JP4985906B2 - 垂直液晶配向剤および垂直液晶表示素子 - Google Patents
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Description
また、TN型液晶表示素子に比してコントラストが高くて、その視角依存性の少ないSTN(Super Twisted Nematic)型液晶表示素子や、垂直配向型液晶表示素子が開発されている。このSTN型液晶表示素子は、ネマチック型液晶に光学活性物質であるカイラル剤をブレンドしたものを液晶として用い、液晶分子の長軸が基板間で180度以上にわたって連続的に捻れる状態となることにより生じる複屈折効果を利用するものである。
また近年では、新規な液晶表示素子の開発も盛んであり、その中の一つとして、液晶を駆動するための2つの電極を片側の基板に櫛歯状に配置し、基板面に平行な電界を発生させ、液晶分子をコントロールする横電界型液晶表示素子が提案されている(特許文献1参照)。この素子は一般的にインプレーンスイッチング型(IPS型)と呼ばれ、広視野角特性に優れることで知られている。また最近では光学補償フィルムを使用し、広視野角特性をさらに向上させることで、階調反転や色調変化のないブラウン管にも匹敵する広視野角を得られることが大きな特徴となっている。
近年、基板の大型化に伴い、液晶表示素子の製造工程は大きな進歩を遂げている。特に、大型基板搬送技術や液晶滴下方式(ODF)の採用、といった技術が注目されている。これらの工程における基板の固定には、強力な静電気を利用(静電チャック)しているが、この静電気が基板に溜まって除電されずに残ってしまい、表示不良の原因となってしまうという問題があった。この問題を解決するには、除電装置等の導入が最も効果的だが、膨大な費用を必要とすることから、基板表面を覆う液晶配向膜による静電気起因の表示不良の低減、すなわち帯電圧のリーク性向上が求められてきた。
一方、単純に電圧リーク性を向上させた場合、電圧保持率の低下が懸念される。電圧保持率の低下は、画面のチラツキによる表示性能低下を引き起こしてしまい、結果的に品質を低下させてしまう。よって、電圧保持率を低下させることなく、静電気のような直流電圧のリーク性を向上させる必要がある。しかしながら、この2つの特性を同時に満足しうる垂直液晶配向膜もしくは垂直液晶表示素子はこれまで提案されておらず、液晶配向膜材料の改良が求められていた。
下記式(I−1)で表される構造を有するポリアミック酸および下記式(I−2)で表されるイミド構造を有するイミド化重合体を含有する液晶配向剤であって、上記ポリアミック酸は、式(I−1)中の二価の有機基であるQ1の少なくとも50モル%が下記式(II)で示される有機基であり、Q 1 の50モル%以下が下記式(IV−1)〜(IV−5)のそれぞれで表わされる構造よりなる群から選ばれる少なくとも一種のその他の二価の有機基を含有し、四価の有機基であるP1の少なくとも70モル%が下記式(III−1)〜(III−5)のそれぞれで示される有機基よりなる群から選ばれる少なくとも一つの有機基であり、且つP1の少なくとも50モル%が下記式(III−1)で示される有機基であり、そして全ポリマー重量に対して40重量%以上90重量%未満含有されていることを特徴とする垂直液晶配向剤、
によって達成される。
上記液晶配向剤から得られる液晶配向膜を具備してなることを特徴とする、垂直液晶表示素子により達成される。
本発明の液晶表示素子は、種々の装置に有効に使用することができ、例えば、卓上計算機、腕時計、置時計、携帯電話、計数表示板、ワードプロセッサ、パーソナルコンピュータ、液晶テレビなどの表示装置として好適に用いることができる。
ポリアミック酸の製造に用いることのできるテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、ブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2−ジメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2−ジエチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,3−ジメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,3−ジエチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,3−ジクロロ−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−テトラメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ジシクロヘキシルテトラカルボン酸二無水物、2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