JP5244987B2 - 平版印刷版原版及びその製版方法 - Google Patents
平版印刷版原版及びその製版方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5244987B2 JP5244987B2 JP2012019100A JP2012019100A JP5244987B2 JP 5244987 B2 JP5244987 B2 JP 5244987B2 JP 2012019100 A JP2012019100 A JP 2012019100A JP 2012019100 A JP2012019100 A JP 2012019100A JP 5244987 B2 JP5244987 B2 JP 5244987B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- printing plate
- lithographic printing
- general formula
- recording layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C1/00—Forme preparation
- B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
- B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
- B41C1/1016—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials characterised by structural details, e.g. protective layers, backcoat layers or several imaging layers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
- G03F7/0388—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/092—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers characterised by backside coating or layers, by lubricating-slip layers or means, by oxygen barrier layers or by stripping-release layers or means
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/11—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having cover layers or intermediate layers, e.g. subbing layers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/3035—Imagewise removal using liquid means from printing plates fixed on a cylinder or on a curved surface; from printing cylinders
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2201/00—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
- B41C2201/02—Cover layers; Protective layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2201/00—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
- B41C2201/04—Intermediate layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2201/00—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
- B41C2201/10—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes characterised by inorganic compounds, e.g. pigments
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2201/00—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
- B41C2201/12—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes characterised by non-macromolecular organic compounds
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2201/00—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
- B41C2201/14—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes characterised by macromolecular organic compounds, e.g. binder, adhesives
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/04—Negative working, i.e. the non-exposed (non-imaged) areas are removed
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/08—Developable by water or the fountain solution
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/22—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by organic non-macromolecular additives, e.g. dyes, UV-absorbers, plasticisers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/24—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. acrylics, vinyl polymers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Architecture (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
この平版印刷版を作製するため、従来は、親水性の支持体上に親油性の感光性樹脂層(画像記録層)を設けてなる平版印刷版原版(PS版)を用い、PS版にリスフィルムなどのマスクを通した露光を行った後、アルカリ性現像液などによる現像処理を行い、画像部に対応する画像記録層を残存させ、非画像部に対応する不要な画像記録層を溶解除去して、平版印刷版を得ていた。
また、簡易現像の方法としては、画像記録層の不要部分の除去を、従来の高アルカリ性現像液ではなく、pHが中性に近いフィニッシャー又はガム液によって行う「ガム現像」と呼ばれる方法も行われている。
更に、特許文献6には、支持体上に、活性光線吸収剤と重合開始剤と重合性化合物とを含有し、印刷インキ、湿し水又はこれらの両方により除去可能な画像記録層を有し、更に無機質の層状化合物を含有する保護層をこの順に有する平版印刷版原版記載されている。
しかしながら、塗布・乾燥段階でポリビニルアルコール樹脂及び表面が親水性である無機質層状化合物が画像記録層中に潜り込んだまま、露光により硬化して画像部となるため、刷り出し及び印刷途中でのインキ着肉性を低下させるという問題があった。
1.支持体上に、(A)赤外線吸収染料、(B)重合開始剤、(C)重合性化合物及び(D)アルキレンオキサイド基を有するバインダーポリマーを含有し、露光後に印刷機上で印刷インキ及び湿し水の少なくともいずれかにより未露光部を除去することで画像形成可能な画像記録層、並びに、(E)少なくとも下記一般式(1)、一般式(2)及び一般式(4)の各式で表される繰り返し単位を有し、一般式(4)で表される繰り返し単位が全繰返し単位に対して0.3〜5.0モル%である親水性ポリマーを含有する保護層をこの順に有することを特徴とする平版印刷版原版。
一般式(4)において、Xは単結合又は構造群(5)の構造のうちの二価の連結鎖、又は、構造群(5)の構造の複数を組み合わせて得られる二価の連結鎖を表す。Yは、カルボン酸基、カルボン酸塩基、スルホン酸基、スルホン酸塩基、リン酸基、リン酸塩基、ホスホン酸基、ホスホン酸塩基、ヒドロキシル基、カルボキシベタイン基、スルホベタイン基、アンモニウム基、又は、一般式(3)で表されるポリエーテル基を表す。
一般式(3)において、Lは炭素原子数2〜6のアルキレン基、R6は炭素原子数4〜8のアルキル基を表す。nはポリエーテルの平均付加モル数で2〜4の数である。
3.前記一般式(4)においてYが、スルホン酸基、スルホン酸塩基、カルボキシベタイン基、スルホベタイン基、及び、アンモニウム基から選択される少なくともいずれかの置換基であることを特徴とする前記1又は2に記載の平版印刷版原版。
