JP5258024B2 - Laser cutting method and workpiece - Google Patents

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Description

この発明は、例えば、薄型液晶パネルなどに用いる薄板ガラス等の基板を切断するためのレーザ切断方法および被切断物に関するものである。   The present invention relates to a laser cutting method and an object to be cut for cutting a substrate such as thin glass used for a thin liquid crystal panel, for example.

近年、液晶、有機ELなどに代表されるディスプレイの薄型化の動きが急速に進んでいる。この流れに伴い薄型ディスプレイに適した加工技術の開発も盛んに行われている。ガラス基板はケミカルエッチングなどの方法で薄型化される。一方で、ガラス基板を切断する方法は、歩留まり、加工速度等の問題から、ガラス基板のエッチング前にパネルサイズに割断した後、薄型化する方法が一般的である。しかし、薄いガラスを歩留まり良く、高速で切断することができれば、プロセス上大変有利である。   2. Description of the Related Art In recent years, there has been a rapid movement toward thinning displays typified by liquid crystal and organic EL. With this trend, development of processing technology suitable for thin displays has been actively conducted. The glass substrate is thinned by a method such as chemical etching. On the other hand, a method of cutting a glass substrate is generally a method of thinning after cutting into a panel size before etching the glass substrate because of problems such as yield and processing speed. However, if thin glass can be cut with high yield and high speed, it is very advantageous in terms of the process.

これまで、ガラス基板をレーザ切断する方法としては、特開平11−104869号に開示されているように、予め割断線にケミカルエッチングで溝を作った後、レーザを照射する方法、特開2006−35710号に開示されるように、第1のレーザ光で加工物表面を改質し、第2のレーザ光をこの改質部に照射して加工する方法、あるいは特開2007−238438号に開示されるように、ガラス基板の切断予定線に沿って、レーザ光を照射する際、切断開始から終了までの間で切断条件を変更する方法、さらにこの報文にはガラス基板貼り合わせパネルの上下から同様に2つのレーザを照射して、パネルを切断する方法が記載されている。これらの方法は、いずれもレーザ照射によるガラス基板の温度勾配によって発生する熱応力が基板の厚さ方向に亀裂を発生させる現象を利用している。   Conventionally, as a method for laser cutting a glass substrate, as disclosed in JP-A-11-104869, a groove is formed in advance by chemical etching on a breaking line, and then laser irradiation is performed, As disclosed in Japanese Patent No. 35710, the surface of a workpiece is modified with a first laser beam and the modified portion is irradiated with a second laser beam for processing, or disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2007-238438. As described above, when irradiating the laser beam along the planned cutting line of the glass substrate, a method of changing the cutting condition from the start to the end of the cutting, and further, this report describes the upper and lower sides of the glass substrate bonding panel. In the same manner, a method for cutting a panel by irradiating two lasers is described. Each of these methods utilizes a phenomenon in which thermal stress generated by a temperature gradient of a glass substrate caused by laser irradiation causes a crack in the thickness direction of the substrate.

しかしながら、ガラス基板の厚さが薄くなると、この方法では単純に厚さ方向へは亀裂の伝搬がしにくくなるため、割断後にも切り出した基板端部にクラックが残ったり、割断中に基板が割れたりし、歩留まり良く切断することができない。さらに、これらの方法は、亀裂の進展を利用しているため、複雑な形状や任意の形状に加工することはできない。   However, if the thickness of the glass substrate is reduced, this method simply makes it difficult for cracks to propagate in the thickness direction.Therefore, cracks remain at the edge of the cut out substrate after cleaving, or the substrate breaks during cleaving. Or cut with good yield. Furthermore, since these methods utilize the progress of cracks, they cannot be processed into complex shapes or arbitrary shapes.

また、レーザのパルス発振によりガラスを切断する方法としては、特開平7−16769号に開示される、ソーダガラスのレーザ割断に関する報文があるが、これはスクライビングして割断する際、基板の厚さ以下にスクライビング深さを調節し、最終的には応力をかけて基板をスクライビング穴に沿って割る方法であるため、薄板ガラスには適用できず、また任意の形状に加工することも困難である。
特開平11−104869号 特開2006−35710号 特開2007−238438号 特開平7−16769号
In addition, as a method of cutting glass by laser pulse oscillation, there is a report on laser cutting of soda glass disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 7-16769. This is the thickness of the substrate when scribing and cutting. The scribing depth is adjusted below and finally the stress is applied to divide the substrate along the scribing hole, so it cannot be applied to thin glass, and it is difficult to process into any shape. is there.
JP-A-11-104869 JP 2006-35710 A JP 2007-238438 A Japanese Patent Laid-Open No. 7-16769

このように、従来のレーザ切断方法では、薄板ガラス等の基板やパネルを、亀裂を発生させずに高速で任意の形状にレーザ切断することができなかった。   As described above, in the conventional laser cutting method, it has been impossible to laser-cut a substrate or a panel such as thin glass into an arbitrary shape at high speed without causing a crack.

