基板など）であってもよい。

また、本発明における描画方法および装置は、インクジェット方式などのプリンタにおける描画にも適用することができる。たとえば、インクの吐出による描画点を、本発明と同様に形成することができる。つまり、本発明における描画点形成領域を、インクジェット方式のプリンタの各ノズルから吐出されたインクが付着する領域として考えることができる。

また、上記描画軌跡情報は、実際の基板上における描画点形成領域の描画軌跡を用いて描画軌跡情報としてもよいし、実際の基板上における描画点形成領域の描画軌跡を近似したものを描画軌跡情報としてもよいし、実際の基板上における描画点形成領域の描画軌跡を予測したものを描画軌跡情報としてもよい。

また、基板の変形やステージの移動誤差に応じて、画像データ上におけるビームの軌跡を折れ線や曲線等の非直線で規定するのと同様に、ピッチ成分も非直線的に規定することができる。

この場合、各ビーム軌跡に対応させて、ピッチ成分の情報を保持していることが好ましい。ただし、基板の位置ずれや傾きのみを考慮するような場合には、全てのビーム軌跡に共通のピッチ成分（この場合、ピッチ間隔も全て一定としてもよい）を割り当ててもよい。

つまり、基板の位置補正及び基板搬送方向と直交する方向の画像変形補正は、ビーム軌跡の変化で対応し、基板搬送方向に沿った方向の画像変形補正は、ピッチ成分の変化で対応することができる。この場合、ビーム軌跡ごとにピッチ成分を与えておくことによって、局所的又は変形量が連続的に変化するような変形補正にも対応することができる。

また、ピッチ成分は、ビーム軌跡ベクトルの向きに沿って設定してもよいし、ビーム軌跡ベクトルを所定の座標軸に投影したベクトルに沿って設定してもよい。

また、ピッチ成分に対応付けて、画像の輪郭とビーム軌跡との交点位置の情報を求めておく（例えば、交点位置をピッチ成分で与える）ことによって、ビーム軌跡に沿ったこの交点位置の情報の集まりを、圧縮データ的に扱うようにしてもよい。

また、上記実施形態においては、２つ以上のマイクロミラー（ビーム）毎に１つの露光点データ軌跡を取得するようにしてもよい。たとえば、マイクロレンズアレイを構成する１つのマイクロレンズによって集光される複数のビーム毎に露光点データ軌跡を求めることができる。

また、基板の変形等を画像データの変形で吸収する場合には、図４１に示すように、輪郭ベクトルを変形させるようにしてもよい。この場合、たとえば、図５中の検出位置情報取得手段５２から中間ベクトル生成手段５０に、基準マーク１２ａの検出位置情報が供給される。

上記のように、本実施形態においては、ベクトル形式の画像データ上に規定した線（露光点データ軌跡）に基づいて、露光点データを求めることができるため、そのための計算を高速に行うことができる。ここで、線として上記露光軌跡情報に基づく露光軌跡ベクトルを用いた場合と、ビームスポット列に沿って規定したビーム列ベクトル（たとえば、図３７の線Ｌ４）を用いた場合とにおける、計算量の違いについて説明する。露光軌跡ベクトルを用いた場合、交点計算の回数は、マイクロミラー数（たとえば、１０２４×２４０個）×対象となる露光画像データのベクトル数となるのに対して、ビーム列ベクトルを用いた場合は、ビーム列数（たとえば、２４０個）×対象となる露光画像データのベクトル数×フレーム数となる。この場合、フレーム数は、基板の長さ／露光ピッチで求められ、たとえば、１００００００ほどの値となる。したがって、ビーム列ベクトルを用いた場合の方が計算量が多いことになる。一方、ビーム列ベクトルを用いた場合は、フレーム毎にデータを作成することができるため、リアルタイム性に優れている。つまり、ステージの振動などの非再現性の誤差原因にも対応可能である（図３９の例のように、ＤＭＤ３６に対して所定領域Ａを設ける場合も同様である）。