4.一般式(4)のXが下記連結鎖のいずれかを含むことを特徴とする前記1〜3のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。
6.前記画像記録層が更に(G)疎水化前駆体を含有することを特徴とする前記1〜5のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。
7.前記1〜6のいずれか一項に記載の平版印刷版原版を、画像様露光した後、印刷機上で印刷インキ及び湿し水の少なくともいずれかを供給して画像記録層未露光部分を除去することを特徴とする平版印刷版の製版方法。
発明の作用機構は必ずしも明確ではないが、つぎのように推定している。
従来、機上現像性を付与するため(D)アルキレンオキサイド基を有するバインダーポリマーを画像記録層に含有させた場合は、保護層乾燥時に、保護層の親水性ポリマー及び/又は(F)無機質層状化合物が画像記録層成分と層間混合して現像後も画像部に残り、着肉性が低下するという欠点があった。
分子内に酸基又はその塩を含むことにより水溶性を確保する従来の親水性バインダーポリマーでは、画像記録層及び保護層の親水性が高くなるため、着肉性と現像性の両立が困難であった。特に無機質層状化合物を保護層に含む機上現像型平版印刷版原版においては、着肉性向上がより困難であった。
ところが、保護層に、一般式(1)で表される親水性成分に一般式(2)で表される単独では水溶性が極めて低い疎水性成分を水溶性が維持できる範囲で共重合し、更に、一般式(4)で表される特定構造を有する親水性成分を少量共重合した(E)親水性ポリマーを用いると、画像記録層に(D)アルキレンオキサイド基を有するバインダーポリマーが存在してもインキ着肉性が良好であった。
これは、本発明の(E)親水性ポリマーが、(F)無機質層状化合物がある場合においても、保護層成分と画像記録層成分との混合を抑制するため、機上現像時に保護層成分が速やかに除去されるようになった結果であると推定している。
また、経時した平版印刷版原版で起こりやすかった特色インキを用いた場合の着肉性低下が全く起こらなかった。
このように本発明は、従来技術の延長からは想像できない機上現像型平版印刷版原版の保護層用新規ポリマー技術であり、実用上の性能の大幅な向上を可能にするものである。
〔平版印刷版原版〕
本発明の平版印刷版原版は、支持体上に、印刷機上で印刷インキ及び湿し水の少なくともいずれかにより未露光部を除去することで画像形成可能な画像記録層、並びに、保護層をこの順に有する。また、本発明の平版印刷版原版は、支持体と画像記録層の間に下塗り層を有してもよい。
以下、本発明の平版印刷版原版の構成要素及び成分などについて説明する。
本発明の保護層は、少なくとも下記一般式(1)、一般式(2)及び一般式(4)で表される繰り返し単位を有する親水性ポリマー(以下、本発明の親水性ポリマーとも称する)を含有することを特徴とする。
一般式(4)において、Xは単結合又は構造群(5)の構造のうちの二価の連結鎖、又は、構造群(5)の構造の複数を組み合わせて得られる二価の連結鎖を表す。Yは、カルボン酸基、カルボン酸塩基、スルホン酸基、スルホン酸塩基、リン酸基、リン酸塩基、ホスホン酸基、ホスホン酸塩基、ヒドロキシル基、カルボキシベタイン基、スルホベタイン基、アンモニウム基、又は、一般式(3)で表されるポリエーテル基を表す。
一般式(3)において、Lは炭素原子数2〜6のアルキレン基、R6は炭素原子数4〜8のアルキル基表す。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、置換基を有してもよい。置換基としては芳香族環基が挙げられる。nはポリエーテルの平均付加モル数で2〜4の数である。
一般式(1)及び一般式(2)の各式で表わされる繰り返し単位の組み合わせとしては、一般式(1)及び一般式(2)のR1とR4が共に水素原子、一般式(1)のR2とR3が共に水素原子、一般式(2)のR5が炭素原子数4の分岐かつ無置換アルキル基である組み合わせが最も好ましい。
一般式(4)で表される繰り返し単位としては、水溶性及び機上現像性の観点から、Yはスルホン酸基、スルホン酸塩基、カルボキシベタイン基、スルホベタイン基、アンモニウム基が好ましく、スルホン酸基、スルホン酸塩基及びスルホベタイン基がより好ましい。
また、Xは下記連結鎖のいずれかを含むことが好ましい。
一般式(1)で表される繰り返し単位は、65〜96.7モル%を含むものが好ましく、70〜80モル%を含むものがより好ましく、74〜80モル%を含むものが特に好ましい。一般式(2)で表される繰り返し単位は、3〜30モル%を含むものが好ましく、20〜30モル%含むものがより好ましく、20〜26モル%含むものが特に好ましい。
本発明の保護層には、薄層で良好な酸素遮断性を得るため、無機質層状化合物を含有することが好ましい。
無機質層状化合物とは、薄い平板状の形状を有する粒子であり、例えば、下記一般式
A(B,C)2−5D4O10(OH,F,O)2
〔ただし、AはLi,K,Na,Ca,Mg,有機カチオンの何れか、B及びCはFe(II),Fe(III),Mn,Al,Mg,Vの何れかであり、DはSi又はAlである。〕で表される天然雲母、合成雲母等の雲母群、式3MgO・4SiO・H2Oで表されるタルク、テニオライト、モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライト、リン酸ジルコニウムなどが挙げられる。
本発明の画像記録層は、(A)赤外線吸収染料、(B)重合開始剤、(C)重合性化合物及び(D)アルキレンオキサイド基を有するバインダーポリマーを含有し、露光後に印刷機上で印刷インキ及び湿し水の少なくともいずれかにより未露光部を除去することで画像形成可能な画像記録層である。本発明の機上現像可能な画像記録層は、更に(G)疎水化前駆体を含有することが好ましい。
以下に、画像記録層に含有できる各成分について、順次説明する。
本発明の平版印刷版原版に用いられるアルキレンオキサイド基を有するバインダーポリマーは、ポリ(アルキレンオキサイド)部位を主鎖に有していても、側鎖に有していてもよく、ポリ(アルキレンオキサイド)を側鎖に有するグラフトポリマーでも、ポリ(アルキレンオキサイド)含有繰返し単位で構成されるブロックと、(アルキレンオキサイド)非含有繰返し単位で構成されるブロックとのブロックコポリマーでもよい。
側鎖に有する場合の主鎖のポリマーとしては、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、メタクリル樹脂、ポリスチレン系樹脂、ノボラック型フェノール系樹脂、ポリエステル樹脂、合成ゴム、天然ゴムが挙げられるが、特にアクリル樹脂が好ましい。
ポリ(アルキレンオキサイド)部位におけるアルキレンオキサイドの繰返し数は2〜120であり、2〜70の範囲が好ましく、2〜50の範囲がより好ましい。
アルキレンオキサイドの繰り返し数が120以下であれば摩耗による耐刷性、インキ受容性による耐刷性の両方が低下することがなく、好ましい。
上記の中でも、R1は水素原子又はメチル基が好ましく、水素原子が最も好ましい。R2は水素原子又はメチル基が最も好ましい。
(a)バインダーポリマー中のアルキレンオキサイド基含有モノマー単位の含有量は30質量%以上である。
(b)バインダーポリマー中のカルボン酸基含有モノマー単位は1質量%未満である。
分子の主鎖中にエチレン性不飽和結合を有するポリマーの例としては、ポリ−1,4−ブタジエン、ポリ−1,4−イソプレンなどが挙げられる。
分子の側鎖中にエチレン性不飽和結合を有するポリマーの例としては、アクリル酸又はメタクリル酸のエステル又はアミドのポリマーであって、エステル又はアミドの残基(−COOR又は−CONHRのR)がエチレン性不飽和結合を有するポリマーを挙げることができる。
アミド残基の具体例としては、−CH2 CH=CH2 、−CH2 CH2 −Y(式中、Yはシクロヘキセン残基を表す。)、−CH2 CH2 −OCO−CH=CH2 が挙げられる。
赤外線吸収染料は、吸収した赤外線を熱に変換する機能と赤外線により励起して後述の重合開始剤に電子移動及び/又はエネルギー移動する機能を有する。本発明において使用される赤外線吸収染料は、波長760〜1200nmに吸収極大を有する染料である。
これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、インドレニンシアニン色素が挙げられる。更に、シアニン色素やインドレニンシアニン色素が好ましく、特に好ましい例として下記一般式(a)で示されるシアニン色素が挙げられる。
また特開平5−5005号公報[0008]〜[0009]、特開2001−222101号公報[0022]〜[0025]に記載の化合物も好ましく使用することが出来る。
本発明に用いられる(B)重合開始剤としては、(C)重合性化合物の重合を開始、促進する化合物を示す。本発明において使用しうる重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤が好ましく、公知の熱重合開始剤、結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物、光重合開始剤などを使用することができる。
本発明における重合開始剤としては、例えば、(a)有機ハロゲン化物、(b)カルボニル化合物、(c)アゾ化合物、(d)有機過酸化物、(e)メタロセン化合物、(f)アジド化合物、(g)ヘキサアリールビイミダゾール化合物、(h)有機ボレート塩化合物、(i)ジスルホン化合物、(j)オキシムエステル化合物、(k)オニウム塩化合物、(l)カルボン酸系化合物が挙げられる。
