JP5128040B2 - バイオマス灰溶液からの沈着炭素を含む又は含まない沈降シリカ及びシリカ・ゲル、及びプロセス - Google Patents

バイオマス灰溶液からの沈着炭素を含む又は含まない沈降シリカ及びシリカ・ゲル、及びプロセス Download PDF

Info

Publication number
JP5128040B2
JP5128040B2 JP2001572411A JP2001572411A JP5128040B2 JP 5128040 B2 JP5128040 B2 JP 5128040B2 JP 2001572411 A JP2001572411 A JP 2001572411A JP 2001572411 A JP2001572411 A JP 2001572411A JP 5128040 B2 JP5128040 B2 JP 5128040B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
silica
carbon
amorphous
sodium silicate
acid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2001572411A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2003529518A (ja
Inventor
ステファンス,ダグラス,ケー.
ウエレン,クライド,ダブリュ.
スミス,ジェフリィ,ビー.
キュービアク,ケネス,エフ.
Original Assignee
アグリテック,インク.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by アグリテック,インク. filed Critical アグリテック,インク.
Publication of JP2003529518A publication Critical patent/JP2003529518A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5128040B2 publication Critical patent/JP5128040B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/113Silicon oxides; Hydrates thereof
    • C01B33/12Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
    • C01B33/18Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof
    • C01B33/187Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by acidic treatment of silicates
    • C01B33/193Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by acidic treatment of silicates of aqueous solutions of silicates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/113Silicon oxides; Hydrates thereof
    • C01B33/12Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/113Silicon oxides; Hydrates thereof
    • C01B33/12Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
    • C01B33/14Colloidal silica, e.g. dispersions, gels, sols
    • C01B33/141Preparation of hydrosols or aqueous dispersions
    • C01B33/142Preparation of hydrosols or aqueous dispersions by acidic treatment of silicates
    • C01B33/143Preparation of hydrosols or aqueous dispersions by acidic treatment of silicates of aqueous solutions of silicates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/113Silicon oxides; Hydrates thereof
    • C01B33/12Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
    • C01B33/14Colloidal silica, e.g. dispersions, gels, sols
    • C01B33/152Preparation of hydrogels
    • C01B33/154Preparation of hydrogels by acidic treatment of aqueous silicate solutions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B18/00Use of agglomerated or waste materials or refuse as fillers for mortars, concrete or artificial stone; Treatment of agglomerated or waste materials or refuse, specially adapted to enhance their filling properties in mortars, concrete or artificial stone
    • C04B18/04Waste materials; Refuse
    • C04B18/06Combustion residues, e.g. purification products of smoke, fumes or exhaust gases
    • C04B18/10Burned or pyrolised refuse
    • C04B18/101Burned rice husks or other burned vegetable material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09CTREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK  ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
    • C09C1/00Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
    • C09C1/28Compounds of silicon
    • C09C1/30Silicic acid
    • C09C1/3045Treatment with inorganic compounds
    • C09C1/3054Coating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K3/00Materials not provided for elsewhere
    • C09K3/14Anti-slip materials; Abrasives
    • C09K3/1409Abrasive particles per se
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2002/00Crystal-structural characteristics
    • C01P2002/02Amorphous compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/10Solid density
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/12Surface area
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/14Pore volume
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/16Pore diameter
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/19Oil-absorption capacity, e.g. DBP values
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/80Compositional purity
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/90Other properties not specified above
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02WCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO WASTEWATER TREATMENT OR WASTE MANAGEMENT
    • Y02W30/00Technologies for solid waste management
    • Y02W30/50Reuse, recycling or recovery technologies
    • Y02W30/91Use of waste materials as fillers for mortars or concrete
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/29Coated or structually defined flake, particle, cell, strand, strand portion, rod, filament, macroscopic fiber or mass thereof
    • Y10T428/2982Particulate matter [e.g., sphere, flake, etc.]
    • Y10T428/2991Coated

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Civil Engineering (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)

