JP5493285B2 - 光学フィルム - Google Patents

Description

本発明は、紫外線吸収剤を含有する光学フィルムに関する。詳しくは、アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂とを主要構成成分として形成され、かつ特定の紫外線吸収剤を含有する光学フィルムに関する。

偏光板用保護フィルムに使用される光学フィルムには、偏光子や液晶を紫外線から守る目的で、紫外線吸収剤が使用されている。とくに液晶パネルの視認側の保護用フィルムとバックライト側の保護用フィルムには必須である。

この紫外線吸収剤はフィルムに使用される樹脂に対して相溶性が悪い場合があり、高温高湿中にフィルムを放置すると紫外線吸収材がブリードアウトすることがあった。

樹脂と紫外線吸収材の相溶性はその組み合わせによって決まるがセルロースエステルにのみ相溶する紫外線吸収剤やアクリル樹脂にのみ相溶する紫外線吸収材などがあり、紫外線吸収剤の選択の幅が狭い場合があった（例えば特許文献１〜４参照）。

一方、アクリル樹脂フィルムは、透明性が優れていて、光学フィルムとして適しているが、高性能化、薄膜化の要求に応じて単純に薄膜化してしまうと、十分に紫外線をカットすることができず、薄膜化された分だけ、紫外線吸収剤を増量しなければならない。しかし、紫外線吸収剤の相溶性が不十分であるため、光学フィルムの製造工程で、剥離ロールや搬送ロールに紫外線吸収剤が付着し、故障の原因となり、生産性を大きく低下させてしまうという問題があった。また、紫外線吸収剤を増量したときにヘイズが高くなり、光学フィルムとして透過率、密着性、ブリードアウト耐性等の性能が劣化してしまうという問題があった。
特開平６−１３０２２６号公報 特開平７−１１０５６号公報 特開平６−１４８４３０号公報 特開２００２−４７３５７号公報

本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、紫外線吸収剤を含有する光学フィルムであって、ヘイズ、透過率、密着性、ブリードアウト耐性等の性能が改良された光学フィルムを提供することである。

本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。

１．アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂とを９５：５〜３０：７０の質量比で相溶状態で含有し、前記アクリル樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）が８００００以上であり、前記セルロースエステル樹脂のアシル基の総置換度が２．０〜３．０であり、炭素数が３〜７のアシル基の置換度が１．２〜３．０であり、当該セルロースエステル樹脂の重量平均分子量Ｍｗが７５０００以上であり、かつ紫外線吸収剤を含有することを特徴とする光学フィルム。

２．前記紫外線吸収剤として紫外線吸収性重合体を含有することを特徴とする前記１に記載の光学フィルム。

３．前記紫外線吸収剤として下記一般式（ＵＶＡ１）〜（ＵＶＡ３）で表される化合物から選択される少なくとも一種の化合物を含有することを特徴とする前記１又は２に記載の光学フィルム。

（一般式（ＵＶＡ１）〜（ＵＶＡ３）において、Ｒ₁、Ｒ₂は、各々、置換基を表し、Ｘは−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＮＲ₁₁ＣＯ−、−ＣＯＮＲ₁₁−、−Ｏ−、−ＮＲ₁₂Ｒ₁₃−、−ＳＯ₂ＮＲ₁₄−、−ＮＲ₁₄ＳＯ₂−、−Ｓ−、又は−ＳＯ₂−を表し、Ｌ₁は２価の連結基、Ｌ₂は３価の連結基、Ｌ₃は４価の連結基を表す。Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃、Ｒ₁₄は、各々、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表す。ｐは０〜３の整数、ｑは０〜４の整数を表す。）
４．前記セルロースエステル樹脂の、炭素数が３〜７以外のアシル基の置換度の総和が、１．３以下であることを特徴とする前記１〜３のいずれか一項に記載の光学フィルム。

５．前記セルロースエステル樹脂の、炭素数が３〜７のアシル基の置換度の総和が、２．００以上であることを特徴とする前記１〜４のいずれか一項に記載の光学フィルム。

６．前記セルロースエステル樹脂のアシル基の総置換度が、２．５〜３．０であることを特徴とする前記１〜５のいずれか一項に記載の光学フィルム。

７．前記アクリル樹脂が、分子内にメチルメタクリレート単位を５０〜９９質量％有するアクリル樹脂であることを特徴とする前記１〜６のいずれか一項に記載の光学フィルム。

８．前記アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂の質量比が、９５：５〜５０：５０の範囲内であることを特徴とする前記１〜７のいずれか一項に記載の光学フィルム。

９．前記アクリル樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）が、８００００〜１００００００の範囲内であることを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載の光学フィルム。

１０．前記セルロースエステル樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）が７５０００〜３０００００の範囲内であることを特徴とする前記１〜９のいずれか一項に記載の光学フィルム。

１１．前記光学フィルムが、当該光学フィルムを構成する樹脂の総質量に対して、０．５〜３０質量％のアクリル粒子を含有することを特徴とする前記１〜１０のいずれか一項に記載の光学フィルム。

１２．膜厚が２０〜２００μｍであり、偏光板保護フィルムとして用いられることを特徴とする前記１〜１０のいずれか一項に記載の光学フィルム。

本発明の手段により、紫外線吸収剤を含有する光学フィルムであって、ヘイズ、透過率、密着性、ブリードアウト耐性等の性能が改良された光学フィルムを提供することができる。

すなわち、アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂を相溶状態で混合することで、どちらかに相溶する紫外線吸収剤を使用することができるようになる。

更に、特定の分子量、置換度の樹脂を用いることでブリードアウトも著しく減少させることができる。また、光学フィルムの製造工程で剥離ロールや搬送ロールに紫外線吸収剤が付着し、故障の原因となり、生産性を大きく低下させてしまう問題も同時に解決できる。

更に、紫外線吸収材を添加することでハードコート層の密着性を改善することができる。

一般的にハードコート層には紫外線（ＵＶ）硬化型樹脂を用いるのでハードコート層を硬化させる場合にＵＶ光を照射する。この紫外線が光学フィルム中の紫外線吸収剤に吸収されることで光学フィルム表面で熱が発生し、ハードコート層との界面の温度が上昇する。この温度上昇によりハードコート層の硬化反応がより進行することで、接着性が改善すると考えられる。

本発明の光学フィルムは、アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂とを９５：５〜３０：７０の質量比で相溶状態で含有し、前記アクリル樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）が８００００以上であり、前記セルロースエステル樹脂のアシル基の総置換度が２．０〜３．０であり、炭素数が３〜７のアシル基の置換度が１．２〜３．０であり、当該セルロースエステル樹脂の重量平均分子量Ｍｗが７５０００以上であり、かつ紫外線吸収剤を含有することを特徴とする。この特徴は、請求項１〜１２に係る発明に共通する技術的特徴である。

本発明の実施態様としては、前記紫外線吸収剤として紫外線吸収性重合体を含有する態様であることが好ましい。また、前記紫外線吸収剤として前記一般式（ＵＶＡ１）〜（ＵＶＡ３）で表されるを化合物から選択される少なくとも一種の化合物を含有することも好ましい。

本発明においては、前記セルロースエステル樹脂の、炭素数が３〜７以外のアシル基の置換度の総和が、１．３以下である態様であることが好ましい。また、当該セルロースエステル樹脂の、炭素数が３〜７のアシル基の置換度の総和が、２．００以上であることが好ましい。更に、当該セルロースエステル樹脂のアシル基の総置換度が、２．５〜３．０であることが好ましい。

また、本発明においては、前記アクリル樹脂が、分子内にメチルメタクリレート単位を５０〜９９質量％有するアクリル樹脂である態様であることが好ましい。

更には、アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂の質量比が、９５：５〜５０：５０の範囲内であることがより好ましい。特に好ましくは、９０：１０〜６０：４０の範囲内である。

前記アクリル樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）については、８００００〜１００００００の範囲内であることがより好ましく、特に好ましくは、１５００００〜４０００００の範囲内である。

一方、前記セルロースエステル樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）については、７５０００〜３０００００の範囲内であることが好ましく、特に好ましくは、１０００００〜２４００００の範囲内である。

本発明においては、当該光学フィルムを構成する樹脂の総質量に対して、０．５〜３０質量％のアクリル粒子を含有する態様であることが好ましい。また、膜厚が２０〜２００μｍであり、偏光板保護フィルムとして用いられることが好ましい。

以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための最良の形態・態様等について詳細な説明をする。

〈アクリル樹脂〉
本発明に用いられるアクリル樹脂には、メタクリル樹脂も含まれる。樹脂としては特に制限されるものではないが、メチルメタクリレート単位５０〜９９質量％、およびこれと共重合可能な他の単量体単位１〜５０質量％からなるものが好ましい。

共重合可能な他の単量体としては、アルキル数の炭素数が２〜１８のアルキルメタクリレート、アルキル数の炭素数が１〜１８のアルキルアクリレート、アクリル酸、メタクリル酸等のα，β−不飽和酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等の不飽和基含有二価カルボン酸、スチレン、α−メチルスチレン、核置換スチレン等の芳香族ビニル化合物、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のα，β−不飽和ニトリル、無水マレイン酸、マレイミド、Ｎ−置換マレイミド、グルタル酸無水物等が挙げられ、これらは単独で、あるいは２種以上を併用して用いることができる。

これらの中でも、共重合体の耐熱分解性や流動性の観点から、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｓ−ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート等が好ましく、メチルアクリレートやｎ−ブチルアクリレートが特に好ましく用いられる。

本発明の光学フィルムに用いられるアクリル樹脂は、フィルムとしての機械的強度、フィルムを生産する際の流動性の点から重量平均分子量（Ｍｗ）が８００００〜１００００００であることが好ましい。

本発明のアクリル樹脂の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定することができる。測定条件は以下の通りである。

溶媒： メチレンクロライド
カラム： Ｓｈｏｄｅｘ Ｋ８０６、Ｋ８０５、Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製を３本接続して使用した）
カラム温度：２５℃
試料濃度： ０．１質量％
検出器： ＲＩ Ｍｏｄｅｌ ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ： Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量： １．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線： 標準ポリスチレンＳＴＫ ｓｔａｎｄａｒｄ ポリスチレン（東ソー（株）製）Ｍｗ＝２，８００，０００〜５００迄の１３サンプルによる校正曲線を使用した。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いることが好ましい。

本発明におけるアクリル樹脂の製造方法としては、特に制限は無く、懸濁重合、乳化重合、塊状重合、あるいは溶液重合等の公知の方法のいずれを用いても良い。ここで、重合開始剤としては、通常のパーオキサイド系およびアゾ系のものを用いることができ、また、レドックス系とすることもできる。重合温度については、懸濁または乳化重合では３０〜１００℃、塊状または溶液重合では８０〜１６０℃で実施しうる。さらに、生成共重合体の還元粘度を制御するために、アルキルメルカプタン等を連鎖移動剤として用いて重合を実施することもできる。

この分子量とすることで、耐熱性と脆性の両立を図ることができる。

本発明のアクリル樹脂としては、市販のものも使用することができる。例えば、デルペット６０Ｎ、８０Ｎ（旭化成ケミカルズ（株）製）、ダイヤナールＢＲ５２、ＢＲ８０，ＢＲ８３，ＢＲ８５，ＢＲ８８（三菱レイヨン（株）製）、ＫＴ７５（電気化学工業（株）製）等が挙げられる。

〈セルロースエステル樹脂〉
本発明に係るセルロースエステル樹脂は、特に脆性の改善やアクリル樹脂と混合された場合の透明性の観点から、アシル基の総置換度（Ｔ）が２．００〜３．００、炭素数が３〜７のアシル基の置換度が１．２〜３．０であることが好ましい。即ち、セルロースエステル樹脂は炭素数が３〜７のアシル基により置換されたセルロースエステル樹脂であり、具体的には、プロピオニル、ブチリル等が好ましく用いられるが、特にプロピオニル基が好ましく用いられる。

セルロースエステル樹脂の、アシル基の総置換度が２．０を下回る場合、即ち、セルロースエステル分子の２，３，６位の水酸基の残度が１．０を上回る場合には、アクリル樹脂（Ａ）と十分に相溶せずヘイズが問題となる。また、アシル基の総置換度が２．０以上であっても、炭素数が３〜７のアシル基の置換度が１．２を下回る場合は、やはり十分な相溶性が得られないか、脆性が低下することとなる。例えば、アシル基の総置換度が２．０以上の場合であっても、炭素数２のアシル基、即ちアセチル基の置換度が高く、炭素数３〜７のアシル基の置換度が１．２を下回る場合は、相溶性が低下しヘイズが上昇する。また、アシル基の総置換度が２．０以上の場合であっても、炭素数８以上のアシル基の置換度が高く、炭素数３〜７のアシル基の置換度が１．２を下回る場合は、脆性が低下し、所望の特性が得られない。

本発明のセルロースエステル樹脂のアシル置換度は、総置換度（Ｔ）が２．０〜３．０であり、炭素数が３〜７のアシル基の置換度が１．２〜３．０であれば問題ないが、
炭素数が３〜７以外のアシル基、即ち、アセチル基や炭素数が８以上のアシル基の置換度の総計が１．３以下とされることが好ましい。

本願において、「アシル基」とは、さらに置換基を有するものも包含する意味である。但し、アシル基の炭素数は、アシル基の置換基を包含するものである。

上記セルロースエステル樹脂が、芳香族アシル基を置換基として有する場合、芳香族環に置換する置換基Ｘの数は０〜５個であることが好ましい。この場合も、置換基を含めた炭素数が３〜７であるアシル基の置換度が１．２〜３．０となるように留意が必要である。例えば、ベンジル基は炭素数が７になる為、炭素を含む置換基を有する場合は、ベンジル基としての炭素数は８以上となり、炭素数が３〜７のアシル基には含まれないこととなる。

更に、芳香族環に置換する置換基の数が２個以上の時、互いに同じでも異なっていてもよいが、また、互いに連結して縮合多環化合物（例えばナフタレン、インデン、インダン、フェナントレン、キノリン、イソキノリン、クロメン、クロマン、フタラジン、アクリジン、インドール、インドリンなど）を形成してもよい。

上記セルロースエステル樹脂においては、置換もしくは無置換の炭素数３〜７の脂肪族アシル基の少なくとも１種を有する構造を有することが本発明のセルロース樹脂に用いる構造として用いられる。

本発明のセルロースエステル樹脂の置換度は、アシル基の総置換度（Ｔ）が２．００〜３．００、炭素数が３〜７のアシル基の置換度が１．２〜３．０である。

また、炭素数が３〜７のアシル基以外、即ちアセチル基と炭素数が８以上のアシル基の置換度の総和が１．３以下であることが好ましい構造である。

本発明に係るセルロースエステル樹脂としては、特にセルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートベンゾエート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレートから選ばれる少なくとも一種であることが好ましく、特にセルロースアセテートプロピオネート、セルロースプロピオネートが更に好ましい。

これらの中で特に好ましいセルロースエステル樹脂は、セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートであり、炭素原子数３または４のアシル基を置換基として有するものが好ましい。

アシル基で置換されていない部分は、通常水酸基として存在しているものである。これらは公知の方法で合成することが出来る。

なお、アセチル基の置換度や他のアシル基の置換度は、ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に規定の方法により求めたものである。

本発明のセルロースエステル樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、特にアクリル樹脂との相溶性、脆性の改善の観点から７５０００以上であり、７５０００〜３０００００の範囲であることが好ましく、１０００００〜２４００００の範囲内であることが更に好ましく、１６００００〜２４００００のものが特に好ましい。

本発明の光学フィルムにおいて、アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂は、９５：５〜３０：７０の質量比で相溶状態で含有されるが、好ましくは９５：５〜５０：５０であり、更に好ましくは９０：１０〜６０：４０である。

本発明の光学フィルムにおいては、アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂が相溶状態で含有される必要がある。光学フィルムとして必要とされる物性や品質を、異なる樹脂を相溶させることで相互に補うことにより達成している。

アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂が相溶状態となっているかどうかは、例えばガラス転移温度Ｔｇにより判断することが可能である。

例えば、両者の樹脂のガラス転移温度が異なる場合、両者の樹脂を混合したときは、各々の樹脂のガラス転移温度が存在するため混合物のガラス転移温度は２つ以上存在するが、一方、両者の樹脂が相溶したときは、各々の樹脂固有のガラス転移温度が消失し、１つのガラス転移温度となって相溶した樹脂のガラス転移温度とする特性となる。

尚、ここでいうガラス転移温度とは、示差走査熱量測定器（Ｐｅｒｋｉｎ Ｅｌｍｅｒ社製ＤＳＣ−７型）を用いて、昇温速度２０℃／分で測定し、ＪＩＳ Ｋ７１２１（１９８７）に従い求めた中間点ガラス転移温度（Ｔｍｇ）とする。

アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂は、それぞれ非結晶性樹脂であることが好ましく、いずれか一方が結晶性高分子、あるいは部分的に結晶性を有する高分子であってもよいが、本発明においてアクリル樹脂とセルロースエステル樹脂が相溶することで、非結晶性樹脂となることが好ましい。

