JP5230384B2 - 表示装置および電子機器 - Google Patents

Description

本発明は、有機平坦化膜を有する表示装置および電子機器に関するものである。

たとえば液晶表示装置は、薄型で低消費電力であるという特徴を生かして、幅広い電子機器の表示装置として用いられている。たとえば、ノート型パーソナルコンピュータ、カーナビゲーション用の表示装置、携帯情報端末（Personal Digital Assistant：ＰＤＡ）、携帯電話、デジタルカメラ、ビデオカメラ等の液晶表示装置を用いた電子機器がある。

図１（Ａ）〜（Ｃ）は一般的な液晶表示装置の構成を示す図であって、図１（Ａ）はデバイス構造の断面図であり、図１（Ｂ）はＴＦＴ基板側の平面図であり、図１（Ｃ）は対向基板側の平面図である。

液晶表示装置１は、アレイ基板（アクティブ素子が形成される基板）２と、アレイ基板２に対向配置される透明な対向基板３と、２つの基板２，３間に配置された液晶層４とを備えている。

アレイ基板２には、液晶に電圧を印加するための透明電極（画素電極）２１と、その透明電極２１を選択するための薄膜トランジスタ（ＴＦＴ；Thin Film Transistor）２２を含む画素がマトリクス状に配置され、画素領域ＰＸＬＡが形成されている。
そして、この薄膜トランジスタ上の段差を軽減するために、アレイ基板２上の薄膜トランジスタ２２と透明電極２１との間には有機膜からなる平坦化膜２３が形成されている。

対向基板３には、アレイ基板２の画素ＰＸＬに対応した黒（ＢＫ）、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）などからなるカラーフィルタ部３１が形成され、カラーフィルタ部３１上の段差を軽減するための有機膜からなる平坦化膜３２が形成されている。
平坦化膜３２の液晶層４と面する側に液晶に電圧を印加するための透明電極３３が形成されている。
そして、この２つのアレイ基板２と対向基板３を固定し、液晶を封入するために、画素ＰＸＬが形成されている画素領域ＰＸＬＡを取り囲むように封止領域５が形成されている。

このように、一般的な液晶表示装置１においては、互いに対向する２つの基板のうち、アレイ基板２には、アレイ駆動端子を含む金属配線２４、トランジスタ２２、透明電極（透明導電膜２１等の構造物が配置される。一方、対向基板３には色を表示するためのカラーフィルタなどの構造物が配置される。
そして、これらの構造物により、液晶層４に最も近い基板の各表面に段差が発生することにより、面内の液晶の基板間距離の変化により、画素間および／又は画素の一部の液晶光学特性のズレが生じ、その結果、コントラスト等の画品位が低下する。
これらを防ぐために、前記配線など段差の平坦化等を目的とした有機膜による平坦化膜が基板側に形成されている。
また、有機膜は液晶表示装置の２枚の基板を固定液晶および表示装置に閉じ込めておくための封止領域から外まで有機膜を伸ばすことにより液晶表示装置の光学特性の面内均一性を向上が図れる。

ところで、液晶表示装置として、広い視野角を確保するためにＦＦＳ(Fringe Field Switching)法による液晶表示装置が種々提案されている（特許文献１、２参照）。

ＦＦＳ(Fringe Field Switching)構造を有する液晶表示装置は、対向基板側には対向透明電極が配置されず、アレイ基板側に配置される。具体的には、アレイ基板側において、有機膜からなる平坦化膜上に対向電極（コモン電極）が形成され、この対向電極上に画素絶縁膜（ＳｉＯ２やＳｉＮ等）が形成され、この画素絶縁膜上の液晶層との界面側にＩＴＯ等からなる画素電極（透明電極）が形成される。
特開２００２−２２９０３２号公報 特開２００１−４２３６６号公報

ところで、ＦＦＳモードの液晶表示装置では、対向電極（コモン電極）と画素電極の間の絶縁膜をパターニングする際、ドライエッチングを用いる場合が多い。
この場合、一般的にドライエッチングにはＩＣＰ、ＰＥ、ＣＤＥなどの装置を、エッチングガスはフッ素系ガスを用いる。

