JP5458520B2

JP5458520B2 - 基板接合装置

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Publication number: JP5458520B2
Application number: JP2008184892A
Authority: JP
Inventors: 功菅谷
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 2008-07-16
Filing date: 2008-07-16
Publication date: 2014-04-02
Anticipated expiration: 2028-07-16
Also published as: JP2010027726A

Description

本発明は、基板接合装置に関する。より詳細には、ウエハ等の基板を相互に密着させて貼り合わせる基板接合装置に関する。

各々に素子および回路が形成された基板を積層した積層型の半導体装置がある（特許文献１参照）。積層型の半導体装置は、立体的な構造を採ることにより、実装面積を拡大することなく実効的な実装密度を向上させることができる。また、積層された基板相互の配線を短縮できるので、動作速度の向上にも寄与するといわれている。

基板を貼り合わせる場合には、互いに平行に保持された一対の基板を圧接させる。このため、一対の基板を平行に保持して加圧する接合装置が用いられる（特許文献２参照）。
特開平１１−２６１０００号公報特開２００５−２５１９７２号公報

基板を接合する場合、一方の基板を固定して、他方の基板をそれに向けて接近させる。接近した他方の基板は、やがて固定された基板に当接する。この当接した瞬間に発生する衝撃により、いずれかの基板にクラック等の損傷が生じる虞があった。

そこで、上記課題を解決すべく、本発明により、複数の基板を接合する基板接合装置であって、複数の基板のうちの一の基板を保持する上ステージと、一の基板に対向して複数の基板のうちの他の基板を保持する下ステージと、少なくとも一の基板と他の基板とが接触するときに、上ステージを浮かせる力を用いて上ステージを支持するステージ支持部とを備える基板接合装置が提供される。

なお、上記の発明の概要は、本発明の必要な特徴の全てを列挙したものではない。これらの特徴群のサブコンビネーションもまた発明となり得る。

以下、発明の実施の形態を通じて本発明を説明するが、以下の実施形態は特許請求の範囲にかかる発明を限定するものではない。また、実施形態の中で説明されている特徴の組み合わせの全てが発明の解決に必須であるとは限らない。

図１は、基板接合装置１００の構造を模式的に示す断面図である。基板接合装置１００は、枠体１１０の内側に配置された、駆動部１３０、下ステージ１４０および上ステージ１７０を備える。

枠体１１０は、互いに平行で水平な天板１１２および底板１１６と、天板１１２および底板１１６を結合する複数の支柱１１４とを備える。天板１１２、支柱１１４および底板１１６は、それぞれ高剛性な材料により形成され、基板１５４、１６４を加圧した場合の反力が作用しても変形しない。

底板１１６の上には、Ｘステージ１２２、Ｙステージ１２４、駆動部１３０および下ステージ１４０が順次積層される。Ｘステージ１２２は、図１中での左右方向および底板１１６に平行な方向に移動する。Ｙステージ１２４は、底板１１６に平行、且つ、図１中で前後方向に直交して移動する。これにより、Ｙステージ１２４上に搭載された駆動部１３０および下ステージ１４０を、Ｘ−Ｙ平面内の任意の位置に位置決めできる。

駆動部１３０は、シリンダ１３２およびピストン１３４を含む。シリンダ１３２は、Ｙステージ１２４の上面に固定される。ピストン１３４は、シリンダ１３２に対して昇降する。ピストン１３４の駆動は、シリンダ１３２に供給される作動流体、例えば空気の圧力による。これにより、ピストン１３４の上端に搭載された下ステージ１４０を、図中に矢印で示すＺ方向に昇降させることができる。

このように、基板接合装置１００において、下ステージ１４０を上ステージ１７０に対して昇降させる駆動部１３０をさらに備えてもよい。これにより、外部から駆動部１３０に指示を与えることにより、下ステージ１４０を上昇させて基板１５４、１６４を接合させることができる。