Description

【0001】
(発明の分野)
本発明は、腐食性バイオマス灰溶液からの沈降シリカ又はシリカ・ゲルに関するものであり、これらそれぞれのタイプのシリカは接着あるいは沈着活性化炭素を含む又は炭素を含まないものである。そしてそれらの製法に関するものである。
【0002】
(発明の背景)
市販されている沈降シリカは硫酸などの鉱酸によってケイ酸ナトリウム溶液などの腐食性ケイ酸塩溶液を用いた酸性化を通じてつくられる。市販されている腐食性ケイ酸塩溶液は通常、高純度ソーダ灰とシリカ・サンドを炉内で1300℃〜1500℃以上の温度で溶融することで固形ガラスをつくることによってつくられる。ケイ酸塩溶液はそのガラスをスチーム及び熱水で溶かすことによってつくられる。これは今日におけるナトリウムあるいはその他の可溶性ケイ酸塩溶液をつくるためのすべての商業的プロセスの基礎である。両方のプロセスとも非常にエネルギー集約的で、従って非常に経費がかかり、そしてケイ酸塩は土中に見出される金属汚染物質を一般的に500〜10,000ppm程度の量で含んでいる。沈降シリカをつくるためのプロセスは米国特許第2,657,149、第2,940,830、第4,157,920、第4,495,167及び第4,681,750に述べられており、それらはすべて参照することで沈降シリカをつくるプロセスとそれら生成物の特性を含めて本明細書に取り入れられている。一般的に、酸及びケイ酸塩溶液は反応器に加え、それらのプロセス条件を操作することで、化学的及び構造的特性を制御することができる。沈降反応が完了した後、固体沈降物をろ過し、洗浄して可溶性副産物を取り除き、乾燥し、望ましいサイズに破砕する。
【0003】
やや異なった特性を有する別の形態のアモルファス状シリカであるシリカ・ゲルも上に述べたのと同じ方法で、しかし、pHがより低い溶液でつくられる。商業的に生産されるシリカ・ゲルのためのプロセスは可溶性金属ケイ酸塩、通常はケイ酸ナトリウムの溶液を硫酸や塩酸などの強鉱酸で処理するステップを伴う。ゲル相は底に沈まないので、シリカ・ゲルは慣習的にコロイド状アモルファス性シリカ粒子の非沈降均一混合物と表現される。最終生成物を洗浄して可溶性塩類を取り除き、乾燥して、適切な粒子サイズ範囲に縮小される。一般的には、ヒドロゲルとエアロゲルの2つのタイプのシリカ・ゲルがある。ヒドロゲルは上に述べたように調製され、エアロゾルは通常水をアルコールと置換することで未精製ヒドロゲルから調製され、乾燥プロセス中に回収される。ガラス状物質であるシリカ・ゲルは巨大な内腔面積を有しており、大量の水分及びその他の物質を吸収する能力を持っている。
【0004】
炭素がその上に接着あるいは沈着している沈降シリカはタイヤ又は工業製品など、高度の強さと磨耗抵抗を必要とする種々のゴム製品に利用されている。シリカと炭素の組み合わせをゴムの強化剤として使用するための現在の方法はそれらの固体成分をゴム組成物内に混ぜ込むステップを伴っており、これには通常均一の混合物を得るために分散剤及び結合剤の添加を必要とする。実際には、炭素は通常市販され、タイヤ、トレッド、ホースなどで一般的に用いられているカーボン・ブラックから選択される。実例としては、ゴム合成分野の当業者に良く知られているASTM指定N価を有するカーボン・ブラックを含んでいる。これらのカーボン・ブラックは重い残油原油を慎重に制御された燃焼プロセス内で非常な高温下で処理することで製造される。この製造プロセスは非常にエネルギー及び労働集約的で、製造コストが高くなる。
【0005】
実際には、ゴム合成アプリケーションで一般的に用いられているケイ酸塩化合物(シリカ)は通常、ケイ酸ナトリウムなどの可溶性シリカの酸性化によって得られるものなどの沈降シリカである。好ましいシリカはAKZO、PPG、Dupont、Rhone-Poulenc、Huber及びDegussaが販売しているようなものである。また、粒子状沈降シリカにゴムに対する強化効果を持たせるためにシリカ表面とゴム・エラストマの両方と結合することができる結合剤が用いられる。
【0006】
前にも述べたように、沈降シリカとシリカ・ゲルは多くの応用例、特にゴム産業で強化充填材として用いられている。高度の強化及び磨耗抵抗を必要とする多くのゴム応用例で、シリカとアモルファス炭素質成分の組み合わせが用いられる。結合剤を含む、あるいはそれを含まないカーボン・ブラックとシリカがタイヤのトレッド、アンダートレッド、及びサイドトレッド、工業用ホース、コンベヤ・ベルト、ローラー、ゴム製ショック吸収材などの種々のゴム製品のための強化用充填材として一般的に用いられている。硫黄硬化ゴムを含むエラストマーのための強化充填材としてのシリカとカーボンの利用はこうした分野の当業者には良く知られている。
【0007】
米国特許第5,610,216は、強化用充填材として用いられるシリカとカーボン・ブラックの組み合わせを含み、シリカ対カーボン・ブラック比率が3/1(シリカ75%と炭素25%)から約30/1(シリカ96.77%と炭素3.23%)の範囲であるゴム組成物を開示している。ゴム組成物はゴムの100重量部分(phr)に対して約25〜約100部分のシリカとカーボンよりなる強化充填材を含んでいる。
【0008】
前にも述べたように、商業的には、カーボン・ブラックは慎重に制御された燃焼プロセス内で重い残油原料を非常に高い温度下で処理することでつくられる。燃焼プロセスの条件を変えることで、いろいろな構造及び粒子サイズの何十というグレードが製造される。表面積及び孔体積などのカーボン・ブラックの構造的特性は沈降シリカ及びシリカ・ゲルに対して用いられるのと同様の方法を用いて評価、測定される。カーボン・ブラックの構造、例えば粒子間の結合度などを測定するための原理はASTM D2414 に従ってDBP(ジブチル・フタレート)オイル吸着によって決定され、その数値は100グラムの炭素あたりに吸着されるミリリットル(ml/100g)で表示される。表面積の測定は通常BET(Brunauer, Emmett, Teller)窒素吸着テスト法、ASTM D3037あるいはASTM D4820で行われ、数値は炭素1グラムあたりの平方メートル(m2/g)で表示される。一部のメーカーは表面積に対してはASTM D3765、CTAB(臭化セチルトリメチルアンモニウム)吸着を用い、数値はほとんどの場合、BET値の場合と同様m2/gで表示される。また、一部のメーカーは表面積の測定方法として、ASTM D1510、カーボン・ブラック−ヨード吸着価の標準テスト法を用いている。例えば、mg/gで表現されるヨード価が高ければ高いほど粒子サイズは小さく、表面積は大きく、これらのことはゴム・エラストマに対する強化用カーボン・ブラックとしてより優れていることを示している。
【0009】
ヨード価及びDBP価とASTM指定カーボン・ブラックに対するN価との組み合わせはThe Vanderbilt Rubber Handbook, 13th Edision(1990)にも見られる。DBP価は構造を示しており、値が高いほどより高い構造と、通常はアグリゲート・サイズがより大きいことを示している。BET窒素吸着価は表面積を示しており、価が高いほど表面積が大きく、通常は粒子サイズが小さいことを示している。
【0010】
米国特許第5,168,106、第5,679,728、及び第5,798,405は上に述べた使用目的に適したカーボン・ブラックを開示しており、構造特性は以下の通りである。DBP(ジブチルフタレート)吸着価:80〜135ml/100gの範囲、BET窒素吸着価:20〜300mg/gの範囲、そして、ヨード価:25〜300mg/gの範囲。
【0011】
米国特許第5,807,494はゲル成分に炭素質成分が付着したシリカ・ゲル組成物を開示している。炭素質成分はカーボン・ブラック、炭素繊維、活性炭素、そしてグラファイト炭素で構成される群から選択される。必要であれば、炭素質成分はゲル成分に付着して、それによって水分散性を増大するように修正してもよい。ゲル組成物での使用に適したゲル成分はシリカ・ゲル、チタニア・ゲル、アルミナ・ゲルなどの金属酸化物ゲルなどである。ゲル成分内に含まれる炭素質成分の量は意図された使用目的に依存している。一般的に、ゲル成分内で1〜99重量%の範囲の炭素質成分を用いることができる。かさ密度が低いゲル組成物が望ましい場合は、重量で1〜50%の炭素質成分が用いられる。かさ密度が高いゲルが望ましい場合、50〜99重量%の炭素質成分が用いられる。炭素質成分を含むゲル組成物は当業者に周知の応用例で用いることができ、そうした応用例としては熱、電気及び音響遮断を含む絶縁材としての使用;顔料、インク、あるいは食品の増粘材など粒子添加剤としての利用;塗料や被覆材で用いられるつや消し剤;セメント、接着剤、及びゴム組成物で用いられる充填材;ポリマー及び天然あるいは合成ゴム組成物で用いられる強化剤;液体、ガス、あるいは蒸気吸着プロセスのための吸着材;粉末化金属あるいは金属酸化物触媒材料などのための触媒基質;液体、ガス、あるいは蒸気を分離するための膜;粒子ろ過のためのフィルター;放射能検出装置;熱遮断被覆で用いられるような耐熱被覆材;そして低圧電素材などがある。
【0012】
米国特許第5,807,494のゲル組成物での使用に適したゲル前駆体は、アルコキシド、ケイ酸ナトリウム、及びコロイド形態のSiO2;アルコキシド及びコロイド形態のTiO2;アルコキシド、コロイド、ケイ酸ナトリウム、そして塩形状のAl2O3などの先行技術で周知の金属酸化物前駆体である。特定の前駆体の選択は望ましいゲルのタイプに依存する。この技術分野の当業者ならすぐ分かるように、特定のゲル組成物が特定の使用例での使用に望ましいかどうかは組み込まれる炭素質物質の量、及びその組成物のかさ密度などゲル組成物の性質に依存している。
【0013】
特許第5,807,494の実施例23〜28はケイ酸ナトリウム前駆体からつくられ重量(固体成分)が炭素質成分の50%以下であるシリカ・ゲルに関係している。これらの実施例ではページ10、表1に示される性質を有する3つのタイプのカーボン・ブラックが用いられたが、その性質とは、窒素表面積(ASTM D3037)が24〜560m2/g、DBPオイル吸着(ASTM D2424)が70〜132ml/100g 、そして平均一次粒子サイズ(ASTM D3849 )が16〜130ナノメートルである。ゲル形成を開始する前に、固有の量の特定カーボン・ブラックを市販のケイ酸ナトリウム(SiO2/NaO2比率が3.22:1)と2M硫酸で構成され、pHが約3のゾルに加えた。ゲル化はゾルのpHが約5に上昇するまで1M水酸化ナトリウムを徐々に加えることによって開始された。塩類を取り除くための洗浄、溶媒交換、そして乾燥を行った後、上記炭素質物質がゲル成分に付着したかどうかを判定するために、ラブ・オフ技術及び走査電子顕微鏡(SEM)写真を用いて評価を行った。
【0014】
米国特許第5,679,728はタイヤ・トレッド、アンダートレッド、そしてサイド・トレッド用のゴム組成物で用いられるその表面にシリカが接着あるいは沈着されているカーボン・ブラック(『シリカ表面処理カーボン・ブラック』と称する)を開示しており、このカーボン・ブラックは制動性能及びその他のタイヤ性能を低下させずに燃料消費を低下させるとともに優れた耐久性を提供する。さらに、シリカの欠陥である電気抵抗の上昇を抑え、分散性を向上させるシリカ表面処理カーボン・ブラックの提供も開示されている。このシリカ処理カーボン・ブラックは好ましくは20〜300m2/gの窒素固有表面積(N2SA)と90〜180ml/100gのDBPオイル吸着を有している。このシリカ表面処理カーボン・ブラックは以下の方法でつくられたものである。通常の方法で調製されたカーボン・ブラック(DBP吸着:115〜119 ml/100g)スラリーを90oCまで加温して、その後、希釈されたJIS No. 3ケイ酸ナトリウムを低速デリバリー・ポンプで4時間かけて加え、希釈硫酸と水酸化ナトリウムの水溶液を用いてpHを5〜10の範囲に維持し、それによってシリカをカーボン・ブラックの表面に沈着させた。次に、pHを6に調製して、その溶液を6時間放置してから、ろ過、洗浄、乾燥したところ、望ましい物質が得られた。シリカの量は添加されるケイ酸ナトリウムの量を調節することで変えられた。
【0015】
シリカ表面処理カーボン・ブラックにおけるシリカの含量を分析的に調べ、窒素固有表面積とヨード吸着を含むその特性について判定した。上に述べた方法で調製したシリカ表面処理カーボン・サンプルの場合、シリカ含量は2〜74重量%の範囲であり、窒素固有表面積は94〜193m2/gであり、ヨード吸着量は2〜137mg/gの範囲であった。タイヤ・トレッド、アンダートレッド、キャップ・トレッド、そしてサイド・トレッドとして使用するための種々のゴム組成物をシリカ表面処理カーボン・ブラックを用いて調製し、次にテストを行って、その結果を通常のカーボン・ブラック及びシリカ強化を用いて合成されたゴム組成物から得たものと比較した。これらの結果はシリカ表面処理カーボン・ブラックによるゴム組成物がグリップに優れ、さらに回転抵抗が低いことを示している。さらに、電気抵抗が減り、そのゴム組成物内でのシリカ表面処理カーボン・ブラックの分散性が改良された。
【0016】
米国特許第5,916,934はエラストマーとシリカ被覆カーボン・ブラック、そしてオプションとしては結合剤を含むエラストマー性化合物を開示している。この特許はシリカで被覆されたカーボン・ブラックを教示しており、エラストマーにおける炭素、シリカ、あるいはそれらの混合物より優れた利点を提供すると期待されている。どんなカーボン・ブラックを用いてもよいが、その望ましい性質は先行技術で周知の分析方法で判定される。その性質としては、粒子サイズと比表面積、かさサイズ、形状、そして分散性、及びその表面の化学、物理特性などである。さらに、有益なシリカの実例としてはシリカ、沈降シリカ、アモルファス性シリカ、粘性シリカ、燻蒸シリカ、溶融シリカ、アルミノシリケートなどのケイ酸塩、そして粘土、タルク、ウォラストナイトなどのその他のSi含有充填材などである。シリカはCabot Corporation, PPG Industries, Rhone-Poulec, Deggussa AGなどの供給源から市販されている。
【0017】
先行技術から、単体であれ組み合わせであれ、用いられる沈降シリカ、シリカ・ゲル、及び炭素が構造特性、表面積、多孔性、吸収及び吸着、表面活性、加湿性、水溶液内での分散性、そしてかさ密度レベルなどで一定の特性を有している必要があることは明らかである。例えば、ゴム製品、エラストマー、その他のポリマー内で強化充填材としての炭素と組み合わせられたシリカは通常大きな表面積とオイル吸着値を有している。これらの使用法の別の重要な特徴は水性ゴム組成物における分散性である。上に述べた特許の幾つかは、シリカ-炭素成分の分散性がシリカ表面処理カーボン・ブラック、シリカ・ゲル成分に取り付けられた炭素質成分、シリカ被覆カーボン・ブラック、そしてシラン結合材を使用することで改善されることを教示している。ゴム強化成分内のシリカは必ずしも物理、化学的にカーボン・ブラックの表面に結合していなくてもよいが、シリカがカーボン・ブラック表面に接着、あるいは沈着していることは好適である。
