JP5000246B2

JP5000246B2 - 排液処理方法及び処理装置

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Publication number: JP5000246B2
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Inventors: 文則立石
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Description

本発明は、半導体装置の製造装置に代表される製造装置から発生する排液を処理する方法及び処理装置に関するものである。

例えば、薄膜トランジスタ（ＴｈｉｎＦｉｌｍＴｒａｎｓｉｓｔｏｒ、ＴＦＴ）などの半導体装置を製造する工程においては、その製造装置から発生した排液を処理する必要がある。製造工場では日常的に多量の排液が発生しており、その処理方法は工場のランニングコストに大きく影響する。特許文献１では現像装置の基板処理システムが提案されており、装置から発生した現像液、水洗水などの排液を各々別系統の配管で処理している。また、装置から発生した排液を切り換え弁により各々別系統の配管へ流し、排液を処理している場合もある（例えば特許文献２）。

また、安全性の面から配管を二重にして排液を処理することがある（例えば特許文献３）。特許文献３では、本配管の周囲に外殻管が配管された二重配管システムが提案されている。この場合、排液は内側の本配管のみを通り、外側の外殻管は空洞である。外殻管は本配管からの漏洩による危険性を回避するためのものである。

また、製造工程によっては排液が高温になり、排液回収タンクが許容できる温度まで排液を冷却しなければ処理できない場合がある。このとき、排液を自然に冷却させるために配管を必要以上に長くする、あるいは排液を冷却するために別途冷却機構を製造装置に付加するなどの対策が必要であった。特許文献４では、排液を冷却するために冷却コイルを有する予冷槽が別途装置に設けられている。
特開２００３−２２９３５６号公報特開平７−７８７９９号公報特開２０００−８８１４８号公報特開平６−１３２２７２号公報

上述したように、高温の排液を処理する場合、配管を必要以上に長くしたり、別途冷却機構を設けたりする必要があり、余分な設備投資が必要であった。さらに、設備が大型化してしまうという問題点もあった。また、有害な排液を処理する場合は、安全性の確保のために二重配管を用いる方法が提案されているが、外側の配管は空洞であるため、無駄な部分が多くコストがかかり、設備の小型化を妨げていた。このように、別途冷却機構を設けたり、二重配管を用いたりすることはコストの増加と設備の大型化につながる。

そこで本発明では、排液を処理するにあたり、コストを増加させず、大規模な設備を設けることなく、安全に排液を処理することを課題とする。

本発明の排液処理方法は、外側配管の内に内側配管が配置された二重配管の前記内側配管に第１の排液を流す際に、前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間に前記第１の排液より低温の第２の排液を流すことを特徴とする。

本発明の排液処理方法は、第１の処理液供給部から第１の処理部に第１の処理液を、第２の処理液供給部から第２の処理部に第２の処理液をそれぞれ供給し、前記第１の処理部から排出された第１の排液を第１の排液部を介して二重配管の内に配置された内側配管へ流すと共に、前記第２の処理部から排出された第２の排液を第２の排液部を介して前記二重配管の前記内側配管の外壁と外側配管の内壁との間へ流すことを特徴とする。

本発明の排液処理方法は、第１の処理液供給部から第１の処理部に第１の処理液を、第２の処理液供給部から第２の処理部に第２の処理液をそれぞれ供給し、前記第１の処理部から排出された第１の排液を第１の排液部を介して二重配管の内に配置された内側配管へ流すと共に、前記第２の処理部から排出された第２の排液を第２の排液部を介して前記二重配管の前記内側配管の外壁と外側配管の内壁との間へ流し、前記第２の排液は前記第２の処理部から排出開始時は前記第１の排液より低温であり、前記第２の排液は前記第２の処理液に含まれる溶媒で希釈された前記第１の処理液が含まれていることを特徴とする。

本発明の排液処理方法は、切り換え弁で前記第１の排液を前記内側配管へ流し、前記切り換え弁で前記第２の排液を前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間へ流し、前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間に設けられた弁で前記第２の排液を一度貯めることを特徴とする。

本発明の排液処理方法は、切り換え弁で前記第１の排液を前記内側配管へ流し、前記切り換え弁で前記第２の排液を前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間へ流し、前記内側配管に設けられた第１の弁で前記第１の排液を一度貯めて、前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間に設けられた第２の弁で前記第２の排液を一度貯めることを特徴とする。

