JP4879184B2 - 光学活性体の濃度を測定する非侵襲的測定システム及び方法 - Google Patents
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Description
上式において、Cは、光学活性体の濃度、lは、光路長(即ち、平面偏光が通る流体の長さ)、[α]Dは、溶液の温度及び用いられる光の波長で変化する光学活性体に特有なパラメータである比旋光度である。
図2のシステムは、プロセッサ42に作動的に結合されていて、所定のブドウ糖濃度データ及び所定の光強度データを格納したメモリ44を更に有している。メモリ44は、好ましくは、所定の光強度データと既知のブドウ糖濃度のパターン照合表を有する。一実施形態では、パターン照合表は、これを用いて自分のブドウ糖濃度を予測する被験者の各々について作成される。
計算空間比
ブドウ糖 計算空間 計算空間 計算空間 計算空間
(mg/dl) 90 100 110 120
1 100 101000 110000 90000 112000
2 200 130000 115000 108000 117500
3 300 145900 120000 136500 127000
4 400 200000 175000 190000 183500
パターン照合表をいったん得ると、未知の濃度値を図2のシステムの使用により求めることができる。目30の測定画像の取り込みに先立って被験者の瞳孔は、好ましくは、パターン照合表の作成と関連して所定の画像を取り込んだ時点でその直径に一致するよう調節される。
パターン照合表 既知のブドウ糖値 所定光強度比 計算空間90について
エントリの索引 (mg/dl) のオフセット誤差
1 100 101000 10000
2 200 130000 19000
3 300 145900 34900
4 400 200000 99000
クラスタ1:計算空間90,100,110
クラスタ2:計算空間100,110,120
クラスタ3:計算空間90,100,120
クラスタ4:計算空間90,110,120
この実施形態によれば、ステップ600において、各クラスタを有する計算空間について最小オフセット誤差を合計し、最小オフセット誤差の合計が最も小さなクラスタを識別する。識別されたクラスタは、各々がパターン照合表中の既知の濃度値に相当する最小オフセット誤差を有する3つの計算空間を有することになる。次に、3つの既知の濃度値をステップ610において平均し、それにより被験者に関する測定濃度値を得る。
計算空間 最小オフセット誤差 最小オフセット誤差に相当する
既知のブドウ糖濃度(mg/dl)
90 10000 100
100 5000 300
110 13500 300
120 23500 400
表 4
クラスタ クラスタを有する計算空間 最小オフセット誤差の和
1 90,100,110 28500
2 100,110,120 42000
3 90,100,120 38500
4 90,110,120 47000
本発明の別の特徴は、光学活性体の濃度を計算するために回転画像データの任意的な使用に関している。上述したように、像取込みデバイスを首尾一貫して位置決めする際の問題の結果として、「ピッチ・アンド・ヨー」誤差が生じる場合があり、その結果、パターン照合表を作成するために得られる画像が未知の濃度を測定するために用いられる画像に対して一貫性のない状態で位置決めされるようになる。本発明のこの特徴によれば、複数個の回転画像を得て最も首尾一貫した結果が複数の計算空間の中から得られた回転を識別する。
最小オフセット誤差
回転位置 計算空間90 計算空間100 計算空間110 計算空間120
-3° 80000 60000 50000 75000
-2.9° 81000 43000 10000 1000
-2.8° 10500 9200 8100 4375
-2.7° 300 2260 40000 55000
… … … … …
0 45000 10000 16000 8200
… … … … …
+2.7° 2268 401 389 16000
+2.8° 600 2970 10000 2200
+2.9° 2600 4500 10500 7890
+3.0° 950 1050 1000 2200
表 6
回転位置 最小オフセット誤差和
−3° 265000
−2.9° 135000
−2.8° 126675
−2.7° 97560
・・・ ・・・
0 79200
・・・ ・・・
+2.7° 19058
+2.8° 15770
+2.9° 25490
+3.0° 5200
クラスタ1:計算空間90,100,110
クラスタ2:計算空間100,110,120
クラスタ3:計算空間90,100,120
クラスタ4:計算空間90,110,120
クラスタ1の和=950+1050+1000=3000
クラスタ2の和=1050+1000+2200+=4250
クラスタ3の和=950+1050+2200+=4200