下ステージ１４０は、下テーブル１４２、ロードセル１４４および上テーブル１４６を含む。下テーブル１４２は、ピストン１３４の上端に結合され、ピストン１３４と共に昇降する。下テーブル１４２の上に、ロードセル１４４を介して搭載された上テーブル１４６は、基板１５４を保持した基板ホルダ１５２を保持する機能を有する。具体的には、負圧吸着、静電吸着等により、基板ホルダ１５２を吸着して保持する。

ロードセル１４４は、下テーブル１４２および上テーブル１４６の間に挟まれる。これにより、上テーブル１４６上に搭載された基板１５４が加圧された場合に、その圧力を正確に検出できる。また、ロードセル１４４は、下テーブル１４２上に等間隔で複数配される。これにより、基板１５４に印加された圧力に分布が生じた場合に、それを検出することもできる。

支柱１１４の上端近傍には、枠体１１０の内側に向かって突出した上ステージ支持台１１１が配される。上ステージ支持台１１１の上には、ロードセル１８０および電磁石１９２が載せられる。

後述する板状の被支持部１７６を安定に支持する目的で、３以上の電磁石が配される。また、同じく被支持部１７６に加えられる力が均等であることを検出する目的で、ロードセル１８０も３以上が配される。更に、ロードセル１８０および電磁石１９２は、それぞれ、互いに等間隔に配置される。

上ステージ１７０は、順次積層されホルダ保持部１７２、連結部１７４および被支持部１７６を有する。ホルダ保持部１７２は、基板１６４を保持した基板ホルダ１６２を下面に保持する。ホルダ保持部１７２の上面には連結部１７４が結合され、更に、連結部１７４の上端に被支持部１７６が連結される。

連結部１７４は、上ステージ支持台１１１の内側開口の内径よりも狭い間隔で配される。これにより、連結部１７４は、上ステージ支持台１１１よりも下方に位置するホルダ保持部１７２と、上ステージ支持台１１１上のロードセル１８０および電磁石１９２よりも上方に位置する被支持部１７６を、上ステージ支持台１１１と干渉することなく連結する。

被支持部１７６は、ロードセル１８０および電磁石１９２の上方に届くまで、側方に拡がっている。また、電磁石１９２に対応する位置には、永久磁石１９４が埋設される。これにより、永久磁石１９４と同じ磁極が対面するように電磁石１９２が磁化された場合に、上ステージ支持台１１１と被支持部１７６の間に、磁気的な斥力を生じる。従って、上ステージ１７０を浮かせる力を発生させることができる。このように、電磁石１９２および永久磁石１９４は、協働して付勢力発生部１９０を形成する。なお、「浮かせる力」とは、重力に抗して被支持部１７６に作用する付勢力を意味し、被支持部１７６を浮き上がらせることを意味するものではない。

このように、基板接合装置１００において、上ステージ支持台１１１は、上ステージ１７０を磁力の反発力により支持してもよい。これにより、摺動の伴う部品を用いることなく、浮かせる付勢力を上ステージ１７０に作用させることができる。

ロードセル１８０は、電磁石１９２が稼動していない場合は、上ステージ１７０、基板ホルダ１６２および基板１６４の重量の合計を検出する。また、電磁石１９２に駆動電流が供給された場合は、ロードセル１８０の出力の変化から、被支持部１７６に作用する磁気的な斥力の大きさを知ることができる。

更に、ホルダ保持部１７２は、スタビライザ２００により、支柱１１４に結合される。スタビライザ２００の外周側端部は、把持部１１３を介して支柱１１４に結合される。スタビライザ２００の内周側端部は、ホルダ保持部１７２の側端面に結合される。なお、図示の状態では、スタビライザ２００は、自重による変形を除くと略水平になる。また、この状態は、スタビライザ２００の自然状態に略等しい。

また更に、天板１１２の下面には、弾性体シート１１５が一面に設けられる。弾性体シート１１５は、上ステージ１７０が上昇した場合に、その弾性により、被支持部１７６の上面に当接して弾性変形する。