本発明の描画方法および装置の第１〜第４の実施形態を用いた露光装置の概略構成を示す斜視図図１の露光装置のスキャナの構成を示す斜視図（Ａ）は基板の露光面上に形成される露光済み領域を示す平面図、（Ｂ）は各露光ヘッドによる露光エリアの配列を示す平面図図１の露光装置の露光ヘッドにおけるＤＭＤを示す図本発明の第１の実施形態を用いた露光装置の電気制御系の構成を示すブロック図ベクトル形式の露光画像データで表わされる露光画像の一例を示す図（Ａ）、図６（Ａ）で示される露光画像の露光画像データに基づいて生成された中間ベクトルデータによって表わされるベクトルを示す図（Ｂ）露光画像に重なりがある場合における中間ベクトルデータの生成方法を説明するための図理想的な形状の基板上における基準マークと所定のマイクロミラーの通過位置情報との関係を示す模式図マイクロミラーの露光軌跡情報の取得方法を説明するための図マイクロミラーの露光軌跡情報に基づいて露光点データ軌跡を取得する方法を説明するための図露光点データ軌跡と中間ベクトルデータから交点配置情報を取得する方法を説明するための図中間ベクトルデータによって表わされるベクトルが線分である場合における交点配置情報の算出方法を説明するためのフローチャート中間ベクトルデータによって表わされるベクトルが円弧である場合における交点配置情報の算出方法を説明するためのフローチャート中間ベクトルデータによって表わされるベクトルが円弧である場合における交点配置情報の算出方法を説明するための図交点配置情報に基づいてマイクロミラーの露光点データを取得する方法を説明するための図各マイクロミラー毎の露光点データ列を示す図各フレームデータを示す図交点配置情報に基づいてマイクロミラーの露光点データを取得するその他の方法を説明するための図基板の伸縮に応じた露光点データの取得方法を説明するための図本発明の第２の実施形態を用いた露光装置の電気制御系の構成を示すブロック図移動ステージの移動方向のずれを説明するための図所定のマイクロミラーの露光軌跡を示す図露光点データ軌跡と中間ベクトルデータから交点配置情報を取得する方法を説明するための図本発明の第３の実施形態を用いた露光装置の電気制御系の構成を示すブロック図マイクロミラーの露光軌跡情報に基づいて露光点データ軌跡を取得する方法を説明するための図本発明の第４の実施形態を用いた露光装置の電気制御系の構成を示すブロック図マイクロミラーの露光軌跡とそのマイクロミラーによる露光タイミングとを表わした図本発明の第１〜第４の実施形態を全て用いた構成の露光装置の作用を説明するためのフローチャート本発明の第１〜第４の実施形態を全て用いた構成の露光装置の作用を説明するためのフローチャート従来の露光装置によって露光された露光画像（Ａ）と、本発明の実施形態を用いた露光装置によって露光された露光画像（Ｂ）とを模式的に示す図中間ベクトルデータを生成せずに交点座標を求める方法を説明するための図露光点データ取得方法のその他の実施形態を説明するための図露光点データ取得方法のその他の実施形態を説明するための図露光点データ取得方法のその他の実施形態を説明するための図露光点データ取得方法のその他の実施形態を説明するための図露光点データ取得方法のその他の実施形態を説明するための図露光点データ取得方法のその他の実施形態を説明するための図露光点データ取得方法のその他の実施形態を説明するための図露光点データ取得方法のその他の実施形態を説明するための図露光点データ取得方法のその他の実施形態を説明するための図変形した輪郭ベクトルを示す図

符号の説明

１０,２０,３０,４０露光装置
１２基板
１２ａ基準マーク
１２ｂ基準マーク位置情報
１２ｃ通過位置情報
１２ｄ検出位置情報
１４移動ステージ
１８設置台
２０ガイド
２２ゲート
２４スキャナ
２６カメラ
３０露光ヘッド（描画手段）
３２露光エリア
３６ＤＭＤ
５０中間ベクトル生成手段
５２検出位置情報取得手段
５４，８２，８６露光軌跡情報取得手段（描画軌跡情報取得手段）
５６，８４，８８交点配置情報算出手段
５８，８５，９１露光点データ取得手段（描画点データ取得手段）
８０ずれ情報取得手段
９０速度変動情報取得手段

