JP5778884B2 - 樹脂組成物、ペンタエリスリトール誘導体組成物およびその製造方法 - Google Patents

樹脂組成物、ペンタエリスリトール誘導体組成物およびその製造方法 Download PDF

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Description

本発明は、繰り返し構造単位の少なくとも一部に脂環族構造を有する重合体とペンタエリスリトール誘導体組成物とからなる樹脂組成物に関する。
環状ポリオレフィン樹脂は透明性に優れ、高温条件下での使用に耐えうるため、種々の光学部品として広く使用されている。しかしながら、環状ポリオレフィン樹脂から得られる成形物は、高温高湿下で使用した場合、樹脂が白化することがあった。
このような課題を解決するものとして、特許文献1にはグリセリンと脂肪酸のエステルを配合することが記載されている。また、特許文献2には、ペンタエリスリトールジステアレートを配合することが記載されている。
しかし、より高度な光学性能が要求される光学部品に、これらの添加剤が配合された樹脂組成物を使用する場合、初期の光学性能が充分でない場合があった。また高温多湿時の光学性能の劣化をヘイズや外観により判断しているにすぎず、初期特性を満足した場合でも、高温多湿試験後における短波長側での分光光線透過率低下や、僅かな収差変化が光学機器の性能に影響することがあった。
特開2003-238774号 特開平9−19494号
本発明の課題は、光学性能に優れ、さらに高温高湿時における光学性能の劣化が抑制された透明熱可塑性成形物を得ることができる樹脂組成物、樹脂組成物に添加されるペンタエリスリトール誘導体組成物およびその製造方法を提供することにある。
本発明は上記課題を解決すべく、検討の結果、繰り返し構造単位の少なくとも一部に脂環族構造を有する重合体に対するペンタエリスリトール誘導体組成物の添加量、およびペンタエリスリトール誘導体組成物の構造および組成比に最適な範囲があることを見出し、本発明に至った。
すなわち、本発明は以下に示される。
[1]下記一般式;
Figure 0005778884
(式中、x,yは共重合比を示し、0/100≦y/x≦95/5を満たす実数である)で表される、エチレンとテトラシクロ[4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ]-3-ドデセンとの共重合体またはその水素添加物、または8−エチルテトラシクロ[4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ]−ドデカ−3−エンの開環重合体の水素添加物である重合体100質量部に対し、
ペンタエリスリトール、ペンタエリスリトールの脂肪酸モノエステル、ペンタエリスリトールの脂肪酸ジエステル、ペンタエリスリトールの脂肪酸トリエステル、およびペンタエリスリトールの脂肪酸テトラエステルを含むペンタエリスリトール誘導体組成物を1.0質量部以上3.0質量部以下含み、
前記脂肪酸モノエステル、前記脂肪酸ジエステル、前記脂肪酸トリエステル、および前記脂肪酸テトラエステルを構成する脂肪酸が、ステアリン酸又はパルミチン酸であり、
前記ペンタエリスリトール誘導体組成物の組成が、式(a)および(b);
0.2% ≦ [A0] ≦ 2% (a)
60% ≦ A+A ≦ 80% (b)
(但し、式(a)中、[A]は、ガスクロマトグラフィー法において定量された、前記ペンタエリスリトールの、前記ペンタエリスリトール誘導体組成物中の含有質量%を示す。なお、式(a)において、前記ペンタエリスリトール、前記脂肪酸モノエステル、前記脂肪酸ジエステル、前記脂肪酸トリエステル、および前記脂肪酸テトラエステルの合計質量を100質量%とする。
また、式(b)中、Aは、前記脂肪酸モノエステルのゲル浸透クロマトグラフ(GPC)法における、下記条件で測定されたピーク面積%を示し、Aは、前記脂肪酸ジエステルのGPC法における、下記条件で測定されたピーク面積%を示す。なお、式(b)において、前記ペンタエリスリトール、前記脂肪酸モノエステル、前記脂肪酸ジエステル、前記脂肪酸トリエステル、および前記脂肪酸テトラエステルの各々のピークの合計面積をピーク面積100%とする。)
を満たすことを特徴とする樹脂組成物。
測定機器:HLC−8220GPC(東ソー社製)
カラム:G2000HXL+G1000HXL
溶媒:THF
流量:1.0mL/min
カラム温度:40℃
サンプル濃度:0.3%
注入量:100μL
検出感度:0.100mV/分
検出器:RI
標準物質:ポリスチレン(東ソー社製、Mw=526、2630、10200)
[2]前記式(a)は以下のように表されることを特徴とする[1]に記載の樹脂組成物;
0.2% ≦ [A0] ≦ 1% (a)
(式(a)中、[A]は前記と同義である。)。
ペンタエリスリトール、ペンタエリスリトールの脂肪酸モノエステル、ペンタエリスリトールの脂肪酸ジエステル、ペンタエリスリトールの脂肪酸トリエステル、およびペンタエリスリトールの脂肪酸テトラエステルを含み、これらのエステルを構成する脂肪酸が、ステアリン酸又はパルミチン酸である、ペンタエリスリトール誘導体組成物であって、
該誘導体組成物の組成が式(a)および(b)を満たし、かつエチレンとテトラシクロ[4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ]-3-ドデセンとの共重合体またはその水素添加物、または8−エチルテトラシクロ[4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ]−ドデカ−3−エンの開環重合体の水素添加物から選択される重合体用添加剤として用いられることを特徴とするペンタエリスリトール誘導体組成物。
0.2% ≦ [A0] ≦ 2% (a)
60% ≦ A+A ≦ 80% (b)
(但し、式(a)中、[A]は、ガスクロマトグラフィー法において定量された、前記ペンタエリスリトールの、前記ペンタエリスリトール誘導体組成物中の含有質量%を示す。なお、式(a)において、前記ペンタエリスリトール、前記脂肪酸モノエステル、前記脂肪酸ジエステル、前記脂肪酸トリエステル、および前記脂肪酸テトラエステルの合計質量を100質量%とする。
また、式(b)中、Aは、前記脂肪酸モノエステルのゲル浸透クロマトグラフ(GPC)法における、下記条件で測定されたピーク面積%を示し、Aは、前記脂肪酸ジエステルのGPC法における、下記条件で測定されたピーク面積%を示す。なお、式(b)において、前記ペンタエリスリトール、前記脂肪酸モノエステル、前記脂肪酸ジエステル、前記脂肪酸トリエステル、および前記脂肪酸テトラエステルの各々のピークの合計面積をピーク面積100%とする。)
測定機器:HLC−8220GPC(東ソー社製)
カラム:G2000HXL+G1000HXL
溶媒:THF
流量:1.0mL/min
カラム温度:40℃
サンプル濃度:0.3%
注入量:100μL
検出感度:0.100mV/分
検出器:RI
標準物質:ポリスチレン(東ソー社製、Mw=526、2630、10200)
]前記式(a)は以下のように表されることを特徴とする[]に記載のペンタエリスリトール誘導体組成物;
0.2% ≦ [A0] ≦ 1% (a)
(式(a)中、[A]は前記と同義である。)。
]ペンタエリスリトール 1モルに対し、炭素原子数12乃至22の脂肪酸を1.0モル以上1.7モル以下の量で反応させてペンタエリスリトールをエステル化する工程と、
前記工程において得られたエステル化物を濾過する工程と、を含むことを特徴とする[]または[]に記載のペンタエリスリトール誘導体組成物の製造方法。
]ペンタエリスリトールをエステル化する前記工程において、
ナトリウム含有量が100ppm以下のペンタエリスリトールを用いることを特徴とする[]に記載のペンタエリスリトール誘導体組成物の製造方法。
本発明の樹脂組成物は、透明部品の成形原料として最適であり、光学性能に優れ、さらに高温高湿時における光学性能の劣化が抑制された透明熱可塑性成形物を得ることができる。さらに、本発明のペンタエリスリトール誘導体組成物を、繰り返し構造単位の少なくとも一部に脂環族構造を有する重合体用添加剤として用いることにより、得られる樹脂組成物は上記の効果を得ることができる。
