JP4896453B2 - 除菌洗浄剤 - Google Patents
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術を参酌しても、特定の構造のグリセリルエーテルとクエン酸を併用することで相乗的に除菌効果を向上させ、高濃度の界面活性剤を含有する組成物において高い除菌効果を発揮できる点については全く開示がない。
〔式中、R11は2−エチルヘキシル、イソノニル、イソデシルから選ばれる基であり、XはCH2CH(OH)CH2OHである〕。
(a)下記一般式(1)の化合物を0.1〜10質量%、
(b)クエン酸、リンゴ酸、EDTA、酒石酸、グルコン酸、MGDA、安息香酸及びそれらの塩から選ばれる化合物を2.5〜8質量%、
(c−1)分子中に炭素数10〜18の炭化水素基と、1つ以上のスルホン酸塩基又は硫酸エステル塩基を有する陰イオン界面活性剤を5〜50質量%、
(c−2)炭素数10〜18の炭化水素基と、炭素数1〜3のアルキル基又は炭素数1〜3のヒドロキシアルキル基を有するアミンオキシド型界面活性剤を0.1〜15質量%、並びに調整量の水を含有し、(a)/(b)が質量比で0.01〜4である除菌洗浄剤を提供する。
〔式中、R11は2−エチルヘキシル、イソノニル、イソデシルから選ばれる基であり、XはCH2CH(OH)CH2OHである。〕
本発明は、他の課題の解決手段として、請求項1〜5のいずれかに記載の除菌洗浄剤を対象表面に付着させ、対象表面を除菌処理する方法を提供する。
本発明の(a)成分は、上記した一般式(1)で表される化合物であり、R11は洗浄力の観点から、2−エチルヘキシルが好ましい。
本発明の(b)成分は、クエン酸、リンゴ酸、EDTA(エチレンジアミン四酢酸)、酒石酸、グルコン酸、MGDA(メチルグリシン二酢酸)、安息香酸及びそれらの塩から選ばれるものであり、2種以上を組み合わせることもできる。これらの中でもクエン酸及びその塩が好ましい。
本発明の(c)成分は界面活性剤であり、(c−1)陰イオン界面活性剤、(c−2)アミンオキシド型界面活性剤、(c−3)非イオン界面活性剤から選ばれる少なくとも1以上が好ましい。
〔式中の各記号の意味は下記のとおり。
R12は炭素数10〜18のアルキル基である。
aは0〜15の数を示し、一般式(2)の化合物がa=0〜15の化合物の混合物であるとき、混合物中のa=1〜15の化合物の合計含有量は40〜85質量%、a=0の化合物の含有量は60〜15質量%である。
aの平均値は1〜5である。
Mはアルカリ金属又はアルカリ土類金属である〕。
〔式中、R31は、炭素数7〜18のアルキル基又はアルケニル基であり、R32は炭素数2又は3のアルキレン基である。dは2〜100の数を示す。Eは−O−、−CON−又は−N−であり、Eが−O−の場合、eは1であり、Eが−CON−又は−N−の場合、eは2である〕。
〔式中、R41は直鎖の炭素数8〜16、好ましくは10〜16、特に好ましくは10〜14のアルキル基、R42は炭素数2〜4のアルキレン基、好ましくはエチレン基又はプロピレン基、特にエチレン基であり、Gは還元糖に由来する残基、fは平均値0〜6、好ましくは0〜3、特に好ましくは0の数であり、hは平均値1〜10、好ましくは1〜5、特に好ましくは1〜2の数を示す〕。
〔式中、R31は前記の意味を示す。iは2〜100の数である〕。
〔式中、R31は前記の意味を示す。j及びkはそれぞれ独立に2〜70の数であり、エチレンオキシドとプロピレンオキシドはランダムあるいはブロック付加体であってもよい〕。
一般式(5−3)においてGは還元糖に由来する残基であり、原料の還元糖としては、アルドースとケトースの何れであっても良く、また、炭素数が3〜6個のトリオース、テトロース、ペントース、ヘキソースを挙げることができる。アルドースとして具体的にはアピオース、アラビノース、ガラクトース、グルコース、リキソース、マンノース、ガロース、アルドース、イドース、タロース、キシロースを挙げることができ、ケトースとしてはフラクトースを挙げることができる。本発明ではこれらの中でも特に炭素数5又は6のアルドペントースあるいはアルドヘキソースが好ましく、中でもグルコースが最も好ましい。