、3,5,6−トリカルボキシノルボルナン−2−酢酸二無水物、2,3,4,5−テトラヒドロフランテトラカルボン酸二無水物、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]−フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5−メチル−5(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]−フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5−エチル−5(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]−フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−7−メチル−5(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]−フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−7−エチル−5(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]−フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−8−メチル−5(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]−フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−8−エチル−5(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]−フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5,8−ジメチル−5(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]−フラン−1,3−ジオン、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロフラル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸二無水物、ビシクロ[2.2.2]−オクト−7−エン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、下記式(1)および(2)で表される化合物などの脂肪族および脂環式テトラカルボン酸二無水物;
また、イミド化重合体の製造に用いることのできるテトラカルボン酸二無水物としては、ポリアミック酸の製造に用いることができるテトラカルボン酸二無水物として上記例示したものや下記式(3)〜(6)で表される化合物などの芳香族テトラカルボン酸二無水物を用いることができる。
ポリアミック酸の製造に用いることのできるジアミン化合物としては、例えばp−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルエタン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,3’−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、4,4’−ジアミノベンズアニリド、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、1,5−ジアミノナフタレン、2,2’−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、5−アミノ−1−(4’−アミノフェニル)−1,3,3−トリメチルインダン、6−アミノ−1−(4’−アミノフェニル)−1,3,3−トリメチルインダン、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,3’−ジアミノベンゾフェノン、3,4’−ジアミノベンゾフェノン、4,4’−ジアミノベンゾフェノン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、9,9−ビス(4−アミノフェニル)−10−ヒドロアントラセン、2,7−ジアミノフルオレン、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン、4,4’−メチレン−ビス(2−クロロアニリン)、2,2’,5,5’−テトラクロロ−4,4’−ジアミノビフェニル、2,2’−ジクロロ−4,4’−ジアミノ−5,5’−ジメトキシビフェニル、3,3’−ジメトキシ−4,4’−ジアミノビフェニル、1,4,4’−(p−フェニレンイソプロピリデン)ビスアニリン、4,4’−(m−フェニレンイソプロピリデン)ビスアニリン、2,2’−ビス[4−(4−アミノ−2−トリフルオロメチルフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、4,4’−ジアミノ−2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ビフェニル、4,4’−ビス[(4−アミノ−2−トリフルオロメチル)フェノキシ]−オクタフルオロビフェニル、4−(4−n−ヘプチルシクロヘキシル)フェノキシ−2,4−ジアミノベンゼンなどの芳香族ジアミン;
