JP5772593B2 - CuPd合金ナノ粒子、組成物および触媒用組成物ならびにCuPd合金ナノ粒子の製造方法 - Google Patents
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Description
[1]
結晶構造がB2型またはL12型であり、平均粒子径が1〜200nmであり、かつCuxPd(1-x)で示される(但し、B2型の場合は0.3<x<0.7であり、L12型の場合は0.7≦x≦0.98である)、CuPd合金ナノ粒子。
[2]
下記式(1)で表される規則化度が95%以上である[1]に記載のCuPd合金ナノ粒子。
(1−(m−M)/M)×100% (1)
m:CuPd合金ナノ粒子の格子定数
M:Cu原子とPd原子が規則的に配列したバルクの格子定数
[3]
[1]または[2]に記載のCuPd合金ナノ粒子と保護ポリマーとを含む組成物。
[4]
[1]〜[3]のいずれかに記載のCuPdナノ合金粒子を担体に担持した触媒用組成物。
[5]
担体は、無機化合物である[4]に記載の触媒用組成物。
[6]
触媒は、水分解水素発生反応、水分解酸素発生反応、または有機物分解反応に対するものである[5]または[6]に記載の触媒用組成物。
[7]
水または水溶液中に保護ポリマーの存在下でCuイオン及びPdイオンの分散液または溶解液を調製し、
得られた分散液または溶解液に、前記Cuイオン及びPdイオンに対する還元剤を添加して、Cuイオン及びPdイオンを還元してCuPdナノ粒子を調製する
ことを含むCuPdナノ粒子の製造方法。
[8]
前記分散液または溶解液中のCuイオンとPdイオンのモル比が0.3超:0.7未満〜0.7未満:0.3超の範囲であり、
還元温度を10℃以上とし、結晶構造がB2型であり、かつCuxPd(1-x)で示される(但し、0.3<x<0.7)CuPdナノ粒子を調製する[7]に記載の製造方法。
[9]
前記分散液または溶解液中のCuイオンとPdイオンのモル比が0.01:0.99〜0.99:0.01の範囲であり、
還元温度を10℃未満とし、結晶構造がfcc型であり、かつCuxPd(1-x)で示される(但し、0.01≦x≦0.99)CuPdナノ粒子を調製する[7]に記載の製造方法。
[10]
前記分散液または溶解液中のCuイオンとPdイオンのモル比が0.7:0.3〜0.98:0.02の範囲であり、
還元温度を10℃以上とし、結晶構造がL12型であり、かつCuxPd(1-x)で示される(但し、0.7≦x≦0.98)CuPdナノ粒子を調製する[7]に記載の製造方法。
[11]
前記還元剤が水素を含有する化合物である[8]〜[10]のいずれかに記載の製造方法。
[12]
[8]または[10]に記載の方法によりCuPdナノ粒子を製造し、製造されたCuPdナノ粒子を水素雰囲気に暴露して、結晶構造の規則性が向上したCuPdナノ粒子を得る、結晶構造の規則性が向上したCuPdナノ粒子の製造方法。
[13]
[8]または[10]に記載の方法により製造したCuPdナノ粒子の下記式(1)で表される規則化度が98%未満であり、
結晶構造の規則性が向上したCuPdナノ粒子の下記式(1)で表される規則化度が99%以上である[13]に記載の製造方法。
(1−(m−M)/M)×100% (1)
m:CuPd合金ナノ粒子の格子定数
M:Cu原子とPd原子が規則的に配列したバルクの格子定数
[14]
前記水素雰囲気への暴露処理は、0〜200℃の温度で、かつ水素圧1Pa〜10MPaで行う、[12]または[13]に記載の製造方法。
[15]
前記水素雰囲気への暴露処理は、温度が異なる多段階で行う[12]〜[14]のいずれかに記載の製造方法。
[16]
前記水素雰囲気への暴露処理は、30〜150℃の範囲の温度での第一段階と40〜250℃の範囲の温度での第二段階とからなり、かつ第一段階と第二段階の温度差が10〜100℃の範囲である[12]〜[14]のいずれかに記載の製造方法。
本発明は、CuPd合金ナノ粒子に関し、このナノ粒子は、結晶構造がB2型またはL12型であり、平均粒子径が1〜200nmであり、かつCuxPd(1-x)で示される。但し、B2型の場合は0.3<x<0.7であり、L12型の場合は0.7≦x≦0.98である。