(繰り返し構造単位の少なくとも一部に脂環族構造を有する重合体)
本発明の繰り返し構造単位の少なくとも一部に脂環族構造を有する重合体(以下、単に「脂環族構造を有する重合体」ともいう)は、重合体の繰り返し単位の少なくとも一部に脂環族構造を有するものであればよく、具体的には一般式(2)で表される1種ないし2種以上の構造を有する重合体を含むことが好ましい。
Figure 0005778884
式(2)中、x,yは共重合比を示し、0/100≦y/x≦95/5を満たす実数である。x,yはモル基準である。
nは置換基Qの置換数を示し、0≦n≦2の実数であり、好ましくは0である。
は、炭素原子数2〜20、好ましくは2〜12の炭化水素基よりなる群から選ばれる2+n価の基である。
は、水素原子、又は、炭素原子数1〜28の炭化水素基よりなる群から選ばれる1価の基である。
は、炭素原子数2〜10、好ましくは2〜5の炭化水素基よりなる群から選ばれる4価の基である。
Qは、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基または−COORである。Rは、水素原子、又は炭素原子数1〜10の炭化水素基よりなる群から選ばれる1価の基である。好ましくは、水素原子、又は炭素原子数1〜3の炭化水素基である。
なお、R、R、RおよびQは、それぞれ1種であってもよく、2種以上を任意の割合で有していてもよい。
また前記一般式(2)において、Rは、好ましくは、炭素原子数2〜12の炭化水素基から選ばれる1種ないし2種以上の2価の基であり、さらに好ましくはn=0の場合、一般式(3)で表される2価の基であり、最も好ましくは、下記一般式(3)において、pが0または1である2価の基である。Rの構造は1種のみ用いても、2種以上を併用しても構わない。
Figure 0005778884
ここで、式(3)中、pは、0〜2の整数である。
また、前記一般式(2)において、Rの例としては水素原子、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、2−メチルプロピル基等が挙げられるが、好ましくは、水素原子および/またはメチル基であり、最も好ましくは水素原子である。
また、前記一般式(2)において、n=0の場合の以下の一般式
Figure 0005778884
で表される2価の基としては、以下の一般式(4)〜(6)などで表される基が挙げられる。
Figure 0005778884
式(4)〜式(6)中、Rは前述の通り。
また、重合のタイプは本発明において全く制限されるものではなく、付加重合、開環重合等の公知の様々な重合タイプを適用することができる。付加重合としては、ランダムコポリマー、ブロックコポリマー、交互共重合等を挙げることができる。本発明においては、光学性能の劣化を抑制する観点からランダム共重合体を用いることが好ましい。
主たる成分として用いられる樹脂の構造が上記のものであると、透明性、屈折率および複屈折率等の光学物性に優れ、高精度の光学部品を得ることができる。
(繰り返し構造単位の少なくとも一部に脂環族構造を有する重合体の例示)
前記一般式(2)で表される重合体を大きくわけると、以下の(i)〜(iv)の4種の重合体に大別される。
(i)エチレンまたはα−オレフィンと環状オレフィンとの共重合体
(ii)開環重合体またはその水素添加物
(iii)ビニル脂環式炭化水素系重合体
(iv)その他の重合体
以下、順に説明する。
((i)エチレンまたはα−オレフィンと環状オレフィンとの共重合体)
(i)エチレンまたはα−オレフィンと環状オレフィンとの共重合体は、一般式(7)で表現される環状オレフィン系共重合体である。例えば、エチレンまたは炭素原子数が3〜30の直鎖状または分岐状のα−オレフィン由来の構成単位(A)と、環状オレフィン由来の構成単位(B)とからなる。
Figure 0005778884
式(7)中、Rは、炭素原子数2〜20、好ましくは2〜12の炭化水素基よりなる群から選ばれる2価の基である。
は、水素原子、又は炭素原子数1〜28、好ましくは1〜10、より好ましくは1〜5の炭化水素基よりなる群から選ばれる1価の基である。
なお、RおよびRは、それぞれ1種であってもよく、2種以上を任意の割合で有していてもよい。
x,yは共重合比を示し、5/95≦y/x≦95/5を満たす実数である。好ましくは50/50≦y/x≦95/5、さらに好ましくは、55/45≦y/x≦80/20である。x,yはモル基準である。
(エチレンまたはα−オレフィン由来の構成単位(A))
エチレンまたはα−オレフィン由来の構成単位(A)は、下記のようなエチレン、または炭素原子数が3〜30の直鎖状または分岐状のα−オレフィン由来の構成単位である。
具体的には、エチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、3−メチル−1−ブテン、3−メチル−1−ペンテン、3−エチル−1−ペンテン、4−メチル−1−ペンテン、4−メチル−1−ヘキセン、4,4−ジメチル−1−ヘキセン、4,4−ジメチル−1−ペンテン、4−エチル−1−ヘキセン、3−エチル−1−ヘキセン、1−オクテン、1−デセン、1−ドデセン、1−テトラデセン、1−ヘキサデセン、1−オクタデセン、1−エイコセンなどが挙げられる。これらのなかでは、エチレンが好ましい。これらのエチレンまたはα−オレフィン由来の構成単位は、本発明の効果を損なわない範囲で2種以上含まれていてもよい。
(環状オレフィン由来の構成単位(B))
環状オレフィン由来の構成単位(B)は、下記一般式(8)、一般式(9)および一般式(10)で表される環状オレフィン由来の構成単位よりなる群から選ばれる少なくとも1種からなる。
一般式(8)で表される環状オレフィンは、以下の構造を有するものである。
Figure 0005778884
式(8)中、uは0または1であり、vは0または正の整数であり、wは0または1である。なお、wが1の場合には、wを用いて表される環は6員環となり、wが0の場合には、この環は5員環となる。R61〜R78ならびにRa1およびRb1は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子または炭化水素基である。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子である。また炭化水素基としては、通常、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数1〜20のハロゲン化アルキル基、炭素原子数3〜15のシクロアルキル基または芳香族炭化水素基が挙げられる。
より具体的には、アルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、アミル、ヘキシル、オクチル、デシル、ドデシル、オクタデシルなどが挙げられる。ハロゲン化アルキル基としては、上記炭素原子数1〜20のアルキル基に1個または複数のハロゲン原子が置換した基が挙げられる。またシクロアルキル基としては、シクロヘキシルなどが挙げられ、芳香族炭化水素基としてはフェニル、ナフチルなどが挙げられる。
さらに上記一般式(8)において、R75とR76とが、R77とR78とが、R75とR77とが、R76とR78とが、R75とR78とが、またはR76とR77とがそれぞれ結合して、すなわち互いに共同して、単環または多環の基を形成していてもよい。さらに、このようにして形成された単環または多環が二重結合を有していてもよい。単環よりも多環のほうが少ない含有量で高いガラス転移温度(Tg)の共重合体を得られるので、耐熱性の面から多環が好ましい。またさらに、少ない環状オレフィン仕込み量で製造できる利点がある。ここで形成される単環または多環の基としては、具体的に以下のようなものが挙げられる。
Figure 0005778884
上記例示において、1または2の番号を付した炭素原子は、上記一般式(8)においてそれぞれR75(R76)またはR77(R78)が結合している炭素原子を表す。
75とR76とで、またはR77とR78とでアルキリデン基を形成していてもよい。このアルキリデン基は、通常は炭素原子数2〜20である。アルキリデン基の具体的な例としては、エチリデン、プロピリデン、イソプロピリデンなどが挙げられる。
一般式(9)で表される環状オレフィンは、以下の構造を有するものである。