1,1−メタキシリレンジアミン、1,3−プロパンジアミン、テトラメチレンジアミン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレンジアミン、4,4−ジアミノヘプタメチレンジアミン、1,4−ジアミノシクロヘキサン、イソホロンジアミン、テトラヒドロジシクロペンタジエニレンジアミン、ヘキサヒドロ−4,7−メタノインダニレンジメチレンジアミン、トリシクロ[6.2.1.02,7]−ウンデシレンジメチルジアミン、4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルアミン)などの脂肪族および脂環式ジアミン;
2,3−ジアミノピリジン、2,6−ジアミノピリジン、3,4−ジアミノピリジン、2,4−ジアミノピリミジン、5,6−ジアミノ−2,3−ジシアノピラジン、5,6−ジアミノ−2,4−ジヒドロキシピリミジン、2,4−ジアミノ−6−ジメチルアミノ−1,3,5−トリアジン、1,4−ビス(3−アミノプロピル)ピペラジン、2,4−ジアミノ−6−イソプロポキシ−1,3,5−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−メトキシ−1,3,5−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−フェニル−1,3,5−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−メチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−1,3,5−トリアジン、4,6−ジアミノ−2−ビニル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−5−フェニルチアゾール、2,6−ジアミノプリン、5,6−ジアミノ−1,3−ジメチルウラシル、3,5−ジアミノ−1,2,4−トリアゾール、6,9−ジアミノ−2−エトキシアクリジンラクテート、3,8−ジアミノ−6−フェニルフェナントリジン、1,4−ジアミノピペラジン、3,6−ジアミノアクリジン、ビス(4−アミノフェニル)フェニルアミンおよび下記式(7)で表される化合物などの、分子内に2つの1級アミノ基および該1級アミノ基以外の窒素原子を有するジアミン;
下記式(8)で表されるジアミノオルガノシロキサン;
下記式(9)〜(10)で表される化合物などを挙げることができる。これらのジアミン化合物は、単独でまたは2種以上組み合わせて用いることができる。
これらのうち、前記式(II)で表わされる二価の有機基のジアミン、例えばp−フェニレンジアミン、2−メチル−1,4−フェニレンジアミン、2−エチル−1,4−フェニレンジアミン、2,5−ジメチル−1,4−フェニレンジアミン、2,5−ジエチル−1,4−フェニレンジアミン、2,3,5,6−テトラメチル−1,4−フェニレンジアミンから選ばれる少なくとも一種のジアミンを、全ジアミンに基いて50モル%以上含有するが、60モル%以上含有することが好ましい。また、その他のジアミン化合物としては、本発明の液晶配向剤の効果を十分に得る上で、上記式(IV−1)〜(IV−5)
また、イミド化重合体の製造に用いることのできるジアミン化合物としては、ポリアミック酸の製造に用いることができるジアミンとして上記例示したものに加え、下記式(11)〜(12)のそれぞれで表されるモノ置換フェニレンジアミン類;
下記式(13)〜(15)で表される化合物などを用いることができる。これらのジアミン化合物も、単独でまたは2種以上組み合わせて用いることができる。
ポリアミック酸の合成反応に供されるテトラカルボン酸二無水物とジアミンの使用割合は、ジアミンのアミノ基1当量に対して、テトラカルボン酸二無水物の酸無水物基が0.2〜2.0当量となる割合が好ましく、さらに好ましくは0.8〜1.2当量となる割合である。ポリアミック酸の合成反応は、有機溶媒中において、好ましくは−20℃〜150℃、より好ましくは0〜100℃の温度条件下で行われる。