なお、基板接合装置１００において、付勢力発生部１９０とロードセル１８０とを隣接させて配置してもよい。これにより、付勢力発生部１９０が上ステージ１７０に及ぼす付勢力を迅速且つ正確に検知できるので、上ステージ１７０を精密に位置決めできる。

図２は、付勢力発生部１９０の作用を説明する模式図である。図示の状態は、Ｘステージ１２２およびＹステージ１２４により下ステージ１４０を移動させて、Ｘ方向およびＹ方向について基板１５４、１６４の位置を相互に一致させる位置決めが既に済んでいるものとする。

上ステージ１７０、基板ホルダ１６２および基板１６４には、それぞれの質量に見合った重力が作用する。重力は、下方に向かう力Ｍとして上ステージ１７０に作用する。一方、電磁石１９２に適切な駆動電流が供給されると、永久磁石１９４および電磁石１９２の間に斥力Ｒが発生する。これにより、被支持部１７６には重力による力Ｍに逆らう付勢力Ｒが作用する。

この結果、上ステージ１７０の重量としてロードセル１８０に検出される値ｍは、下記の式１に示すように、上ステージ１７０、基板ホルダ１６２および基板１６４の重量の合計よりも小さくなる。
ｍ＝Ｍ−Ｒ・・・式１

図３は、基板接合装置１００の動作を説明する断面図である。基板接合装置１００自体の構造は図１と同じなので、同じ構成要素には共通の参照番号を付して重複する説明を省く。

駆動部１３０に作動流体が供給されると、ピストン１３４が上昇し下ステージ１４０が上昇する。これにより、基板ホルダ１５２に保持された基板１５４も、他方の基板１６４に向かって上昇する。やがて、上昇した基板１５４は、他方の基板１６４に当接する。

このとき、当接した基板１５４、１６４の間に生じる衝撃は、当接により運動量が変化するものの質量に比例する。ここで、前記したように、上ステージ１７０、基板ホルダ１６２および基板１６４の実効的な質量である重量Ｍは、付勢力Ｒにより減じられて見かけの重量ｍとなっている。従って、基板１５４、１６４が当接した瞬間に生じる衝撃を緩和することができる。

これにより、接合される基板１５４、１６４が互いに接触した場合に、上ステージ１７０により保持された基板１６４の慣性質量を小さく見せかけて、基板１５４、１６４相互にかかる衝撃を低減できる。

また、基板１５４、１６４が当接した後も駆動部１３０を動作させ続けると、上ステージ１７０、基板ホルダ１５２、１６２、基板１５４、１６４および下ステージ１４０は一体的に上昇する。このため、被支持部１７６に設けられた永久磁石１９４も、上ステージ１７０と共に上昇して、電磁石１９２から徐々に離れる。

上ステージ１７０、基板ホルダ１６２および基板１６４に加えられる付勢力Ｒは、電磁石１９２および永久磁石１９４の斥力Ｒにより発生する。磁力は距離の自乗に反比例して小さくなるので、付勢力発生部１９０に生じる付勢力Ｒは、上ステージ１７０の上昇と共に徐々に減少する。これにより、基板１５４、１６４間に作用する圧力が増加しつつ加圧される。

このように、基板接合装置１００において、上ステージ１７０を浮かせる力は、上ステージ１７０が上昇するに連れて徐々に減少させてもよい。これにより、上ステージ１７０および下ステージ１４０に挟まれた基板１５４、１６４に十分な圧力をかけて良好な接合を効率よく実行できる。なお、上ステージ１７０の上昇と共に徐々に減少する付勢力Ｒの特性は、磁力だけではなく、弾性体により上ステージ１７０を懸架すること等によっても得られる。また、付勢力発生部１９０を動作させる期間は、基板１５４、１６４が当接する直前か直後まででもよいし、ある程度の期間にわたって連続的に動作させてもよい。