クラスタ4の和=950+1000+2200+=4150
上述したように、虹彩から反射された光の強度の比がブドウ糖濃度と共に周期的に変化することが発見された。さらに、周期は、用いられた光の波長と共に変化することが発見された。例えば、940nm光源を用いた場合、1サイクル全体が、被験者のブドウ糖レベルが40mg/dlから475mg/dlに変化したときに測定光強度比の変化中に観察される。525nm光源を用いた場合、ほぼ2回のサイクルが、同一のブドウ糖範囲にわたって観察される。本発明の範囲を何ら限定しないで、この周期性は、ブドウ糖レベルが変化すると、虹彩から反射される強度が空間依存的に変化するので生じると理論化される。その結果、互いに異なる虹彩領域が、ブドウ糖レベルが変化するにつれて明るくなり又は薄暗くなるように見えることになる。これら反射強度の変化が、湾曲面、即ち、目の表面で生じるので、周期的関係が観察されると考えられる。
計算空間比
索引 ブドウ糖 計算空間 計算空間 計算空間 計算空間
(mg/dl ) 90 100 110 120
1 100 101000 110000 90000 112000
2 200 130000 115000 108000 117500
3 250 145900 120000 136500 12700
4 300 200000 175000 190000 183500
5 350 140000 165000 120000 180000
6 400 138000 130000 115000 170000
7 450 180000 150000 160000 190000
8 500 120000 140000 125000 145000
副表1:195000−130000=65000であり、これは、ブドウ糖の200mg/dlに相当する。
副表2:195000−145900=49100であり、これは、ブドウの250mg/dlに相当する。
副表3:200000−195000=5000であり、これは、ブドウ糖の300mg/dlに相当する。
副表4:200000−1950000=5000であり、これは、ブドウ糖の300mg/dlに相当する。
副表5:195000−140000=55000であり、これは、ブドウ糖の350mg/dlに相当する。
副表6:195000−180000=15000であり、これは、ブドウ糖の450dg/dlに相当する。
副表7:195000−180000=15000であり、これは、ブドウ糖の450mg/dlに相当する。
副表の番号 開始行 終了行 好ましい回転指数 最小オフセット誤差和
1 1 2 −2 5500
2 2 3 −5 6000
3 3 4 +7 10000
4 4 5 +15 23000
5 5 6 0 15000
6 6 7 −8 2200
7 7 8 −3 4750
本発明の追加の特徴としては、統計学的信頼パラメータを用いて未知のブドウ糖濃度を計算する目的で幾つかの副表のうちどの副表を選択すべきかを突き止めることが挙げられる。一般的に言って、計算空間の存在場所及び画像回転に対する予測ブドウ糖濃度の感受性を評価する。以下に、幾つかの統計学的信頼パラメータの説明が記載され、かかるパラメータを種々の組み合わせで用いると、ブドウ糖濃度を計算するのに好ましい副表を突き止めることができる。
1.各回転時に、全ての計算空間全体にわたって最小オフセット誤差和を計算し、それにより最小オフセット誤差和のベクトルを作成する。ベクトルは、回転の数に等しい多くの値を有し、各最小オフセット誤差和は、回転及び副表に対応する。
2.各ベクトル内において、ベクトル値の標準偏差を計算して選択した副表に対応した標準偏差を得る。
1.各副表について好ましい回転を識別する。
2.好ましい回転及び選択した副表に対応する回転画像データを用いて、クラスタを含む計算空間について最小オフセット誤差を加えることにより各クラスタについて最小オフセット誤差和を計算する。これにより、1組のクラスタ和の値が生じることになる。
3.クラスタ和の値の標準偏差を計算して各副表について単一の標準偏差を得る。
1.各回転時に、各計算空間について最小オフセット誤差を計算する(表5の例で示されているように)。
2.各クラスタについて、そのクラスタを有する計算空間について最小オフセット誤差の標準偏差を計算する。これにより、回転位置の数に等しい数の行及びクラスタの数に等しい数の列を有する標準偏差のアレイが得られる。
3.クラスタ近接度偏差は、上述のアレイ中の最も低い標準偏差に等しいであろう。
1.各副表内において、全ての回転位置のところでの各計算空間について最小オフセット誤差を計算して各計算空間について最小オフセット誤差のベクトルを得る。各ベクトルは、回転位置の数に等しい数の要素を有する。
2.各ベクトルにおける値の標準偏差を計算して各計算空間について1つの標準偏差を得る。
3.すると、関心のある副表についてのアレイ標準比は、上述の標準偏差の中で最も大きなものをこれらの中で最も小さなもので除算して得られた値に等しいであろう。