ここで、有機溶媒としては、合成されるポリアミック酸を溶解できるものであれば特に制限はなく、例えば1−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホルトリアミドなどの非プロトン系極性溶媒;m−クレゾール、キシレノール、フェノール、ハロゲン化フェノールなどのフェノール系溶媒を例示することができる。また、有機溶媒の使用量(α)は、テトラカルボン酸二無水物およびジアミン化合物の総量(β)が、反応溶液の全量(α+β)に対して0.1〜30重量%になるような量であることが好ましい。
以上のようにして、ポリアミック酸を溶解してなる反応溶液が得られる。そして、この反応溶液を大量の貧溶媒中に注いで析出物を得、この析出物を減圧下乾燥することによりポリアミック酸を得ることができる。また、このポリアミック酸を再び有機溶媒に溶解させ、次いで貧溶媒で析出させる工程を1回または数回行うことにより、ポリアミック酸を精製することができる。
本発明の液晶配向剤を構成するイミド化重合体は、上記ポリアミック酸を脱水閉環することにより合成することができる。本発明で用いるイミド化重合体は、イミド化率100%未満の、部分的に脱水閉環されたものであってもよい。ここでいう「イミド化率」とは、イミド化重合体の全繰り返し単位中、イミド環またはイソイミド環を有する繰り返し単位の割合を、百分率で表した値である。ポリアミック酸の脱水閉環は、(i)ポリアミック酸を加熱する方法により、または(ii)ポリアミック酸を有機溶媒に溶解し、この溶液中に脱水剤および脱水閉環触媒を添加し必要に応じて加熱する方法により、(iii)テトラカルボン酸二無水物、ジアミン化合物およびジイソシアネート化合物とを混合し、必要に応じて加熱することにより、縮合させて合成する方法が用いられる。
上記(i)のポリアミック酸を加熱する方法における反応温度は、好ましくは50〜200℃であり、より好ましくは60〜170℃である。反応温度が50℃未満では脱水閉環反応が十分に進行せず、反応温度が200℃を超えると得られるポリイミドの分子量が低下することがある。
本発明におけるポリアミック酸およびイミド化重合体は、分子量が調節された末端修飾型のものであってもよい。この末端修飾型の重合体を用いることにより、本発明の効果が損われることなく液晶配向剤の塗布特性などを改善することができる。このような末端修飾型の重合体は、ポリアミック酸を合成する際に、酸一無水物、モノアミン化合物、モノイソシアネート化合物などを反応系に添加することにより合成することができる。ここで、酸一無水物としては、例えば無水マレイン酸、無水フタル酸、無水イタコン酸、n−デシルサクシニック酸無水物、n−ドデシルサクシニック酸無水物、n−テトラデシルサクシニック酸無水物、n−ヘキサデシルサクシニック酸無水物などを挙げることができる。また、モノアミン化合物としては、例えばアニリン、シクロヘキシルアミン、n−ブチルアミン、n−ペンチルアミン、n−ヘキシルアミン、n−ヘプチルアミン、n−オクチルアミン、n−ノニルアミン、n−デシルアミン、n−ウンデシルアミン、n−ドデシルアミン、n−トリデシルアミン、n−テトラデシルアミン、n−ペンタデシルアミン、n−ヘキサデシルアミン、n−ヘプタデシルアミン、n−オクタデシルアミン、n−エイコシルアミンなどを挙げることができる。また、モノイソシアネート化合物としては、例えばフェニルイソシアネート、ナフチルイソシアネートなどを挙げることができる。
以上のようにして得られるポリアミック酸および/またはイミド化重合体は、その対数粘度(ηln)の値が好ましくは0.05〜10dl/g、より好ましくは0.05〜5dl/gである。
本発明における対数粘度(ηln)の値は、N−メチル−2−ピロリドンを溶媒として用い、濃度が0.5g/100ミリリットルである溶液について30℃で粘度の測定を行い、下記式(A)によって求められるものである。
本発明の液晶配向剤を得るためには、上記ポリアミック酸およびイミド化重合体を溶媒に溶解させたのち、ポリアミック酸とイミド化重合体からなる全ポリマー重量に対してポリアミック酸を40重量%以上90重量%未満の混合割合になるように添加することによって得られる。混合割合が40%未満では、期待した電圧リーク性が得られないなど、本発明の効果を充分に得られなくなるため好ましくない。また混合割合が90%以上では、電圧保持率の低下など本発明の効果を充分に得られないばかりか、垂直配向性の低下により液晶分子が垂直配向しなくなる場合があるため好ましくない。またポリアミック酸とイミド化重合体の混合方法としては、粉末状態で混合したのちに溶解させる方法や、ポリアミック酸溶液に粉末のイミド化重合体を添加する等が挙げられるが、特に混合方法については限定されるものではない。また本発明の液晶配向剤を調製する際の温度は、好ましくは0℃〜200℃であり、より好ましくは20℃〜60℃である。
本発明の垂直液晶表示素子は、例えば次の方法によって製造することができる。