更に、上昇した上ステージ１７０は、やがて、弾性体シート１１５に当接する。弾性体シート１１５は、軟質シリコンゴム等の柔軟な弾性体材料により形成される。ただし、上面は、硬質な天板１１２に沿って配されているので、過剰に変形することはない。これにより、下ステージ１４０により押し上げられた基板１５４に倣って上ステージ１７０が傾斜したような場合も、上ステージ１７０の傾斜を許容しつつ、基板１５４、１６４を加圧することができる。

このように、基板接合装置１００は、上ステージ１７０が上昇した場合に、上ステージ１７０に弾性的に当接して上ステージ１７０の移動を規制する弾性体シート１１５をさらに備えてもよい。これにより、上ステージ１７０の傾斜、延いては上ステージ１７０に保持された基板１６４の傾斜を許容しつつ基板１５４と接合させることができる。

また更に、上ステージ１７０は、スタビライザ２００により、枠体１１０の支柱１１４に結合されている。図１に示した状態では略水平だったスタビライザ２００は、図２に示した状態では、図示のように、上ステージ１７０に引かれて円錐形に変形している。

図４は、スタビライザ２００の自然状態における形状を示す斜視図である。図示のように、スタビライザ２００は、円形の弾性材料板２２０により形成される。

弾性材料板２２０の中央に形成された大きな穴の周囲は、ホルダ保持部１７２の側面に対して結合される結合部２１０をなす。一方、弾性材料板２２０の外周縁部は、枠体１１０の支柱１１４に固定された把持部１１３に全周を把持される被把持部２５０となる。

更に、弾性材料板２２０には、同心状に形成された複数の円弧状スリット２３０を有する。これにより、スタビライザ２００の面と直交する方向については、弾性材料板２２０の剛性が低下する。従って、結合部２１０および被把持部２５０が、弾性材料板２２０に直交する方向について互いに変位することを容易にする。

また、円弧状スリット２３０の多くはその両端に、円弧状スリット２３０の幅よりも大きな径を有する略円形の応力分散部２４０を有する。これにより、円弧状スリット２３０の両端における弾性材料板２２０への応力集中が避けられ、スタビライザ２００の耐久性が向上される。

図５は、負荷が作用したスタビライザ２００の形状を示す斜視図である。即ち、図示の状態では、被把持部２５０に対して結合部２１０が上方に変位している。これに対して、円弧状スリット２３０の各々が拡がって、スタビライザ２００の径が増すので、上ステージ１７０の上昇は妨げられない。

更に、スタビライザ２００は弾性材料板２２０により形成されている。従って、円弧状スリット２３０に挟まれた弾性材料板２２０の各々の領域において変形を復元しようとする力が、スタビライザ２００の各径方向に作用する。これにより、上ステージ１７０は、被把持部２５０の中央に向かって付勢されるので、上ステージ１７０の位置が水平方向にぶれることが防止される。

このように、基板接合装置１００において、スタビライザ２００は、上ステージ１７０の昇降方向に直交する方向の移動を規制してもよい。また、基板接合装置１００において、スタビライザ２００は、円板形状を有し、板面に沿った方向の剛性が、板厚方向の剛性よりも大きい弾性材料板２２０を含んでもよい。これにより、上ステージ１７０に保持された基板１６４の水平方向の位置決めが狂うことが防止するスタビライザ２００が、簡潔な構造で形成される。

図６は、他の負荷が作用したスタビライザ２００の形状を示す斜視図である。図示の状態では、スタビライザ２００の結合部２１０および被把持部２５０が、互いに異なる傾きを生じている。しかしながら、既に説明した通り、弾性材料板２２０の面と直交する方向についてはスタビライザ２００の剛性が低いので、上ステージ１７０が傾斜することは妨げられない。これにより、下ステージ１４０により押し上げられた基板１５４に倣って上ステージ１７０が傾斜したような場合も、上ステージ１７０の傾斜が許容される。

このように、基板接合装置１００において、スタビライザ２００は、円板形状を有し、板面に沿った方向の剛性が、傾きの剛性よりも大きい弾性材料板２２０を含んでもよい。これにより、簡潔な構造で、上ステージ１７０の傾斜を許容しつつ、上ステージ１７０の水平方向の位置を保つスタビライザ２００が形成される。