本発明の光学フィルムにおけるアクリル樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）やセルロースエステル樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）や置換度は、両者の樹脂の溶媒に対して溶解性の差を用いて、分別した後に、それぞれ測定することにより得られる。樹脂を分別する際には、いずれか一方にのみ溶解する溶媒中に相溶された樹脂を添加することで、溶解する樹脂を抽出して分別することができ、このとき加熱操作や環流を行ってもよい。これらの溶媒の組み合わせを２工程以上組み合わせて、樹脂を分別してもよい。溶解した樹脂と、不溶物として残った樹脂を濾別し、抽出物を含む溶液については、溶媒を蒸発させて乾燥させる操作によって樹脂を分別することができる。これらの分別した樹脂は、高分子の一般の構造解析によって特定することができる。本発明の光学フィルムが、アクリル樹脂やセルロースエステル樹脂以外の樹脂を含有する場合も同様の方法で分別することができる。

また、相溶された樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）がそれぞれ異なる場合は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって、高分子量物は早期に溶離され、低分子量物であるほど長い時間を経て溶離されるために、容易に分別可能であるとともに分子量を測定することも可能である。

また、相溶した樹脂をＧＰＣによって分子量測定を行うと同時に時間毎に溶離された樹脂溶液を分取して溶媒を留去し乾燥した樹脂の構造解析を定量的に行うことで、異なる分子量の分画毎の樹脂組成を検出することで、相溶されている樹脂をそれぞれ特定することができる。事前に溶媒への溶解性の差で分取した樹脂を、各々ＧＰＣによって分子量分布を測定することで、相溶されていた樹脂をそれぞれ検出することもできる。

本発明においては、本発明の範囲でアクリル樹脂やセルロースエステル樹脂が混合されることにより相溶していることが必要である。

例えば、モノマー、ダイマー、あるいはオリゴマー等のアクリル樹脂の前駆体をセルロースエステル樹脂に混合させた後に重合されることにより混合樹脂を得る工程は、重合反応が複雑であり、この方法で作製した樹脂は、反応の制御が困難である。また、このような方法で樹脂を合成した場合は、グラフト重合、架橋反応や環化反応が生じることが多く、溶媒に溶解しなかったり、加熱により溶融できなくなることが多く、光学フィルムを安定に製造する樹脂として用いることは困難である。従って、このような方法により得られた樹脂は、本発明のアクリル樹脂とセルロースエステル樹脂が相溶状態で含有される樹脂には該当しないものとする。

本発明の光学フィルムは、光学フィルムとしての機能を損なわない限りは、アクリル樹脂、セルロースエステル樹脂以外の樹脂や添加剤を含有して構成されていても良い。

アクリル樹脂、セルロースエステル樹脂以外の樹脂を含有する場合、添加される樹脂が相溶状態であっても、溶解せずに混合されていてもよい。

本発明の光学フィルムにおけるアクリル樹脂とセルロースエステル樹脂の総質量は、光学フィルムの５５質量％以上であることが好ましく、更に好ましくは６０質量％以上であり、特に好ましくは、７０質量％以上である。

アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂以外の樹脂や添加剤を用いる際には、本発明の光学フィルムの機能を損なわない範囲で添加量を調整することが好ましい。

（紫外線吸収剤）
本発明の光学フィルムは、紫外線吸収剤を含有することを特徴とする。本発明においては、従来公知の種々の紫外線吸収剤を用いることができるが、紫外線吸収剤として紫外線吸収性重合体を含有することが好ましい。また、紫外線吸収剤として前記一般式（ＵＶＡ１）〜（ＵＶＡ３）で表される化合物から選択される少なくとも一種の化合物を含有することが好ましい。

以下、好ましい紫外線吸収剤の具体例について説明する。

《紫外線吸収性重合体》
紫外線吸収剤として好適に用いることができる紫外線吸収性重合体としては、下記の例を挙げることができる。

下記一般式（１）で表される繰り返し単位を含む紫外線吸収性重合体：

（式中、Ｊ₁は、−Ｏ−、−ＮＲ₁−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−ＰＯＯ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＮＲ₂ＣＯ−、−ＮＲ₃ＣＯＯ−、−ＮＲ₄ＣＯＮＲ₅−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＮＲ₆−、−ＣＯＮＲ₇−、−ＮＲ₈ＳＯ−、−ＮＲ₉ＳＯ₂−、−ＳＯＮＲ₁₀−、−ＳＯ₂ＮＲ₁₁−を表し、Ｒ₁〜Ｒ₁₁は水素原子、アルキル基、アリール基を表す。Ｓｐ₁は２価の連結基を表し、ハロゲン原子、置換基を有してもよい。但し、Ｓｐ₁に紫外線吸収性基が直接、またはスペーサーを介して結合するか、もしくは、紫外線吸収性基の一部または全部が重合体主鎖の一部を形成している。）
下記一般式（２）で表される繰り返し単位を含む紫外線吸収性重合体：

（式中、Ｊ₂、Ｊ₃は、一般式（１）中のＪ₁と同義であり、Ｊ₂、Ｊ₃は互いに同じであっても異なってもよい。Ｓｐ₂、Ｓｐ₃は一般式（１）中のＳｐ₁と同義であり、Ｓｐ₂、Ｓｐ₃は互いに同じであっても異なってもよいが、Ｓｐ₂、Ｓｐ₃の少なくとも一方に、紫外線吸収性基が直接、またはスペーサーを介して結合するか、もしくは、Ｓｐ₂、Ｓｐ₃の少なくとも一方において、紫外線吸収性基の一部または全部が重合体主鎖の一部を形成している。）
下記一般式（３）で表される紫外線吸収性基を有する繰り返し単位を含む紫外線吸収性重合体：

（式中、Ｒ₁₂〜Ｒ₂₅は各々、水素原子、ハロゲン原子、置換基を表す。また、Ｒ₁₂〜Ｒ₂₅において、隣接するもの同士は、互いに結合して環を形成してもよい。一般式（３）で表される紫外線吸収性基はいずれかの部位で重合体主鎖と直接、またはスペーサーを介して結合するか、もしくは、紫外線吸収性基の一部または全部が重合体主鎖の一部を形成している。）
下記一般式（４）で表される紫外線吸収性基を有する繰り返し単位を含む紫外線吸収性重合体：

（式中、Ｒ₂₆、Ｒ₂₇は各々炭素数１〜１０のアルキル基を表し、Ｒ₂₈、Ｒ₂₉、Ｒ₃₀は各々アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アミノ基を表し、Ｘ、Ｙは各々電子吸引性基を表す。但し、Ｒ₂₆〜Ｒ₃₀及びＸ、Ｙはハロゲン原子、置換基を有してもよく、また、これらは互いに連結して５または６員環を形成していても良い。但し、一般式（４）で表される紫外線吸収性基はいずれかの部位で重合体主鎖と直接、またはスペーサーを介して結合するか、もしくは、紫外線吸収性基の一部または全部が重合体主鎖の一部を形成している。）
下記一般式（５）で表される紫外線吸収性基を有する繰り返し単位を含む紫外線吸収性重合体：

（式中、Ｒ₆₆〜Ｒ₇₁は各々、水素原子、ハロゲン原子、置換基を表す。Ｘ、Ｙは一般式（４）中のＸ、Ｙと同義である。但し、一般式（５）で表される紫外線吸収性基はいずれかの部位で重合体主鎖と直接、またはスペーサーを介して結合するか、もしくは、紫外線吸収性基の一部または全部が重合体主鎖の一部を形成している。）
下記一般式（６）で表される繰り返し単位を含む紫外線吸収性重合体：

（式中、Ｒ₃₁、Ｒ₃₂は、水素原子、ハロゲン原子、置換基を表し、ｌは０、１、２、３を、ｍは０、１、２、３、４を表す。ｌが２又は３のとき、Ｒ₃₁同士は互いに同じでも異なっていてもよく、ｍが２、３又は４のとき、Ｒ₃₂同士は互いに同じでも異なっていてもよい。Ｊ₄は、＊−Ｏ−、＊−ＮＲ₁−、＊−Ｓ−、＊−ＳＯ−、＊−ＳＯ₂−、＊−ＰＯＯ−、＊−ＣＯ−、＊−ＣＯＯ−、＊−ＮＲ₂ＣＯ−、＊−ＮＲ₃ＣＯＯ−、＊−ＮＲ₄ＣＯＮＲ₅−、＊−ＯＣＯ−、＊−ＯＣＯＮＲ₆−、＊−ＣＯＮＲ₇−、＊−ＮＲ₈ＳＯ−、＊−ＮＲ₉ＳＯ₂−、＊−ＳＯＮＲ₁₀−、＊−ＳＯ₂ＮＲ₁₁−を表す。但し＊印は、＊で紫外線吸収性基に連結していることを示す。Ｒ₁〜Ｒ₁₁は一般式（１）中のＲ₁〜Ｒ₁₁と同義である。Ｓｐ₄は一般式（１）のＳｐ₁と同義である。）
下記一般式（７）で表される繰り返し単位を含む紫外線吸収性重合体：

（式中、Ｒ₃₃、Ｒ₃₄は、水素原子、ハロゲン原子、置換基を表し、ｓは０、１、２、３、４を、ｏは０、１、２、３を表す。ｓが２、３又は４のとき、Ｒ₃₃同士は互いに同じでも異なっていてもよく、ｏが２又は３のとき、Ｒ₃₄同士は互いに同じでも異なっていてもよい。Ｊ₅は、＊−Ｏ−、＊−ＮＲ₁−、＊−Ｓ−、＊−ＳＯ−、＊−ＳＯ₂−、＊−ＰＯＯ−、＊−ＣＯ−、＊−ＣＯＯ−、＊−ＮＲ₂ＣＯ−、＊−ＮＲ₃ＣＯＯ−、＊−ＮＲ₄ＣＯＮＲ₅−、＊−ＯＣＯ−、＊−ＯＣＯＮＲ₆−、＊−ＣＯＮＲ₇−、＊−ＮＲ₈ＳＯ−、＊−ＮＲ₉ＳＯ₂−、＊−ＳＯＮＲ₁₀−、＊−ＳＯ₂ＮＲ₁₁−を表す。但し＊印は、＊で紫外線吸収性基に連結していることを示す。Ｒ₁〜Ｒ₁₁は一般式（１）中のＲ₁〜Ｒ₁₁と同義である。Ｓｐ₅は一般式（１）のＳｐ₁と同義である。）
下記一般式（８）及び（９）で表される化合物から誘導される共重合体である紫外線吸収性重合体：

（式中、Ｒ₃₅〜Ｒ₃₉は、各々、水素原子、ハロゲン原子、置換基を表し、Ｓｐ₆は一般式（１）のＳｐ₁と同義である。ｑは０、１、２、３、４を、ｒは０、１、２、３を表す。ｑが２、３又は４のとき、Ｒ₃₅同士は互いに同じでも異なっていてもよく、ｒが２又は３のとき、Ｒ₃₆同士は互いに同じでも異なっていてもよい。）
一般式（１）において、Ｊ₁は−Ｏ−、−ＮＲ₁−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−ＰＯＯ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＮＲ₂ＣＯ−、−ＮＲ₃ＣＯＯ−、−ＮＲ₄ＣＯＮＲ₅−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＮＲ₆−、−ＣＯＮＲ₇−、−ＮＲ₈ＳＯ−、−ＮＲ₉ＳＯ₂−、−ＳＯＮＲ₁₀−、−ＳＯ₂ＮＲ₁₁−を表すが、好ましくは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＮＲ₂ＣＯ−、−ＣＯＮＲ₇−が挙げられる。Ｒ₁〜Ｒ₁₁は各々水素原子、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ヒドロキシエチル基、メトキシメチル基、トリフルオロメチル基、ｔ−ブチル基等）、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、ｐ−トリル基、ｐ−クロロフェニル基等）を表す。なお、アルキル基、アリール基は置換されていても、未置換であってもよい。

Ｓｐ₁は２価の連結基を示し、特に限定はされないが、好ましくはアルキレン基、アリーレン基を含む２価の連結基が挙げられ、更に好ましくは、炭素数１〜１０のアルキレン基、炭素数４〜１０のアリーレン基である。これら２価の連結基はハロゲン原子、置換基を有していてもよい。前記置換基としては、アルキル基（例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ヒドロキシエチル基、メトキシメチル基、トリフルオロメチル基、ｔ−ブチル基等）、アリール基（例えばフェニル基、ナフチル基、ｐ−トリル基、ｐ−クロロフェニル基等）、アシル基（例えばアセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基等）、スルホニル基（例えばメタンスルホニル基、ブタンスルホニル基、フェニルスルホニル基等）、アルコキシ基（例えばメトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基等）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ基等）、アルキルチオ基（例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ブチルチオ基等）、アリールチオ基（例えばフェニルチオ基等）、アミノ基、アルキルアミノ基（例えばメチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基等）、アリールアミノ基（例えばフェニルアミノ基等）、アシルアミノ基（例えばアセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基等）、ヒドロキシル基、シアノ基、カルバモイル基（例えばメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基等）、スルファモイル基（例えばエチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基等）、スルホンアミド基、アシルオキシ基、オキシカルボニル基、スルホニルアミノ基（例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基等）、ウレイド基（例えば３−メチルウレイド基、３，３−ジメチルウレイド基、１，３−ジメチルウレイド基等）、スルファモイルアミノ基（ジメチルスルファモイルアミノ基等）、アルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル基等）、ニトロ基、イミド基（例えばフタルイミド基等）、ヘテロ環基（例えば、ピリジル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、ベンズオキサゾリル基等）が挙げられるが、好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アシルアミノ基、カルバモイル基、アシルオキシ基、オキシカルボニル基である。

但し、Ｓｐ₁に紫外線吸収性基が直接、またはスペーサーを介して結合するか、もしくは、紫外線吸収性基の一部または全部が重合体主鎖の一部を形成している。

ここで言うスペーサーとは、２価の連結基であれば如何なるものでもよいが、好ましくは置換または未置換のアルキレン基、置換または未置換のアリーレン基を含む２価の連結基、または、−Ｏ−、−ＮＲ₄Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−ＰＯＯ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＮＲ₄₁ＣＯ−、−ＮＲ₄₂ＣＯＯ−、−ＮＲ₄₃ＣＯＮＲ₄₄−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＮＲ₄₅−、−ＣＯＮＲ₄₆−の何れかと置換または未置換のアルキレン基、または置換または未置換のアリーレン基の組み合わせからなる２価の連結基が挙げられる。

ここで、Ｒ₄₁〜Ｒ₄₆は各々水素原子、ヒドロキシル基、アルキル基、アリール基を表す。アルキル基、アリール基は各々複数の置換基を有してもよく、置換基の例としては、一般式（１）中のＳｐ₁が取り得る置換基の例として挙げたもの等が挙げられる。

本発明における紫外線吸収性基は、３８０ｎｍにおける分光吸収が極めて大きく、更に４２０ｎｍ以上の可視光を殆ど吸収しない基を示し、この様な性質を有する基であれば如何なるものでもよいが、具体的には、下記一般式（１０）〜（１８）で表される化合物から水素原子を一つ以上取り除いた紫外線吸収性基を挙げることができる。

本発明の紫外線吸収性基は各々１または複数のハロゲン原子、置換基で置換されていてもよい。置換基の例としては、一般式（１）中のＳｐ₁の置換基の例として挙げたもの等が挙げられる。もちろん、一般式（１）、（２）で表される繰り返し単位、一般式（３）〜（５）で表される紫外線吸収性基や一般式（６）、（７）で表される繰り返し単位中の紫外線吸収性基を有しても良い。

一般式（１０）〜（１８）において、Ｒ₅₅〜Ｒ₆₅は水素原子、ハロゲン原子、置換基を表し、置換基の例としては、一般式（１）におけるＳｐ₁の置換基の例として挙げたもの等が挙げられるが、好ましくは、一般式（１２）において、Ｒ₅₅、Ｒ₅₆は水素原子、アルキル基、一般式（１５）において、Ｒ₅₇、Ｒ₅₈、Ｒ₅₉は水素原子、アルキル基、アリール基、一般式（１７）において、Ｒ₆₀、Ｒ₆₁はアルキル基を挙げることができる。

また、一般式（１７）及び（１８）のＲ₆₂〜Ｒ₆₅は好ましくはアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アミノ基を挙げることができる。一般式（１５）において、Ｘはメチレン、カルコゲン原子を表し、好ましくは硫黄原子である。

一般式（１７）、（１８）において、ＥＷＧ₁〜ＥＷＧ₄は電子吸引性基を表し、電子吸引性基の例としては、アシルアミノ基（例えばアセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基等）、スルホニルアミノ基（例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基等）、スルファモイルアミノ基（例えばジメチルスルファモイルアミノ基等）、カルバモイル基（例えばメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基等）、スルファモイル基（例えばエチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基等）、アルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル基等）、スルホニル基（例えばメタンスルホニル基、ブタンスルホニル基、フェニルスルホニル基等）、アシル基（例えばアセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基等）、ニトロ基、シアノ基等の置換基、及び、ハロゲン原子が挙げられ、好ましくはシアノ基、アシル基、スルホニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基が挙げられる。

但し、一般式（１７）のＥＷＧ₁、ＥＷＧ₂及び一般式（１８）のＥＷＧ₃、ＥＷＧ₄は両者が共に電子吸引性基である必要はなく、どちらか一方が電子吸引性基であれば良い。さらに一般式（１７）において、Ｒ₆₀〜Ｒ₆₄、ＥＷＧ₁、ＥＷＧ₂、一般式（１８）においてＥＷＧ₃、ＥＷＧ₄、Ｒ₆₅は互いに連結し５または６員環を形成していてもよい。