1.上述の方法を用いて関心のある副表について好ましい回転を突き止める。
2.各副表内において、好ましい回転時における各計算空間について最小オフセット誤差を突き止める。各最小オフセット誤差は、パターン照合表中の既知の濃度値に対応し、したがって、表中の行の値に対応する。
3.各計算空間について識別された最小オフセット誤差に対応するパターン照合表中の索引(即ち、行番号)を突き止める。
4.計算空間の各クラスタについて、そのクラスタを含む計算空間について最小オフセット誤差に対応したパターン照合表の索引の標準偏差を計算する。
5.上述の標準偏差のうち最も低いものが、分散である。
クラスタ クラスタを 計算空間について対応の 表索引の標準偏差
含む計算空間 パターン照合表索引
1 90,100,110 2,3,6 2.082
2 100,110,120 3,6,6 1.732
3 90,100,120 2,3,6 2.082
4 90,110,120 2,6,6 2.309
1.各回転位置に関し、最小オフセット誤差の最も低い計算空間を突き止める。突き止めた最小オフセット誤差は、パターン照合表中の表索引に対応する。
2.識別した計算空間を含むクラスタのうちの任意の1つを選択する。
3.各回転位置の選択されたクラスタに関し、そのクラスタを含む各計算空間について最小オフセット誤差に対応した既知のブドウ糖濃度を平均することによりブドウ糖濃度を計算する。これにより、回転位置の数に等しい数の要素を有するブドウ糖濃度のベクトルが得られる。
4.上述のベクトルを含むデータ値からヒストグラムを作成し、任意の1つのブドウ糖値に対応したベクトルロケーションの最大数を突き止める。Qvは、ベクトルロケーションの突き止められた最大数である。
1.2つの最も低いアレイ偏差値を有する副表を選択する。
2.以下の基準を表10に特定された順序で適用することによりブドウ糖計算の基礎となる副表を選択する。
基準 重要度 最も好ましい値
クラスタ近接度偏差比 2 1.0
分散 4 0
Qv 3 中心で最大
アレイ偏差 1 最小
アレイ偏差比 5 最小
好ましい回転時における 6 最小
最小オフセット誤差和
副表 アレイ偏差 好ましい回転指数 好ましい回転時における クラスタ近接度
(−30〜+30) 最小オフセット誤差和 偏差比
1 23230 3 3662 2.01
2 22294 3 2351 1.57
3 22754 4 8314 7.1
4 23486 6 171 1.87
5 23634 6 3809 2.14
6 24163 -2 4075 1.26
7 21567 4 24618 1.61
副表 アレイ偏差比 分散 近接度Q係数 予測ブドウ糖
(Qv) (mg/dl)
1 3.08 0.43 48 300
2 2.77 0.5 25 317
3 2.81 0.43 21 325
4 2.97 0.5 39 362
5 2.76 0 26 375
6 2.74 0.43 32 404
7 2.92 0.5 44 438
本発明の別の好ましい実施形態によれば、多種多様な波長の光により得られる画像を用いてブドウ糖計算を行う。上述したように、虹彩から反射された光の強度の比は、ブドウ糖濃度に従って周期的に変化する。その結果、或る範囲の濃度にわたり、同一の強度比は、多種多様な濃度に対応する場合がある。光の多くの波長により作成される画像を用いると、周期性の問題をアドレスする追加の手段が得られる。
Claims (15)
- 光学的活性体の溶液を収容した物体(30)に向かって光を送るようになった光源(10)を有し、当該物体(30)が、虹彩(18)を有する人の目であり、
物体(30)から反射された光を受け取るように配置され、これから測定画像を作るようになった第1の像取込みデバイス(40)を有し、
前記測定画像に基づいて前記光学活性体の濃度を計算するよう構成されたプロセッサ(42)を有し、
偏光子(20)が、前記光源(10)と前記目(30)との間に位置決めされて、前記光源(10)から、前記虹彩(18)に向かって光を送出し、その際、前記送出された光が、或る入射角で虹彩(18)に接触するようにされており、当該入射角が1つ又はそれより多い種類の角度を有し、当該1つ又はそれより多い種類の角度の入射角の少なくとも1つが、前記虹彩(18)から反射された光の一部の偏光を生じさせるために十分なものであり、
前記第1の像取込みデバイス(40)が、前記目(30)から反射された光の一部を受信するように配置され、それに基づいて測定された画像を生成するようにされ、当該測定された画像が、測定された光強度データを規定し、
前記プロセッサ(42)が、当該測定された光強度データの、選択された部分に基づいて、前記光学活性体の濃度を計算するように構成される、
装置。 - ハウジングを更に備え、前記光源(10)、偏光子(20)、前記第1の像取込みデバイス(40)、及び、前記プロセッサ(42)が、当該ハウジング内に収容される、請求項1に記載の装置。
- 前記装置が、手持ちデバイスである、請求項2に記載の装置。