また、基板接合装置１００において、スタビライザ２００は、上ステージ１７０の傾きを許容して保持することにより、接合される基板１５４、１６４相互の密着性を向上させ、基板１５４、１６４を良好に接合させられる。

図７は、他の形態を有する基板接合装置１００の構造を模式的に示す図である。なお、以下に説明する部分を除くと、基板接合装置１００は、図１から図３に示した形態と共通の構造を有する。そこで、共通の構成要素には同じ参照番号を付して重複する説明を省く。

基板接合装置１００は、スタビライザ２００として、複数のコイルバネ２０１を備える点に固有の特徴がある。即ち、コイルバネ２０１は、把持部１１３とホルダ保持部１７２の側面との間に略水平に配される。また、コイルバネ２０１は、ホルダ保持部１７２の中心から放射状に配される。また、複数のコイルバネ２０１は、互いに同じ自然長およびバネ定数を有する。

ここで、コイルバネ２０１は、自然長よりも長くなるように伸長された状態で装着される。これにより、ホルダ保持部１７２は、複数のコイルバネ２０１から把持部１１３に向かって相互に引かれ、把持部１１３の内側中央に位置決めされる。また、コイルバネ２０１の各々は、自身の屈曲に対する剛性は低い。これにより、コイルバネ２０１は、ホルダ保持部１７２が垂直に変位することを妨げない。

従って、付勢力発生部１９０が動作した場合に、ホルダ保持部１７２は、コイルバネ２０１に妨げられることなく浮上する。また、浮上したホルダ保持部１７２は、コイルバネ２０１に引かれて、水平方向の変位が規制される。

図８は、また他の形態を有する基板接合装置１００の構造を模式的に示す図である。この形態も、以下に説明する部分を除くと、図１から図３に示した形態および図７に示した形態と共通の構造を有するので、共通の構成要素には同じ参照番号を付して重複する説明を省く。

この基板接合装置１００では、把持部１１３およびスタビライザ２００が省かれる。また、スタビライザ２００に換えて、係合部材１７１を備える。係合部材１７１は、ロードセル１８０に対向する位置において、被支持部１７６の下面縁部に配される。また、係合部材１７１は、ロードセル１８０の上端の形状と相補的な凹部を下面に有する。また、基板接合装置１００において、付勢力発生部１９０は、電磁石のように、一時的に動作させることができる構造を有する。

付勢力発生部１９０が動作していない場合、上ステージ１７０の自重により係合部材１７１はロードセル１８０に対して係合して、上ステージ１７０を自律的に位置決めする。
このような作用に鑑みて、ロードセル１８０の上端は、例えば円錐状の、上部ほど径が小さくなる形状を有することが好ましい。また、ロードセル１８０の先端および係合部材１７１は、相互に摩擦が小さい材料により形成されていることが好ましい。

また、基板１６４、１５４を接合させる場合は、まず下ステージ１４０を上昇させて、基板１６４、１５４が互いに当接すると同時に、あるいは、当接する直前に付勢力発生部１９０を動作させる。これにより、係合部材１７１がロードセル１８０から離れて単独で浮上している時間を短くして、上ステージ１７０が水平方向へ変位することを抑制できる。なお、被支持部１７６をロードセル１８０に係合させる構造は、係合部材１７１の使用に限られるわけではなく、被支持部１７６自体の下面に、凹部、溝等を形成してもよい。

また、上ステージ１７０が降下している場合に係合する係合部材１７１は、スタビライザ２００を備えた基板接合装置１００に併設してもよい。これにより、付勢力発生部１９０の作用を停止させた場合に係合部材１７１が係合することにより、上ステージ１７０が支持されると共に、上ステージ１７０の位置が所与の位置に戻される。