Claims

描画点データに基づいて描画点を描画対象上に形成して前記描画対象上に画像を描画する際に用いられる前記描画点データを取得する描画点データ取得方法において、
前記画像の元のベクトル形式の画像データを取得するとともに、前記描画対象上における前記描画点を形成すべき位置に対応する前記画像データ上の位置座標を取得し、
前記ベクトル形式の画像データと前記位置座標とに基づいて前記描画点の前記描画点データを取得することを特徴とする描画点データ取得方法。
描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、該移動に応じて前記描画点を前記描画対象上に順次形成して前記描画対象上に画像を描画する際に用いられる前記描画点データを取得する描画点データ取得方法において、
前記画像の元のベクトル形式の画像データを取得するとともに、前記画像の描画のための前記描画対象上におけるまたは前記基板上の画像空間上における前記描画点形成領域の描画軌跡の情報を取得し、
前記画像データにより表わされまたは前記画像データから求められる画像の輪郭と前記描画軌跡情報に対応する前記画像データ上における描画点データ軌跡との交点の配置を示す交点配置情報を取得し、
前記交点配置情報に基づいて前記描画点データ軌跡に対応した前記描画点データを取得することを特徴とする描画点データ取得方法。
描画点データに基づいて描画点を描画対象上に形成して前記描画対象上に画像を描画する描画方法において、
前記画像の元のベクトル形式の画像データを取得するとともに、前記描画対象上における前記描画点を形成すべき位置に対応する前記画像データ上の位置座標を取得し、
前記ベクトル形式の画像データと前記位置座標とに基づいて前記描画点の前記描画点データを取得し、
該取得した描画点データに基づいて前記描画点を前記描画対象上に形成することを特徴とする描画方法。
描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、該移動に応じて前記描画点を前記描画対象上に順次形成して前記描画対象上に画像を描画する描画方法において、
前記画像の元のベクトル形式の画像データを取得するとともに、前記画像の描画の際の前記描画対象上における前記描画点形成領域の描画軌跡の情報を取得し、
前記画像データにより表わされまたは前記画像データから求められる画像の輪郭と前記描画軌跡情報に対応する前記画像データ上における描画点データ軌跡との交点の配置を示す交点配置情報を取得し、
前記交点配置情報に基づいて前記描画点データ軌跡に対応した前記描画点データを取得し、
該取得した描画点データに基づいて前記描画点形成領域によって前記描画点を前記描画対象上に形成することを特徴とする描画方法。
描画点データに基づいて描画点を描画対象上に形成して前記描画対象上に画像を描画する際に用いられる前記描画点データを取得する描画点データ取得装置において、
前記描画対象上における前記描画点を形成すべき位置に対応する、前記画像の元のベクトル形式の画像データ上の位置座標を取得する位置座標取得手段と、
前記画像の元のベクトル形式の画像データを取得し、該取得したベクトル形式の画像データと前記位置座標取得手段により取得された位置座標とに基づいて前記描画点の前記描画点データを取得する描画点データ取得手段を備えたことを特徴とする描画点データ取得装置。
前記描画点データ取得手段が、前記画像データに基づいて決定される画像領域と前記位置座標とを重ね合わせ、前記位置座標が属する前記画像領域の画像データに基づいて前記描画点データを取得するものであることを特徴とする請求項５記載の描画点データ取得装置。
描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、該移動に応じて前記描画点を前記描画対象上に順次形成して前記描画対象上に画像を描画する際に用いられる前記描画点データを取得する描画点データ取得装置であって、
前記位置座標が、前記描画対象上の所定位置における前記描画点形成領域に対応するものであることを特徴とする請求項６記載の描画点データ取得装置。
前記描画点データ取得手段が、前記画像データに基づいて決定される画像領域と前記位置座標を含む線とを重ね合わせ、前記線が重なる前記画像領域の画像データに基づいて前記描画点データを取得するものであることを特徴とする請求項５記載の描画点データ取得装置。
前記描画点データ取得手段が、前記画像データと前記線との交点の位置に基づいて前記描画点データを取得するものであることを特徴とする請求項８記載の描画点データ取得装置。
前記画像データに表されまたは前記画像データから求められる画像の輪郭と、前記線との交点を示す交点配置情報を取得する交点配置情報取得手段を備え、
前記描画点データ取得手段が、前記交点配置情報取得手段により取得された交点配置情報に基づいて前記描画点データを取得するものであることを特徴とする請求項８記載の描画点データ取得装置。
前記線が、複数の前記描画点に対応する複数の前記位置座標を結ぶものであることを特徴とする請求項８記載の描画点データ取得装置。