Figure 0005778884
式(9)中、xおよびdは0または1以上の正の整数であり、yおよびzは0、1または2である。また、R81〜R99は、お互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基またはアルコキシ基であり、R89およびR90が結合している炭素原子と、R93が結合している炭素原子またはR91が結合している炭素原子とは、直接あるいは炭素原子数1〜3のアルキレン基を介して結合していてもよい。またy=z=0のとき、R95とR92またはR95とR99とは互いに結合して単環または多環の芳香族環を形成していてもよい。
ハロゲン原子としては、上記式(8)中のハロゲン原子と同じものを例示することができる。
脂肪族炭化水素基としては、炭素原子数1〜20のアルキル基または炭素原子数3〜15のシクロアルキル基が挙げられる。より具体的には、アルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、アミル、ヘキシル、オクチル、デシル、ドデシル、オクタデシルなどが挙げられる。シクロアルキル基としては、シクロヘキシルなどが挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、アリール基、アラルキル基などが挙げられ、具体的には、フェニル、トリル、ナフチル、ベンジル、フェニルエチルなどが挙げられる。
アルコキシ基としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシなどが挙げられる。ここで、R89およびR90が結合している炭素原子と、R93が結合している炭素原子またはR91が結合している炭素原子とは、直接または炭素原子数1〜3のアルキレン基を介して結合していてもよい。すなわち、上記二個の炭素原子がアルキレン基を介して結合している場合には、R89とR93とが、または、R90とR91とが互いに共同して、メチレン基(−CH−)、エチレン基(−CHCH−)またはプロピレン基(−CHCHCH−)の内のいずれかのアルキレン基を形成している。
さらに、y=z=0のとき、R95とR92またはR95とR99とは互いに結合して単環または多環の芳香族環を形成していてもよい。具体的には、y=z=0のとき、R95とR92とにより形成される以下のような芳香族環が挙げられる。単環よりも多環のほうが少ない含有量で高いガラス転移温度(Tg)の共重合体を得られるので、耐熱性の面から多環が好ましい。またさらに、少ない環状オレフィン仕込み量で製造できる利点がある。
Figure 0005778884
lは上記一般式(9)におけるdと同じである。
一般式(10)で表される環状オレフィンは、以下の構造を有するものである。
Figure 0005778884
式(10)中、R100とR101は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子または炭素原子数1〜5の炭化水素基であり、またfは1≦f≦18である。炭素原子数1〜5の炭化水素基としては好ましくはアルキル基、ハロゲン化アルキル基またはシクロアルキル基を挙げることができる。これらの具体例は上記式(8)のR61〜R78の具体例から明らかである。
上記のような一般式(8)、(9)または(10)で表される環状オレフィン由来の構成単位(B)として、具体的には、ビシクロ−2−ヘプテン誘導体(ビシクロヘプト−2−エン誘導体)、トリシクロ−3−デセン誘導体、トリシクロ−3−ウンデセン誘導体、テトラシクロ−3−ドデセン誘導体、ペンタシクロ−4−ペンタデセン誘導体、ペンタシクロペンタデカジエン誘導体、ペンタシクロ−3−ペンタデセン誘導体、ペンタシクロ−4−ヘキサデセン誘導体、ペンタシクロ−3−ヘキサデセン誘導体、ヘキサシクロ−4−ヘプタデセン誘導体、ヘプタシクロ−5−エイコセン誘導体、ヘプタシクロ−4−エイコセン誘導体、ヘプタシクロ−5−ヘンエイコセン誘導体、オクタシクロ−5−ドコセン誘導体、ノナシクロ−5−ペンタコセン誘導体、ノナシクロ−6−ヘキサコセン誘導体、シクロペンタジエン−アセナフチレン付加物の誘導体、1,4−メタノ−1,4,4a,9a−テトラヒドロフルオレン誘導体、1,4−メタノ−1,4,4a,5,10,10a−ヘキサヒドロアントラセン誘導体、炭素原子数3〜20のシクロアルキレン誘導体などが挙げられる。
また上記の一般式(8)、(9)または(10)で表わされる環状オレフィン由来の構成単位(B)の中で、テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン誘導体、ヘキサシクロ[6.6.1.13,6.110,13.02,709,14]−4−ヘプタデセン誘導体、および次の構造で表される化合物の誘導体が好ましい態様として例示される。
5-フェニル-ビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン
Figure 0005778884
5-メチル-5-フェニル-ビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン
Figure 0005778884
5-トリル-ビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン
Figure 0005778884
5-(エチルフェニル)-ビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン
Figure 0005778884
5-(イソプロピルフェニル)-ビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン
Figure 0005778884
5-(α-ナフチル)-ビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン
Figure 0005778884
5-(ビフェニル)-ビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン
Figure 0005778884
5,6-(ジフェニル)-ビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン
Figure 0005778884
1,4-メタノ-1,4,4a,9a-テトラヒドロフルオレン
Figure 0005778884
1,4-メタノ-1,4,4a,5,10,10a-ヘキサヒドロアントラセン
Figure 0005778884
シクロペンタジエン−アセナフチレン付加物
Figure 0005778884
シクロペンタジエン−ベンザイン付加物
Figure 0005778884
ベンゾノルボルナジエン誘導体
Figure 0005778884
また、特に好ましくは、環状オレフィンが、テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン、1,4-メタノ-1,4,4a,9a-テトラヒドロフルオレン、シクロペンタジエン−ベンザイン付加物およびシクロペンタジエン−アセナフチレン付加物からなる群から選ばれるものであり、もっとも好ましくは、テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセンである。
上記のような一般式(8)または(9)で表される環状オレフィンは、シクロペンタジエンと対応する構造を有するオレフィン類とをディールス・アルダー反応させることによって製造することができる。これらの一般式(8)、(9)または(10)で表される環状オレフィン由来の構成単位(B)は、2種以上含まれていてもよい。また、上記モノマーを用いて重合したものは必要に応じて変成することができ、その場合にモノマー由来の構造単位の構造を変化させることができる。たとえば水素添加処理によって、条件によりモノマー由来の構造単位中のベンゼン環等をシクロヘキシル環とすることができる。
本発明において、「(i)エチレンまたはα−オレフィンと環状オレフィンとの共重合体」としては、エチレンと、テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセンとからなる共重合体であることが好ましい。