(g)ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、例えば、特開2008−195018号公報の段落番号[0027]に記載の化合物が好ましい。
(l)カルボン酸系化合物としては、例えば、米国特許2003/118939(A1)号明細書〔0118〕〜〔0164〕、米国特許2004/091811(A1)号明細書〔0065〕〜〔0068〕、米国特許2004/259027(A1)号明細書〔0114〕〜〔0162〕、特開2005−059446号明細書〔0071〕〜〔0115〕に記載の化合物、等が挙げられる。
これらのラジカル重合開始剤は、1種類のみを単独で使用してもよいし、2種類以上を併用しても良い。併用する場合は、(k)オニウム塩化合物と、(h)有機ボレート塩化合物又は(l)カルボン酸系化合物とを併用することが特に好ましい。
以下に、これらの化合物の具体例を示すが、これに限定されない。
本発明における画像記録層に用いるラジカル重合性化合物は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれる。これらは、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物などの化学的形態をもつ。
CH2=C(R4)COOCH2CH(R5)OH (A)
(ただし、R4及びR5は、H又はCH3を示す。)
本発明では、機上現像性を向上させるため、疎水化前駆体を用いることが好ましい。本発明における疎水化前駆体とは、熱が加えられたときに画像記録層を疎水性に変換できる微粒子を意味する。微粒子としては、疎水性熱可塑性ポリマー微粒子、熱反応性ポリマー微粒子、重合性基を有するポリマー微粒子、疎水性化合物を内包しているマイクロカプセル、及びミクロゲル(架橋ポリマー微粒子)から選ばれる少なくともひとつであることが好ましい。なかでも、重合性基を有するポリマー微粒子及びミクロゲルが好ましい。
このようなポリマー微粒子を構成するポリマーの具体例としては、エチレン、スチレン、塩化ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、ビニルカルバゾール、ポリアルキレン構造を有するアクリレート又はメタクリレートなどのモノマーのホモポリマー若しくはコポリマー又はそれらの混合物を挙げることができる。その中で、より好適なものとして、ポリスチレン、スチレン及びアクリロニトリルを含む共重合体、ポリメタクリル酸メチルを挙げることができる。
本発明における画像記録層には、必要に応じて、更に他の成分を含有することができる。
(1)低分子親水性化合物
本発明における画像記録層は、耐刷性を低下させることなく機上現像性を向上させるために、低分子親水性化合物を含有してもよい。
低分子親水性化合物としては、例えば、水溶性有機化合物としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等のグリコール類及びそのエーテル又はエステル誘導体類、グリセリン、ペンタエリスリトール、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート等のポリオール類、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン等の有機アミン類及びその塩、アルキルスルホン酸、トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等の有機スルホン酸類及びその塩、アルキルスルファミン酸等の有機スルファミン酸類及びその塩、アルキル硫酸、アルキルエーテル硫酸等の有機硫酸類及びその塩、フェニルホスホン酸等の有機ホスホン酸類及びその塩、酒石酸、シュウ酸、クエン酸、リンゴ酸、乳酸、グルコン酸、アミノ酸類等の有機カルボン酸類及びその塩、ベタイン類、等が挙げられる。
これらの化合物は単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
本発明の画像記録層には、着肉性を向上させるために、画像記録層にホスホニウム化合物、含窒素低分子化合物、アンモニウム基含有ポリマーなどの感脂化剤を用いることができる。特に、保護層に無機質の層状化合物を含有させる場合、これらの化合物は、無機質の層状化合物の表面被覆剤として機能し、無機質の層状化合物による印刷途中の着肉性低下を防止する。
30質量%ポリマー溶液3.33g(固形分として1g)を、20mlのメスフラスコに秤量し、N−メチルピロリドンでメスアップする。この溶液を30℃の恒温槽で30分間静置し、ウベローデ還元粘度管(粘度計定数=0.010cSt/s)に入れて30℃にて流れ落ちる時間を測定する。なお測定は同一サンプルで2回測定し、その平均値を算出する。同様にブランク(N−メチルピロリドンのみ)の場合も測定し、下記式から還元比粘度(ml/g)を算出した。
(1)2−(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=p−トルエンスルホナート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比10/90 Mw4.5万)
(2)2−(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比20/80 Mw6.0万)
(3)2−(エチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=p−トルエンスルホナート/ヘキシルメタクリレート共重合体(モル比30/70 Mw4.5万)
(4)2−(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/2−エチルヘキシルメタクリレート共重合体(モル比20/80 Mw6.0万)
(5)2−(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=メチルスルファート/ヘキシルメタクリレート共重合体(モル比40/60 Mw7.0万)
(6)2−(ブチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比 25/75 Mw6.5万)
(7)2−(ブチルジメチルアンモニオ)エチルアクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比20/80 Mw6.5万)
(8)2−(ブチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=13−エチル−5,8,11−トリオキサ−1−ヘプタデカンスルホナート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比20/80 Mw7.5万)
(9)2−(ブチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート/2−ヒドロキシ−3−メタクロイルオキシプロピルメタクリレート共重合体(モル比15/80/5 Mw6.5万)
更にその他の成分として、界面活性剤、着色剤、焼き出し剤、重合禁止剤、高級脂肪酸誘導体、可塑剤、無機微粒子、無機質層状化合物、及び共増感剤若しくは連鎖移動剤などを添加することができる。具体的には、特開2008−284817号公報の段落番号[0114]〜[0159]、特開2006−091479号公報の段落番号[0023]〜[0027]、米国特許公開2008/0311520号明細書段落番号[0060]に記載の化合物及び添加量が好ましい。
本発明における画像記録層は、例えば、特開2008−195018号公報の段落番号[0142]〜[0143]に記載のように、必要な上記各成分を公知の溶剤に分散又は溶解して塗布液を調製し、これを支持体上にバーコーター塗布など公知の方法で塗布し、乾燥することで形成される。塗布、乾燥後に得られる支持体上の画像記録層塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、一般的に0.3〜3.0g/m2が好ましい。この範囲で、良好な感度と画像記録層の良好な皮膜特性が得られる。
本発明の平版印刷版原版は、画像記録層と支持体との間に下塗り層(中間層と呼ばれることもある)を設けることが好ましい。下塗り層は、露光部においては支持体と画像記録層との密着を強化し、未露光部においては画像記録層の支持体からのはく離を生じやすくさせるため、耐刷性を損なわず現像性を向上させるのに寄与する。また、赤外線レーザー露光の場合は、下塗り層が断熱層として機能することにより、露光により発生した熱が支持体に拡散して感度が低下するのを防ぐ。
より好ましいものとして、特開2005−125749号及び特開2006−188038号公報に記載の支持体表面に吸着可能な吸着性基、親水性基、及び架橋性基を有する高分子ポリマーが挙げられる。
下塗り層用の高分子ポリマーは、質量平均モル質量が5000以上であるのが好ましく、1万〜30万であるのがより好ましい。
本発明の平版印刷版原版に用いられる支持体としては、公知の支持体が用いられる。なかでも、公知の方法で粗面化処理され、陽極酸化処理されたアルミニウム板が好ましい。
また、上記アルミニウム板は必要に応じて、特開2001−253181号公報や特開2001−322365号公報に記載されている陽極酸化皮膜のマイクロポアの拡大処理や封孔処理、及び米国特許第2,714,066号、同第3,181,461号、同第3,280,734号及び同第3,902,734号の各明細書に記載されているようなアルカリ金属シリケートあるいは米国特許第3,276,868号、同第4,153,461号及び同第4,689,272号の各明細書に記載されているようなポリビニルホスホン酸などによる表面親水化処理を適宜選択して行うことができる。
支持体は、中心線平均粗さが0.10〜1.2μmであるのが好ましい。