本発明の排液処理方法は、前記第１の処理液供給部において前記第１の処理液の温度調節を行うことを特徴とする。

本発明の排液処理方法は、前記外側配管の内壁若しくは前記内側配管の外壁に設けられた濃度センサによって、前記第２の排液に含まれる前記第１の処理液の濃度を検査することを特徴とする。

本発明の処理装置は、第１の処理部と、第２の処理部と、前記第１の処理部に第１の処理液を供給する第１の処理液供給部と、前記第２の処理部に第２の処理液を供給する第２の処理液供給部と、前記第１の処理部から排出された第１の排液を処理する第１の排液部と、前記第２の処理部から排出された第２の排液を処理する第２の排液部と、前記第１の排液部に接続し前記第１の排液が流れる内側配管と前記第２の排液部に接続し前記第２の排液が流れる前記内側配管の外に配置された外側配管とを備えた二重配管を有することを特徴とする。

本発明の処理装置は、第１の処理部と、第２の処理部と、前記第１の処理部に第１の処理液を供給する第１の処理液供給部と、前記第２の処理部に第２の処理液を供給する第２の処理液供給部と、前記第１の処理部から排出された第１の排液を処理する第１の排液部と、前記第２の処理部から排出された第２の排液を処理する第２の排液部と、前記第１の排液部に接続し前記第１の排液が流れる内側配管と前記第２の排液部に接続し前記第２の排液部から排出開始時は前記第１の排液よりも低い温度であり、前記第２の処理液に含まれる溶媒で希釈された前記第１の処理液が含まれる前記第２の排液が流れる前記内側配管の外に配置された外側配管とを備えた二重配管を有することを特徴とする処理装置。

本発明の処理装置は、前記処理部に第１の処理液を供給する第１の処理液供給部と、前記処理部に第２の処理液を供給する第２の処理液供給部と、前記処理部に接続し前記処理部から排出された第１の排液が流れる内側配管と前記処理部に接続し前記処理部から排出された第２の排液が流れる前記内側配管の外に配置された外側配管とを備えた二重配管を有することを特徴とする。

本発明の処理装置は、処理部と、前記処理部に第１の処理液を供給する第１の処理液供給部と、前記処理部に第２の処理液を供給する第２の処理液供給部と、前記処理部に接続し前記処理部から排出された第１の排液が流れる内側配管と前記処理部に接続し前記処理部から排出開始時は前記第１の排液よりも低い温度であり、前記第２の処理液に含まれる溶媒で希釈された前記第１の処理液が含まれる前記処理部から排出された第２の排液が流れる前記内側配管の外に配置された外側配管とを備えた二重配管を有することを特徴とする。

本発明の処理装置は、前記処理部と前記二重配管との間に切り換え弁とを有し、前記二重配管の前記外側配管と前記内側配管の少なくとも一方に弁を有することを特徴とする。

本発明の処理装置は、前記第１の処理液供給部に温度調節部を有することを特徴とする。

本発明の処理装置は、前記外側配管の内壁若しくは前記内側配管の外壁に濃度センサを有することを特徴とする。

本発明において、外側配管に内側配管を流れる排液より低温の排液を流すことで、内側配管を流れる排液を冷却することが可能となる。また、二重配管構造となるため、危険な薬液の漏洩などの危険性を低減させることができる。

また、本発明において、従来は再利用されることなくそのまま処理される水排液を冷媒として再利用するため、冷却のためのコスト削減につながる。さらに、水排液の再利用のための新たな冷却機構を設ける必要がないため、コストを増加させることなく、高温の薬液排液を効率良く、安全に回収、処理することができる。また、二重配管の外側の配管に水排液を流して内側配管を流れる排液を冷却することにより、冷却のために配管を無駄に長くする必要もなくなる。

以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。但し、本発明は多くの異なる態様で実施することが可能であり、本発明の趣旨及びその範囲から逸脱することなくその形態及び詳細を様々に変更し得ることは当業者であれば容易に理解される。従って、本発明は本実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。また、各図面において共通の部分は同じ符号を付して詳しい説明を省略する。また、実施の形態１〜４は自由に組み合わせて用いることができる。