以上のような問題を鑑みて、この発明の課題は、クラックなどの不具合を発生させることなく、薄板ガラス、フィルム貼り合わせ基板、あるいは、これらの基板を貼り合わせたパネルを効率よく、任意の形状に切断することができるレーザ切断方法および被切断物を提案することである。   In view of the above problems, the object of the present invention is to efficiently produce a thin glass, a film-laminated substrate, or a panel obtained by laminating these substrates in an arbitrary shape without causing defects such as cracks. The present invention proposes a laser cutting method and an object to be cut that can be cut into two pieces.

前記課題を解決し、かつ目的を達成するために、この発明は、以下のように構成した。   In order to solve the above-described problems and achieve the object, the present invention is configured as follows.

請求項1に記載の発明は、ガラス基板あるいは、該ガラス基板にフィルムを貼り合わせて支持した複合基板を、パルス発振させたパルスレーザを照射することにより切断する方法であって、
1回のパルスレーザの照射で前記ガラス基板を貫通する穴を開け、かつ、連続するパルスレーザにより加工される穴は、穴径以上の距離を隔てた位置に照射されて切断され、
さらに任意の加工形状を切り出すために、該加工形状の周囲を、複数回のパルスレーザを照射させながら周回して穴を開けて切断し、
n周回目で加工される穴は、それまでの周回で開けた穴の間にパルスレーザを照射することにより、最終的に該加工形状の周囲の穴が全て繋がり、切断されることを特徴とするレーザ切断方法である。
The invention according to claim 1 is a method of cutting a glass substrate or a composite substrate supported by laminating a film on the glass substrate by irradiating with a pulsed pulse laser.
A hole penetrating the glass substrate by one pulse laser irradiation, and a hole processed by a continuous pulse laser is irradiated and cut at a position separated by a distance greater than the hole diameter,
Furthermore, in order to cut out an arbitrary processed shape, the periphery of the processed shape is circulated while being irradiated with a plurality of times of pulse laser, and a hole is made and cut.
Holes to be machined in the n-th round are characterized in that all holes around the machined shape are finally connected and cut by irradiating a pulse laser between the holes that have been bored in the previous round. This is a laser cutting method.

請求項2に記載の発明は、前記パルスレーザが炭酸ガスレーザである請求項1に記載のレーザ切断方法である。   The invention according to claim 2 is the laser cutting method according to claim 1, wherein the pulse laser is a carbon dioxide gas laser.

請求項3に記載の発明は、前記ガラス基板あるいは前記複合基板とフィルム基板、前記ガラス基板あるいは前記複合基板を組み合わせて2枚重ねて貼り合わせることでパネルが構成され、
前記パネルに対し、
前記パルスレーザを照射して前記パネルを切断することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のレーザ切断方法である。
The invention according to claim 3 is a panel configured by stacking and bonding two sheets of the glass substrate or the composite substrate and the film substrate, the glass substrate or the composite substrate in combination,
For the panel,
The laser cutting method according to claim 1 or 2, wherein the panel is cut by irradiating the pulse laser.

請求項4に記載の発明は、前記ガラス基板、前記複合基板、前記フィルム基板は、液晶を保持するための基板であることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載のレーザ切断方法である。   According to a fourth aspect of the invention, the glass substrate, the composite substrate, or the film substrate is a substrate for holding liquid crystal, according to any one of the first to third aspects. This is a laser cutting method.

請求項5に記載の発明は、前記任意の位置にパルスレーザを照射するために任意の速度で、かつ任意の距離を移動できるXYステージを用いることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載のレーザ切断方法である。   According to a fifth aspect of the present invention, an XY stage that can move at an arbitrary speed and at an arbitrary distance is used to irradiate the arbitrary position with a pulse laser. It is a laser cutting method given in any 1 paragraph.

請求項6に記載の発明は、前記ガラス基板の厚さが、200μm以下であることを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載のレーザ切断方法である。   A sixth aspect of the present invention is the laser cutting method according to any one of the first to fifth aspects, wherein the glass substrate has a thickness of 200 μm or less.

請求項7に記載の発明は、前記任意の位置にパルスレーザを照射する加工位置精度が、±10μm以下であることを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載のレーザ切断方法である。   According to a seventh aspect of the present invention, in the laser according to any one of the first to sixth aspects, the processing position accuracy of irradiating the arbitrary position with a pulse laser is ± 10 μm or less. Cutting method.

請求項8に記載の発明は、請求項1乃至請求項7のいずれか1項に記載のレーザ切断方法で切断された後の被切断物の切り口が、パルスレーザにより加工される穴の形状の連なった周期的パターン形状となることを特徴とする被切断物である。   According to an eighth aspect of the present invention, the cut surface of the workpiece after being cut by the laser cutting method according to any one of the first to seventh aspects has a shape of a hole processed by a pulse laser. It is a to-be-cut object characterized by having a continuous periodic pattern shape.

前記構成により、この発明は、以下のような効果を有する。   With the above configuration, the present invention has the following effects.