また、共重合のタイプは本発明において全く制限されるものではなく、ランダムコポリマー、ブロックコポリマー、交互共重合等、公知の様々な共重合タイプを適用することができるが、好ましくはランダムコポリマーである。
((ii)開環重合体またはその水素添加物)
(ii)開環重合体またはその水素添加物とは、前記一般式(2)における好ましい例として挙げた構造のうち、一般式(5)で表わされる構成単位を含む環式オレフィン重合体である。
また、環式オレフィン重合体は、極性基を有するものであってもよい。極性基としては、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシ基、エポキシ基、グリシジル基、オキシカルボニル基、カルボニル基、アミノ基、エステル基などが挙げられる。
環式オレフィン重合体は、通常、環式オレフィンを重合することによって、具体的には、脂環式オレフィンを開環重合することによって得られる。また、極性基を有する環式オレフィン重合体は、例えば、前記環式オレフィン重合体に極性基を有する化合物を変性反応により導入することによって、あるいは極性基を含有する単量体を共重合成分として共重合することによって得られる。
環式オレフィン重合体を得るために使用される脂環式オレフィンとして具体的には、
ビシクロ〔2.2.1〕−ヘプト−2−エン(慣用名:ノルボルネン)、5−メチル−ビシクロ〔2.2.1〕−ヘプト−2−エン、5,5−ジメチル−ビシクロ〔2.2.1〕−ヘプト−2−エン、5−エチル−ビシクロ〔2.2.1〕−ヘプト−2−エン、5−ブチル−ビシクロ〔2.2.1〕−ヘプト−2−エン、5−ヘキシル−ビシクロ〔2.2.1〕−ヘプト−2−エン、5−オクチル−ビシクロ〔2.2.1〕−ヘプト−2−エン、5−オクタデシル−ビシクロ〔2.2.1〕−ヘプト−2−エン、5−エチリデン−ビシクロ〔2.2.1〕−ヘプト−2−エン、5−メチリデン−ビシクロ〔2.2.1〕−ヘプト−2−エン、5−ビニル−ビシクロ〔2.2.1〕−ヘプト−2−エン、5−プロペニル−ビシクロ〔2.2.1〕−ヘプト−2−エン、5−メトキシ−カルビニル−ビシクロ〔2.2.1〕−ヘプト−2−エン、5−シアノ−ビシクロ〔2.2.1〕−ヘプト−2−エン、5−メチル−5−メトキシカルボニル−ビシクロ〔2.2.1〕−ヘプト−2−エン、5−エトキシカルボニル−ビシクロ〔2.2.1〕−ヘプト−2−エン、ビシクロ〔2.2.1〕−ヘプト−5−エニル−2−メチルプロピオネイト、ビシクロ〔2.2.1〕−ヘプト−5−エニル−2−メチルオクタネイト、ビシクロ〔2.2.1〕−ヘプト−2−エン−5,6−ジカルボン酸無水物、5−ヒドロキシメチルビシクロ〔2.2.1〕−ヘプト−2−エン、5,6−ジ(ヒドロキシメチル)−ビシクロ〔2.2.1〕−ヘプト−2−エン、5−ヒドロキシ−i−プロピルビシクロ〔2.2.1〕−ヘプト−2−エン、5,6−ジカルボキシ−ビシクロ〔2.2.1〕−ヘプト−2−エン、ビシクロ〔2.2.1〕−ヘプト−2−エン−5,6−ジカルボン酸イミド、5−シクロペンチル−ビシクロ〔2.2.1〕−ヘプト−2−エン、5−シクロヘキシル−ビシクロ〔2.2.1〕−ヘプト−2−エン、5−シクロヘキセニル−ビシクロ〔2.2.1〕−ヘプト−2−エン、5−フェニル−ビシクロ〔2.2.1〕−ヘプト−2−エン、トリシクロ〔4.3.0.12,5〕デカ−3,7−ジエン(慣用名:ジシクロペンタジエン)、トリシクロ〔4.3.0.12,5〕デカ−3−エン、トリシクロ〔4.4.0.12,5〕ウンデカ−3,7−ジエン、トリシクロ〔4.4.0.12,5〕ウンデカ−3,8−ジエン、トリシクロ〔4.4.0.12,5〕ウンデカ−3−エン、テトラシクロ〔7.4.0.110,13.02,7〕−トリデカ−2,4,6−11−テトラエン(別名:1,4−メタノ−1,4,4a,9a−テトラヒドロフルオレン)、テトラシクロ〔8.4.0.111,14.03,8〕−テトラデカ−3,5,7,12−11−テトラエン(別名:1,4−メタノ−1,4,4a,5,10,10a−ヘキサヒドロアントラセン)、テトラシクロ〔4.4.0.12,5.17,10〕−ドデカ−3−エン(慣用名:テトラシクロドデセン)、8−メチル−テトラシクロ〔4.4.0.12,5.17,10〕−ドデカ−3−エン、8−エチル−テトラシクロ〔4.4.0.12,5.17,10〕−ドデカ−3−エン、8−メチリデン−テトラシクロ〔4.4.0.12,5.17,10〕−ドデカ−3−エン、8−エチリデン−テトラシクロ〔4.4.0.12,5.17,10〕−ドデカ−3−エン、8−ビニル−テトラシクロ〔4.4.0.12,5.17,10〕−ドデカ−3−エン、8−プロペニル−テトラシクロ〔4.4.0.12,5.17,10〕−ドデカ−3−エン、8−メトキシカルボニル−テトラシクロ〔4.4.0.12,5.17,10〕−ドデカ−3−エン、8−メチル−8−メトキシカルボニル−テトラシクロ〔4.4.0.12,5.17,10〕−ドデカ−3−エン、8−ヒドロキシメチル−テトラシクロ〔4.4.0.12,5.17,10〕−ドデカ−3−エン、8−カルボキシ−テトラシクロ〔4.4.0.12,5.17,10〕−ドデカ−3−エン、8−シクロペンチル−テトラシクロ〔4.4.0.12,5.17,10〕−ドデカ−3−エン、8−シクロヘキシル−テトラシクロ〔4.4.0.12,5.17,10〕−ドデカ−3−エン、8−シクロヘキセニル−テトラシクロ〔4.4.0.12,5.17,10〕−ドデカ−3−エン、8−フェニル−テトラシクロ〔4.4.0.12,5.17,10〕−ドデカ−3−エン、ペンタシクロ〔6.5.1.13,6.02,7.09,13〕−ペンタデカ−3,10−ジエン、ペンタシクロ〔7.4.0.13,6.110,13.02,7〕−ペンタデカ−4,11−ジエンなどのノルボルネン系単量体;
シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、3,4−ジメチルシクロペンテン、3−メチルシクロヘキセン、2−(2−メチルブチル)−1−シクロヘキセン、シクロオクテン、3a,5,6,7a−テトラヒドロ−4,7−メタノ−1H−インデン、シクロヘプテンなどの単環のシクロアルケン;
ビニルシクロヘキセンやビニルシクロヘキサンなどのビニル脂環式炭化水素系単量体;
シクロペンタジエン、シクロヘキサジエンなどの脂環式共役ジエン系単量体;などが挙げられる。脂環式オレフィンは、それぞれ単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
なお、共重合可能な単量体を必要に応じて共重合させることができる。その具体例としては、エチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、3−メチル−1−ブテン、3−メチル−1−ペンテン、3−エチル−1−ペンテン、4−メチル−1−ペンテン、4−メチル−1−ヘキセン、4,4−ジメチル−1−ヘキセン、4,4−ジメチル−1−ペンテン、4−エチル−1−ヘキセン、3−エチル−1−ヘキセン、1−オクテン、1−デセン、1−ドデセン、1−テトラデセン、1−ヘキサデセン、1−オクタデセン、1−エイコセンなどの炭素原子数2〜20のエチレンまたはα−オレフィン;
シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、3,4−ジメチルシクロペンテン、3−メチルシクロヘキセン、2−(2−メチルブチル)−1−シクロヘキセン、シクロオクテン、3a,5,6,7a−テトラヒドロ−4,7−メタノ−1H−インデンなどのシクロオレフィン;
1,4−ヘキサジエン、4−メチル−1,4−ヘキサジエン、5−メチル−1,4−ヘキサジエン、1,7−オクタジエンなどの非共役ジエン;等が挙げられる。これらの単量体は、それぞれ単独で、あるいは2種以上を組み合わせて使用することができる。
脂環式オレフィンの重合方法は、格別な制限はなく、公知の方法に従って行うことができる。これらの開環重合物は、耐熱性、安定性、光学物性の面から、水素添加して用いることが好ましい。水素添加方法は公知の方法を用いることができる。
((iii)ビニル脂環式炭化水素系重合体)
(iii)ビニル脂環式炭化水素系重合体は、ビニル芳香族炭化水素化合物を単量体として得られる(共)重合体の水素添加物またはビニル脂環式炭化水素化合物を単量体として得られる(共)重合体である。ビニル化合物としては、ビニル芳香族化合物、ビニル脂環式炭化水素化合物などを挙げることができる。