【0018】
最近開発されたコロイド形状での沈降シリカの新しい使用法はコンピュータ・チップ及びその他の電子装置の製造でシリコン・ウエハーを磨くために用いられる化学的物理的平面化(CMP)スラリーの形成である。例えば、米国特許第3,922,393、第4,260,396、第4,588,421、第5,100,581、第5,230,833、第5,527,423、第5,603,805、第5,860,848、そして第5,891,205は種々の濃度、修正、及び添加物を含む、半導体産業用のシリコン・ウエハーの研磨及び平面化のプロセスにおける化学物理的研磨スラリーとして特に有益なコロイド状シリカ溶液の使用を開示している。
【0019】
先行技術で知られているように、CMP研磨用スラリーは、通常は制御された表面溶解を起こさせる溶液pHで除去されるべき物質に対して腐食性の化学的薬剤と、表面から物質を物理的に取り除く研磨粒子とで構成されている。仕上げられた半導体チップが処理中にウエハーに付着する汚染物質によって影響を受け易いことは良く知られている。微量遷移金属、アルカリ及びアルカリ性土類金属、アルミニウムなどによって汚染されるシリカ・スラリーの使用はウエハー研磨で用いられるといくつかの問題を起こす。特に懸念される汚染性金属はナトリム(Na)とカリウム(K)などのアルカリ金属、カルシウム(Ca)とマグネシウム(Mg)などのアルカリ土類金属、そして鉄(Fe)、銅(Cu)、マンガン(Mn)、ニッケル(Ni)、亜鉛(Zn)などの遷移金属である。特にもし、Fe、Ni、Cu、Mn、あるいはCrも存在している場合に問題を引き起こす可能性があるその他の金属はアルミニウムである。それらの金属が十分に高い濃度で存在していると、CMPシリカ・スラリーは最終製品の必要条件を満たさないこともしばしばある。
【0020】
ウエハー表面と接触するCMP物質及び溶液においては、ウエハー及び最終チップ製品の汚染を防ぐために金属含量をできるだけ低めるべきであることは一般的に認められている。
【0021】
CMPスラリー内での研磨材として使用するためのコロイド状の沈降シリカ粒子は通常入手し易い市販ケイ酸ナトリウム溶液の酸性化によってつくられる。市販ケイ酸塩は土類鉱物原料、砂、ソーダ灰などから平炉内で高温で溶融することでつくられる。これによって溶融ケイ酸塩ガラスがつくられ、それを冷却、破断して容器に入れ、加圧下で熱水及び水蒸気によって溶解してケイ酸塩水溶液を形成する。砂及びソーダ灰原料は土の中に見出される種々の不純物を含んでおり、さらに炉の絶縁表面も金属酸化物を放出するので、上に述べたような産業利用のための市販ケイ酸塩は通常約500〜10,000ppmの範囲の量の汚染物質を含んでおり、これらが以下に述べるような金属汚染を引き起こす。
【0022】
先行技術で知られているように、研磨操作の結果として生じるシリコン・ウエハー内あるいはその表面での金属汚染の可能性をできるだけ少なくするために、CMPスラリーの製造はケイ酸塩溶液及びシリカ系CMPスラリーからの金属除去のための種々の処理プロセスを発展させてきている。これらの高価で時間がかかる処理プロセスには、例えば、超音波の適用中に金属を除去するために酸によるシリカ粉末粒子の処理、その上に酸素が沈着された細かく分割された炭素質基質と接触している状態でそれらの金属を含んでいるシリカ化合物を加水分解してその後酸素を炭素から分離する処理中、イオン交換を用いてカウンターイオンを除去し、その後水酸化アンモニウム及び炭酸アンモニウムを加えて安定した製品をつくる処理中、水でコロイド状シリカ・スラリーを希釈してその後それを酸形状で陽イオン交換樹脂に露出させ、そしてシュウ酸を加えてシュウ酸含有低pHケイ酸を形成し、そしてそのケイ酸溶液を水酸化物形状で陰イオン交換樹脂に露出させてすべての負電荷種を水酸化物イオンと置換させ、そしてその水酸化物中和ケイ酸溶液を酸形状で陽子水和化陽イオン交換樹脂に露出させてそれによって低金属ケイ酸溶液を形成し、その後冷却し、安定化のために水酸化アンモニウムを加え、加熱して反応させることによって低金属シリカ溶液をつくる処理などの際に金属を除去するための処理などがある。
【0023】
いくつかのCMPスラリー製造業者がマイクロエレクトロニクス級の品質のケイ酸ナトリウムを製造するために高純度の砂とソーダ灰原料を使って金属不純物の少ないコロイド状シリカ・スラリーを開発しようとしていることが知られている。これらの試みは金属性汚染物質総量を約250ppmのレベルまで低下させることには成功しているが、コストの点がその技術を商業的に魅力のないものにしている。いくつかの製造業者が用いている別の技術は金属のウエハー表面への移行を抑止するためにスラリー混合物内でキレート化剤を用いている。
【0024】
現在市販されている籾殻灰は炉内で籾殻をガス化、あるいは燃焼又は焼却することによってつくられている。ガス化とは熱を加えることで固体燃料中の炭化水素あるいは炭水化物成分を熱に転化することである。燃焼とは燃やしたり化学的変化を起こさせたり、特に酸化させる作用あるいはプロセスで、熱と光の発生を伴う。焼却とは燃やして灰にすることによる償却行為である。熱分解は熱を加えることで物質中に起きる化学的変化である。便宜上、『熱分解』という用語はガス化、燃焼、焼却、及び籾殻から籾殻灰とアモルファス状の炭素をつくるあらゆる形態の熱処理を含んでいる。
【0025】
ある種の農業副産物や廃棄物質が生物由来のシリカ、つまり、植物などの生物の細胞構造内で形成、同化、発生されたシリカをいろいろな量で含んでいることは知られている。通常『バイオマス』と呼ばれるこれらの副産物は基本的には籾殻、わら、麦わら、そしてサトウキビ・バガスである。生物由来のシリカを含むその他の植物にはトクサ、ある種のシュロの葉(パルミラ・パーム)、そしてある種の竹の幹などである。これらの農業副産物及び植物内の生物由来のシリカは明確な結晶構造を有しておらず、このことはそれが一定の多孔性を有するアモルファスであることを意味している。
【0026】
乾燥した籾殻は約60%のセルロース及びヘミセルロース、20%リグニン、19%シリカ、0.5%窒素及び硫黄、そして0.5%などの燐、マグネシウム、マンガン、鉄、カリウム、ナトリウム、アルミニウム、チタン、そしてカルシウムなどの鉱物質を含んでいる。籾殻を燃焼させると、残った固体物質や灰は重量で最初の籾殻の量の約20%を含んでおり、主にシリカ、鉱物質、そして未燃焼炭素で構成されている。
【0027】
乾燥したサトウキビ・バガスは通常約6%の糖分(炭水化物)と94%の繊維性物質(セルロース、ヘミセルロース、リグニン、シリカ、そして鉱物)を含んでいる。バガス灰を化学的に分析すると以下のデータが得られる。SiO2:60〜73%、Al2O3:3〜6%、CaO:2〜3%、Fe2O3:5〜6%、K2O:3〜4%、MgO:3〜4%、Na2O:3〜4%、P2O5:4〜5%、そして未燃焼炭素:4〜17%。
【0028】
農業廃棄物あるいはバイオマスは潜在的に有用な燃料としての価値を有すると同時に、いろいろな場所で、特に精米工場やサトウキビ処理作業の現場の近くで水蒸気や電気をつくりだすための低級燃料として用いられている。直接的な燃焼及び焼却が籾殻廃棄物を処分するための迅速な方法として長年にわたり用いられている。籾殻の通常の焼却においては、炉はその焼却によってつくりだされるシリカの形状には配慮せずに非常な高温で作動するように設計されている。二酸化ケイ素のフェーズ・ダイアグラムはアモルファス状の非結晶形態からトリジマイト及びクリストバライトとして知られる結晶性形態への移行はシリカが純粋な状態にある場合は約2000oF(1093℃)以上の温度で起きる。しかしながら、籾殻などのバイオマス性物質を1800oF〜2000oFの範囲で一定時間焼却すると、アモルファスから結晶性への移行温度が最初の籾殻の他の成分の存在で低くなるので結晶性シリカが形成されてしまう。
【0029】
米国特許第3,889,608及び第3,959,007は籾殻などのバイオマス性物質を焼却して使用可能なエネルギーと灰中の高度に反応性の高いアモルファス形態をつくりだすための炉及びプロセスを開示している。この焼却あるいは直接燃焼プロセスにおいては、生の籾殻を円筒形炉内の燃焼ゾーンで過剰な空気の存在下で高温に露出させられ、灰は底部から継続的に除去される。殻は1250oF(677℃)と1500oF(815℃)のガス質量温度で比較的高いレベルの乱流で焼却され、それによって籾殻の温度が約1300oF (704℃)を超えないようにする。結晶がない灰が望ましい場合は1250oF(677℃)と1500oF(815℃)の温度が望ましい。炉から取り出されると、灰は取り扱い易いようにするために急速に冷却される。籾殻あるいはその他の生物由来の物質の焼却あるいは燃焼は時間−温度依存であり、これらの条件下でそれらを燃やすと炭素を活性化させる殻の燃焼から生じる炭素粒子を有する籾殻灰などの生物性の灰をつくりだす。こうした方法で殻を焼却すると重量で約3%〜約14%の活性炭素がつくられる。また、籾殻及びその他の生物由来の物質を焼却すると、灰の中のシリカが石英やトリジマイト、あるいはクリストライトなどとして知られている結晶液体ではなく比較的純粋なアモルファス状態で残る。
【0030】
シリカをアモルファス状態にしておくことの意義は、そのシリカが多孔性の骨格構造を保持し、それがその灰の腐食性消化などの操作中による優れた化学的反応性と可溶性を示すからである。安全性の観点から、これまで結晶性シリカ・ダストの焼却に関連してきた一般に知られている健康上の危険は珪肺である。1997年に、International Agency for Research on Cancer (IARC)の作業グループが職業上の供給源から吸入された結晶性シリカをヒトに対する発がん性があるとする研究論文を発表し、それをIRACグループ1作用因子に分類した。Occupational Safety and Health Administration (OSHA)規制及びそのOSHA Hazard Communication Standard、各州の知る権利に関する法律、そしてその他の該当する連邦、州、及びその他の自治体の結晶性シリカに関する法律及び規制は空気中の結晶性シリカに関する露出許容限度(PEL)を規定している。OSHAは結晶性シリカの3つの異なった形態に関する産業上の一般的PELについて公表している。クリストバライト及びトリジマイトは結晶性シリカの形態であり、量としては石英より少なく、PELも石英より低い。一般的産業における結晶性シリカに対するこれらのPELは"Code of Federal Regulations" 29 CFR 1910-1000、"Air Contaminants"の表Z−3"Mineral Dusts"に示されている。
【0031】
焼却プロセスにおいては、酸化及び燃焼のすべては、通常はバイオマス物質が酸素と密接に接触した状態に置かれる1つのチェンバー内で急激に行われる。これは環境汚染を引き起こす可能性のあるNOx(窒素酸化物)、SOx(硫黄酸化物)、そしてその他の化合物をつくりだす競合反応をもたらす場合がある。これらのそしていくつかの他の制約がバイオマス燃料のガス化タイプの燃焼の発展をもたらした。バイオマスのガス化は約1450oF(788℃)の高温、籾殻灰やサトウキビ・バガスなどの農業廃棄物の水素、一酸化炭素、メタン、エタンなどの可燃性ガスと二酸化炭素、水、そして灰などの不燃性のものへの転化などを伴う。そしてガスは燃焼室あるいはボイラーの放射部で燃焼されて水蒸気と電気をつくりだす。灰は自動的かつ継続的に排出され、乾燥状態で冷却される。システムの構成要素としては通常2または3段階ガス化装置、ボイラー、上記タービン、発電機、コンデンサ、そして制御システムなどである。
【0032】
米国特許第4,517,905と第4,589,355は籾殻などの農業廃棄物の燃焼から生じる灰残滓の炭素含量とガス性排出物のフライ・アッシュ含量を制御することができるガス化装置を含んでいる。燃焼プロセスは籾殻やその他の原料を十分にガス化するためにアンダーファイア・エア及びオーバーファイア・エアを用いて通常の方法で行われ、これによって可燃性ガスがつくられ、それがファイア・トレインを通じてボイラー、スチーム・タービン、あるいはその他のエネルギー回収システムに運ばれる。他の変数を調節して操作すると炭素含量が約10%〜30%の範囲の灰を作り出す可変供給システムが指令を出し、燃焼室の温度を1280oF(693℃)〜1460oF(793℃)の範囲に維持する。対応する燃焼ガス(ボイラー・フィード)温度は1360oF(738℃)〜1600oF(871℃)の範囲である。この燃焼室温度範囲であれば、籾殻から揮発分を除去し、その殻内の固定酸素の一部の部分的燃焼を可能にしてくれる。特別に設計されたフィード・システムと温度制御機構によって乾燥したアモルファス状の籾殻の生産が可能になる。
【0033】
上に述べた焼却、燃焼、及びガス化プロセスを含む熱分解が籾殻灰などの生物由来の灰とその灰からの活性炭素を生産するためのどんなプロセスでも用いることができる。生物由来のシリカは生物由来の物質の制御された燃焼で得られるので、少量の結晶性シリカが存在しているにしてもほとんどすべてのシリカはアモルファス状態である。灰状態のアモルファス・シリカが好ましいが、反応時の温度や圧力などの腐食性消化に関する変数を操作することで一定の結晶性シリカが存在していても差し支えない。一般的に、エネルギー源として籾殻灰を商業的に燃やす場合、得られた灰は0.5%〜1.0%のマグネシウム、カリウム、鉄、アルミニウム、カルシウム、チタン、そしてマンガンなどの微量金属を含んでいる。これらの金属の濃度は土壌条件及びその中で米やその他の植物が生育される組成物に依存している。
【0034】
米国特許第5,833,940は密閉された容器内で、活性炭素の存在下で強アルカリ溶液、好ましくは水酸化ナトリウム中で生物由来のシリカを溶解することでその生物由来シリカからつくられる。籾殻灰中の生物由来のシリカからのケイ酸ナトリウムなどの腐食性ケイ酸塩溶液の製造は、腐食性消化プロセスである。活性炭素が分散された生物由来の物質の灰、好ましくは籾殻灰をアモルファス・シリカと反応してケイ酸ナトリウム溶液を生成させる水酸化ナトリウムなどの腐食性溶液で加熱する。前にも述べたように、籾殻灰あるいはその他の生物由来の物質内の炭素含量はそれらを燃やすために用いられる熱分解のタイプによって30%程度になる場合もある。この炭素は反応中は不活性物質で、過剰な炭素が存在しても反応に悪影響は及ぼさない。基本的な腐食性消化化学反応は以下のように特徴付けることができる。
Figure 0005128040
ここで、nはシリカ/アルミナの重量比を示している。