（実施の形態１）
本実施の形態では、外側の配管に内側の配管を流れる排液より低温の排液を流す排液処理方法及び処理装置について、図１〜図４を用いて説明する。

図１に処理装置１０１を示す。処理装置１０１は、薬液で処理する薬液処理部１０２に薬液を供給する薬液供給部１０４と、薬液処理部１０２から排出された排液を処理する薬液排液部１０６と、水で処理する水処理部１０３に水を供給する水供給部１０５と、水処理部１０３から排出された排液を処理する水排液部１０７を備えている。さらに、薬液処理部１０２から排出された排液と水処理部１０３から排出された排液が流れこむ二重配管（図示しない）を備えている。なお、処理装置１０１の構成は図１に示すものに限られず、複数の薬液処理部を有していてもよいし、複数の水処理部を有していてもよい。

本実施の形態において、薬液処理部１０２では、例えば、ウェットエッチング、現像、剥離などの処理が行われる。従って、薬液処理部１０２から排出される排液は薬液が含まれている。

本実施の形態において、水処理部１０３では、例えば、薬液処理部１０２で処理された基板の洗浄などの処理が行われる。この場合、水処理部１０３から排出される排液には、薬液処理部１０２から排出される排液に比べて低濃度に薬液が含まれている。また、水処理部１０３では、薬液処理部１０２で処理される前の基板の洗浄などを行ってもよく、その場合、水処理部１０３からは薬液が含まれない汚水が排液として排出される。

また、本実施の形態において、水処理部１０３から排出される排液の温度は、薬液処理部１０２から排出される排液の温度より低温でなければならない。水供給部１０５から水処理部１０３に供給される水としては、水道水、又は浮遊物や不純物を取り除いた蒸留水（いわゆる純水）を使用することができる。例えば半導体装置製造装置の場合、純水を用いることが好ましい。

また、薬液供給部１０４には薬液の温度を調節するための温度調節部１０８が設けられている（図１参照）。本実施の形態では、温度調節部１０８によりあらかじめ高温に温調された薬液を薬液処理部１０２に供給し、薬液処理部１０２から排出された排液を処理する場合について説明するが、温度調節部１０８は必ずしも設ける必要はない。薬液処理部１０２において熱の発生を伴う反応を起こし、結果的に高温となる排液を処理する場合においても、本発明を実施することが可能である。つまり、薬液処理部１０２から排出される排液の温度が、水処理部１０３から排出される排液の温度よりも高温であれば本発明を実施することができる。

このような処理装置１０１として図２（Ａ）に示すものが挙げられる。図２（Ｂ）は、図２（Ａ）のＡＢを結ぶ点線で示す部分の断面の模式図を示したものである。本実施の形態において、薬液排液部１０６は水排液部１０７の内側に配置されている。それによって、薬液排液部１０６のドレインと接続して延びる内側配管１１２が水排液部１０７のドレインと接続して延びる外側配管１１３で覆われた二重配管１１１が形成される（図２（Ａ）、（Ｂ）参照）。つまり、内側配管１１２は、外側配管１１３の内側に配置されている。

本実施の形態では、温度調節部１０８において高温に温調された薬液が薬液供給部１０４から薬液処理部１０２へ供給され、薬液処理部１０２において工程処理が行われる。続いて、水供給部１０５から供給される水を使用し、水処理部１０３において工程処理を行う。あるいは、水処理部１０３で処理を行い、続いて薬液処理部１０２において処理を行ってもよい。工程処理の順番はその目的に応じて、適宜変更することができる。

次に、薬液処理部１０２から排出される排液、水処理部１０３から排出される排液は各々薬液排液部１０６、水排液部１０７を介して、同時に二重配管１１１へ流れ込む。つまり、薬液処理部１０２から排出される排液が内側配管１１２へ流れ込むと共に、水処理部１０３から排出される排液が外側配管１１３へ、すなわち外側配管１１３の内壁と内側配管１１２の外壁との間の隙間へ流れ込む。本実施の形態において、水処理部から排液が排出を開始する時は、内側配管１１２を流れる排液の温度より外側配管１１３を流れる排液の温度が低温であるため、外側配管１１３を流れる排液により内側配管１１２を流れる排液が冷却される。

