JP4849112B2 - 配線基板及び配線基板の製造方法 - Google Patents
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Description
また、突出部の硬度がベース部よりも高いと、接合時の荷重によって突出部がつぶれにくく、接合中に尖鋭な形状を保って先端部に高い荷重が集中する状態を維持できるため、電気的接続の信頼性が向上し、また、低い押圧荷重での接合も可能となる。また、ベース部の硬度が突出部よりも低いと、突出部の高さにばらつきがある場合に、ベース部の方が変形することにより高さばらつきを吸収できる。
51 基材
52 配線部
53,53A,53B バンプ
54 絶縁膜
55 接着剤層
56 ベース部
56a 一部領域
57 突出部
60,61,62 液滴噴射装置
Claims (12)
- 基材と、
前記基材に設けられた導電性材料からなる配線部と、
前記基材の一表面に形成されるとともに、前記配線部と電気的に接続された導電性の半球状のベース部と、
前記ベース部の表面をその一部領域を除いて覆うように設けられた絶縁膜と、
前記ベース部の表面の、前記絶縁膜により覆われていない前記一部領域に設けられ、前記絶縁膜から突出する導電性の突出部と、を有し、
前記突出部の硬度は、前記ベース部よりも高く、
前記ベース部と前記突出部とが一体となって1つのバンプを構成していることを特徴とする配線基板。 - 前記突出部の表面の曲率は、前記ベース部の表面の曲率よりも大きいことを特徴とする請求項1に記載の配線基板。
- 前記配線部は、前記ベース部と同じく前記基材の一表面に設けられ、
前記絶縁膜は、前記配線部をも覆うように前記基材の一表面に形成されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の配線基板。 - 前記絶縁膜が形成されない前記ベース部表面の前記一部領域は、前記ベース部の中央部からずれた位置にあり、
前記一部領域に設けられる前記突出部は、前記ベース部の中央部からずれて位置していることを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載の配線基板。 - 1つの前記ベース部に、複数の前記突出部が設けられていることを特徴とする請求項4に記載の配線基板。
- 1つの前記ベース部に対して、1つの前記突出部が、前記ベース部の中央部からずれた領域に設けられていることを特徴とする請求項4に記載の配線基板。
- 導電性材料からなる配線部が形成される基材の一表面に、前記配線部と電気的に接続される導電性の半球状のベース部を形成するベース部形成工程と、
前記ベース部の表面に、このベース部よりも表面撥液性の高い絶縁膜を、前記ベース部の表面の一部領域を除いて覆うように形成する絶縁膜形成工程と、
前記ベース部の表面の、前記絶縁膜により覆われていない前記一部領域に、液滴噴射装置から導電性材料の液滴を噴射して着弾させることにより、前記絶縁膜よりも突出した突出部を形成する突出部形成工程と、
を備えていることを特徴とする配線基板の製造方法。 - 前記絶縁膜形成工程において、前記ベース部の表面全域を覆うように前記絶縁膜を形成した後に、前記一部領域を覆う前記絶縁膜を除去することを特徴とする請求項7に記載の配線基板の製造方法。
- 前記絶縁膜形成工程において、前記一部領域が前記ベース部の中央部からずれた位置となるように、前記絶縁膜を形成することを特徴とする請求項7又は8に記載の配線基板の製造方法。
- 前記ベース部形成工程において、前記ベース部を、その中央部において最も突出した形状に形成し、
前記絶縁膜形成工程において、前記絶縁膜の、前記一部領域に対して前記中央部側に位置する領域の撥液性を、前記一部領域に対して前記中央部と反対側に位置する領域の撥液性よりも、高くすることを特徴とする請求項9に記載の配線基板の製造方法。 - 前記ベース部形成工程において、前記基材の一表面に、液滴噴射装置から導電性材料の液滴を噴射して着弾させることにより、前記ベース部を形成することを特徴とする請求項7〜10の何れかに記載の配線基板の製造方法。
- 前記ベース部の周囲領域に、液滴噴射装置から樹脂製接着剤の液滴を噴射して着弾させることにより、前記周囲領域に接着剤層を形成する接着剤層形成工程をさらに備えていることを特徴とする請求項7〜11の何れかに記載の配線基板の製造方法。
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