(1−(m−M)/M)×100% (1)
m:CuPd合金ナノ粒子の格子定数
M:Cu原子とPd原子が規則的に配列したバルクの格子定数
L=2×(a×x+b×(1-x))/√3
作製したばかりのB2型AxB(1-x)合金ナノ粒子の格子定数mはA原子とB原子が規則的に配列したバルクの格子定数M(Mは上記式により算出された推定値Lに等しい)よりは大きい。後述のように水素処理によって、金属原子間の相互作用を強め、AxB(1-x)合金ナノ粒子の格子定数をmより減少させ、Mと同程度にすることが出来る。
(1-(3.036-2.99)/2.99)×100=98.5%
であったが、水素処理によって、100%とすることが出来た。
CuPdナノ粒子の格子定数は、図3または図6に示すような、粉末X線回折パターンをリートベルト法などによって解析することで求めることができる。
本発明は、上記本発明のCuPd合金ナノ粒子と保護ポリマーとを含む組成物に関する。本発明のCuPd合金ナノ粒子は、平均粒子径は1〜200nmであり、最も好ましい場合には、平均粒子径は1〜5nmの範囲である。そのためこの粒子径を維持するために、各ナノ粒子を凝集等から保護する手段を用いることが好ましい。本発明では、そのための手段として保護ポリマーを用いる。
本発明は、上記本発明のCuPdナノ合金粒子を担体に担持した触媒用組成物にも関する。
本発明は、CuPdナノ粒子の製造方法に関する。
本発明の製造方法は、
水または水溶液中に保護ポリマーの存在下でCuイオン及びPdイオンの分散液または溶解液を調製する工程、及び
得られた分散液または溶解液に、前記Cuイオン及びPdイオンに対する還元剤を添加して、Cuイオン及びPdイオンを還元してCuPdナノ粒子を調製する工程を含むものである。
Cuイオン源としては、銅を含有する化合物を用いることができ、水または水溶液に対する溶解性に優れたものであることが適当である。そのような化合物としては、例えば、酢酸銅、塩化銅、硫酸銅、塩化銅、硝酸銅およびそれらの水和物などの無機銅含有化合物、さらには、Cuを含む錯体を挙げることができる。
上記工程で得られた分散液または溶解液に、前記Cuイオン及びPdイオンに対する還元剤を添加する。還元剤としては、標準還元電位が室温における水素(0eV)よりも負である化合物を用いることが、Cuイオン及びPdイオンを金属に還元する力が強いという観点から適当である。そのような還元剤としては、例えば、MBH4,MEt3BH(M=Na, K), 水素化シアノホウ素ナトリウム NaBH3CN、水素化ホウ素リチウム LiBH4、水素化トリエチルホウ素リチウム LiBHEt3、ボラン錯体 BH3・L、トリエチルシラン Et3SiH、水素化ビス(2-メトキシエトキシ)アルミニウムナトリウム (Sodium Bis(2-methoxyethoxy)Alminium Hydride; Red-Al)などを挙げることができる。但し、これらの還元剤の中には、水と爆発的に反応して危険であるため水溶液中で使用できないものもあるので注意を要する。その場合は、溶媒として水以外の溶媒(例えば、テトラヒドロフラン、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキサイド等のアプロトニックな極性溶媒)を使用することが適当である。
本発明は、上記方法により結晶構造がB2型またはL12型であるCuPdナノ粒子を製造し、製造されたCuPdナノ粒子を水素雰囲気に暴露して、結晶構造の規則性が向上したCuPdナノ粒子を得る、結晶構造の規則性が向上したCuPdナノ粒子の製造方法を包含する。
(1−(m−M)/M)×100% (1)
m:CuPd合金ナノ粒子の格子定数
M:Cu原子とPd原子が規則的に配列したバルクの格子定数
・不規則fcc型CuPdナノ粒子の合成