一般式（２）において、Ｊ₂、Ｊ₃は、一般式（１）におけるＪ₁と同義であり、Ｊ₂、Ｊ₃は互いに同じであっても異なってもよい。Ｓｐ₂、Ｓｐ₃は一般式（１）中のＳｐ₁と同義であり、Ｓｐ₂、Ｓｐ₃は互いに同じであっても異なってもよい。Ｓｐ₂、Ｓｐ₃の少なくとも一方に紫外線吸収性基が直接、またはスペーサーを介して結合するか、もしくは、Ｓｐ₂、Ｓｐの少なくとも一方が紫外線吸収性基の一部または全部が重合体主鎖の一部を形成している。Ｓｐ₂、Ｓｐ₃の連結基及び置換基の具体例は、一般式（１）のＳｐ₁に準ずる。

紫外線吸収性基は一般式（１）で紫外線吸収性基として挙げたものと同じものを挙げることができ、同様にスペーサーも一般式（１）でスペーサーとして挙げたものをあげることができる。

一般式（３）において、Ｒ₁₂〜Ｒ₂₅は各々、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有し、置換基の例としては、一般式（１）中のＳｐ₁の置換基の例として挙げたもの等が挙げられる。Ｒ₁₂〜Ｒ₂₅はそれぞれ同じでも異なっていてもよい。また、Ｒ₁₂〜Ｒ₂₅において、隣接するもの同士は、互いに結合して環を形成してもよい。一般式（３）で表される紫外線吸収性基はいずれかの部位で重合体主鎖と直接、またはスペーサーを介して結合するか、もしくは、紫外線吸収性基の一部または全部が重合体主鎖の一部を形成している。スペーサーは一般式（１）でスペーサーとして挙げたものをあげることができる。

一般式（４）において、Ｒ₂₆、Ｒ₂₇は各々炭素数１〜１０のアルキル基を表し、Ｒ₂₈、Ｒ₂₉、Ｒ₃₀は各々アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アミノ基を表し、Ｘ、Ｙは各々電子吸引性基を表す。電子吸引性基の例としては一般式（１７）、（１８）における、ＥＷＧ₁〜ＥＷＧ₄の例として挙げたもの等が挙げられる。但し、Ｒ₂₆〜Ｒ₃₀及びＸ、Ｙはハロゲン原子、置換基を有してもよく、置換基の例としては、一般式（１）における、Ｓｐ₁が取り得る置換基の例として挙げたもの等が挙げられる。なお、Ｒ₂₆〜Ｒ₃₀は、それぞれ同じでも異なっていてもよい。また、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アミノ基は、それぞれ置換基を有していても、未置換であってもよい。

但し、Ｒ₂₆〜Ｒ₃₀、Ｘ、Ｙは、互いに連結して５または６員環を形成していても良い。但し、一般式（４）で表される紫外線吸収性基はいずれかの部位で重合体主鎖と直接、またはスペーサーを介して結合するか、もしくは、紫外線吸収性基の一部または全部が重合体主鎖の一部を形成している。紫外線吸収性基は一般式（１）で紫外線吸収性基として挙げたものと同じものを挙げることができ、同様にスペーサーも一般式（１）でスペーサーとして挙げたものをあげることができる。

一般式（５）において、Ｒ₆₆〜Ｒ₇₁は各々水素原子、ハロゲン原子、置換基を表し、好ましくは、Ｒ₆₆〜Ｒ₇₀は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基が挙げられ、Ｒ₇₁は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基が挙げられる。但し、Ｒ₆₆〜Ｒ₇₀は互いに連結して５または６員環を形成していても良い。Ｘ、Ｙは一般式（４）中のＸ、Ｙと同義である。なお、Ｒ₆₆〜Ｒ₇₀においては、隣接するもの同士は、互いに結合して環を形成してもよい。また一般式（５）で表される紫外線吸収性基において、Ｘ，Ｙとは互いに結合して環を形成することはない。但し、一般式（５）で表される紫外線吸収性基はいずれかの部位で重合体主鎖と直接、またはスペーサーを介して結合するか、もしくは、紫外線吸収性基の一部または全部が重合体主鎖の一部を形成している。紫外線吸収性基は一般式（１）で紫外線吸収性基として挙げたものと同じものを挙げることができ、同様にスペーサーも一般式（１）でスペーサーとして挙げたものをあげることができる。

一般式（６）で表される繰り返し単位か、一般式（７）で表される繰り返し単位の何れかを有する紫外線吸収性重合体は、エチレン性不飽和モノマーとの共重合体であることが好ましい。

一般式（６）、（７）において、Ｒ₃₁〜Ｒ₃₄は、ハロゲン原子、置換基を表し、置換基の例としては、一般式（１）中のＳｐ₁の置換基の例として挙げたもの等が挙げられる。ｌは０、１、２、３を、ｍは０、１、２、３、４、ｓは０、１、２、３、４を、ｏは０、１、２、３を表す。Ｊ₄は、＊−Ｏ−、＊−ＮＲ₁−、＊−Ｓ−、＊−ＳＯ−、＊−ＳＯ₂−、＊−ＰＯＯ−、＊−ＣＯ−、＊−ＣＯＯ−、＊−ＮＲ₂ＣＯ−、＊−ＮＲ₃ＣＯＯ−、＊−ＮＲ₄ＣＯＮＲ₅−、＊−ＯＣＯ−、＊−ＯＣＯＮＲ₆−、＊−ＣＯＮＲ₇−、＊−ＮＲ₈ＳＯ−、＊−ＮＲ₉ＳＯ₂−、＊−ＳＯＮＲ₁₀−、＊−ＳＯ₂ＮＲ₁₁−を表すが（但し＊印は、＊で紫外線吸収性基に連結していることを示す）、好ましくは＊−Ｏ−、＊−ＮＲ₁−、＊−Ｓ−、＊−ＳＯ−、＊−ＳＯ₂−、＊−ＮＲ₃ＣＯＯ−、＊−ＮＲ₄ＣＯＮＲ₅−である。Ｊ₅は、＊−Ｏ−、＊−ＮＲ₁−、＊−Ｓ−、＊−ＳＯ−、＊−ＳＯ₂−、＊−ＰＯＯ−、＊−ＣＯ−、＊−ＣＯＯ−、＊−ＮＲ₂ＣＯ−、＊−ＮＲ₃ＣＯＯ−、＊−ＮＲ₄ＣＯＮＲ₅−、＊−ＯＣＯ−、＊−ＯＣＯＮＲ₆−、＊−ＣＯＮＲ₇−、＊−ＮＲ₈ＳＯ−、＊−ＮＲ₉ＳＯ₂−、＊−ＳＯＮＲ₁₀−、＊−ＳＯ₂ＮＲ₁₁−を表すが（但し＊印は、＊で紫外線吸収性基（Ｓｐ₄と逆側）に連結していることを示す）、好ましくは、＊−Ｏ−、＊−ＮＲ₁−、＊−Ｓ−、＊−ＳＯ−、＊−ＳＯ₂−、＊−ＮＲ₃ＣＯＯ−、＊−ＮＲ₄ＣＯＮＲ₅−である。Ｒ₁〜Ｒ₁₁は前記一般式（１）のＲ₁〜Ｒ₁₁と同義である。Ｓｐ₄、Ｓｐ₅は２価の連結基を表し、ハロゲン原子、または置換基を有してもよい。連結基や置換基の具体例は一般式（１）のＳｐ₁に準ずる。ｌが２または３のとき、Ｒ₃₁は互いに同じでも異なってもよい。ｍが２，３，４の何れかのとき、Ｒ₃₂は互いに同じでも異なってもよい。ｏが２または３のとき、Ｒ₃₄は互いに同じでも異なってもよい。ｓが２，３，４の何れかのとき、Ｒ₃₃は互いに同じでも異なってもよい。

また、一般式（６）、（７）において、ｓとｏとが、またはｌとｍとが、共に０とはならないことが好ましい。

一般式（８）、（９）において、Ｒ₃₅、Ｒ₃₆は、各々ハロゲン原子、置換基を表す。置換基の例としては、一般式（１）中のＳｐ₁が取り得る置換基の例として挙げたものが挙げられる。Ｒ₃₅、Ｒ₃₆は互いに同じでも異なっていてもよい。ｑは０、１、２、３、４を、ｒは０、１、２、３を表す。ｒが２，３のとき、Ｒ₃₆同士は互いに同じでも異なってもよい。ｑが２，３，４の何れかのとき、Ｒ₃₅同士は互いに同じでも異なってもよい。Ｒ₃₇〜Ｒ₃₉は、各々、水素原子、ハロゲン原子、置換基の何れかを表す。Ｓｐ₆は２価の連結基を表し、ハロゲン原子、または置換基を有してもよい。Ｓｐ₆において、連結基と置換基の具体例は、一般式（１）のＳｐ₁に準ずる。

本発明に係る紫外線吸収性重合体は、前記一般式（１）、（２）、（６）、（７）で表される繰り返し単位を含む重合体、前記一般式（３）、（４）、（５）で表される紫外線吸収性基を有する繰り返し単位を含む重合体、前記一般式（８）及び（９）で表される化合物から誘導される共重合体から選ばれる少なくとも一種含有することを特徴としており、繰り返し単位、若しくは、化合物から誘導される共重合体を含有していれば、ホモポリマーであっても、複数の他の連続単位との共重合体であっても良い。

他の連続単位としては、例えば、アクリルアミド誘導体含有モノマー、アクリル酸エステル誘導体含有モノマー、メタクリル酸エステル誘導体含有モノマー、ビニルエーテル誘導体含有モノマー、エチレンオキシド誘導体含有モノマー、ビニルエステル誘導体含有モノマー、ジカルボン酸誘導体含有モノマー、ジオール誘導体含有モノマー、ジアミン誘導体含有モノマー等から得られる連続単位などがあげられる。

本発明に係る紫外線吸収性重合体を共重合体とする場合、エチレン性不飽和モノマーとの共重合体であることが好ましい。より好ましくは、エチレン性不飽和モノマーが、ヒドロキシル基またはエーテル結合を有するメタクリル酸エステルか、ヒドロキシル基を有するアクリル酸エステルである。

好ましい例を以下に挙げる。メタクリル酸及びそのエステル誘導体（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ｉ−ブチル、メタクリル酸ｔ−ブチル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル、メタクリル酸２−ヒドロキシプロピル、メタクリル酸テトラヒドロフルフリル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸ジメチルアミノエチル、メタクリル酸ジエチルアミノエチル等）、或いはアクリル酸及びそのエステル誘導体（アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ｉ−ブチル、アクリル酸ｔ−ブチル、アクリル酸オクチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、アクリル酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸ジメチルアミノエチル、アクリル酸ジエチルアミノエチル等）、アルキルビニルエーテル（メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル等）、アルキルビニルエステル（ギ酸ビニル、酢酸ビニル、酪酸ビニル、カプロン酸ビニル、ステアリン酸ビニル等）、アクリロニトリル、塩化ビニル、スチレン等が好ましい例として挙げることができる。

これらのエチレン性不飽和モノマーの内、ヒドロキシル基またはエーテル結合を有するアクリル酸エステル、またはメタクリル酸エステル（例えば、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル、メタクリル酸２−ヒドロキシプロピル、アクリル酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸２−エトキシエチル、アクリル酸ジエチレンクリコールエトキシレート、アクリル酸３−メトキシブチル）が好ましい。これらは１種単独でも２種以上混合して、紫外線吸収性モノマーと共重合させることができる。

また、紫外線吸収性重合体における、紫外線吸収性モノマーの含有量が１〜７０質量％以上であることが好ましい。より好ましくは、２０〜７０質量％、更には３０〜６０質量％であることが好ましい。特に紫外線吸収性重合体が、一般式（６）で表される繰り返し単位と、エチレン性不飽和モノマーとの共重合体である場合、紫外線吸収性重合体における、一般式（６）で表される繰り返し単位の含有量が、１〜４５質量％であることが好ましく、より好ましくは、１０〜４５質量％であり、更に好ましくは２０〜４０質量％である。また、特に紫外線吸収性重合体が、一般式（７）で表される繰り返し単位の含有量が、１〜５５質量％であることが好ましい。より好ましくは、１０〜５５質量％であり、更に好ましくは、２０〜５０質量％である。

本発明に用いられる重合体は、アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂からなる組成物に対し、０．０１〜４０質量％の割合で混ぜることが好ましく、更に好ましくは、０．０１〜３０質量％の割合で混ぜることが好ましい。なお、光学フィルムの膜厚が６５μｍ以下のときは、１〜１０質量％が好ましい。また、光学フィルムの膜厚７０μｍ以上のときは、０．５〜５質量％が好ましく、より好ましくは、０．５〜２．５質量％である。この時の、光学フィルムを形成した時のヘイズが０〜０．５であれば特に制限はされないが、好ましくは、ヘイズが０．２以下である。更に好ましくは、光学フィルムを形成した時のヘイズが０〜０．２、かつ３８０ｎｍにおける透過率が０〜１０％であることである。

また、本発明の紫外線吸収性重合体はアクリル樹脂とセルロースエステル樹脂からなる組成物に混合する際に、他の低分子化合物、高分子化合物、もしくは無機化合物などと一緒に用いることもできる。例えば、本発明の紫外線吸収性重合体と他の低分子紫外線吸収剤を同時に当該組成物に混合することも好ましい様態の一種である。

紫外線吸収性重合体は、モノマー以外であれば、特に制限なく用いることができるが、好ましい重合体の重量平均分子量は５００〜１００００００であり、特に好ましくは１０００〜１０００００である。更に好ましくは、２０００〜２００００であり、更には７０００〜１５０００である。

本発明の重合体の重合方法は、特に問わないが、例えば、ラジカル重合、アニオン重合、カチオン重合などが挙げられる。ラジカル重合法の開始剤としては、例えば、アゾ化合物、過酸化物等が挙げられ、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）、アゾビスイソブチル酸ジエステル誘導体、過酸化ベンゾイルなどが挙げられる。

重合溶媒は特に問わないが、例えば、トルエン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒、ジクロロエタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒、メタノール等のアルコール系溶媒、酢酸エチル等のエステル系溶媒、アセトンなどのケトン系溶媒、水溶媒等が挙げられる。溶媒の選択により、均一系で重合する溶液重合、生成したポリマーが沈澱する沈澱重合、ミセル状態で重合する乳化重合を行うこともできる。

本発明の紫外線吸収性重合体は、従来知られている低分子紫外線吸収剤等と比較してアクリル樹脂やセルロースエステル樹脂との相溶性が良好であり且つ高分子量である為、光学フィルムの製造工程中およびアルカリ処理液で鹸化する際に問題となっていた、ブリード現象や結晶析出等が起こらない。更に、ヘイズの発生が極端に少なく、重合体自身、紫外線、熱、湿度に対して充分に安定であり、高温、高湿下に曝されても紫外線吸収特性の低下が殆どなく、耐湿熱特性の優れた光学フィルムを得ることができる。

《一般式（ＵＶＡ１）〜（ＵＶＡ３）で表される化合物》
本発明においては、紫外線吸収剤として前記一般式（ＵＶＡ１）〜（ＵＶＡ３）で表される化合物から選択される少なくとも一種の化合物を用いることも好ましい態様である。なお、前記一般式（ＵＶＡ１）〜（ＵＶＡ３）で表される化合物が、それぞれ下記一般式（ＵＶＡ４）〜（ＵＶＡ６）で表される化合物であることが好ましい。

（一般式（ＵＶＡ４）〜（ＵＶＡ６）において、Ｒ₁、Ｒ₂は置換基を表し、Ｘは−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＮＲ₁₁ＣＯ−、−ＣＯＮＲ₁₁−、−Ｏ−、−ＮＲ₁₂Ｒ₁₃−、−ＳＯ₂ＮＲ₁₄−、−ＮＲ₁₄ＳＯ₂−、−Ｓ−、−ＳＯ₂−を表し、Ｌ₁は２価の連結基、Ｌ₂は３価の連結基、Ｌ₃は４価の連結基を表す。Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃、Ｒ₁₄は水素原子またはアルキル基、アリール基を表す。ｐは０〜３の整数、ｑは０〜４の整数を表す。）
一般式（ＵＶＡ１）〜（ＵＶＡ６）において、Ｒ₁、Ｒ₂は置換基を表し、置換基としてはハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等）、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ヒドロキシエチル基、メトキシメチル基、トリフルオロメチル基、ｔ−ブチル基等）、アルケニル基（例えば、ビニル基、アリル基、３−ブテン−１−イル基等）、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、ｐ−トリル基、ｐ−クロロフェニル基等）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基等）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基等）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等）、アシル基（例えば、アセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル基等）、カルバモイル基（例えば、メチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基等）、アミノ基、アルキルアミノ基（例えば、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基等）、アニリノ基（例えば、アニリノ基、Ｎ−メチルアニリノ基等）、アシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基等）、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、スルホンアミド基（例えば、メタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基等）、スルファモイルアミノ基（例えば、ジメチルスルファモイルアミノ基等）、スルホニル基（例えば、メタンスルホニル基、ブタンスルホニル基、フェニルスルホニル基等）、スルファモイル基（例えば、エチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基等）、スルホニルアミノ基（例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基等）、ウレイド基（例えば、３−メチルウレイド基、３，３−ジメチルウレイド基、１，３−ジメチルウレイド基等）、イミド基（例えば、フタルイミド基等）、シリル基（例えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基等）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ブチルチオ基等）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ基等）等が挙げられるが、好ましくは、アルキル基、アリール基である。