(1)パターニングされた透明導電膜が設けられている基板の一面に、本発明の液晶配向剤を例えばロールコーター法、スピンナー法、印刷法、インクジェット法などの方法によって塗布し、次いで、塗布面を加熱することにより塗膜を形成する。ここに、基板としては、例えばフロートガラス、ソーダガラスなどのガラス;ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネートなどのプラスチックからなる透明基板を用いることができる。基板の一面に設けられる透明導電膜としては、酸化スズ(SnO2)からなるNESA膜(米国PPG社登録商標)、酸化インジウム−酸化スズ(In2O3−SnO2)からなるITO膜などを用いることができる。これらの透明導電膜のパターニングには、フォト・エッチング法や予めマスクを用いる方法が用いられる。液晶配向剤の塗布に際しては、基板表面と樹脂膜との接着性をさらに良好にするために、例えば官能性シラン含有化合物、官能性チタン含有化合物などを予め塗布することもできる。液晶配向剤塗布後の加熱温度は、好ましくは80〜300℃であり、より好ましくは120〜250℃である。なお、本発明の液晶配向剤は、塗布後に有機溶媒を除去することによって配向膜となる樹脂膜を形成するが、未だ完全にイミド化が進んでいないときには、さらに加熱することによって脱水閉環を進行させ、よりイミド化された樹脂膜とすることもできる。形成される樹脂膜の膜厚は、好ましくは0.001〜1μmであり、より好ましくは0.005〜0.5μmである。
ここに、シール剤としては、例えば硬化剤およびスペーサーとしての酸化アルミニウム球を含有するエポキシ樹脂などを用いることができる。
また、液晶セルの外表面に貼り合わされる偏光板としては、ポリビニルアルコールを延伸配向させながら、ヨウ素を吸収させたH膜と称される偏光膜を酢酸セルロース保護膜で挟んだ偏光板またはH膜そのものからなる偏光板を挙げることができる。
実施例に限定されるものではない。
(1)電圧リーク性の評価
液晶セルに10Vの電圧を1秒印加した後、回路を開放状態にて放置し液晶セルから透過する透過光強度の経時変化を測定した際に、10分以内で初期の電圧印加時の透過光強度の10%まで低下するものを「良好」、10分以内で低下しないものを「不良」とした。
(2)電圧保持率の測定
60℃において液晶表示素子に5Vの電圧を60マイクロ秒の印加時間、167マイクロ秒のスパンで印加した後、印加解除から167ミリ秒後の電圧保持率を測定した。
テトラカルボン酸二無水物として、2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物22.1g(0.1モル)、ジアミン化合物としてp−フェニレンジアミン7.6g(0.07モル)、4,4−ジアミノジフェニルメタン4.0g(0.02モル)および上記式(18)で表される化合物5.2g(0.01モル)を、N−メチル−2−ピロリドン155gに溶解させ、60℃で4時間反応させた。次いで、反応溶液を大過剰のメチルアルコールに注いで反応生成物を沈澱させた。その後、メチルアルコールで洗浄し、減圧下40℃で15時間乾燥させることにより、対数粘度1.02dl/gのポリアミック酸34gを得た。得られたポリアミック酸20gをN−メチル−2−ピロリドン380gに溶解させ、ピリジン12.0gおよび無水酢酸15.5gを添加し110℃で4時間脱水閉環させ、上記と同様にして沈殿、洗浄、減圧を行い、対数粘度0.71dl/g、イミド化率86%のイミド化重合体(これを「ポリイミド(PI−1)」とする)14.4gを得た。
合成例1において、ジアミン化合物としてp−フェニレンジアミン4.3g(0.04モル)、4,4−ジアミノジフェニルメタン8.9g(0.05モル)、上記式(18)で表される化合物5.2g(0.01モル)を用いた以外は合成例1と同様にして、ポリアミック酸を得、さらにこれを用いて合成例1と同様にしてイミド化反応を行い、対数粘度0.67dl/g、イミド化率87%のイミド化重合体(これを「ポリイミド(PI−2)」とする)15.3gを得た。
合成例1において、ジアミン化合物として4,4−ジアミノジフェニルメタン17.8g(0.09モル)および上記式(18)で表される化合物5.2g(0.01モル)を用いた以外は合成例1と同様にして、ポリアミック酸を得、さらにこれを用いて合成例1と同様にしてイミド化反応を行い、対数粘度0.54dl/g、イミド化率85%のイミド化重合体(これを「ポリイミド(PI−3)」とする)13.1gを得た。
合成例1において、ジアミン化合物としてp−フェニレンジアミン7.6g(0.07モル)、2,2’−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル4.2g(0.02モル)および上記式(18)で表される化合物5.2g(0.01モル)を用いた以外は合成例1と同様にして、ポリアミック酸を得、さらにこれを用いて合成例1と同様にしてイミド化反応を行い、対数粘度0.54dl/g、イミド化率87%のイミド化重合体(これを「ポリイミド(PI−4)」とする)13.7gを得た。