7.5×10-4molの酢酸銅を100mlのイオン交換水、7.5×10-4molの酢酸パラジウムを50mlのアセトンに溶解した。これらの溶液と1.5×10-1molのポリ[N-ビニル-2-ピロリドン](NW=48000)を混合し、イオン交換水を加えて300mlの溶液を作製し、0℃に冷却した。100mlのイオン交換水に溶解した7.5×10-3mol のNaBH4を一度に加えると黒褐色のコロイド溶液が得られた。30分間撹拌した後、アセトン、水、ジエチルエーテルを用いた再沈殿を3回繰り返して、溶媒、および副生成物の無機化合物を取り除いて、CuPdナノ粒子を得た。このCuPdナノ粒子を元素分析した結果、金属(銅及びパラジウム)の含有率は11.7質量%であり、残りは、ポリ[N-ビニル-2-ピロリドン]であった。尚、上記金属の銅とパラジウムの内訳はICP発光分析から、原料の組成からモル比(原子比)で50:50であると決定した。
上記で得られたCuPdナノ粒子をステンレス製の容器に入れ、ステンレス製の真空ラインと接続した。試料を室温で30分以上、373Kで30分以上加熱・脱気したのち、0.1 MPaの水素圧力を印加して3時間保持するか、または2MPaの水素圧力を印加して6時間保持した。保持後、温度を一定のままで水素を30分程度排気し、常温まで放冷した。
・規則B2型CuPdナノ粒子の合成
7.5×10-4molの酢酸銅を100mlのイオン交換水、7.5×10-4molの酢酸パラジウムを50mlのアセトンに溶解した。これらの溶液と1.5×10-1molのポリ[N-ビニル-2-ピロリドン](NW=48000)を混合し、イオン交換水を加えて300mlの溶液を作製し、30℃に加熱した。100mlのイオン交換水に溶解した7.5×10-3molのNaBH4を一度に加えると黒褐色のコロイド溶液が得られる。50分間撹拌した後、アセトン、水、ジエチルエーテルを用いた再沈殿を3回繰り返して、溶媒、および副生成物の無機化合物を取り除いた。このCuPdナノ粒子を元素分析した結果、金属(銅及びパラジウム)の含有率は18.6質量%であり、残りは、ポリ[N-ビニル-2-ピロリドン]であった。尚、上記金属の銅とパラジウムの内訳は、ICP発光分析からモル比(原子比)で52:48であると決定した。
上記で得られたCuPdナノ粒子をステンレス製の容器に入れ、ステンレス製の真空ラインと接続した。試料を室温で30分以上、373Kで30分以上加熱・脱気したのち、0.1 MPaの水素圧力を印加して3時間保持するか、または2MPaの水素圧力を印加して6時間保持した。保持後、温度を一定のままで水素を30分程度排気し、常温まで放冷した。
上記で得られたCuPdナノ粒子をステンレス製の容器に入れ、ステンレス製の真空ラインと接続した。試料を室温で30分以上、373Kで30分以上加熱・脱気したのち、373Kにて2 MPaの水素圧力を印加して240時間保持したのちに、引き続き423Kまで昇温し2MPaの水素圧力を印加して24時間保持した。保持後、温度を一定のままで水素を30分程度排気し、常温まで放冷した。
(1)透過型電子顕微鏡観察
実施例1及び2で得られた還元後のCuPdナノ粒子をJEM-2000FXにて観察を行った。結果を図2に示す。得られた写真(上図)のうち200個の粒子から平均粒子径を見積もって下図に示す。CuPd(0℃)が実施例1の結果であり、CuPd(30℃)が実施例2の結果である。
実施例1及び2で得られた還元後のCuPdナノ粒子をRINT-2000/PCによりCu Kαの波長で回折測定に付した。結果を図3に示す。CuPd(0℃)が実施例1の結果であり、CuPd(30℃)が実施例2の結果である。
実施例2で合成した(水素処理前の)CuPdナノ粒子の規則化度と水素処理(1)(373 Kにて水素0.1MPa加圧)後のCuPdナノ粒子の規則化度を、図6に示すH2加圧In-situ粉末X線回折パターンからCuPdナノ粒子の格子定数をリートベルト法などによって解析することで求めて、算出した。水素処理前のCuPdナノ粒子の格子定数mは3.036であり、水素処理後のCuPdナノ粒子の格子定数mは2.99であった。その結果、水素処理前のCuPdナノ粒子の規則化度は、(1-(3.036-2.99)/2.99)×100=98.5%であったのに対して、水素処理(1)後のCuPdナノ粒子の規則化度は、(1-(2.99-2.99)/2.99)×100=100%であった。水素処理(2)後のCuPdナノ粒子の規則化度は、(1-(2.97-2.99)/2.99)×100=101%であった。規則化度が100%以上となるのは、表面エネルギーを低下するために格子が圧縮されるという直径がナノメートル領域の粒子にみられるナノサイズ効果により起こる現象である。