〔(e)成分〕
本発明では、(c−1)成分である陰イオン界面活性剤の乳化力を向上させ、洗浄効果を強化する目的からマグネシウム〔以下、(e)成分という〕を配合することが好ましく、マグネシウムは塩又は遊離したイオンとして系中に存在するものであり、(c−1)成分の陰イオン界面活性剤の対イオンとして配合してもよく、また水溶性のマグネシウム化合物として配合することができる。水溶性マグネシウム化合物としては、化学便覧基礎編II(改定3版),166頁,表8.42、及び190頁,表8.47に記載のマグネシウム化合物において20℃における水への溶解度が1g/100g以上、好ましくは10g/100g以上の化合物が好適である。これらの中でも本発明では、硫酸マグネシウム、塩化マグネシウム、炭酸マグネシウム、硝酸マグネシウム、酢酸マグネシウムが好適である。
本発明では洗浄力を強化する目的から(c)成分以外の界面活性剤〔以下、(f)成分という〕として両性界面活性剤を含有することができる。両性界面活性剤としては、下記一般式(4)の化合物が好ましい。
本発明の除菌洗浄剤は、貯蔵安定性を向上させる目的でハイドロトロープ剤〔以下、(g)成分という〕を含有することが好ましい。ハイドロトロープ剤としては、トルエンスルホン酸、キシレンスルホン酸、クメンスルホン酸及びこれらのナトリウム、カリウムあるいはマグネシウム塩が良好であり、特にp−トルエンスルホン酸が良好である。
本発明の除菌洗浄剤には、ゲル化防止のための重合体、例えば特表平11−513067号公報に記載されているゲル化防止重合体〔以下、(h)成分という〕、とりわけポリアルキレングリコールを配合することが粘度調節及び貯蔵安定性の点から好ましい。ゲル化防止としてのポリアルキレングリコールの具体例としては、ポリエチングリコールを標準としたときのゲルパーミエーションクロマトグラフィーによって求められた重量平均分子量が200〜3000のポリプロピレングリコール、及びポリエチレングリコールを挙げることができる。
本発明の除菌洗浄剤には、可溶化剤〔以下、(i)成分という〕を配合することが貯蔵安定性及び粘度調節の点から好ましい。可溶化剤としては、エタノール、イソプロピルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、グリセリン、イソプレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルから選ばれる水溶性有機溶媒が好ましい。
(c−2)成分のアミンオキシド型界面活性剤の含有割合は、洗浄性や低温貯蔵安定性の観点から、好ましくは0.1〜15質量%、より好ましくは1〜10質量%、更に好ましくは2〜10質量%であり、
(c−3)成分の非イオン界面活性剤は、多量配合すると食器洗浄時のぬるつきを助長し、(a)成分の効果を減じる傾向にある。このために除菌洗浄剤中の(c−3)成分の含有割合は、好ましくは0.1〜20質量%、より好ましくは0.5〜15質量%、更に好ましくは1.0〜15質量%である。
度計モデルBMに、ローター番号No.3のローターを備え付けたものを準備する。試料
をトールビーカーに充填し20℃の恒温槽内にて20℃に調整する。恒温に調整された試料を粘度計にセットする。ローターの回転数を30r/mに設定し、回転を始めてから60秒後の粘度を本発明の粘度とする。
表1に示す成分を用いて除菌洗浄剤を調製した。その際、pHは48%水酸化ナトリウムを用いて調整した(表1中は「+」表示)。調整後、これら除菌洗浄剤の除菌効果を下記の方法で評価を行った。結果を表1に併記する。
寒天平板培地上37±1℃で24時間培養した大腸菌を用いて、0.3%ニュートリエント培地、3°DH硬水中で、菌濃度が3.5×107〜3.5×108cfu/mlになるように調製した。