図２（Ａ）〜（Ｄ）はＦＦＳモードの液晶表示装置１Ａにおける有機膜上でドライエッチングしたときの様子を示す図である。
図２（Ａ）は平面図を、図２（Ｂ）〜（Ｄ）は図２（Ａ）のａ−ａ線の断面におけるドライエッチング処理を含む工程図を示している。
図２（Ａ）〜（Ｄ）において、２Ａはアレイ基板を、２１Ａが透明電極(画素電極)を、２３Ａが有機平坦化膜を、２４が対向電極（コモン電極）を、２５が絶縁膜（被ドライエッチング膜）をそれぞれ示している。

従来は、図２に示すように、有機膜上でドライエッチングを行うと、被ドライエッチング膜２５の端部において有機膜のオーバーエッチングが生じ、図中Ｘで示すように、逆テーパー形状の断面になってしまっていた。

この上に電極膜(ＦＦＳモード液晶表示装置ではＩＴＯ等の透明導電膜、他のモードの液晶表示装置では、Ａｌ、Ａｇなどの金属薄膜)をスパッタリングにて形成すると、成膜初期段階では図２（Ｃ）に示すように、逆テーパー部で膜が非連続な状態になる。
スパッタリングでは基板がプラズマに直接さらされるため、電荷を帯びたイオンおよび電子が膜を衝撃し、電極膜は帯電する。
図２（Ｃ）においてｂ部は絶縁されており、ａ部はプラズマから得た電荷が逃げる構造となっている場合、ａ部とｂ部には電位差が生じる。
成膜がさらに進み、図２(Ｄ)に示すような状態になると、ａ部とｂ部が接触し、ｂ部にたまった電荷がａ部へ逃げるように放電が生じる。この際、図２(Ｄ)のｃ部では放電に沿って膜が融解する。

成膜後にエッチングによるパターニング行う場合、融解した部分は再結晶しているため結晶性が他の部分よりも良いので、エッチング速度が極端に遅くなるためパターン不良となり、表示デバイスにおいては表示欠陥の原因となってしまう。

この放電による不良発生を防ぐため、放電発生箇所から有効表示エリアまで十分に距離を取ることで放電の影響を無くしていた。
しかし、この方法ではレイアウト上の無駄が増えてデバイス面積が増加してしまうという不利的がある。

本発明は、被ドライエッチング膜をドライエッチする際に、膜端部において有機平坦化膜が逆テーパー形状になることを防ぎ、ひいては放電による欠陥発生を防ぐことができる表示装置および電子機器を提供することにある。

本発明の第１の観点の表示装置は、画素がマトリクス状に配置された画素領域を有する基体と、基体上に形成された有機膜からなる有機平坦化膜と、有機平坦化膜の上層に成膜され、ドライエッチングにより形成される被ドライエッチング膜と、被ドライエッチング膜上に形成される導電膜と、を有し、画素領域を取り囲むように配置された所定のシール材によって形成された封止領域の最外端より内側で、かつ、画素領域の外周端より外側にて、有機平坦化膜を除去した有機膜除去領域が形成され、被ドライエッチング膜、または当該被ドライエッチング膜を成膜する前に形成された膜が、有機膜除去領域内において終端されている。

好適には、有機膜除去領域は、有機平坦化膜が、基体の主面に平行な面内の画素領域の外周端から封止領域の最外端までの領域内の一部の領域において、基体の主面に対して垂直方向のすべてが除去されている。

好適には、有機膜除去領域は、画素領域を取り囲むように全周にわたって連続的に形成されている。

好適には、有機膜除去領域は、画素領域の外周部において、分割して形成されている。

好適には、有機膜除去領域より外側の有機平坦化膜がすべて除去されている。

好適には、被ドライエッチング膜を成膜する前に形成した膜は、シリコン、インジウム、スズ、亜鉛、チタン、アルミニウム、モリブデン、タンタル、クロム、タングステン、銀のいずれかの元素を含む膜で形成される。