水分解水素発生に対する活性試験
実施例2で得られた合金粒子1mg(総金属量)を含む試料を20mlのイオン交換水に溶解し、超音波処理を15分おこなった。合金ナノ粒子水溶液に1gのTiO2 (P25)粉末を加え、更に15分超音波処理を行った。得られた懸濁液を濾過してCuPdナノ粒子担持TiO2触媒を作製した。参照試料として直径6.3±1.0nmのPdナノ粒子を担持したTiO2を作製した。
上記で得られた100mgの担持触媒(実施例2で得た規則B2型CuPd合金ナノ粒子(水素処理(1)前及び後)担持触媒及びPdナノ粒子担持触媒)に10vol.%のメタノール水溶液を加え、250mlの反応溶液を調製した。この溶液を幕張理化学製の閉鎖循環装置に設置し、キセノンランプ照射後に発生する水素量を島津社製ガスクロマトグラフGC-8Aにて定量した。結果を図7に示す。図7には、光水分解反応の触媒として用いられるPd担持触媒の結果も参考として記載する。
実施例1及び2で得られた試料(いずれも2MPa水素、373K、6時間水素処理(1)品)を一気圧の一酸化炭素下に30分間放置して一酸化炭素による被毒を行った。結果を図8に示す。
Claims (11)
- 結晶構造がB2型であり、平均粒子径が1〜200nmであり、CuxPd(1−x)で示され(但し、0.4<x<0.6)、下記式(1)で表される規則化度が99%以上であるCuPd合金ナノ粒子。
(1−(m−M)/M)×100%(1)
m:CuPd合金ナノ粒子の格子定数
M:Cu原子とPd原子が規則的に配列したバルクの格子定数 - 請求項1に記載のCuPd合金ナノ粒子と保護ポリマーとを含む組成物。
- 請求項1に記載のCuPd合金ナノ粒子を担体に担持した触媒用組成物。
- 担体は、無機化合物である請求項3に記載の触媒用組成物。
- 触媒は、水分解水素発生反応、水分解酸素発生反応、または有機物分解反応に対するものである請求項3または4に記載の触媒用組成物。
- 水または水溶液中に保護ポリマーの存在下でCuイオン及びPdイオンの分散液または溶解液を調製し、
得られた分散液または溶解液に、前記Cuイオン及びPdイオンに対する還元剤を添加して、Cuイオン及びPdイオンを還元してCuPd合金ナノ粒子を調製し、
前記CuPd合金ナノ粒子を水素雰囲気に暴露する、
ことを含む、請求項1に記載のCuPd合金ナノ粒子の製造方法であって、
前記還元剤が、MBH4(M=Na、K)、MEt3BH(M=Na、K)、水素化シアノホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化トリエチルホウ素リチウム、ボラン錯体、トリエチルシラン及び水素化ビス(2−メトキシエトキシ)アルミニウムナトリウムからなる群より選ばれる少なくとも1種である、CuPd合金ナノ粒子の製造方法。 - 前記分散液または溶解液中のCuイオンとPdイオンのモル比が0.4超:0.6未満〜0.6未満:0.4超の範囲であり、
還元温度を10℃以上とし、結晶構造がB2型であり、かつCuxPd(1−x)で示される(但し、0.4<x<0.6)CuPd合金ナノ粒子を調製する請求項6に記載の製造方法。 - 前記水素雰囲気への暴露処理前におけるCuPd合金ナノ粒子の下記式(1)で表される規則化度が99%未満であり、
前記水素雰囲気に暴露して、結晶構造の規則性が向上したCuPd合金ナノ粒子の下記式(1)で表される規則化度が99%以上である請求項6または7に記載の製造方法。
(1−(m−M)/M)×100%(1)
m:CuPd合金ナノ粒子の格子定数
M:Cu原子とPd原子が規則的に配列したバルクの格子定数 - 前記水素雰囲気への暴露処理は、0〜200℃の温度で、かつ水素圧1Pa〜10MPaで行う、請求項8に記載の製造方法。
- 前記水素雰囲気への暴露処理は、温度が異なる多段階で行う請求項8または9に記載の製造方法。
- 前記水素雰囲気への暴露処理は、30〜150℃の範囲の温度での第一段階と40〜250℃の範囲の温度での第二段階とからなり、かつ第一段階と第二段階の温度差が10〜100℃の範囲である請求項8〜10のいずれか一項に記載の製造方法。
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