本発明の平版印刷版原版の製版は機上現像方法で行うことが好ましい。機上現像方法は、平版印刷版原版を画像露光する工程と、露光後の平版印刷版原版になんらの現像処理を施すことなく、油性インキと水性成分とを供給して、印刷する印刷工程とを有し、該印刷工程の途上において平版印刷版原版の未露光部分が除去されることを特徴とする。画像様の露光は平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で行ってもよいし、プレートセッターなどで別途行ってもよい。後者の場合は、露光済み平版印刷版原版は現像処理工程を経ないでそのまま印刷機に装着される。その後、該印刷機を用い、油性インキと水性成分とを供給してそのまま印刷することにより、印刷途上の初期の段階で機上現像処理、すなわち、未露光領域の画像記録層が除去され、それに伴って親水性支持体表面が露出され非画像部が形成される。油性インキ及び水性成分としては、通常の平版印刷用の印刷インキと湿し水が用いられる。
以下、更に詳細に説明する。
赤外線レーザーに関しては、出力は100mW以上であることが好ましく、1画素当たりの露光時間は20マイクロ秒以内であるのが好ましく、また照射エネルギー量は10〜300mJ/cm2であるのが好ましい。レーザーにおいては、露光時間を短縮するためマルチビームレーザーデバイスを用いるのが好ましい。
このようにして、本発明の平版印刷版原版はオフセット印刷機上で機上現像され、そのまま多数枚の印刷に用いられる。
厚み0.3mmのアルミニウム板(材質JIS A 1050)の表面の圧延油を除去するため、10質量%アルミン酸ソーダ水溶液を用いて50℃で30秒間、脱脂処理を施した後、毛径0.3mmの束植ナイロンブラシ3本とメジアン径25μmのパミス−水懸濁液(比重1.1g/cm3)を用いアルミニウム表面を砂目立てして、水でよく洗浄した。この板を45℃の25質量%水酸化ナトリウム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、更に60℃で20質量%硝酸水溶液に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立面のエッチング量は約3g/m2であった。
次に、この板に15質量%硫酸水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)を電解液として電流密度15A/dm2で2.5g/m2の直流陽極酸化皮膜を設けた後、水洗、乾燥して支持体(1)を作製した。
その後、非画像部の親水性を確保するため、支持体(1)に2.5質量%3号ケイ酸ソーダ水溶液を用いて60℃で10秒間、シリケート処理を施し、その後、水洗して支持体(2)を得た。Siの付着量は10mg/m2であった。この基板の中心線平均粗さ(Ra)を直径2μmの針を用いて測定したところ、0.51μmであった。
次に、上記支持体(2)上に、下記下塗り層用塗布液(1)を乾燥塗布量が20mg/m2になるよう塗布して、下塗り層を有する支持体を作製した。
・下記構造の下塗り層用化合物(1) 0.18g
・ヒドロキシエチルイミノ二酢酸 0.10g
・メタノール 55.24g
・水 6.15g
上記のようにして形成された下塗り層上に、下記組成の画像記録層塗布液(1)をバー塗布した後、100℃60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量1.0g/m2の画像記録層を形成した。
画像記録層塗布液(1)は下記感光液(1)及びミクロゲル液(1)を塗布直前に混合し攪拌することにより得た。
・バインダーポリマー(2)〔下記構造〕 0.240g
・赤外線吸収染料(1)〔下記構造〕 0.030g
・重合開始剤(1)〔下記構造〕 0.162g
・ラジカル重合性化合物
トリス(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート
(NKエステルA−9300、新中村化学(株)製) 0.192g
・低分子親水性化合物
トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート 0.062g
・低分子親水性化合物(1)〔下記構造〕 0.050g
・感脂化剤 ホスホニウム化合物(1)〔下記構造〕 0.055g
・感脂化剤
ベンジル−ジメチル−オクチルアンモニウム・PF6塩 0.018g
・感脂化剤 アンモニウム基含有ポリマー
[下記構造、還元比粘度44ml/g] 0.035g
・フッ素系界面活性剤(1)〔下記構造〕 0.008g
・2−ブタノン 1.091g
・1−メトキシ−2−プロパノール 8.609g
・ミクロゲル(1) 2.640g
・蒸留水 2.425g
油相成分として、トリメチロールプロパンとキシレンジイソシアナート付加体(三井化学(株)製、タケネートD−110N)10g、ペンタエリスリトールトリアクリレート(日本化薬(株)製、SR444)3.15g、及びアルキルベンゼンスルホン酸塩(竹本油脂(株)製、パイオニンA−41C)0.1gを酢酸エチル17gに溶解した。水相成分としてポリビニルアルコール((株)クラレ製PVA−205)の4質量%水溶液40gを調製した。油相成分及び水相成分を混合し、ホモジナイザーを用いて12,000rpmで10分間乳化した。得られた乳化物を、蒸留水25gに添加し、室温で30分攪拌後、50℃で3時間攪拌した。このようにして得られたミクロゲル液の固形分濃度を、15質量%になるように蒸留水を用いて希釈し、これを前記ミクロゲル(1)とした。ミクロゲルの平均粒径を光散乱法により測定したところ、平均粒径は0.2μmであった。
上記画像記録層上に、更に下記組成の保護層用塗布液(1)をバー塗布した後、120℃、60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量0.15g/m2の保護層を形成して実施例1〜92及び94、並びに、比較例1〜4の平版印刷版原版を得た。
また、上記保護層用塗布液(1)の代わりに下記組成の保護層用塗布液(2)を用いた以外は実施例4の平版印刷版原版と同様に保護層を設けて実施例93の平版印刷版原版を得た。
・無機層状化合物分散液(1) 1.5g
・表2〜3の親水性ポリマー(固形分) 0.070g
・日本エマルジョン(株)製界面活性剤 ポリオキシエチレンラウリルエーテル
(エマレックス710)1質量%水溶液 0.86g
・イオン交換水 6.54g
イオン交換水193.6gに合成雲母ソマシフME−100(コープケミカル(株)製)6.4gを添加し、ホモジナイザーを用いて平均粒径(レーザー散乱法)が3μmになるまで分散した。得られた分散粒子のアスペクト比は100以上であった。
・親水性ポリマー4 (固形分として) 0.070g
・日本エマルジョン(株)製界面活性剤 ポリオキシエチレンラウリルエーテル
(エマレックス710)1質量%水溶液 0.86g
・イオン交換水 8.00g
得られた平版印刷版原版を用いて、機上現像性、着肉性(初期着肉性、特色インキでの着肉性)及び耐刷性について下記の要領で評価した。特色インキでの着肉性については、平版印刷版原版を経時させた場合についても評価した。
得られた平版印刷版原版を赤外線半導体レーザー搭載の富士フイルム(株)製Luxel PLATESETTER T−6000IIIにて、外面ドラム回転数1000rpm、レーザー出力70%、解像度2400dpiの条件で露光した。露光画像にはベタ画像及び20μmドットFMスクリーンの50%網点チャートを含むようにした。
得られた露光済み原版を現像処理することなく、(株)小森コーポレーション製印刷機LITHRONE26の版胴に取り付けた。Ecolity−2(富士フイルム(株)製)/水道水=2/98(容量比)の湿し水とValues−G(N)墨インキ(DIC(株)製)とを用い、LITHRONE26の標準自動印刷スタート方法で湿し水とインキとを供給して機上現像した後、毎時10000枚の印刷速度で、特菱アート(76.5kg)紙に印刷を100枚行った。
画像記録層の未露光部の印刷機上での機上現像が完了し、非画像部にインキが転写しない状態になるまでに要した印刷用紙の枚数を機上現像性として計測した。結果を表2〜3に示す。
i)初期着肉性
上記の印刷スタートにおいて、画像記録層の露光部領域の印刷用紙上インキ濃度が標準濃度に達するまでに要した印刷用紙の枚数を初期着肉性として計測した。結果を表2〜3に示す。
得られた露光済み原版を現像処理することなく、(株)小森コーポレーション製印刷機LITHRONE26の版胴に取り付けた。Ecolity−2(富士フイルム(株)製)/水道水=2/98(容量比)の湿し水とEpple Pantone Blau 072C(Epple社製インキ)とを用い、LITHRONE26の標準自動印刷スタート方法で湿し水とインキとを供給して機上現像した後、毎時10000枚の印刷速度で、特菱アート(76.5kg)紙に印刷を行った。1万枚目印刷用紙をサンプリングし、20%FM網点部のインキ濃度をグレタグ濃度計で調べた。その測定値を基にインキ着肉性の評価を次の指標で表2〜3に示す。
B.インキ濃度1.5〜1.7:ややインキ濃度低下しているが許容レベル。
C.インキ濃度1.0〜1.4:はっきりとインキ濃度低下しておりNGレベル。
D.インキ濃度0.9以下:インキ濃度低下著しく劣悪。
上述した塗布直後の機上現像性の評価を行った後、更に印刷を続けた。印刷枚数を増やしていくと徐々に画像記録層が磨耗するため印刷物上のインキ濃度が低下した。印刷物におけるFMスクリーン50%網点の網点面積率をグレタグ濃度計で計測した値が印刷100枚目の計測値よりも5%低下したときの印刷部数を刷了枚数として耐刷性を評価した。結果を表2〜3に示す。
Claims (7)