好適には、基体は、シリコン、インジウム、スズ、亜鉛、チタン、アルミニウム、モリブデン、タンタル、クロム、タングステン、銀のいずれかの元素を含む膜もしくは基板で形成される。

本発明の第２の観点の表示装置は、画素がマトリクス状に配置された画素領域を有する第１の基板と、第１の基板と対向して配置される第２の基板と、画素領域を取り囲むように第１の基板と第２の基板間に配置された所定のシール材によって形成された封止領域に液晶が封入されてなる液晶層と、第１の基板上に形成された有機膜からなる有機平坦化膜と、有機平坦化膜上に形成された対向電極と、対向電極および有機平坦化膜の上層に成膜され、ドライエッチングにより形成される被ドライエッチング膜と、被ドライエッチング膜上に形成される画素電極と、を有し、封止領域の最外端より内側で、かつ、画素領域の外周端より外側にて、有機平坦化膜を除去した有機膜除去領域が形成され、被ドライエッチング膜、または当該被ドライエッチング膜を成膜する前に形成された膜が、有機膜除去領域内において終端されている。

本発明の第３の観点は、表示装置を有する電子機器であって、表示装置は、画素がマトリクス状に配置された画素領域を有する基体と、基体上に形成された有機膜からなる有機平坦化膜と、有機平坦化膜の上層に成膜され、ドライエッチングにより形成される被ドライエッチング膜と、被ドライエッチング膜上に形成される導電膜と、を有し、画素領域を取り囲むように配置された所定のシール材によって形成された封止領域の最外端より内側で、かつ、画素領域の外周端より外側にて、有機平坦化膜を除去した有機膜除去領域が形成され、被ドライエッチング膜、または当該被ドライエッチング膜を成膜する前に形成された膜が、有機膜除去領域内において終端されている。

本発明の第４の観点は、表示装置を有する電子機器であって、表示装置は、画素がマトリクス状に配置された画素領域を有する第１の基板と、第１の基板と対向して配置される第２の基板と、画素領域を取り囲むように第１の基板と第２の基板間に配置された所定のシール材によって形成された封止領域に液晶が封入されてなる液晶層と、第１の基板上に形成された有機膜からなる有機平坦化膜と、有機平坦化膜上に形成された対向電極と、対向電極および有機平坦化膜の上層に成膜され、ドライエッチングにより形成される被ドライエッチング膜と、被ドライエッチング膜上に形成される画素電極と、を有し、封止領域の最外端より内側で、かつ、画素領域の外周端より外側にて、有機平坦化膜を除去した有機膜除去領域が形成され、被ドライエッチング膜、または当該被ドライエッチング膜を成膜する前に形成された膜が有機膜除去領域内において終端されている。

本発明によれば、被ドライエッチング膜をドライエッチする際に、膜端部において有機平坦化膜が逆テーパー形状になることを防ぎ、ひいては放電による欠陥発生を防ぐことができる。

以下、本発明の実施形態を図面に関連付けて説明する。

＜第１実施形態＞
図３は、本発明の第１の実施形態に係るアクティブマトリクス型液晶表示装置の構成を示す簡略断面図である。図４は、第１の実施形態に係るアクティブマトリクス型液晶表示装置の構成を示す平面図である。図５は、図４のａ−ａ線における簡略断面図である。

本実施形態に係る液晶表示装置（ＬＣＤ）１０は、図３に示すように、ドライエッチング耐性の高い基体（第１の基板）としてのアレイ基板（アクティブ素子が形成される基板）１１と、アレイ基板１１に対向配置される透明な第２の基板としての対向基板１２と、アレイ基板１１と対向基板１２間に配置された液晶層１３とを備えている。
そして、本実施形態に係る液晶表示装置１０は、広い視野角を確保するためにＦＦＳ(Fringe Field Switching)構造を有する液晶表示装置として構成されている。

アレイ基板１１は、たとえば透過型の場合、石英基板、反射型の場合、たとえばシリコン材料の基板により形成される。対向基板１２は、たとえばガラス基板や石英基板により形成される。
ここでは、本発明に係る基体がアレイ基板１１として構成されているが、ドライエッチングによりエッチングされ難いドライエッチング耐性の高い、たとえば溝の底部はシリコン、インジウム、スズ、亜鉛、チタン、アルミニウム、モリブデン、タンタル、クロム、タングステン、銀のいずれかの元素を含む膜、もしくは基板で形成される。