請求項1に記載の発明では、加工される穴は、それまでの周回で開けた穴の間にパルスレーザを照射することにより、最終的に該加工形状の周囲の穴が全て繋がり、切断され、クラックなどの不具合を発生させることなく、薄板ガラス、フィルム貼り合わせ基板、あるいは、これらの基板を貼り合わせたパネルを効率よく、任意の形状に切断することができる。また、パルスレーザを用いることにより、レーザONとOFF時間を制御できるので、余計な熱を基板にかけずに切断できる。また、パルスレーザでは容易に高いピーク出力が得られ、余計な熱影響を出さずに切断できる。   In the first aspect of the present invention, the holes to be machined are irradiated with a pulse laser between the holes that have been formed so far, so that all the holes around the machined shape are finally connected and cut. Without causing defects such as cracks, it is possible to efficiently cut a thin glass, a film-laminated substrate, or a panel obtained by laminating these substrates into an arbitrary shape. In addition, since the laser ON and OFF times can be controlled by using a pulse laser, it is possible to cut without applying excessive heat to the substrate. Moreover, a high peak output can be easily obtained with a pulse laser, and cutting can be performed without causing an extra thermal effect.

請求項2に記載の発明では、パルスレーザが炭酸ガスレーザであり、容易に高出力を得られ、ガラス、樹脂において高い吸収率をもつことから、熱により溶融切断が容易である。   In the second aspect of the present invention, the pulse laser is a carbon dioxide gas laser, which can easily obtain a high output and has a high absorptance in glass and resin, so that it can be easily melted and cut by heat.

請求項3に記載の発明では、ガラス基板あるいは複合基板とフィルム基板、ガラス基板あるいは複合基板を組み合わせて2枚重ねて貼り合わせることでパネルが構成され、パネルに対し、パルスレーザを照射してパネルを切断することができる。   In the invention according to claim 3, a panel is constituted by combining two glass substrates or composite substrates and a film substrate, glass substrate or composite substrate and bonding them together, and the panel is irradiated with a pulse laser. Can be cut off.

請求項4に記載の発明では、ガラス基板、複合基板、フィルム基板は、液晶を保持するための基板であり、熱により溶融切断が容易である。   In the invention according to claim 4, the glass substrate, the composite substrate, and the film substrate are substrates for holding the liquid crystal, and are easily melted and cut by heat.

請求項5に記載の発明では、任意の位置にパルスレーザを照射するために任意の速度で、かつ任意の距離を移動できるXYステージを用いることで、高速で任意の形状に切断することができる。   In the invention described in claim 5, by using an XY stage capable of moving at an arbitrary speed and at an arbitrary distance in order to irradiate a pulse laser at an arbitrary position, it can be cut into an arbitrary shape at a high speed. .

請求項6に記載の発明では、ガラス基板の厚さが、200μm以下であり、パルスレーザの熱により溶融切断が容易である。   In the invention described in claim 6, the glass substrate has a thickness of 200 μm or less and can be easily melted and cut by the heat of the pulse laser.

請求項7に記載の発明では、任意の位置にパルスレーザを照射する加工位置精度が、±10μm以下であり、高精度に切断することができる。   In the invention described in claim 7, the processing position accuracy of irradiating a pulse laser to an arbitrary position is ± 10 μm or less, and cutting can be performed with high accuracy.

請求項8に記載の発明では、レーザ切断方法で切断された後の被切断物の切り口が、パルスレーザにより加工される穴の形状の連なった周期的パターン形状となり、効率よく、任意の形状に切断することができる。   In the invention described in claim 8, the cut surface of the object to be cut after being cut by the laser cutting method has a periodic pattern shape in which the shapes of the holes processed by the pulse laser are continuous, and can be efficiently formed into an arbitrary shape. Can be cut.

以下、この発明のレーザ切断方法および被切断物の実施の形態について説明する。この発明の実施の形態は、発明の最も好ましい形態を示すものであり、この発明はこれに限定されない。   Embodiments of a laser cutting method and an object to be cut according to the present invention will be described below. The embodiment of the present invention shows the most preferable mode of the present invention, and the present invention is not limited to this.

この発明は、図1(a),(b)に示すように、ガラス基板1あるいは、該ガラス基板1にフィルム2を貼り合わせて支持した複合基板3を、パルス発振させたパルスレーザ4を照射することにより切断する方法である。   As shown in FIGS. 1A and 1B, the present invention irradiates a pulsed laser 4 that pulsates a glass substrate 1 or a composite substrate 3 that is supported by bonding a film 2 to the glass substrate 1. It is a method of cutting by doing.

1回のパルスレーザ4の照射で、図2に示すように、ガラス基板1を貫通する穴1aを開け、かつ、連続するパルスレーザ4により加工される穴1aは、穴径D以上の距離Lを隔てた位置に照射されて切断される。   As shown in FIG. 2, the hole 1 a penetrating the glass substrate 1 is formed by one irradiation of the pulse laser 4, and the hole 1 a processed by the continuous pulse laser 4 has a distance L equal to or larger than the hole diameter D. It is cut by irradiating a position separated from each other.

さらに任意の加工形状を切り出すために、図3に示すように、該加工形状の周囲を、複数回のパルスレーザ4を照射させながら周回して穴1aを開けて切断し、n周回目で加工される穴1aは、それまでの周回で開けた穴1aの間にパルスレーザ4を照射することにより、最終的に該加工形状の周囲の穴1aが全て繋がり、切断される。   Further, in order to cut out an arbitrary processing shape, as shown in FIG. 3, the periphery of the processing shape is circulated while irradiating a plurality of times of the pulse laser 4 to cut the hole 1a, and the processing is performed at the n-th turn. The holes 1a to be formed are irradiated with the pulse laser 4 between the holes 1a that have been opened so far, so that all the holes 1a around the processed shape are finally connected and cut.