図９は、ロードセル１８０および付勢力発生部１９０の平面的なレイアウトを模式的に示す図である。図示のように、ロードセル１８０および付勢力発生部１９０は、それぞれ、基板１６４を中心として対象に配置される。また、基板１６４と同軸に配されて環状をなす上ステージ支持台１１１において、ロードセル１８０および付勢力発生部１９０は、それぞれ等間隔に配される。

これにより、付勢力発生部１９０の発生した付勢力は、基板１６４全体に対して均等に作用して、基板１６４を傾けることなく上方に向かって付勢する。また、ロードセル１８０は、被支持部１７６からの荷重を均等に受けて、基板１６４にかかる負荷をあますことなく検出する。

図１０は、図９に示したレイアウトの変形例を示す図である。このレイアウトにおいても、ロードセル１８０および付勢力発生部１９０は、それぞれ環状の上ステージ支持台１１１に等間隔に配される。ただし、ロードセル１８０の各々は、いずれかの付勢力発生部１９０に隣接して配される。これにより、付勢力発生部１９０が発生した付勢力による生じる負荷の変動を高感度に検出できる。

図１１は、また他のレイアウトを示す図である。このレイアウトでは、環状をなす上ステージ支持台１１１に等間隔に配されたロードセル１８０の各々に対して、各ロードセル１８０を挟んだ各々一対の付勢力発生部１９０が配される。

これにより、付勢力発生部１９０が発生した付勢力は、ロードセル１８０の各々に対して対称な位置で被支持部１７６に作用する。従って、ロードセル１８０は、被支持部１７６に対して垂直方向に作用する付勢力の大きさを正確に検出できる。

図１２は、更に他のレイアウトを示す図である。このレイアウトにおいても、ロードセル１８０は、環状の上ステージ支持台１１１の上に等間隔に配される。これに対して、付勢力発生部１９０の各々は、それ自体が環状の形状を有し、ロードセル１８０に対して同軸に配される。

これにより、付勢力発生部１９０が発生して被支持部１７６に作用する付勢力の中心と、ロードセル１８０が検出する荷重の中心とが一致する。従って、ロードセル１８０は、被支持部１７６に対して垂直方向に作用する付勢力の大きさを正確に検出できる。

以上、本発明を実施の形態を用いて説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施の形態に記載の範囲には限定されない。また、上記実施の形態に、多様な変更または改良を加え得ることが当業者に明らかである。更に、その様な変更または改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。

基板接合装置１００の構造を模式的に示す断面図である。付勢力発生部１９０の作用を説明する図である。基板接合装置１００の動作を説明する断面図である。スタビライザ２００の自然状態における形状を示す斜視図である。負荷が作用したスタビライザ２００の形状を示す斜視図である。他の負荷が作用したスタビライザ２００の形状を示す斜視図である。他の基板接合装置１００の構造を模式的に示す断面図である。また他の係る基板接合装置１００の構造を模式的に示す断面図である。ロードセル１８０および付勢力発生部１９０の平面的なレイアウトを模式的に示す図である。ロードセル１８０および付勢力発生部１９０の平面的なレイアウトを模式的に示す図である。ロードセル１８０および付勢力発生部１９０の平面的なレイアウトを模式的に示す図である。ロードセル１８０および付勢力発生部１９０の平面的なレイアウトを模式的に示す図である。

符号の説明

１００基板接合装置、１１０枠体、１１１上ステージ支持台、１１２天板、１１３把持部、１１４支柱、１１５弾性体シート、１１６底板、１２２Ｘステージ、１２４Ｙステージ、１３０駆動部、１３２シリンダ、１３４ピストン、１４０下ステージ、１４２下テーブル、１４４、１８０ロードセル、１４６上テーブル、１５２、１６２基板ホルダ、１５４、１６４基板、１７０上ステージ、１７１係合部材、１７２ホルダ保持部、１７４連結部、１７６被支持部、１９０付勢力発生部、１９２電磁石、１９４永久磁石、２００スタビライザ、２０１コイルバネ、２１０結合部、２２０弾性材料板、２３０円弧状スリット、２４０応力分散部、２５０被把持部