ビニル芳香族化合物としては、スチレン、α−メチルスチレン、α−エチルスチレン、α−プロピルスチレン、α−イソプロピルスチレン、α−t−ブチルスチレン、2−メチルスチレン、3−メチルスチレン、4−メチルスチレン、2,4−ジイソプロピルスチレン、2,4−ジメチルスチレン、4−t−ブチルスチレン、5−t−ブチル−2−メチルスチレン、モノクロロスチレン、ジクロロスチレン、モノフルオロスチレン、4−フェニルスチレンなどのスチレン類等を挙げることができる。
ビニル脂環式炭化水素化合物としては、ビニルシクロヘキサン、3−メチルイソプロペニルシクロヘキサンなどのビニルシクロヘキサン類;
4−ビニルシクロヘキセン、4−イソプロペニルシクロヘキセン、1−メチル−4−ビニルシクロヘキセン、1−メチル−4−イソプロペニルシクロヘキセン、2−メチル−4−ビニルシクロヘキセン、2−メチル−4−イソプロペニルシクロヘキセンなどのビニルシクロヘキセン類等を挙げることができる。
本発明においては、前述の単量体と共重合可能な他の単量体を共重合させてもよい。共重合可能な単量体としては、エチレン、プロピレン、イソブテン、2−メチル−1−ブテン、2−メチル−1−ペンテン、4−メチル−1−ペンテンなどのα−オレフィン系単量体;
シクロペンタジエン、1−メチルシクロペンタジエン、2−メチルシクロペンタジエン、2−エチルシクロペンタジエン、5−メチルシクロペンタジエン、5,5−ジメチルシクロペンタジエン、ジシクロペンタジエンなどのシクロペンタジエン系単量体;
シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセンなどのモノ環状オレフィン系単量体;
ブタジエン、イソプレン、1,3−ペンタジエン、フラン、チオフェン、1,3−シクロヘキサジエンなどの共役ジエン系単量体;
アクリロニトリル、メタクリロニトリル、α−クロロアクリロニトリルなどのニトリル系単量体;
メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、などの(メタ)アクリル酸エステル系単量体;
アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸などの不飽和脂肪酸系単量体;
フェニルマレイミド;
メチルビニルエーテル;
N−ビニルカルバゾール、N−ビニル−2−ピロリドンなどの複素環含有ビニル化合物系単量体等が挙げられる。
重合に用いる上記単量体の混合物は、耐熱性、低複屈折性、機械強度等の観点から、ビニル芳香族化合物および/またはビニル脂環式炭化水素化合物を、通常、50質量%以上、好ましくは70〜100質量%、より好ましくは80〜100質量%含有するものが好ましい。単量体混合物は、ビニル芳香族化合物およびビニル脂環式炭化水素化合物の双方を含有していても構わない。
ビニル芳香族炭化水素化合物またはビニル脂環式炭化水素化合物の重合方法は、格別な制限はなく、公知の方法に従って行うことができる。ビニル芳香族炭化水素化合物から得られる(共)重合体は、耐熱性、安定性、光学物性の面から、水素添加物として用いることが好ましい。水素添加方法は公知の方法を用いることができる。
ビニル芳香族炭化水素化合物から得られる(共)重合体の水素添加物は、フェニル基の水素添加率が好ましくは95%以上、より好ましくは99%以上とすることができる。水素添加処理により、樹脂構造中のフェニル基が水素添加されシクロヘキシル基となる。この樹脂を含む成形体は、短波長側の光線透過率が向上し、また複屈折・光学異方性が低減する。また同時に未反応モノマーおよび不純物が水素添加処理されることで、熱・光に対する耐性が向上する。水素添加率が上記範囲となるように処理することにより、これらの効果に特に優れる。
((iv)その他の重合体)
(iv)その他の重合体としては、例えば、単環シクロアルケンの重合体、脂環式共役ジエン系単量体の重合体、芳香族オレフィン重合体などが挙げられるが、前記(i)〜(iii)に含まれない構造であっても、一般式(2)の範囲内において、任意に選択可能である。例えば、前記、(i)〜(iii)相互、あるいは、公知の共重合可能なモノマーを共重合せしめたものが挙げられる。
また、共重合のタイプは本発明において全く制限されるものではなく、ランダムコポリマー、ブロックコポリマー、交互共重合等、公知の様々な共重合タイプを適用することができるが、好ましくはランダムコポリマーである。
上記(i)〜(iv)で大別される4種のポリマーのうち、光学特性上好ましいものは(i)エチレンまたはα−オレフィンとシクロオレフィンとの共重合体であり、その中でも最も好ましいものはエチレン・テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン共重合体である。
(主鎖の一部として用いることのできるその他の構造)
また本発明で用いられる、脂環族構造を有する重合体は、本発明の成形方法によって得られる製品の良好な物性を損なわない範囲で、必要に応じて他の共重合可能な単量体から誘導される繰り返し構造単位を有していてもよい。その共重合比は限定されないが、好ましくは20モル%以下、さらに好ましくは0〜10モル%であり、共重合量が20モル%以下であれば、光学物性を損なうことなく、高精度の光学部品を得ることができる。また、共重合の種類は限定されない。
(繰り返し構造単位の少なくとも一部に脂環族構造を有する重合体の分子量)
本発明で用いられる脂環族構造を有する重合体の分子量は限定されるものではないが、分子量の代替指標として極限粘度[η]を用いた場合、好ましくは、温度135℃のデカリン中で測定される極限粘度[η]が、0.03〜10dl/g、さらに好ましくは0.05〜5dl/gであり、最も好ましくは0.10〜2dl/gである。極限粘度[η]が上記範囲にあると、良好な成形性を得ることができるとともに、成形物の機械的強度が損なわれることがない。
(繰り返し構造単位の少なくとも一部に脂環族構造を有する重合体のガラス転移温度)
本発明で使用される繰り返し構造単位の少なくとも一部に脂環族構造を有する重合体のガラス転移温度(Tg)は、好ましくは、50〜240℃である。さらに好ましくは50〜160℃である。最も好ましくは、100〜150℃である。ガラス転移温度(Tg)が上記範囲であると、成形品を光学部品として使用する際に、十分な耐熱性を得ることができるとともに、良好な成形性を得ることができる。
ガラス転移温度の測定装置等は限定されるものではない。例えば示差走査熱量計(DSC)を用いて、熱可塑性非晶性樹脂のガラス転移温度を測定することができる。例えば、SEIKO電子工業(株)製DSC−20を用いて昇温速度10℃/分で測定する方法などが挙げられる。
(繰り返し構造単位の少なくとも一部に脂環族構造を有する重合体の製造方法の例示)
このような脂環族構造を有する重合体の製造方法は限定されるものではないが、各々以下のようにして製造することができる。
(i)エチレンまたはα−オレフィンと環状オレフィンとの共重合体は、例えば、特開昭60−168708号公報、特開昭61−120816号公報、特開昭61−115912号公報、特開昭61−115916号公報、特開昭61−271308号公報、特開昭61−272216号公報、特開昭62−252406号公報、特開昭62−252407号公報などの方法に従い適宜条件を選択することにより製造することができる。(ii)開環重合体またはその水素添加物は、特開昭60−26024号公報、特開平9−268250号公報、特開昭63−145324号公報、特開2001−72839号公報などの方法に従い適宜条件を選択することにより製造することができる。(iii)ビニル脂環式炭化水素系重合体は、国際公開公報第01/092412号パンフレット、特開2003−276047号公報、特開2004−83813号公報などの方法に従い適宜条件を選択することにより製造することができる。
(水素添加)
さらに、脂環族構造を有する重合体の製造工程において、少なくとも一度、該重合体または該重合体および原料である単量体を含む系に、水素添加触媒および水素を接触させて、該重合体および/または単量体が持つ不飽和結合の少なくとも一部を水素化することで、該重合体の耐熱性、透明性等の光学性能を向上させることができる。なお、上記水素化いわゆる水素添加は、従来公知の方法で行うことができる。