前記線が、時系列に並ぶ複数の前記描画点に対応する複数の前記位置座標を結ぶものであることを特徴とする請求項８記載の描画点データ取得装置。
描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、該移動に応じて前記描画点を前記描画対象上に順次形成して前記描画対象上に画像を描画する際に用いられる前記描画点データを取得する描画点データ取得装置であって、
前記線が、時系列に並ぶ複数の前記描画点に対応する複数の前記位置座標を結ぶものであることを特徴とする請求項８記載の描画点データ取得装置。
描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、該移動に応じて前記描画点を前記描画対象上に順次形成して前記描画対象上に画像を描画する際に用いられる前記描画点データを取得する描画点データ取得装置であって、
前記線が、前記描画対象上におけるまたは前記描画対象上の画像空間における前記描画点形成領域の描画軌跡に対応するものであることを特徴とする請求項８記載の描画点データ取得装置。
描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を複数有する描画点形成領域群を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、該移動に応じて前記描画点形成領域群に対応する描画点群を前記描画対象上に順次形成して前記描画対象上に画像を描画する際に用いられる前記描画点データを取得する描画点データ取得装置であって、
前記線が、前記描画対象上の所定位置における前記描画点形成領域群の少なくとも一部の前記描画点形成領域を結ぶ線に対応するものであることを特徴とする請求項８記載の描画点データ取得装置。
前記線にサンプリングピッチの情報が付随していることを特徴とする請求項８から１５いずれか１項記載の描画点データ取得装置。
前記描画点データ取得手段が、前記画像データに基づいて決定される画像領域と前記位置座標を含む所定領域とを重ね合わせ、前記所定領域が重なる前記画像領域の画像データに基づいて前記描画点データを取得することを特徴とする請求項５記載の描画点データ取得装置。
描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を複数有する描画点形成領域群を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、該移動に応じて前記描画点形成領域群に対応する描画点群を前記描画対象上に順次形成して前記描画対象上に画像を描画する際に用いられる前記描画点データを取得する描画点データ取得装置であって、
前記所定領域が、前記描画対象上の所定位置における前記描画点形成領域群の少なくとも一部の領域に対応するものであることを特徴とする請求項１７記載の描画点データ取得装置。
描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、該移動に応じて前記描画点を前記描画対象上に順次形成して前記描画対象上に画像を描画する際に用いられる前記描画点データを取得する描画点データ取得装置において、
前記画像の描画のための前記描画対象上におけるまたは前記描画対象上の画像空間上における前記描画点形成領域の描画軌跡の情報を取得する描画軌跡情報取得手段と、
前記画像の元のベクトル形式の画像データを取得し、該取得した画像データにより表わされまたは前記画像データから求められる画像の輪郭と前記描画軌跡情報に対応する前記画像データ上における描画点データ軌跡との交点の配置を示す交点配置情報を取得する交点配置情報取得手段と、
該交点配置情報取得手段により取得された交点配置情報に基づいて前記描画軌跡に対応した前記描画点データを取得する描画点データ取得手段とを備えたことを特徴とする描画点データ取得装置。
前記描画点データ取得手段が、前記描画点データ軌跡を前記交点配置情報により示される交点により区切って部分描画点データ軌跡とし、前記部分描画点データ軌跡に、該部分描画点データ軌跡の並ぶ順に２値化データを交互に割り当て、該部分描画点データ軌跡毎に割り当てられた２値化データを、前記移動の方向に対応する前記画像データ上の走査方向について所定間隔でサンプリングして前記描画点データ軌跡に対応した前記描画点データを取得するものであることを特徴とする請求項１９記載の描画点データ取得装置。
前記描画点データ取得手段が、前記交点配置情報の前記移動の方向に対応する前記画像データ上の走査方向の座標値を取得し、該取得した座標値を、前記画像データ上の走査方向の所定間隔の値でそれぞれ除算して量子化値を求め、前記画像データ上の走査方向に隣接する量子化値の差を求め、該差をランレングスデータとして取得し、該取得されたランレングスデータをデコードして前記描画点データ軌跡に対応した前記描画点データを取得するものであることを特徴とする請求項１９記載の描画点データ取得装置。
予め設定された前記描画対象の所定相対移動速度に対する前記画像の描画の際の前記描画対象の実移動速度の変動を示す速度変動情報を取得する速度変動情報取得手段をさらに備え、