【0035】
現在の産業標準のケイ酸ナトリウム溶液の場合、上記化学式は以下のようになる。
Figure 0005128040
【0036】
籾殻灰から得られたものではない現在の商業グレードの液体ケイ酸ナトリウムのシリカ/アルカリ重量比率は約1.6〜約3.8である。こうした比率は本発明の籾殻灰あるいはその他の生物由来の灰から得られる液体ケイ酸ナトリウムには十分である。
【0037】
米国特許第5,714,000と第5,858,911に述べられているように、籾殻を燃やすのに用いられる熱分解のタイプに応じて、籾殻灰内の活性炭素の割合は約3%から約40%程度の範囲である。ケイ酸ナトリウム溶液をつくるための腐食性消化中に、生物由来シリカはアルカリ性要素(腐食性溶液内の酸化ナトリウム)と反応してケイ酸塩溶液に可溶性の化合物となる。活性化された炭素は不活性物質の状態を保ち、ケイ酸塩溶液内では懸濁性の固体となる。好適に、本発明においては籾殻灰の腐食性消化から得られた、炭素含量が重量で3%〜4%の希釈された未ろ過のケイ酸塩溶液の組成が接着あるいは沈着されたアモルファス状炭素を有する沈降シリカを製造するために利用的に適していることが分かった。生物由来の灰あるいはその他のバイオマス灰の炭素含量が意図されている最終使用目的に照らして高すぎる場合、すべての活性炭素をろ過して、沈降反応を開始する前に腐食性ケイ酸溶液に望ましい量だけを加えるようにすることができる。具体的には、その水溶液内でのシリカ/アルカリ重量比(SiO2/Na2O)、シリカ/溶融シリカ固体比率(Na2O:nSiO2)、懸濁炭素粒子及び水の量はアモルファス性炭素が接着あるいは沈着した商業グレートの沈降シリカを提供するのに必要な範囲内にある。
自然の状態でシリカ上にアモルファス性炭素が接着あるいは沈着した新しいアモルファス性沈降シリカを提供する方がアモルファス性沈降シリカにカーボン・ブラックを加えるよりずっと望ましく、好適であろう。
【0038】
さらにアモルファス性炭素がろ過除去され、金属含量が低く、ウエハー及び最終チップ製品をCMP研磨することによる金属汚染の可能性を防ぎ、従って電子部品として使用可能な品質のアモルファス性シリカを提供することも非常に望ましく、好適であろう。
【0039】
さらにまた、バイオマス灰、好ましくは籾殻灰の腐食性消化によってつくられる腐食性シリカ溶液からのアモルファス性炭素を提供することも非常に望ましく、好適であろう。
【0040】
(発明の要約)
本発明はアモルファス性沈降シリカ、シリカ・ゲル、及びバイオマス灰、好ましくは籾殻灰から得られたアモルファス性炭素に関し、さらにそうしたシリカ化合物及び炭素をつくるプロセスに関している。より具体的には、本発明の1つの実施の形態で、本発明は自然の状態でそれらの上にアモルファス性炭素が接着あるいは沈着した沈降シリカ又はシリカ・ゲルに関するものであり、生物由来のシリカ灰、好ましくは籾殻灰の熱分解によって得られる籾殻灰の腐食性消化から得られる分散した炭素を含有するアモルファス性シリカの腐食性ケイ酸塩水溶液を用いる。
【0041】
本発明によるこの実施の形態のプロセスは強鉱酸などの酸性化剤を籾殻の熱分解で得られた籾殻灰などのバイオマス灰の腐食性消化で得られる分散炭素を含んだケイ酸ナトリウム溶液などのアモルファス性シリカの腐食性ケイ酸塩溶液と反応させることによって、それぞれのタイプのシリカはその上にアモルファス性炭素が接着あるいは沈着された沈降シリカ又はシリカ・ゲルの製造プロセスである。
【0042】
沈降シリカに炭素が接着あるいは沈着されていない本発明の実施の形態において、炭素は籾殻灰及びその他のバイオマス灰ケイ酸塩溶液に溶解しないので、従ってそれは米国特許第5,714,000で述べられているような通常の液体/固体ろ過あるいは分離装置によって除去することができる。そして、活性炭素を米国特許出願第09/159,809に開示されているように処理して、炭素が接着または沈着されていない純粋なシリカを酸性化プロセスで腐食性ケイ酸塩溶液からつくりだして、電子製品として使用可能な品質の、市販されているケイ酸塩からつくられるものと比較して金属含量が低いシリカをつくることができる。
【0043】
前にも述べたように、シリカ成分は、通常は硫酸や塩酸などの強鉱酸を用いて内部に炭素が分散されている、あるいは分散されていない希釈腐食性ケイ酸塩水溶液を酸性化することによって沈降される。この目的に使用できるその他の鉱酸としてはリン酸、硝酸、及び酢酸などがある。
【0044】
本発明に従って上に述べた、あるいはその他の目的を達成する方法は、本明細書の一部を構成する以下の説明及び実施例を参照することでよりよく理解できるであろう。
【0045】
(好ましい実施例の説明)
本発明の1つの実施の形態はそれらを含んだスラリーから分離されたアモルファス性炭素が接着あるいは沈着されたアモルファス性沈降シリカあるいはシリカ・ゲルであり、そのスラリーはシリカ及び活性炭素を含んだバイオマス灰の腐食性消化によってつくられる腐食ケイ酸塩溶液を酸性化することによってつくられる。好適に、そして驚くべきことに、上に述べたような産業的使用目的のためにその沈降シリカあるいはシリカ・ゲルに対して炭素を追加的に加える必要はない。
【0046】
本発明の別の実施の形態においては、シリカを含み、炭素がろ過除去されているバイオマス灰の腐食性消化によってつくられる腐食ケイ酸塩溶液の酸性化によって生成されるスラリーから分離され、カーボンを含まないアモルファス性沈降シリカあるいはシリカ・ゲルであり、さらに市販のケイ酸ナトリウムからつくられた沈降シリカでの濃度レベルの半分以下の金属不純物しか含んでいないアモルファス性沈降シリカあるいはシリカ・ゲルであるので、それらコンピュータ・チップ及びその他の電子装置の製造で使用されるシリコン・ウエハーの研磨で用いられるCMPスラリー用に適したものにするために金属不純物を除去するための処理の必要性がかなり低くなる。
【0047】
全体的に説明すると、本発明の方法は、シリカを含んでいて活性炭素を含む、あるいはそれを含まないバイオマス灰、好ましくは籾殻灰の腐食性消化によってつくられる腐食性ケイ酸塩溶液を酸性化するステップと、この酸性化はアモルファス性炭素が接着あるいは沈着されている、あるいは接着、沈着されていない沈降シリカ及びシリカ・ゲルのスラリーをつくるのに有効であり、上記スラリーからアモルファス性炭素が接着あるいは沈着されている、あるいは接着、沈着されていない沈降シリカ及びシリカ・ゲルを分離するステップを含んでいる。
【0048】
より具体的には、本発明による方法は、酸性化剤を、生物由来のアモルファス性シリカと活性炭素を含むバイオマス灰、好ましくは籾殻灰の腐食性消化によって得られた、ケイ酸ナトリウムのようなアルカリ金属ケイ酸塩水溶液と反応させるステップを含んでいる。この活性炭素は不活性物質として腐食性消化の段階を通過するので、それはケイ酸ナトリウム溶液には溶解しない。分散活性炭素粒子を含んでいる未ろ過ケイ酸ナトリウム溶液は酸性化剤と反応させられて、アモルファス性シリカ粒子が沈降され、活性炭素がそのシリカ粒子に接着あるいは沈着する。純粋な沈降シリカあるいはシリカ・ゲル製品が望ましい場合、炭素粒子は酸性化沈降反応を開始する前に通常のろ過あるいは分離装置を用いて炭素粒子を生物由来のケイ酸ナトリウム溶液から除去する。
【0049】
従って、本発明の1つの実施の形態では以下のプロセス・ステップを用いる。
【0050】
1. バイオマスから得られた測定された量の生物由来のケイ酸ナトリウム溶液を、攪拌、加熱、そしてpH測定能力を有する適切な反応器に導入する。導入前に、酸化ナトリウム(Na2O)及びシリカ(SiO2)含量、SiO2/Na2O比率、Na2O:nSiO2可溶性固形物、炭素懸濁固形物、水分含量、比重、そしてpHなど、その生物由来のケイ酸塩溶液の性質と組成を先行技術で周知の標準的な分析方法で調べる。これらの特性は用いる酸性化剤の量に関して全体的化学反応バランスを達成する上で重要である。
【0051】
2. この溶液を攪拌しながら50℃〜55℃(122oF〜131oF)の温度範囲に加熱し、酸水溶液を少しずつ加えながら酸性化を開始する。どんな鉱酸を用いてもよいが、経済的な理由から硫酸か塩酸を用いるのが好ましい。
【0052】
3. そのケイ酸塩溶液内の最初の酸化ナトリウム(Na2O)の70%程度が反応して、濃いスラリーが形成され、ゲル化が始まるまで酸の添加を続ける。この時点に至る酸添加時間はケイ酸塩組成及び酸の強度によるが通常約22〜38分間である。また、反応物質pHをゲル化指標として用いることもできるが、それは開始時の11.0〜11.5の範囲から8.0〜9.0の範囲に減少するからである。
【0053】
4. この時点で、酸添加を中止して、攪拌しながら、温度を50℃(122oF)程度に維持して、反応物質を15〜30分間ほど熟成する。そしてpHが3.4〜4.2の範囲に低下するまで、酸添加を前と同じ割合で継続する。
【0054】
5. こうした方法で酸性化を行うと、最終的に乾燥された生成物を蒸留水に溶かした5%溶液に対して6.4〜7.9程度のpHがもたらされる。このpH範囲がほとんどの用例に適しているが、酸性化が終了した後にさらにケイ酸ナトリウム溶液を加えるだけでよりアルカリ性の強い(pH>8)のつよい生成物とするように調節することができる。
【0055】
6. そして湿った固形物あるいはフィルター・ケーキを回収するために、真空フィルター装置、遠心分離機、あるいはフィルター・プレスなどの固体/液体分離装置を通じてそのスラリーを処理する。
【0056】
7. その湿った固形物あるいはフィルター・ケーキはそのケイ酸塩のアルカリ金属酸化物成分との酸反応によってつくられた硫酸ナトリウム、塩化ナトリウム、あるいはリン酸ナトリウムなどの可溶性塩を含んでおり、それらを約60℃(140oF)の温度の熱水で洗浄することで除去する。
【0057】
8. 洗浄後、その湿った固形物あるいはフィルター・ケーキを対流あるいは放射ヒーター、回転ドラム乾燥機、スプレイ乾燥機などのいずれかの通常の方法及び装置で乾燥させる。
【0058】
9. 乾燥機から得られる接着あるいは沈着活性炭素粒子サイズ自然分布を有する乾燥したアモルファス性沈降シリカは180ミクロンより低(−80メッシュ)が62.5%程度、そして180ミクロンより大(+80メッシュ)が37.5%の範囲である。いずれかのサイズ縮小装置を用いて破砕、すりつぶし、あるいは粒子化を行い、希望する粒子サイズを有するより小さな製品にすることができる。
【0059】
上に述べたような実施の形態でつくられた炭素が接着あるいは沈着したアモルファス性沈降シリカは通常以下の性質を有している。シリカ:炭素比率(重量ベース)は約1.20/1〜14.7/1の範囲、5%溶液のpHは約6.38〜7.88の範囲、温水洗浄後の残留可溶性塩類は約<10ppm〜540ppmの範囲、かさ密度は約17.48〜28.71ポンド/立方フィート、BET表面積は約155〜267m/g、そしてDBPオイル吸着は約129〜223ml/100gの範囲である。
【0060】
本発明の別の実施の形態は、炭素懸濁固体をろ過除去してバイオマスから得た生物由来のケイ酸塩溶液の酸性化によるアモルファス性炭素が接着あるいは沈着していない純粋な沈降シリカ及びシリカ・ゲルの製造に関するものである。本発明のこの実施の形態は以下のプロセス・ステップを用いる。
【0061】
1. 籾殻灰の腐食性消化によってつくられる生物由来のケイ酸ナトリウム溶液を消化反応器からフィルター・プレスなどのフィルターにくみ上げ、そこで炭素懸濁固体を液体から分離して、未反応シリカ及び炭素固体を含まない透明で均一なろ過物を得る。
【0062】
2. 好適に、腐食性消化のために用いた反応器を、適切に洗浄した後ろ過された生物由来のケイ酸ナトリウムの酸性化に用いて純粋な沈降シリカあるいはシリカ・ゲルをつくることができる。
【0063】
3. ろ過されたケイ酸ナトリウム溶液を分析し、第一の実施の形態のプロセス・ステップ1〜8までと同様の方法で処理する。
【0064】
4. 乾燥機から得られる(炭素が接着していない)純粋なアモルファス性沈降シリカあるいはシリカ・ゲル粒子サイズ自然分布は180ミクロンより小(−80メッシュ)が76%程度から180ミクロンより大(+80メッシュ)24%の範囲である。いずれか通常のサイズ縮小装置を用いて破砕、すりつぶし、あるいは粒子化を行い、希望する粒子サイズを有するより小さな製品にすることができる。
【0065】
この第二の実施の形態でつくられる純粋なアモルファス性沈降シリカあるいはシリカ・ゲルは通常以下のような性質を有している。5%溶液のpHは約7.1〜7.8の範囲、水洗浄後の残留可溶性塩類は約60ppm〜540ppmの範囲、かさ密度は約21.04〜29.49 ポンド/立方フィート、BET表面積は約205〜287m2/g、そしてDBPオイル吸着は約171〜239ml/100gの範囲である。
【0066】
米国特許第4,157,920に述べられているように、ゴムやエラストマの強化用充填材として有用な市販のケイ酸ナトリウム溶液から先行技術に基づく方法でつくられた沈降シリカは通常その湿ったフィルター・ケーキの状態で約70〜85%の高い水分を含んでいる。このフィルター・ケーキ内の水分はパーセント含水ケーキ水分として知られており、" %WCM"と略称される。このフィルター・ケーキの固体含量は100から%WCMを差し引くことで計算される。このフィルター・ケーキ固体パーセントは一般的に" %FCS"と略称される。先行技術による製品が高い水分含量、つまり約70〜85%の水分を保有している場合、それらは高構造シリカと呼ばれる。固体シリカ100ポンドにおける高構造性水分の総量は『構造指数』と定義され、S.Iと略称される。このS.Iは以下の式で計算される。
S.I =(%WCM)/ (%FCS) × 100
【0067】
総構造性水分含量あるいはS.Iはシリカの機能的特性及び最終利用特性に直接関係する非常に重要な性質である。高構造シリカである先行技術に基づくシリカは233〜567の範囲のS.Iを有している。上にも述べたように、これらのシリカはエラストマ及びゴムでの強化用充填材として有用である。本発明による炭素が接着あるいは沈着した、あるいはしていないアモルファス性沈降シリカは315〜382の範囲のS.Iを有しており、ゴム製品、エラストマ、及びその他のポリマー性化合物における強化用充填材としての使用に適した高構造シリカであることを示している。
【0068】
沈降反応で用いられる生物由来のケイ酸ナトリウムの組成を広い範囲で変えても悪影響は生じない。それに限定されているわけではないが、籾殻灰から得られ、炭素が接着あるいは沈着した、あるいはしていないアモルファス性沈降シリカの生産のために本発明で使用する上で有用な液体ケイ酸ナトリウム用の現時点で好ましい組成物及び特性は:SiO2/Na2O比率が2.5/1〜3.85/1の範囲、SiO2濃度が15%〜28%、Na2O濃度が4.0%〜9.5%、Na2O:n SiO2可溶性固形物比が18.0%〜38.5%、水分含量が55.0%〜81.0%、懸濁炭素固形物が1.5%〜17.0%、溶液比重が1.128〜1.300の範囲、溶液密度が1ガロンあたり9.40〜10.85ポンド、そしてpHが11.2〜11.6の範囲である。