表2に示す成分を用いて洗浄剤組成物を調製した。その際、pHは48%水酸化ナトリウムを用いて調整した。調整後、これら組成物の除菌効果を実施例1と同じ方法で評価を行った。結果を表2に併記する。
表3に示す成分を用い、実施例と同様にして除菌洗浄剤を調製した。
(a)成分
GE−2EH:2−エチルヘキシルモノグリセリルエーテル
(b)成分
EDTA:エチレンジアミン四酢酸
MGDA・3Na:メチルグリシン二酢酸三ナトリウム(Trilon M、BASF社製)
(c)成分
(c−1)
ES:ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸ナトリウム〔原料アルコールは、1−デセン及び1−ドデセン50/50(質量比)を原料にヒドロホルミル化して得られたアルコールである。このアルコールにEOを平均2モル付加させた後、三酸化イオウにより硫酸化し、水酸化ナトリウムで中和した。全ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸ナトリウム中の全ポリオキシエチレン分岐鎖アルキルエーテル硫酸の割合は42質量%であった。〕
(c−2)
APAO:ラウリン酸アミドプロピルアミンオキシド
AO:N−ラウリル−N,N−ジメチルアミンオキシド
(c−3)
ノニオン1:アルキル基の組成がC12/C14=60/40の混合アルキルでグルコシド平均縮合度1.5のアルキルグルコシド
ノニオン2:C12、C13混合アルキル2級アルコールに、EOを平均7モル付加させたもの(ソフタノール70H、日本触媒株式会社製)
(f)成分
スルホベタイン:ラウリルジメチルスルホベタイン
(その他の成分)
防腐剤:プロキセルBDN(アビシア株式会社製)
Claims (7)
- (a)下記一般式(1)の化合物、(b)クエン酸、リンゴ酸、EDTA、酒石酸、グルコン酸、MGDA、安息香酸及びそれらの塩から選ばれる化合物、(c)界面活性剤及び水を含有し、(a)/(b)の質量比が0.01〜4である除菌洗浄剤。
R11−O−X (1)
〔式中、R11は2−エチルヘキシル、イソノニル、イソデシルから選ばれる基であり、XはCH2CH(OH)CH2OHである。〕 - (a)成分を0.1〜10質量%、(b)成分を2.5〜8質量%、(c)成分を5〜65質量%及び水を含有し、pHが5〜8である請求項1記載の除菌洗浄剤。
- (c)成分の界面活性剤が、(c−1)陰イオン界面活性剤、(c−2)アミンオキシド型界面活性剤、(c−3)非イオン界面活性剤から選ばれる少なくとも1以上である請求項1又は2記載の除菌洗浄剤。
- (c)成分の界面活性剤が、陰イオン界面活性剤又はポリアルキルグルコシドと、アミンオキシド型界面活性剤の混合物である請求項1〜3のいずれかに記載の除菌洗浄剤。
- (a)下記一般式(1)の化合物を0.1〜10質量%、
(b)クエン酸、リンゴ酸、EDTA、酒石酸、グルコン酸、MGDA、安息香酸及びそれらの塩から選ばれる化合物を2.5〜8質量%、
(c−1)分子中に炭素数10〜18の炭化水素基と、1つ以上のスルホン酸塩基又は硫酸エステル塩基を有する陰イオン界面活性剤を5〜50質量%、
(c−2)炭素数10〜18の炭化水素基と、炭素数1〜3のアルキル基又は炭素数1〜3のヒドロキシアルキル基を有するアミンオキシド型界面活性剤を0.1〜15質量%、並びに調整量の水を含有し、(a)/(b)が質量比で0.01〜4である除菌洗浄剤。
R11−O−X (1)
〔式中、R11は2−エチルヘキシル、イソノニル、イソデシルから選ばれる基であり、XはCH2CH(OH)CH2OHである。〕 - (b)成分が、クエン酸、リンゴ酸、安息香酸及びそれらの塩から選ばれる化合物である請求項1〜5のいずれかに記載の除菌洗浄剤。
- 請求項1〜6のいずれかに記載の除菌洗浄剤を対象表面に付着させ、対象表面を除菌処理する方法。
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