(残留モノマー)
脂環族構造を有する重合体の製造工程、または樹脂組成物を製造する工程には、未反応モノマー低減工程を含むことが好ましい。低減工程としては、溶融脱揮、ポリマー晶析、相分離プロセス、水添プロセスによる二重結合への水素付加反応を例示することができる。残留モノマーを低減することにより、樹脂の熱安定性の向上、成形時の外観不良の低減による光線透過率や回折効率の向上、成形作業時の発生ガスの低減の効果がある。残留モノマーの残留量は好ましくは5000ppm以下、さらに好ましくは1000ppm、最も好ましくは500ppm以下である。
(ペンタエリスリトール誘導体組成物)
本発明のペンタエリスリトール誘導体組成物は、一般式(1);
Figure 0005778884
(但し、式中、Rは炭素原子数11乃至21のアルキル基、nは0乃至4の実数を示す。)
で表される。
一般式(1)で表されるペンタエリスリトール誘導体組成物の組成が、式(a)および(b);
0.2% ≦ [A0] ≦ 2% (a)
60% ≦ A+A ≦ 100% (b)
(但し、式(a)中、[A]は、ガスクロマトグラフィー法において定量された、一般式(1)においてn=0である構造を有する化合物の、一般式(1)で表されるペンタエリスリトール誘導体組成物中の含有質量%を示す。なお、式(a)において、一般式(1)のn=0〜4である構造を有する全ての化合物の合計質量を100質量%とする。
また、式(b)中、Aは、一般式(1)においてn=1である構造を有する化合物のGPC法におけるピーク面積%を示し、Aは、一般式(1)においてn=2である構造を有する化合物のGPC法におけるピーク面積%を示す。なお、式(b)において、一般式(1)のn=1〜4である構造を有する化合物の各々のピーク面積の合計をピーク面積100%とする。)
を満たす。本発明のペンタエリスリトール誘導体組成物は、繰り返し構造単位の少なくとも一部に脂環族構造を有する重合体用添加剤として用いられ、光学性能に優れ、さらに高温高湿時における光学性能の劣化が抑制された透明熱可塑性成形物を得ることができる。
ペンタエリスリトール誘導体組成物は、通常、前記一般式(1)においてn=0,1,2,3,4である構造を有する化合物の混合物である。なお、本発明のペンタエリスリトール誘導体組成物は、他の添加物を含んでいてもよい。
一般式(1)において、上記効果の観点から、Rは炭素原子数15乃至17のアルキル基であることが好ましい。
(ペンタエリスリトール誘導体組成物中のペンタエリスリトール)
本発明の樹脂組成物に用いられる前記一般式(1)で表されるペンタエリスリトール誘導体組成物は、その組成において、式(a);
0.2% ≦ [A0] ≦ 2% (a)
(但し、式(a)中、[A]は、ガスクロマトグラフィー法において定量された、一般式(1)においてn=0である構造を有する化合物(ペンタエリスリトール)の、一般式(1)で表されるペンタエリスリトール誘導体組成物中の含有質量%を示す。なお、式(a)において、一般式(1)のn=0〜4である構造を有する全ての化合物の合計質量を100質量%とする。)
を満たす。
この式(a)で表されるペンタエリスリトールの含有量は、式(a');
0.3% ≦ [A0] ≦ 1% (a')
(但し、式(a')中、[A]は前記式(a)と同様である。)
を満たすことが好ましい。
上記式(a)または式(a')を満たすため、ペンタエリスリトールはペンタエリスリトール誘導体組成物から適宜、濾過工程により除去することができる。
ペンタエリスリトールの含有量が0.2%以上であれば、樹脂組成物を成形して得られる成形物の耐湿熱性が充分となり、高精度の光学部品として高温多湿下で用いた場合でも、分光光線透過率の変化や収差変化などの光学性能の劣化が抑制される。
また、ペンタエリスリトールの含有量が2%以下であれば、押出機の付設したポリマーフィルターなどを使用して樹脂組成物を溶融濾過する際にもフィルターの詰まりが抑制され、生産性が向上する。さらに、得られた樹脂組成物を成形して得られる成形物中でペンタエリスリトールの相分離を抑えることができるため透明性・均質性に優れた成形物を得ることができる。
つまり、ペンタエリスリトールの含有量が上記式を満たすことにより、高温多湿下における分光光線透過率の変化や収差変化などの光学性能の変化が抑制されるとともに、樹脂組成物の生産性や得られる成形物の透明性・均質性に優れる。
(ペンタエリスリトールの含有量の測定方法)
ペンタエリスリトールの含有量は、ペンタエリスリトール(和光純薬工業(株)製)などにより、検量線を作成し、ガスクロマトグラフィーにより定量する。
具体的には、例えば、次のような測定条件が例示できる。
測定機器:6890N(Agilent Technologies)
カラム:DB−1HT(J&W社製)
キャリヤーガス:He(コンスタントフローモード)
検出器:FID
(ペンタエリスリトール誘導体組成物中のモノエステルおよびジエステル)
本発明の樹脂組成物に用いられるペンタエリスリトール誘導体組成物は、必須の成分として前記一般式(1)においてn=1であるペンタエリスリトールと脂肪酸のモノエステル(以下、単にモノエステルと表現する)および/または前記一般式(1)においてn=2であるペンタエリスリトールと脂肪酸のジエステル(以下、単にジエステルと表現する)を含む。
モノエステルおよびジエステルの含有量は式(b);
60% ≦ A+A ≦ 100% (b)
(式(b)中、Aは、一般式(1)においてn=1である構造を有する化合物のGPC法におけるピーク面積%を示し、Aは、一般式(1)においてn=2である構造を有する化合物のGPC法におけるピーク面積%を示す。なお、式(b)において、一般式(1)のn=1〜4である構造を有する化合物の各々のピーク面積の合計をピーク面積100%とする。)
を満たす。
この式(b)で表されるモノエステルおよびジエステルの含有量は、式(b');
65% ≦ A+A ≦ 100% (b')
(但し、式中、A、Aは前記に同じ。)
の範囲にあることが好ましい。
モノエステル及びジエステルの含有量がこの下限値以上であれば、得られた樹脂組成物の耐湿熱性能は充分となる。また、モノエステルおよびジエステルの含有量は製造の際の濾過性を考慮すれば、90%以下であることが好ましく、最も好ましくは80%以下である。
つまり、モノエステル及びジエステルの含有量が上記式を満たすことにより、樹脂組成物の耐湿熱性能に優れるとともに、高温多湿下における成形体の分光光線透過率の変化や収差変化などの光学性能の変化が抑制される。
この組成比を実現するため、このペンタエリスリトール誘導体組成物を製造する際のペンタエリスリトールと炭素原子数12〜22の脂肪酸とのエステル化反応時の仕込み比や反応条件を調整することができる。
(モノエステルおよびジエステルの定量方法)
本発明のペンタエリスリトール誘導体組成物中のモノエステルおよびジエステルの量比は、ゲル浸透クロマトグラフ(GPC)を用い、以下の条件で分析チャートから計算することができる。
測定機器は限定されるものではないが、例えば次の装置・条件を用いて測定することができる。
HLC−8220GPC(東ソー(株)製)、カラム:G2000HXL+G1000HXL(東ソー(株)製)、溶媒:THF、サンプル濃度:0.3%。検出器:RI
(ペンタエリスリトール誘導体組成物の製造方法)
本発明で用いられるペンタエリスリトール誘導体組成物の製造方法は、以下の工程を含む。
工程(a):ペンタエリスリトール 1モルに対し、炭素原子数12乃至22の脂肪酸を1.0モル以上1.7モル以下の量で反応させて、ペンタエリスリトールをエステル化する。
工程(b):工程(a)において得られたペンタエリスリトールのエステル化物を濾過する。
まず、工程(a)においては、所定量のペンタエリスリトールと所定量の炭素原子数12〜22の脂肪酸を窒素吹き込み下、220〜240℃で脱水反応を行い、ペンタエリスリトールをエステル化する。炭素原子数12〜22の脂肪酸としてはラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、ベヘニン酸、エルカ酸等が挙げられ、耐白化性や樹脂ヘの相溶性の面からパルミチン酸、ステアリン酸が好ましい。エステル化反応は、脱水反応系内の温度を220〜240℃下、窒素吹き込み下で行う。脱水反応時の減圧は脂肪酸の系外への留出が起こり、仕込み比が変わるため好ましくない。