アレイ基板１１には、液晶に電圧を印加するための透明電極（画素電極、透明導電膜）１１１が形成され、その透明電極１１１を選択するための薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）１１２を含む画素ＰＸＬがマトリクス状に配置され、画素領域ＰＸＬＡ１０が形成されている。
そして、この薄膜トランジスタ１１２上の段差を軽減するために、アレイ基板１１上の薄膜トランジスタ１１２と透明電極１１１との間には第１の有機膜からなる有機平坦化膜１１３が形成されている。

液晶表示装置１０は、ＦＦＳ構造を採用していることから、対向基板１２側には対向透明電極が配置されず、アレイ基板１１側に配置されている。
具体的には、アレイ基板１１側において、第１の有機膜からなる有機平坦化膜１１３上に対向電極１１４が形成され、この対向電極１１４上に被ドライエッチング膜としての画素絶縁膜１１５が形成され、この画素絶縁膜１１５上の液晶層１３との界面側に画素電極（透過型の場合、透明電極）１１１が形成されている。

画素絶縁膜１１５は、たとえばＳｉＮにより形成される。

このように、液晶表示装置１０は、アレイ基板１１に画素電極１１１、その画素電極１１１と画素絶縁膜１１５を挟むように対向電極（コモン電極）１１４を有し、アレイ基板１１の主面１１ａに略平行な電界により液晶を駆動する画素構造を有している。

対向基板１２には、アレイ基板１１の画素ＰＸＬに対応した黒（ＢＫ）、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）などからなるカラーフィルタ部１２１が形成され、カラーフィルタ部１２１上の段差を軽減するための第２の有機膜からなる有機平坦化膜１２２が形成されている。
そして、この２つのアレイ基板１１と対向基板１２を固定し、液晶を封入するために、画素ＰＸＬが形成されている画素領域ＰＸＬＡ１０を取り囲むように所定のシール材による封止領域１４が形成されている。

透明電極１１１，対向電極１１４は、たとえばIＴＯ膜（インジウム・ティン・オキサイド膜）などの透明導電性薄膜により形成される。

以上の構成要素によりＬＣＤパネル２０が形成されている。

そして、本実施形態に係る液晶表示装置１０は、アレイ基板１１の有機膜からなる有機平坦化膜の形状および被ドライエッチング膜としての画素絶縁膜１１５の終端に特徴を有する。

本第１の実施形態においては、図３および図５に示すように、アレイ基板１１側の有機平坦化膜１１３を形成する有機膜を封止領域１４の封止領域最外端ＴＯＳより内側で、画素領域ＰＸＬＡ１０の外周端ＴＯＰより外側にて、アレイ基板１１の主面１１ａに対して平行方向の一部（図２中に設定したＸＹ座標のＸ方向）、並びに、アレイ基板１１の主面１１ａに対して垂直方向（図２中に設定したＸＹ座標のＹ方向）のすべてを除去した有機膜除去領域（または溝）１１３１が形成されている。
本第１の実施形態においては、有機膜除去領域１１３１は、図４に示すように、画素領域ＰＸＬＡ１０の全外周を取り囲むように連続的に形成されている。

有機膜除去領域(溝)１１３１においては、アレイ基板１１の表面(主面１１ａ)は露出するように有機膜が除去されている。
この露出した溝の底部は、上述したように、ドライエッチングによりエッチングされ難いドライエッチング耐性の高い、たとえばシリコン、インジウム、スズ、亜鉛、チタン、アルミニウム、モリブデン、タンタル、クロム、タングステン、銀のいずれかの元素を含む膜、もしくは基板で形成される。
そして、被ドライエッチング膜としての画素絶縁膜１１５は、有機膜除去領域(溝)１１３１内で終端されている。