例えば、円形や矩形などの形状を切り出す場合、1周回目の穴1a、2周回目の穴1a、・・・、n周回目の穴1aが順次形成されるが、n周回目の穴1aは、n−1周回目までに既に開いている穴1aの間に形成され、最終的に穴1aが繋がることにより任意の形状が加工される。   For example, when a shape such as a circle or a rectangle is cut out, the first round hole 1a, the second round hole 1a,..., The nth round hole 1a are sequentially formed. , N-1 rounds are formed between the holes 1a that have already been opened, and finally the holes 1a are connected to form an arbitrary shape.

パルスレーザ4を用いることにより、レーザONとOFF時間を制御できるので、余計な熱を基板にかけずに切断できる。また、パルスレーザ4では容易に高いピーク出力が得られ、ピーク出力が高いことで、余計な熱影響を出さずにカットできる。   By using the pulse laser 4, the laser ON and OFF times can be controlled, so that it is possible to cut without applying excessive heat to the substrate. Further, the pulse laser 4 can easily obtain a high peak output, and the peak output is high, so that the pulse laser 4 can be cut without causing an excessive heat effect.

また、パルスレーザ4として、炭酸ガスレーザを用いることが好ましく、炭酸ガスレーザを用いることで、容易に高出力を得られ、材質のガラス、樹脂において高い吸収率をもつことができ、熱により溶融切断カしやすい。   In addition, it is preferable to use a carbon dioxide laser as the pulse laser 4. By using a carbon dioxide laser, a high output can be easily obtained, and the glass or resin of the material can have a high absorption rate. It's easy to do.

また、任意の位置にパルスレーザ4を照射する加工位置精度が、±10μm以下であり、高精度に切断することができる。   Further, the processing position accuracy of irradiating the pulse laser 4 to an arbitrary position is ± 10 μm or less, and cutting can be performed with high accuracy.

また、ガラス基板1の厚さが、200μm以下であり、パルスレーザ4の熱により溶融切断が容易である。   Further, the glass substrate 1 has a thickness of 200 μm or less and can be easily melted and cut by the heat of the pulse laser 4.

このレーザ切断方法では、図1に示すように、任意の位置にパルスレーザ4を照射するために任意の速度で、かつ任意の距離を移動できるXYステージ10を用いることが好ましく、XYステージ10を用いることで、高速で任意の形状に切断することができる。   In this laser cutting method, as shown in FIG. 1, it is preferable to use an XY stage 10 that can move at an arbitrary speed and at an arbitrary distance in order to irradiate a pulse laser 4 at an arbitrary position. By using it, it can be cut into an arbitrary shape at high speed.

このレーザ切断方法では、図1(c)に示すように、パネル20に対し、パルスレーザ4を照射してパネル20を切断する。パネル20は、図4に示すように、ガラス基板1あるいは複合基板3とフィルム基板21、ガラス基板1あるいは複合基板3を組み合わせて2枚重ねて貼り合わせることで構成される。また、パネル20は、2枚の基板間に液晶層、配向膜、電極などが形成された液晶パネルであってもよい。ガラス基板1、複合基板3、フィルム基板21は、液晶を保持するための基板であり、パルスレーザ4を基板やパネルに照射することで、熱による溶融切断が容易である。   In this laser cutting method, the panel 20 is cut by irradiating the panel 20 with the pulsed laser 4 as shown in FIG. As shown in FIG. 4, the panel 20 is configured by combining two glass substrates 1 or a composite substrate 3 and a film substrate 21, a glass substrate 1 or a composite substrate 3 and bonding them together. The panel 20 may be a liquid crystal panel in which a liquid crystal layer, an alignment film, an electrode, and the like are formed between two substrates. The glass substrate 1, the composite substrate 3, and the film substrate 21 are substrates for holding liquid crystal, and can be easily melted and cut by heat by irradiating the pulse laser 4 to the substrate or panel.

このように、加工される穴1aは、それまでの周回で開けた穴1aの間にパルスレーザ4を照射することにより、最終的に加工形状の周囲の穴1aが全て繋がり、切断され、クラックなどの不具合を発生させることなく、薄板ガラス、フィルム貼り合わせ基板、あるいは、これらの基板を貼り合わせたパネルを効率よく、任意の形状に切断することができる。   In this way, the hole 1a to be machined is irradiated with the pulse laser 4 between the holes 1a that have been drilled so far, so that all the holes 1a around the machined shape are finally connected, cut, and cracked. The thin glass, the film-laminated substrate, or the panel obtained by laminating these substrates can be efficiently cut into any shape without causing problems such as these.

この発明の被切断物30は、レーザ切断方法で切断され、この切断した後の被切断物30の切り口30aは、図5に示すように、パルスレーザ4により加工される穴1aの形状の連なった周期的パターン形状となり、効率よく、任意の形状に切断することができる。   The to-be-cut object 30 of this invention is cut | disconnected by the laser cutting method, and the cut end 30a of the to-be-cut object 30 after this cutting | disconnection is a continuous form of the shape of the hole 1a processed by the pulse laser 4, as shown in FIG. Therefore, it can be cut into an arbitrary shape efficiently.