Ｌ₁は２価の連結基を表し、例えばアルキレン基（例えば、メチレン、エチレン、２，２−ジメチルプロピレン、プロピレン、１，４−シクロヘキシレン、ドデシレン、ヘキサデシレン、２−エチルヘキシレン、２−ヘキシルデカレン等）、アリーレン基（例えば、フェニレン、ナフチレン等）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ₂₁Ｒ₂₂またはそれらの組合せ等が挙げられる。Ｒ₂₁、Ｒ₂₂は水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。

Ｌ₂は３価の連結基を表し、例えば下記のような構造が挙げられる。式中＊はＸと連結する点である。

式中、Ｌ₃は４価の連結基を表し、例えば下記のような構造が挙げられる。式中＊はＸと連結する点である。

Ｌ₁、Ｌ₂、Ｌ₃の内、Ｌ₁、即ち一般式一般式（ＵＶＡ１）、特に一般式一般式（ＵＶＡ４）が本発明では好ましい。連結基としてのＬ₁、Ｌ₂、Ｌ₃については、エーテル結合を含有する連結基が特に好ましい。

以下、一般式（ＵＶＡ１）〜（ＵＶＡ６）で表される化合物を例示するが、これらに限定されるものではない。

〔合成例〕
以下、本発明に係る化合物の合成法を具体的に説明するが、本発明はこれらにより限定されるものではない。

合成例１
〈例示化合物２の合成〉
化合物Ａ ２ｇをトルエン１０ｍｌに懸濁させ、ＤＭＦ ０．１ｍｌ、塩化チオニル １．１４ｇを加えて６０℃に加熱して３０分撹拌した。反応が進行するにつれて溶解し始め、反応終了後均一溶液になった。反応混合液の溶媒を減圧除去した。

残渣にアセトニトリル８０ｍｌを加えて懸濁させた。別容器にジエチレングリコール ０．３４ｇ、ピリジン ０．７６ｇをアセトニトリルで溶解して、７５℃に加熱して撹拌した。

その中へ先ほどのアセトニトリル懸濁液を素早く加えて７５℃を保持したまま２時間撹拌した。反応終了後、冷却した後アセトニトリルを減圧除去して酢酸エチルと水を加えて抽出した。

有機層を減圧除去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、さらに酢酸エチルから再結晶を行い、例示化合物２を０．４ｇ（収率１８％）得た。構造はＮＭＲとＭａｓｓスペクトルにより確認した。

１Ｈ−ＮＭＲ（ｄ−ＤＭＳＯ）：σ１．２８（ｓ，１８Ｈ）；３．９２（ｍ，４Ｈ）；４．５１（ｍ，４Ｈ）；７．０９（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ）；７．４９（ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，８．５Ｈｚ，２Ｈ）；７．７１（ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，２Ｈ）；７．９３（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ）；７．９９（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ）；８．６０（ｓ，２Ｈ）；１０．２（ｓ，２Ｈ）

合成例２
〈例示化合物３の合成〉
化合物Ａ ２ｇをトルエン１０ｍｌに懸濁させ、ＤＭＦ ０．１ｍｌ、塩化チオニル １．１４ｇを加えて６０℃に加熱して３０分撹拌した。反応が進行するにつれて溶解し始め、反応終了後均一溶液になった。反応混合液の溶媒を減圧除去した。

残渣にアセトニトリル８０ｍｌを加えて懸濁させた。別容器に２，２−ジメチルプロパンジオール ０．３３ｇ、ピリジン ０．７６ｇをアセトニトリルで溶解して、７５℃に加熱して撹拌した。

その中へ先ほどのアセトニトリル懸濁液を素早く加えて７５℃を保持したまま２時間撹拌した。反応終了後、冷却した後アセトニトリルを減圧除去して酢酸エチルと水を加えて抽出した。

有機層を減圧除去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、さらに酢酸エチルから再結晶を行い、例示化合物３を０．４ｇ（収率１８％）得た。構造はＮＭＲとＭａｓｓスペクトルにより確認した。

１Ｈ−ＮＭＲ（ｄ−ＤＭＳＯ）：σ０．９７（ｓ，６Ｈ）；１．３１（ｓ，１８Ｈ）；４．３４（ｓ，４Ｈ）；７．１２（ｄ，ｄ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ）；７．５１（ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，８．８Ｈｚ，２Ｈ）；７．７４（ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，２Ｈ）；８．０４（ｄｄ，Ｊ＝１．４Ｈｚ，９．０Ｈｚ，２Ｈ）；８．１８（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，４Ｈ）；８．７１（ｓ，２Ｈ）；１０．３（ｓ，２Ｈ）

例示した他の化合物も同様にして合成できる。

一般式（ＵＶＡ１）〜（ＵＶＡ６）で表される化合物は、他の透明ポリマーに混合する際に、必要に応じて低分子化合物もしくは高分子化合物、無機化合物等を一緒に用いることもできる。

例えば、一般式（ＵＶＡ１）〜（ＵＶＡ６）で表される化合物（紫外線吸収剤）と他の紫外線吸収剤または紫外線吸収性ポリマーとを同時に他の透明ポリマーに混合することも好ましい態様の一つである。同様に、酸化防止剤、可塑剤、難燃剤等の添加剤を同時に混合することも好ましい態様の一つである。

光学フィルムへの本発明に係る紫外線吸収剤の添加方法は、光学フィルム中に含有させてもよいし、光学フィルム上に塗布してもよい。光学フィルム中に含有させる場合、直接添加してもよい。

一般式（ＵＶＡ１）〜（ＵＶＡ６）で表される化合物の使用量は、化合物の種類、使用条件等により一様ではないが、紫外線吸収剤として用いる場合には、アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂からなる組成物に対し、０．０１〜４０質量％の割合で混ぜることが好ましく、更に好ましくは、０．０１〜３０質量％の割合で混ぜることが好ましい。なお、光学フィルムの膜厚が６５μｍ以下のときは、１〜５質量％が好ましい。また、光学フィルムの膜厚７０μｍ以上のときは、０．５〜２．５質量％が好ましい。

さらに、液晶劣化防止の観点から、波長３８０ｎｍ以下の紫外線吸収性能に優れ、かつ、良好な液晶表示性の観点から、４００ｎｍ以上の可視光吸収が少ないものが好ましい。この時の、光学フィルムを形成した時のヘイズが０〜０．５であれば特に制限はされないが、好ましくは、ヘイズが０．２以下である。更に好ましくは、光学フィルムを形成した時のヘイズが０〜０．２、かつ３８０ｎｍにおける透過率が０〜１０％であることである。

《その他の紫外線吸収剤》
また、本発明においては、従来公知の紫外線吸収剤も単独または併用で用いることもできる。

従来公知の紫外線吸収剤としては、特に限定されないが、例えば、サリチル酸系紫外線吸収剤（フェニルサリシレート、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルサリシレート等）あるいはベンゾフェノン系紫外線吸収剤（２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４，４′−ジメトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン等）、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤（２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−アミル−フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール等）、シアノアクリレート系紫外線吸収剤（２′−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、エチル−２−シアノ−３−（３′，４′−メチレンジオキシフェニル）−アクリレート等）、トリアジン系紫外線吸収剤、あるいは特開昭５８−１８５６７７号、同５９−１４９３５０号記載の化合物、ニッケル錯塩系化合物、無機粉体等が挙げられる。

ここで、紫外線吸収剤のうちでも、分子量が４００以上の紫外線吸収剤は、高沸点で揮発しにくく、高温成形時にも飛散しにくいため、比較的少量の添加で効果的に耐候性を改良することができる。また、特に薄い被覆層から基板層への移行性も小さく、積層板の表面にも析出しにくいため、含有された紫外線吸収剤量が長時間維持され、耐候性改良効果の持続性に優れるなどの点から好ましい。

分子量が４００以上の紫外線吸収剤としては、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２−ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］等のベンゾトリアゾール系、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート等のヒンダードアミン系、さらには２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）、１−［２−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］エチル］−４−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン等の分子内にヒンダードフェノールとヒンダードアミンの構造を共に有するハイブリッド系のものが挙げられ、これらは単独で、あるいは２種以上を併用して使用することができる。これらのうちでも、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２−ベンゾトリアゾールや２，２−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］が特に好ましい。

本発明に係る紫外線吸収剤と共に用いられる従来公知の紫外線吸収剤としては、透明性が高く、偏光板や液晶素子の劣化を防ぐ効果に優れたベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤やベンゾフェノン系紫外線吸収剤が好ましく、不要な着色がより少ないベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が特に好ましい。

また、本発明においては、従来公知の紫外線吸収性ポリマーを用いることもできる。従来公知の紫外線吸収性ポリマーとしては、特に限定されないが、例えば、ＲＵＶＡ−９３（大塚化学製）を単独重合させたポリマー及びＲＵＶＡ−９３と他のモノマーとを共重合させたポリマー等が挙げられる。

具体的には、ＲＵＶＡ−９３とメチルメタクリレートを３：７の比（質量比）で共重合させたＰＵＶＡ−３０Ｍ、５：５の比（質量比）で共重合させたＰＵＶＡ−５０Ｍ等が挙げられる。

〈アクリル粒子〉
本発明においては、光学フィルムにアクリル粒子を含有させてもよい。

本発明に係るアクリル粒子は、前記アクリル樹脂及びセルロースエステル樹脂と光学フィルム中で粒子の状態で存在すること（非相溶状態ともいう。）が特徴である。

上記アクリル粒子は、例えば、作製した光学フィルムを所定量採取し、溶媒に溶解させて攪拌し、充分に溶解・分散させたところで、アクリル粒子の平均粒子径未満の孔径を有するＰＴＦＥ製のメンブレンフィルターを用いて濾過し、濾過捕集された不溶物の重さが、光学フィルムに添加したアクリル粒子の９０質量％以上あることが好ましい。

本発明に用いられるアクリル粒子は特に限定されるものではないが、２層以上の層構造を有するアクリル粒子であることが好ましく、特に下記多層構造アクリル系粒状複合体であることが好ましい。

多層構造アクリル系粒状複合体とは、中心部から外周部に向かって最内硬質層重合体、ゴム弾性を示す架橋軟質層重合体、および最外硬質層重合体が、層状に重ね合わされてなる構造を有する粒子状のアクリル系重合体を言う。

本発明のアクリル系樹脂組成物に用いられる多層構造アクリル系粒状複合体の好ましい態様としては、以下の様なものが挙げられる。（ａ）メチルメタクリレート８０〜９８．９質量％、アルキル基の炭素数が１〜８のアルキルアクリレート１〜２０質量％、および多官能性グラフト剤０．０１〜０．３質量％からなる単量体混合物を重合して得られる最内硬質層重合体、（ｂ）上記最内硬質層重合体の存在下に、アルキル基の炭素数が４〜８のアルキルアクリレート７５〜９８．５質量％、多官能性架橋剤０．０１〜５質量％および多官能性グラフト剤０．５〜５質量％からなる単量体混合物を重合して得られる架橋軟質層重合体、（ｃ）上記最内硬質層および架橋軟質層からなる重合体の存在下に、メチルメタクリレート８０〜９９質量％とアルキル基の炭素数が１〜８であるアルキルアクリレート１〜２０質量％とからなる単量体混合物を重合して得られる最外硬層重合体、よりなる３層構造を有し、かつ得られた３層構造重合体が最内硬質層重合体（ａ）５〜４０質量％、軟質層重合体（ｂ）３０〜６０質量％、および最外硬質層重合体（ｃ）２０〜５０質量％からなり、アセトンで分別したときに不溶部があり、その不溶部のメチルエチルケトン膨潤度が１．５〜４．０であるアクリル系粒状複合体、が挙げられる。

なお、特公昭６０−１７４０６号あるいは特公平３−３９０９５号において開示されている様に、多層構造アクリル系粒状複合体の各層の組成や粒子径を規定しただけでなく、多層構造アクリル系粒状複合体の引張り弾性率やアセトン不溶部のメチルエチルケトン膨潤度を特定範囲内に設定することにより、さらに充分な耐衝撃性と耐応力白化性のバランスを実現することが可能となる。

ここで、多層構造アクリル系粒状複合体を構成する最内硬質層重合体（ａ）は、メチルメタクリレート８０〜９８．９質量％、アルキル基の炭素数が１〜８のアルキルアクリレート１〜２０質量％および多官能性グラフト剤０．０１〜０．３質量％からなる単量体混合物を重合して得られるものが好ましい。

ここで、アルキル基の炭素数が１〜８のアルキルアクリレートとしては、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｓ−ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート等が挙げられ、メチルアクリレートやｎ−ブチルアクリレートが好ましく用いられる。

最内硬質層重合体（ａ）におけるアルキルアクリレート単位の割合は１〜２０質量％であり、該単位が１質量％未満では、重合体の熱分解性が大きくなり、一方、該単位が２０質量％を越えると、最内硬質層重合体（ｃ）のガラス転移温度が低くなり、３層構造アクリル系粒状複合体の耐衝撃性付与効果が低下するので、いずれも好ましくない。

多官能性グラフト剤としては、異なる重合可能な官能基を有する多官能性単量体、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸のアリルエステル等が挙げられ、アリルメタクリレートが好ましく用いられる。多官能性グラフト剤は、最内硬質層重合体と軟質層重合体を化学的に結合するために用いられ、その最内硬質層重合時に用いる割合は０．０１〜０．３質量％である。

アクリル系粒状複合体を構成する架橋軟質層重合体（ｂ）は、上記最内硬質層重合体（ａ）の存在下に、アルキル基の炭素数が１〜８のアルキルアクリレート７５〜９８．５質量％、多官能性架橋剤０．０１〜５質量％および多官能性グラフト剤０．５〜５質量％からなる単量体混合物を重合して得られるものが好ましい。

ここで、アルキル基の炭素数が４〜８のアルキルアクリレートとしては、ｎ−ブチルアクリレートや２−エチルヘキシルアクリレートが好ましく用いられる。

また、これらの重合性単量体と共に、２５質量％以下の共重合可能な他の単官能性単量体を共重合させることも可能である。

共重合可能な他の単官能性単量体としては、スチレンおよび置換スチレン誘導体が挙げられる。アルキル基の炭素数が４〜８のアルキルアクリレートとスチレンとの比率は、前者が多いほど生成重合体（ｂ）のガラス転移温度が低下し、即ち軟質化できるのである。

一方、樹脂組生物の透明性の観点からは、軟質層重合体（ｂ）の常温での屈折率を最内硬質層重合体（ａ）、最外硬質層重合体（ｃ）、および硬質熱可塑性アクリル樹脂に近づけるほうが有利であり、これらを勘案して両者の比率を選定する。

例えば、被覆層厚みの小さな用途においては、必ずしもスチレンを共重合しなくとも良い。

多官能性グラフト剤としては、前記の最内層硬質重合体（ａ）の項で挙げたものを用いることができる。ここで用いる多官能性グラフト剤は、軟質層重合体（ｂ）と最外硬質層重合体（ｃ）を化学的に結合するために用いられ、その最内硬質層重合時に用いる割合は耐衝撃性付与効果の観点から０．５〜５質量％が好ましい。

多官能性架橋剤としては、ジビニル化合物、ジアリル化合物、ジアクリル化合物、ジメタクリル化合物などの一般に知られている架橋剤が使用できるが、ポリエチレングリコールジアクリレート（分子量２００〜６００）が好ましく用いられる。

ここで用いる多官能性架橋剤は、軟質層（ｂ）の重合時に架橋構造を生成し、耐衝撃性付与の効果を発現させるために用いられる。ただし、先の多官能性グラフト剤を軟質層の重合時に用いれば、ある程度は軟質層（ｂ）の架橋構造を生成するので、多官能性架橋剤は必須成分ではないが、多官能性架橋剤を軟質層重合時に用いる割合は耐衝撃性付与効果の観点から０．０１〜５質量％が好ましい。

多層構造アクリル系粒状複合体を構成する最外硬質層重合体（ｃ）は、上記最内硬質層重合体（ａ）および軟質層重合体（ｂ）の存在下に、メチルメタクリレート８０〜９９質量％およびアルキル基の炭素数が１〜８であるアルキルアクリレート１〜２０質量％からなる単量体混合物を重合して得られるものが好ましい。

ここで、アクリルアルキレートとしては、前述したものが用いられるが、メチルアクリレートやエチルアクリレートが好ましく用いられる。最外硬質層（ｃ）におけるアルキルアクリレート単位の割合は、１〜２０質量％が好ましい。

また、最外硬質層（ｃ）の重合時に、アクリル樹脂との相溶性向上を目的として、分子量を調節するためアルキルメルカプタン等を連鎖移動剤として用い、実施することも可能である。

とりわけ、最外硬質層に、分子量が内側から外側へ向かって次第に小さくなるような勾配を設けることは、伸びと耐衝撃性のバランスを改良するうえで好ましい。具体的な方法としては、最外硬質層を形成するための単量体混合物を２つ以上に分割し、各回ごとに添加する連鎖移動剤量を順次増加するような手法によって、分子量を内側から外側へ向かって小さくすることが可能である。