このように、被ドライエッチング膜としての画素絶縁膜１１５は、有機膜除去領域(溝)１１３１側で終端されている構成を有する液晶表示装置１０の作製工程において、被ドライエッチング膜である画素絶縁膜１１５をドライエッチングする際に、膜端部において有機平坦化膜１１３が逆テーパー形状になることはない。
したがって、本実施形態の液晶表示装置によれば、被ドライエッチング膜である画素絶縁膜１１５の上に電極膜を形成しても有機平坦化膜１１３の逆テーパ部において電極膜が非連続な状態にならず、放電による欠陥発生を防ぐことができる。

また、既存の構造では、放電による不良発生を防ぐため、放電発生箇所から有効表示エリアまで十分に距離を取ることで放電の影響を無くしていたが、この方法ではレイアウト上の無駄が増えて表示エリア外側の額縁面積が増加してしまう問題があった。
本実施形態の構成を採用することで、画像領域（表示エリア）外側の額縁部面積を縮小し、電子デバイスの小型・軽量化が可能となる。

＜第２実施形態＞
図６は、本発明の第２の実施形態に係るアクティブマトリクス型液晶表示装置の構成を示す簡略断面図である。図７は、第２の実施形態に係るアクティブマトリクス型液晶表示装置の構成を示す平面図である。図８は、図７のａ−ａ線における簡略断面図である。

本第２の実施形態に係る液晶表示装置１０Ａが上述した第１の実施形態に係る液晶表示装置１０と異なる点は、有機膜除去領域(溝)１１３１内で終端される膜が被ドライエッチング膜としての画素絶縁膜１１５ではなく、この画素絶縁膜１１５を成膜する前に形成した膜（以下、保護膜、この例は、対向電極(コモン電極)１１４を形成する膜）１１６が終端され、この保護膜である対向電極１１４が延設された保護膜１１６上で被ドライエッチング膜としての画素絶縁膜１１５が終端されていることにある。

保護膜は、シリコン、インジウム、スズ、亜鉛、チタン、アルミニウム、モリブデン、タンタル、クロム、タングステン、銀のいずれかの元素を含む膜で形成される。

本第２の実施形態によれば、上述下第１の実施形態と同様の効果を得ることができる。

＜第３実施形態＞
図９は、本発明の第３の実施形態に係るアクティブマトリクス型液晶表示装置の構成を示す平面図である。図１０は、図９のａ−ａ線における簡略断面図である。

本第３の実施形態に係る液晶表示装置１０Ｂが上述した第２の実施形態に係る液晶表示装置１０Ａと異なる点は、保護膜を被ドライエッチング膜である画素絶縁膜１１５Ａの成膜前に形成される対向電極１１４をそのまま延設して有機膜除去領域(溝)１１３１内で終端させる代わりに、内部電極１１４と同層の膜１１６Ｂを有機膜上の端部近くの場所から有機膜除去領域(溝)１１３１内に至るように形成して終端させたことにある。
換言すれば、保護膜１１６Ｂは、対向電極１１４と同層であるが、対向電極１１４と切断されて所定間隔をおいて形成されている。

本第３の実施形態によれば、上述下第１および第２の実施形態と同様の効果を得ることができる。

＜第４実施形態＞
図１１は、本発明の第４の実施形態に係るアクティブマトリクス型液晶表示装置の構成を示す平面図である。図１２（Ａ），（Ｂ）は図１１の簡略断面図であって、図１２（Ａ）は図１１のａ−ａ線における簡略断面図であり、図１２（Ｂ）は図１１のｂ−ｂ線における簡略断面図である。

本第４の実施形態に係る液晶表示装置１０Ｃが上述した第１の実施形態に係る液晶表示装置１０と異なる点は、有機膜除去領域（溝）１１３１が画素領域ＰＸＬＡ１０の全外周を取り囲むように連続的に形成されるのではなく、複数箇所に分割して形成されている点にある。