図３に、図２（Ａ）に示す薬液排液部１０６、水排液部１０７、内側配管１１２、及び外側配管１１３の断面の模式図を示す。図３に示すように、薬液排液部１０６、水排液部１０７は傾斜をもった薬液排液ドレインパン１０９、水排液ドレインパン１１０を備えている。ここで、ドレインパンとは、各処理部から排出される排液を内側配管、外側配管へと誘導する傾斜のついた板のことであり、排液の配管へのスムーズな流れをつくることを目的とする。又は、ドレインパンは設けず、処理部を直接二重配管１１１へ繋げても良い。

また、二重配管１１１の内側配管１１２及び外側配管１１３の形状としては、図４（Ａ）に示すような配管の断面が円状であってもよいし、図４（Ｂ）に示すような配管の断面が多角形状であってもよい。なお、図４（Ａ）では、配管の断面が円状の配管を示したが、配管の断面は楕円状であってもよい。また、図４（Ｂ）では、配管の断面が四角形状の配管を示したが、配管の断面は四角形に限らず三角形や五角形など多角形であってもよい。

以上のように、外側配管１１３に内側配管１１２を流れる排液より低温の排液を流すことで、内側配管１１２を流れる排液を冷却することが可能となる。また、二重配管構造となるため、危険な薬液の漏洩などの危険性を低減させることができる。

また、従来は再利用されることなくそのまま処理される水排液を冷媒として再利用するため、冷却のためのコスト削減につながる。さらに、水排液の再利用のための新たな冷却機構を設ける必要がないため、コストを増加させることなく、高温の薬液排液を効率良く、安全に回収、処理することができる。また、二重配管の外側の配管に水排液を流して内側配管を流れる排液を冷却することにより、冷却のために配管を無駄に長くする必要もなくなる。

（実施の形態２）
本実施の形態では、外側の配管に内側の配管を流れる排液より低温の排液を流す排液処理方法及び処理装置において、外側の配管に濃度センサを付加させる場合について説明する。

二重配管構造の外側配管１１３の内壁に少なくとも１つの濃度センサ１１４を設ける（図５（Ａ）、（Ｂ）参照）。図５（Ｂ）は、図５（Ａ）の断面図である。処理装置は、外側配管１１３内を通る排液を濃度センサ１１４で検査することによって、外側配管１１３内を通る排液中に内側配管１１２内を通る排液が混入していないかどうかを監視する。濃度センサ１１４は内側配管１１２内を通る薬液排液の成分に反応して警報などの警告を発する装置である。なお、濃度センサ１１４は、外側配管１１３を流れる排液の濃度を確認できる位置にあればよく、例えば、内側配管１１２の外壁に設けてもよいし、外側配管１１３の内壁に設けてもよい。但し、濃度センサ１１４は排液によって流れないように固定する必要がある。

濃度センサ１１４に反応する濃度値については、工程処理の際に混入の可能性がある分を考慮して基準となる基準濃度値を決定する。外側配管１１３内の排液中に該基準濃度値以上の内側配管１１２を流れる排液中に含まれる薬液濃度を検知したときは、内側配管１１２より薬液排液が漏洩していると判断し、警報などの警告を発するようにする。

二重配管構造の場合、外観からのみでは内側配管からの漏洩を判断できないため、対処が遅れ気味になってしまう。しかし、本実施の形態のように濃度センサを設けると、漏洩の早期発見が可能となる。また、本発明の二重配管構造においては、外側配管内にも液が流れているため、外側配管の下流に液相用濃度センサを一つ設けるのみで、配管全体の漏洩について監視することができる。

なお、本実施の形態は他の実施の形態と自由に組み合わせて行うことができる。

（実施の形態３）
本実施の形態では、バッチ式の処理装置について、図面を用いて説明する。

図６（Ａ）、（Ｂ）に、本発明の排液処理方法を利用したバッチ式処理装置の構成を示す。図６（Ｂ）は、図６（Ａ）の上面の模式図である。

バッチ式処理装置はワークステーション２０１、薬液処理槽２０５、水処理槽２０６、アームチャック２０４を有するロボット２０３、排液処理部２０７を備えている。アームチャック２０４はロボット２０３によって制御されている。