この際に形成される分子量は、各回に用いられる単量体混合物をそれ単独で同条件にて重合し、得られた重合体の分子量を測定することによって調べることもできる。

本発明に好ましく用いられる多層構造重合体であるアクリル系粒状複合体の粒子径については、特に限定されるものではないが、１０ｎｍ以上、１０００ｎｍ以下であることが好ましく、さらに、２０ｎｍ以上、５００ｎｍ以下であることがより好ましく、特に５０ｎｍ以上、４００ｎｍ以下であることが最も好ましい。

本発明に好ましく用いられる多層構造重合体であるアクリル系粒状複合体において、コアとシェルの質量比は、特に限定されるものではないが、多層構造重合体全体を１００質量部としたときに、コア層が５０質量部以上、９０質量部以下であることが好ましく、さらに、６０質量部以上、８０質量部以下であることがより好ましい。

このような多層構造アクリル系粒状複合体の市販品の例としては、例えば、三菱レイヨン社製“メタブレン”、鐘淵化学工業社製“カネエース”、呉羽化学工業社製“パラロイド”、ロームアンドハース社製“アクリロイド”、ガンツ化成工業社製“スタフィロイド”およびクラレ社製“パラペットＳＡ”などが挙げられ、これらは、単独ないし２種以上を用いることができる。

また、本発明に好ましく用いられるアクリル粒子として好適に使用されるグラフト共重合体であるアクリル粒子の具体例としては、ゴム質重合体の存在下に、不飽和カルボン酸エステル系単量体、不飽和カルボン酸系単量体、芳香族ビニル系単量体、および必要に応じてこれらと共重合可能な他のビニル系単量体からなる単量体混合物を共重合せしめたグラフト共重合体が挙げられる。

グラフト共重合体であるアクリル粒子に用いられるゴム質重合体には特に制限はないが、ジエン系ゴム、アクリル系ゴムおよびエチレン系ゴムなどが使用できる。具体例としては、ポリブタジエン、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−ブタジエンのブロック共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、アクリル酸ブチル−ブタジエン共重合体、ポリイソプレン、ブタジエン−メタクリル酸メチル共重合体、アクリル酸ブチル−メタクリル酸メチル共重合体、ブタジエン−アクリル酸エチル共重合体、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−プロピレン−ジエン系共重合体、エチレン−イソプレン共重合体、およびエチレン−アクリル酸メチル共重合体などが挙げられる。これらのゴム質重合体は、１種または２種以上の混合物で使用することが可能である。

また、アクリル樹脂およびアクリル粒子のそれぞれの屈折率が近似している場合、本発明の光学フィルムの透明性を得ることができるため、好ましい。具体的には、アクリル粒子とアクリル樹脂の屈折率差が０．０５以下であることが好ましく、より好ましくは０．０２以下、とりわけ０．０１以下であることが好ましい。

このような屈折率条件を満たすためには、アクリル樹脂の各単量体単位組成比を調整する方法、および／またはアクリル粒子に使用されるゴム質重合体あるいは単量体の組成比を調製する方法などにより、屈折率差を小さくすることができ、透明性に優れた光学フィルムを得ることができる。

尚、ここで言う屈折率差とは、アクリル樹脂が可溶な溶媒に、本発明の光学フィルムを適当な条件で十分に溶解させ白濁溶液とし、これを遠心分離等の操作により、溶媒可溶部分と不溶部分に分離し、この可溶部分（アクリル樹脂）と不溶部分（アクリル粒子）をそれぞれ精製した後、測定した屈折率（２３℃、測定波長：５５０ｎｍ）の差を示す。

本発明においてアクリル樹脂に、アクリル粒子を配合する方法には、特に制限はなく、アクリル樹脂とその他の任意成分を予めブレンドした後、通常２００〜３５０℃において、アクリル粒子を添加しながら一軸または二軸押出機により均一に溶融混練する方法が好ましく用いられる。

また、アクリル粒子を予め分散した溶液を、アクリル樹脂、及びセルロースエステル樹脂を溶解した溶液（ドープ液）に添加して混合する方法や、アクリル粒子及びその他の任意の添加剤を溶解、混合した溶液をインライン添加する等の方法を用いることができる。

本発明のアクリル粒子としては、市販のものも使用することができる。例えば、メタブレンＷ−３４１（Ｃ２）（三菱レイヨン（株）製）を、ケミスノーＭＲ−２Ｇ（Ｃ３）、ＭＳ−３００Ｘ（Ｃ４）（綜研化学（株）製）等を挙げることができる。

本発明の光学フィルムにおいて、該フィルムを構成する樹脂の総質量に対して、０．５〜４５質量％のアクリル粒子を含有することが好ましい。

（位相差制御剤）
本願において、位相差制御剤としては、特開２００２−２９６４２１号公報記載の化合物や種々のエステル系可塑剤を用いることができる。以下において、好ましいエステル系化合物について詳細な説明をする。

本発明においては、後述する各種化合物のうち、特に、添加剤として添加し延伸した場合に芳香族環が平面内に並ぶような構造を有する化合物が好ましい。このため、芳香族環が、主鎖の中または末端にブロックとして入っている化合物が好ましい。

〈グリコールと二塩基酸のポリエステルポリオール〉
本発明において使用され得るポリエステルポリオールとしては、炭素数の平均が２〜３．５であるグリコールと炭素数の平均が４〜５．５である二塩基酸との脱水縮合反応、又は該グリコールと炭素数の平均が４〜５．５である無水二塩基酸の付加及び脱水縮合反応による常法により製造されるものであることが好ましい。

《グリコール》
かかるポリエステルポリオールに用いられるグリコールとしては、例えばエチレングリコール、ジエチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、１，４−ブチレングリコール、ネオペンチルグリコール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオールなどが挙げられ、これらを単独又は２種以上を併用して用いられ、例えばエチレングリコール、またはエチレングリコールとジエチレングリコールの混合物などが特に好ましく用いられる。

また、上記したグリコールに関しては、ポリエステルポリオールの製造、セルロースとの相溶性、透明性等の観点から、グリコールの炭素数の平均が、２〜３．５の範囲内にあることが好ましい。

上記グリコールとしてエチレングリコールとジエチレングリコールの混合物が用いられる場合、そのエチレングリコール／ジエチレングリコールのモル比率としては、好ましくは２５〜１００／７５〜０で用いられ、セルロースエステルとの相溶性の優れたセルロースエステル用改質剤を得ることが出来る。更に、より好ましくは２５〜４０／７５〜６０、及び６０〜９５／４０〜５であり、かかる範囲に調製することで、該ポリエステルポリオールの結晶性及び融点が従来汎用のものに近く、それ自体の生産性も良好となる。

《二塩基酸》
次に本発明に用いられるポリエステルポリオールを構成する二塩基酸としては、例えばコハク酸、グルタル酸、アジピン酸、セバチン酸等を挙げることができる。これらを単独又は２種以上を併用して用いることができ、例えばコハク酸、またはコハク酸とテレフタル酸の混合物等が特に好ましく用いられる。

また、上記した二塩基酸に関しては、ポリエステルポリオールの製造、セルロースとの相溶性、透明性等の観点から、二塩基酸の炭素数の平均が４〜５．５の範囲内であることが好ましい。

上記二塩基酸としてコハク酸とテレフタル酸の混合物が用いられる場合、そのコハク酸／テレフタル酸のモル比率としては、好ましくは２５〜１００／７５〜０で用いられ、セルロースエステルとの相溶性の優れたセルロースエステル用改質剤を得ることができる。更に、より好ましくは２５〜４０／７５〜６０、及び６０〜９５／４０〜５であり、かかる範囲に調製することで、該ポリエステルポリオールの結晶性及び融点が従来汎用のものに近く、それ自体の生産性も良好となる。

本発明に用いられるポリエステルポリオールを構成するグリコールと二塩基酸としては、上記以外の組み合わせも含むものであるが、グリコールの炭素数の平均と二塩基酸の炭素数の平均との合計が、６〜７．５である組み合わせが好ましい。

上記グリコール及び二塩基酸から得られるポリエステルポリオールは、数平均分子量が１０００以上２０００００以下の範囲であればよく、より好ましくは１０００〜５０００の基本的に水酸基末端のポリエステルが用いられ、数平均分子量１２００〜４０００のものが特に好ましく用いられる。かかる範囲の数平均分子量を有するポリエステルポリオールを用いることで、セルロースエステルとの相溶性に優れた位相差制御剤（セルロースエステル用改質剤）を固相反応で得ることができる。

本発明の効果を得る上で、上記数平均分子量１０００以上のポリエステルポリオールをフィルム中に２〜３０質量％含有することが、位相差発現性、相溶性、透湿性等の観点から好ましい。より好ましくは１０〜２０質量％である。実際には、ポリマーのフィルム中の含有量はポリマーの種類や重量平均分子量によって、ドープ中、ウェブ中、フィルム形成後相分離しない範囲内で、寸法安定性、保留性及び透過率等の性能に応じて決められる。

一方、本発明で用いられるポリエステルポリオール中に於けるカルボキシル基末端は、その含有量は、本発明の効果の観点から、水酸基末端の１／２０以下のモル数であることが好ましく、更に１／４０以下に止めることがより好ましい。

上記したポリエステルポリオールを製造するにあたり、チタン、亜鉛、鉛、ジルコニウムなどの金属有機酸塩若しくは金属キレート化合物、或いは、酸化アンチモンなど、従来公知のエステル化触媒が使用出来る。かかるエステル化触媒としては、例えばテトライソプロピルチタネート、テトラブチルチタネートなどが好ましく用いられ、用いられるグリコール（ａ）と二塩基酸（ｂ）の合計１００質量部に対して０．０００５〜０．０２質量部用いられることが好ましい。

ポリエステルポリオールの重縮合は常法によって行われる。例えば、上記二塩基酸とグリコールの直接反応、上記の二塩基酸またはこれらのアルキルエステル類、例えば二塩基酸のメチルエステルとグリコール類とのポリエステル化反応またはエステル交換反応により熱溶融縮合法か、或いはこれら酸の酸クロライドとグリコールとの脱ハロゲン化水素反応の何れかの方法により容易に合成し得るが、数平均分子量がさほど大きくないポリエステルポリオールは直接反応によるのが好ましい。低分子量側に分布が高くあるポリエステルポリオールはセルロースエステルとの相溶性が非常によく、フィルム形成後、透湿度も小さく、しかも透明性に富んだセルロースエステルフィルムを得ることができる。分子量の調節方法は、特に制限なく従来の方法を使用できる。例えば、重合条件にもよるが、１価の酸または１価のアルコールで分子末端を封鎖する方法により、これらの１価のものの添加する量によりコントロールできる。この場合、１価の酸がポリマーの安定性から好ましい。例えば、酢酸、プロピオン酸、酪酸、ピバリン酸、安息香酸等を挙げることができるが、重縮合反応中には系外に溜去せず、停止して反応系外にこのような１価の酸を系外に除去するときに溜去し易いものが選ばれるが、これらを混合使用してもよい。また、直接反応の場合には、反応中に溜去してくる水の量により反応を停止するタイミングを計ることによっても数平均分子量を調節できる。その他、仕込むグリコールまたは二塩基酸のモル数を偏らせることによってもできるし、反応温度をコントロールしても調節できる。

〈芳香族ジカルボン酸とアルキレングリコールのエステル〉
本発明に係る位相差制御剤として、下記一般式（Ｉ）で表される芳香族末端エステル系可塑剤を用いることができる。

一般式（Ｉ） Ｂ−（Ｇ−Ａ）ｎ−Ｇ−Ｂ
（式中、Ｂはベンゼンモノカルボン酸残基、Ｇは炭素数２〜１２のアルキレングリコール残基または炭素数６〜１２のアリールグリコール残基または炭素数が４〜１２のオキシアルキレングリコール残基、Ａは炭素数４〜１２のアルキレンジカルボン酸残基または炭素数６〜１２のアリールジカルボン酸残基を表し、またｎは１以上の整数を表す。）
一般式（Ｉ）中、Ｂで示されるベンゼンモノカルボン酸残基とＧで示されるアルキレングリコール残基またはオキシアルキレングリコール残基またはアリールグリコール残基、Ａで示されるアルキレンジカルボン酸残基またはアリールジカルボン酸残基とから構成されるものであり、通常のポリエステル系可塑剤と同様の反応により得られる。

本発明に係る芳香族末端エステル系可塑剤のベンゼンモノカルボン酸成分としては、例えば、安息香酸、パラターシャリブチル安息香酸、オルソトルイル酸、メタトルイル酸、パラトルイル酸、ジメチル安息香酸、エチル安息香酸、ノルマルプロピル安息香酸、アミノ安息香酸、アセトキシ安息香酸等があり、これらはそれぞれ１種または２種以上の混合物として使用することができる。

芳香族末端エステル系可塑剤の炭素数２〜１２のアルキレングリコール成分としては、エチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、２−メチル１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロ−ルペンタン）、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３プロパンジオール（３，３−ジメチロールヘプタン）、３−メチル−１，５−ペンタンジオール１，６−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル１，３−ペンタンジオール、２−エチル１，３−ヘキサンジオール、２−メチル１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、１，１２−オクタデカンジオール等があり、これらのグリコールは、１種または２種以上の混合物として使用される。

また、芳香族末端エステルの炭素数４〜１２のオキシアルキレングリコール成分としては、例えば、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等があり、これらのグリコールは、１種または２種以上の混合物として使用できる。

また、芳香族末端エステルの炭素数６〜１２のアリールグリコール成分としては、例えば、ハイドロキノン、レゾルシン、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノール等があり、これらのグリコールは、１種または２種以上の混合物として使用できる。

本発明の芳香族末端エステルの炭素数４〜１２のアルキレンジカルボン酸成分としては、例えば、コハク酸、マレイン酸、フマール酸、グルタール酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸等があり、これらは、それぞれ１種または２種以上の混合物として使用される。炭素数６〜１２のアリールジカルボン酸成分としては、フタル酸、テレフタル酸、１，５ナフタレンジカルボン酸、１，４ナフタレンジカルボン酸等がある。

芳香族末端エステル系可塑剤は、数平均分子量が、好ましくは３００〜２０００、より好ましくは５００〜１５００の範囲が好適である。また、その酸価は、０．５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、水酸基価は２５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、より好ましくは酸価０．３ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、水酸基価は１５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下のものが好適である。

《芳香族末端エステルの酸価、水酸基価》
「酸価」とは、試料１ｇ中に含まれる酸（分子末端に存在するカルボキシル基）を中和するために必要な水酸化カリウムのミリグラム数をいう。酸価及び水酸基価はＪＩＳ Ｋ００７０に準拠して測定したものである。

以下、本発明に係る芳香族末端エステル系可塑剤の合成例を示す。

〈サンプルＮｏ．１（芳香族末端エステルサンプル）〉
反応容器に、フタル酸８２０部（５モル）、１，２−プロピレングリコール６０８部（８モル）、安息香酸６１０部（５モル）及び触媒としてテトライソプロピルチタネート０．３０部を一括して仕込み窒素気流中で攪拌下、還流凝縮器を付して過剰の１価アルコールを還流させながら、酸価が２以下になるまで１３０〜２５０℃で加熱を続け生成する水を連続的に除去した。次いで２００〜２３０℃で６．６５×１０³Ｐａ〜最終的に４×１０²Ｐａ以下の減圧下、留出分を除去し、この後濾過して次の性状を有する芳香族末端エステルを得た。

粘度（２５℃、ｍＰａ・ｓ）；１９８１５
酸価 ；０．４
〈サンプルＮｏ．２（芳香族末端エステルサンプル）〉
反応容器に、アジピン酸５００部（３．５モル）、安息香酸３０５部（２．５モル）、ジエチレングリコール５８３部（５．５モル）及び触媒としてテトライソプロピルチタネート０．４５部を用いる以外はサンプルＮｏ．１と全く同様にして次の性状を有する芳香族末端エステルを得た。

粘度（２５℃、ｍＰａ・ｓ）；９０
酸価 ；０．０５
〈サンプルＮｏ．３（芳香族末端エステルサンプル）〉
反応容器にイソフタル酸５７０部（３．５モル）、安息香酸３０５部（２．５モル）、ジプロピレングリコール７３７部（５．５モル）及び触媒としてテトライソプロピルチタネート０．４０部を用いる以外はサンプルＮｏ．１と全く同様にして次の性状を有する芳香族末端エステルを得た。

粘度（２５℃、ｍＰａ・ｓ）；３３４００
酸価 ；０．２
以下に、本発明に係る芳香族末端エステル系可塑剤の具体的化合物を示すが、本発明はこれに限定されない。

本発明に係る芳香族末端エステル系可塑剤の含有量は、セルロースエステルフィルム中に１〜２０質量％含有することが好ましく、特に３〜１１質量％含有することが好ましい。

〈多価アルコールエステル〉
本発明では、位相差制御剤として、更に多価アルコールエステル系可塑剤を使用することができる。

本発明で用いられる多価アルコールエステルは、２価以上の脂肪族多価アルコールとモノカルボン酸のエステルよりなり、分子内に芳香環またはシクロアルキル環を有することが好ましい。

本発明に用いられる多価アルコールは、次の一般式（１）で表される。

一般式（１） Ｒ１−（ＯＨ）_n
式中、Ｒ１はｎ価の有機基、ｎは２以上の正の整数、ＯＨ基はアルコール性またはフェノール性水酸基を表す。

好ましい多価アルコールの例としては、例えば、以下のようなものを挙げることが出来るが、本発明はこれらに限定されるものではない。アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ジブチレングリコール、１，２，４−ブタントリオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、ガラクチトール、マンニトール、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトールなどを挙げることが出来る。中でも、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトールが好ましい。