この場合、図１２（Ｂ）に示すように、有機膜除去領域（溝）１１３１が形成されていない部分では、オーバーエッチングにより有機平坦化膜１１３に逆テーパー形状が形成されてしまうおそれが高いが、有機膜除去領域（溝）１１３１が形成されていない部分では、図１２（Ａ）に示すように、オーバーエッチングによる逆テーパー形状とはならないため、その後のスパッタ成膜時に膜が分断されてしまうことはない。
また、スパッタリングで形成された電極膜が良好なコンタクトを保ち放電を防ぐためには、画素領域に外周に沿う有機膜除去領域（溝）１１３１の長さの合計は、画素領域（表示エリア）外周の長さの１／３以上を占めている必要がある。

＜第５実施形態＞
図１３は、本発明の第５の実施形態に係るアクティブマトリクス型液晶表示装置の構成を示す平面図である。図１４は、図１３のａ−ａ線における簡略断面図である。

本第５の実施形態に係る液晶表示装置１０Ｄが上述した第１の実施形態に係る液晶表示装置１０と異なる点は、有機膜除去領域（溝）１１３１の外側の有機平坦化膜をすべて除去されていることにある。

このように、有機膜除去領域（溝）１１３１の外側の有機平坦化膜をすべて除去されている場合であって、上述した各実施形態と同様の効果を得ることができる。

以上説明したように、本実施形態によれば、被ドライエッチング膜をドライエッチする際に、膜端部において有機平坦化膜が逆テーパー形状になることを防ぎ、ひいては放電による欠陥発生を防ぐことができる。
また放電による不良発生を防ぐため、放電発生箇所から有効表示エリアまで十分に距離を取る必要がなく、画素領域（表示エリア）外側の額縁部面積を縮小し、電子デバイスの小型・軽量化が可能となる。

なお、本発明は、単純マトリクス方式、ＴＦＴアクティブマトリクス方式、ＴＦＤアクティブマトリクス方式など、旋光モード、複屈折モード、いずれの方式の液晶表示装置に適用しても、上述した効果が期待できる。
また、本発明は、液晶表示装置に限らず、有機ＥＬディスプレイ等にも適用可能である。

本実施形態に係る表示装置は、図１５に示すようにフラット型のモジュール形状のものを含む。
たとえば絶縁性の基板１１上に、液晶、薄膜トランジスタ等からなる画素をマトリックス状に集積形成した画素アレイ部を設け、この画素アレイ部（画素マトリックス部）を囲むように接着剤を配し、ガラス等の対向基板を貼り付けて表示モジュールとする。
この透明な対向基板１２には必要に応じて、前述した各実施形態のように、カラーフィルタ、保護膜、遮光膜等を設けられる。表示モジュールには、外部から画素アレイ部への信号等を入出力するためのコネクタＣＮＴとしてたとえばＦＰＣ（フレキシブルプリントサーキット）を設けてもよい。

以上説明した本実施形態に係る表示装置は、図１６〜図２０に示す様々な電子機器、たとえば、デジタルカメラ、ノート型パーソナルコンピュータ、携帯電話等の携帯端末装置、ビデオカメラなど、電子機器に入力された映像信号、若しくは、電子機器内で生成した映像信号を、画像若しくは映像として表示するあらゆる分野の電子機器の表示装置に適用することが可能である。
以下に、本実施形態が適用される電子機器の一例について説明する。

図１６は、本実施形態が適用されるテレビジョンを示す斜視図である。
本適用例に係るテレビジョン２００は、フロントパネル２２０やフィルタガラス２３０等から構成される映像表示画面部２１０を含み、その映像表示画面部２１０として本実施形態に係る表示装置を用いることにより作製される。

図１７は、本実施形態が適用されるデジタルカメラを示す斜視図であり、図１７（Ａ）は表側から見た斜視図、図１７（Ｂ）は裏側から見た斜視図である。
本適用例に係るデジタルカメラ２００Ａは、フラッシュ用の発光部２１１、表示部２１２、メニュースイッチ２１３、シャッターボタン２１４等を含み、その表示部２１２として本実施形態に係る表示装置を用いることにより作製される。

図１８は、本実施形態が適用されるノート型パーソナルコンピュータを示す斜視図である。
本適用例に係るノート型パーソナルコンピュータ２００Ｂは、本体２２１に、文字等を入力するとき操作されるキーボード２２２、画像を表示する表示部２２３等を含み、その表示部２２３として本実施形態に係る表示装置を用いることにより作製される。