【0069】
本発明について以下の実施例でさらに、より具体的に説明するが、これらの実施例は限定目的ではなく説明のためのものであって、いろいろな修正、変更が可能であるのは当業者には明らかであろう。
【0070】
【実施例】
実施例1〜7は、籾殻の熱分解中に形成された分散活性炭素粒子を含んだ籾殻灰の腐食性消化から得られた希釈ケイ酸ナトリウム溶液からの炭素固形物が接着あるいは沈着された沈降アモルファス性シリカの調製に関するものである。これらの結果は実施例7の後の表1に示してある。
【0071】
実施例1
この実施例は籾殻の熱分解中に形成された分散活性炭素粒子を含んだ籾殻灰(RHA)の腐食性消化から得られた希釈ケイ酸ナトリウム溶液からの炭素固形物が接着あるいは沈着した沈降アモルファス性シリカの調製に関するものである。RHAケイ酸ナトリウム溶液は以下の性質を有している。63.61%水溶液中、SiO2/Na2O比率:3.27〜1、Na:Si総可溶性固形物:26.14%(6.12%Na2O:20.02%SiO2)、分散活性炭素:10.25%、比重:1.255及び密度:1ガロンあたり10.47ポンド、pH: 11.23。用いられた酸性化剤は濃縮96.5%硫酸水溶液(H2SO4)であった。
【0072】
この実施例では、沈降シリカ/炭素製品をつくるために1リットル実験室用反応器が用いられた。この反応器は可変速度攪拌装置、加熱装置を備えており、さらに温度測定及び制御ができ、そして電極と測定器によるpH測定も可能であった。この実施例及び本明細書全体で、割合及びパーセンテージは特に指定がない場合重量ベースである。
【0073】
バッチ生産ステップでは、最初に100ml(125.5グラム)のRHAケイ酸ナトリウム溶液を反応器に入れた。そして573.5ml(573.5グラム)の蒸留水をそのケイ酸塩溶液に加えて、これらの成分を攪拌し、均一な混合物を得た。得られた混合物は4.70%[Na2O:3.27SiO2]+1.84%炭素[懸濁固形分]+93.46%水分。この混合物のpHは11.07であった。この混合物を50〜55℃(122〜131oF)の温度範囲に加熱しながら攪拌した。上記の温度範囲を維持しながら、22.5ml(39.55グラム)の濃縮硫酸を1分間に0.6ml(1.05グラム)の割合で38分間かけて反応物質に添加した。添加開始から13分間経過して約12グラムを加えた時点でゲル形成が起こり始めた。反応物質のpHはゲル化が最初に観察された時点で8.30であった。上に述べた温度範囲を維持するために加熱、攪拌しながら酸の添加を継続するとゲルは黒色のスラリーとなった。38分間の酸添加期間が終了した時点で、pH3.93 の黒色スラリーを15分間熟成させて、完全な沈降反応を行わせた。熟成後、205ml(257グラム)の希釈RHAケイ酸ナトリウム溶液を20分かけて(1分当たり10ml、あるいは12.55グラムの割合で)、50〜55℃の温度範囲を維持するために引き続き加熱、攪拌しながら添加した。上の操作でpH3.90 の黒色スラリーが990.5グラム生成された。物質バランス収支は995.57グラム・インプット、990.5グラム・アウトプットでマイナス0.5%であった。質量ロスは蒸発、及び取り扱い、移送時のロスによるものであった。
【0074】
CompuTrac液体/固体分析装置で上記の未洗浄黒色スラリーを分析したところ、そのスラリーは18.25%乾燥固形物と81.75%の液体(180.76グラムの乾燥固形物と809.73グラムの液体)で構成されていることが判明した。未洗浄の乾燥固形物を顕微鏡で調べたところ、炭素粒子が付着したところどころに白い沈殿物が分散しているシリカが認められた。これらの沈殿物は硫酸とNa2O:3.27SiO2沈降反応によってつくられた硫酸ナトリウムである可能性が最も高かった。蒸留水にこの未洗浄乾燥固形物を5%溶かした溶液はpHが8.92で、電導性は1270マイクロジーメンス/cm(uS/cm)で、総溶解塩類(TDS)は850ppmであった。
【0075】
この黒色スラリーをろ過して、湿った固形物を熱い(55〜60℃)蒸留水で洗浄して硫酸ナトリウムなどの可溶性塩類を除去した。操作開始時の湿った固形物重量の5倍に等しい熱水総量を用いた。これによって固形物中のほとんどすべての硫酸ナトリウムが除去された。
【0076】
フィルターから取り出された洗浄され、しめったフィルター・ケーキは20.73%の乾燥したシリカ/炭素固形物と79.27%の水分で構成されていた。この湿ったケーキを重量が一定になるまで、標準的な対流炉内で110℃の温度下で約3時間乾燥させた。
【0077】
この乾燥したシリカ/炭素生成物は66.1%のアモルファス性沈降シリカと33.9%の活性炭素を含んでいた。その固形物を蒸留水に溶かした5%水溶液はpHが6.95で、総溶解塩類は<10ppm(<15uS/cm電導性)であった。かさ密度は0.30g/ml(1立方フィートあたり18.73ポンド)であった。この生成物はBET表面積が220m2/g、孔体積が0.7707ml/g、そして平均孔直径が14.0ナノメートルであった。
【0078】
実施例2
本実施例は実施例1で用いられたものと比較してケイ酸塩可溶性固形物濃度がより高く、炭素懸濁固形分がより少なく含んでいるケイ酸ナトリウム溶液からの炭素固形物が接着あるいは沈着した沈降アモルファス性シリカの調製に関するものである。RHAケイ酸ナトリウム溶液は以下の性質を有している。SiO2/Na2O比率:2.83〜1、Na:Si総可溶性固形物:36.97%(9.65%Na2O:27.32%SiO2)、61.17%水溶液中の分散活性炭素:1.86%、比重:1.289、密度:1ガロンあたり10.75、pH:11.43。酸性化剤は実施例1で使用されたのと同様の硫酸であった。
【0079】
実施例1と同じ実験室用反応器と装置をこの実施例でも使用した。
【0080】
バッチ製造ステップは、以下の点を除けば実施例1と基本的に同じであった。RHAケイ酸ナトリウム溶液155ml(200.21グラム)をその反応器に加えた。そして500ml(500.53グラム)の蒸留水をそのケイ酸塩溶液に加えて、攪拌器を用いて均一の混合物を得た。得られた混合物は6.16%[Na2O:3.27SiO2]+0.31%炭素[懸濁固形分]+93.53%水分で構成されていた。この溶液のpHは10.80であった。この混合物を50〜55℃の温度範囲に加熱しながら攪拌した。硫酸添加を1分あたり1.40グラムの割合で開始した。ゲル形成は12.64グラムを添加した時点で、そして濃いゲルは16.36グラムの酸を添加した時点で発生した。経過時間は19分間であった。反応物質のpHは8.94であった。この時点で酸添加を中止して、50〜55℃の温度範囲を維持するために加熱、攪拌しながら酸の添加を継続しながら、この黒色ゲル混合物を15分間熟成させた。熟成後、同じ割合で酸添加を再開して、全部で27.12グラムが添加されるまでその操作を継続した。酸添加は全部で34分間行われた。黒色スラリーはpH3.48〜3.53の範囲で形成された。pH調整を行うため、さらに45.22グラムのRHAケイ酸ナトリウムを加えた。上に述べた操作の結果、上の操作で黒色スラリーが763.19グラム生成され、物質バランス収支はマイナス1.3%であった。質量ロスは蒸発、及び取り扱い、移送時のロスによるものであった。
【0081】
この黒色スラリーをろ過して、湿った固形物を加熱蒸留水(55〜60℃)で洗浄して可溶性硫酸ナトリウム塩を除去した。洗浄されたフィルター・ケーキは21.56%の乾燥したシリカ/炭素固形分と78.44%の水で構成されていた。
【0082】
乾燥されたシリカ/炭素生成物は93.6%のアモルファス性沈降シリカと6.4%の活性炭素で構成されていた。その固形物を蒸留水に溶かした5%水溶液はpHが6.38、総溶解塩類が<10ppm(<15 uS/cm電導性)であった。かさ密度は0.37g/ml(1立方フィートあたり23.10ポンド)であった。この生成物のBET表面積は155m2/g、孔体積は0.5429ml/g、そして平均孔直径は9.9ナノメートルであった。
【0083】
実施例3
この実施例は実施例1及び2の場合と比較して炭素懸濁固形物濃度がより高いケイ酸ナトリウム溶液からの炭素が接着あるいは沈着した沈降アモルファス性シリカの調製を示すものである。このRHAケイ酸ナトリウム溶液は以下の特性を有していた。SiO2/Na2O比率:2.76〜1、Na:Si総可溶性固形物:27.60%(7.33%Na2O:20.27%SiO2)、55.45%水溶液中の分散活性炭素:16.95%、比重:1.298、密度:1ガロンあたり10.83、pH:11.51。酸性化剤は上述の実施例で使用されたのと同様の硫酸であった。
【0084】
上述の実施例と同じ実験室用反応器と装置をこの実施例でも使用した。
【0085】
バッチ製造ステップは、以下の通りであった。RHAケイ酸ナトリウム溶液892ml(1157.82グラム)をその反応器に加えた。27.60%[Na2O:2.76SiO2]+16.95%炭素[懸濁固形分]+55.45%水分の組成のケイ酸塩溶液に対する蒸留水の添加は行わなかった。この溶液のpHは11.51であった。この混合物を50〜55℃の温度範囲に加熱しながら攪拌した。硫酸添加を1分あたり2.5グラムの割合で攪拌しながら行った。ゲル形成は55.50グラムを添加した時点で、そして濃いゲルは69.77グラムの酸を添加した時点で発生した。経過時間は28分間であった。反応物質のpHは8.46であった。この時点で酸添加を中止して、上記の温度範囲を維持するために加熱、攪拌しながら酸の添加を継続しつつ、この黒色ゲル混合物を15分間熟成させた。熟成後、同じ割合で酸添加を再開して、全部で115.66グラムが添加されるまでその操作を継続した。酸添加は全部で46分間行われた。黒色スラリーはpH3.43〜3.67の範囲で形成された。これらの操作で黒色スラリーが1147.19グラム生成され、物質バランス収支はマイナス1.95%であった。質量ロスは蒸発、及び取り扱い、移送時のロスによるものであった。
【0086】
この黒色スラリーをろ過して、湿った固形物を加熱蒸留水で洗浄して可溶性硫酸ナトリウム塩を除去した。洗浄されたフィルター・ケーキは22.45%の乾燥した固形分と77.55%の水で構成されていた。
【0087】
乾燥されたシリカ/炭素生成物は54.5%のアモルファス性沈降シリカと45.5%の活性炭素で構成されていた。その固形物を蒸留水に溶かした5%水溶液はpHが7.88、総溶解塩類100ppm(150uS/cm電導性)であった。かさ密度は0.31g/ml(1立方フィートあたり19.35ポンド)であった。この生成物のBET表面積は267m2/g、孔体積は0.9347ml/g、そして平均孔直径は17.0ナノメートルであった。
【0088】
実施例4
この実施例は酸性化剤として37%塩酸を用いて希釈RHAケイ酸ナトリウム溶液からの炭素が接着あるいは沈着した沈降アモルファス性シリカの調製を示している。このRHAケイ酸ナトリウム溶液は以下の特性を有していた。SiO2/Na2O比率:3.30〜1、Na:Si可溶性固形物:19.82%(4.61%Na2O:15.21%SiO2)、67.73%水溶液中の分散炭素(縣濁固形分):12.45%、比重:1.278、かさ密度:1ガロンあたり10.66、pH:11.35。酸性化剤は37%塩酸(HCl)であった。
【0089】
上述の実施例と同じ実験室用反応器と装置をこの実施例でも使用した。
【0090】
バッチ製造ステップでは、先ずRHAケイ酸ナトリウム溶液255ml(200グラム)をその反応器に加えた。500ml(500グラム)の蒸留水をそのケイ酸塩溶液に加えて、温度を50〜55℃の範囲に加熱しながら攪拌した。得られた混合物の組成は5.67%[Na2O:3.30SiO2]+3.56%炭素懸濁固形分+90.78%水分であった。この混合物のpHは10.85であった。この混合物を50〜55℃の温度範囲に加熱しながら攪拌しつつ、37%塩酸を1分あたり1.85グラムの割合で22分間添加した。ゲル形成は酸を40.8gを添加した時点で発生し、反応物質のpHは8.44であった。この時点で酸添加を中止し、この黒色ゲル混合物を15分間熟成させた。熟成後、同じ割合で酸添加を再開して、全部で60.8グラムが添加されるまでその操作を継続した。この反応物のpHは2.85であった。さらに122.8gのRHAケイ酸ナトリウムを追加してpHを6.06に調整した。これらの操作で883.8グラムの未洗浄黒色スラリーが生成され、物質バランス収支はマイナス1.37%であった。質量ロスは蒸発、及び取り扱い、移送時のロスによるものであった。
【0091】
この黒色スラリーをろ過して、湿った固形物を加熱蒸留水で洗浄して、酸とケイ酸ナトリウムとの反応でできた残留塩酸塩を除去した。洗浄されたフィルター・ケーキは23.56%の乾燥した固形分と76.44%の水で構成されていた。
【0092】
乾燥されたシリカ/炭素生成物は55.0%のアモルファス性沈降シリカと45.0%の活性炭素で構成されていた。その固形物を蒸留水に溶かした5%水溶液はpHが7.75、総溶解塩類540ppm(810uS/cm電導性)であった。かさ密度は0.276g/ml(1立方フィートあたり17.23ポンド)であった。この生成物のBET表面積は264m2/g、孔体積は0.9255ml/g、そして平均孔直径は16.8ナノメートルであった。
【0093】
実施例5
この実施例は酸性化剤として硫酸を用いると同時に、多少違った濃度の懸濁炭素固形物を最初のケイ酸塩溶液で用いて、希釈RHAケイ酸ナトリウム溶液からの炭素が接着あるいは沈着した沈降アモルファス性シリカの調製を示している。このRHAケイ酸ナトリウム溶液は以下の特性を有していた。SiO2/Na2O比率:2.93〜1、Na:Si可溶性固形物:29.75%(7.57%Na2O:22.18%SiO2)、62.10%水溶液中の分散炭素(懸濁固形物):8.15%、比重:1.266、密度:1ガロンあたり10.56、pH:11.41。
【0094】
上述の実施例と同じ実験室用反応器と装置をこの実施例でも使用した。
【0095】
バッチ製造ステップでは、先ずRHAケイ酸ナトリウム溶液900ml(1139グラム)をその反応器に加えた。上記ケイ酸塩溶液の組成は29.75%[Na2O:2.93SiO2]+8.15%炭素[懸濁固形分]+62.10%水分で、蒸留水の添加は行われなかった。pHは11.51であった。50〜55℃(122〜131oF)の温度範囲に加熱しながら攪拌した。硫酸を攪拌しながら1分あたり3.0グラムの割合で添加した。ゲル形成は酸を50gを添加した時点で発生し、濃いゲルは酸を70g加えたところで発生した。経過時間は23分間であった。反応物質のpHは8.35であった。この時点で酸添加を中止し、この黒色ゲル混合物を15〜20分間熟成させた。熟成後、同じ割合で酸添加を再開して、全部で96グラムが添加されるまでその操作を継続した。この反応物のpHは4.15であった。さらに131gのRHAケイ酸ナトリウムを追加してpHを6.95に調整した。これらの操作で1346グラムの未洗浄の黒色スラリーが生成され、物質バランス収支はマイナス1.46%であった。質量ロスは蒸発、及び取り扱い、移送時のロスによるものであった。