Claims

第一の基板を保持する上ステージと、
前記第一の基板に接合される第二の基板を保持する下ステージと、
前記第一の基板と前記第二の基板とを互いに接触させるべく前記上ステージと前記下ステージとを互いに近接する方向へ相対移動させる駆動部と、
少なくとも前記第一の基板と前記第二の基板とが接触したときに、前記上ステージに前記下ステージから離れる方向に力を作用させる力発生部を有し、前記第一の基板と前記第二の基板とが接触したときの衝撃を緩和する衝撃緩和手段と、
前記力発生部が発生する力により減じられた上ステージの見かけの重量を測定するロードセルと、
を備える基板接合装置。
前記上ステージは、前記下ステージの上方に配置されており、前記力発生部は、重力に抗した力を前記上ステージに作用させる請求項１に記載の基板接合装置。
前記力発生部の前記力は、前記第一の基板と前記第二の基板とが接触した状態で前記上ステージが上昇したとき、その上昇距離に対して漸次小さくなる請求項２に記載の基板接合装置。
前記力発生部は、前記上ステージに磁力の反発力を作用させる請求項１から３のいずれか一項に記載の基板接合装置。
前記上ステージを支持するステージ支持部を備え、
前記力発生部は、前記ステージ支持部および前記上ステージの一方に設けられた電磁石と、他方に設けられた永久磁石とを有する請求項４に記載の基板接合装置。
前記上ステージが前記下ステージと対向する方向について、前記上ステージを弾性的に保持する弾性保持部をさらに備える請求項１から５のいずれか一項に記載の基板接合装置。
前記弾性保持部は、前記上ステージの傾きを許容して保持する請求項６に記載の基板接合装置。
前記弾性保持部は、前記上ステージの前記対向方向に直交する方向の移動を規制する請求項６または７に記載の基板接合装置。
前記弾性保持部は、円板形状を有し、板面に沿った方向の剛性が、板厚方向の剛性および傾きの剛性よりも大きい板バネを含む請求項６から８のいずれか一項に記載の基板接合装置。
前記弾性保持部は、一端が固定され、他端が前記上ステージと共に移動して、前記上ステージが移動した場合に伸縮する弾性部材を含む請求項６から９のいずれか一項に記載の基板接合装置。
前記上ステージが前記駆動部の駆動により移動した場合に、前記上ステージに弾性的に当接して移動を規制する弾性体をさらに備える請求項１から１０までのいずれか一項に記載の基板接合装置。
前記第一の基板と前記第二の基板との接触時に前記上ステージに作用する荷重を検出する複数のロードセルを備え、
前記複数のロードセルは、前記上ステージに保持された前記第一の基板の周方向に沿って配置される請求項１から請求項１１までのいずれか一項に記載の基板接合装置。
前記衝撃緩和手段は、前記複数のロードセルにそれぞれ隣接した位置に配される請求項１２に記載の基板接合装置。
前記衝撃緩和手段は、前記複数のロードセルの各々を中心にして対称な位置に配される請求項１２に記載の基板接合装置。
前記衝撃緩和手段は、前記複数のロードセルの各々の中心と一致した位置に配される請求項１２に記載の基板接合装置。
前記力発生部による前記力が前記上ステージに作用していない状態で前記上ステージに係合する係合部を備える請求項１に記載の基板接合装置。
前記駆動部は、前記下ステージを前記上ステージに向けて昇降させるピストンおよびシリンダを有する請求項１から１６のいずれか一項に記載の基板接合装置。
第一の基板を保持する上ステージと、
前記第一の基板に接合される第二の基板を保持する下ステージと、
前記第一の基板と前記第二の基板とを互いに接触させるべく前記上ステージと前記下ステージとを互いに近接する方向へ相対移動させる駆動部と、
少なくとも前記第一の基板と前記第二の基板とが接触したときに、前記上ステージの見かけの質量を減じる手段と、
前記上ステージの見かけの重量を測定するロードセルと、
を備える基板接合装置。