図１９は、本実施形態が適用されるビデオカメラを示す斜視図である。
本適用例に係るビデオカメラ２００Ｃは、本体部２３１、前方を向いた面に被写体撮影用のレンズ２３２、撮影時のスタート／ストップスイッチ２３３、表示部２３４等を含み、その表示部２３４として本実施形態に係る表示装置を用いることにより作製される。

図２０は、本実施形態が適用される携帯端末装置、たとえば携帯電話機を示す図であり、図２０（Ａ）は開いた状態での正面図、図２０（Ｂ）はその側面図、図２０（Ｃ）は閉じた状態での正面図、図２０（Ｄ）は左側面図、図２０（Ｅ）は右側面図、図２０（Ｆ）は上面図、図２０（Ｇ）は下面図である。
本適用例に係る携帯電話機２００Ｄは、上側筐体２４１、下側筐体２４２、連結部（ここではヒンジ部）２４３、ディスプレイ２４４、サブディスプレイ２４５、ピクチャーライト２４６、カメラ２４７等を含み、そのディスプレイ２４４やサブディスプレイ２４５として本実施形態に係る表示装置を用いることにより作製される。

一般的な液晶表示装置の構成を示す図である。 ＦＦＳモードの液晶表示装置１Ａにおける有機膜上でドライエッチングしたときの様子を示す図である。 本発明の第１の実施形態に係るアクティブマトリクス型液晶表示装置の構成を示す簡略断面図である。 第１の実施形態に係るアクティブマトリクス型液晶表示装置の構成を示す平面図である。 図４のａ−ａ線における簡略断面図である。 本発明の第２の実施形態に係るアクティブマトリクス型液晶表示装置の構成を示す簡略断面図である。 第２の実施形態に係るアクティブマトリクス型液晶表示装置の構成を示す平面図である。 図７のａ−ａ線における簡略断面図である。 本発明の第３の実施形態に係るアクティブマトリクス型液晶表示装置の構成を示す平面図である。 図９のａ−ａ線における簡略断面図である。 本発明の第４の実施形態に係るアクティブマトリクス型液晶表示装置の構成を示す平面図である。 図１１のａ−ａ線およびｂ−ｂ線における簡略断面図である。 本発明の第５の実施形態に係るアクティブマトリクス型液晶表示装置の構成を示す平面図である。 図１３のａ−ａ線における簡略断面図である。 フラット型のモジュール形状の例を示す模式図である。 本実施形態が適用されるテレビを示す斜視図である。 本実施形態が適用されるデジタルカメラを示す斜視図である。 本実施形態が適用されるノート型パーソナルコンピュータを示す斜視図である。 本実施形態が適用されるビデオカメラを示す斜視図である。 本実施形態が適用される携帯端末装置、たとえば携帯電話機を示す図である。

符号の説明

１０・・・液晶表示装置、１１・・・アレイ基板、１１１・・・透明電極（画素電極、
透明導電膜）、１１２・・・薄膜トランジスタ、１１３・・・有機膜からなる平坦化膜、
１１３１・・・有機膜除去領域(溝)、１１４・・・対向電極、１１５・・・画素絶縁膜（
被ドライエッチング膜）、１１６，１１６Ｂ・・・保護膜、１２・・・対向基板、１３・
・・液晶層、１４・・・封止領域、２００，２００Ａ〜２００Ｄ・・・電子機器。

Claims (10)