- 前記装置が携帯型デバイスである、請求項2又は3に記載の装置。
- データベースを格納するメモリ(44)を更に備え、当該データベースが、前記光学活性体に対する所定の濃度データ、及び、所定の光強度データを含み、
前記プロセッサ(42)が、前記測定された光強度データの選択された部分、前記所定の濃度データの選択された部分、及び、前記所定の光強度データの選択された部分、に基づいて、前記光学活性体の濃度を計算するように構成される、
請求項1から4のいずれかに記載の装置。 - 前記光源(10)が、複数の選択された波長で光を送出するようにされる、請求項1から5のいずれかに記載の装置。
- 前記プロセッサ(42)が、更に、前記測定された画像から、複数の回転画像を生成するように構成されることにより、回転された画像データを生成し、
前記プロセッサ(42)が、前記回転画像データ、及び、測定された光強度データの前記選択された部分に基づいて、前記光学活性体の前記濃度を計算するように構成される、
請求項1から6のいずれかに記載の装置。 - 前記1つ又はそれより多い種類の角度の入射角の少なくとも1つが、ブルースター角である、請求項1から7のいずれかに記載の装置。
- 前記第1の像取込みデバイス(40)が、複数の画素位置を含み、前記第1の像取込みデバイス(40)が、当該各位置で受信された光の強度を測定するようにされ、それにより、
前記物体から反射した光の前記部分の、1つ又はそれより多い測定された強度を生成し、
前記プロセッサ(42)が、前記物体(30)から反射された光の前記部分の、前記1つ又はそれより多い測定された強度を受信するようにされ、
前記測定された光強度データが、前記物体から反射された、前記1つ又はそれより多い測定された光の強度を含む、
請求項1から8のいずれかに記載の装置。 - 前記第1の像取り込みデバイス(40)が、前記物体から反射された光の、前記測定された強度を、配列の中に規定された1つ又はそれより多い計算空間(90,100,110,120)を有する当該配列として出力し、当該計算空間(90,100,110,120)の各々が、当該計算空間の中で規定される、複数の測定された光強度を有し、
前記測定された光強度データの、前記選択された部分が、前記1つ又はそれより多い計算空間(90,100,110,120)の中の、複数の測定された光強度の少なくとも1つを含み、
前記プロセッサ(42)が、前記計算空間(90,100,110,120)の各々に対応する計算空間比を計算するように構成され、
前記測定された光強度データの、前記選択された部分が、前記計算空間比の少なくとも1つを含む、
請求項1から9のいずれかに記載の装置。 - 前記プロセッサの各々が、更に、前記計算空間(90,100,110,120)の各々における、測定された光強度の、第1の及び第2の合計(92、94)を計算するように構成され、
前記計算空間比の各々が、前記対応する第1の合計と、前記対応する第2の合計の比を含む(92,94)、
請求項10に記載の装置。 - 前記計算空間(90,100,110,120)の各々が、第1の領域(92)を規定する、第1の長さ、及び、第1の幅、並びに、第2の領域(94)を規定する、第2の長さ、及び、第2幅を有し、
前記第1の合計の各々が、前記対応する計算空間(90)の、前記対応する第1の領域(92)の各々における、測定された光強度の合計を含み、
前記第2の合計の各々が、前記対応する計算空間(90)の、前記対応する第2の領域(94)の各々における、前記測定された光強度の合計を含む、
請求項11に記載の装置。 - 前記プロセッサ(42)が、更に、複数のオフセットエラーを備えるオフセットエラー配列を生成するように構成され、当該オフセットエラーの各々が、前記光学活性体の既知の濃度に対応する行、及び、目の複数の虹彩領域の1つに対応する列、によって規定されるオフセットエラー配列位置を有する、
請求項1から12のいずれかに記載の装置。 - 前記オフセットエラーの各々が、測定された光強度比と所定の光強度比の間の差の絶対値を含み、当該測定された光強度比と当該所定の光強度比の双方が、同じ虹彩領域であって、前記オフセットエラーが当該虹彩領域に対応する、当該同じ虹彩領域に対応する、
請求項13に記載の装置。 - 前記プロセッサ(42)が、更に、最小オフセットエラー配列を計算するように構成され、当該最小オフセットエラー配列が、複数の最小オフセットエラーを含み、当該最小(minimum)オフセットエラーの各々が、当該オフセットエラー配列の行及び列に対応し、当該最小オフセットエラーの各々が、当該オフセットエラー配列の対応する列における最小(lower)オフセットエラーを含み、それにより、各々の最小(minimum)オフセットエラーが、前記既知の濃度値の1つ、及び、前記虹彩領域の1つ、に対応するようになっている、
請求項14に記載の装置。
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