- 支持体上に、(A)赤外線吸収染料、(B)重合開始剤、(C)重合性化合物及び(D)アルキレンオキサイド基を有するバインダーポリマーを含有し、露光後に印刷機上で印刷インキ及び湿し水の少なくともいずれかにより未露光部を除去することで画像形成可能な画像記録層、並びに、(E)少なくとも下記一般式(1)、一般式(2)及び一般式(4)の各式で表される繰り返し単位を有し、一般式(4)で表される繰り返し単位が全繰返し単位に対して0.3〜5.0モル%である親水性ポリマーを含有する保護層をこの順に有することを特徴とする平版印刷版原版。
一般式(1)、(2)及び(4)において、R1、R4及びR7は、各々独立に、水素原子又はメチル基を表す。R2及びR3は、同一又は異なってもよい水素原子、メチル基、又はエチル基を表す。R5は、炭素原子数2〜10のアルキル基を表す。
一般式(4)において、Xは単結合又は構造群(5)の構造のうちの二価の連結鎖、又は、構造群(5)の構造の複数を組み合わせて得られる二価の連結鎖を表す。Yは、カルボン酸基、カルボン酸塩基、スルホン酸基、スルホン酸塩基、リン酸基、リン酸塩基、ホスホン酸基、ホスホン酸塩基、ヒドロキシル基、カルボキシベタイン基、スルホベタイン基、アンモニウム基、又は、一般式(3)で表されるポリエーテル基を表す。
一般式(3)において、Lは炭素原子数2〜6のアルキレン基、R6は炭素原子数4〜8のアルキル基を表す。nはポリエーテルの平均付加モル数で2〜4の数である。 - 前記一般式(1)で表される繰り返し単位のR2及びR3が共に水素原子であり、一般式(2)で表される繰り返し単位のR5が、炭素原子数2〜8の直鎖、分岐又は環状の無置換アルキル基であることを特徴とする請求項1に記載の平版印刷版原版。
- 前記一般式(4)においてYが、スルホン酸基、スルホン酸塩基、カルボキシベタイン基、スルホベタイン基、及び、アンモニウム基から選択される少なくともいずれかの置換基であることを特徴とする請求項1又は2に記載の平版印刷版原版。
- 前記保護層が、(F)無機質層状化合物を含有することを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。
- 前記画像記録層が更に(G)疎水化前駆体を含有することを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。
- 請求項1〜6のいずれか一項に記載の平版印刷版原版を、画像様露光した後、印刷機上で印刷インキ及び湿し水の少なくともいずれかを供給して画像記録層未露光部分を除去することを特徴とする平版印刷版の製版方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012019100A JP5244987B2 (ja) | 2011-02-28 | 2012-01-31 | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
| US13/406,095 US8435720B2 (en) | 2011-02-28 | 2012-02-27 | Lithographic printing plate precursor and plate making method thereof |
| EP12157267.1A EP2492751B1 (en) | 2011-02-28 | 2012-02-28 | Lithographic printing plate precursor and plate making method thereof |
| CN201210055580.5A CN102653158B (zh) | 2011-02-28 | 2012-02-28 | 平版印刷版原版及其制版方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011043397 | 2011-02-28 | ||
| JP2011043397 | 2011-02-28 | ||
| JP2012019100A JP5244987B2 (ja) | 2011-02-28 | 2012-01-31 | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2012192728A JP2012192728A (ja) | 2012-10-11 |
| JP5244987B2 true JP5244987B2 (ja) | 2013-07-24 |
Family
ID=45814362
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2012019100A Active JP5244987B2 (ja) | 2011-02-28 | 2012-01-31 | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8435720B2 (ja) |
| EP (1) | EP2492751B1 (ja) |
| JP (1) | JP5244987B2 (ja) |
| CN (1) | CN102653158B (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5789448B2 (ja) * | 2010-08-31 | 2015-10-07 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
| JP5514781B2 (ja) * | 2011-08-31 | 2014-06-04 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及びこれを用いた平版印刷版の作成方法 |
| JP5604398B2 (ja) * | 2011-09-30 | 2014-10-08 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法 |
| EP2869122A4 (en) * | 2012-06-29 | 2016-03-02 | Fujifilm Corp | METHOD FOR CONCENTRATING PROCESS WASTEWATER AND RECYCLING PROCESS FOR WASTE WATER |
| KR101697403B1 (ko) * | 2013-09-30 | 2017-01-17 | 주식회사 엘지화학 | 편광판 및 이를 포함하는 화상표시장치 |
| CN105960335B (zh) * | 2014-02-04 | 2020-12-11 | 富士胶片株式会社 | 平版印刷版原版及其制造方法、平版印刷版的制版方法以及印刷方法 |
| EP3793829B1 (en) * | 2018-05-14 | 2023-07-12 | Agfa Offset Bv | A lithographic printing plate precursor |
| JPWO2024190447A1 (ja) * | 2023-03-15 | 2024-09-19 |
Family Cites Families (105)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE540601A (ja) | 1950-12-06 | |||
| US2833827A (en) | 1955-01-17 | 1958-05-06 | Bayer Ag | Tri (3, 5-di lower alkyl-4-hydroxy phenyl)-sulfonium chlorides and method of preparing same |
| BE606888A (ja) | 1960-08-05 | 1900-01-01 | ||
| US3280734A (en) | 1963-10-29 | 1966-10-25 | Howard A Fromson | Photographic plate |
| US3181461A (en) | 1963-05-23 | 1965-05-04 | Howard A Fromson | Photographic plate |
| ZA6807938B (ja) | 1967-12-04 | |||
| JPS4841708B1 (ja) | 1970-01-13 | 1973-12-07 | ||
| DE2064079C2 (de) | 1970-12-28 | 1982-09-09 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Photopolymerisierbares Gemisch |
| DE2361041C3 (de) | 1973-12-07 | 1980-08-14 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Photopolymerisierbares Gemisch |
| US3902734A (en) | 1974-03-14 | 1975-09-02 | Twm Mfg Co | Frames for axle suspension systems |
| GB1512982A (en) | 1974-05-02 | 1978-06-01 | Gen Electric | Salts |
| US4069056A (en) | 1974-05-02 | 1978-01-17 | General Electric Company | Photopolymerizable composition containing group Va aromatic onium salts |
| JPS5311314B2 (ja) | 1974-09-25 | 1978-04-20 | ||