(実施例1)
以下に、この発明の実施例について図面を参照しながら説明する。図6はこの発明のレーザ切断方法を適用したレーザ加工装置の全体図である。図6において、41は炭酸ガスレーザ発振器、42は反射鏡42aや集光レンズ42bなどを有する外部光学ユニット、43はアシストガス、44は被加工物、45はXYステージ、46は数値制御(NC)装置である。
Example 1
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 6 is an overall view of a laser processing apparatus to which the laser cutting method of the present invention is applied. In FIG. 6, 41 is a carbon dioxide laser oscillator, 42 is an external optical unit having a reflecting mirror 42a and a condenser lens 42b, 43 is an assist gas, 44 is a workpiece, 45 is an XY stage, and 46 is numerically controlled (NC). Device.

被加工物44は、厚さ200μm以下のガラス基板、該ガラス基板にフィルムを貼り合わせて支持した複合基板あるいは、これら基板を2枚重ねて貼り合わせることでできたパネルである。   The workpiece 44 is a glass substrate having a thickness of 200 μm or less, a composite substrate in which a film is bonded to and supported by the glass substrate, or a panel formed by stacking and bonding two of these substrates.

XYステージ45は、数値制御(NC)装置46によりその動作を制御することにより、加工位置精度±10μmが保証されている。   The operation of the XY stage 45 is controlled by a numerical control (NC) device 46, thereby guaranteeing a machining position accuracy of ± 10 μm.

炭酸ガスレーザ発振器41は、パルスレーザ4をパルス発振させて照射し、外部光学系ユニット42を通して、被加工物44の表面に焦点を結ぶように集光させる。このとき、数値制御(NC)装置46で設定したプログラムに従い、XYステージ45を移動させ、被加工物44が切断される。このとき、アシストガス43はノズル先端から切断部に向かって吹き出される。このときXYステージ45の下及びノズル周囲部から排気することで、集光レンズ42bの汚染を防いでいる。   The carbon dioxide laser oscillator 41 irradiates the pulse laser 4 with pulse oscillation, and focuses the light through the external optical system unit 42 so as to focus on the surface of the workpiece 44. At this time, according to the program set by the numerical control (NC) device 46, the XY stage 45 is moved and the workpiece 44 is cut. At this time, the assist gas 43 is blown out from the nozzle tip toward the cutting portion. At this time, exhausting from the bottom of the XY stage 45 and the peripheral portion of the nozzle prevents contamination of the condenser lens 42b.

上記構成のレーザ加工装置を用い、OA10ガラスを、30〜300μmまでケミカルエッチングで薄くした基板を被切断物1として用いた。   Using the laser processing apparatus having the above configuration, a substrate in which OA10 glass was thinned by chemical etching to 30 to 300 μm was used as the workpiece 1.

レーザスポット径100μm、出力225Wのパルス炭酸ガスレーザを60μs照射し、被切断物1に貫通穴を開けた後、次に120μmずらした位置に次の貫通穴を開けた。   A pulse carbon dioxide laser with a laser spot diameter of 100 μm and an output of 225 W was irradiated for 60 μs to form a through hole in the workpiece 1, and then the next through hole was formed at a position shifted by 120 μm.

一辺40mmの正方形の被切断物を切り出すために、4周回被切断物の周りにパルスレーザを周回しながら照射した。   In order to cut out a square object having a side of 40 mm, irradiation was performed while circulating a pulse laser around the object to be cut four times.

この際、1周回目の穴の位置に対し、2周回目は切断進行方向に対し60μmずらして最初の貫通穴を開けその後1周回目と同様に120μmピッチで貫通穴を開けた。3周回目は1周回目の穴の位置に対し、30μmずらして最初の貫通穴を開け、その後同様に120μmピッチで貫通穴を開けた。4周回目は1周回目の穴の位置に対し、90μmずらして最初の貫通穴を開け、その後同様に120μmピッチで貫通穴を開けた。この様にして被切断物1を得た。このときのXYステージの移動速度は、1000mm/minとした。   At this time, with respect to the position of the hole in the first round, the second round was shifted by 60 μm with respect to the cutting progress direction, the first through hole was opened, and then the through holes were made at a pitch of 120 μm as in the first round. In the third round, the first through holes were made by shifting by 30 μm from the position of the first round holes, and then through holes were similarly made at a pitch of 120 μm. In the 4th round, the first through hole was made by shifting by 90 μm from the position of the 1st round hole, and then through holes were similarly made at a pitch of 120 μm. In this way, an object to be cut 1 was obtained. The moving speed of the XY stage at this time was 1000 mm / min.

被切断物1の切断端部を上から表面に焦点を合わせて、450倍の倍率で顕微鏡観察を行ったところ、図7に示すように、10μm以上のクラックは一つも観察されなかった。   When the cut end of the workpiece 1 was focused on the surface from the top and observed with a microscope at a magnification of 450 times, no cracks of 10 μm or more were observed as shown in FIG.