前記描画点データ取得手段が、前記速度変動情報取得手段により取得された速度変動情報に基づいて、前記描画対象の実移動速度が相対的に遅い前記描画対象上の描画領域ほど前記描画点データの数が多くなるように前記描画点データを取得するものであることを特徴とする請求項１９から２１いずれか１項記載の描画点データ取得装置。
前記描画対象上の所定位置に予め設けられた複数の基準マークを検出して該基準マークの位置を示す検出位置情報を取得する位置情報検出手段をさらに備え、
前記描画軌跡情報取得手段が、前記位置情報検出手段により取得された検出位置情報に基づいて前記描画軌跡情報を取得するものであることを特徴とする請求項１９から２２いずれか１項記載の描画点データ取得装置。
予め設定された前記描画対象の所定相対移動方向に対する前記画像の描画の際の前記描画対象の実移動方向のずれ情報を取得するずれ情報取得手段をさらに備え、
前記描画点軌跡情報取得手段が、前記ずれ情報取得手段により取得されたずれ情報に基づいて前記描画軌跡情報を取得するものであることを特徴とする請求項１９から２２いずれか１項記載の描画点データ取得装置。
予め設定された前記描画対象の所定相対移動方向に対する前記画像の描画の際の前記描画対象の実移動方向のずれ情報を取得するずれ情報取得手段をさらに備え、
前記描画点軌跡情報取得手段が、前記ずれ情報取得手段により取得されたずれ情報および前記位置情報検出手段により取得された検出位置情報に基づいて前記描画軌跡情報を取得するものであることを特徴とする請求項２３記載の描画点データ取得装置。
描画点データに基づいて描画点を描画対象上に形成して前記描画対象上に画像を描画する描画装置において、
前記描画対象上における前記描画点を形成すべき位置に対応する、前記画像の元のベクトル形式の画像データ上の位置座標を取得する位置座標取得手段と、
前記画像の元のベクトル形式の画像データを取得し、該取得したベクトル形式の画像データと前記位置座標取得手段により取得された位置座標とに基づいて前記描画点の前記描画点データを取得する描画点データ取得手段と、
該描画点データ取得手段により取得した描画点データに基づいて前記描画点を前記描画対象上に形成する描画手段とを備えたことを特徴とする描画装置。
前記描画点データ取得手段が、前記画像データに基づいて決定される画像領域と前記位置座標とを重ね合わせ、前記位置座標が属する前記画像領域の画像データに基づいて前記描画点データを取得するものであることを特徴とする請求項２６記載の描画装置。
描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、該移動に応じて前記描画点を前記描画対象上に順次形成して前記描画対象上に画像を描画する描画装置であって、
前記位置座標が、前記描画対象上の所定位置における前記描画点形成領域に対応するものであることを特徴とする請求項２７記載の描画装置。
前記描画点データ取得手段が、前記画像データに基づいて決定される画像領域と前記位置座標を含む線とを重ね合わせ、前記線が重なる前記画像領域の画像データに基づいて前記描画点データを取得するものであることを特徴とする請求項２６記載の描画装置。
前記描画点データ取得手段が、前記画像データと前記線との交点の位置に基づいて前記描画点データを取得するものであることを特徴とする請求項２９記載の描画装置。
前記画像データに表されまたは前記画像データから求められる画像の輪郭と、前記線との交点を示す交点配置情報を取得する交点配置情報取得手段を備え、
前記描画点データ取得手段が、前記交点配置情報取得手段により取得された交点配置情報に基づいて前記描画点データを取得するものであることを特徴とする請求項２９記載の描画装置。
前記線が、複数の前記描画点に対応する複数の前記位置座標を結ぶものであることを特徴とする請求項２９記載の描画装置。
前記線が、時系列に並ぶ複数の前記描画点に対応する複数の前記位置座標を結ぶものであることを特徴とする請求項２９記載の描画装置。
描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、該移動に応じて前記描画点を前記描画対象上に順次形成して前記描画対象上に画像を描画する描画装置であって、
前記線が、時系列に並ぶ複数の前記描画点に対応する複数の前記位置座標を結ぶものであることを特徴とする請求項２９記載の描画装置。
描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、該移動に応じて前記描画点を前記描画対象上に順次形成して前記描画対象上に画像を描画する描画装置であって、
前記線が、前記描画対象上におけるまたは前記描画対象上の画像空間における前記描画点形成領域の描画軌跡に対応するものであることを特徴とする請求項２９記載の描画装置。
描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を複数有する描画点形成領域群を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、該移動に応じて前記描画点形成領域群に対応する描画点群を前記描画対象上に順次形成して前記描画対象上に画像を描画する描画装置であって、