本発明の多価アルコールエステルに用いられるモノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸などを用いることが出来る。脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸を用いると、透湿性、保留性を向上させる点で好ましい。好ましいモノカルボン酸の例としては、以下のようなものを挙げることが出来るが、本発明はこれに限定されるものではない。

脂肪族モノカルボン酸としては、炭素数１〜３２の直鎖または側鎖を持った脂肪酸を好ましく用いることが出来る。炭素数１〜２０であることが更に好ましく、炭素数１〜１０であることが特に好ましい。酢酸を用いるとセルロースエステルとの相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。

好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸などの飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸などの不飽和脂肪酸などを挙げることが出来る。好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることが出来る。好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸などの安息香酸のベンゼン環にアルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸などのベンゼン環を２個以上持つ芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることが出来る。特に、安息香酸が好ましい。

多価アルコールエステルの分子量は特に制限はないが、分子量３００〜１５００の範囲であることが好ましく、３５０〜７５０の範囲であることが更に好ましい。分子量が大きい方が揮発し難くなるため好ましく、透湿性、セルロースエステルとの相溶性の点では小さい方が好ましい。多価アルコールエステルに用いられるカルボン酸は一種類でもよいし、二種以上の混合であってもよい。また、多価アルコール中のＯＨ基は全てエステル化してもよいし、一部をＯＨ基のままで残してもよい。以下に、多価アルコールエステルの具体的化合物を示す。

〈糖類の安息香酸エステル〉
本発明に係る位相差制御剤としては、（メタ）アクリル系重合体と、フラノース構造もしくはピラノース構造を１個有する化合物（Ａ）中のＯＨ基のすべてもしくは一部をエステル化したエステル化化合物、或いは、フラノース構造もしくはピラノース構造の少なくとも１種を２個以上、１２個以下結合した化合物（Ｂ）中のＯＨ基のすべてもしくは一部をエステル化したエステル化化合物とを用いることも好ましい。なお、本願においては、本発明に係る化合物（Ａ）のエステル化化合物及び化合物（Ｂ）のエステル化化合物を総称して、糖エステル化合物とも称す。

また、前記エステル化合物が単糖類（α−グルコース、βフルクトース）の安息香酸エステル、もしくは下記一般式（Ａ）で表される、単糖類の−ＯＲ₁₂、−ＯＲ₁₅、−ＯＲ₂₂、−ＯＲ₂₅の任意の２箇所以上が脱水縮合して生成したｍ＋ｎ＝２〜１２の多糖類の安息香酸エステルであることが好ましい。

上記一般式中の安息香酸は更に置換基を有していてもよく、例えばアルキル基、アルケニル基、アルコキシル基、フェニル基が挙げられ、更にこれらのアルキル基、アルケニル基、フェニル基は置換基を有していてもよい。

好ましい化合物（Ａ）及び化合物（Ｂ）の例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。

化合物（Ａ）の例としては、グルコース、ガラクトース、マンノース、フルクトース、キシロース、或いはアラビノースが挙げられる。

化合物（Ｂ）の例としては、ラクトース、スクロース、ニストース、１Ｆ−フラクトシルニストース、スタキオース、マルチトール、ラクチトール、ラクチュロース、セロビオース、マルトース、セロトリオース、マルトトリオース、ラフィノース或いはケストース挙げられる。このほか、ゲンチオビオース、ゲンチオトリオース、ゲンチオテトラオース、キシロトリオース、ガラクトシルスクロースなども挙げられる。これらの化合物（Ａ）及び化合物（Ｂ）の中で、特にフラノース構造とピラノース構造を両方有する化合物が好ましい。例としてはスクロース、ケストース、ニストース、１Ｆ−フラクトシルニストース、スタキオースなどが好ましく、更に好ましくは、スクロースである。また、化合物（Ｂ）において、フラノース構造もしくはピラノース構造の少なくとも１種を２個以上、３個以下結合した化合物であることも、好ましい態様の１つである。

本発明に係る化合物（Ａ）及び化合物（Ｂ）中のＯＨ基のすべてもしくは一部をエステル化するのに用いられるモノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を用いることができる。用いられるカルボン酸は１種類でもよいし、２種以上の混合であってもよい。

好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸、オクテン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることができる。

好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。

好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環にアルキル基、アルコキシ基を導入した芳香族モノカルボン酸、ケイ皮酸、ベンジル酸、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を２個以上有する芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができ、より、具体的には、キシリル酸、ヘメリト酸、メシチレン酸、プレーニチル酸、γ−イソジュリル酸、ジュリル酸、メシト酸、α−イソジュリル酸、クミン酸、α−トルイル酸、ヒドロアトロパ酸、アトロパ酸、ヒドロケイ皮酸、サリチル酸、ｏ−アニス酸、ｍ−アニス酸、ｐ−アニス酸、クレオソート酸、ｏ−ホモサリチル酸、ｍ−ホモサリチル酸、ｐ−ホモサリチル酸、ｏ−ピロカテク酸、β−レソルシル酸、バニリン酸、イソバニリン酸、ベラトルム酸、ｏ−ベラトルム酸、没食子酸、アサロン酸、マンデル酸、ホモアニス酸、ホモバニリン酸、ホモベラトルム酸、ｏ−ホモベラトルム酸、フタロン酸、ｐ−クマル酸を挙げることができるが、特に安息香酸が好ましい。

上記化合物（Ａ）及び化合物（Ｂ）をエステル化したエステル化化合物の中では、エステル化によりアセチル基が導入されたアセチル化化合物が好ましい。

これらアセチル化化合物の製造方法は、例えば、特開平８−２４５６７８号公報に記載されている。

上記化合物（Ａ）及び化合物（Ｂ）のエステル化化合物に加えて、オリゴ糖のエステル化化合物を、本発明に係るフラノース構造もしくはピラノース構造の少なくとも１種を３〜１２個結合した化合物として適用できる。

オリゴ糖は、澱粉、ショ糖等にアミラーゼ等の酵素を作用させて製造されるもので、本発明に適用できるオリゴ糖としては、例えば、マルトオリゴ糖、イソマルトオリゴ糖、フラクトオリゴ糖、ガラクトオリゴ糖、キシロオリゴ糖が挙げられる。

オリゴ糖も上記化合物（Ａ）及び化合物（Ｂ）と同様な方法でアセチル化できる。

次に、エステル化化合物の製造例の一例を記載する。

グルコース（２９．８ｇ、１６６ｍｍｏｌ）にピリジン（１００ｍｌ）を加えた溶液に無水酢酸（２００ｍｌ）を滴下し、２４時間反応させた。その後、エバポレートで溶液を濃縮し氷水へ投入した。１時間放置した後、ガラスフィルターにてろ過し、固体と水を分離し、ガラスフィルター上の固体をクロロホルムに溶かし、これが中性になるまで冷水で分液した。有機層を分離後、無水硫酸ナトリュウムにより乾燥した。無水硫酸ナトリュウムをろ過により除去した後、クロロホルムをエバポレートにより除き、更に減圧乾燥することによりグリコースペンタアセテート（５８．８ｇ、１５０ｍｍｏｌ、９０．９％）を得た。尚、上記無水酢酸の替わりに、上述のモノカルボン酸を使用することができる。

以下に、本発明に係るエステル化化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれに限定されるものではない。

本発明の光学補償フィルムは、位相差値の変動を抑制して、表示品位を安定化する為に、フラノース構造もしくはピラノース構造を１個有す化合物（Ａ）中の、或いは、フラノース構造もしくはピラノース構造の少なくとも１種を２〜１２個結合した化合物（Ｂ）中のＯＨ基のすべてもしくは一部をエステル化したエステル化化合物を１〜３０質量％含むことが好ましく、特には、５〜３０質量％含むことが好ましい。この範囲内であれば、本発明の優れた効果を呈すると共に、ブリードアウトなどもなく好ましい。

また、（メタ）アクリル系重合体とフラノース構造もしくはピラノース構造を１個有す化合物（Ａ）中の、或いは、フラノース構造もしくはピラノース構造の少なくとも１種を２〜１２個結合した化合物（Ｂ）中のＯＨ基のすべてもしくは一部をエステル化したエステル化化合物と他の可塑剤を併用することができる。

〈その他の位相差制御剤〉
本発明に係る位相差制御剤としては、分子内にビスフェノールＡを含有しているものも好ましい。ビスフェノールＡの両端にエチレンオキサイド、プロピレンオキサイドを付加した化合物などを用いることができる。

例えばニューポールＢＰ−２Ｐ、ＢＰ−３Ｐ、ＢＰ−２３Ｐ、ＢＰ−５ＰなどのＢＰシリーズ、ＢＰＥ−２０（Ｆ）、ＢＰＥ−２０ＮＫ、ＢＰＥ−２０Ｔ、ＢＰＥ−４０、ＢＰＥ−６０、ＢＰＥ−１００、ＢＰＥ−１８０などのＢＰＥシリーズ（三洋化成（株）製）などやアデカポリエーテルＢＰＸ−１１、ＢＰＸ−３３、ＢＰＸ−５５などのＢＰＸシリーズ（（株）アデカ製）がある。

ジアリルビスフェノールＡ、ジメタリルビスフェノールＡや、ビスフェノールＡを臭素などで置換したテトラブロモビスフェーノールＡやこれを重合したオリゴマーやポリマー、ジフェニルフォスフェイトなどで置換したビスフェノールＡビス（ジフェニルフォスフェイト）なども用いることができる。

ビスフェノールＡを重合したポリカーボネートやビスフェノールＡをテレフタル酸などの二塩基酸と重合したポリアリレート、エポキシを含有するモノマーと重合したエポキシ オリゴマーやポリマーなども用いることができる。

ビスフェノールＡとスチレンやスチレンアクリルなどをグラフト重合させたモディパーＣＬ１３０ＤやＬ４４０−Ｇなども用いることができる。

本発明に係る光学フィルムは、２種以上の位相差制御剤を含有させることもできる。この場合その組み合わせを最適化することで位相差制御剤の溶出を少なくすることもできる。その理由は明らかではないが、１種類当たりの添加量を減らすことができることと、２種の位相差制御剤同士及びアクリル樹脂含有組成物との相互作用によって溶出が抑制されるものと思われる。

〈その他の添加剤〉
本発明の光学フィルムにおいては、組成物の流動性や柔軟性を向上するために、可塑剤を併用することも可能である。可塑剤としては、フタル酸エステル系、脂肪酸エステル系、トリメリット酸エステル系、リン酸エステル系、ポリエステル系、あるいはエポキシ系等が挙げられる。

リン酸エステル系可塑剤では、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等、フタル酸エステル系可塑剤では、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート等を用いることができる。

この中で、ポリエステル系とフタル酸エステル系の可塑剤が好ましく用いられる。ポリエステル系可塑剤は、フタル酸ジオクチルなどのフタル酸エステル系の可塑剤に比べて非移行性や耐抽出性に優れるが、可塑化効果や相溶性にはやや劣る。

従って、用途に応じてこれらの可塑剤を選択、あるいは併用することによって、広範囲の用途に適用できる。

ポリエステル系可塑剤は、一価ないし四価のカルボン酸と一価ないし六価のアルコールとの反応物であるが、主に二価カルボン酸とグリコールとを反応させて得られたものが用いられる。代表的な二価カルボン酸としては、グルタル酸、イタコン酸、アジピン酸、フタル酸、アゼライン酸、セバシン酸などが挙げられる。

特に、アジピン酸、フタル酸などを用いると可塑化特性に優れたものが得られる。グリコールとしてはエチレン、プロピレン、１，３−ブチレン、１，４−ブチレン、１，６−ヘキサメチレン、ネオペンチレン、ジエチレン、トリエチレン、ジプロピレンなどのグリコールが挙げられる。これらの二価カルボン酸およびグリコールはそれぞれ単独で、あるいは混合して使用してもよい。

このエステル系の可塑剤はエステル、オリゴエステル、ポリエステルの型のいずれでもよく、分子量は１００〜１００００の範囲が良いが、好ましくは６００〜３０００の範囲が可塑化効果が大きい。

また、可塑剤の粘度は分子構造や分子量と相関があるが、アジピン酸系可塑剤の場合相溶性、可塑化効率の関係から２００〜５０００ｍＰａ・ｓ（２５℃）の範囲が良い。さらに、いくつかのポリエステル系可塑剤を併用してもかまわない。

可塑剤はアクリル樹脂を含有する組成物１００質量部に対して、０．５〜３０質量部を添加するのが好ましい。可塑剤の添加量が３０質量部を越えると、表面がべとつくので、実用上好ましくない。またこれらの可塑剤は単独或いは２種以上混合して用いることもできる。

さらに、本発明の光学フィルムに用いられるアクリル樹脂には成形加工時の熱分解性や熱着色性を改良するために各種の酸化防止剤を添加することもできる。また帯電防止剤を加えて、光学フィルムに帯電防止性能を与えることも可能である。

本発明のアクリル樹脂組成物として、リン系難燃剤を配合した難燃アクリル系樹脂組成物を用いても良い。

ここで用いられるリン系難燃剤としては、赤リン、トリアリールリン酸エステル、ジアリールリン酸エステル、モノアリールリン酸エステル、アリールホスホン酸化合物、アリールホスフィンオキシド化合物、縮合アリールリン酸エステル、ハロゲン化アルキルリン酸エステル、含ハロゲン縮合リン酸エステル、含ハロゲン縮合ホスホン酸エステル、含ハロゲン亜リン酸エステル等から選ばれる１種、あるいは２種以上の混合物を挙げることができる。

具体的な例としては、トリフェニルホスフェート、９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナンスレン−１０−オキシド、フェニルホスホン酸、トリス（β−クロロエチル）ホスフェート、トリス（ジクロロプロピル）ホスフェート、トリス（トリブロモネオペンチル）ホスフェート等が挙げられる。

〈光学フィルムの製膜〉
光学フィルムの製膜方法の例を説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。

本発明の光学フィルムの製膜方法としては、インフレーション法、Ｔ−ダイ法、カレンダー法、切削法、流延法、エマルジョン法、ホットプレス法等の製造法が使用できるが、着色抑制、異物欠点の抑制、ダイラインなどの光学欠点の抑制などの観点から流延法による溶液製膜が好ましい。

（有機溶媒）
本発明の光学フィルムを溶液流延法で製造する場合のドープを形成するのに有用な有機溶媒は、アクリル樹脂、セルロースエステル樹脂、その他の添加剤を同時に溶解するものであれば制限なく用いることが出来る。

例えば、塩素系有機溶媒としては、塩化メチレン、非塩素系有機溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−ヘキサフルオロ−１−プロパノール、１，３−ジフルオロ−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−メチル−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロパノール、ニトロエタン等を挙げることが出来、塩化メチレン、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトンを好ましく使用し得る。

ドープには、上記有機溶媒の他に、１〜４０質量％の炭素原子数１〜４の直鎖または分岐鎖状の脂肪族アルコールを含有させることが好ましい。ドープ中のアルコールの比率が高くなるとウェブがゲル化し、金属支持体からの剥離が容易になり、また、アルコールの割合が少ない時は非塩素系有機溶媒系でのアクリル樹脂、セルロースエステル樹脂の溶解を促進する役割もある。

特に、メチレンクロライド、及び炭素数１〜４の直鎖または分岐鎖状の脂肪族アルコールを含有する溶媒に、アクリル樹脂と、セルロースエステル樹脂と、アクリル粒子の３種を、少なくとも計１５〜４５質量％溶解させたドープ組成物であることが好ましい。

炭素原子数１〜４の直鎖または分岐鎖状の脂肪族アルコールとしては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノールを挙げることが出来る。これらの内ドープの安定性、沸点も比較的低く、乾燥性もよいこと等からエタノールが好ましい。

以下、本発明の光学フィルムの好ましい製膜方法について説明する。

１）溶解工程
アクリル樹脂、セルロースエステル樹脂に対する良溶媒を主とする有機溶に、溶解釜中で該アクリル樹脂、セルロースエステル樹脂、場合によってアクリル粒子、その他の添加剤を攪拌しながら溶解しドープを形成する工程、或いは該アクリル樹脂、セルロースエステル樹脂溶液に、場合によってアクリル粒子溶液、その他の添加剤溶液を混合して主溶解液であるドープを形成する工程である。

アクリル樹脂、セルロースエステル樹脂の溶解には、常圧で行う方法、主溶媒の沸点以下で行う方法、主溶媒の沸点以上で加圧して行う方法、特開平９−９５５４４号公報、特開平９−９５５５７号公報、または特開平９−９５５３８号公報に記載の如き冷却溶解法で行う方法、特開平１１−２１３７９号公報に記載の如き高圧で行う方法等種々の溶解方法を用いることが出来るが、特に主溶媒の沸点以上で加圧して行う方法が好ましい。

ドープ中のアクリル樹脂と、セルロースエステル樹脂は、計１５〜４５質量％の範囲であることが好ましい。溶解中または後のドープに添加剤を加えて溶解及び分散した後、濾材で濾過し、脱泡して送液ポンプで次工程に送る。

濾過は捕集粒子径０．５〜５μｍでかつ濾水時間１０〜２５ｓｅｃ／１００ｍｌの濾材を用いることが好ましい。

この方法では、粒子分散時に残存する凝集物や主ドープ添加時発生する凝集物を、捕集粒子径０．５〜５μｍでかつ濾水時間１０〜２５ｓｅｃ／１００ｍｌの濾材を用いることで凝集物だけ除去出来る。主ドープでは粒子の濃度も添加液に比べ十分に薄いため、濾過時に凝集物同士がくっついて急激な濾圧上昇することもない。