脂肪酸の仕込みモル比は、ペンタエリスリトール1.0モルに対し通常は1.0〜1.7モル、好ましくは1.3〜1.7モルである。
上記モル比および、好ましくは220〜240℃、より好ましくは230〜240℃で反応させることにより、モノエステルおよびジエステルの含有量は上記式(b)を満たすことができる。
工程(a)においては、原料であるペンタエリスリトール中のナトリウム含有量が、好ましくは100ppm以下、より好ましくは90ppm以下のものを用いる。ペンタエリスリトールの製造原料由来のナトリウムがエステル化反応時の着色に影響するため、ナトリウム含有量を上記の範囲に低減させたペンタエリスリトールを用いることが好ましい。
次いで、工程(b)において、工程(a)で得られたペンタエリスリトールのエステル化物を濾過する。
濾過は、得られたペンタエリスリトールのエステル化物を、好ましくは70〜90℃、より好ましくは70〜80℃の温度に調整し、該温度を保持しつつ、ラヂオライト(昭和化学工業株式会社製)などの濾過助剤を用い、好ましくは60kPa以下、より好ましくは40kPa以下の減圧濾過、又は、好ましくは100〜600kPa、より好ましくは200〜510kPaの加圧濾過の条件下において行うことができる。これにより、ペンタエリスリトール誘導体組成物中のペンタエリスリトール含有質量%が、上記式(a)を満たすことができる。
(ペンタエリスリトール誘導体組成物の処理方法)
上述のようにペンタエリスリトール誘導体組成物の製造方法は、ペンタエリスリトールと脂肪酸のエステル化反応工程を含んでいる。そのため、このエステル化反応時に着色が発生する場合がある。また、反応により得られたエステルは溶融状態でエステル交換して組成変化が生じることがあり、着色が発生する場合がある。
その場合、エステル化反応時、反応後の着色を抑制することにより、或いは反応生成物を脱色することにより着色の少ないペンタエリスリトール誘導体組成物を得ることができる。そのため、以下のような着色を抑制するための処理を行うことも好ましい。
具体的には、ペンタエリスリトール誘導体組成物を過酸化水素で処理することが非常に有効である。過酸化水素の添加量はペンタエリスリトール誘導体組成物100質量部に対し、0.01質量部以上0.50質量部以下が好ましい。
過酸化水素の添加量が0.01質量部以上であれば、反応生成物(ペンタエリスリトール誘導体組成物)の脱色効果が十分である。0.50質量部以下であれば過酸化水素処理工程でエステル交換反応が起こりにくいのでペンタエリスリトール誘導体組成物の組成変化が抑制される。また経済的にも好ましい。
つまり、ペンタエリスリトール誘導体組成物の脱色効果およびペンタエリスリトール誘導体組成物の組成変化を抑制する観点から、過酸化水素の添加量は上記範囲であることが好ましい。
過酸化水素処理としては、例えばペンタエリスリトール誘導体組成物を窒素吹き込み下、70〜85℃で溶融させ、35%過酸化水素水を任意量添加して0.5〜1時間攪拌を続け、その後真空度50〜100mmHgで脱水を行う方法が挙げられる。
また、80℃以下の温度でペンタエリスリトール誘導体組成物を溶融する工程と、得られた溶融物を噴霧冷却する工程とを含む処理を行うことも好ましい。
ペンタエリスリトール誘導体組成物を溶融する工程は、溶融温度を80℃以下、好ましくは70〜80℃に制御し、窒素吹き込み下で行うのが好ましい。溶融温度が80℃以下であると、溶融状態でのエステル交換による組成変化やエステルの着色を抑制することができる。また、溶融温度が70℃以上であると、エステル粘度が送液に適した範囲になるので好ましい。
溶融物を噴霧冷却する工程において、噴霧冷却設備のフィルターの目開きは通常75〜250ミクロン、好ましくは100〜200ミクロンである。このサイズであると、ペンタエリスリトール誘導体組成物を量産することができる。75ミクロン以上であればペンタエリスリトールの目詰まりが起こりにくく、250ミクロン以下であれば溶融液送りポンプにペンタエリスリトールが詰まって液漏れが発生することがないので好ましい。
このような着色を抑制する方法や工程を行うことにより得られるペンタエリスリトール誘導体組成物を本発明の重合体に添加すると、光線透過率により優れた樹脂組成物を得ることができる。
(樹脂組成物)
本発明の樹脂組成物は、前記の繰り返し構造単位の少なくとも一部に脂環族構造を有する重合体100質量部に対し、前記一般式(1)で表されるペンタエリスリトール誘導体組成物を1.0質量部以上3.0質量部以下、好ましくは1.2質量部以上2.7質量部以下で含む樹脂組成物である。
ペンタエリスリトール誘導体組成物の添加量が1.0質量部以上であると、樹脂組成物を成形して得られる成形物の耐湿熱性が充分となり、高精度の光学部品として高温多湿下で用いた場合でも分光光線透過率の変化や収差変化などの光学性能の変化を起こさない。
また、ペンタエリスリトール誘導体組成物の添加量が3.0質量部以下であると、樹脂組成物へのペンタエリスリトール誘導体組成物の溶解度が充分となり、射出成形時の金型汚れを低減できると同時に、成形物中でペンタエリスリトール誘導体組成物が相分離を抑えることができるため透明性・均質性に優れた成形物を得ることができる。
つまり、上記の組成比である本発明の樹脂組成物は、得られる成形物の耐湿熱性に優れるとともに、射出成形時の金型汚れの低減および成形物の透明性・均質性に優れる。
本発明の樹脂組成物は、透明部品の成形原料として最適であり、とくに、高温高湿時の耐白化性に優れた透明熱可塑性成形物を得ることが可能である。
さらに詳しくは、本発明の樹脂組成物は、吸水性・複屈折・光学歪み・着色・白濁・ヘイズが低く、耐熱性・屈折率・光線透過率・分光光線透過率が充分にあり、かつ高温高湿時の耐白化性に優れた透明熱可塑性成形物を得ることができ、さらに成形性にも優れている。
(樹脂組成物に任意成分として添加できる添加剤)
樹脂組成物には、前記の繰り返し構造単位の少なくとも一部に脂環族構造を有する重合体、前記一般式(1)で表されるペンタエリスリトール誘導体組成物の他に、本発明の樹脂組成物の良好な物性を損なわない範囲内で任意成分として公知の添加剤を用いることができる。
添加できる添加剤としては、公知の酸化防止剤、二次抗酸化剤、滑剤、離型剤、防曇剤、耐候安定剤、耐光安定剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、金属不活性化剤が例示される。
(樹脂組成物に任意成分として添加できる酸化防止剤)
このなかでも、本発明の樹脂組成物の良好な光学物性が成形時に損なわれることがないように、酸化防止剤を添加することが好ましい。酸化防止剤としては、フェノール系安定剤が好適に用いられる。
フェノール系安定剤は、構造中にフェノール骨格を有する安定剤である。通常構造中に3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル基、2,4−ジメチル−3−ヒドロキシフェニル基、3−メチル−2−ヒドロキシフェニル基、あるいはその誘導体からなる基などの特性基を含む。
具体例としては、例えば、2−第3ブチル−6−(3−第3ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)−4−メチルフェニルアクリレート、2,4−ジ−第3アミル−6−(1−(3,5−ジ−第3アミル−2−ヒドロキシフェニル)エチル)フェニルアクリレートなどの特開昭63−179953号公報や特開平1−168643号公報に記載されるアクリレート系フェノール化合物;
