JP5529496B2 - 1,3,5−トリアジン誘導体とその製造方法及びそれを含有する有機電界発光素子 - Google Patents
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- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
実施例−1
実施例−2
13C−NMR(CDCl3):δ31.2(CH3×3),35.1(quart.),125.2(CH×4),125.6(CH×6),126.8(CH×4),126.8(CH×2),128.3(CH×2),128.4(CH×4),128.8(CH×2),128.9(CH×2),130.3(quart.×4),131.4(quart.×4),131.6(CH×2),133.4(quart.),135.3(CH×2),136.4(quart.×2),136.7(quart.×2),139.3(quart.×2),156.2(quart.),171.5(quart.×2),171.7(quart.).
実施例−3
実施例−4
実施例−5
13C−NMR(CDCl3):δ125.2(CH×2),125.4(CH×4),125.6(CH×2),125.6(CH×4),126.6(CH×2),126.8(CH×4),126.9(CH×2),127.0(CH),128.4(CH×4),128.4(CH×4),128.9(CH×2),129.2(CH×2),130.0(quart.×2),130.4(quart.×4),131.4(quart.×2),131.4(quart.×4),131.6(CH×2),131.7(CH×2),135.3(quart.),135.5(CH×2),136.2(quart.),136.4(quart.×2),136.6(quart.×2),139.5(quart.×2),143.5(quart.),171.9(quart.×2),172.0(quart.).
実施例−6
参考例−1
13C−NMR(CDCl3):δ31.3(CH3×3),35.2(quart.),123.0(quart.×2),125.8(CH×2),127.6(CH×2),129.0(CH×2),130.2(CH×2),131.9(CH×2),133.0(quart.),135.5(CH×2),138.2(quart.×2),156.7(quart.),170.5(quart.×2),172.0(quart.).
参考例−2
13C−NMR(CDCl3):δ122.9(quart.×2),124.9(CH),126.5(CH),127.5(CH×2),127.9(CH),128.1(CH),128.3(CH),129.7(CH),130.1(CH),130.2(CH×2),131.8(CH×2),132.8(quart.),133.0(quart.),135.4(CH×2),135.8(quart.),137.9(quart.×2),170.2(quart.×2),171.7(quart.).
参考例−3
13C−NMR(CDCl3):δ123.0(quart.×2),127.6(CH×2),128.0(quart.),130.3(CH×2),130.6(CH×2),131.9(CH×2),132.1(CH×2),134.6(quart.),135.7(CH×2),137.8(quart.×2),170.7(quart.×2),171.2(quart.).
参考例−4
試験例−1
基板には2mm幅のITO(酸化インジウム錫)膜がストライプ状にパターンされた、ITO透明電極付きガラス基板を用いた。この基板をイソプロピルアルコールで洗浄した後、オゾン紫外線洗浄にて表面処理を行った。基板を真空蒸着槽に移し、槽内を3.6×10−6Torrまで減圧した後、抵抗加熱方式により加熱した2,4−ビス[3−(9−アントリル)フェニル]−6−フェニル−1,3,5−トリアジンを3〜5Å/SECの蒸着レートで真空蒸着した。触針式膜厚測定計(DEKTAK)で測定した成膜後の膜厚は1.8μmであった。基板上のITOストライプと直行にメタルマスクを配し、Al膜(2mm幅、膜厚100nm)を真空蒸着することで、移動度測定用の2mm角の動作エリアを得た。この基板を窒素雰囲気グローブボックス内(酸素・水分濃度1ppm以下)で封止し、移動度測定用素子を得た。封止は、エポキシ型紫外線硬化樹脂(ナガセケムテックス社製)を用いた。
1,3,5−トリアジンを構成成分とする有機電界発光素子の作製と性能評価
基板には、2mm幅の酸化インジウム−スズ(ITO)膜がストライプ状にパターンされたITO透明電極付きガラス基板を用いる。この基板をイソプロピルアルコールで洗浄した後、オゾン紫外線洗浄にて表面処理を行う。洗浄後の基板に、真空蒸着法で各層の真空蒸着を行い、断面図を図1に示すような発光面積が4mm2の有機電界発光素子を作製する。まず、真空蒸着槽内に前記ガラス基板を導入し、1.0×10−4Paまで減圧する。その後、図1の1で示す前記ガラス基板上に有機化合物層として、正孔注入層2、正孔輸送層3、発光層4及び電子輸送層5を順次成膜し、その後陰極層6を成膜する。正孔注入層2としては、昇華精製したフタロシアニン銅(II)を25nmの膜厚で真空蒸着する。正孔輸送層3としては、N,N’−ジ(ナフチレン−1−イル)−N,N’−ジフェニルベンジジン(NPD)を45nmの膜厚で真空蒸着する。発光層4としては、4,4’−ビス(2,2−ジフェニルエテン−1−イル)ジフェニル(DPVBi)と4,4’−ビス[4−(ジ−p−トリルアミノ)フェニルエテン−1−イル]ビフェニル(DPAVBi)を99:1質量%の割合で40nmの膜厚で真空蒸着する。電子輸送層5としては、本発明の1,3,5−トリアジン化合物もしくは既存材料のトリス(8−キノリノラト)アルミニウム(III)(Alq)を20nmの膜厚で真空蒸着する。なお、各有機材料は抵抗加熱方式により成膜し、加熱した化合物を0.3nm/秒〜0.5nm/秒の成膜速度で真空蒸着する。最後に、ITOストライプと直行するようにメタルマスクを配し、陰極層6を成膜する。陰極層6は、フッ化リチウムとアルミニウムをそれぞれ0.5nmと100nmの膜厚で真空蒸着し、2層構造とする。それぞれの膜厚は、触針式膜厚測定計(DEKTAK)で測定することができる。さらに、この素子を酸素及び水分濃度1ppm以下の窒素雰囲気グローブボックス内で封止することができる。封止は、ガラス製の封止キャップと前記成膜基板エポキシ型紫外線硬化樹脂(ナガセケムテックス社製)を用いることができる。
2.正孔注入層
3.正孔輸送層
4.発光層
5.電子輸送層
6.陰極層
Claims (8)
- Arが、置換されていてもよいフェニル基又は置換されていてもよいナフチル基である請求項1に記載の1,3,5−トリアジン誘導体。
- Arが、フェニル基、炭素数1から4のアルキル基で置換されたフェニル基、アリール基で置換されたフェニル基、又はナフチル基である請求項1又は2のいずれかに記載の1,3,5−トリアジン誘導体。
- パラジウム触媒が、第三級ホスフィンを配位子として有するパラジウム錯体である請求項4又は5に記載の1,3,5−トリアジン誘導体の製造方法。
- 第三級ホスフィンが、トリフェニルホスフィンである請求項6に記載の1,3,5−トリアジン誘導体の製造方法。
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Applications Claiming Priority (1)
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| JP2009251667A JP5529496B2 (ja) | 2009-11-02 | 2009-11-02 | 1,3,5−トリアジン誘導体とその製造方法及びそれを含有する有機電界発光素子 |
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