図１は本発明に好ましい溶液流延製膜方法のドープ調製工程、流延工程及び乾燥工程を模式的に示した図である。

必要な場合は、アクリル粒子仕込釜４１より濾過器４４で大きな凝集物を除去し、ストック釜４２へ送液する。その後、ストック釜４２より主ドープ溶解釜１へアクリル粒子添加液を添加する。

その後主ドープ液は主濾過器３にて濾過され、これに紫外線吸収剤添加液が１６よりインライン添加される。

多くの場合、主ドープには返材が１０〜５０質量％程度含まれることがある。返材にはアクリル粒子が含まれることがある、その場合には返材の添加量に合わせてアクリル粒子添加液の添加量をコントロールすることが好ましい。

アクリル粒子を含有する添加液には、アクリル粒子を０．５〜１０質量％含有していることが好ましく、１〜１０質量％含有していることが更に好ましく、１〜５質量％含有していることが最も好ましい。

アクリル粒子の含有量の少ない方が、低粘度で取り扱い易く、アクリル粒子の含有量の多い方が、添加量が少なく、主ドープへの添加が容易になるため、上記の範囲が好ましい。

返材とは、光学フィルムを細かく粉砕した物で、光学フィルムを製膜するときに発生する、フィルムの両サイド部分を切り落とした物や、擦り傷などでスペックアウトした光学フィルム原反が使用される。

また、予めアクリル樹脂、セルロースエステル樹脂、場合によってアクリル粒子を混練してペレット化したものも、好ましく用いることができる。

２）流延工程
ドープを送液ポンプ（例えば、加圧型定量ギヤポンプ）を通して加圧ダイ３０に送液し、無限に移送する無端の金属ベルト３１、例えばステンレスベルト、或いは回転する金属ドラム等の金属支持体上の流延位置に、加圧ダイスリットからドープを流延する工程である。

ダイの口金部分のスリット形状を調整出来、膜厚を均一にし易い加圧ダイが好ましい。加圧ダイには、コートハンガーダイやＴダイ等があり、何れも好ましく用いられる。金属支持体の表面は鏡面となっている。製膜速度を上げるために加圧ダイを金属支持体上に２基以上設け、ドープ量を分割して重層してもよい。或いは複数のドープを同時に流延する共流延法によって積層構造のフィルムを得ることも好ましい。

３）溶媒蒸発工程
ウェブ（流延用支持体上にドープを流延し、形成されたドープ膜をウェブと呼ぶ）を流延用支持体上で加熱し、溶媒を蒸発させる工程である。

溶媒を蒸発させるには、ウェブ側から風を吹かせる方法及び／又は支持体の裏面から液体により伝熱させる方法、輻射熱により表裏から伝熱する方法等があるが、裏面液体伝熱方法が乾燥効率が良く好ましい。又、それらを組み合わせる方法も好ましく用いられる。流延後の支持体上のウェブを４０〜１００℃の雰囲気下、支持体上で乾燥させることが好ましい。４０〜１００℃の雰囲気下に維持するには、この温度の温風をウェブ上面に当てるか赤外線等の手段により加熱することが好ましい。

面品質、透湿性、剥離性の観点から、３０〜１２０秒以内で該ウェブを支持体から剥離することが好ましい。

４）剥離工程
金属支持体上で溶媒が蒸発したウェブを、剥離位置で剥離する工程である。剥離されたウェブは次工程に送られる。

金属支持体上の剥離位置における温度は好ましくは１０〜４０℃であり、更に好ましくは１１〜３０℃である。

尚、剥離する時点での金属支持体上でのウェブの剥離時残留溶媒量は、乾燥の条件の強弱、金属支持体の長さ等により５０〜１２０質量％の範囲で剥離することが好ましいが、残留溶媒量がより多い時点で剥離する場合、ウェブが柔らか過ぎると剥離時平面性を損なったり、剥離張力によるツレや縦スジが発生し易いため、経済速度と品質との兼ね合いで剥離時の残留溶媒量が決められる。

ウェブの残留溶媒量は下記式で定義される。

残留溶媒量（％）＝（ウェブの加熱処理前質量−ウェブの加熱処理後質量）／（ウェブの加熱処理後質量）×１００
尚、残留溶媒量を測定する際の加熱処理とは、１１５℃で１時間の加熱処理を行うことを表す。

金属支持体とフィルムを剥離する際の剥離張力は、通常、１９６〜２４５Ｎ／ｍであるが、剥離の際に皺が入り易い場合、１９０Ｎ／ｍ以下の張力で剥離することが好ましく、更には、剥離できる最低張力〜１６６．６Ｎ／ｍ、次いで、最低張力〜１３７．２Ｎ／ｍで剥離することが好ましいが、特に好ましくは最低張力〜１００Ｎ／ｍで剥離することである。

本発明においては、該金属支持体上の剥離位置における温度を−５０〜４０℃とするのが好ましく、１０〜４０℃がより好ましく、１５〜３０℃とするのが最も好ましい。

５）乾燥及び延伸工程
剥離後、ウェブを乾燥装置内に複数配置したロールに交互に通して搬送する乾燥装置３５、及び／またはクリップでウェブの両端をクリップして搬送するテンター延伸装置３４を用いて、ウェブを乾燥する。

乾燥手段はウェブの両面に熱風を吹かせるのが一般的であるが、風の代わりにマイクロウェーブを当てて加熱する手段もある。余り急激な乾燥は出来上がりのフィルムの平面性を損ね易い。高温による乾燥は残留溶媒が８質量％以下くらいから行うのがよい。全体を通し、乾燥は概ね４０〜２５０℃で行われる。特に４０〜１６０℃で乾燥させることが好ましい。

テンター延伸装置を用いる場合は、テンターの左右把持手段によってフィルムの把持長（把持開始から把持終了までの距離）を左右で独立に制御出来る装置を用いることが好ましい。また、テンター工程において、平面性を改善するため意図的に異なる温度を持つ区画を作ることも好ましい。

また、異なる温度区画の間にそれぞれの区画が干渉を起こさないように、ニュートラルゾーンを設けることも好ましい。

尚、延伸操作は多段階に分割して実施してもよく、流延方向、幅手方向に二軸延伸を実施することも好ましい。また、二軸延伸を行う場合には同時二軸延伸を行ってもよいし、段階的に実施してもよい。

この場合、段階的とは、例えば、延伸方向の異なる延伸を順次行うことも可能であるし、同一方向の延伸を多段階に分割し、かつ異なる方向の延伸をそのいずれかの段階に加えることも可能である。即ち、例えば、次のような延伸ステップも可能である。

・流延方向に延伸−幅手方向に延伸−流延方向に延伸−流延方向に延伸
・幅手方向に延伸−幅手方向に延伸−流延方向に延伸−流延方向に延伸
また、同時２軸延伸には、一方向に延伸し、もう一方を張力を緩和して収縮させる場合も含まれる。同時２軸延伸の好ましい延伸倍率は幅手方向、長手方向ともに×１．０１倍〜×１．５倍の範囲でとることができる。

テンターを行う場合のウェブの残留溶媒量は、テンター開始時に２０〜１００質量％であるのが好ましく、かつウェブの残留溶媒量が１０質量％以下になる迄テンターを掛けながら乾燥を行うことが好ましく、更に好ましくは５質量％以下である。

テンターを行う場合の乾燥温度は、３０〜１５０℃が好ましく、５０〜１２０℃が更に好ましく、７０〜１００℃が最も好ましい。

テンター工程において、雰囲気の幅手方向の温度分布が少ないことが、フィルムの均一性を高める観点から好ましく、テンター工程での幅手方向の温度分布は、±５℃以内が好ましく、±２℃以内がより好ましく、±１℃以内が最も好ましい。

６）巻き取り工程
ウェブ中の残留溶媒量が２質量％以下となってから光学フィルムとして巻き取り機３７により巻き取る工程であり、残留溶媒量を０．４質量％以下にすることにより寸法安定性の良好なフィルムを得ることが出来る。

巻き取り方法は、一般に使用されているものを用いればよく、定トルク法、定テンション法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法等があり、それらを使いわければよい。

本発明の光学フィルムは、長尺フィルムであることが好ましく、具体的には、１００ｍ〜５０００ｍ程度のものを示し、通常、ロール状で提供される形態のものである。また、フィルムの幅は１．３〜４ｍであることが好ましく、１．４〜２ｍであることがより好ましい。

本発明の光学フィルムの膜厚に特に制限はないが、後述する偏光板保護フィルムに使用する場合は２０〜２００μｍであることが好ましく、２５〜１００μｍであることがより好ましく、３０〜８０μｍであることが特に好ましい。

（光学フィルムの物性等）
以下、本発明の光学フィルムの物性等についての特徴について説明する。

〈光弾性係数〉
本発明の光学フィルムは、光弾性係数が−５×１０^-12〜５×１０^-12／Ｐａであるように調整することが好ましい。

本発明において、光弾性係数を上記の範囲内に調整するには、アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂を５１：４９〜９５：５の質量比の範囲内でそれぞれの樹脂の比率を調整し、この樹脂比率に応じて位相差制御剤の組み合わせとその添加する量を調整して光学フィルムの組成を最適化することで行う。

光弾性係数をこのような範囲に調整することにより液晶表示装置を長時間点灯しパネルが高温になった場合や回りの雰囲気が高温高湿になった場合に位相差フィルムに応力がかかっても位相差が発現しにくくなり画像ムラが低減できる。さらに長期間使用した場合に発生する画像ムラも低減できる。

〈その他〉
本発明に係る光学フィルムは、ヘイズを低くし、プロジェクターのような高温になる機器や、車載用表示機器のような、高温の環境下での使用を考慮すると、その張力軟化点を、１０５℃〜１４５℃とすることが好ましく、１１０℃〜１３０℃に制御することがより好ましい。

光学フィルムの張力軟化点温度の具体的な測定方法としては、例えば、テンシロン試験機（ＯＲＩＥＮＴＥＣ社製、ＲＴＣ−１２２５Ａ）を用いて、光学フィルムを１２０ｍｍ（縦）×１０ｍｍ（幅）で切り出し、１０Ｎの張力で引っ張りながら３０℃／ｍｉｎの昇温速度で昇温を続け、９Ｎになった時点での温度を３回測定し、その平均値により求めることができる。

本発明の光学フィルムは、ガラス転移温度（Ｔｇ）が１１０℃以上であることが好ましい。より好ましくは１２０℃以上である。特に好ましくは１５０℃以上である。

尚、ここでいうガラス転移温度とは、示差走査熱量測定器（Ｐｅｒｋｉｎ Ｅｌｍｅｒ社製ＤＳＣ−７型）を用いて、昇温速度２０℃／分で測定し、ＪＩＳ Ｋ７１２１（１９８７）に従い求めた中間点ガラス転移温度（Ｔｍｇ）である。

本発明の光学フィルムは、フィルム面内の直径５μｍ以上の欠点が１個／１０ｃｍ四方以下である。更に好ましくは０．５個／１０ｃｍ四方以下、一層好ましくは０．１個／１０ｃｍ四方以下である。

ここで欠点の直径とは、欠点が円形の場合はその直径を示し、円形でない場合は欠点の範囲を下記方法により顕微鏡で観察して決定し、その最大径（外接円の直径）とする。

欠点の範囲は、欠点が気泡や異物の場合は、欠点を微分干渉顕微鏡の透過光で観察したときの影の大きさである。欠点が、ロール傷の転写や擦り傷など、表面形状の変化の場合は、欠点を微分干渉顕微鏡の反射光で観察して大きさを確認する。

なお、反射光で観察する場合に、欠点の大きさが不明瞭であれば、表面にアルミや白金を蒸着して観察する。

かかる欠点頻度にて表される品位に優れたフィルムを生産性よく得るには、ポリマー溶液を流延直前に高精度濾過することや、流延機周辺のクリーン度を高くすること、また、流延後の乾燥条件を段階的に設定し、効率よくかつ発泡を抑えて乾燥させることが有効である。

欠点の個数が１個／１０ｃｍ四方より多いと、例えば後工程での加工時などでフィルムに張力がかかると、欠点を基点としてフィルムが破断して生産性が著しく低下する場合がある。また、欠点の直径が５μｍ以上になると、偏光板観察などにより目視で確認でき、光学部材として用いたとき輝点が生じる場合がある。

また、目視で確認できない場合でも、該フィルム上にハードコート層などを形成したときに、塗剤が均一に形成できず欠点（塗布抜け）となる場合がある。ここで、欠点とは、溶液製膜の乾燥工程において溶媒の急激な蒸発に起因して発生するフィルム中の空洞（発泡欠点）や、製膜原液中の異物や製膜中に混入する異物に起因するフィルム中の異物（異物欠点）を言う。

また、本発明の光学フィルムは、ＪＩＳ−Ｋ７１２７−１９９９に準拠した測定において、少なくとも一方向の破断伸度が、１０％以上であることが好ましく、より好ましくは２０％以上である。

破断伸度の上限は特に限定されるものではないが、現実的には２５０％程度である。破断伸度を大きくするには異物や発泡に起因するフィルム中の欠点を抑制することが有効である。

本発明の光学フィルムの厚みは２０μｍ以上であることが好ましい。より好ましくは３０μｍ以上である。

厚みの上限は特に限定される物ではないが、溶液製膜法でフィルム化する場合は、塗布性、発泡、溶媒乾燥などの観点から、上限は２５０μｍ程度である。なお、フィルムの厚みは用途により適宜選定することができる。

本発明の光学フィルムは、その全光線透過率が９０％以上であることが好ましく、より好ましくは９３％以上である。また、現実的な上限としては、９９％程度である。かかる全光線透過率にて表される優れた透明性を達成するには、可視光を吸収する添加剤や共重合成分を導入しないようにすることや、ポリマー中の異物を高精度濾過により除去し、フィルム内部の光の拡散や吸収を低減させることが有効である。

また、製膜時のフィルム接触部（冷却ロール、カレンダーロール、ドラム、ベルト、溶液製膜における塗布基材、搬送ロールなど）の表面粗さを小さくしてフィルム表面の表面粗さを小さくすることや、アクリル樹脂の屈折率を小さくすることによりフィルム表面の光の拡散や反射を低減させることが有効である。

本発明の光学フィルムは、透明性を表す指標の１つであるヘイズ値（濁度）が１．０％以下であることが特徴であるが、液晶表示装置に組み込んだ際の輝度、コントラストの点から好ましくは０．５％以下である。

かかるヘイズ値を達成するには、ポリマー中の異物を高精度濾過により除去し、フィルム内部の光の拡散を低減させることが有効である。

アクリル粒子を使用する場合は、アクリル系樹脂とアクリル粒子との屈折率差を小さくすることも有効である。

また、表面の粗さも表面ヘイズとしてヘイズ値に影響するため、アクリル粒子の粒子径や添加量を前記範囲内に抑えたり、製膜時のフィルム接触部の表面粗さを小さくすることも、有効である。

尚、上記光学フィルムの全光線透過率およびヘイズ値は、ＪＩＳ−Ｋ７３６１−１−１９９７およびＪＩＳ−Ｋ７１３６−２０００に従い、測定した値である。

本発明の光学フィルムは、上記のような物性を満たしていれば、光学用の光学フィルムとして好ましく用いることができるが、以下の組成とすることにより、加工性、耐熱性に優れたフィルムを得ることができる。

すなわち、加工性および耐熱性を両立させる観点から、前記光学フィルムが、アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂を９５：５〜３０：７０の質量比で含有し、該セルロースエステル樹脂のアシル基の総置換度（Ｔ）が２．００〜２．９９、アセチル基置換度（ａｃ）が０．１０〜１．８９、アセチル基以外のアシル基の炭素数が３〜７であり、重量平均分子量（Ｍｗ）が７５０００〜２５００００であることを特徴とする光学フィルムにより、本発明の優れた効果が得られる。

本発明の光学フィルムにおいて、アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂は、９５：５〜３０：７０の質量比で含有されるが、好ましくはアクリル樹脂が５０質量％以上である。

本発明の光学フィルムは、アクリル樹脂、セルロースエステル樹脂以外の樹脂を含有して構成されていても良い。

アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂の総質量は、光学フィルムの５５〜１００質量％であり、好ましくは６０〜９９質量％である。

（偏光板）
本発明に係る偏光板は、一般的な方法で作製することが出来る。本発明の光学フィルムの裏面側に粘着層を設け、沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の少なくとも一方の面に、貼り合わせることが好ましい。

もう一方の面には該フィルムを用いても、別の偏光板保護フィルムを用いてもよい。例えば、市販のセルロースエステルフィルム（例えば、コニカミノルタタック ＫＣ８ＵＸ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ１２ＵＲ、ＫＣ８ＵＣＲ−３、ＫＣ８ＵＣＲ−４、ＫＣ８ＵＣＲ−５、ＫＶ８ＵＹ−ＨＡ、ＫＶ８ＵＸ−ＲＨＡ、以上コニカミノルタオプト（株）製）等が好ましく用いられる。

偏光板の主たる構成要素である偏光子とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光膜は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムで、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがある。