| US4173476A (en) | 1978-02-08 | 1979-11-06 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Complex salt photoinitiator |
| DE2822189A1 (de) | 1978-05-20 | 1980-04-17 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch |
| DE2822190A1 (de) | 1978-05-20 | 1979-11-22 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch |
| DE3036694A1 (de) | 1980-09-29 | 1982-06-03 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Gummielastische, ethylenisch ungesaettigte polyurethane und dieselben enthaltendes durch strahlung polymerisierbares gemisch |
| DE3048502A1 (de) | 1980-12-22 | 1982-07-22 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Durch strahlung polymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial |
| US4518676A (en) | 1982-09-18 | 1985-05-21 | Ciba Geigy Corporation | Photopolymerizable compositions containing diaryliodosyl salts |
| DE3406101A1 (de) | 1984-02-21 | 1985-08-22 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Verfahren zur zweistufigen hydrophilierenden nachbehandlung von aluminiumoxidschichten mit waessrigen loesungen und deren verwendung bei der herstellung von offsetdruckplattentraegern |
| JP2525568B2 (ja) | 1985-01-18 | 1996-08-21 | 富士写真フイルム株式会社 | 光可溶化組成物 |
| DE3604581A1 (de) | 1986-02-14 | 1987-08-20 | Basf Ag | 4-acylbenzylsulfoniumsalze, ihre herstellung sowie sie enthaltende photohaertbare gemische und aufzeichnungsmaterialien |
| DE3604580A1 (de) | 1986-02-14 | 1987-08-20 | Basf Ag | Haertbare mischungen, enthaltend n-sulfonylaminosulfoniumsalze als kationisch wirksame katalysatoren |
| US4760013A (en) | 1987-02-17 | 1988-07-26 | International Business Machines Corporation | Sulfonium salt photoinitiators |
| DE3721740A1 (de) | 1987-07-01 | 1989-01-12 | Basf Ag | Sulfoniumsalze mit saeurelabilen gruppierungen |
| DE3721741A1 (de) | 1987-07-01 | 1989-01-12 | Basf Ag | Strahlungsempfindliches gemisch fuer lichtempfindliche beschichtungsmaterialien |
| JPH0721633B2 (ja) | 1987-07-10 | 1995-03-08 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光材料 |
| US4933377A (en) | 1988-02-29 | 1990-06-12 | Saeva Franklin D | Novel sulfonium salts and the use thereof as photoinitiators |
| CA2002873A1 (en) | 1988-11-21 | 1990-05-21 | Franklin Donald Saeva | Onium salts and the use thereof as photoinitiators |
| JPH02150848A (ja) | 1988-12-02 | 1990-06-11 | Hitachi Ltd | 光退色性放射線感応性組成物およびそれを用いたパターン形成法 |
| JP2655349B2 (ja) | 1989-05-18 | 1997-09-17 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版 |
| JP2988756B2 (ja) | 1991-04-26 | 1999-12-13 | 協和醗酵工業株式会社 | 光重合開始剤およびこれを含有する光重合性組成物 |
| JPH04365049A (ja) | 1991-06-12 | 1992-12-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
| JPH05158230A (ja) | 1991-12-10 | 1993-06-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | ポジ型感光性組成物 |
| JP2907643B2 (ja) | 1992-07-16 | 1999-06-21 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版およびその処理方法 |
| WO1994017452A1 (en) | 1993-01-20 | 1994-08-04 | Agfa-Gevaert Naamloze Vennootschap | Photopolymerizable composition of high sensitivity and method for obtaining images therewith |
| JPH08108621A (ja) | 1994-10-06 | 1996-04-30 | Konica Corp | 画像記録媒体及びそれを用いる画像形成方法 |
| EP0770494B1 (en) | 1995-10-24 | 2000-05-24 | Agfa-Gevaert N.V. | A method for making a lithographic printing plate involving on press development |
| DE69623140T2 (de) | 1995-10-24 | 2003-03-27 | Agfa-Gevaert, Mortsel | Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte mit auf der Druckpresse stattfindender Entwicklung |
| DE69613078T2 (de) | 1995-11-09 | 2001-11-22 | Agfa-Gevaert N.V., Mortsel | Wärmeempfindliches Aufzeichnungselement und Verfahren zur Herstellung einer Druckform damit |
| DE69608522T2 (de) | 1995-11-09 | 2001-01-25 | Agfa-Gevaert N.V., Mortsel | Wärmeempfindliches Aufzeichnungselement und Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckform damit |
| JPH09179298A (ja) | 1995-12-22 | 1997-07-11 | Mitsubishi Chem Corp | 光重合性組成物 |
| JPH09179296A (ja) | 1995-12-22 | 1997-07-11 | Mitsubishi Chem Corp | 光重合性組成物 |
| JPH09179297A (ja) | 1995-12-22 | 1997-07-11 | Mitsubishi Chem Corp | 光重合性組成物 |
| JPH10282679A (ja) | 1997-04-08 | 1998-10-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | ネガ型感光性平版印刷版 |
| JP3839552B2 (ja) | 1997-06-03 | 2006-11-01 | コダックポリクロームグラフィックス株式会社 | 印刷現像感光性平版印刷版及びその製版方法 |
| DE69812871T2 (de) | 1998-01-23 | 2004-02-26 | Agfa-Gevaert | Wärmeempfindliches Aufzeichnungselement und Verfahren um damit Flachdruckplatten herzustellen |