被切断物1の切断部の形状を図8に示す。レーザスポットの形状(円形)の連なりにより、被切断物1の切断端部は円弧の連なった形状となることが認められた。   The shape of the cut part of the workpiece 1 is shown in FIG. It was recognized that the cut end portion of the workpiece 1 has a continuous arc shape due to the continuous laser spot shape (circular shape).

(実施例2)
実施例1と同様のレーザ加工装置を用い、実施例1に用いた被切断物1を100μm厚のプラスチックフィルムと粘着剤を介して貼り合わせた複合基板を被切断物2とする。この被切断物2を出力225Wのパルス炭酸ガスレーザを75μs照射した以外は、実施例1と同じ条件で加工した。
(Example 2)
A laser processing apparatus similar to that in Example 1 is used, and a composite substrate obtained by bonding the object 1 used in Example 1 to a 100 μm-thick plastic film and an adhesive is used as object 2. This workpiece 2 was processed under the same conditions as in Example 1 except that a pulse carbon dioxide laser with an output of 225 W was irradiated for 75 μs.

被切断物2を実施例1と同様に顕微鏡観察したところ、10μm以上のクラックは一つも観察されなかった。   When the object 2 was observed with a microscope in the same manner as in Example 1, no cracks of 10 μm or more were observed.

被切断物2の切断部の形状は、図8と同様に周期的パターンが認められた。   As for the shape of the cut part of the workpiece 2, a periodic pattern was recognized as in FIG. 8.

(実施例3) 実施例1と同様のレーザ加工装置を用い、実施例2と同様の複合基板をXYステージの移動速度を、2000mm/minとした以外は実施例2と同様の加工条件で加工した。加工された試料を被切断物3とする。   (Example 3) Using the same laser processing apparatus as in Example 1, a composite substrate similar to that in Example 2 was processed under the same processing conditions as in Example 2 except that the movement speed of the XY stage was set to 2000 mm / min. did. The processed sample is defined as an object 3 to be cut.

被切断物3を実施例1と同様に顕微鏡観察したところ、10μm以上のクラックは一つも観察されなかった。   When the object 3 was observed with a microscope in the same manner as in Example 1, no cracks of 10 μm or more were observed.

被切断物3の切断部の形状は、図8と同様に周期的パターンが認められた。   As for the shape of the cut portion of the workpiece 3, a periodic pattern was recognized as in FIG. 8.

(実施例4)
実施例1と同様のレーザ加工装置を用い、実施例2と同様の複合基板をXYステージの移動速度を、3000mm/minとした以外は実施例2と同様の加工条件で加工した。加工された試料を被切断物4とする。
Example 4
Using the same laser processing apparatus as in Example 1, a composite substrate similar to that in Example 2 was processed under the same processing conditions as in Example 2 except that the moving speed of the XY stage was set to 3000 mm / min. The processed sample is defined as a workpiece 4.

被切断物4を実施例1と同様に顕微鏡観察したところ、10μm以上のクラックは一つも観察されなかった。   When the object 4 was observed with a microscope in the same manner as in Example 1, no cracks of 10 μm or more were observed.

被切断物4の切断部の形状は、図8と同様に周期的パターンが認められた。   As for the shape of the cut portion of the workpiece 4, a periodic pattern was recognized as in FIG. 8.

(実施例5)
実施例1と同様のレーザ加工装置を用い、実施例2と同様の複合基板および加工条件で、図9に示すように、アルファベットのT字型に加工したサンプルを被切断物5とする。
(Example 5)
As shown in FIG. 9, a sample processed into an alphabetic T shape is defined as an object to be cut 5 using the same laser processing apparatus as in Example 1 and the same composite substrate and processing conditions as in Example 2.

被切断物5を実施例1と同様に顕微鏡観察したところ、10μm以上のクラックは一つも観察されなかった。   When the object 5 was observed with a microscope in the same manner as in Example 1, no cracks of 10 μm or more were observed.

被切断物5の切断部の形状は、図2と同様に周期的パターンが認められた。   As for the shape of the cut portion of the workpiece 5, a periodic pattern was recognized as in FIG. 2.

(実施例6)
実施例1と同様のレーザ加工装置を用い、実施例2と同様の複合基板および加工条件で、図10に示すように、アルファベットのR字型に加工したサンプルを被切断物6とする。
(Example 6)
As shown in FIG. 10, a sample processed into an R-shape of the alphabet is used as an object to be cut 6 as shown in FIG. 10 using the same laser processing apparatus as in Example 1 and the same composite substrate and processing conditions as in Example 2.

被切断物6を実施例1と同様に顕微鏡観察したところ、10μm以上のクラックは一つも観察されなかった。   When the object 6 was observed with a microscope in the same manner as in Example 1, no cracks of 10 μm or more were observed.

被切断物6の切断部の形状は、図2と同様に周期的パターンが認められた。   As for the shape of the cut portion of the workpiece 6, a periodic pattern was recognized as in FIG. 2.