【0096】
この黒色スラリーをろ過して、湿った固形物を加熱蒸留水で洗浄して、酸とケイ酸ナトリウムとの反応でできた硫酸ナトリウム塩を除去した。洗浄されたフィルター・ケーキは24.12%の乾燥した固形分と75.88%の水で構成されていた。
【0097】
炭素が接着した乾燥シリカは73.1%のアモルファス性沈降シリカと26.9%の活性炭素で構成されていた。その固形物を蒸留水に溶かした5%水溶液はpHが6.86、総溶解塩類は<10ppm(<15uS/cm電導性)であった。かさ密度は0.300g/ml(1立方フィートあたり18.73 ポンド)であった。この生成物のBET表面積は199m2/g、孔体積は0.6954ml/g、そして平均孔直径は9.0ナノメートルであった。
【0098】
実施例6
この実施例は酸性化剤として85%o-燐酸を用いて、希釈RHAケイ酸ナトリウム溶液からの炭素が接着あるいは沈着した沈降アモルファス性シリカの調製を示している。このRHAケイ酸ナトリウム溶液は以下の特性を有していた。SiO2/Na2O比率:3.16〜1、Na:Si可溶性固形物:28.38%(6.82%Na2O:21.56%SiO2)、64.24%水溶液中の分散炭素(懸濁固形物):7.38%、比重:1.265、密度:1ガロンあたり10.55、pH:11.57。
【0099】
上述の実施例と同じ実験室用反応器と装置をこの実施例でも使用した。
【0100】
バッチ製造ステップでは、先ずRHAケイ酸ナトリウム溶液200ml(253グラム)をその反応器に加えた。400ml(400グラム)の蒸留水をケイ酸塩溶液に加えて、これらを温度を50℃(122oF)に加熱しながら、これらを攪拌した。得られた混合物の組成は10.99%[Na2O:3.163SiO2]+2.86%炭素[懸濁固形分]+86.15%水分であった。混合物のpHは11.30であった。50℃の温度に加熱しながら攪拌した。85%H3PO4を攪拌しながら1分あたり1.10グラムの割合で添加した。ゲル形成は酸を16gを添加した時点で発生し、反応物質のpHは8.97であった。この時点で酸添加を中止し、この黒色ゲル混合物を10分間熟成させた。熟成後、同じ割合で酸添加を再開して、全部で約28グラムが添加されるまでその操作を継続した。この反応物のpHは7.03であった。その物質を30分間攪拌しながら熟成させ、その後ろ過を開始した。これらの操作で665グラムの未洗浄の黒色スラリーが生成され、物質バランス収支はマイナス2.35%であった。質量ロスは蒸発、及び取り扱い、移送時のロスによるものであった。
【0101】
この黒色スラリーをろ過して、湿った固形物を加熱蒸留水で洗浄して、酸とケイ酸ナトリウムとの反応でできた燐酸ナトリウム塩を除去した。洗浄されたフィルター・ケーキは22.56%の乾燥した固形分と77.44%の水で構成されていた。
【0102】
この炭素が接着したシリカ/炭素生成物は74.5%のアモルファス性沈降シリカと25.5%の活性炭素で構成されていた。その固形物を蒸留水に溶かした5%水溶液はpHが7.34、総溶解塩類は480ppm(720uS/cm電導性)であった。かさ密度は0.461g/ml(1立方フィートあたり28.77ポンド)であった。この生成物のBET表面積は195m2/g、孔体積は0.6833ml/g、そして平均孔直径は12.4ナノメートルであった。
【0103】
実施例7
この実施例は、容積19リットル(5ガロン)の大き目のベンチのサイズの反応器と膜フィルター装置を用いて、希釈RHAケイ酸ナトリウム溶液からの炭素が接着あるいは沈着した沈降アモルファス性シリカの調製を示している。その目的は商業用装置の設計と選択に関するスケール・アップしたサイズでの情報を得るためのものであった。この反応器は可変速度ミキサーと温度制御用の電気加熱バンドを備えていた。このRHAケイ酸ナトリウム溶液は以下の特性を有していた。SiO2/Na2O比率:3.12〜1、Na:Si可溶性固形物:24.09%(5.85%Na2O:18.24%SiO2)、69.91%水溶液中の分散炭素(懸濁固形物):6.00%、比重:1.213、密度:1ガロンあたり10.12、pH:11.28。酸性化剤として85%o-燐酸を用いた。
【0104】
バッチ製造ステップでは、先ず、攪拌、55℃(131oF)に加熱しながら、反応器に16.74kg(36.91lbs)のRHAケイ酸ナトリウム溶液を充填した。反応温度に達した後、1分間あたり0.14kgの割合(0.31lbs/min)で15分間、リン酸を加えた。この時点でゲル形成が観察され、酸添加を中止した。反応物質のpHは7.13であった。黒色ゲルを55℃で攪拌しながら30分間熟成した。これらの操作で18.8kg(8.53 lbs)の未洗浄の黒色スラリーが生成された。この黒色スラリーを膜フィルター装置に写して、リン酸ナトリウム塩が基本的に除去されるまで熱水で洗浄した。pHは7.65、総溶解塩類は200ppm以下であった。この洗浄フィルター・ケーキは23.55%の乾燥固形物と76.45%の水分で構成されていた。この洗浄された固形物を真空ろ過して、110℃の温度下で3〜4時間、対流炉内で乾燥した。
【0105】
この乾燥シリカ/炭素生成物は75.28%のアモルファス性沈降シリカと24.72%活性炭素を含んでいた。この固形物を蒸留水に溶かした5%溶液のpHは7.55、総溶解塩類は160ppm(230uS/cm電導性)であった。かさ密度は0.441g/ml(1立方フィートあたり27.56ポンド)であった。この生成物のBET表面積は193m2/g、孔体積は0.6762ml/g、そして平均孔直径は12.3ナノメートルであった。
【0106】
【表1】
Figure 0005128040
【0107】
実施例8〜10は分散活性炭素粒子をろ過で除去した後に籾殻灰の腐食性消化から得られた希釈ケイ酸ナトリウム溶液からの炭素固形分が接着、あるいは沈着していない沈降アモルファス性シリカの製造を示している。
【0108】
実施例8
この実施例はアモルファス性炭素が接着あるいは沈着していない純粋な沈降アモルファス性シリカの製造を示している。RHAケイ酸ナトリウム液体サンプルをろ過して、酸性化する前にすべての炭素懸濁固形分をすべて除去するためにろ過した。この澄んだ希釈ケイ酸ナトリウム溶液は以下の特性を有していた。SiO2/Na2O比率:3.02〜1、71.29%水溶液中のNa:Si総可溶性固形物:28.71%(7.14%Na2O:21.57%SiO2)、比重:1.245、密度:1ガロンあたり10.38ポンド、pH:11.46。酸性化剤は96.5%濃縮硫酸水溶液であった。
【0109】
上述の実施例1と同じ実験室用反応器と装置を純粋な沈殿シリカを生成させるために使用した。
【0110】
バッチ製造ステップでは、先ず澄んだ希釈RHAケイ酸ナトリウム溶液100ml(124.5グラム)をその反応器に加えた。573ml(573グラム)の蒸留水をケイ酸塩溶液に加えて、温度を50〜55℃(122〜131oF)に加熱しながら、攪拌装置を作動させた。得られた混合物の組成は5.12%[Na2O:3.02SiO2]+ 94.88%水分であった。攪拌を続け、温度を上記の範囲に維持しながら、硫酸を攪拌しながら1分あたり2.68グラムの割合で37分間添加した。酸添加を中止し、この白色ゲルを15分間熟成させた。このスラリーのpHは2.34であった。さらにケイ酸ナトリウムを1分間13.25グラムの割合で45分間加えて、pHを7.45に調整した。この白色スラリーを攪拌しながら20分間熟成させた。上記の操作で、pH7.58の白色スラリー1399グラムがつくられた。
【0111】
この白色スラリーをろ過して、加熱水で洗浄して、硫酸ナトリウム塩類を除去した。洗浄されたフィルター・ケーキは22.42%の乾燥した固形分と77.58%の水で構成されていた。
【0112】
この沈降シリカ生成物を110℃の温度で5時間程度対流炉内で乾燥させた。その固形物を蒸留水に溶かした5%水溶液はpHが7.84、総溶解塩類は60ppm(90uS/cm電導性)であった。かさ密度は0.337g/ml(1立方フィートあたり21.04ポンド)であった。この生成物のBET表面積は205m2/g、孔体積は0.7181ml/g、そして平均孔直径は13.0ナノメートルであった。
【0113】
実施例9
この実施例は懸濁炭素固形物をろ過除去した後、澄んだ希釈ケイ酸ナトリウムの酸性化のためにリン酸を用いてアモルファス性炭素が接着あるいは沈着していない純粋な沈降アモルファス性シリカを製造する場合を示している。上記澄んだ希釈ケイ酸ナトリウム溶液は以下の特性を有していた。SiO2/Na2O比率:3.85〜1、81.03%水溶液中のNa:Si総可溶性固形物:18.97%(3.91%Na2O:15.06%SiO2)、比重:1.128、密度:1ガロンあたり9.41ポンド、pH:11.27。
【0114】
この実施例では実験室用反応器と装置を使用した。
【0115】
バッチ製造ステップでは、澄んだ希釈RHAケイ酸ナトリウム溶液230ml(259グラム)をその反応器に加え、50℃に加熱しながら攪拌した。リン酸を1分間あたり2.25グラムの割合で15分間加えた。その操作が終了した時点でゲル形成が観察され、pHは6.89であった。この白色ゲルを加熱、攪拌しながら20分間熟成した。上記操作によってpH6.95の白色スラリーが293グラム生成された。
【0116】
この白色スラリーをろ過して、熱水で洗浄して、燐酸ナトリウム塩類を除去し、対流炉内で乾燥させた。洗浄されたフィルター・ケーキは23.62%の乾燥した固形分と76.38%の水で構成されていた。
【0117】
この沈降シリカ生成物を蒸留水に溶かした5%水溶液はpHが7.23、総溶解塩類は540ppm(810uS/cm電導性)であった。かさ密度は0.472g/ml(1立方フィートあたり29.46ポンド)であった。この沈降シリカのBET表面積は287m2/g、孔体積は0.9943ml/g、そして平均孔直径は18.0ナノメートルであった。
【0118】
実施例 10
この実施例は懸濁炭素固形物をろ過除去した後、澄んだ希釈ケイ酸ナトリウムの酸性化のために塩酸を用いてアモルファス性炭素が接着あるいは沈着していない純粋な沈降アモルファス性シリカを製造する場合を示している。上記澄んだ希釈ケイ酸ナトリウム溶液は以下の特性を有していた。SiO2/Na2O比率:2.77〜1、70.95%水溶液中のNa:Si総可溶性固形物:29.05%(7.71%Na2O:21.34%SiO2)、比重:1.205、密度:1ガロンあたり10.05ポンド、pH:11.38。
【0119】
この実施例では実験室用反応器と装置を使用した。
【0120】
バッチ製造ステップでは、澄んだ希釈RHAケイ酸ナトリウム溶液200グラムをその反応器に加え、50℃に加熱しながら攪拌した。塩酸を1分間あたり1.0グラムの割合で27分間加え、それが終了した時点で最初のゲル形成が観察された。反応物質のpHは9.04であった。この物質を攪拌しながら15分間熟成した。さらに52グラムの希釈ケイ酸ナトリウムを、攪拌し、温度を50℃に維持しながら添加した。さらに11グラムの塩酸を加えてpHを5.91に調整した。この白色スラリーを60分間熟成してから、ろ過した。上記操作によってpH6.17の白色スラリーが290グラム生成された。
【0121】
この白色スラリーをろ過して、熱水で洗浄して、塩化ナトリウム塩類を除去し、対流炉内で乾燥させた。洗浄されたフィルター・ケーキは24.12%の乾燥した固形分と75.88%の水で構成されていた。
【0122】
この沈降シリカ生成物を蒸留水に溶かした5%水溶液はpHが7.09、総溶解塩類は380ppm(570uS/cm電導性)であった。かさ密度は0.4194g/ml(1立方フィートあたり26.18ポンド)であった。この沈降シリカのBET表面積は258m2/g、孔体積は0.8990ml/g、そして平均孔直径は16.0ナノメートルであった。
【0124】
バイオマス灰(籾殻灰)の腐食性消化から得られたケイ酸ナトリウム溶液を酸性化することで得られた純粋な沈降シリカ粒子を適切な量の脱イオン水と混ぜ合わせてCMP研磨用スラリーで使用できる沈降シリカ溶液を調製した。イオン結合アルゴン・プラズマ(ICP)で金属分析を行って、それらの結果を表3で試算されている2つのタイプのCMPスラリーA及びBと比較して示してある。なお、市販用CMPスラリーは市販ケイ酸ナトリウムから沈降されたシリカを含んでおり、さらにイオン交換樹脂で処理して金属性汚染物質を除去し、一方、実施例11、12、13のサンプルを籾殻灰の腐食性消化から得られたケイ酸ナトリウム溶液から沈降させたが、金属除去処理にはかけなかった。言い換えると、実施例11、12及び13のシリカ・スラリーは金属除去処理にかけなかったので最初の籾殻灰原料物質に存在している金属を含んでいた。ICP分析結果を調整して、スラリーのシリカ組成を同じようにし、ppm単位で示してある。
【0125】
【表3】
金属分析結果 - CMPスラリー
Figure 0005128040
【0126】
これらの結果はバイオマス灰(籾殻灰)の腐食性消化で得られるケイ酸ナトリウム溶液からつくられる沈降シリカの金属不純物含量が市販のケイ酸ナトリウム溶液から作られるシリカの汚染レベルの半分以下であることを示している。バイオマスからのケイ酸ナトリウムで製造した沈降シリカはさらなる除去処理を行わなくても金属含量が260%から319%下回っている。
【0127】
生物由来のシリカの含量がいろいろなその他の農業副産物あるいは廃棄物質、つまり、植物などの生物の細胞構造で発展、同化、あるいは発生するシリカは本発明において有用である。前にも述べたように、これらの製品は一般的にはバイオマスと呼ばれており、主に籾殻、わら、麦わら、サトウキビ、バガス、トクサ、ある種のシュロ(パルミラ・パーム)、そして竹の幹などで、実施例1〜10と同様に処理されると本明細書で具体的に述べたような使用目的のためのアモルファス性炭素が接着あるいは沈着した(実施例1〜7)、又はしていない(実施例8〜10)満足すべきアモルファス性シリカ、シリカ・ゲルをつくりだす。
【0128】
従って、本発明は上に述べたような目的を達成し、課題を実行するのに良く適合しており、上記のような特徴とそれに本質的に付随する利点と特徴を有している。
【0129】
本発明の実施の形態の現段階で好ましいいくつかの事例を上に述べたが、添付請求項に定義されている本発明の精神の範囲内での変更は可能である。