| JP2000250211A (ja) | 1999-03-01 | 2000-09-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物 |
| JP2001133969A (ja) | 1999-11-01 | 2001-05-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | ネガ型平版印刷版原版 |
| US6740464B2 (en) | 2000-01-14 | 2004-05-25 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor |
| JP2001277742A (ja) | 2000-01-27 | 2001-10-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用原版 |
| JP2001277740A (ja) | 2000-01-27 | 2001-10-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用原版 |
| JP4092055B2 (ja) | 2000-02-09 | 2008-05-28 | 三菱製紙株式会社 | 感光性組成物および感光性平版印刷版材料 |
| JP2001253181A (ja) | 2000-03-09 | 2001-09-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | ポジ型感熱性平版印刷用原板 |
| JP3449342B2 (ja) | 2000-03-30 | 2003-09-22 | 三菱化学株式会社 | 光硬化性組成物、低複屈折光学部材及びその製造方法 |
| JP2001322365A (ja) | 2000-05-16 | 2001-11-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感熱性平版印刷用原板 |
| JP4162365B2 (ja) | 2000-07-07 | 2008-10-08 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版用原版 |
| JP2002023360A (ja) | 2000-07-12 | 2002-01-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | ネガ型画像記録材料 |
| JP4156784B2 (ja) | 2000-07-25 | 2008-09-24 | 富士フイルム株式会社 | ネガ型画像記録材料及び画像形成方法 |
| JP4414607B2 (ja) | 2001-03-14 | 2010-02-10 | 富士フイルム株式会社 | ラジカル重合性化合物 |
| JP4266077B2 (ja) | 2001-03-26 | 2009-05-20 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び平版印刷方法 |
| JP2002287344A (ja) | 2001-03-27 | 2002-10-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性平版印刷版 |
| US20030118939A1 (en) | 2001-11-09 | 2003-06-26 | Kodak Polychrome Graphics, L.L.C. | High speed negative working thermal printing plates |
| US20040091811A1 (en) | 2002-10-30 | 2004-05-13 | Munnelly Heidi M. | Hetero-substituted aryl acetic acid co-initiators for IR-sensitive compositions |
| US20040259027A1 (en) | 2001-04-11 | 2004-12-23 | Munnelly Heidi M. | Infrared-sensitive composition for printing plate precursors |
| JP2002328465A (ja) | 2001-04-27 | 2002-11-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版 |
| JP2003064130A (ja) | 2001-08-29 | 2003-03-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物 |
| JP3989270B2 (ja) | 2002-03-25 | 2007-10-10 | 富士フイルム株式会社 | 光重合性組成物 |
| DE50204080D1 (de) | 2002-04-29 | 2005-10-06 | Agfa Gevaert Nv | Strahlungsempfindliches Gemisch, damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial, und Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte |
| DE10255663B4 (de) | 2002-11-28 | 2006-05-04 | Kodak Polychrome Graphics Gmbh | Strahlungsempfindliche Elemente |
| JP4299032B2 (ja) | 2003-03-28 | 2009-07-22 | 三菱製紙株式会社 | 感光性平版印刷版材料 |
| ATE491968T1 (de) | 2003-07-22 | 2011-01-15 | Fujifilm Corp | Flachdruckplattenvorläufer und lithographisches druckverfahren |
| JP2005059446A (ja) | 2003-08-15 | 2005-03-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版及び平版印刷方法 |
| JP4815113B2 (ja) | 2003-09-24 | 2011-11-16 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版および平版印刷方法 |
| JP4644458B2 (ja) | 2003-09-30 | 2011-03-02 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版および平版印刷方法 |
| WO2005109103A1 (en) * | 2004-05-06 | 2005-11-17 | Agfa-Gevaert | Photopolymer printing plate precursor. |
| JP2006065210A (ja) | 2004-08-30 | 2006-03-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版 |
| JP4460986B2 (ja) | 2004-09-24 | 2010-05-12 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
| JP2006188038A (ja) | 2004-12-10 | 2006-07-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版および製版方法 |
| JP4469734B2 (ja) | 2005-02-03 | 2010-05-26 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
| JP5172097B2 (ja) | 2005-02-28 | 2013-03-27 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版および平版印刷版原版の製造方法 |
| JP2006239867A (ja) | 2005-02-28 | 2006-09-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版および平版印刷方法 |
| JP2006243493A (ja) | 2005-03-04 | 2006-09-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版 |
| EP1739486B1 (en) | 2005-06-29 | 2015-06-03 | FUJIFILM Corporation | Photosensitive lithographic printing plate |
| US7153632B1 (en) | 2005-08-03 | 2006-12-26 | Eastman Kodak Company | Radiation-sensitive compositions and imageable materials |
| JP4759343B2 (ja) | 2005-08-19 | 2011-08-31 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版および平版印刷方法 |