(実施例7)
実施例1と同様のレーザ加工装置を用い、実施例2に用いた被切断物2の2枚を5μmのスぺーサを介して、シール剤で貼り合わせ、基板内側にはITO電極パターン、ポリイミド配向膜、液晶が注入された40mmの正方形(シール剤の外側の範囲)のセルを被切断物7とした。
(Example 7)
Using the same laser processing apparatus as in Example 1, two of the objects to be cut 2 used in Example 2 were bonded together with a sealant through a 5 μm spacer, and an ITO electrode pattern and polyimide were formed on the inside of the substrate. A 40 mm square cell (range outside the sealant) into which the alignment film and liquid crystal were injected was defined as the object 7 to be cut.

この被切断物2を出力225Wのパルス炭酸ガスレーザを100μs照射した以外は、実施例1と同じ条件で加工した。   The workpiece 2 was processed under the same conditions as in Example 1 except that a pulse carbon dioxide laser with an output of 225 W was irradiated for 100 μs.

被切断物7を実施例1と同様にセルの上下面端部それぞれを顕微鏡観察したところ、ガラス表面に10μm以上のクラックは一つも観察されなかった。   When the cut object 7 was observed with a microscope on the upper and lower end portions of the cell in the same manner as in Example 1, no cracks of 10 μm or more were observed on the glass surface.

被切断物7の切断部の形状は、図2と同様に周期的パターンが認められた。   As for the shape of the cut portion of the workpiece 7, a periodic pattern was recognized as in FIG. 2.

(比較例1)
実施例1と同様のレーザ加工装置を用い、実施例2に用いた被切断物をレーザスポット径100μm、出力225Wのパルス炭酸ガスレーザを75μs照射し、被切断物に貫通穴を開けた後、次に30μmずらした位置に次の貫通穴を開けた。一辺40mmの正方形の被切断物を切り出すために、1周回被切断物の周りにパルスレーザを周回しながら照射し被切断物8を得た。このときのXYステージの移動速度は、250mm/minとした。
(Comparative Example 1)
Using the same laser processing apparatus as in Example 1, the object to be cut used in Example 2 was irradiated with a pulse carbon dioxide laser with a laser spot diameter of 100 μm and an output of 225 W for 75 μs, and a through hole was made in the object to be cut. The next through hole was opened at a position shifted by 30 μm. In order to cut out a square cut object having a side of 40 mm, the cut object 8 was obtained by irradiating with a pulse laser around the cut object once round. The moving speed of the XY stage at this time was 250 mm / min.

被切断物8を実施例1と同様にセルの上下面端部それぞれを顕微鏡観察したところ、図11に示すように、ガラス表面に100μm以上のクラックが無数に観察された。   When the cut object 8 was observed with a microscope at the upper and lower end portions of the cell in the same manner as in Example 1, an infinite number of cracks of 100 μm or more were observed on the glass surface, as shown in FIG.

被切断物8の切断部の形状は、図8と同様に周期的パターンは認められなかった。   The periodic pattern of the shape of the cut portion of the workpiece 8 was not recognized as in FIG.

(比較例2)
実施例1と同様のレーザ加工装置を用い、実施例2に用いた被切断物をレーザスポット径100μm、出力225Wのパルス炭酸ガスレーザを75μs照射し、被切断物に貫通穴を開けた後、次に30μmずらした位置に次の貫通穴を開けた。一辺40mmの正方形の被切断物を切り出すために、1周回被切断物の周りにパルスレーザを周回しながら照射し被切断物9を得た。このときのXYステージの移動速度は、125mm/minとした。
(Comparative Example 2)
Using the same laser processing apparatus as in Example 1, the object to be cut used in Example 2 was irradiated with a pulse carbon dioxide laser with a laser spot diameter of 100 μm and an output of 225 W for 75 μs, and a through hole was made in the object to be cut. The next through hole was opened at a position shifted by 30 μm. In order to cut out a square cut object having a side of 40 mm, the cut object 9 was obtained by irradiating a pulse laser around the cut object once around. The moving speed of the XY stage at this time was set to 125 mm / min.

被切断物9を実施例1と同様にセルの上下面端部それぞれを顕微鏡観察したところ、ガラス表面に100μm以上のクラックが無数に観察された。   When the upper and lower surface ends of the cell 9 were observed with a microscope in the same manner as in Example 1, countless cracks of 100 μm or more were observed on the glass surface.

被切断物9の切断部の形状は、図8と同様に周期的パターンは認められなかった。   The periodic pattern of the shape of the cut portion of the workpiece 9 was not recognized as in FIG.

この発明は、薄型液晶パネルなどに用いる薄板ガラス等の基板を切断するためのレーザ切断方法および被切断物に適用可能であり、クラックなどの不具合を発生させることなく、薄板ガラス、フィルム貼り合わせ基板、あるいは、これらの基板を貼り合わせたパネルを効率よく、任意の形状に切断することができる。   The present invention can be applied to a laser cutting method for cutting a substrate such as a thin glass used for a thin liquid crystal panel or the like, and an object to be cut, and without causing defects such as cracks, a thin glass and a film bonded substrate. Or the panel which bonded these board | substrates can be efficiently cut | disconnected in arbitrary shapes.