まず、ワークステーション２０１に搬送された被処理物２０２を、アームチャック２０４を用いて薬液処理槽２０５に搬送する。次に、薬液処理槽２０５において、被処理物２０２に対して薬液を用いた処理を行う。例えば、ウェットエッチング装置の場合、薬液処理槽２０５において、フッ酸やシュウ酸などを用いて被処理物２０２に対してエッチング処理が行われる。また、剥離装置においては、薬液処理槽２０５は例えば剥離液槽とイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）槽の２つの薬液処理槽を有し、それぞれの薬液処理槽において、被処理物２０２に対して剥離処理が行われる。

続いて、被処理物２０２をアームチャック２０４によって水処理槽２０６に搬送する。そして、水処理槽２０６において、薬液処理槽２０５において処理された被処理物２０２に対して洗浄等の処理を行う。

薬液処理槽２０５には温度調節された薬液が一定量常時供給されており、薬液は常時オーバーフローしている。また、被処理物２０２が搬送されると、さらに被処理物２０２の体積分の薬液がオーバーフローする。また、水処理槽２０６には水が一定量常時供給されており、水は常時オーバーフローしており、被処理物２０２が搬送されると、さらに被処理物２０２の体積分の水がオーバーフローする。

薬液処理槽２０５においてオーバーフローした薬液排液、及び水処理槽２０６においてオーバーフローした水排液は排液処理部２０７内へ流れこむ。排液処理部２０７は図２（Ａ）と同様に、薬液排液部と水排液部を有している。実施の形態１と同様に、薬液処理槽２０５においてオーバーフローした薬液排液が薬液排液部を通って二重配管の内側配管へ流れこむと共に、水処理槽２０６においてオーバーフローした水排液が水排液部を通って二重配管の外側配管へ流れこむ。

本実施の形態において、外側配管には内側配管を流れる排液より低温の排液が流れている。よって、外側配管を流れる排液により内側配管を流れる排液を冷却することが可能となる。また、二重配管構造となるため、危険な薬液の漏洩などの危険性を低減させることができる。

（実施の形態４）
本実施の形態では、枚葉式装置について、図面を用いて説明する。

図７に、本発明の排液処理方法を利用した枚葉式装置の一例として、スピンコーター装置の構成を示す。

本実施の形態のスピンコーター装置は、水供給部３０１と薬液供給部３０２を備え、それぞれ水と薬液を吐出するための水吐出ノズル３０３と薬液吐出ノズル３０４が設けられている。また、薬液供給部３０２は薬液の温度を調節するための温調機能を有していてもよい。

まず、被処理物３０５をカップ３０７（なお、カップは処理部ともいう）内に設けられた回転ステージ３０６に設置する。本実施の形態において、カップ３０７は薬液処理部と水処理部に対応する。次に、回転ステージ３０６に設置された被処理物３０５を最適な回転数で回転させながら、薬液吐出ノズル３０４から吐出された薬液を被処理物３０５上に塗布する。そして、被処理物上に塗布された後、本工程により発生した薬液排液が内側配管３１２へ流れ込む。

次に、水吐出ノズル３０３から吐出された水を用いて被処理物３０５を洗浄する。そして、洗浄処理により発生した水排液が外側配管３１１へ流れ込む。

本実施の形態では、上記実施の形態とは異なり、薬液と水の処理は両方ともカップ３０７において行っているため、薬液の排液と水の排液をそれぞれ二重配管の内側配管３１２と外側配管３１１とに分けて流れ込ませるために切り換え弁３０８が設けられている。

図８に、図７の切り換え弁３０８の上面の模式図を示す。切り換え弁３０８において、薬液吐出ノズル３０４から薬液を吐出し、その薬液排液を内側配管３１２へ流す場合は、図８（Ａ）に示すように、切り換え弁３０８を外側へ移動させ、外側配管３１１への入り口を閉じて内側配管３１２への入り口を開ける。また、水吐出ノズル３０３から水を吐出し、その水排液を外側配管３１１へ流す場合は、図８（Ｂ）に示すように、切り換え弁３０８を内側へ移動させ、内側配管３１２への入り口を閉じて外側配管３１１への入り口を開ける。これにより、薬液排液は内側配管３１２へ流れ、水排液は外側配管３１１へ流れることになる。