前記線が、前記描画対象上の所定位置における前記描画点形成領域群の少なくとも一部の前記描画点形成領域を結ぶ線に対応するものであることを特徴とする請求項２９記載の描画装置。
前記線にサンプリングピッチの情報が付随していることを特徴とする請求項２９から３６いずれか１項記載の描画装置。
前記描画点データ取得手段が、前記画像データに基づいて決定される画像領域と前記位置座標を含む所定領域とを重ね合わせ、前記所定領域が重なる前記画像領域の画像データに基づいて前記描画点データを取得することを特徴とする請求項２６記載の描画装置。
描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を複数有する描画点形成領域群を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、該移動に応じて前記描画点形成領域群に対応する描画点群を前記描画対象上に順次形成して前記描画対象上に画像を描画する描画装置であって、
前記所定領域が、前記描画対象上の所定位置における前記描画点形成領域群の少なくとも一部の領域に対応するものであることを特徴とする請求項３８記載の描画装置。
描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、該移動に応じて前記描画点を前記描画対象上に順次形成して前記描画対象上に画像を描画する描画装置において、
前記画像の描画のための前記描画対象上における前記描画点形成領域の描画軌跡の情報を取得する描画軌跡情報取得手段と、
前記画像の元のベクトル形式の画像データを取得し、該取得した画像データにより表わされまたは前記画像データから求められる画像の輪郭と前記描画軌跡情報に対応する前記画像データ上における描画点データ軌跡との交点の配置を示す交点配置情報を取得する交点配置情報取得手段と、
該交点配置情報取得手段により取得された交点配置情報に基づいて前記描画軌跡に対応した複数の前記描画点データを取得する描画点データ取得手段と
該描画点データ取得手段により取得した描画点データに基づいて前記描画点形成領域によって前記描画点を前記描画対象上に形成する描画手段とを備えたことを特徴とする描画装置。
前記描画点データ取得手段が、前記描画点データ軌跡を前記交点配置情報により示される交点により区切って部分描画点データ軌跡とし、前記部分描画点データ軌跡に、該部分描画点データ軌跡の並ぶ順に２値化データを交互に割り当て、該部分描画点データ軌跡毎に割り当てられた２値化データを、前記移動の方向に対応する前記画像データ上の走査方向について所定間隔でサンプリングして前記描画点データ軌跡に対応した前記描画点データを取得するものであることを特徴とする請求項４０記載の描画装置。
前記描画点データ取得手段が、前記交点配置情報の前記移動の方向に対応する前記画像データ上の走査方向の座標値を取得し、該取得した座標値を、前記画像データ上の走査方向の所定間隔の値でそれぞれ除算して量子化値を求め、前記画像データ上の走査方向に隣接する量子化値の差を求め、該差をランレングスデータとして取得し、該取得されたランレングスデータをデコードして前記描画点データ軌跡に対応した前記描画点データを取得するものであることを特徴とする請求項４０記載の描画装置。
予め設定された前記描画対象の所定相対移動速度に対する前記画像の描画の際の前記描画対象の実移動速度の変動を示す速度変動情報を取得する速度変動情報取得手段をさらに備え、
前記描画点データ取得手段が、前記速度変動情報取得手段により取得された速度変動情報に基づいて、前記描画対象の実移動速度が相対的に遅い前記描画対象上の描画領域ほど前記描画点データの数が多くなるように前記描画点データを取得するものであることを特徴とする請求項４０から４２いずれか1項記載の描画装置。
前記描画対象上の所定位置に予め設けられた複数の基準マークを検出して該基準マークの位置を示す検出位置情報を取得する位置情報検出手段をさらに備え、
前記描画軌跡情報取得手段が、前記位置情報検出手段により取得された検出位置情報に基づいて前記描画軌跡情報を取得するものであることを特徴とする請求項４０から４３いずれか１項記載の描画装置。
予め設定された前記描画対象の所定相対移動方向に対する前記画像の描画の際の前記描画対象の実移動方向のずれ情報を取得するずれ情報取得手段をさらに備え、
前記描画点軌跡情報取得手段が、前記ずれ情報取得手段により取得されたずれ情報に基づいて前記描画軌跡情報を取得するものであることを特徴とする請求項４０から４３いずれか１項記載の描画装置。
予め設定された前記描画対象の所定相対移動方向に対する前記画像の描画の際の前記描画対象の実移動方向のずれ情報を取得するずれ情報取得手段をさらに備え、
前記描画点軌跡情報取得手段が、前記ずれ情報取得手段により取得されたずれ情報および前記位置情報検出手段により取得された検出位置情報に基づいて前記描画軌跡情報を取得するものであることを特徴とする請求項４４記載の描画装置。