Claims (3)

  1. 各タイプのシリカがその上に接着あるいは沈着アモルファス状炭素を含むアモルファス状沈降シリカ又はシリカ・ゲルを生成する方法において、
    シリカ及び活性炭素を含み、バイオマスの熱分解によって得られたバイオマス灰のアルカリ消化によってつくられたアルカリケイ酸塩溶液を、各タイプのシリカが接着あるいは沈着アモルファス状炭素を含む沈降シリカ又はシリカ・ゲルのスラリーをつくるのに有効な程度に酸性化するステップと、
    上記スラリーから接着あるいは沈着アモルファス状炭素を含む沈降シリカ又はシリカ・ゲルを分離するステップ
    を含むことを特徴とする方法。
  2. 上記バイオマス灰が籾殻灰であることを特徴とする請求項1記載の方法。
  3. 上記酸性化が硫酸、塩酸、燐酸、硝酸、酢酸、及びそれらの組み合わせで構成されるグループから選択される酸によって行われる請求項1記載の方法。
JP2001572411A 2000-03-31 2001-03-30 バイオマス灰溶液からの沈着炭素を含む又は含まない沈降シリカ及びシリカ・ゲル、及びプロセス Expired - Fee Related JP5128040B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US09/540,568 US6375735B1 (en) 1996-05-06 2000-03-31 Precipitated silicas, silica gels with and free of deposited carbon from caustic biomass ash solutions and processes
US09/540,568 2000-03-31
PCT/US2001/010171 WO2001074712A1 (en) 2000-03-31 2001-03-30 Precipitated silicas, silica gels with and free of deposited carbon from caustic biomass ash solutions and processes