偏光子は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。

上記粘着層に用いられる粘着剤としては、粘着層の少なくとも一部分において２５℃での貯蔵弾性率が１．０×１０⁴Ｐａ〜１．０×１０⁹Ｐａの範囲である粘着剤が用いられていることが好ましく、粘着剤を塗布し、貼り合わせた後に種々の化学反応により高分子量体または架橋構造を形成する硬化型粘着剤が好適に用いられる。

具体例としては、例えば、ウレタン系粘着剤、エポキシ系粘着剤、水性高分子−イソシアネート系粘着剤、熱硬化型アクリル粘着剤等の硬化型粘着剤、湿気硬化ウレタン粘着剤、ポリエーテルメタクリレート型、エステル系メタクリレート型、酸化型ポリエーテルメタクリレート等の嫌気性粘着剤、シアノアクリレート系の瞬間粘着剤、アクリレートとペルオキシド系の２液型瞬間粘着剤等が挙げられる。

上記粘着剤としては１液型であっても良いし、使用前に２液以上を混合して使用する型であっても良い。

また上記粘着剤は有機溶剤を媒体とする溶剤系であってもよいし、水を主成分とする媒体であるエマルジョン型、コロイド分散液型、水溶液型などの水系であってもよいし、無溶剤型であってもよい。上記粘着剤液の濃度は、粘着後の膜厚、塗布方法、塗布条件等により適宜決定されれば良く、通常は０．１〜５０質量％である。

（液晶表示装置）
本発明の光学フィルムを貼合した偏光板を少なくとも液晶セルの一方の面に用いて液晶表示装置に組み込むことによって、種々の耐久性に優れた液晶表示装置を作製することが出来る。本発明に係る偏光板は、前記粘着層等を介して液晶セルに貼合する。

本発明に係る偏光板は反射型、透過型、半透過型ＬＣＤまたはＴＮ型、ＳＴＮ型、ＯＣＢ型、ＨＡＮ型、ＶＡ型（ＰＶＡ型、ＭＶＡ型）、ＩＰＳ型等の各種駆動方式のＬＣＤで好ましく用いられる。

以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

＜実施例１＞
（アクリル樹脂（Ａ））
以下の市販のものを用いた。
ダイヤナールＢＲ５０（三菱レイヨン（株）製） Ｍｗ１０００００
ダイヤナールＢＲ５２（三菱レイヨン（株）製） Ｍｗ８５０００
ダイヤナールＢＲ８０（三菱レイヨン（株）製） Ｍｗ９５０００
ダイヤナールＢＲ８３（三菱レイヨン（株）製） Ｍｗ４００００
ダイヤナールＢＲ８５（三菱レイヨン（株）製） Ｍｗ２８００００
ダイヤナールＢＲ８８（三菱レイヨン（株）製） Ｍｗ４８００００
８０Ｎ（旭化成ケミカルズ（株）製） Ｍｗ１０００００
上記市販のアクリル樹脂における分子中のＭＭＡ単位の割合は、ダイヤナールＢＲ５０が約３０質量％、ダイヤナールＢＲ５２が約７０質量％、ダイヤナールＢＲ８０から８０Ｎは全て９０質量％以上９９質量％以下であった。

〈アクリル粒子（Ｃ１）の調製〉
内容積６０リットルの還流冷却器付反応器に、イオン交換水３８．２リットル、ジオクチルスルホコハク酸ナトリウム１１１．６ｇを投入し、２５０ｒｐｍの回転数で攪拌しながら、窒素雰囲気下７５℃に昇温し、酸素の影響が事実上無い状態にした。ＡＰＳ０．３６ｇを投入し、５分間攪拌後にＭＭＡ１６５７ｇ、ＢＡ２１．６ｇ、およびＡＬＭＡ１．６８ｇからなる単量体混合物を一括添加し、発熱ピークの検出後さらに２０分間保持して最内硬質層の重合を完結させた。

次に、ＡＰＳ３．４８ｇを投入し、５分間攪拌後にＢＡ８１０５ｇ、ＰＥＧＤＡ（２００）３１．９ｇ、およびＡＬＭＡ２６４．０ｇからなる単量体混合物を１２０分間かけて連続的に添加し、添加終了後さらに１２０分間保持して，軟質層の重合を完結させた。

次に、ＡＰＳ１．３２ｇを投入し、５分間攪拌後にＭＭＡ２１０６ｇ、ＢＡ２０１．６ｇからなる単量体混合物を２０分間かけて連続的に添加し、添加終了後さらに２０分間保持して最外硬質層１の重合を完結した。

次いで、ＡＰＳ１．３２ｇを投入し、５分後にＭＭＡ３１４８ｇ、ＢＡ２０１．６ｇ、およびｎ−ＯＭ１０．１ｇからなる単量体混合物を２０分間かけて連続的に添加し、添加終了後にさらに２０分間保持した。ついで９５℃に昇温し６０分間保持して、最外硬質層２の重合を完結させた。

このようにして得られた重合体ラテックスを少量採取し、吸光度法により平均粒子径を求めたところ０．１０μｍ１００ｎｍであった。残りのラテックスを３質量％硫酸ナトリウム温水溶液中へ投入して、塩析・凝固させ、次いで、脱水・洗浄を繰り返したのち乾燥し、３層構造のアクリル粒子（Ｃ１）を得た。

上記の略号は各々下記材料である。

ＭＭＡ；メチルメタクリレート
ＭＡ；メチルアクリレート
ＢＡ；ｎ−ブチルアクリレート
ＡＬＭＡ；アリルメタクリレート
ＰＥＧＤＡ；ポリエチレングリコールジアクリレート（分子量２００）
ｎ−ＯＭ；ｎ−オクチルメルカプタン
ＡＰＳ；過硫酸アンモニウム
（紫外線吸収剤（Ｄ））
（例示化合物２の合成）
化合物Ａ ２ｇをトルエン１０ｍｌに懸濁させ、ＤＭＦ ０．１ｍｌ、塩化チオニル １．１４ｇを加えて６０℃に加熱して３０分撹拌した。反応が進行するにつれて溶解し始め、反応終了後均一溶液になった。反応混合液の溶媒を減圧除去した。

残渣にアセトニトリル８０ｍｌを加えて懸濁させた。別容器にジエチレングリコール ０．３４ｇ、ピリジン ０．７６ｇをアセトニトリルで溶解して、７５℃に加熱して撹拌した。

その中へ先ほどのアセトニトリル懸濁液を素早く加えて７５℃を保持したまま２時間撹拌した。反応終了後、冷却した後アセトニトリルを減圧除去して酢酸エチルと水を加えて抽出した。

有機層を減圧除去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、さらに酢酸エチルから再結晶を行い、例示化合物２を０．４ｇ（収率１８％）得た。構造はＮＭＲとＭａｓｓスペクトルにより確認した。

１Ｈ−ＮＭＲ（ｄ−ＤＭＳＯ）：σ１．２８（ｓ，１８Ｈ）；３．９２（ｍ，４Ｈ）；４．５１（ｍ，４Ｈ）；７．０９（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ）；７．４９（ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，８．５Ｈｚ，２Ｈ）；７．７１（ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，２Ｈ）；７．９３（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ）；７．９９（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ）；８．６０（ｓ，２Ｈ）；１０．２（ｓ，２Ｈ）

（紫外線吸収性重合体Ａの合成）
ジヒドロキシベンゾトリアゾール（ａ）１１．８３ｇ（２０ｍｍｏｌ）とアジピン酸（ｂ）２．９２ｇ（２０ｍｍｏｌ）に酸化アンチモン０．０２ｇを加え、真空かき混ぜ機をつけた重合管に入れる。重合管には窒素ガス導入管をつなぎ、この重合管を油浴に入れ１８０℃に加熱しながら、ゆっくりと窒素ガスを通した。かき混ぜながら、徐々に２７０℃まで昇温し、同時に真空度を１０２Ｐａまで高めた。このまま３時間加熱した後、放冷し、定量的に重合体Ａを得た。重合体Ａの分子量をＧＰＣにより測定した結果、数平均分子量は１２５００であった。また重合体の構造は１Ｈ−ＮＭＲにより確認した。

〈光学フィルム１の作製〉
（ドープ液組成１）
アクリル樹脂（Ａ）
ダイヤナールＢＲ８５（三菱レイヨン（株）製） ７０質量部
セルロースエステル樹脂（Ｂ）
セルロースアセテートプロピオネート アシル基総置換度２．７５、アセチル基置換度０．１９、プロピオニル基置換度２．５６、Ｍｗ＝２０００００
３０質量部
アクリル粒子
アクリル粒子（Ｃ１） ５質量部
紫外線吸収剤（Ｄ）：例示化合物２ ２質量部
メチレンクロライド ３００質量部
エタノール ４０質量部
上記組成物を、加熱しながら十分に溶解し、ドープ液を作製した。

（アクリル樹脂フィルム１の製膜）
上記作製したドープ液を、ベルト流延装置を用い、温度２２℃、２ｍ幅でステンレスバンド支持体に均一に流延した。ステンレスバンド支持体で、残留溶剤量が１００％になるまで溶媒を蒸発させ、剥離張力１６２Ｎ／ｍでステンレスバンド支持体上から剥離した。

剥離したアクリル樹脂のウェブを３５℃で溶媒を蒸発させ、１．６ｍ幅にスリットし、その後、テンターで幅方向に１．１倍に延伸しながら、１３５℃の乾燥温度で乾燥させた。このときテンターで延伸を始めたときの残留溶剤量は１０％であった。

テンターで延伸後１３０℃で５分間緩和を行った後、１２０℃、１４０℃の乾燥ゾーンを多数のロールで搬送させながら乾燥を終了させ、１．５ｍ幅にスリットし、フィルム両端に幅１０ｍｍ高さ５μｍのナーリング加工を施し、初期張力２２０Ｎ／ｍ、終張力１１０Ｎ／ｍで内径６インチコアに巻き取り、光学フィルム１を得た。

ステンレスバンド支持体の回転速度とテンターの運転速度から算出されるＭＤ方向の延伸倍率は１．１倍であった。

表１〜表４記載の光学フィルム１の残留溶剤量は０．１％であり、膜厚は６０μｍ、巻長は４０００ｍであった。

以下、アクリル樹脂（Ａ）、セルロースエステル樹脂（Ｂ）、紫外線吸収剤（Ｄ）の種類と組成比を表１〜表４に記載のように変えた以外は、光学フィルム１と同様にして、光学フィルム２〜７１を作製した。

また、セルロースエステル樹脂のアシル基は、ｐｒはプロピオニル基、ｂｕはブチリル基を表す。

表１〜表４中、紫外線吸収剤（Ｄ）のチヌビン１０９、チヌビン１７１は、
チヌビン１０９（チバ・ジャパン（株）製） １．５質量部
チヌビン１７１（チバ・ジャパン（株）製） ０．５質量部
を混合して用いた。

（ハードコート層塗布液の調整）
下記材料を攪拌、混合しハードコート層塗布液とした。

アクリルモノマー；ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート）（日本化薬製） ３２３質量部
開始剤；イルガキュア１８４（チバ・ジャパン（株）製） ３６質量部
レベリング剤；ＦＺ２２０７（日本ユニカー製）１０％プロピレングリコールモノメチルエーテル溶液 ７質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル ３１７質量部
酢酸エチル ３１７質量部
（ハードコート層の積層）
上記ハードコート層塗布液をワイヤーバーで光学フィルム１〜７１上に塗布し８０℃で３０秒乾燥した。

乾燥後ＵＶを照射（１２０ｍＪ／ｃｍ²になるよう、ＵＶランプの出力を調整）し、硬化後の膜厚が１０μｍのハードコート層を得た。

《評価方法》
ＵＶ吸収性能
Ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ Ｕ−３２００（日立製作所製）を用い、フィルム試料の分光吸収スペクトルを測定し、４００ｎｍと３８０ｎｍにおける透過率を求め、以下のようにランク分けを行った。各ランクにおいて、４００ｎｍの透過率は高い程優れており、３８０ｎｍの透過率は低い程優れている。

〈４００ｎｍ透過率〉
Ａ：透過率８０％以上
Ｂ：透過率７０％以上８０％未満
Ｃ：透過率６０％以上７０％未満
Ｄ：透過率６０％未満
〈３８０ｎｍ透過率〉
Ａ：透過率５％未満
Ｂ：透過率５％以上８％未満
Ｃ：透過率８％以上１０％未満
Ｄ：透過率１０％以上
ブリードアウト
フィルム試料を、８０℃、９０％ＲＨの高温高湿雰囲気下で１０００時間放置後、フィルム試料表面のブリードアウト（結晶析出）の有無を目視観察を行い、下記に記載の基準に従って評価を行った。

◎：表面にブリードアウトの発生が全く認められない
○：表面で、部分的なブリードアウトが僅かに認められる
△：表面で、全面に亘りブリードアウトが僅かに認められる
×：表面で、全面に亘り明確なブリードアウトが認められる
ハードコート層の密着性
上記試料の樹脂層を設けた側にカッターを用いて縦横１ｍｍ幅の傷を１１本ずついれて１ｍｍ四方の正方形を１００個作り（クロスカット）、その上にテープ（日東電工製セロハンテープＮｏ．２９）を貼り、へらで１０往復こすった後、テープを勢いよく剥がす。この作業を３回繰り返し、膜のハガレ度合いをみた。

◎：膜ハガレなし
○：ごく少量のハガレがある
△：少量のハガレがある
×：大きくハガレがある
ヘイズ
上記作製した各々のフィルム試料について、２３℃、５５％ＲＨの空調室で２４時間調湿した後、同条件下においてフィルム試料１枚をＪＩＳ Ｋ−７１３６に従って、ヘーズメーター（ＮＤＨ２０００型、日本電色工業（株）製）を使用して測定した。

以上の評価の結果を表５及び表６に示す。

上述のように、本発明の光学フィルムは、透明で可視光の透過性にすぐれ、紫外線遮蔽効果が高く、高温高湿下で放置してもブリードアウトがなく耐久性にもすぐれるという特性を示した。

また、本発明の光学フィルムにハードコート層を設けた場合には密着性にも優れる。

溶液流延製膜方法のドープ調製工程、流延工程及び乾燥工程を示す模式図

符号の説明

１ 溶解釜
３、６、１２、１５ 濾過器
４、１３ ストックタンク
５、１４ 送液ポンプ
８、１６ 導管
１０ 紫外線吸収剤仕込釜
２０ 合流管
２１ 混合機
３０ ダイ
３１ 金属支持体
３２ ウェブ
３３ 剥離位置
３４ テンター装置
３５ ロール乾燥装置
４１ 粒子仕込釜
４２ ストックタンク
４３ ポンプ
４４ 濾過器

Claims (12)

1. アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂とを７０：３０〜３０：７０の質量比で相溶状態で含有し、前記アクリル樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）が８００００以上であり、前記セルロースエステル樹脂のアシル基の総置換度が２．０〜３．０であり、炭素数が３〜７のアシル基の置換度が１．２〜３．０であり、当該セルロースエステル樹脂の重量平均分子量Ｍｗが７５０００以上であり、かつ紫外線吸収剤を含有することを特徴とする光学フィルム。
2. 前記紫外線吸収剤として紫外線吸収性重合体を含有することを特徴とする請求項１に記載の光学フィルム。
3. 前記紫外線吸収剤として下記一般式（ＵＶＡ１）〜（ＵＶＡ３）で表される化合物から選択される少なくとも一種の化合物を含有することを特徴とする請求項１又は２に記載の光学フィルム。
   

   

   （一般式（ＵＶＡ１）〜（ＵＶＡ３）において、Ｒ_１、Ｒ_２は、各々、置換基を表し、Ｘは−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＮＲ_１１ＣＯ−、−ＣＯＮＲ_１１−、−Ｏ−、−ＮＲ_１２Ｒ_１３−、−ＳＯ_２ＮＲ_１４−、−ＮＲ_１４ＳＯ_２−、−Ｓ−、又は−ＳＯ_２−を表し、Ｌ_１は２価の連結基、Ｌ_２は３価の連結基、Ｌ_３は４価の連結基を表す。Ｒ_１１、Ｒ_１２、Ｒ_１３、Ｒ_１４は、各々、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表す。ｐは０〜３の整数、ｑは０〜４の整数を表す。）
4. 前記セルロースエステル樹脂の、炭素数が３〜７以外のアシル基の置換度の総和が、１．３以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の光学フィルム。
5. 前記セルロースエステル樹脂の、炭素数が３〜７のアシル基の置換度の総和が、２．００以上であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の光学フィルム。
6. 前記セルロースエステル樹脂のアシル基の総置換度が、２．５〜３．０であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の光学フィルム。
7. 前記アクリル樹脂が、分子内にメチルメタクリレート単位を５０〜９９質量％有するアクリル樹脂であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の光学フィルム。
8. 前記アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂の質量比が、７０：３０〜５０：５０の範囲内であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の光学フィルム。
9. 前記アクリル樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）が、８００００〜１００００００の範囲内であることを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載の光学フィルム。
10. 前記セルロースエステル樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）が７５０００〜３０００００の範囲内であることを特徴とする請求項１〜９のいずれか一項に記載の光学フィルム。
11. 前記光学フィルムが、当該光学フィルムを構成する樹脂の総質量に対して、０．５〜３０質量％のアクリル粒子を含有することを特徴とする請求項１〜１０のいずれか一項に記載の光学フィルム。
12. 膜厚が２０〜２００μｍであり、偏光板保護フィルムとして用いられることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか一項に記載の光学フィルム。

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