この発明のレーザ切断方法を説明する図である。It is a figure explaining the laser cutting method of this invention. パルスレーザの照射を説明する図である。It is a figure explaining irradiation of a pulse laser. パルスレーザの照射による切断を説明する図である。It is a figure explaining the cutting | disconnection by irradiation of a pulse laser. パネルの構成を説明する図である。It is a figure explaining the structure of a panel. 被切断物の切断状態を示す図である。It is a figure which shows the cutting state of a to-be-cut object. レーザ加工装置の全体図である。1 is an overall view of a laser processing apparatus. 被切断物の切断状態を示す図である。It is a figure which shows the cutting state of a to-be-cut object. 切断端部の周期パターンを示す図である。It is a figure which shows the periodic pattern of a cutting | disconnection edge part. アルファベットのT字型に加工した被切断物を示す図である。It is a figure which shows the to-be-cut object processed into the T shape of the alphabet. アルファベットのR字型に加工した被切断物を示す図である。It is a figure which shows the to-be-cut object processed into the R shape of the alphabet. 比較例の被切断物の切断状態を示す図である。It is a figure which shows the cutting state of the to-be-cut object of a comparative example.

符号の説明Explanation of symbols

1 ガラス基板
1a 穴
2 フィルム
3 複合基板
4 パルスレーザ
10 XYステージ
20 パネル
21 フィルム基板
30 被切断物
41 炭酸ガスレーザ発振器
42 外部光学ユニット
43 アシストガス
44 被加工物
45 XYステージ
46 数値制御(NC)装置
1 Glass substrate
1a hole 2 film 3 composite substrate 4 pulse laser 10 XY stage 20 panel 21 film substrate 30 workpiece 41 carbon dioxide laser oscillator 42 external optical unit 43 assist gas 44 workpiece 45 XY stage 46 numerical control (NC) device

Claims (8)

ガラス基板あるいは、該ガラス基板にフィルムを貼り合わせて支持した複合基板を、パルス発振させたパルスレーザを照射することにより切断する方法であって、
1回のパルスレーザの照射で前記ガラス基板を貫通する穴を開け、かつ、連続するパルスレーザにより加工される穴は、穴径以上の距離を隔てた位置に照射されて切断され、
さらに任意の加工形状を切り出すために、該加工形状の周囲を、複数回のパルスレーザを照射させながら周回して穴を開けて切断し、
n周回目で加工される穴は、それまでの周回で開けた穴の間にパルスレーザを照射することにより、最終的に該加工形状の周囲の穴が全て繋がり、切断されることを特徴とするレーザ切断方法。
A method of cutting a glass substrate or a composite substrate supported by laminating a film on the glass substrate by irradiating a pulsed pulsed laser,
A hole penetrating the glass substrate by one pulse laser irradiation, and a hole processed by a continuous pulse laser is irradiated and cut at a position separated by a distance greater than the hole diameter,
Furthermore, in order to cut out an arbitrary processed shape, the periphery of the processed shape is circulated while being irradiated with a plurality of times of pulse laser, and a hole is made and cut.
Holes to be machined in the n-th round are characterized in that all holes around the machined shape are finally connected and cut by irradiating a pulse laser between the holes that have been bored in the previous round. Laser cutting method.
前記パルスレーザが炭酸ガスレーザである請求項1に記載のレーザ切断方法。   The laser cutting method according to claim 1, wherein the pulse laser is a carbon dioxide laser. 前記ガラス基板あるいは前記複合基板とフィルム基板、前記ガラス基板あるいは前記複合基板を組み合わせて2枚重ねて貼り合わせることでパネルが構成され、
前記パネルに対し、
前記パルスレーザを照射して前記パネルを切断することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のレーザ切断方法。
The glass substrate or the composite substrate and the film substrate, the glass substrate or the composite substrate is combined to form a panel by stacking and bonding two sheets,
For the panel,
The laser cutting method according to claim 1, wherein the panel is cut by irradiating the pulse laser.
前記ガラス基板、前記複合基板、前記フィルム基板は、液晶を保持するための基板であることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載のレーザ切断方法。   The laser cutting method according to any one of claims 1 to 3, wherein the glass substrate, the composite substrate, and the film substrate are substrates for holding liquid crystal. 前記任意の位置にパルスレーザを照射するために任意の速度で、かつ任意の距離を移動できるXYステージを用いることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載のレーザ切断方法。   The laser cutting according to any one of claims 1 to 4, wherein an XY stage capable of moving at an arbitrary speed and at an arbitrary distance is used to irradiate the arbitrary position with a pulse laser. Method. 前記ガラス基板の厚さが、200μm以下であることを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載のレーザ切断方法。   The laser cutting method according to claim 1, wherein the glass substrate has a thickness of 200 μm or less. 前記任意の位置にパルスレーザを照射する加工位置精度が、±10μm以下であることを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載のレーザ切断方法。   The laser cutting method according to any one of claims 1 to 6, wherein a processing position accuracy of irradiating the arbitrary position with a pulsed laser is ± 10 µm or less. 請求項1乃至請求項7のいずれか1項に記載のレーザ切断方法で切断された後の被切断物の切り口が、パルスレーザにより加工される穴の形状の連なった周期的パターン形状となることを特徴とする被切断物。
The cut surface of the object to be cut after being cut by the laser cutting method according to any one of claims 1 to 7 has a periodic pattern shape in which the shapes of holes to be processed by a pulse laser are continuous. A workpiece to be cut.
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