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003529518A JP2003529518A (ja) 2003-10-07
JP5128040B2 true JP5128040B2 (ja) 2013-01-23

Family

ID=24156004

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001572411A Expired - Fee Related JP5128040B2 (ja) 2000-03-31 2001-03-30 バイオマス灰溶液からの沈着炭素を含む又は含まない沈降シリカ及びシリカ・ゲル、及びプロセス

Country Status (9)

Country Link
US (2) US6375735B1 (ja)
EP (1) EP1276695A4 (ja)
JP (1) JP5128040B2 (ja)
KR (1) KR20030034057A (ja)
CN (1) CN1246221C (ja)
AU (2) AU4788501A (ja)
CA (1) CA2407055C (ja)
MX (1) MXPA02009617A (ja)
WO (1) WO2001074712A1 (ja)

Families Citing this family (77)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100367839B1 (ko) * 2000-07-13 2003-01-10 주식회사 이코바이오 초본류 식물로 부터 실리카를 추출하는 방법
CN1115388C (zh) * 2000-09-25 2003-07-23 中国石油化工股份有限公司 一种加氢保护催化剂及其制备方法
WO2002066372A1 (en) * 2001-02-19 2002-08-29 Fundação De Amparo Á Pesquisa Do Estado De São Paulo Oxides extracted from vegetal matter and process therefor
US20030096900A1 (en) * 2001-11-16 2003-05-22 Holden Brian David Organic plant derived precipitated silica aggregates, elastomers reinforced therewith and articles such as tires with component thereof
US20030171078A1 (en) * 2002-03-06 2003-09-11 Fuji Photo Film Co., Ltd. Polishing member and method for polishing end faces of optical fibers
US7264728B2 (en) * 2002-10-01 2007-09-04 Dow Corning Corporation Method of separating components in a sample using silane-treated silica filter media
US20040211724A1 (en) * 2002-10-01 2004-10-28 Gibson Gary L. Method of separating components in a sample using silane-treated silica filter media
JP4537379B2 (ja) * 2003-02-18 2010-09-01 ザ レジストラー インディアン インスティテュート オブ サイエンス 籾殻の灰から沈降シリカを製造するプロセスおよび装置
US7604787B2 (en) * 2003-05-02 2009-10-20 The Penn State Research Foundation Process for sequestering carbon dioxide and sulfur dioxide
JP4633347B2 (ja) * 2003-08-27 2011-02-16 ソニー株式会社 電子機器
CA2539533C (fr) * 2003-09-19 2013-08-06 Saint-Gobain Glass France Preparation de silicate ou de verre dans un four a bruleurs immerges en milieu reducteur
AU2005212382B2 (en) * 2004-02-13 2010-09-30 Garry Robert Nunn Soluble biogenic silica and applications using same
JP2007522069A (ja) * 2004-02-13 2007-08-09 ナン,ゲリー,ロバート 可溶性生物起源シリカ及びこれを使用する用途
US7588745B2 (en) * 2004-04-13 2009-09-15 Si Options, Llc Silicon-containing products
US8470279B2 (en) * 2004-04-13 2013-06-25 Si Options, Llc High purity silicon-containing products and method of manufacture
CA2562511A1 (en) * 2004-04-23 2005-12-15 Genencor International, Inc. Method of preventing or reducing haze in a beverage using silane-treated silica filter media
US9963373B2 (en) 2004-05-19 2018-05-08 Earthstone International Llc Method of reducing the occurrence of crystalline silica in foamed glass by the introduction of chemical additives
US8916486B2 (en) * 2004-05-19 2014-12-23 Richard Lehman Method of reducing the occurrence of crystalline silica in foamed glass by the introduction of chemical additives
US9725350B2 (en) 2004-05-19 2017-08-08 Richard L. Lehman Very low crystalline silica foamed glass and methods of using the same
US20050261121A1 (en) * 2004-05-19 2005-11-24 Earthstone International Llc Elimination of crystalline silica from white foam glass by chemical additions
US20060008402A1 (en) * 2004-07-12 2006-01-12 Robles Antonio T Method for preparing activated silica for water treatment
US7024800B2 (en) * 2004-07-19 2006-04-11 Earthrenew, Inc. Process and system for drying and heat treating materials
US7270794B2 (en) * 2005-03-30 2007-09-18 Shipley Larry W Process for recovering useful products and energy from siliceous plant matter
JP3796629B1 (ja) * 2005-04-21 2006-07-12 東洋ゴム工業株式会社 空気入りタイヤ
CN101351243B (zh) * 2005-12-30 2013-07-10 J.M.休伯有限公司 含有生物来源二氧化硅材料的洁齿剂
RU2310602C1 (ru) * 2006-02-09 2007-11-20 Институт Катализа Им. Г.К. Борескова Сибирского Отделения Российской Академии Наук Способ получения высокоструктурированных углерод-минеральных композитов из высокозольной биомассы
RU2302373C1 (ru) * 2006-02-09 2007-07-10 Институт Катализа Им. Г.К. Борескова Сибирского Отделения Российской Академии Наук Углерод-кремнеземный композит
RU2310603C1 (ru) * 2006-02-09 2007-11-20 Институт Катализа Им. Г.К. Борескова Сибирского Отделения Российской Академии Наук Способ получения высокоструктурированных углерод-кремнеземных композитов из биомассы
JP5164332B2 (ja) * 2006-03-10 2013-03-21 株式会社トクヤマ 沈降シリカの製造方法
WO2008053711A1 (fr) * 2006-10-27 2008-05-08 Kurimoto, Ltd. Silice amorphe et son procédé de fabrication
EP2139953B1 (en) * 2007-04-24 2014-04-16 Cabot Corporation Low structure carbon black and method of making same
JP5214930B2 (ja) * 2007-09-05 2013-06-19 東洋ゴム工業株式会社 ゴム組成物及び空気入りタイヤ
US20090065435A1 (en) * 2007-09-10 2009-03-12 Powell Intellectual Property Holdings, Llc Modified Biogenic Silica and Method for Purifying a Liquid
JP5214949B2 (ja) * 2007-11-02 2013-06-19 東洋ゴム工業株式会社 タイヤトレッド用ゴム組成物
JP5214950B2 (ja) * 2007-11-02 2013-06-19 東洋ゴム工業株式会社 タイヤトレッド用ゴム組成物
US8026086B2 (en) * 2007-12-03 2011-09-27 Ontario Inc. Methods for co-production of ethanol and silica from equisetum
US20100261029A1 (en) * 2008-12-18 2010-10-14 Ppg Industries Ohio, Inc. Multi-phase particulates, method of making, and composition containing same
DE102009001512A1 (de) * 2009-03-12 2010-09-16 Evonik Degussa Gmbh Herstellung von hochreinen Suspensionen enthaltend gefällte Kieselsäuren durch Elektrodialyse
CN102687530A (zh) * 2009-12-28 2012-09-19 松下电器产业株式会社 扬声器用振动板、扬声器用防尘盖、扬声器用框架、使用了这些的扬声器、以及使用了该扬声器的电子设备及装置
US8226752B2 (en) * 2010-04-29 2012-07-24 Hai Xu Method and apparatus for air purification
CN101913601B (zh) * 2010-08-13 2012-06-27 宁乡县亮之星米业有限公司 稻壳炭中炭与硅的分离方法
GB2490670A (en) * 2011-05-09 2012-11-14 Sibelco Uk Ltd An activated carbon composite material
US9267019B2 (en) 2011-06-15 2016-02-23 Lion Copolymer Holdings, Llc Functionalized silica for silica wet masterbatches and styrene butadiene rubber compositions
US9556035B2 (en) 2011-07-04 2017-01-31 Taiheiyo Cement Corporation Particles formed of silica and carbon, and method for producing mixture of silica and carbon
KR101309772B1 (ko) * 2011-07-18 2013-09-23 전북대학교산학협력단 옥수수대 펠렛으로부터 추출한, 오염물질 제거능이 우수한 천연 바이오매스 실리카 나노분말 및 그 제조방법
JP5351228B2 (ja) * 2011-09-07 2013-11-27 富士シリシア化学株式会社 シリカ・炭素複合多孔質体、及びその製造方法
CN103101918B (zh) * 2011-11-10 2017-07-21 常州英中纳米科技有限公司 一种碳包覆制备单分散晶体二氧化硅球形颗粒的方法
US8835536B2 (en) 2012-02-02 2014-09-16 Lion Copolymer Holdings, Llc Highly silica loaded styrene butadiene rubber masterbatch
JP6065007B2 (ja) * 2012-06-20 2017-01-25 住友電気工業株式会社 金属ケイ素及び多孔質炭素の製造方法
MX345946B (es) * 2012-07-27 2017-02-27 Lion Copolymer Holdings Llc Silice funcionalizado para mezclas madre humedas de silice y composiciones de hule de estireno-butadieno.
CN103896265A (zh) * 2012-12-29 2014-07-02 苏州格瑞展泰再生能源有限公司 以稻壳为原料生产活性炭、无机硅化合物的方法
DE112014001758B4 (de) * 2013-03-29 2020-11-12 The Yokohama Rubber Co., Ltd. Verwendung einer Kautschukzusammensetzung zur Herstellung eines Schwerlast-Luftreifens und daraus hergestellter Schwerlast-Luftreifen
CN103288091B (zh) * 2013-05-07 2014-12-31 贵州盘县紫森源(集团)实业发展投资有限公司 一种低模数水玻璃碳化沉淀法制备白炭黑的方法
US9079161B2 (en) * 2013-09-11 2015-07-14 King Fahd University Of Petroleum And Minerals Catalyst for electrochemical dechlorination of hydrocarbons
WO2015152315A1 (ja) * 2014-04-01 2015-10-08 Rapas株式会社 酸化チタンを使用してシリカ含有植物体からシリカを回収する方法
CN105080480B (zh) * 2014-04-28 2018-09-14 益海(佳木斯)生物质能发电有限公司 碳硅吸附剂及其制备方法和用途
RU2567311C1 (ru) * 2014-06-30 2015-11-10 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Астраханский государственный университет" Способ получения углерод-минерального сорбента из тростника южного для очистки водных сред от органических и неорганических соединений
CN104211045B (zh) * 2014-09-04 2016-05-18 江南大学 一种简单快速制备稻壳基多孔炭/二氧化硅复合材料的方法
DE102014113411A1 (de) * 2014-09-17 2016-03-17 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Anorganische, Silica-basierte Feststoff-Schaumpartikel mit geschlossenen Innenporen, ihre Herstellung und ihre Verwendung als Füll- oder Speicherstoff
KR101703849B1 (ko) * 2014-12-30 2017-02-07 한국세라믹기술원 이온성 액체를 이용한 친환경적 실리카 제조방법
NL2014133B1 (en) * 2015-01-14 2017-01-04 High Five Solutions B V Slurry composition comprising solid particles for use in construction.
EP3156368A1 (en) 2015-10-15 2017-04-19 Rhodia Operations Novel process for the preparation of silicate, novel process for the preparation of precipitated silica
CN106349946A (zh) * 2016-08-10 2017-01-25 吴迪 一种绿色无毒化学机械抛光液的制备方法
CN106497434A (zh) * 2016-10-07 2017-03-15 常州创索新材料科技有限公司 一种机械部件抛光液的制备方法
US10486973B2 (en) * 2016-11-18 2019-11-26 Ppg Industries Ohio, Inc. Silica-based spherical particulates and methods of preparing the same
JP7069604B2 (ja) * 2017-08-28 2022-05-18 味の素株式会社 沈降シリカの製造法
US11873218B2 (en) 2018-03-02 2024-01-16 Pörner Ingenieurgesellschaft M.B.H. Sustainable silicates and methods for their extraction
CN108502891A (zh) * 2018-04-26 2018-09-07 上海理工大学 利用制糖业的废物底灰制备二氧化硅的方法
CN108910899A (zh) * 2018-08-03 2018-11-30 上海硅硅生物技术有限公司 一种简易的偏硅酸制备方法
US11618684B2 (en) 2018-09-05 2023-04-04 Kilt, Llc Method for controlling the properties of biogenic silica
CN109536041A (zh) * 2018-12-28 2019-03-29 天津洙诺科技有限公司 一种蓝宝石球罩加工抛光液及其制备方法
JP7214561B2 (ja) * 2019-05-10 2023-01-30 株式会社クボタ 両親媒性を有するシリカ・炭素複合材の製造方法
CN115244000B (zh) * 2020-03-11 2024-09-20 株式会社久保田 非晶质二氧化硅的制造方法及非晶质二氧化硅的制造装置
CN114477979B (zh) * 2021-12-24 2023-04-14 广州蓝日生物科技有限公司 一种具有连续微孔隙结构的实体聚合硅酸盐的制备方法
CN119136993A (zh) 2022-05-27 2024-12-13 阿朗新科德国有限责任公司 官能化共轭二烯橡胶和二氧化硅填料的橡胶配混物
US20240158615A1 (en) 2022-11-02 2024-05-16 The Goodyear Tire & Rubber Company Precipitated silica pretreated with a coupling agent and polyethylene glycol for a rubber composition
WO2025228852A2 (en) * 2024-04-29 2025-11-06 Evonik Operations Gmbh Caustic leached rice husk ash as absorbent material

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3889608A (en) * 1972-07-28 1975-06-17 Structural Materials Apparatus for the preparation of siliceous ashes
US3959007A (en) * 1972-07-28 1976-05-25 Structural Materials Process for the preparation of siliceous ashes
DE2557932A1 (de) * 1975-12-22 1977-06-30 Dynamit Nobel Ag Verfahren zur herstellung von koernigem quarzglas
JPH0643246B2 (ja) * 1985-10-08 1994-06-08 川鉄鉱業株式会社 シリカの高純度化方法
US4973462A (en) * 1987-05-25 1990-11-27 Kawatetsu Mining Company, Ltd. Process for producing high purity silica
JPS63291808A (ja) * 1987-05-25 1988-11-29 Kawatetsu Kogyo Kk 高純度シリカの製造方法
US5833940A (en) * 1987-07-28 1998-11-10 Enviroguard, Inc. Production of soluble silicates from biogenetic silica
US5030433A (en) * 1988-07-18 1991-07-09 International Minerals & Chemical Corp. Process for producing pure and dense amorphous synthetic silica particles
US4973482A (en) 1989-08-28 1990-11-27 National By-Products, Inc. Storage tank assembly for bulk fat and method for using same
JP2506600B2 (ja) * 1992-09-30 1996-06-12 工業技術院長 多孔性シリカ−炭素複合体及びその製造方法
US5782982A (en) * 1993-03-26 1998-07-21 Arkenol, Inc. Method of removing silica or silicates from solids resulting from the strong acid hydrolysis of cellulosic and hemicellulosic materials
JPH08104513A (ja) * 1994-10-04 1996-04-23 Takeko Suda モミガラの含有するケイ酸を、モミガラを浸して処理した処理液から回収する方法。
US5807494A (en) * 1994-12-15 1998-09-15 Boes; Ralph Ulrich Gel compositions comprising silica and functionalized carbon products
US5714000A (en) * 1996-05-06 1998-02-03 Agritec, Inc. Fine-celled foam composition and method
US6114280A (en) * 1996-05-06 2000-09-05 Agritec, Inc. Highly activated carbon from caustic digestion of rice hull ash and method
JP3998793B2 (ja) * 1998-02-18 2007-10-31 株式会社トクヤマ 沈降シリカ及びその製造方法
US6332977B1 (en) * 1999-05-28 2001-12-25 Acs Acquisitions Corp. Apparatus for steam sterilizing and recycling leaf-filter aids

Also Published As

Publication number Publication date
EP1276695A1 (en) 2003-01-22
CA2407055C (en) 2008-06-17
AU2001247885B2 (en) 2005-06-30
WO2001074712A1 (en) 2001-10-11
CA2407055A1 (en) 2001-10-11
US6638354B2 (en) 2003-10-28
KR20030034057A (ko) 2003-05-01
CN1246221C (zh) 2006-03-22
AU4788501A (en) 2001-10-15
EP1276695A4 (en) 2007-05-02
JP2003529518A (ja) 2003-10-07
CN1431970A (zh) 2003-07-23
US6375735B1 (en) 2002-04-23
MXPA02009617A (es) 2004-05-14
US20030097966A1 (en) 2003-05-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5128040B2 (ja) バイオマス灰溶液からの沈着炭素を含む又は含まない沈降シリカ及びシリカ・ゲル、及びプロセス
AU2001247885A1 (en) Precipitated silicas, silica gels with and free of deposited carbon from caustic biomass ash solutions and processes
EP0871540B1 (en) Gel composition containing carbonaceous compound
KR101143130B1 (ko) 발열성 이산화규소 분말 및 그의 분산물
CA1082881A (en) Process for processing silicon-dioxide-containing air- borne waste fines to precipitate silicas and silicates
KR101302646B1 (ko) 소수성 실리카 분말의 제조방법
US20090022646A1 (en) Process for hydrothermal production of sodium silicate solutions and precipitated silicas
CN102171141A (zh) 由二氧化硅制备太阳能级硅
JP2009046389A (ja) シリカ被覆炭素生成物の製造方法
EP0977709A1 (en) Improved silica product for use in elastomers
WO2000064810A1 (en) Very high structure, highly absorptive hybrid silica and method for making same
JP2012050975A (ja) リン回収材およびその製造方法
JP5267758B2 (ja) 疎水性シリカ粉末の製造法
RU2350637C2 (ru) Многофункциональный наполнитель на основе химически осажденного карбоната кальция и способ его получения
US6866711B2 (en) Composite pigment composition containing silica
CN100372771C (zh) 高纯纳米氢氧化镁的制备方法
RU2310602C1 (ru) Способ получения высокоструктурированных углерод-минеральных композитов из высокозольной биомассы
JP4512689B2 (ja) ヒドロキシアパタイト被覆シリカ多孔体及びその製造方法
JPH1129317A (ja) 鱗片状の低結晶性シリカとその製造方法
JP7807244B2 (ja) シリカ含有組成物の製造方法
JP3308303B2 (ja) アモルファスアルミノシリケートの連続製造方法
CN101094808A (zh) 从金伯利岩尾矿制备非晶二氧化硅的方法
JPH09268007A (ja) シリコーンゴム充填剤に適した含水ケイ酸
JPH07187654A (ja) アモルファスアルミノシリケート及びその製造法
JPH11124513A (ja) フィラー材料及びその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20040617

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20040617

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080331

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110412

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20110708

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20110715

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20110805

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20110812

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20110905

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20110912

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20111007

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20111020

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120214

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20120502

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20120511

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120521

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20121023

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20121031

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151109

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees