JP5140983B2 - アルカジエニル基を側鎖として有する化合物およびこれを用いた液晶組成物 - Google Patents

Description

本発明は液晶表示素子用の材料として有用な新規液晶性化合物およびこの化合物を含有する液晶組成物に関する。詳しくは低い粘性、他の液晶化合物との良好な相溶性を持ち、加えて適切な大きさの屈折率異方性値および誘電率異方性値を有し、液晶表示素子に使用した場合には急峻な電気光学特性を得ることができる新規液晶性化合物およびこの化合物を含有する液晶組成物ならびにこの液晶組成物を含有する液晶表示素子に関する。

液晶表示素子において、液晶の動作モードに基づいた分類は、ＰＣ（phase change）、ＴＮ（twisted nematic）、ＳＴＮ（super twisted nematic）、ＢＴＮ（Bistable twisted nematic）、ＥＣＢ（electrically controlled birefringence）、ＯＣＢ（opticallycompensated bend）、ＩＰＳ（in-plane switching）、ＶＡ（vertical alignment）などである。素子の駆動方式に基づいた分類は、ＰＭ（passive matrix）とＡＭ（active matrix）である。ＰＭ（passive matrix）はスタティック（static）とマルチプレックス
（multiplex）などに分類され、ＡＭはＴＦＴ（thin film transistor）、ＭＩＭ（metalinsulator metal）などに分類される。

これらの液晶表示素子は、適切な物性を有する液晶組成物を含有する。液晶表示素子の特性を向上させるには、この液晶組成物が適切な物性を有するのが好ましい。液晶組成物の成分である液晶性化合物に必要な一般的物性は、次のとおりである。
（１）化学的な安定性と物理的な安定性。
（２）高い透明点。透明点は、液晶相−等方相の転移温度である。
（３）液晶相の低い下限温度。液晶相は、ネマチック相、スメクチック相などを意味する。
（４）小さな粘度。
（５）適切な光学異方性。
（６）適切な誘電率異方性。大きな誘電率異方性を有する化合物は、大きな粘度を有することが多い。
（７）大きな比抵抗。

液晶組成物は多くの液晶性化合物を混合して調製される。したがって、液晶性化合物は他の液晶性化合物とよく混和するのが好ましい。液晶表示素子を氷点下の温度で使うこともあるので、低い温度で良好な相溶性を有する液晶性化合物が好ましい。高い透明点または液晶相の低い下限温度を有する液晶性化合物は、液晶組成物におけるネマチック相の広い温度範囲に寄与する。好ましい液晶組成物は、小さな粘度と液晶表示素子のモードに適した光学異方性を有する。液晶性化合物の大きな誘電率異方性は、液晶組成物の低いしきい値電圧に寄与する。このような液晶組成物によって、使用できる温度範囲が広い、応答時間が短い、コントラスト比が大きい、駆動電圧が小さい、消費電力が小さい、電圧保持率が大きいなどの特性を有する液晶表示素子を得ることができる。

従来、ＴＮ、ＳＴＮ、ＴＦＴなどの液晶表示素子に好適に用いられることができる液晶性化合物として、側鎖にアルケニル基を持つ化合物が種々合成され、そのうちのいくつかは実用的に用いられている。例えば、非特許文献１および特許文献１に下記（ｓ−１）〜（ｓ−３）式で示される化合物が、特許文献２に下記（ｓ−４）および（ｓ−５）式で示される化合物が、特許文献３に下記（ｓ−６）および（ｓ−７）式で示される化合物が開示されている。また、特許文献４〜６に（ｓ−８）および（ｓ−９）式で示される化合物
および組成物が開示されている。さらに二重結合にフッ素が直結した下記の（ｓ−１０）および（ｓ−１１）式で示される化合物が特許文献７に、下記の（ｓ−１２）式で示される化合物が特許文献８に開示されている。

しかし、（ｓ−１）〜（ｓ−７）式で示される化合物は、いずれもスメクチック性が強く、組成物中に大量に使用できない。さらに（ｓ−４）〜（ｓ−７）式で示される化合物は粘性が高く、（ｓ−８）〜（ｓ−１２）式で示される化合物は光学安定性や熱安定性が十分でない場合がある。

また、他にアルカジエニル基を側鎖に有する化合物として特許文献９に（ｓ−１３）式で示される化合物が、特許文献１０に（ｓ−１４）式で示される化合物が開示されている。

また、特許文献１１には（ｓ−１５）式で示される末端基がハロゲン等の極性基であるが開示されているが、アルカジエニル基とを同時に持つ化合物は開示されていない。

（ｓ−１３）式および（ｓ−１４）式で示される化合物はいずれも誘電率異方性値が小さく、これらを含有する液晶組成物ではその駆動電圧を下げることができない。さらに、（ｓ−１３）式で示される化合物は粘性が高い上に屈折率異方性値も小さく、（ｓ−１４）式で示される化合物においては安定性が極端に悪い。また、（ｓ−１５）式で示される化合物は、弾性定数比（Ｋ₃₃／Ｋ₁₁）が小さい、相溶性が充分でない、ネマチック相の上限温度が低い等のさらに改良の求められる点があり、さらに好ましい液晶性化合物、液晶組成物および液晶表示素子が依然として望まれている。

特開平６１−８３１３６号公報 特願平６−９２７４０号公報 独国特許出願公開第１９５２０２４６号明細書 特開２００２−２９４２３７号公報 特開平１０−１０２０６０号公報 特開２００５−１３２９９８号公報 特表平６−５００３４３号公報 特表平４−５０２６２７号公報 国際公開第９６／０２２２６１号パンフレット 特表２００１−５００８９４号公報 国際公開第２００２／０９３２４４号パンフレット Mol. Cryst. Liq. Cryst., 122, 241 (1885)

本発明の第一の目的は、液晶性化合物に必要な一般的物性、すなわち熱、光などに対する安定性、小さな粘度、適切な大きさの屈折率異方性値、適切な大きさの誘電率異方性値および急峻な電気光学特性、ネマチック相の広い温度範囲、および他の液晶性化合物との優れた相溶性を有する液晶性化合物を提供することであり、特にネマチック相の広い温度範囲を有する液晶性化合物を提供することである。第二の目的は、この液晶性化合物を含有し、ネマチック相の高い上限温度、ネマチック相の低い下限温度、小さな粘度、適切な光学異方性、および低いしきい値電圧を有する液晶組成物を提供することであり、特にネマチック相の高い上限温度およびネマチック相の低い下限温度を有する液晶組成物を提供することである。第三の目的は、この組成物を含有し、使用できる広い温度範囲、短い応答時間、小さな消費電力、大きなコントラスト、および低い駆動電圧を有する液晶表示素子を提供することであり、特に、使用できる広い温度範囲を有する液晶表示素子を提供することである。

本発明者らは前記課題を解決するために鋭意検討した結果、分子の一方の末端にアルカジエニル基を、他方の末端にハロゲン等の極性基を有する化合物が極めて大きな弾性定数比（Ｋ₃₃／Ｋ₁₁）、非常に低い粘性、高い化学的安定性、広いネマチック相温度範囲、大きな屈折率異方性値および誘電率異方性値を持つことを見出した。さらに上記化合物を含有する液晶組成物を用いると、急峻な電気光学特性、短い応答時間、広い動作温度範囲および駆動電力が小さい液晶表示素子を作製できることを見出した。従って、上記化合物は液晶表示素子、特に現在広く利用されているＴＮ、ＳＴＮ、ＴＦＴなどの液晶表示素子に好適であることを見出し、本発明を完成するに至ったものである。

本発明の要旨は下記の項１から項３１のとおりである。
１． 一般式（１）で表される化合物。

［式中、Ｒ¹は水素、炭素数１〜５のアルキル、または炭素数２〜５のアルケニルであり；
環Ａ¹は１，４−フェニレンであり、この環において任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよく、環Ａ²および環Ａ³は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、１，４−シクロヘキセニレン、ナフタレン−２，６−ジイル、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル、または１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイルであり、これらの環において任意の−ＣＨ₂−は、−Ｏ−または−Ｓ−により置き換えられていてもよく、任意の−ＣＨ＝は、−Ｎ＝により置き換えられていてもよく、これらの環において任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよく；
Ｚ¹、Ｚ²およびＺ³は独立して、単結合、−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＯＣＦ₂−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−（ＣＨ₂）₄−、−Ｏ（ＣＨ₂）₂Ｏ−、−（ＣＨ₂）₂ＣＦ₂Ｏ−、−（ＣＨ₂）₂ＯＣＦ₂−、−ＣＦ₂Ｏ（ＣＨ₂）₂−、−ＯＣＦ₂（ＣＨ₂）₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ₂Ｏ−、または−ＯＣＨ₂−ＣＨ＝ＣＨ−であり；
Ｌ¹およびＬ²は独立して、水素またはフッ素であり；
Ｘ¹は水素、フッ素、塩素、−Ｃ≡Ｎ、−Ｎ＝Ｃ＝Ｓ、−ＳＦ₅、または−Ｑ−Ｗで示される基であり、Ｑは単結合、酸素、または硫黄であり、Ｗは少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた炭素数１〜５のアルキルであり；
ｎ、ｍは独立して、０または１であり、ｐは１〜４の整数である。］
２． 環Ａ¹、環Ａ²および環Ａ³が独立して、１，４−フェニレンまたはハロゲン化された１，４−フェニレンである、項１に記載の化合物。
３． 環Ａ¹、環Ａ²および環Ａ³のうち少なくとも１つがハロゲン化された１，４−フェニレンであり、ハロゲン化された１，４−フェニレンがフッ素化された１，４−フェニレンである、項２に記載の化合物。
４． 前記フッ素化された１，４−フェニレンが、２−フルオロ−１，４−フェニレンまたは２，６−ジフルオロ−１，４−フェニレンである、項３に記載の化合物。
５． 環Ａ¹、環Ａ²および環Ａ³のうち少なくとも１つがピリミジン−２，５−ジイルである、項１に記載の化合物。
６． Ｚ¹、Ｚ²およびＺ³のうち少なくとも１つが単結合である、項１〜５のいずれかに記載の化合物。
７． Ｚ¹、Ｚ²およびＺ³のいずれか１つが、−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＯＣＦ₂−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂−
、または−ＣＦ＝ＣＦ−である、項６に記載の化合物。
８． Ｚ¹、Ｚ²およびＺ³がいずれも単結合である、項６に記載の化合物。
９． Ｌ¹、Ｌ²およびＸ¹のうち少なくとも１つがハロゲンである、項１〜８のいずれかに記載の化合物。
１０． 下記のいずれか１つの一般式で表される項１に記載の化合物。
一般式（１）においてｐ＝１、ｎ＝ｍ＝０である下記の一般式（１−ａ）で表される化合物、
一般式（１）においてｐ＝１、ｎ＝０、ｍ＝１である下記の一般式（１−ｂ）で表される化合物、または、
一般式（１）においてｐ＝１、ｎ＝ｍ＝１である下記の一般式（１−ｃ）で表される化合物。

［式中、Ｒ¹は水素、炭素数１〜５のアルキル、または炭素数２〜５のアルケニルであり；
環Ａ¹は１，４−フェニレンであり、この環において任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよく、環Ａ²および環Ａ³は独立して、１，４−フェニレン、１，４−シクロヘキセニレン、ナフタレン−２，６−ジイル、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル、または１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイルであり、１，４−フェニレンにおいて任意の−ＣＨ＝は、−Ｎ＝により置き換えられていてもよく、これらの環において任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよく；
Ｚ¹、Ｚ²およびＺ³は独立して、単結合、−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＯＣＦ₂−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂−、または−ＣＦ＝ＣＦ−であり；
Ｌ¹およびＬ²は独立して、水素またはフッ素であり；
Ｘ¹はフッ素、塩素、−Ｃ≡Ｎ、−ＣＦ₃、−ＣＨＦ₂、−ＣＨ₂Ｆ、−ＯＣＦ₃、−ＯＣＨＦ₂、または−ＯＣＨ₂Ｆである。］
１１． 環Ａ¹、環Ａ²および環Ａ³が独立して、１，４−フェニレンまたはハロゲン化された１，４−フェニレンである、項１０に記載の化合物。
１２． 環Ａ¹、環Ａ²および環Ａ³のうち少なくとも１つが、ハロゲン化された１，４−フェニレンであり、ハロゲン化された１，４−フェニレンがフッ素化された１，４−フェニレンである、項１１に記載の化合物。
１３． 前記フッ素化された１，４−フェニレンが、２−フルオロ−１，４−フェニレンまたは２，６−ジフルオロ−１，４−フェニレンである項１２に記載の化合物。
１４． 環Ａ¹、環Ａ²および環Ａ³のうち少なくとも１つがピリミジン−２，５−ジイルである、項１０に記載の化合物。
１５． Ｚ¹、Ｚ²およびＺ³のうち少なくとも１つが単結合である、項１０〜１４のいず
れかに記載の化合物。
１６． Ｚ¹、Ｚ²およびＺ³のいずれか１つが、−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＯＣＦ₂−、−ＣＨ₂Ｏ−、または−ＯＣＨ₂−である、項１５に記載の化合物。
１７． Ｚ¹、Ｚ²およびＺ³がいずれも単結合である、項１５に記載の化合物。
１８． Ｌ¹、Ｌ²およびＸ¹のうち少なくとも１つがハロゲンである、項１０〜１７のいずれかに記載の化合物。
１９． 下記の一般式（１−１）〜（１−４８）のいずれか１つの式で表される項１に記載の化合物。

［式中、Ｒ¹は水素、炭素数１〜５のアルキル、または炭素数２〜５のアルケニルであり；
Ｌ¹、Ｌ²およびＹ¹〜Ｙ⁶は独立して、水素またはフッ素であり；
Ｘ¹はフッ素、塩素、−Ｃ≡Ｎ、−ＣＦ₃、−ＣＨＦ₂、−ＣＨ₂Ｆ、−ＯＣＦ₃、−ＯＣＨＦ₂、または−ＯＣＨ₂Ｆである。］
２０． 下記の一般式（１−４９）〜（１−５１）のいずれか１つの式で表される項１に記載の化合物。

［式中、Ｌ¹、Ｌ²およびＹ¹〜Ｙ³は独立して、水素またはフッ素であり；
Ｘ¹はフッ素または塩素である。］
２１． 項１〜２０のいずれかに記載の化合物を少なくとも１種類含有することを特徴とする、２成分以上からなる液晶組成物。
２２． 一般式（２）、（３）および（４）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、項２１に記載の液晶組成物。

［式中、Ｒ²は炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、アルキルにおいて任意の−ＣＨ₂−は、−Ｏ−で置き換えられてもよく；
Ｘ²はフッ素、塩素、−ＯＣＦ₃、−ＯＣＨＦ₂、−ＣＦ₃、−ＣＨＦ₂、−ＣＨ₂Ｆ、−ＯＣＦ₂ＣＨＦ₂、または−ＯＣＦ₂ＣＨＦＣＦ₃であり；
環Ｂおよび環Ｄは独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、または任意の水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり、環Ｅは、１，４−シクロヘキシレンまたは任意の水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；
Ｚ⁴およびＺ⁵は独立して、−（ＣＨ₂）₂−、−（ＣＨ₂）₄−、−ＣＯＯ−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＯＣＦ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または単結合であり；
Ｌ³およびＬ⁴は独立して、水素またはフッ素である。］
２３． 一般式（５）および（６）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、項２１に記載の液晶組成物。

［式中、Ｒ³およびＲ⁴は独立して、炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、アルキルにおいて任意の−ＣＨ₂−は、−Ｏ−で置き換えられてもよく；
Ｘ³は、−Ｃ≡Ｎまたは−Ｃ≡Ｃ−Ｃ≡Ｎであり；
環Ｇは、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、またはピリミジン−２，５−ジイルであり、環Ｊは、１，４−シクロヘキシレン、ピリミジン−２，５−ジイル、または任意の水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり、環Ｋは、１，４−シクロヘキシレンまたは１，４−フェニレンであり；
Ｚ⁶は、−（ＣＨ₂）₂−、−ＣＯＯ−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＯＣＦ₂−、または単結合であり；
Ｌ⁵、Ｌ⁶およびＬ⁷は独立して、水素またはフッ素であり；
ｂ、ｃおよびｄは独立して、０または１である。］
２４． 一般式（７）、（８）、（９）、（１０）および（１１）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、項２１に記載の液晶組成物。

［式中、Ｒ⁵は炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、アルキルにおいて任意の−ＣＨ₂−は、−Ｏ−で置き換えられてもよく；
Ｒ⁶はフッ素、炭素数１〜１０のアルキル、または炭素数２〜１０のアルケニルであり、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ₂−は、−Ｏ−で置き換えられてもよく；
環Ｍおよび環Ｐは独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、またはデカヒドロ−２，６−ナフチレンであり；
Ｚ⁷およびＺ⁸は独立して、−（ＣＨ₂）₂−、−ＣＯＯ−、または単結合であり；
Ｌ⁸、Ｌ⁹、Ｌ¹⁰およびＬ¹¹は独立して、水素またはフッ素であって、Ｌ⁸、Ｌ⁹、Ｌ¹⁰およびＬ¹¹の少なくとも１つはフッ素である。］
２５． 一般式（１２）、（１３）および（１４）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、項２１に記載の液晶組成物。

［式中、Ｒ⁷およびＲ⁸は独立して、炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ₂−は、−Ｏ−で置き換えられてもよく；
環Ｊ、環Ｔおよび環Ｕは独立して、１，４−シクロヘキシレン、ピリミジン−２、５−ジイル、または任意の水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；
Ｚ⁹およびＺ¹⁰は独立して、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−（ＣＨ₂）₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または単結合である。］
２６． 一般式（５）および（６）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、項２２に記載の液晶組成物。
２７． 一般式（１２）、（１３）および（１４）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、項２２に記載の液晶組成物。
２８． 一般式（１２）、（１３）および（１４）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、項２３に記載の液晶組成物。
２９． 一般式（１２）、（１３）および（１４）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、項２４に記載の液晶組成物。
３０． 少なくとも１つの光学活性化合物をさらに含有する、項２１〜２９のいずれかに記載の液晶組成物。
３１． 項２１〜３０のいずれかに記載の液晶組成物を含有する液晶表示素子。

本発明の化合物は、液晶性化合物に必要な一般的物性、熱、光などに対する安定性、小さな粘度、適切な大きさの光学異方性、適切な大きさの誘電率異方性および他の液晶性化合物との優れた相溶性を有する。本発明の液晶組成物は、これらの化合物の少なくとも一つを含有し、そしてネマチック相の高い上限温度、ネマチック相の低い下限温度、小さな粘度、適切な大きさの光学異方性、低いしきい値電圧を有する。本発明の液晶表示素子は、この組成物を含有し、そして使用できる広い温度範囲、短い応答時間、小さな消費電力、大きなコントラスト比、および低い駆動電圧を有する。

この明細書における用語の使い方は次のとおりである。液晶性化合物は、ネマチック相、スメクチック相などの液晶相を有する化合物および液晶相を有しないが液晶組成物の成分として有用な化合物の総称である。液晶性化合物、液晶組成物、液晶表示素子をそれぞれ化合物、組成物、素子と略すことがある。液晶表示素子は液晶表示パネルおよび液晶表示モジュールの総称である。ネマチック相の上限温度はネマチック相−等方相の相転移温度であり、そして単に上限温度と略すことがある。ネマチック相の下限温度を単に下限温度と略すことがある。式（１）で表わされる化合物を化合物（１）と略すことがある。この略記は式（２）などで表される化合物にも適用することがある。式（１）から式（１４）において、六角形で囲んだＡ¹、Ｂ、Ｄ、Ｅなどの記号はそれぞれ環Ａ¹、環Ｂ、環Ｄ、環Ｅなどに対応する。百分率で表した化合物の量は組成物の全質量に基づいた質量百分率（質量％）である。以下に本発明をさらに説明する。

第一に、本発明の化合物（１）をさらに説明する。化合物（１）について表２５に記載したように、左末端基、結合基、環構造、および右末端基の構造に分けて、各構造について説明する。化合物（１）はアルケニルを有する二環、三環または四環の化合物である。なお、ナフタレン環などの縮合環は一環と数える。この化合物は、素子が通常使用される条件下において物理的および化学的に極めて安定であり、そして他の液晶性化合物との相溶性がよい。この化合物を含有する組成物は素子が通常使用される条件下で安定である。この組成物を低い温度で保管しても、この化合物が結晶（またはスメクチック相）として析出することがない。この化合物は、化合物に必要な一般的物性、適切な光学異方性、そして適切な誘電率異方性を有する。

化合物（１）の末端基、環構造および結合基を適切に選択することによって、光学異方性、誘電率異方性などの物性を任意に調整することが可能である。化合物（１）における好ましい末端基、環Ａ¹、Ａ²およびＡ³、結合基Ｚ¹、Ｚ²およびＺ³とそれらの種類が、化合物（１）の物性に与える効果を以下に説明する。

化合物（１）における左末端基において、Ｒ¹が直鎖であるときは液晶相の温度範囲が広くそして粘度が小さい。Ｒ¹が分岐鎖であるときは他の液晶性化合物との相溶性がよい。Ｒ¹が光学活性基である化合物は、キラルドーパントとして有用である。この化合物を組成物に添加することによって、素子に発生するリバース・ツイスト・ドメイン（Reverse twisted domain）を防止することができる。Ｒ¹が光学活性基でない化合物は組成物の成分として有用である。Ｒ¹がアルケニルであるとき、好ましい立体配置は二重結合の位置に依存する。好ましい立体配置を有するアルケニル化合物は、高い上限温度または液晶相の広い温度範囲を有する。アルケニルの好ましい立体配置と、上限温度または液晶相の温度範囲との関係について、Mol. Cryst. Liq. Cryst., 1985, 131, 109およびMol. Cryst. Liq. Cryst., 1985, 131, 327に詳細な説明がある。

左末端基において、Ｒ¹は、水素、炭素数１〜５のアルキル、または炭素数２〜５のアルケニルである。ここでアルケニルは、アルキルにおいて任意の−（ＣＨ₂）₂−が、−ＣＨ＝ＣＨ−などで置き換えられた基であり、一例で示す。ＣＨ₃（ＣＨ₂）₃−において任意の−（ＣＨ₂）₂−を−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えた基の例は、Ｈ₂Ｃ＝ＣＨ−（ＣＨ₂）₂−、ＣＨ₃−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ₂−などである。このように「任意の」語は、「区別なく選択された少なくとも一つの」を意味する。化合物の安定性を考慮して、二重結合が隣接したＣＨ₂＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ₂−ＣＨ₂−よりも、二重結合が隣接しないＣＨ₂＝ＣＨ−ＣＨ₂−ＣＨ₂−ＣＨ＝ＣＨ−の方が好ましい。

Ｒ¹が、アルキルおよびアルケニルである場合、分岐よりも直鎖の方が好ましい。Ｒ¹が分岐の基であっても光学活性であるときは好ましい。

アルケニルにおける−ＣＨ＝ＣＨ−の好ましい立体配置は、二重結合の位置に依存する。−ＣＨ＝ＣＨＣＨ₃、−ＣＨ＝ＣＨＣ₂Ｈ₅、−ＣＨ＝ＣＨＣ₃Ｈ₇および−ＣＨ＝ＣＨＣ₄Ｈ₉のような奇数位に二重結合をもつアルケニルにおいてはトランス配置が好ましい。−ＣＨ₂ＣＨ＝ＣＨＣＨ₃、−ＣＨ₂ＣＨ＝ＣＨＣ₂Ｈ₅、および−ＣＨ₂ＣＨ＝ＣＨＣ₃Ｈ₇のような偶数位に二重結合をもつアルケニルにおいてはシス配置が好ましい。

好ましいＲ¹の具体的な例は、−Ｈ、−ＣＨ₃、−Ｃ₂Ｈ₅、−Ｃ₃Ｈ₇、−Ｃ₄Ｈ₉、−Ｃ₅Ｈ₁₁、−ＣＨ＝ＣＨ₂、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ₃、−ＣＨ₂ＣＨ＝ＣＨ₂、−ＣＨ＝ＣＨＣ₂Ｈ₅、−ＣＨ₂ＣＨ＝ＣＨＣＨ₃、−（ＣＨ₂）₂ＣＨ＝ＣＨ₂、−ＣＨ＝ＣＨＣ₃Ｈ₇、−ＣＨ₂ＣＨ＝ＣＨＣ₂Ｈ₅、−（ＣＨ₂）₂ＣＨ＝ＣＨＣＨ₃および−（ＣＨ₂）₃ＣＨ＝ＣＨ₂である。

さらに好ましいＲ¹の具体的な例は、−Ｈ、−ＣＨ₃、−Ｃ₂Ｈ₅、−Ｃ₃Ｈ₇、−Ｃ₄Ｈ₉、−Ｃ₅Ｈ₁₁、−ＣＨ₂ＣＨ＝ＣＨ₂、−ＣＨ₂ＣＨ＝ＣＨＣＨ₃、−（ＣＨ₂）₂ＣＨ＝ＣＨ₂、−ＣＨ₂ＣＨ＝ＣＨＣ₂Ｈ₅、−（ＣＨ₂）₂ＣＨ＝ＣＨＣＨ₃および−（ＣＨ₂）₃ＣＨ＝ＣＨ₂である。

最も好ましいＲ¹の具体的な例は、−Ｈ、−ＣＨ₃、−Ｃ₂Ｈ₅、−Ｃ₃Ｈ₇、−Ｃ₄Ｈ₉、−Ｃ₅Ｈ₁₁、−（ＣＨ₂）₂ＣＨ＝ＣＨ₂、および−（ＣＨ₂）₂ＣＨ＝ＣＨＣＨ₃である。

左末端基において、ｐは１〜４のいずれかの整数を示し、好ましくはｐは１である。

化合物（１）における右末端基において、Ｘ¹は水素、フッ素、塩素、−Ｃ≡Ｎ、−Ｎ＝Ｃ＝Ｓ、−ＳＦ₅、または−Ｑ−Ｗで示される基であり、Ｑは単結合、酸素、または硫黄であり、Ｗは少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた炭素数１〜５のアルキル基である。右末端基に関しては、化合物の用途に応じて下記の具体例を参照し選択することができる。

好ましいＸ¹は水素、フッ素、塩素、−Ｃ≡Ｎ、または−Ｑ−Ｗで示される基であり、Ｑは単結合、酸素、硫黄であり、Ｗは少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた炭素数１〜５のアルキルである。

さらに好ましいＸ¹はフッ素、塩素、−Ｃ≡Ｎ、または−Ｑ−Ｗで示される基であり、Ｑは単結合、酸素であり、Ｗは少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた炭素数１〜５のアルキルである。

より好ましいＸ¹はフッ素、塩素、−Ｃ≡Ｎ、−ＣＦ₃、−ＣＨＦ₂、−ＣＨ₂Ｆ、−ＯＣＦ₃、−ＯＣＨＦ₂、または−ＯＣＨ₂Ｆである。

さらに好ましいＸ¹はフッ素、塩素、−Ｃ≡Ｎ、−ＯＣＦ₃、または−ＯＣＨＦ₂である。

最も好ましいＸ¹はフッ素または塩素である。

Ｗは少なくとも一つの水素がハロゲンで置き換えられた炭素数１〜５のアルキルである。好ましいハロゲンはフッ素および塩素である。さらに好ましいハロゲンはフッ素である。これらの基において分岐よりも直鎖の方が好ましい。

少なくとも一つの水素がハロゲンで置き換えられたアルキルの具体的な例は、−ＣＨ₂Ｆ、−ＣＨＦ₂、−ＣＦ₃、−（ＣＨ₂）₂Ｆ、−ＣＦ₂ＣＨ₂Ｆ、−ＣＦ₂ＣＨＦ₂、−ＣＨ₂ＣＦ₃、−ＣＦ₂ＣＦ₃、−（ＣＨ₂）₃Ｆ、−（ＣＦ₂）₂ＣＦ₃、−ＣＦ₂ＣＨＦＣＦ₃、−ＣＨＦＣＦ₂ＣＦ₃、−（ＣＨ₂）₄Ｆ、−（ＣＦ₂）₃ＣＦ₃、−（ＣＨ₂）₅Ｆおよび−（ＣＦ₂）₄ＣＦ₃などである。

好ましいＷの具体的な例は、−ＣＦ₃、−ＣＨＦ₂、−ＣＨ₂Ｆ、−（ＣＨ₂）₂Ｆ、−ＣＦ₂ＣＨ₂Ｆ、−ＣＦ₂ＣＨＦ₂、−ＣＨ₂ＣＦ₃、−ＣＦ₂ＣＦ₃、−（ＣＨ₂）₃Ｆ、−（ＣＦ₂）₂ＣＦ₃、−ＣＦ₂ＣＨＦＣＦ₃、−ＣＨＦＣＦ₂ＣＦ₃、−（ＣＨ₂）₄Ｆ、−（ＣＦ₂）₃ＣＦ₃、−（ＣＨ₂）₅Ｆおよび−（ＣＦ₂）₄ＣＦ₃である。

さらに好ましいＷの具体的な例は、−ＣＦ₃、−ＣＨＦ₂、−ＣＨ₂Ｆ、−（ＣＨ₂）₂Ｆ、−ＣＦ₂ＣＨ₂Ｆ、−ＣＦ₂ＣＨＦ₂、−ＣＨ₂ＣＦ₃、−ＣＦ₂ＣＦ₃、−（ＣＨ₂）₃Ｆ、−（ＣＦ₂）₂ＣＦ₃、−ＣＦ₂ＣＨＦＣＦ₃、−ＣＨＦＣＦ₂ＣＦ₃、−（ＣＨ₂）₄Ｆ、−（ＣＦ₂）₃ＣＦ₃および−（ＣＨ₂）₅Ｆ、−（ＣＦ₂）₄ＣＦ₃である。

最も好ましいＷの具体的な例は、−ＣＦ₃、−ＣＨＦ₂、−ＣＨ₂Ｆ、−（ＣＨ₂）₂Ｆ、−ＣＦ₂ＣＨ₂Ｆ、−ＣＦ₂ＣＨＦ₂、−ＣＨ₂ＣＦ₃、−ＣＦ₂ＣＦ₃、−（ＣＨ₂）₃Ｆ、−（ＣＦ₂）₂ＣＦ₃、−ＣＦ₂ＣＨＦＣＦ₃および−ＣＨＦＣＦ₂ＣＦ₃である。

右末端基の結合する環構造において、Ｌ¹およびＬ²は独立して、水素またはフッ素である。

化合物（１）は、誘電率異方性が正に大きい。大きな誘電率異方性を有する化合物は、
組成物のしきい値電圧を下げるための成分として有用である。

化合物（１）における環構造としては、環Ａ¹は１，４−フェニレンであり、この環において任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよく、環Ａ²および環Ａ³は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、１，４−シクロヘキセニレン、ナフタレン−２，６−ジイル、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイルおよび１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイルであり、これらの環において任意の−ＣＨ₂−は、−Ｏ−、および−Ｓ−により置き換えられていてもよく、任意の−ＣＨ＝は、−Ｎ＝により置き換えられていてもよい。これらの環において任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよい。

「これらの環において任意の−ＣＨ₂−は、−Ｏ−、および−Ｓ−により置き換えられていてもよく、任意の−ＣＨ＝は、−Ｎ＝により置き換えられていてもよい」好ましい環の例は、下記の環（１５−１）〜（１５−３１）などである。さらに好ましい例は、環（１５−１）、（１５−２）、（１５−３）、（１５−４）、（１５−９）、（１５−１０）、（１５−１１）および（１５−１２）である。

「これらの環において任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよい」環の例は、下記の環（１６−１）〜（１６−３０）などである。好ましい例は、環（１６−１）、（１６−２）、（１６−３）および（１６−４）である。

好ましい環Ａ²およびＡ³の例は、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２，６−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２，３，５−トリフルオロ−１，４−フェニレン、ピリジン−２，５−ジイル、３−フルオロピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイルおよびピリダジン−３，６−ジイルである。１，４−シクロヘキシレンおよび１，３−ジオキサン−２，５−ジイルの立体配置はシスよりもトランスが好ましい。１，３−ジオキサン−２，５−ジイルは、４，６−ジオキサン−２，５−ジイルと構造的に同一であるので、後者は例示しなかった。この規則は、２−フルオロ−１，４−フェニレンと３−フルオロ−１，４−フェニレン、２，６−ジフルオロ−１，４−フェニレンと３，５−ジフルオロ−１，４−フェニレンの関係などにも適用される。

より好ましい環Ａ²およびＡ³の例は、１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２，６−ジフルオロ−１，４−フェニレン、ピリジン−２，５−ジイルおよびピリミジン−２，５−ジイルである。

最も好ましい環Ａ¹、Ａ²およびＡ³の例は、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，６−ジフルオロ−１，４−フェニレンである。

環Ａ¹、Ａ²およびＡ³のいずれかまたは全てが、任意の水素がハロゲンで置き換えられた１，４−フェニレン、ピリジン−２，５−ジイル、または１，３−ジオキサン−２，５−ジイルであるときは誘電率異方性が大きい。

環Ａ¹、Ａ²およびＡ³のいずれかまたは全てが、任意の水素がハロゲンで置き換えられてもよい１，４−フェニレンまたはピリジン−２，５−ジイルであるときは光学異方性が大きい。環Ａ¹、Ａ²およびＡ³のいずれかまたは全てが、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、または１，３−ジオキサン−２，５−ジイルであるときは光学異方性が小さい。

少なくとも二つの環が１，４−シクロヘキシレンであるときは、上限温度が高く、光学異方性が小さく、そして粘度が小さい。少なくとも一つの環が１，４−フェニレンのときは、光学異方性が比較的大きく、そして配向秩序パラメーター（orientational order parameter）が大きい。少なくとも二つの環が１，４−フェニレンであるときは、光学異方性が大きく、液晶相の温度範囲が広く、そして上限温度が高い。

化合物（１）における結合基である、Ｚ¹、Ｚ²およびＺ³は独立して、単結合、−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＯＣＦ₂−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−（ＣＨ₂）₄−、−Ｏ（ＣＨ₂）₂Ｏ−、−（ＣＨ₂）₂ＣＦ₂Ｏ−、−（ＣＨ₂）₂ＯＣＦ₂−、−ＣＦ₂Ｏ（ＣＨ₂）₂−、−ＯＣＦ₂（ＣＨ₂）₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ₂Ｏ−、または−ＯＣＨ₂−ＣＨ＝ＣＨ−を示す。−ＣＨ＝ＣＨ−のような結合基の二重結合に関する立体配置はシスよりもトランスが好ましい。

好ましいＺ¹、Ｚ²およびＺ³は、単結合、−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＯＣＦ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、および−Ｃ≡Ｃ−である。

さらに好ましいＺ¹、Ｚ²およびＺ³は、単結合、−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＯＣＦ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、および−Ｃ≡Ｃ−である。

最も好ましいＺ¹、Ｚ²およびＺ³は、単結合である。

結合基Ｚ¹、Ｚ²、またはＺ³のいずれかまたは全てが単結合、−（ＣＨ₂）₂−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＯＣＦ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−（ＣＨ₂）₂ＣＦ₂Ｏ−、−ＯＣＦ₂（ＣＨ₂）₂−、または−（ＣＨ₂）₄−であるときは粘度が小さい。結合基のいずれかまたは全てが単結合、−（ＣＨ₂）₂−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＯＣＦ₂−、または−ＣＨ＝ＣＨ−であるときは粘度がより小さい。結合基のいずれかまたは全てが、−ＣＨ＝ＣＨ−であるときは液晶相の温度範囲が広く、そして弾性定数比Ｋ₃₃／Ｋ₁₁（Ｋ₃₃：ベンド弾性定数、Ｋ₁₁：スプレイ弾性定数）が大きい。結合基のいずれかまたは全てが、−Ｃ≡Ｃ−のときは光学異方性が大きい。

化合物（１）が二環または三環を有するときは粘度が小さい。化合物（１）が三環または四環を有するときは上限温度が高い。以上のように、末端基、環構造および結合基の種類、環の数を適当に選択することにより目的の物性を有する化合物を得ることができる。したがって、化合物（１）はＰＣ、ＴＮ、ＳＴＮ、ＥＣＢ、ＯＣＢ、ＩＰＳ、ＶＡなどの素子に用いられる組成物の成分として有用である。

化合物（１）の好ましい例は、前記本発明の項１０に記載した化合物（１−ａ）〜（１−ｃ）である。より具体的な例は、下記の化合物（１−ａ−ｉ）〜（１−ｃ−ｉ）である。これらの化合物におけるＲ¹、Ｌ¹、Ｌ²、Ｘ¹、Ｚ¹、Ｚ²およびＺ³の記号の意味は、項１０に記載した記号の意味と同一である。Ｙ¹〜Ｙ⁶は、独立して、水素またはフッ素である。

さらに具体的な例は、下記の化合物（１−ａ−１）〜（１−ａ−３）、（１−ｂ−１）〜（１−ｂ−６）および（１−ｃ−１）〜（１−ｃ−８）である。これらの化合物におけるＲ¹、Ｌ¹、Ｌ²、Ｘ¹、Ｚ¹、Ｚ²およびＺ³の記号の意味は、項１０に記載した記号の意味と同一である。

他の具体的な例は、下記の化合物（１−１）〜（１−４８）である。これらの化合物におけるＲ¹、Ｌ¹、Ｌ²、Ｘ¹、Ｙ¹〜Ｙ⁶の記号の意味は、項１９に記載した記号の意味と同一である。

好ましい例は、下記の化合物（１−４９）〜（１−５１）である。これらの化合物におけるＬ¹、Ｌ²、Ｘ¹、Ｙ¹〜Ｙ³の記号の意味は、項２０に記載した記号の意味と同一である。

この明細書において構造が明らかにされた化合物（１）は有機合成化学における手法を適切に組み合わせることにより合成することができる。出発物に目的の末端基、環構造および結合基を導入する方法は、オーガニックシンセシス（Organic Syntheses, John Wiley & Sons, Inc）、オーガニック・リアクションズ（Organic Reactions, John Wiley & Sons, Inc)、コンプリヘンシブ・オーガニック・シンセシス（Comprehensive Organic Synthesis, Pergamon Press）、新実験化学講座（丸善）などの成書に記載されている。

結合基Ｚ¹、Ｚ²、またはＺ³を生成する方法の一例に関して、最初にスキームを示し、次に項（Ｉ）〜項（XI）でスキームを説明する。このスキームにおいて、ＭＳＧ¹またはＭＳＧ²は少なくとも一つの環を有する１価の有機基である。スキームで用いた複数のＭＳＧ¹（またはＭＳＧ²）は、同一であってもよいし、または異なってもよい。化合物（１Ａ）から（１Ｋ）は化合物（１）に相当する。

（Ｉ）単結合の生成
アリールホウ酸（２１）と公知の方法で合成される化合物（２２）とを、炭酸塩水溶液とテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウムのような触媒の存在下で反応させて化合物（１Ａ）を合成する。この化合物（１Ａ）は、公知の方法で合成される化合物（２３）にｎ−ブチルリチウムを、次いで塩化亜鉛を反応させ、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウムのような触媒の存在下で化合物（２２）を反応させることによっても合成される。

（II）−ＣＯＯ−と−ＯＣＯ−の生成
化合物（２３）にｎ−ブチルリチウムを、続いて二酸化炭素を反応させてカルボン酸（２４）を得る。化合物（２４）と、公知の方法で合成されるフェノール（２５）とをＤＤＣ（１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド）とＤＭＡＰ（４−ジメチルアミノピリジン）の存在下で脱水させて−ＣＯＯ−を有する化合物（１Ｂ）を合成する。この方法によって−ＯＣＯ−を有する化合物も合成する。

（III）−ＣＦ₂Ｏ−と−ＯＣＦ₂−の生成
化合物（１Ｂ）をローソン試薬のような硫黄化剤で処理して化合物（２６）を得る。化合物（２６）をフッ化水素ピリジン錯体とＮＢＳ（Ｎ−ブロモスクシンイミド）でフッ素化し、−ＣＦ₂Ｏ−を有する化合物（１Ｃ）を合成する。さらにM. Kuroboshi et al., Chem. Lett., 1992，827.を参照。化合物（１Ｃ）は化合物（２６）を（ジエチルアミノ）サルファートリフルオリド（ＤＡＳＴ）でフッ素化しても合成される。さらにW. H. Bunnelle et al., J. Org. Chem. 1990, 55, 768.を参照。この方法によって−ＯＣＦ₂−を有する化合物も合成する。Peer. Kirsch et al., Anbew. Chem. Int. Ed. 2001, 40, 1480.に記載の方法によってこれらの結合基を生成させることも可能である。

（IV）−ＣＨ＝ＣＨ−の生成
化合物（２３）をｎ−ブチルリチウムで処理した後、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）などのホルムアミドと反応させてアルデヒド（２８）を得る。公知の方法で合成されるホスホニウム塩（２７）をカリウムｔｅｒｔ−ブトキシドのような塩基で処理して発生させたリンイリドを、アルデヒド（２８）に反応させて化合物（１Ｄ）を合成する。反応条件によってはシス体が生成するので、必要に応じて公知の方法によりシス体をトランス体に異性化する。

（V）−（ＣＨ₂）₂−の生成
化合物（１Ｄ）をパラジウム炭素のような触媒の存在下で水素化することにより、化合物（１Ｅ）を合成する。

（VI）−（ＣＨ₂）₄−の生成
ホスホニウム塩（２７）の代わりにホスホニウム塩（２９）を用い、項（IV）の方法に従って−（ＣＨ₂）₂−ＣＨ＝ＣＨ−を有する化合物を得る。これを接触水素化して化合物（１Ｆ）を合成する。

（VII）−Ｃ≡Ｃ−の生成
ジクロロパラジウムとハロゲン化銅との触媒存在下で、化合物（２３）に２−メチル−３−ブチン−２−オールを反応させたのち、塩基性条件下で脱保護して化合物（３０）を得る。ジクロロパラジウムとハロゲン化銅との触媒存在下、化合物（３０）を化合物（２２）と反応させて、化合物（１Ｇ）を合成する。

（VIII）−ＣＦ＝ＣＦ−の生成
化合物（２３）をｎ−ブチルリチウムで処理したあと、テトラフルオロエチレンを反応させて化合物（３１）を得る。化合物（２２）をｎ−ブチルリチウムで処理したあと化合物（３１）と反応させて化合物（１Ｈ）を合成する。

（IX）−ＣＨ₂Ｏ−または−ＯＣＨ₂−の生成
化合物（２８）を水素化ホウ素ナトリウムなどの還元剤で還元して化合物（３２）を得る。これを臭化水素酸などでハロゲン化して化合物（３３）を得る。炭酸カリウムなどの存在下で、化合物（３３）を化合物（２５）と反応させて化合物（１Ｊ）を合成する。

（X）−（ＣＨ₂）₃Ｏ−または−Ｏ（ＣＨ₂）₃−の生成
化合物（２８）の代わりに化合物（３４）を用いて、項（IX）の方法に従って化合物（１Ｋ）を合成する。

次に式（Ｔ−１）で表される化合物にアルカジエニル基を導入する方法の具体例を下記のスキームに示す。ただし、下記反応経路においてR¹、A¹、A²、A³、Z¹、Z²、Z³、L¹、L²、Ｘ¹、n、m、ｐは前記と同一の意味を示す。

特公平７−２６５３号、特公平７−２６５４号、特開平５−２８６８７３号および特願平７−３１００３９号等の方法に準じて製造したアルデヒド体（Ｔ−１）を製造する。ついで、製造したアルデヒド体（Ｔ−１）にアルケニルハライドのホスホニウム塩（Ｔ−５）とカリウム−ｔ−ブトキシドから調整したイリドを作用させてシスオレフィン（Ｔ−２）を製造する。

シスオレフィン（Ｔ−２）にメタクロロ過安息香酸（Ｔ−６）を作用させてエポキシド（Ｔ−３）に変換した後、このエポキシド（Ｔ−３）にジブロモトリフェニルホスホラン（Ｔ−７）を作用させてａｎｔｉ−ジブロミド（Ｔ−４）とし、次いで還元的に脱臭素反応を行い本発明の化合物（１）を製造することができる。

第二に、本発明の組成物をさらに説明する。この組成物の成分は化合物（１）から選ばれた２種類以上の複数の化合物のみであってもよい。好ましい組成物は化合物（１）から選択された少なくとも一つの化合物を１〜９９％の割合で含有する。この組成物は、さらに、化合物（２）〜（１４）の群から選択された成分を含有することができる。組成物を調製するときには、化合物（１）の誘電率異方性を考慮して成分を選択する。

誘電率異方性が正に大きい化合物（１）を含有する好ましい組成物は次のとおりである。この好ましい組成物は化合物（２）、（３）および（４）の群から選択された少なくとも一つの化合物を含有する。別の好ましい組成物は、化合物（５）および（６）の群から選択された少なくとも一つの化合物を含有する。別の好ましい組成物は、このような二つの群のそれぞれから選択された少なくとも二つの化合物を含有する。これらの組成物は、液晶相の温度範囲、粘度、光学異方性、誘電率異方性、しきい値電圧などを調整する目的で、化合物（１２）、（１３）および（１４）の群から選択された少なくとも一つの化合物をさらに含有してもよい。これらの組成物は、物性をさらに調整する目的で、化合物（７）〜（１１）の群から選択された少なくとも一つの化合物をさらに含有してもよい。これらの組成物は、ＡＭ−ＴＮ素子、ＳＴＮ素子などに適合させる目的で、その他の液晶性化合物、添加物などの化合物をさらに含有してもよい。

別の好ましい組成物は化合物（１２）、（１３）および（１４）の群から選択された少なくとも一つの化合物を含有する。この組成物は、物性をさらに調整する目的で、化合物（７）〜（１１）の群から選択された少なくとも一つの化合物をさらに含有してもよい。この組成物は、ＡＭ−ＴＮ素子、ＳＴＮ素子などに適合させる目的で、その他の液晶性化合物、添加物などの化合物をさらに含有してもよい。

誘電率異方性が小さい化合物（１）を含有する好ましい組成物は次のとおりである。好ましい組成物は化合物（２）、（３）および（４）の群から選択された少なくとも一つの化合物を含有する。別の好ましい組成物は、化合物（５）および（６）の群から選択された少なくとも一つの化合物を含有する。別の好ましい組成物は、このような二つの群のそれぞれから選択された少なくとも二つの化合物を含有する。これらの組成物は、液晶相の温度範囲、粘度、光学異方性、誘電率異方性、しきい値電圧などを調整する目的で、化合物（１２）、（１３）および（１４）の群から選択された少なくとも一つの化合物をさらに含有してもよい。この組成物は、物性をさらに調整する目的で、化合物（７）〜（１１）の群から選択された少なくとも一つの化合物をさらに含有してもよい。この組成物は、ＡＭ−ＴＮ素子、ＳＴＮ素子などに適合させる目的で、その他の液晶性化合物、添加物などの化合物をさらに含有してもよい。

別の好ましい組成物は、化合物（７）〜（１１）の群から選択された少なくとも一つの化合物を含有する。この組成物は、化合物（１２）、（１３）および（１４）の群から選択された少なくとも一つの化合物をさらに含有してもよい。この組成物は、物性をさらに調整する目的で、化合物（２）〜（６）の群から選択された少なくとも一つの化合物をさらに含有してもよい。この組成物は、ＶＡ素子などに適合させる目的で、その他の液晶性化合物、添加物などの化合物をさらに含有してもよい。

化合物（２）、（３）および（４）は、誘電率異方性が正に大きいので、ＡＭ−ＴＮ素
子用の組成物に主として用いられる。この組成物において、これらの化合物の量は１〜９９％である。好ましい量は１０〜９７％である。より好ましい量は４０〜９５％である。この組成物に化合物（１２）、（１３）または（１４）をさらに添加する場合、この化合物の好ましい量は６０％以下である。より好ましい量は４０％以下である。

化合物（５）および（６）は、誘電率異方性が正に非常に大きいので、ＳＴＮ素子用の組成物に主として用いられる。この組成物において、これらの化合物の量は１〜９９％である。好ましい量は１０〜９７％である。より好ましい量は４０〜９５％である。この組成物に化合物（１２）、（１３）または（１４）をさらに添加する場合、この化合物の好ましい量は６０％以下である。より好ましい量は４０％以下である。

化合物（７）、（８）、（９）、（１０）、および（１１）は、誘電率異方性が負であるので、ＶＡ素子用の組成物に主として用いられる。これらの化合物の好ましい量は８０％以下である。より好ましい量は４０〜８０％である。この組成物に化合物（１２）、（１３）または（１４）をさらに添加する場合、この化合物の好ましい量は６０％以下である。より好ましい量は４０％以下である。

化合物（１２）、（１３）および（１４）の誘電率異方性は小さい。化合物（１２）は粘度または光学異方性を調整する目的で主に使用される。化合物（１３）および（１４）は上限温度を上げて液晶相の温度範囲を広げる、または光学異方性を調整する目的で使用される。化合物（１２）、（１３）および（１４）の量を増加させると組成物のしきい値電圧が高くなり、粘度が小さくなる。したがって、組成物のしきい値電圧の要求値を満たすかぎり多量に使用してもよい。

好ましい化合物（２）〜（１４）は、例えば、それぞれ化合物（２−１）〜（２−９）、化合物（３−１）〜（３−９７）、化合物（４−１）〜（４−３３）、化合物（５−１）〜（５−５６）、化合物（６−１）〜（６−３）、化合物（７−１）〜（７−４）、化合物（８−１）〜（８−６）、化合物（９−１）〜（９−４）、化合物（１０−１）、化合物（１１−１）、化合物（１２−１）〜（１２−１１）、化合物（１３−１）〜（１３−２１）、および化合物（１４−１）〜（１４−６）である。これらの化合物において、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｘ²、およびＸ³の記号の意味は、化合物（２）〜（１４）におけるこれらの記号の意味と同一である。

本発明の組成物は公知の方法によって調製される。例えば、成分である化合物を混合し、加熱によって互いに溶解させる。組成物に適当な添加物を加えて組成物の物性を調整してもよい。このような添加物は当業者によく知られている。メロシアニン、スチリル、アゾ、アゾメチン、アゾキシ、キノフタロン、アントラキノン、テトラジンなどの化合物である二色性色素を添加してＧＨ素子用の組成物を調製してもよい。一方、液晶のらせん構造を誘起して必要なねじれ角を与える目的でキラルドーパントが添加される。キラルドーパントの例は、例えば、下記の光学活性化合物（Ｏｐ−１）〜（Ｏｐ−１３）である。

キラルドーパントを組成物に添加してねじれのピッチを調整する。ＴＮ素子およびＴＮ−ＴＦＴ素子用の好ましいピッチは４０〜２００μｍの範囲である。ＳＴＮ素子用の好ましいピッチは６〜２０μｍの範囲である。ＢＴＮ素子用の好ましいピッチは１．５〜４μｍの範囲である。ＰＣ素子用の組成物にはキラルドーパントを比較的多量に添加する。ピ
ッチの温度依存性を調整する目的で少なくとも二つのキラルドーパントを添加してもよい。

本発明の組成物は、ＰＣ、ＴＮ、ＳＴＮ、ＢＴＮ，ＥＣＢ、ＯＣＢ、ＩＰＳ、ＶＡなどの素子に使用できる。これらの素子は駆動方式がＰＭであってもよいし、またはＡＭであってもよい。この組成物をマイクロカプセル化して作製したＮＣＡＰ（nematic curvilinear aligned phase）素子や、組成物中に三次元の網目状高分子を形成させたＰＤ（polymer dispersed）素子、例えばＰＮ（polymer network）素子にも使用できる。

以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明する。しかしながら、本発明はこれらの実施例によって制限されない。得られた化合物はＮＭＲスペクトル、質量スペクトルなどで構造を同定した。これらによる測定方法は後述する方法に従った。

¹Ｈ−ＮＭＲ分析：測定は、ＤＲＸ−５００（ブルカーバイオスピン（株）製）を用いた。ＣＤＣｌ₃など重水素化されたサンプルが可溶な溶媒に溶解させた溶液を、室温にて核磁気共鳴装置を用いて測定した。なお、δ値のゼロ点の基準物質にはテトラメチルシラン（ＴＭＳ）を用いた。

ガスクロマトグラフ分析：測定には島津製作所製のＧＣ−１４Ｂ型ガスクロマトグラフを用いた。キャリアーガスはヘリウム（２ｍｌ／分）である。試料気化室を２８０℃に、検出器（ＦＩＤ）を３００℃に設定した。成分化合物の分離には、Agilent TechnologiesInc.製のキャピラリカラムＤＢ−１（長さ３０ｍ、内径０．３２ｍｍ、膜厚０．２５μｍ；固定液相はジメチルポリシロキサン；無極性）を用いた。このカラムは、１８０℃で２分間保持したあと、５℃／分の割合で２８０℃まで昇温した。試料はアセトン溶液（０．１質量％）に調製したあと、その１μｌを試料気化室に注入した。記録計は島津製作所製のＣ−Ｒ５Ａ型Chromatopac、またはその同等品である。得られたガスクロマトグラムは、成分化合物に対応するピークの保持時間およびピークの面積を示した。

［実施例１］
３，４，５，２′−テトラフルオロ−４″−オクタ−３，７−ジエニル−［１，１′，４′，１″］ターフェニル（１−ｂ−２−２）を下記に示す合成スキームに従って合成した。

３′−フルオロ−ビフェニル−４−カルバルデヒド（Ｔ−８）の合成
４−ブロモベンズアルデヒド （３２．０ｇ）、３−フルオロフェニルボロン酸（２５．４ｇ）、炭酸カリウム（４７．７ｇ）およびＰｄ（ＰＰｈ₃）₂Ｃｌ₂ （１．２１ｇ）をソルミックス （４００ｍｌ）に溶解させ、窒素雰囲気下４時間加熱還流した。反応終了後セライトろ過し、ろ液をトルエンにて抽出した。有機層を2N水酸化ナトリウム水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水および飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して黒色油状物を得た。このものをヘプタン−トルエンにて再結晶することにより、３′−フルオロ−ビフェニル−４−カルバルデヒド（Ｔ−８）を淡黄色粉末として（２５．３ｇ）得た。

（Ｔ−１０）の合成
１時間真空乾燥したホスホニウム塩 （Ｔ−９）（５１．４ｇ）に乾燥テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（２００ｍｌ）を加え、−７０℃まで冷却した。窒素雰囲気下カリウム−ｔ−ブトキシド（１３．４ｇ）を少量ずつ分割して加え１時間撹拌した。その後３′−フルオロ−ビフェニル−４−カルバルデヒド（２０．０ｇ）のｄｒｙＴＨＦ溶液を−７０℃でゆっくりと滴下し、室温まで昇温して４時間撹拌した。反応終了後トルエンにて抽出し
、水、飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して淡黄色固体を得た。このものをシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘプタン：酢酸エチル＝２０：１（容量比）)、及びヘプタンにて再結晶することにより、（Ｔ−１０）を白色粉末として（１６．９ｇ）得た。

（Ｔ−１１）の合成
上記操作で得られた化合物（Ｔ−１０）（１６．３ｇ）をトルエン（１００ｍｌ）、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）（１００ｍｌ）に溶解させ、窒素雰囲気下Ｐｄ−Ｃ（ＮＸタイプ）（０．５０ｇ）を加えた後、反応系内を水素置換して室温で１４時間撹拌した。反応終了後Ｐｄ−Ｃをろ別し減圧濃縮して淡黒色固体を得た。このものをヘプタンにて再結晶することにより、（Ｔ−１１）を白色粉末として（１５．２ｇ）得た。

（Ｔ−１２）の合成
上記操作で得られた化合物（Ｔ−１１）（３０．０ｇ）をｄｒｙＴＨＦ（４００ｍｌ）に溶解させ、−７０℃まで冷却した後、ｓｅｃ−ＢｕＬｉ（２１９ｍｌ）をゆっくりと滴下し、そのまま１時間撹拌した。その後ヨウ素 （１４．０ｇ）のｄｒｙＴＨＦ（１４０ｍｌ）溶液をゆっくりと滴下し、室温まで昇温して３時間撹拌した。反応終了後、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液を加えトルエンにて抽出した。有機層を水、飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して淡黄色固体を得た。このものをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝４：１（容量比））、および再結晶（ヘプタン：トルエン＝４：１（容量比））することにより、（Ｔ−１２）を白色粉末として（３０．０ｇ）得た。

（Ｔ−１３）の合成
上記操作で得られた化合物（Ｔ−１２）（１５．０ｇ）、３，４，５−トリフルオロフェニルボロン酸（７．９６ｇ）、Ｐｄ−Ｃ（ＮＸタイプ）（０．１６ｇ）および炭酸カリウム（１０．４ｇ）にトルエン（７５ｍｌ）、ソルミックス（７５ｍｌ）および水（３．８ｍｌ）を加え窒素雰囲気下５時間加熱還流した。反応終了後Ｐｄ−Ｃをろ別し、ろ液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水および飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して淡黄色固体を得た。このものをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝４：１（容量比））、および再結晶（ヘプタン：トルエン＝４：１（容量比））することにより、（Ｔ−１３）を白色粉末として（１３．９ｇ）得た。

（Ｔ−１４）の合成
上記操作で得られた化合物（Ｔ−１３）（１３．９ｇ）をギ酸 （２．２５ｍｌ）、トルエン１４０ｍｌに溶解させ、窒素雰囲気下６時間加熱還流した。反応の進行が遅いため、途中でギ酸（２．２５ｍｌ）を6回追加した。反応終了後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を撹拌しながら少しずつ加え、トルエンにて抽出した。有機層を水、飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して淡黄色固体を得た。このものを再結晶（ヘプタン：トルエン＝４：１（容量比））することにより、（Ｔ−１４）を白色粉末として（１０．７ｇ）得た。

（Ｔ−１６）の合成
１時間真空乾燥したホスホニウム塩（Ｔ−１５）（１４．８ｇ）にｄｒｙＴＨＦ２００ｍｌを加え、−７０℃まで冷却した。窒素雰囲気下カリウム−ｔ−ブトキシド（４．０３ｇ）を分割して少量ずつ加え１時間撹拌した。その後、上記操作で得られた化合物（Ｔ−１４）（１０．７ｇ）のｄｒｙＴＨＦ溶液をゆっくりと滴下し、室温まで昇温して４時間撹拌した。反応終了後氷冷し撹拌しながら水を加え、トルエンにて抽出した。有機層を水、飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮
して淡黄色固体を得た。このものをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝２０：１（容量比））、およびヘプタンにて再結晶することにより、（Ｔ−１６）を白色粉末として（１０．５ｇ）得た。

（Ｔ−１７）の合成
上記操作で得られた化合物（Ｔ−１６）（１０．５ｇ）に、炭酸カリウム （８．８３ｇ）、ジクロロメタン（２００ｍｌ）を加え氷冷した後、メタクロロ過安息香酸（ｍＣＰＢＡ）（４．８６ｇ）を加え、窒素雰囲気下室温にて１４時間撹拌した。反応の進行が遅いため、途中でｍＣＰＢＡ（２．４３ｇ）を６回追加した。反応終了後、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液を加えジクロロメタンにて抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して（Ｔ−１７）を黒色油状物として（１０．８ｇ）得た。

（Ｔ−１８）の合成
上記操作で得られた化合物（Ｔ−１７）（１０．８ｇ）に、トリフェニルホスフィンジブロミド（１６．０ｇ）、トルエン（２００ｍｌ）を加え、窒素雰囲気下８時間加熱還流した。反応終了後、トルエンにて抽出し、水、飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して黒黄色油状物を得た。このものをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝４：１（容量比））にて精製することにより、（Ｔ−１８）を黄色油状物として（９．９４ｇ）得た。

３，４，５，２′−テトラフルオロ−４″−オクタ−３，７−ジエニル−［１，１′，４′，１″］ターフェニルの合成
上記操作で得られた化合物（Ｔ−１８）（９．９４ｇ）を酢酸（１００ｍｌ）に溶解させ、亜鉛粉末（５．７０ｇ）を分割して少量ずつ加えた後、窒素雰囲気下室温で３時間撹拌した。反応終了後、不溶物をろ別し、ヘプタンにて抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して黒茶色油状物を得た。このものをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：トルエン＝４０：１（容量比））、及びヘプタンにて再結晶することにより、表題化合物（１−ｂ−２−２）を白色粉末として（３．１ｇ）得た。

物性値は下記組成例の項に記載した様に、１５質量％の化合物および８５質量％の母液晶を混合することによって試料を調製し、測定によって得られた値から外挿法によって算出した。外挿値＝（試料の測定値−０．８５×母液晶の測定値）／０．１５。物性値は、Δε=12.3, Δn=0.250, η=44.6mPa・s, C 33.3 S_A 78.9 N 118.5 Iである。

［実施例２］
４−クロロ−３，２′−ジフルオロ−４″−オクタ−３，７−ジエニル−［１，１′，４′，１″］ターフェニル（１−ｂ−２−１）を実施例１に示した方法と同様にして、上記操作で得られた化合物（Ｔ−１２）（２１．０ｇ）および３−クロロ−４−フルオロフェニルボロン酸（１０．５ｇ）より、白色粉末として（３．０ｇ）得た。

物性値は下記組成例の項に記載した様に、１５質量％の化合物および８５質量％の母液晶を混合することによって試料を調製し、測定によって得られた値から外挿法によって算出した。外挿値＝（試料の測定値−０．８５×母液晶の測定値）／０．１５。物性値は、Δε=17.4, Δn=0.197, η=46.3mPa・s, C 37.0 N 55.8 Iである。

［実施例３］
４′−フルオロ−４−オクタ−３，７−ジエニル−ビフェニル（１−ａ−１−１）を下記に示す合成スキームに従って合成した。

４′−フルオロ−ビフェニル−４−カルバルデヒド（Ｔ−１９）の合成
４−ブロモベンズアルデヒド （３７．０ｇ）、４−フルオロフェニルボロン酸（２９．４ｇ）、炭酸カリウム（４１．４ｇ）およびＰｄ（ＰＰｈ₃）₂Ｃｌ₂ （１．４０ｇ）をソルミックス （４００ｍｌ）に溶解させ、窒素雰囲気下４時間加熱還流した。反応終了後セライトろ過し、ろ液をトルエンにて抽出した。有機層を2N水酸化ナトリウム水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水および飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して黒色油状物を得た。このものをヘプタン−トルエンにて再結晶することにより、４′−フルオロ−ビフェニル−４−カルバルデヒド（Ｔ−１９）を淡黄色粉末として（２５．３ｇ）得た。

（Ｔ−２１）の合成
１時間真空乾燥したホスホニウム塩 （Ｔ−２０）（６５．４ｇ）に乾燥テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（３００ｍｌ）を加え、−７０℃まで冷却した。窒素雰囲気下カリウム−ｔ−ブトキシド（２５．３ｇ）を少量ずつ分割して加え１時間撹拌した。その後４′−フルオロ−ビフェニル−４−カルバルデヒド（Ｔ−１９）（２５．３ｇ）のｄｒｙＴＨＦ溶液を−７０℃でゆっくりと滴下し、室温まで昇温して４時間撹拌した。反応終了後トルエンにて抽出し、水、飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して淡黄色固体を得た。このものをシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘプタン：酢酸エチル＝２０：１（容量比）)、及びヘプタンにて再結晶することにより、（Ｔ−２１）を白色粉末として（２７．５ｇ）得た。

（Ｔ−２２）の合成
上記操作で得られた化合物（Ｔ−２１）（２７．５ｇ）をトルエン（１５０ｍｌ）、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）（１５０ｍｌ）に溶解させ、窒素雰囲気下Ｐｄ−Ｃ（ＮＸタイプ）（０．８３ｇ）を加えた後、反応系内を水素置換して室温で１４時間撹拌した。反応終了後Ｐｄ−Ｃをろ別し減圧濃縮して淡黒色固体を得た。このものをヘプタンにて再結晶することにより、（Ｔ−２２）を白色粉末として（２７．３ｇ）得た。

（Ｔ−２３）の合成
上記操作で得られた化合物（Ｔ−２２）（２７．３ｇ）をギ酸 （１６．０ｍｌ）、トルエン２００ｍｌに溶解させ、窒素雰囲気下６時間加熱還流した。反応の進行が遅いため、途中でギ酸（８．０ｍｌ）を２回追加した。反応終了後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を撹拌しながら少しずつ加え、トルエンにて抽出した。有機層を水、飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して淡黄色固体を得た。このものを再結晶（ヘプタン：トルエン＝４：１）することにより、（Ｔ−２３）を白色粉末として（２１．６ｇ）得た。

（Ｔ−２５）の合成
１時間真空乾燥したホスホニウム塩（Ｔ−２４）（４６．６ｇ）にｄｒｙＴＨＦ３００ｍｌを加え、−７０℃まで冷却した。窒素雰囲気下カリウム−ｔ−ブトキシド（１３．５ｇ）を分割して少量ずつ加え１時間撹拌した。その後、上記操作で得られた化合物（Ｔ−１４）（２１．６ｇ）のｄｒｙＴＨＦ溶液をゆっくりと滴下し、室温まで昇温して４時間撹拌した。反応終了後氷冷し撹拌しながら水を加え、トルエンにて抽出した。有機層を水、飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して淡黄色固体を得た。このものをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝２０：１（容量比））、およびヘプタンにて再結晶することにより、（Ｔ−２５）を白色粉末として（２３．５ｇ）得た。

（Ｔ−２６）の合成
上記操作で得られた化合物（Ｔ−２５）（２３．５ｇ）に、炭酸カリウム （２８．９ｇ）、ジクロロメタン（３００ｍｌ）を加え氷冷した後、メタクロロ過安息香酸（ｍＣＰＢＡ）（２１．７ｇ）を加え、窒素雰囲気下室温にて１４時間撹拌した。反応の進行が遅いため、途中でｍＣＰＢＡ（１０．９ｇ）を３回追加した。反応終了後、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液を加えジクロロメタンにて抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して（Ｔ−２６）を黒色油状物として（１６．８ｇ）得た。

（Ｔ−２７）の合成
上記操作で得られた化合物（Ｔ−２６）（１６．８ｇ）に、トリフェニルホスフィンジブロミド（３５．８ｇ）、トルエン（３００ｍｌ）を加え、窒素雰囲気下８時間加熱還流した。反応終了後、トルエンにて抽出し、水、飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して黒黄色油状物を得た。このものをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：トルエン＝２０：１（容量比））にて精製することにより、（Ｔ−２７）を黄色油状物として（７．４７ｇ）得た。

４′−フルオロ−４−オクタ−３，７−ジエニル−ビフェニル（１−ａ−１−１）の合成
上記操作で得られた化合物（Ｔ−２７）（７．４７ｇ）を酢酸（１００ｍｌ）に溶解させ、亜鉛粉末（５．５６ｇ）を分割して少量ずつ加えた後、窒素雰囲気下室温で３時間撹拌した。反応終了後、不溶物をろ別し、ヘプタンにて抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して黒茶色油状物を得た。このものをシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（ヘプタン：トルエン＝４０：１（容量比））にて精製することにより表題化合物を無色粘性液体として（１．５ｇ）得た。

化合物の物性値を表１に示す。物性値は上記実施例１および２と同様にして測定した。

［実施例４］
４′−クロロ−４−オクタ−３，７−ジエニル−ビフェニル（１−ａ−１−２）を実施例３に示した方法と同様にして、４−ブロモベンズアルデヒド （３７．０ｇ）および４−クロロフェニルボロン酸（３２．８ｇ）より、白色粉末として（１．１ｇ）得た。

化合物の物性値を表１に示す。物性値は上記実施例１および２と同様にして測定した。

［実施例５］
３，４，５，２′−テトラフルオロ−４′−オクタ−３，７−ジエニル−ビフェニル（１−ａ−２−２）を下記に示す合成スキームに従って合成した。

（Ｔ−２８）の合成
１時間真空乾燥したホスホニウム塩 （Ｔ−９）（６５．４ｇ）に乾燥テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（３００ｍｌ）を加え、−７０℃まで冷却した。窒素雰囲気下カリウム−ｔ−ブトキシド（２５．３ｇ）を少量ずつ分割して加え１時間撹拌した。その後３−フルオロベンズアルデヒド（１７．８ｇ）のｄｒｙＴＨＦ溶液を−７０℃でゆっくりと滴下し、室温まで昇温して４時間撹拌した。反応終了後トルエンにて抽出し、水、飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して淡黄色固体を得た。このものをシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘプタン：酢酸エチル＝２０：１（容量比）)、及びヘプタンにて再結晶することにより、（Ｔ−２８）を白色粉末として（１９．８ｇ）得た。

（Ｔ−２９）の合成
上記操作で得られた化合物（Ｔ−２８）（１９．８ｇ）をトルエン（１５０ｍｌ）、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）（１５０ｍｌ）に溶解させ、窒素雰囲気下Ｐｄ−Ｃ（ＮＸタイプ）（０．８９ｇ）を加えた後、反応系内を水素置換して室温で１４時間撹拌した。反応終了後Ｐｄ−Ｃをろ別し減圧濃縮して淡黒色固体を得た。このものをヘプタンにて再結晶することにより、（Ｔ−２９）を白色粉末として（１９．６ｇ）得た。

（Ｔ−３０）の合成
上記操作で得られた化合物（Ｔ−２９）（１９．６ｇ）をｄｒｙＴＨＦ（４００ｍｌ）に溶解させ、−７０℃まで冷却した後、ｓｅｃ−ＢｕＬｉ（１１９ｍｌ）をゆっくりと滴下し、そのまま１時間撹拌した。その後ヨウ素 （１５．２ｇ）のｄｒｙＴＨＦ（１５０ｍｌ）溶液をゆっくりと滴下し、室温まで昇温して３時間撹拌した。反応終了後、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液を加えトルエンにて抽出した。有機層を水、飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して淡黄色固体を得た。このものをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝４：１（容量比））、およびヘプタン／トルエン＝４／１（容量比）混合溶媒にて再結晶することにより、（Ｔ−３０）を白色粉末として（２１．９ｇ）得た。

（Ｔ−３１）の合成
上記操作で得られた化合物（Ｔ−３０）（２１．９ｇ）、３，４，５−トリフルオロフェニルボロン酸（１４．４ｇ）、Ｐｄ−Ｃ（ＮＸタイプ）（０．１５ｇ）および炭酸カリウム（１８．８ｇ）にトルエン（１００ｍｌ）、ソルミックス（１００ｍｌ）および水（５．０ｍｌ）を加え窒素雰囲気下５時間加熱還流した。反応終了後Ｐｄ−Ｃをろ別し、ろ液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水および飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して淡黄色固体を得た。このものをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝４：１（容量比））、およびヘプタン／トルエン＝４／１（容量比）混合溶媒にて再結晶することにより、（Ｔ−３１）を白色粉末として（１９．１ｇ）得た。

（Ｔ−３２）の合成
上記操作で得られた化合物（Ｔ−３１）（１９．１ｇ）をギ酸 （１６．０ｍｌ）、トルエン２００ｍｌに溶解させ、窒素雰囲気下６時間加熱還流した。反応の進行が遅いため、途中でギ酸（８．０ｍｌ）を３回追加した。反応終了後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を撹拌しながら少しずつ加え、トルエンにて抽出した。有機層を水、飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して淡黄色固体を得た。このものをヘプタン／トルエン＝４／１（容量比）混合溶媒にて再結晶することにより、（Ｔ−３１）を白色粉末として（１４．４ｇ）得た。

（Ｔ−３４）の合成
１時間真空乾燥したホスホニウム塩（Ｔ−３３）（２５．０ｇ）にｄｒｙＴＨＦ２００
ｍｌを加え、−７０℃まで冷却した。窒素雰囲気下カリウム−ｔ−ブトキシド（６．８４ｇ）を分割して少量ずつ加え１時間撹拌した。その後、上記操作で得られた化合物（Ｔ−３２）（１４．４ｇ）のｄｒｙＴＨＦ溶液をゆっくりと滴下し、室温まで昇温して４時間撹拌した。反応終了後氷冷し撹拌しながら水を加え、トルエンにて抽出した。有機層を水、飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して淡黄色固体を得た。このものをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝２０：１（容量比））、およびヘプタンにて再結晶することにより、（Ｔ−３４）を白色粉末として（１４．５ｇ）得た。

（Ｔ−３５）の合成
上記操作で得られた化合物（Ｔ−３４）（１４．５ｇ）に、炭酸カリウム （１４．９ｇ）、ジクロロメタン（２００ｍｌ）を加え氷冷した後、メタクロロ過安息香酸（ｍＣＰＢＡ）（８．２２ｇ）を加え、窒素雰囲気下室温にて１４時間撹拌した。反応の進行が遅いため、途中でｍＣＰＢＡ（４．１１ｇ）を２回追加した。反応終了後、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液を加えジクロロメタンにて抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して（Ｔ−３５）を黒色油状物として（１０．１ｇ）得た。

（Ｔ−３６）の合成
上記操作で得られた化合物（Ｔ−３５）（１０．１ｇ）に、トリフェニルホスフィンジブロミド（１８．２ｇ）、トルエン（２００ｍｌ）を加え、窒素雰囲気下８時間加熱還流した。反応終了後、トルエンにて抽出し、水、飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して黒黄色油状物を得た。このものをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：トルエン＝２０：１（容量比））により精製することにより、（Ｔ−３６）を黄色油状物として（４．２７ｇ）得た。

３，４，５，２′−テトラフルオロ−４′−オクタ−３，７−ジエニル−ビフェニル（１−ａ−２−２）の合成
上記操作で得られた化合物（Ｔ−３６）（４．２７ｇ）を酢酸（１００ｍｌ）に溶解させ、亜鉛粉末（０．８５ｇ）を分割して少量ずつ加えた後、窒素雰囲気下室温で３時間撹拌した。反応終了後、不溶物をろ別し、ヘプタンにて抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して黒茶色油状物を得た。このものをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：トルエン＝４０：１（容量比））にて精製することにより、表題化合物を無色粘性液体として（１．２ｇ）得た。

化合物の物性値を表２に示す。物性値は上記実施例１および２と同様にして測定した。

［実施例６］
４−クロロ−３，２′−ジフルオロ−４′−オクタ−３，７−ジエニル−ビフェニル（１−ａ−２−１）を実施例５に示した方法と同様にして、上記操作で得られた化合物（Ｔ−３０）（２１．９ｇ）および３−クロロ−４−フルオロフェニルボロン酸（１４．２ｇ）より、無色粘性液体として（１．４ｇ）得た。

化合物の物性値を表２に示す。物性値は上記実施例１および２と同様にして測定した。

［実施例７］
４，２′，６′−トリフルオロ−４″−オクタ−３，７−ジエニル−［１，１′，４′，１″］ターフェニル（１−ｂ−３−１）を実施例１に示した方法と同様にして、４−ブロモベンズアルデヒド （３８．５ｇ）、４−フルオロフェニルボロン酸（２１．０ｇ）
および３，５−ジフルオロフェニルボロン酸（３９．５ｇ）より、白色粉末として（１．８ｇ）得た。

［実施例８］
４−クロロ−２′，６′−ジフルオロ−４″−オクタ−３，７−ジエニル−［１，１′，４′，１″］ターフェニル（１−ｂ−３−２）を実施例１に示した方法と同様にして、４−ブロモベンズアルデヒド （３０．８ｇ）、４−クロロフェニルボロン酸（２３．４ｇ）および３，５−ジフルオロフェニルボロン酸（３１．６ｇ）より、白色粉末として（１．５ｇ）得た。

［実施例９］
３，４，５，２′，６′−ペンタフルオロ−４″−オクタ−３，７−ジエニル−［１，１′，４′，１″］ターフェニル（１−ｂ−３−５）を実施例１に示した方法と同様にして、４−ブロモベンズアルデヒド （３０．８ｇ）、３，４，５−トリフルオロフェニルボロン酸（１７．６ｇ）および３，５−ジフルオロフェニルボロン酸（３１．６ｇ）より、白色粉末として（１．７ｇ）得た。

［実施例１０］
４−クロロ−３，５，２′，６′−テトラフルオロ−４″−オクタ−３，７−ジエニル−［１，１′，４′，１″］ターフェニル（１−ｂ−３−６）を実施例１に示した方法および記載した合成法と同様にして、４−ブロモベンズアルデヒド （３０．８ｇ）、４−クロロ−３，５−ジフルオロフェニルボロン酸（１９．２ｇ）および３，５−ジフルオロフェニルボロン酸（３１．６ｇ）より、白色粉末として（１．４ｇ）得た。

［実施例１１］
３，４，５−トリフルオロ−４″−オクタ−３，７−ジエニル−［１，１′，４′，１″］ターフェニル（１−ｂ−１−３）を実施例１に示した方法および記載した合成法と同様にして、４−ブロモベンズアルデヒド （１９．３ｇ）、３，４，５−トリフルオロフェニルボロン酸（１７．６ｇ）および４−クロロフェニルボロン酸（２３．４ｇ）より、白色粉末として（１．７ｇ）得た。

［実施例１２］
３−フルオロ−４′−オクタ−３，７−ジエニル−４−［２−（３，４，５−トリフルオロ−フェニル）−エチル］−ビフェニル（１−ｂ−２−７）を実施例１に示した方法および記載した合成法と同様にして、４−ブロモベンズアルデヒド （３８．５ｇ）、３，４，５−トリフルオロフェニルボロン酸（２６．４ｇ）および３−フルオロフェニルボロン酸（３５．０ｇ）より、白色粉末として（１．４ｇ）得た。

［実施例１３］
４−［２−（４−クロロ−３，５−ジフルオロ−フェニル）−エチル］−３−フルオロ−４′−オクタ−３，７−ジエニル−ビフェニル（１−ｂ−２−６）を実施例１に示した方法および記載した合成法と同様にして、４−ブロモベンズアルデヒド （３０．８ｇ）、３，４，５−トリフルオロフェニルボロン酸（２６．４ｇ）および３−フルオロフェニルボロン酸（２８．０ｇ）より、白色粉末として（１．２ｇ）得た。

［実施例１４］
３，４，５，２′−テトラフルオロ−４″−ノナ−３，７−ジエニル−［１，１′，４′，１″］ターフェニル（１−ｂ−２−４１）を実施例１に示した方法および記載した合成法と同様にして、４−ブロモベンズアルデヒド （２３．１ｇ）、３，４，５−トリフルオロフェニルボロン酸（１７．６ｇ）および３−フルオロフェニルボロン酸（２１．０
ｇ）より、白色粉末として（１．３ｇ）得た。

［実施例１５］
３，４，５，２′−ペンタフルオロ−４″′−オクタ−３，７−ジエニル−［１，１′，４′，１″，４″，１″′］クォーターフェニル（１−ｃ−２−２）を実施例１に示した方法および記載した合成法と同様にして、４−ブロモベンズアルデヒド （４３．２ｇ）、４−ブロモフェニルボロン酸（５６．３ｇ）、３，４，５−トリフルオロフェニルボロン酸（１７．６ｇ）および３−フルオロフェニルボロン酸（２８．０ｇ）より、表題化合物を白色粉末として（１．９ｇ）得た。

［実施例１６］
３，４，５，２′，２″−ペンタフルオロ−４″′−オクタ−３，７−ジエニル−［１，１′，４′，１″，４″，１″′］クウォーターフェニル（１−ｃ−４−１）を下記に示す合成スキームに従って合成した。

（Ｔ−３７）の合成
実施例１で得られた化合物（Ｔ−１２）（２２．１ｇ）、３−フルオロフェニルボロン酸（８．５５ｇ）、Ｐｄ−Ｃ（ＮＸタイプ）（０．６６ｇ）および炭酸カリウム（１５．３ｇ）にトルエン（１００ｍｌ）、ソルミックス（１００ｍｌ）および水（５．０ｍｌ）を加え窒素雰囲気下５時間加熱還流した。反応終了後Ｐｄ−Ｃをろ別し、ろ液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水および飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して淡黄色固体を得た。このものをシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝４：１（容量比））、および再結晶（ヘプタン：トルエン＝４：１（容量比））することにより、（Ｔ−３７）を白色粉末として（１４．７ｇ）得た。

（Ｔ−３８）の合成
上記操作で得られた化合物（Ｔ−３７）（２９．４ｇ）をｄｒｙＴＨＦ（４００ｍｌ）に溶解させ、−７０℃まで冷却した後、ｓｅｃ−ＢｕＬｉ（９６ｍｌ）をゆっくりと滴下し、そのまま３時間撹拌した。その後ヨウ素 （３０．６ｇ）のｄｒｙＴＨＦ（１５０ｍｌ）溶液をゆっくりと滴下し、室温まで昇温して１２時間撹拌した。反応終了後、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液を加えトルエンにて抽出した。有機層を水、飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して淡黄色固体を得た。このものをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝４：１（容量比））、および再結晶（ヘプタン：トルエン＝４：１（容量比））することにより、（Ｔ−３８）を白色粉末として（１７．２ｇ）得た。

（Ｔ−３９）の合成
上記操作で得られた化合物（Ｔ−３８）（１７．２ｇ）、３，４，５−トリフルオロフェニルボロン酸（６．７８ｇ）、Ｐｄ−Ｃ（ＮＸタイプ）（０．５２ｇ）および炭酸カリウム（９．６６ｇ）にトルエン（１５０ｍｌ）、ソルミックス（１５０ｍｌ）および水（７．５ｍｌ）を加え窒素雰囲気下６時間加熱還流した。反応終了後Ｐｄ−Ｃをろ別し、ろ液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水および飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して淡黄色固体を得た。このものをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝４：１（容量比））、および再結晶（ヘプタン：トルエン＝４：１（容量比））することにより、（Ｔ−３９）を白色粉末として（２０．２ｇ）得た。

（Ｔ−４０）の合成
上記操作で得られた化合物（Ｔ−３９）（２０．２ｇ）をギ酸 （８．０ｍｌ）、トルエン２００ｍｌに溶解させ、窒素雰囲気下６時間加熱還流した。反応の進行が遅いため、途中でギ酸（８ｍｌ）を２回追加した。反応終了後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を撹拌しながら少しずつ加え、トルエンにて抽出した。有機層を水、飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して淡黄色固体を得た。このものを再結晶（ヘプタン：トルエン＝４：１（容量比））することにより、（Ｔ−４０）を白色粉末として（１６．０ｇ）得た。

（Ｔ−４１）の合成
１時間真空乾燥したホスホニウム塩（Ｔ−１５）（１５．２ｇ）にｄｒｙＴＨＦ２００ｍｌを加え、−７０℃まで冷却した。窒素雰囲気下カリウム−ｔ−ブトキシド（４．１７ｇ）を分割して少量ずつ加え１時間撹拌した。その後、上記操作で得られた化合物（Ｔ−４０）（１４．０ｇ）のｄｒｙＴＨＦ溶液をゆっくりと滴下し、室温まで昇温して４時間撹拌した。反応終了後氷冷し撹拌しながら水を加え、トルエンにて抽出した。有機層を水、飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して淡黄色固体を得た。このものをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝２０：１（容量比））、およびヘプタンにて再結晶することにより、（Ｔ−４１）を白色粉末として（１０．８ｇ）得た。

（Ｔ−４２）の合成
上記操作で得られた化合物（Ｔ−４１）（１０．８ｇ）に、炭酸カリウム （７．４０ｇ）、ジクロロメタン（１００ｍｌ）を加え氷冷した後、メタクロロ過安息香酸（ｍＣＰＢＡ）（１１．１ｇ）を加え、窒素雰囲気下室温にて１４時間撹拌した。反応の進行が遅
いため、途中でｍＣＰＢＡ（６．５ｇ）を２回追加した。反応終了後、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液を加えジクロロメタンにて抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して（Ｔ−４２）を黒色油状物として（１０．６ｇ）得た。

（Ｔ−４３）の合成
上記操作で得られた化合物（Ｔ−４２）（１０．６ｇ）に、トリフェニルホスフィンジブロミド（１３．３ｇ）、トルエン（２００ｍｌ）を加え、窒素雰囲気下８時間加熱還流した。反応終了後、トルエンにて抽出し、水、飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して黒黄色油状物を得た。このものをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝４：１（容量比））にて精製することにより、（Ｔ−４３）を黄色油状物として（１１．２ｇ）得た。

３，４，５，２′，２″−ペンタフルオロ−４″′−オクタ−３，７−ジエニル−［１，１′，４′，１″，４″，１″′］クウォーターフェニル（１−ｃ−４−１）の合成
上記操作で得られた化合物（Ｔ−４３）（１１．２ｇ）を酢酸（１００ｍｌ）に溶解させ、亜鉛粉末（４．４１ｇ）を分割して少量ずつ加えた後、窒素雰囲気下室温で３時間撹拌した。反応終了後、不溶物をろ別し、ヘプタンにて抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して黒茶色油状物を得た。このものをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：トルエン＝４０：１（容量比））、及びヘプタンにて再結晶することにより、表題化合物（１−ｃ−４−１）を白色粉末として（１．０ｇ）得た。

化合物の物性値を表２２に示す。物性値は上記実施例１および２と同様にして測定した。

［実施例１７］
４−クロロ−３，２′，２″−トリフルオロ−４″′−オクタ−３，７−ジエニル−［１，１′，４′，１″，４″，１″′］クウォーターフェニル（１−ｃ−４−７）を実施例１６に示した方法と同様にして、上記操作で得られた化合物（Ｔ−３８）（２０．０ｇ）および３−クロロ−４−フルオロフェニルボロン酸（７．４２ｇ）より、白色粉末として（０．１４ｇ）得た。

化合物の物性値を表２２に示す。物性値は上記実施例１および２と同様にして測定した。

実施例１〜実施例１７に記載した合成法をもとに、下記の化合物を合成する。一般式（１）で表される化合物のうち、ｐ＝１、ｍ＝ｎ＝０である化合物を表１〜４に示した。一般式（１）で表される化合物のうち、ｐ＝１、ｍ＝０、ｎ＝１である化合物を表５〜１５に示した。一般式（１）で表される化合物のうち、ｐ＝１、ｍ＝ｎ＝１である化合物を表１６〜２４に示した。実施例１〜実施例１７で得られる化合物（１−ａ−１−１、１−ａ−１−２、１−ａ−２−１、１−ａ−２−２、１−ｂ−１−３、１−ｂ−２−１、１−ｂ−２−２、１−ｂ−２−６、１−ｂ−２−７、１−ｂ−２−４１、１−ｂ−３−１、１−ｂ−３−２、１−ｂ−３−５、１−ｂ−３−６、１−ｃ−２−２、１−ｃ−４−１および１−ｃ−４−７）も再掲した。

本発明の代表的組成の一例を以下に示す。物性値の測定方法は後述する方法に従った。

［組成例１］
４つの化合物を混合して、ネマチック相を有する組成物Ａ（母液晶）を調製した。４つの化合物は、４−（４−プロピルシクロヘキシル）ベンゾニトリル（２４％）、４−（４
−ペンチルシクロヘキシル）ベンゾニトリル（３６％）、４−（４−ヘプチルシクロヘキシル）ベンゾニトリル（２５％）、４−（４−ペンチルシクロヘキシル）−４’−シアノビフェニル（１５％）である。

組成物Ａの物性値は次のとおりであった。上限温度（ＮＩ）＝７１．７℃；粘度（η₂₀）＝２７．０ｍＰａ・ｓ；光学異方性（Δｎ）＝０．１３７；誘電率異方性（Δε）＝１１．０。

この組成物Ａに実施例１に記載の３，４，５，２′−テトラフルオロ−４″−オクタ−３，７−ジエニル−［１，１′，４′，１″］ターフェニルを１５質量％添加して物性値を測定した。その結果、上限温度（ＮＩ）＝５８．４℃；光学異方性（Δｎ）＝０．１９７；誘電率異方性（Δε）＝１７．４であった。

［比較例１］
組成例１に記載した組成物Ａの８５％と４″−フルオロ−４−ヘキサ−１，５−ジエニル−［１，１′，４′，１″］ターフェニルの１５％とからなる組成物を調製し、物性値の測定を試みた。しかし、この化合物は母液晶に全く溶けず、物性値を測定することができなかった。この化合物はフェニレンに二重結合が直結した構造の為、安定性が極端に悪く、重合反応が起きてしまったものと予想される。よって、このような構造を持った他の化合物でも同様のことが起こると予想される。

さらに本発明の代表的な組成物を組成物例２〜１４にまとめた。最初に、組成物の成分である化合物とその量（質量％）を示した。化合物は表２５の取り決めに従い、左末端基、結合基、環構造、および右末端基の記号によって表示した。１，４−シクロヘキシレンおよび１，３−ジオキサン−２，５−ジイルの立体配置はトランスである。末端基の記号がない場合は、末端基が水素であることを意味する。次に組成物の物性値を示した。

特性値の測定は下記の方法にしたがって行うことができる。それらの多くは、日本電子機械工業会規格（Standard of Electric Industries Association of Japan）ＥＩＡＪ・ＥＤ−２５２１Ａに記載された方法、またはこれを修飾した方法である。測定に用いたＴＮ素子には、ＴＦＴを取り付けなかった。

転移温度（℃）：次のいずれかの方法で測定した。１）偏光顕微鏡を備えた融点測定装置のホットプレート（メトラー社ＦＰ−５２型ホットステージ）に試料を置き、１℃／分
の速度で加熱した。試料が相変化したときの温度を測定した。２）パーキンエルマー社製走査熱量計ＤＳＣ−７システムを用い３℃／分速度で測定した。

結晶はＣと表した。結晶の区別がつく場合は、それぞれＣ₁またはＣ₂と表した。スメクチック相はＳと表した。液体（アイソトロピック）はＩｓｏと表した。ネマチック相はＮと表した。スメクチック相の中で、スメクチックＢ相、スメクチックＣ相またはスメクチックＡ相の区別がつく場合は、それぞれＳ_B、Ｓ_CまたはＳ_Aと表した。転移温度の表記として、「Ｃ ９２．９ Ｎ １９６．９ Ｉｓｏ」とは、結晶からネマチック相への転移温度（ＣＮ）が９２．９℃であり、ネマチック相から液体への転移温度（ＮＩ）が１９６．９℃であることを示す。他の表記も同様である。

ネマチック相の上限温度（ＮＩ；℃）：偏光顕微鏡を備えた融点測定装置のホットプレートに試料を置き、１℃／分の速度で加熱した。試料の一部がネマチック相から等方性液体に変化したときの温度を測定した。ネマチック相の上限温度を「上限温度」と略すことがある。

ネマチック相の下限温度（Ｔ_C；℃）：ネマチック相を有する試料を０℃、−１０℃、−２０℃、−３０℃、および−４０℃のフリーザー中に１０日間保管したあと、液晶相を観察した。例えば、試料が−２０℃ではネマチック相のままであり、−３０℃では結晶（またはスメクチック相）に変化したとき、Ｔ_Cを≦−２０℃と記載する。ネマチック相の下限温度を「下限温度」と略すことがある。

化合物の相溶性：類似の構造を有する幾つかの化合物を混合してネマチック相を有する母液晶を調製した。測定する化合物とこの母液晶とを混合した組成物を得た。混合する割合の一例は、１５％の化合物と８５％の母液晶である。この組成物を−２０℃、−３０℃のような低い温度で３０日間保管した。この組成物の一部が結晶（またはスメクチック相）に変化したか否かを観察した。必要に応じて混合する割合と保管温度とを変更した。このようにして測定した結果から、結晶（またはスメクチック相）が析出する条件および結晶（またはスメクチック相）が析出しない条件を求めた。これらの条件が相溶性の尺度である。

粘度（η；２０℃で測定；ｍＰａ・ｓ）：測定にはＥ型回転粘度計を用いた。

回転粘度（γ１；２５℃で測定；ｍＰａ・ｓ）：１）誘電率異方性が正である試料：測定はM. Imai et al., Molecular Crystals and Liquid Crystals, Vol. 259, 37 (1995) に記載された方法に従った。ツイスト角が０°であり、そして２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が５μｍであるＴＮ素子に試料を入れた。ＴＮ素子に１６ボルトから１９．５ボルトの範囲で０．５ボルト毎に段階的に印加した。０．２秒の無印加のあと、ただ１つの矩形波（矩形パルス；０．２秒）と無印加（２秒）の条件で印加を繰り返した。この印加によって発生した過渡電流（transient current）のピーク電流（peak current）とピーク時間（peak time）を測定した。これらの測定値とM. Imaiらの論文、４０頁の計算式（８）とから回転粘度の値を得た。この計算で必要な誘電率異方性の値は、この回転粘度の測定で使用した素子にて、下記の誘電率異方性の測定方法で求めた。

２）誘電率異方性が負である試料：測定はM. Imai et al., Molecular Crystals and Liquid Crystals, Vol. 259, 37 (1995) に記載された方法に従った。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が２０μｍのＶＡ素子に試料を入れた。この素子に３０ボルトから５０ボルトの範囲で１ボルト毎に段階的に印加した。０．２秒の無印加のあと、ただ１つの矩形波（矩形パルス；０．２秒）と無印加（２秒）の条件で印加を繰り返した。この印加によって発生した過渡電流（transient current）のピーク電流（peak current）とピー
ク時間（peak time）を測定した。これらの測定値とM. Imaiらの論文、４０頁の計算式（８）とから回転粘度の値を得た。この計算に必要な誘電率異方性は、下記の誘電率異方性で測定した値を用いた。

光学異方性（屈折率異方性；Δｎ；２５℃で測定）：測定は、波長５８９ｎｍの光を用い、接眼鏡に偏光板を取り付けたアッベ屈折計により行なった。主プリズムの表面を一方向にラビング（rubbing）したあと、試料を主プリズムに滴下した。屈折率（ｎ‖）は偏光の方向がラビングの方向と平行であるときに測定した。屈折率（ｎ⊥）は偏光の方向がラビングの方向と垂直であるときに測定した。光学異方性の値は、Δｎ＝ｎ‖−ｎ⊥、の式から計算した。試料が組成物のときはこの方法によって光学異方性を測定した。試料が化合物のときは、化合物を適切な組成物に混合したあと光学異方性を測定した。化合物の光学異方性は外挿値である。

誘電率異方性（Δε；２５℃で測定）：試料が化合物のときは、化合物を適切な組成物に混合したあと誘電率異方性を測定した。化合物の誘電率異方性は外挿値である。１）誘電率異方性が正である組成物：２枚のガラス基板の間隔（ギャップ）が約９μｍ、ツイスト角が８０度の液晶セルに試料を入れた。このセルに２０ボルトを印加して、液晶分子の長軸方向における誘電率（ε‖）を測定した。０．５ボルトを印加して、液晶分子の短軸方向における誘電率（ε⊥）を測定した。誘電率異方性の値は、Δε＝ε‖−ε⊥、の式から計算した。

２）誘電率異方性が負である組成物：ホメオトロピック配向に処理した液晶セルに試料を入れ、０．５ボルトを印加して誘電率（ε‖）を測定した。ホモジニアス配向に処理した液晶セルに試料を入れ、０．５ボルトを印加して誘電率（ε⊥）を測定した。誘電率異方性の値は、Δε＝ε‖−ε⊥、の式から計算した。

しきい値電圧（Ｖｔｈ；２５℃で測定；Ｖ）：試料が化合物のときは、化合物を適切な組成物に混合したあとしきい値電圧を測定した。化合物のしきい値電圧は外挿値である。１）誘電率異方性が正である組成物：２枚のガラス基板の間隔（ギャップ）が（０．５／Δｎ）μｍであり、ツイスト角が８０度である、ノーマリーホワイトモード（normally white mode）の液晶表示素子に試料を入れた。Δｎは上記の方法で測定した光学異方性の値である。この素子に周波数が３２Ｈｚである矩形波を印加した。矩形波の電圧を上昇させ、素子を通過する光の透過率が９０％になったときの電圧の値を測定した。

２）誘電率異方性が負である組成物：２枚のガラス基板の間隔（ギャップ）が約９μｍであり、ホメオトロピック配向に処理したノーマリーブラックモード（normally black mode）の液晶表示素子に試料を入れた。この素子に周波数が３２Ｈｚである矩形波を印加した。矩形波の電圧を上昇させ、素子を通過する光の透過率１０％になったときの電圧の値を測定した。

電圧保持率（ＶＨＲ；２５℃で測定；％）：測定に用いたＴＮ素子はポリイミド配向膜を有し、そして２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）は６μｍである。この素子は試料を入れたあと紫外線によって重合する接着剤で密閉した。このＴＮ素子にパルス電圧（５Ｖで６０マイクロ秒）を印加して充電した。減衰する電圧を高速電圧計で１６．７ミリ秒のあいだ測定し、単位周期における電圧曲線と横軸との間の面積Ａを求めた。面積Ｂは減衰しなかったときの面積である。電圧保持率は面積Ｂに対する面積Ａの百分率である。

らせんピッチ（２０℃で測定；μｍ）：らせんピッチの測定には、カノのくさび型セル法を用いた。カノのくさび型セルに試料を注入し、セルから観察されるディスクリネーションラインの間隔（ａ；単位はμｍ）を測定した。らせんピッチ（Ｐ）は、式Ｐ＝２・ａ
・ｔａｎθから算出した。θは、くさび型セルにおける２枚のガラス板の間の角度である。

成分または液晶性化合物の割合（百分率）は、液晶性化合物の全質量に基づいた質量百分率（質量％）である。組成物は、液晶性化合物などの成分の質量を測定してから混合することによって調製される。したがって、成分の質量％を算出するのは容易である。

特性値の測定において、化合物単体をそのまま試料として用いる場合、化合物を母液晶に混合し試料として用いる場合、そして組成物をそのまま試料として用いる場合の３通りの方法がある。化合物を母液晶に混合する場合は、次の方法をとる。１５質量％の化合物および８５質量％の母液晶を混合することによって試料を調製した。測定によって得られた値から外挿法によって化合物の特性値を算出した。外挿値＝（試料の測定値−０．８５×母液晶の測定値）／０．１５。この割合でスメクチック相（または結晶）が２５℃で析出するときは、化合物と母液晶の割合を１０質量％：９０質量％、５質量％：９５質量％、１質量％：９９質量％の順に変更した。

測定で得られた値のうち、化合物単体をそのまま試料として用い得られた値と、組成物をそのまま試料として用いて得られた値は、そのままの値を実験データとして記載する。化合物を母液晶に混合し試料として用い得られた値は、そのままの値を実験データとして記載する場合もあるし、外挿法で得られた値を記載する場合もある。

試料を希釈するための溶媒は、クロロホルム、ヘキサンなどを用いてもよい。成分化合物を分離するために、次のキャピラリカラムを用いてもよい。Agilent Technologies Inc.製のＨＰ−１（長さ３０ｍ、内径０．３２ｍｍ、膜厚０．２５μｍ）、Restek Corporation製のＲｔｘ−１（長さ３０ｍ、内径０．３２ｍｍ、膜厚０．２５μｍ）、SGE International Pty. Ltd製のＢＰ−１（長さ３０ｍ、内径０．３２ｍｍ、膜厚０．２５μｍ）。化合物ピークの重なりを防ぐ目的で島津製作所製のキャピラリーカラムＣＢＰ１−Ｍ５０−０２５（長さ５０ｍ、内径０．２５ｍｍ、膜厚０．２５μｍ）を用いてもよい。ガスクロマトグラムにおけるピークの面積比は成分化合物の割合に相当する。成分化合物の質量％は各ピークの面積比と完全には同一ではない。しかし、本発明においては、これらのキャピラリカラムを用いるときは、成分化合物の質量％は各ピークの面積比と同一であると見なしてよい。成分化合物における補正係数に大きな差異がないからである。

［組成例２］
Ｖ２Ｖ２−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ５％
Ｖ２Ｖ２−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ）−ＣＬ ５％
２−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ ５％
３−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ ４％
４−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ １２％
１Ｖ２−ＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｃ １４％
３−ＨＢ−Ｏ２ ８％
３−ＨＨ−４ ３％
３−ＨＨＢ−Ｆ ３％
３−ＨＨＢ−１ ４％
３−ＨＨＢ−Ｏ１ ４％
３−ＨＢＥＢ−Ｆ ４％
３−ＨＨＥＢ−Ｆ ６％
５−ＨＨＥＢ−Ｆ ６％
３−Ｈ２ＢＴＢ−２ ４％
３−Ｈ２ＢＴＢ−３ ４％
３−Ｈ２ＢＴＢ−４ ４％
３−ＨＢ（Ｆ）ＴＢ−２ ５％
ＮＩ＝８４．１℃；Δｎ＝０．１４５；Δε＝２７．２；Ｖｔｈ＝１．１７Ｖ．

［組成例３］
Ｖ２Ｖ２−ＢＢ−Ｆ ５％
Ｖ２Ｖ２−ＢＢ−ＣＬ ４％
２−ＨＢ−Ｃ ５％
３−ＨＢ−Ｃ １２％
３−ＨＢ−Ｏ２ １５％
２−ＢＴＢ−１ ３％
３−ＨＨＢ−Ｆ ４％
３−ＨＨＢ−１ ８％
３−ＨＨＢ−Ｏ１ ５％
３−ＨＨＢ−３ １３％
３−ＨＨＥＢ−Ｆ ４％
５−ＨＨＥＢ−Ｆ ４％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ ４％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ ４％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ ５％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ５％

［組成例４］
Ｖ２Ｖ２−Ｂ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ５％
Ｖ２Ｖ２−Ｂ（Ｆ）Ｂ（Ｆ）−ＣＬ ３％
３−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ ８％
３−ＨＢ−Ｃ ８％
Ｖ−ＨＢ−Ｃ ８％
１Ｖ−ＨＢ−Ｃ ８％
３−ＨＢ−Ｏ２ ３％
３−ＨＨ−２Ｖ １１％
３−ＨＨ−２Ｖ１ ７％
Ｖ２−ＨＨＢ−１ １０％
３−ＨＨＢ−１ ５％
３−ＨＨＥＢ−Ｆ ７％
３−Ｈ２ＢＴＢ−２ ６％
３−Ｈ２ＢＴＢ−３ ６％
３−Ｈ２ＢＴＢ−４ ５％

［組成例５］
Ｖ２Ｖ２−ＢＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ３％
１Ｖ２Ｖ２−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ４％
Ｖ２Ｖ２−ＢＢ（Ｆ）２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ４％
５−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ ５％
Ｖ−ＨＢ−Ｃ ８％
５−ＰｙＢ−Ｃ ６％
４−ＢＢ−３ ８％
３−ＨＨ−２Ｖ １０％
５−ＨＨ−Ｖ １１％
Ｖ−ＨＨＢ−１ ７％
Ｖ２−ＨＨＢ−１ １０％
３−ＨＨＢ−１ ９％
１Ｖ２−ＨＢＢ−２ １０％
３−ＨＨＥＢＨ−３ ５％

［組成例６］
Ｖ２Ｖ２−ＢＢ（Ｆ）２Ｂ（Ｆ）−ＣＬ ４％
Ｖ２Ｖ２−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）Ｂ−Ｆ ４％
１Ｖ２−ＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｃ ６％
３−ＨＢ−Ｃ １８％
２−ＢＴＢ−１ １０％
５−ＨＨ−ＶＦＦ ２２％
３−ＨＨＢ−１ ４％
ＶＦＦ−ＨＨＢ−１ ８％
ＶＦＦ２−ＨＨＢ−１ １１％
３−Ｈ２ＢＴＢ−２ ５％
３−Ｈ２ＢＴＢ−３ ４％
３−Ｈ２ＢＴＢ−４ ４％

［組成例７］
Ｖ２Ｖ２−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ４％
Ｖ２Ｖ２−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ）−ＣＬ ４％
５−ＨＢ−ＣＬ １６％
３−ＨＨ−４ １２％
３−ＨＨ−５ ４％
３−ＨＨＢ−Ｆ ４％
３−ＨＨＢ−ＣＬ ３％
４−ＨＨＢ−ＣＬ ４％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ ８％
４−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ ７％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ ７％
７−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ ６％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ ４％
１Ｏ１−ＨＢＢＨ−５ ３％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ２％
４−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ３％
５−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ３％
３−ＨＨ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ３％
４−ＨＨ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ３％
ＮＩ＝１１０．５℃；Δｎ＝０．０９５；Δε＝３．８；Ｖｔｈ＝２．６２Ｖ．

上記組成物１００部にＯｐ−０５を０．２５部添加したときのらせんピッチは６１．０μｍであった。

［組成例８］
Ｖ２Ｖ２−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）Ｂ−ＣＬ ４％
Ｖ２Ｖ２−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ３％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ９％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ８％
４−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ８％
５−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ８％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １８％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １６％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １０％
５−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ３％
５−ＨＨＥＢＢ−Ｆ ３％
３−ＨＨ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ２％
１Ｏ１−ＨＢＢＨ−４ ４％
１Ｏ１−ＨＢＢＨ−５ ４％

［組成例９］
Ｖ２Ｖ２−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−ＣＬ ５％
Ｖ２Ｖ２−ＢＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ３％
５−ＨＢ−Ｆ １２％
６−ＨＢ−Ｆ ９％
７−ＨＢ−Ｆ ７％
２−ＨＨＢ−ＯＣＦ３ ７％
３−ＨＨＢ−ＯＣＦ３ ７％
４−ＨＨＢ−ＯＣＦ３ ７％
５−ＨＨＢ−ＯＣＦ３ ５％
３−ＨＨ２Ｂ−ＯＣＦ３ ４％
５−ＨＨ２Ｂ−ＯＣＦ３ ４％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−ＯＣＨＦ２ ４％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−ＯＣＦ３ ５％
３−ＨＨ２Ｂ（Ｆ）−Ｆ ３％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ ６％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ ６％
５−ＨＢＢＨ−３ ３％
３−ＨＢ（Ｆ）ＢＨ−３ ３％

［組成例１０］
Ｖ２Ｖ２−ＢＢ−Ｆ ６％
Ｖ２Ｖ２−ＢＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ４％
５−ＨＢ−ＣＬ １１％
３−ＨＨ−４ ８％
３−ＨＨＢ−１ ５％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ８％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １５％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １０％
３−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １０％
４−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ３％
５−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ３％
２−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ３％
３−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ５％
５−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ３％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ６％

［組成例１１］
Ｖ２Ｖ２−ＢＢ−ＣＬ ３％
Ｖ２Ｖ２−Ｂ（Ｆ）Ｂ（Ｆ）−ＣＬ ３％
３−ＨＢ−ＣＬ ６％
５−ＨＢ−ＣＬ ４％
３−ＨＨＢ−ＯＣＦ３ ５％
３−Ｈ２ＨＢ−ＯＣＦ３ ５％
５−Ｈ４ＨＢ−ＯＣＦ３ １５％
Ｖ−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ ５％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ ４％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ ４％
３−Ｈ４ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−ＣＦ３ ８％
５−Ｈ４ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−ＣＦ３ １０％
５−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ５％
５−Ｈ４ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ７％
２−Ｈ２ＢＢ（Ｆ）−Ｆ ３％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ）−Ｆ ８％
３−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ５％

［組成例１２］
Ｖ２Ｖ２−ＢＢ（Ｆ）２Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ５％
Ｖ２Ｖ２−ＢＢ（Ｆ）２Ｂ（Ｆ）−ＣＬ ４％
５−ＨＢ−ＣＬ １７％
７−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ３％
３−ＨＨ−４ １０％
３−ＨＨ−５ ５％
３−ＨＢ−Ｏ２ １０％
３−ＨＨＢ−１ ８％
３−ＨＨＢ−Ｏ１ ５％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ ５％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ ７％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ ５％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ６％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ５％
４−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ５％

［組成例１３］
Ｖ２Ｖ２−Ｂ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ４％
Ｖ２Ｖ２−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ４％
５−ＨＢ−ＣＬ ３％
７−ＨＢ（Ｆ）−Ｆ ７％
３−ＨＨ−４ ９％
３−ＨＨ−ＥＭｅ １５％
３−ＨＨＥＢ−Ｆ ８％
５−ＨＨＥＢ−Ｆ ８％
３−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １０％
４−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ５％
４−ＨＧＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ５％
５−ＨＧＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ６％
２−Ｈ２ＧＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ４％
３−Ｈ２ＧＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ５％
５−ＧＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ７％

［組成例１４］
Ｖ２Ｖ２−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）Ｂ−Ｆ ３％
Ｖ２Ｖ２−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）Ｂ−ＣＬ ３％
Ｖ２Ｖ２−ＢＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ３％
３−ＨＨ−４ ８％
３−ＨＨＢ−１ ６％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １０％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ９％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １５％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ２６％
１Ｏ１−ＨＢＢＨ−５ ７％
２−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ３％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ３％
３−ＨＨ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ４％

Claims (31)

1. 一般式（１）で表される化合物。
   

   

   ［式中、Ｒ¹は水素、炭素数１〜５のアルキル、または炭素数２〜５のアルケニルであり；
   環Ａ¹は１，４−フェニレンであり、この環において任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよく、環Ａ²および環Ａ³は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、１，４−シクロヘキセニレン、ナフタレン−２，６−ジイル、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル、または１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイルであり、これらの環において任意の−ＣＨ₂−は、−Ｏ−または−Ｓ−により置き換えられていてもよく、任意の−ＣＨ＝は、−Ｎ＝により置き換えられていてもよく、これらの環において任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよく；
   Ｚ¹、Ｚ²およびＺ³は独立して、単結合、−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＯＣＦ₂−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−（ＣＨ₂）₄−、−Ｏ（ＣＨ₂）₂Ｏ−、−（ＣＨ₂）₂ＣＦ₂Ｏ−、−（ＣＨ₂）₂ＯＣＦ₂−、−ＣＦ₂Ｏ（ＣＨ₂）₂−、−ＯＣＦ₂（ＣＨ₂）₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ₂Ｏ−、または−ＯＣＨ₂−ＣＨ＝ＣＨ−であり；
   Ｌ¹およびＬ²は独立して、水素またはフッ素であり；
   Ｘ¹は水素、フッ素、塩素、−Ｃ≡Ｎ、−Ｎ＝Ｃ＝Ｓ、−ＳＦ₅、または−Ｑ−Ｗで示される基であり、Ｑは単結合、酸素、または硫黄であり、Ｗは少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた炭素数１〜５のアルキルであり；
   ｎ、ｍは独立して、０または１であり、ｐは１〜４の整数である。］
2. 環Ａ¹、環Ａ²および環Ａ³が独立して、１，４−フェニレンまたはハロゲン化された１，４−フェニレンである、請求項１に記載の化合物。
3. 環Ａ¹、環Ａ²および環Ａ³のうち少なくとも１つがハロゲン化された１，４−フェニレンであり、ハロゲン化された１，４−フェニレンがフッ素化された１，４−フェニレンである、請求項２に記載の化合物。
4. 前記フッ素化された１，４−フェニレンが、２−フルオロ−１，４−フェニレンまたは２，６−ジフルオロ−１，４−フェニレンである、請求項３に記載の化合物。
5. 環Ａ¹、環Ａ²および環Ａ³のうち少なくとも１つがピリミジン−２，５−ジイルである、請求項１に記載の化合物。
6. Ｚ¹、Ｚ²およびＺ³のうち少なくとも１つが単結合である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の化合物。
7. Ｚ¹、Ｚ²およびＺ³のいずれか１つが、−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＯＣＦ₂−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂−、または−ＣＦ＝ＣＦ−である、請求項６に記載の化合物。
8. Ｚ¹、Ｚ²およびＺ³がいずれも単結合である、請求項６に記載の化合物。
9. Ｌ¹、Ｌ²およびＸ¹のうち少なくとも１つがハロゲンである、請求項１〜８のいずれか１項に記載の化合物。
10. 下記のいずれか１つの一般式で表される請求項１に記載の化合物。
    一般式（１）においてｐ＝１、ｎ＝ｍ＝０である下記の一般式（１−ａ）で表される化合物、
    一般式（１）においてｐ＝１、ｎ＝０、ｍ＝１である下記の一般式（１−ｂ）で表される化合物、または、
    一般式（１）においてｐ＝１、ｎ＝ｍ＝１である下記の一般式（１−ｃ）で表される化合物。
    

    

    ［式中、Ｒ¹は水素、炭素数１〜５のアルキル、または炭素数２〜５のアルケニルであり；
    環Ａ¹は１，４−フェニレンであり、この環において任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよく、環Ａ²および環Ａ³は独立して、１，４−フェニレン、１，４−シクロヘキセニレン、ナフタレン−２，６−ジイル、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル、または１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイルであり、１，４−フェニレンにおいて任意の−ＣＨ＝は、−Ｎ＝により置き換えられていてもよく、これらの環において任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよく；
    Ｚ¹、Ｚ²およびＺ³は独立して、単結合、−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＯＣＦ₂−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂−、または−ＣＦ＝ＣＦ−であり；
    Ｌ¹およびＬ²は独立して、水素またはフッ素であり；
    Ｘ¹はフッ素、塩素、−Ｃ≡Ｎ、−ＣＦ₃、−ＣＨＦ₂、−ＣＨ₂Ｆ、−ＯＣＦ₃、−ＯＣＨＦ₂、または−ＯＣＨ₂Ｆである。］
11. 環Ａ¹、環Ａ²および環Ａ³が独立して、１，４−フェニレンまたはハロゲン化された１，４−フェニレンである、請求項１０に記載の化合物。
12. 環Ａ¹、環Ａ²および環Ａ³のうち少なくとも１つが、ハロゲン化された１，４−フェニレンであり、ハロゲン化された１，４−フェニレンがフッ素化された１，４−フェニレンである、請求項１１に記載の化合物。
13. 前記フッ素化された１，４−フェニレンが、２−フルオロ−１，４−フェニレンまたは２，６−ジフルオロ−１，４−フェニレンである請求項１２に記載の化合物。
14. 環Ａ¹、環Ａ²および環Ａ³のうち少なくとも１つがピリミジン−２，５−ジイルである、請求項１０に記載の化合物。
15. Ｚ¹、Ｚ²およびＺ³のうち少なくとも１つが単結合である、請求項１０〜１４のいずれか1項に記載の化合物。
16. Ｚ¹、Ｚ²およびＺ³のいずれか１つが、−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＯＣＦ₂−、−ＣＨ₂Ｏ−、または−ＯＣＨ₂−である、請求項１５に記載の化合物。
17. Ｚ¹、Ｚ²およびＺ³がいずれも単結合である、請求項１５に記載の化合物。
18. Ｌ¹、Ｌ²およびＸ¹のうち少なくとも１つがハロゲンである、請求項１０〜１７のいずれか１項に記載の化合物。
19. 下記の一般式（１−１）〜（１−４８）のいずれか１つの式で表される請求項１に記載の化合物。
    
    

    

    

    

    

    ［式中、Ｒ¹は水素、炭素数１〜５のアルキル、または炭素数２〜５のアルケニルであり；
    Ｌ¹、Ｌ²およびＹ¹〜Ｙ⁶は独立して、水素またはフッ素であり；
    Ｘ¹はフッ素、塩素、−Ｃ≡Ｎ、−ＣＦ₃、−ＣＨＦ₂、−ＣＨ₂Ｆ、−ＯＣＦ₃、−ＯＣＨＦ₂、または−ＯＣＨ₂Ｆである。］
20. 下記の一般式（１−４９）〜（１−５１）のいずれか１つの式で表される請求項１に記載の化合物。
    

    

    ［式中、Ｌ¹、Ｌ²およびＹ¹〜Ｙ³は独立して、水素またはフッ素であり；
    Ｘ¹はフッ素または塩素である。］
21. 請求項１〜２０のいずれかに記載の化合物を少なくとも１種類含有することを特徴とする、２成分以上からなる液晶組成物。
22. 一般式（２）、（３）および（４）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、請求項２１に記載の液晶組成物。
    

    

    ［式中、Ｒ²は炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、アルキルにおいて任意の−ＣＨ₂−は、−Ｏ−で置き換えられてもよく；
    Ｘ²はフッ素、塩素、−ＯＣＦ₃、−ＯＣＨＦ₂、−ＣＦ₃、−ＣＨＦ₂、−ＣＨ₂Ｆ、−ＯＣＦ₂ＣＨＦ₂、または−ＯＣＦ₂ＣＨＦＣＦ₃であり；
    環Ｂおよび環Ｄは独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、または任意の水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり、環Ｅは、１，４−シクロヘキシレンまたは任意の水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；
    Ｚ⁴およびＺ⁵は独立して、−（ＣＨ₂）₂−、−（ＣＨ₂）₄−、−ＣＯＯ−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＯＣＦ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または単結合であり；
    Ｌ³およびＬ⁴は独立して、水素またはフッ素である。］
23. 一般式（５）および（６）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、請求項２１に記載の液晶組成物。
    

    

    ［式中、Ｒ³およびＲ⁴は独立して、炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、アルキルにおいて任意の−ＣＨ₂−は、−Ｏ−で置き換えられてもよく；
    Ｘ³は、−Ｃ≡Ｎまたは−Ｃ≡Ｃ−Ｃ≡Ｎであり；
    環Ｇは、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、またはピリミジン−２，５−ジイルであり、環Ｊは、１，４−シクロヘキシレン、ピリミジン−２，５−ジイル、または任意の水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり、環Ｋは、１，４−シクロヘキシレンまたは１，４−フェニレンであり；
    Ｚ⁶は、−（ＣＨ₂）₂−、−ＣＯＯ−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＯＣＦ₂−、または単結合であり；
    Ｌ⁵、Ｌ⁶およびＬ⁷は独立して、水素またはフッ素であり；
    ｂ、ｃおよびｄは独立して、０または１である。］
24. 一般式（７）、（８）、（９）、（１０）および（１１）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、請求項２１に記載の液晶組成物。
    

    

    ［式中、Ｒ⁵は炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、アルキルにおいて任意の−ＣＨ₂−は、−Ｏ−で置き換えられてもよく；
    Ｒ⁶は、フッ素、炭素数１〜１０のアルキル、または炭素数２〜１０のアルケニルであり、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ₂−は、−Ｏ−で置き換えられてもよく；
    環Ｍおよび環Ｐは独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、またはデカヒドロ−２，６−ナフチレンであり；
    Ｚ⁷およびＺ⁸は独立して、−（ＣＨ₂）₂−、−ＣＯＯ−、または単結合であり；
    Ｌ⁸、Ｌ⁹、Ｌ¹⁰およびＬ¹¹は独立して、水素またはフッ素であって、Ｌ⁸、Ｌ⁹、Ｌ¹⁰およびＬ¹¹の少なくとも１つはフッ素である。］
25. 一般式（１２）、（１３）および（１４）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、請求項２１に記載の液晶組成物。
    

    

    ［式中、Ｒ⁷およびＲ⁸は独立して、炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり、任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、このアルキルにおいて任意の−ＣＨ₂−は、−Ｏ−で置き換えられてもよく；
    環Ｊ、環Ｔおよび環Ｕは独立して、１，４−シクロヘキシレン、ピリミジン−２、５−ジイル、または任意の水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレンであり；
    Ｚ⁹およびＺ¹⁰は独立して、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−（ＣＨ₂）₂−、−ＣＨ＝ＣＨ
    −、または単結合である。］
26. 一般式（５）および（６）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、請求項２２に記載の液晶組成物。
27. 一般式（１２）、（１３）および（１４）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、請求項２２に記載の液晶組成物。
28. 一般式（１２）、（１３）および（１４）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、請求項２３に記載の液晶組成物。
29. 一般式（１２）、（１３）および（１４）のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、請求項２４に記載の液晶組成物。
30. 少なくとも１つの光学活性化合物をさらに含有する、請求項２１〜２９のいずれか１項に記載の液晶組成物。
31. 請求項２１〜３０のいずれか１項に記載の液晶組成物を含有する液晶表示素子。