合成例1において、テトラカルボン酸二無水物として1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−8−メチル−5(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]−フラン−1,3−ジオン6.2g(0.02モル)および2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物17.7g(0.08モル)を用いた以外は合成例1と同様にして、ポリアミック酸を得、さらにこれを用いて合成例1と同様にしてイミド化反応を行い、対数粘度0.31dl/g、イミド化率85%のイミド化重合体(これを「ポリイミド(PI−5)」とする)12.1gを得た。
合成例1において、イミド化反応触媒としてピリジン8.0gおよび無水酢酸10.3gを用いた以外は合成例1と同様にして、ポリアミック酸を得、さらにこれを用いて合成例1と同様にしてイミド化反応を行い、対数粘度0.57dl/g、イミド化率75%のイミド化重合体(これを「ポリイミド(PI−6)」とする)14.9gを得た。
合成例6において、ジアミン化合物としてp−フェニレンジアミン8.9g(0.09モル)および上記式(18)で表される化合物5.3g(0.01モル)を用いた以外は合成例6と同様にして、ポリアミック酸を得、さらにこれを用いて合成例6と同様にしてイミド化反応を行い、対数粘度0.78dl/g、イミド化率77%のポリイミド(これを「ポリイミド(PI−7)」とする)14.7gを得た。
合成例6において、テトラカルボン酸二無水物として1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−8−メチル−5(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]−フラン−1,3−ジオン6.4g(0.02モル)および2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物17.9g(0.08モル)、ジアミン化合物としてp−フェニレンジアミン8.7g(0.079モル)、上記式(18)で表される化合物10.6g(0.02モル)およびアニリン0.2g(0.002モル)を用いた以外は合成例6と同様にして、ポリアミック酸を得、さらにこれを用いて合成例6と同様にしてイミド化反応を行い、対数粘度0.29dl/g、イミド化率74%のイミド化重合体(これを「ポリイミド(PI−8)」とする)12.7gを得た。
合成例6において、ジアミン化合物として4,4−ジアミノジフェニルメタン15.5g(0.078モル)、上記式(18)で表される化合物10.5g(0.02モル)およびアニリン0.4g(0.002モル)を用いた以外は合成例6と同様にして、ポリアミック酸を得、さらにイミド化反応触媒としてピリジン6.5gおよび無水酢酸8.4gを用いた以外は合成例6と同様にしてイミド化反応を行い、対数粘度0.37dl/g、イミド化率74%のイミド化重合体(これを「ポリイミド(PI−9)」とする)13.2gを得た。
テトラカルボン酸二無水物として、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物19.2g(0.1モル)、ジアミン化合物としてp−フェニレンジアミン9.0g(0.08モル)および2,2’−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル4.4g(0.02モル)を、N−メチル−2−ピロリドン185gに溶解させ、40℃で4時間反応させた。次いで、反応溶液を大過剰のメチルアルコールに注いで反応生成物を沈澱させた。その後、メチルアルコールで洗浄し、減圧下40℃で15時間乾燥させることにより、対数粘度1.21dl/gのポリアミック酸(これを「ポリアミック酸(PA−1)」とする)31.9gを得た。
ジアミン化合物としてp−フェニレンジアミン9.0g(0.08モル)および4,4−ジアミノジフェニルメタン4.1g(0.02モル)を用いた以外は合成例10と同様にして、対数粘度1.16dl/gのポリアミック酸(これを「ポリアミック酸(PA−2)」とする)34.2gを得た。
ジアミン化合物としてp−フェニレンジアミン6.7g(0.06モル)および4,4−ジアミノジフェニルメタン8.1g(0.04モル)を用いた以外は合成例10と同様にして、対数粘度1.06dl/gのポリアミック酸(これを「ポリアミック酸(PA−3)」とする)32.6gを得た。
テトラカルボン酸二無水物として2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物10.9g(0.05モル)と1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物9.5g(0.05モル)を用いた以外は合成例10と同様にして、対数粘度1.08dl/gのポリアミック酸(これを「ポリアミック酸(PA−4)」とする)32.9gを得た。
ジアミン化合物としてp−フェニレンジアミン6.6g(0.06モル)および2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン16.6g(0.04モル)を用いた以外は合成例13と同様にして、対数粘度1.16dl/gのポリアミック酸(これを「ポリアミック酸(PA−5)」とする)34.2gを得た。
合成例1で得られたポリイミド(PI−1)および合成例10で得られたポリアミック酸(PA−1)を、ポリイミド:ポリアミック酸=25:75(重量比)になるように、γ―ブチロラクトン/N−メチル−2−ピロリドン/ブチルセロソルブ混合溶液(重量比40/40/20)に溶解させて、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル(エポキシ化合物1:分子量 約400)を重合体100に対して20重量部溶解させ固形分濃度4重量%の溶液とした。この溶液を孔径1μmのフィルターを用いて濾過し、本発明の膜形成用組成物を調製した。
次に、厚さ1mmのガラス基板の一面に設けられたITO膜からなる透明導電膜上に、当該膜形成用組成物をスピンナーにより塗布し、200℃で60分間乾燥することで、乾燥膜厚0.08μmの被膜を形成した。
また厚さ1.5mmの石英基板上に、上記のようにして調製された本発明の液晶配向剤をスピンナーを用いて塗布し、液晶表示素子作製時と同様にして塗膜を形成した。作製された塗膜の透過率測定から透明性を評価した。評価結果を表1に示す。本発明で得られた液晶配向剤は、高い電圧保持率を有し、電圧リーク性が良好であることが確認された。
下記表1に示す処方に従って、合成例1〜14で得られたポリイミド(PI−1)〜(PI−9)、ポリアミック酸(PA−1)〜(PA−5)と、エポキシ基含有化合物(エポキシ化合物1〜2)とを、γ―ブチロラクトン/N−メチル−2−ピロリドン/ブチルセロソルブ混合溶剤に溶解させ固形分濃度4.0%の溶液を得、この溶液を孔径1μmのフィルターでろ過することにより、本発明の液晶配向剤を調整した。このようにして調整された液晶配向剤の各々を用い、実施例1と同様にして、基板表面上に被膜を形成し、当該液晶配向膜が形成された基板を用いて液晶表示素子を作製した。そして、透明性、垂直配向性、電圧保持率および電圧リーク性を評価した。結果を表1に示す。
下記表1に示す処方に従って、実施例と同様に液晶表示素子を作製した。そして、透明性、垂直配向性、電圧保持率および電圧リーク性を評価した。結果を表1に示す。
Claims (3)
- 下記式(I−1)で表される構造を有するポリアミック酸および下記式(I−2)で表されるイミド構造を有するイミド化重合体を含有する液晶配向剤であって、上記ポリアミック酸は、式(I−1)中の二価の有機基であるQ1の少なくとも50モル%が下記式(II)で示される有機基であり、Q 1 の50モル%以下が下記式(IV−1)〜(IV−5)のそれぞれで表わされる構造よりなる群から選ばれる少なくとも一種のその他の二価の有機基を含有し、四価の有機基であるP1の少なくとも70モル%が下記式(III−1)〜(III−5)のそれぞれで示される有機基よりなる群から選ばれる少なくとも一つの有機基であり、且つP1の少なくとも50モル%が下記式(III−1)で示される有機基であり、そして全ポリマー重量に対して40重量%以上90重量%未満含有されていることを特徴とする垂直液晶配向剤。
(ここでP1はテトラカルボン酸から4つのカルボキシル基を除去して構成される4価の有機基を示し、かつQ1はジアミンから2つのアミノ基を除去して構成される2価の有機基を示す。)
(ここでP2はテトラカルボン酸から4つのカルボキシル基を除去して構成される4価の有機基を示し、かつQ2はジアミンから2つのアミノ基を除去して構成される2価の有機基を示す。)
(ここで、R1,R2,R3およびR4は、相互に独立に、水素原子または1価の有機基を示す。)
(ここで、Rは、水素原子または炭素数1〜4の炭化水素基を示し、複数存在するRは、それぞれ同一でも異なっていてもよく、複数存在するnは互に独立に1〜4の整数である。)
(ここで、R5,R6,R7,R8およびR9は、相互に独立に、水素原子または一価の有機基を示す。) - さらにエポキシ基含有化合物を前記ポリアミック酸および前記イミド化重合体の合計100重量部に対して10重量部以上含有する、請求項1に記載の垂直液晶配向剤。
- 請求項1または2に記載の垂直液晶配向剤から得られる液晶配向膜を具備してなることを特徴とする垂直液晶表示素子。
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