| JP5170960B2 (ja) | 2005-08-29 | 2013-03-27 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、及び平版印刷方法 |
| JP2007094138A (ja) | 2005-09-29 | 2007-04-12 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
| JP5238170B2 (ja) | 2006-03-14 | 2013-07-17 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
| JP4796890B2 (ja) | 2006-03-31 | 2011-10-19 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び平版印刷方法 |
| JP2007293221A (ja) | 2006-03-31 | 2007-11-08 | Fujifilm Corp | 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版 |
| JP2008162056A (ja) | 2006-12-27 | 2008-07-17 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版およびその製造方法 |
| JP2008195018A (ja) | 2007-02-15 | 2008-08-28 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版および平版印刷方法 |
| JP4826918B2 (ja) | 2007-04-03 | 2011-11-30 | 三菱化学株式会社 | 光重合性組成物 |
| JP5046744B2 (ja) | 2007-05-18 | 2012-10-10 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法 |
| JP2008284858A (ja) | 2007-05-21 | 2008-11-27 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法 |
| US20080311520A1 (en) | 2007-06-13 | 2008-12-18 | Jianfei Yu | On-press developable negative-working imageable elements and methods of use |
| EP2006738B1 (en) * | 2007-06-21 | 2017-09-06 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor |
| JP2009056717A (ja) * | 2007-08-31 | 2009-03-19 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版および平版印刷方法 |
| JP2009090645A (ja) | 2007-09-20 | 2009-04-30 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法 |
| EP2040124A1 (en) * | 2007-09-24 | 2009-03-25 | Eastman Kodak Company | Method for making lithographic printing plates |
| JP5322537B2 (ja) | 2007-10-29 | 2013-10-23 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
| AU2009229796A1 (en) * | 2008-03-27 | 2009-10-01 | Fujifilm Corporation | Original plate for lithographic printing plate, and method for production of lithographic printing plate using the same |
| JP5292156B2 (ja) * | 2009-03-30 | 2013-09-18 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
| JP5789448B2 (ja) * | 2010-08-31 | 2015-10-07 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
-
2012
- 2012-01-31 JP JP2012019100A patent/JP5244987B2/ja active Active
- 2012-02-27 US US13/406,095 patent/US8435720B2/en active Active
- 2012-02-28 EP EP12157267.1A patent/EP2492751B1/en active Active
- 2012-02-28 CN CN201210055580.5A patent/CN102653158B/zh active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2012192728A (ja) | 2012-10-11 |
| EP2492751A1 (en) | 2012-08-29 |
| CN102653158A (zh) | 2012-09-05 |
| EP2492751B1 (en) | 2014-04-02 |
| CN102653158B (zh) | 2015-04-15 |
| US8435720B2 (en) | 2013-05-07 |
| US20120219911A1 (en) | 2012-08-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5789448B2 (ja) | 平版印刷版原版及びその製版方法 | |
| JP5894905B2 (ja) | 新聞印刷用平版印刷版原版及びその製造方法、並びに平版印刷版の製版方法 | |
| JP5205505B2 (ja) | 平版印刷版原版及びその平版印刷方法 | |
| JP6285036B2 (ja) | 発色組成物、平版印刷版原版、平版印刷版の製版方法、及び、発色剤 | |
| JP5828045B2 (ja) | 平版印刷版原版及び製版方法 | |
| JP5786099B2 (ja) | 平版印刷版原版及び平版印刷版の製版方法 | |
| JP5277039B2 (ja) | 平版印刷版原版およびその製版方法 | |
| JP2012192728A (ja) | 平版印刷版原版及びその製版方法 | |
| JP5651554B2 (ja) | 機上現像型平版印刷版原版及びそれを用いる製版方法 | |
| JP6012864B2 (ja) | 平版印刷版原版の処理液及び処理方法 | |
| JP5448882B2 (ja) | 平版印刷版原版及びその製版方法 | |
| JP2012176606A (ja) | 平版印刷版原版及びその製版方法 | |
| JP5736277B2 (ja) | 平版印刷版原版 | |
| JP2013199089A (ja) | 赤外発色性硬化組成物、平版印刷版原版、及び製版方法 | |
| JP2017013318A (ja) | 平版印刷版原版、及び、平版印刷版の製版方法 | |
| JP5514781B2 (ja) | 平版印刷版原版及びこれを用いた平版印刷版の作成方法 | |
| JP2011073370A (ja) | 平版印刷版原版、及びその製版方法 | |
| JP5183598B2 (ja) | 平版印刷版原版 | |
| JP2010228356A (ja) | 平版印刷版原版 | |
| JP2017047564A (ja) | 平版印刷版原版、及び、平版印刷版の製版方法 | |
| WO2014156449A1 (ja) | 平版印刷版原版及びその製版方法 | |
| JP2014162156A (ja) | 平版印刷版原版、及び、これを用いた製版方法 | |
| JP2011148292A (ja) | 平版印刷版原版及びその製版方法 | |
| WO2015064331A1 (ja) | 発色性組成物、平版印刷版原版及びその製版方法 | |
| JP2011218807A (ja) | 平版印刷版原版及びその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20120914 |
|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20121004 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130227 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130312 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130408 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160412 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 5244987 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