1. 画素がマトリクス状に配置された画素領域を有する基体と、
   前記基体上に形成された有機膜からなる有機平坦化膜と、
   前記有機平坦化膜の上層に成膜され、ドライエッチングにより形成される被ドライエッチング膜と、
   前記被ドライエッチング膜上に形成される導電膜と、
   を有し、
   前記画素領域を取り囲むように配置された所定のシール材によって形成された封止領域の最外端より内側で、かつ、前記画素領域の外周端より外側にて、前記有機平坦化膜を除去した有機膜除去領域が形成され、
   前記被ドライエッチング膜、または当該被ドライエッチング膜を成膜する前に形成された膜が、前記有機膜除去領域内において終端されている
   表示装置。
2. 前記有機膜除去領域は、
   前記有機平坦化膜が、前記基体の主面に平行な面内の前記画素領域の外周端から前記封止領域の最外端までの領域内の一部の領域において、前記基体の主面に対して垂直方向のすべてが除去されている
   請求項１記載の表示装置。
3. 前記有機膜除去領域は、
   前記画素領域を取り囲むように全周にわたって連続的に形成されている
   請求項２記載の表示装置。
4. 前記有機膜除去領域は、
   前記画素領域の外周部において、分割して形成されている
   請求項２記載の表示装置。
5. 前記有機膜除去領域より外側の前記有機平坦化膜がすべて除去されている
   請求項１記載の表示装置。
6. 前記被ドライエッチング膜を成膜する前に形成した膜は、シリコン、インジウム、スズ、亜鉛、チタン、アルミニウム、モリブデン、タンタル、クロム、タングステン、銀のいずれかの元素を含む膜で形成される
   請求項１記載の表示装置。
7. 前記基体は、シリコン、インジウム、スズ、亜鉛、チタン、アルミニウム、モリブデン、タンタル、クロム、タングステン、銀のいずれかの元素を含む膜もしくは基板で形成される
   請求項１記載の表示装置。
8. 画素がマトリクス状に配置された画素領域を有する第１の基板と、
   前記第１の基板と対向して配置される第２の基板と、
   前記画素領域を取り囲むように前記第１の基板と前記第２の基板間に配置された所定のシール材によって形成された封止領域に液晶が封入されてなる液晶層と、
   前記第１の基板上に形成された有機膜からなる有機平坦化膜と、
   前記有機平坦化膜上に形成された対向電極と、
   前記対向電極および前記有機平坦化膜の上層に成膜され、ドライエッチングにより形成される被ドライエッチング膜と、
   前記被ドライエッチング膜上に形成される画素電極と、
   を有し、
   前記封止領域の最外端より内側で、かつ、前記画素領域の外周端より外側にて、前記有機平坦化膜を除去した有機膜除去領域が形成され、
   前記被ドライエッチング膜、または当該被ドライエッチング膜を成膜する前に形成された膜が、前記有機膜除去領域内において終端されている
   表示装置。
9. 表示装置を有する電子機器であって、
   前記表示装置は、
   画素がマトリクス状に配置された画素領域を有する基体と、
   前記基体上に形成された有機膜からなる有機平坦化膜と、
   前記有機平坦化膜の上層に成膜され、ドライエッチングにより形成される被ドライエッチング膜と、
   前記被ドライエッチング膜上に形成される導電膜と、
   を有し、
   前記画素領域を取り囲むように配置された所定のシール材によって形成された封止領域の最外端より内側で、かつ、前記画素領域の外周端より外側にて、前記有機平坦化膜を除去した有機膜除去領域が形成され、
   前記被ドライエッチング膜、または当該被ドライエッチング膜を成膜する前に形成された膜が、前記有機膜除去領域内において終端されている
   電子機器。
10. 表示装置を有する電子機器であって、
    前記表示装置は、
    画素がマトリクス状に配置された画素領域を有する第１の基板と、
    前記第１の基板と対向して配置される第２の基板と、
    前記画素領域を取り囲むように前記第１の基板と前記第２の基板間に配置された所定のシール材によって形成された封止領域に液晶が封入されてなる液晶層と、
    前記第１の基板上に形成された有機膜からなる有機平坦化膜と、
    前記有機平坦化膜上に形成された対向電極と、
    前記対向電極および前記有機平坦化膜の上層に成膜され、ドライエッチングにより形成される被ドライエッチング膜と、
    前記被ドライエッチング膜上に形成される画素電極と、
    を有し、
    前記封止領域の最外端より内側で、かつ、前記画素領域の外周端より外側にて、前記有機平坦化膜を除去した有機膜除去領域が形成され、
    前記被ドライエッチング膜、または当該被ドライエッチング膜を成膜する前に形成された膜が、前記有機膜除去領域内において終端されている
    電子機器。

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