本実施の形態では、上記実施の形態とは異なり、薬液排液と水排液と二重配管へ流れ込むタイミングがそれぞれ異なる。従って、薬液排液が内側配管を通過したときに、外側配管に水排液が流れていない、あるいはその逆の場合が起こり、薬液排液を冷却することができない可能性がある。この問題を解決するために、本実施の形態のスピンコーター装置は図７に示すように外側配管３１１の内側に外側配管タンク弁３０９と内側配管３１２の内側に内側配管タンク弁３１０が設けられている。

本実施の形態において、薬液吐出ノズル３０４から薬液を吐出すると、切り換え弁３０８が外側へ移動し、薬液排液が内側配管３１２へ流れる。そして、内側配管タンク弁３１０が閉じ、一時的に薬液排液が貯められる。次に、水吐出ノズル３０３から水を吐出すると、切り換え弁３０８が内側へ移動し、水排液が外側配管３１１へ流れる。そして、外側配管タンク弁３０９が閉じ、一時的に水排液が貯められる。そして、同時に外側配管タンク弁３０９と内側配管タンク弁３１０を開け、排液を処理する。外側配管タンク弁３０９と内側配管タンク弁３１０により、薬液排液を水排液により効率よく冷却することができる。

また、外側配管タンク弁３０９と内側配管タンク弁３１０とを必ずしも両方設ける必要はなく、どちらか一方にだけ設けてもよい。この場合、タンク弁が設けられた配管の先に排液がたまるようにする。例えば、外側配管タンク弁３０９だけ設ける場合、まず、水吐出ノズル３０３から発生した水排液を外側配管３１１へ貯めておき、次に薬液吐出ノズル３０４から排出された薬液排液が内側配管３１２へ流れ込むタイミングで外側配管タンク弁３０９を開けばよい。また、内側配管タンク弁３１０だけ設ける場合、まず、薬液吐出ノズル３０４から排出された薬液排液を内側配管３１２へ貯めておき、次に水吐出ノズル３０３から発生した水排液が外側配管３１１へ流れ込むタイミングで内側配管タンク弁３１０を開けばよい。また、外側配管タンク弁３０９と内側配管タンク弁３１０とを両方設け、片方のタンク弁だけ開けて使用してもよい。

本発明の排液処理方法を説明する図である。本発明の排液処理方法を説明する図である。本発明の排液処理方法を説明する図である。本発明の二重配管構造を説明する断面図である。本発明の排液処理方法を説明する図である。本発明の排液処理方法を用いた処理装置を説明する図である。本発明の排液処理方法を用いた処理装置を説明する図である。本発明の排液処理方法を用いた処理装置を説明する図である。

符号の説明

１０１処理装置
１０２薬液処理部
１０３水処理部
１０４薬液供給部
１０５水供給部
１０６薬液排液部
１０７水排液部
１０８温度調節部
１０９薬液排液ドレインパン
１１０水排液ドレインパン
１１１二重配管
１１２内側配管
１１３外側配管
１１４濃度センサ
２０１ワークステーション
２０２被処理物
２０３ロボット
２０４アームチャック
２０５薬液処理槽
２０６水処理槽
２０７排液処理部
３０１水供給部
３０２薬液供給部
３０３水吐出ノズル
３０４薬液吐出ノズル
３０５被処理物
３０６回転ステージ
３０７カップ
３０８切り換え弁
３０９外側配管タンク弁
３１０内側配管タンク弁
３１１外側配管
３１２内側配管

Claims

外側配管の内に内側配管が配置された二重配管の前記内側配管に第１の排液を流す際に、前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間に前記第１の排液より低温の第２の排液を流すことを特徴とする排液処理方法。
第１の処理液供給部から第１の処理部に第１の処理液を、第２の処理液供給部から第２の処理部に第２の処理液をそれぞれ供給し、
前記第１の処理部から排出された第１の排液を第１の排液部を介して二重配管の内に配置された内側配管へ流すと共に、
前記第２の処理部から排出され、且つ前記第１の排液より低温の第２の排液を第２の排液部を介して前記二重配管の前記内側配管の外壁と外側配管の内壁との間へ流すことを特徴とする排液処理方法。
第１の処理液供給部から第１の処理部に第１の処理液を、第２の処理液供給部から第２の処理部に第２の処理液をそれぞれ供給し、
前記第１の処理部から排出された第１の排液を第１の排液部を介して二重配管の内に配置された内側配管へ流すと共に、
前記第２の処理部から排出された第２の排液を第２の排液部を介して前記二重配管の前記内側配管の外壁と外側配管の内壁との間へ流し、
前記第２の排液は前記第２の処理部から排出開始時は前記第１の排液より低温であり、前記第２の排液は前記第２の処理液に含まれる溶媒で希釈された前記第１の処理液を含むことを特徴とする排液処理方法。
外側配管の内に内側配管が配置された二重配管の前記内側配管に第１の排液を流す際に、前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間に第２の排液を流し、
前記外側配管の内壁若しくは前記内側配管の外壁に設けられた濃度センサによって、前記第２の排液に含まれる第１の処理液の濃度を検査することを特徴とする排液処理方法。
第１の処理液供給部から第１の処理部に第１の処理液を、第２の処理液供給部から第２の処理部に第２の処理液をそれぞれ供給し、
前記第１の処理部から排出された第１の排液を第１の排液部を介して二重配管の内に配置された内側配管へ流すと共に、
前記第２の処理部から排出された第２の排液を第２の排液部を介して前記二重配管の前記内側配管の外壁と外側配管の内壁との間へ流し、
前記外側配管の内壁若しくは前記内側配管の外壁に設けられた濃度センサによって、前記第２の排液に含まれる前記第１の処理液の濃度を検査することを特徴とする排液処理方法。
外側配管の内に内側配管が配置された二重配管の前記内側配管に第１の排液を流す際に、前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間に前記第１の排液より低温の第２の排液を流し、
前記外側配管の内壁若しくは前記内側配管の外壁に設けられた濃度センサによって、前記第２の排液に含まれる第１の処理液の濃度を検査することを特徴とする排液処理方法。
第１の処理液供給部から第１の処理部に第１の処理液を、第２の処理液供給部から第２の処理部に第２の処理液をそれぞれ供給し、
前記第１の処理部から排出された第１の排液を第１の排液部を介して二重配管の内に配置された内側配管へ流すと共に、
前記第２の処理部から排出され、且つ前記第１の排液より低温の第２の排液を第２の排液部を介して前記二重配管の前記内側配管の外壁と外側配管の内壁との間へ流し、
前記外側配管の内壁若しくは前記内側配管の外壁に設けられた濃度センサによって、前記第２の排液に含まれる前記第１の処理液の濃度を検査することを特徴とする排液処理方法。
請求項２、請求項３、請求項５又は請求項７において、
切り換え弁で前記第１の排液を前記内側配管へ流し、
前記切り換え弁で前記第２の排液を前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間へ流し、
前記内側配管に設けられた弁で前記第１の排液を一度貯めることを特徴とする排液処理方法。
請求項２、請求項３、請求項５又は請求項７において、
切り換え弁で前記第１の排液を前記内側配管へ流し、
前記切り換え弁で前記第２の排液を前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間へ流し、
前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間に設けられた弁で前記第２の排液を一度貯めることを特徴とする排液処理方法。
請求項２、請求項３、請求項５又は請求項７において、
切り換え弁で前記第１の排液を前記内側配管へ流し、
前記切り換え弁で前記第２の排液を前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間へ流し、
前記内側配管に設けられた第１の弁で前記第１の排液を一度貯めて、前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間に設けられた第２の弁で前記第２の排液を一度貯めることを特徴とする排液処理方法。
請求項２、請求項３、請求項５、及び請求項７乃至請求項１０のいずれか１項において、
前記第１の処理液供給部において前記第１の処理液の温度調節を行うことを特徴とする排液処理方法。
外側配管の内に内側配管が配置された二重配管を有し、
前記内側配管には、第１の排液が流れ、
前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間には、前記第１の排液より低温の第２の排液が流れることを特徴とする処理装置。
第１の処理部と、
第２の処理部と、
前記第１の処理部に第１の処理液を供給する第１の処理液供給部と、
前記第２の処理部に第２の処理液を供給する第２の処理液供給部と、
前記第１の処理部から排出された第１の排液を処理する第１の排液部と、
前記第２の処理部から排出された第２の排液を処理する第２の排液部と、
前記第１の排液部に接続された内側配管と前記第２の排液部に接続され、且つ前記内側配管の外に配置された外側配管とを備えた二重配管と、を有し、
前記内側配管には、前記第１の排液が流れ、
前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間には、前記第１の排液より低温の前記第２の排液が流れることを特徴とする処理装置。
第１の処理部と、
第２の処理部と、
前記第１の処理部に第１の処理液を供給する第１の処理液供給部と、
前記第２の処理部に第２の処理液を供給する第２の処理液供給部と、
前記第１の処理部から排出された第１の排液を処理する第１の排液部と、
前記第２の処理部から排出された第２の排液を処理する第２の排液部と、
前記第１の排液部に接続された内側配管と前記第２の排液部に接続され、且つ前記内側配管の外に配置された外側配管とを備えた二重配管と、を有し、
前記内側配管には、前記第１の排液が流れ、
前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間には、前記第２の排液部から排出開始時は前記第１の排液よりも低い温度であり、且つ前記第２の処理液に含まれる溶媒で希釈された前記第１の処理液が含まれる前記第２の排液が流れることを特徴とする処理装置。
処理部と、
前記処理部に第１の処理液を供給する第１の処理液供給部と、
前記処理部に第２の処理液を供給する第２の処理液供給部と、
前記処理部に接続された内側配管と前記処理部に接続され、且つ前記内側配管の外に配置された外側配管とを備えた二重配管と、を有し、
前記内側配管には、前記処理部から排出された第１の排液が流れ、
前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間には、前記処理部から排出され、且つ前記第１の排液より低温の第２の排液が流れることを特徴とする処理装置。
処理部と、
前記処理部に第１の処理液を供給する第１の処理液供給部と、
前記処理部に第２の処理液を供給する第２の処理液供給部と、
前記処理部に接続された内側配管と前記処理部に接続され、且つ前記内側配管の外に配置された外側配管とを備えた二重配管と、を有し、
前記内側配管には、前記処理部から排出された第１の排液が流れ、
前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間には、前記処理部から排出開始時は前記第１の排液よりも低い温度であり、且つ前記第２の処理液に含まれる溶媒で希釈された前記第１の処理液が含まれる前記処理部から排出された第２の排液が流れることを特徴とする処理装置。
外側配管の内に内側配管が配置された二重配管と、前記外側配管の内壁若しくは前記内側配管の外壁に濃度センサと、を有し、
前記内側配管には、第１の排液が流れ、
前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間には、前記第１の排液より低温の第２の排液が流れることを特徴とする処理装置。
第１の処理部と、
第２の処理部と、
前記第１の処理部に第１の処理液を供給する第１の処理液供給部と、
前記第２の処理部に第２の処理液を供給する第２の処理液供給部と、
前記第１の処理部から排出された第１の排液を処理する第１の排液部と、
前記第２の処理部から排出された第２の排液を処理する第２の排液部と、
前記第１の排液部に接続された内側配管と前記第２の排液部に接続され、且つ前記内側配管の外に配置された外側配管とを備えた二重配管と、
前記外側配管の内壁若しくは前記内側配管の外壁に濃度センサと、を有し、
前記内側配管には、前記第１の排液が流れ、
前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間には、前記第１の排液より低温の前記第２の排液が流れることを特徴とする処理装置。
処理部と、
前記処理部に第１の処理液を供給する第１の処理液供給部と、
前記処理部に第２の処理液を供給する第２の処理液供給部と、
前記処理部に接続された内側配管と前記処理部に接続され、且つ前記内側配管の外に配置された外側配管とを備えた二重配管と、
前記外側配管の内壁若しくは前記内側配管の外壁に濃度センサと、を有し、
前記内側配管には、前記処理部から排出された第１の排液が流れ、
前記内側配管の外壁と前記外側配管の内壁との間には、前記処理部から排出され、且つ前記第１の排液より低温の第２の排液が流れることを特徴とする処理装置。
請求項１５、請求項１６、又は請求項１９において、
前記処理部と前記二重配管との間に切り換え弁とを有し、前記二重配管の前記外側配管と前記内側配管の少なくとも一方に弁を有することを特徴とする処理装置。
請求項１５、請求項１６、請求項１９、又は請求項２０において、
前記第１の処理液供給部に温度調節部を有することを特徴とする処理装置。