2,6−ジ−第3ブチル−4−メチルフェノール、2,6−ジ−第3ブチル−4−エチルフェノール、オクタデシル−3−(3,5−ジ−第3ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、2,2'−メチレン−ビス(4−メチル−6−第3ブチルフェノール)、4,4'−ブチリデン−ビス(6−第3ブチル−m−クレゾール)、4,4'−チオビス(3−メチル−6−第3ブチルフェノール)、ビス(3−シクロヘキシル−2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)メタン、3,9−ビス(2−(3−(3−第3ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ)−1,1−ジメチルエチル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−第3ブチルフェニル)ブタン、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−第3ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、テトラキス(メチレン−3−(3',5'−ジ−第3ブチル−4'−ヒドロキシフェニルプロピオネート)メタン[すなわち、ペンタエリスリメチル−テトラキス(3−(3,5−ジ−第3ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオネート))、トリエチレングリコールビス(3−(3−第3ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオネート)、トコフェノールなどのアルキル置換フェノール系化合物;
6−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−第3ブチルアニリノ)−2,4−ビスオクチルチオ−1,3,5−トリアジン、6−(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルアニリノ)−2,4−ビスオクチルチオ−1,3,5−トリアジン、6−(4−ヒドロキシ−3−メチル−5−第3ブチルアニリノ)−2,4−ビスオクチルチオ−1,3,5−トリアジン、2−オクチルチオ−4,6−ビス−(3,5−ジ−第3ブチル−4−オキシアニリノ)−1,3,5−トリアジンなどのトリアジン基含有フェノール系化合物;などが挙げられる。これらの中でも、テトラキス(メチレン−3−(3',5'−ジ−第3ブチル−4'−ヒドロキシフェニルプロピオネート)メタンは耐熱性、安定性に優れるため、好ましい。
酸化防止剤の添加量はとくに限定されないが、前記の繰り返し構造単位の少なくとも一部に脂環族構造を有する重合体100質量部に対し、0.05乃至1.2質量部が好ましい。また最も好ましい態様としてテトラキス(メチレン−3−(3',5'−ジ−第3ブチル−4'−ヒドロキシフェニルプロピオネート)メタンを用いる場合の添加量は前記の繰り返し構造単位の少なくとも一部に脂環族構造を有する重合体100質量部に対し、0.1乃至0.5質量部である。
0.05質量部以上であれば酸化防止効果が充分となり、本発明の樹脂組成物を成形する際に、成形休止時や連続成形時の色相変化や光学性能の劣化を低減することができる。また、1.2質量部以下であれば樹脂組成物へのフェノール系安定剤の溶解度が充分となり、射出成形時の金型汚れを低減できると同時に、成形物中でフェノール系安定剤が相分離を抑えることができるため透明性・均質性に優れた成形物を得ることができる。
(樹脂組成物の製造方法)
本発明の樹脂組成物の製造方法は特に限定されず、公知の方法で製造することができる。具体的には、脂環族構造を有する重合体およびヒンダートアミン系化合物、また目的に応じてリン系安定剤および親水性安定剤、さらに本発明の目的を損なわない範囲で上記その他の安定剤を添加して混合した後フラッシュ乾燥、または、各成分をヘンシェルミキサー、リボンブレンダー、メルトブレンダー、ホモミキサー等を用いて混合した後、押出機を用いてペレット化することで、ペレット状の樹脂組成物として得ることができる。さらに、目的とする成形物の形状に応じて、射出成形法、押出成形法、吹込成形法、真空成形法、スラッシュ成形法等により、成形物として得ることができる。
(全光線透過率および分光光線透過率)
本発明の樹脂組成物を光学用途に使用する場合、光線を透過させることが必須であるので、光線透過率が良好であることが好ましい。光線透過率は用途に応じて分光光線透過率または全光線透過率により規定される。
全光線、あるいは複数波長域での使用が想定される場合、全光線透過率が良いことが必要であり、反射防止膜を表面に設けていない状態での全光線透過率は85%以上、好ましくは88〜93%である。全光線透過率が85%以上であれば必要な光量を確保することができる。全光線透過率の測定方法は公知の方法が適用でき、測定装置等も限定されないが、例えばASTM D1003に準拠して、熱可塑性、非晶性樹脂を厚み3mmのシートに成形し、ヘーズメーターを用いて、本発明の樹脂組成物を成形して得られるシートの全光線透過率を測定する方法などが挙げられる。
また特定波長域のみで利用される光学系、たとえばレーザ光学系の場合、全光線透過率が高くなくても、該波長域での分光光線透過率が良ければ使用することができる。この場合、使用波長における、反射防止膜を表面に設けていない状態での分光光線透過率は好ましくは85%以上、さらに好ましくは86〜93%である。分光光線透過率が85%以上であれば必要な光量を確保することができる。また測定方法および装置としては公知の方法が適用でき、具体的には分光光度計を例示することができる。
以下、実施例に基づいて本発明をさらに具体的に説明する。まず、実施例において使用したペンタエリスリトール誘導体組成物の合成例を示す。
(ペンタエリスリトール量の測定方法)
測定方法
測定機器:6890N(Agilent Technologies)
カラム:DB−1HT(J&W社製)
(30m×250μm×0.1μm)
キャリヤーガス:He(コンスタントフローモード)
スプリット比:50:1
検出器:FID
注入口温度:330℃
検出器温度:330℃
測定温度条件:100℃→10℃/minで昇温→380℃で27分保持
検出感度:取り込み速度、20Hz
最小ピーク幅、0.01min
注入量:1μl(スプリット法)
検量線用サンプルの調整
(1)ペンタエリスリトール(和光純薬:試薬)を約0.5mg、1.0mg、2.0mgを各10ccのスクリュー管に精秤する。 (採取量:下一桁mgまで記録)
(2)工程(1)の後、スクリュー管内にTMS化剤を1ccいれ蓋を閉める。(TMS化剤:TMSI−H:GLサイエンス社製:試薬)
(3)工程(2)の後、スクリュー管を80℃の温浴中で軽く振り、反応を進行させる。(10分程度)
(4)工程(3)の後、スクリュー管内にイオン交換水を5ccいれTMSの活性を無くす。
(5)工程(4)の後、スクリュー管内にヘキサンを1.00ccいれ、よく振った後、スクリュー管を静置する。 (ホールピペット使用)
(6)工程(5)の後、スクリュー管内において水/ヘキサンが分離するので、ヘキサン層を採取し、ガスクロのサンプルとする。
(7)工程(6)で得られたサンプルを上記条件にて測定し、検量線を作成する
測定用サンプルの調整
(a)ペンタエリスリトール誘導体組成物を約20mg、10ccのスクリュー管に量りとる。(採取量:下一桁mgまで記録)
(b)工程(a)の後、スクリュー管内にTMS化剤を1cc入れ、蓋を閉める。(TMS化剤:TMSI−H:GLサイエンス社製:試薬:)
(c)工程(b)の後、スクリュー管を80℃の温浴中で軽く振り、反応を進行させる。(約10分程度)
(d)工程(c)の後、スクリュー管内にイオン交換水を5cc入れTMSの活性を無くす。
(e)工程(d)の後、スクリュー管内にヘキサンを1.00cc入れ、よく振った後、静置する。(ホールピペット使用)
(f)工程(e)の後、水/ヘキサンが分離するので、ヘキサン層を採取し、ガスクロのサンプルとする。
(g)工程(f)で得られたサンプルを用いて測定を行い、検量線よりペンタエリスリトール誘導体組成物中のペンタエリスリトール量を定量する。
(モノエステルおよびジエステルの定量方法)
次の条件にてGPC法を行った。
測定機器:HLC−8220GPC(東ソー社製)
カラム:G2000HXL+G1000HXL
溶媒:THF
流量:1.0mL/min
カラム温度:40℃
サンプル濃度:0.3%
注入量:100μL
検出感度:0.100mV/分
検出器:RI
標準物質:ポリスチレン(東ソー社製、Mw=526、2630、10200)
以上の条件でGPC測定を行い、チャートの面積比でエステル化度の分布を求めた。
(合成例1)
500mlのガラス製四つ口フラスコにペンタエリスリトール(広栄化学(株)製 工業用)122.4g(0.9モル)とステアリン酸(花王(株)製 ルナックS−40)248.4g(0.9モル)を秤取り、窒素を吹き込みながら反応系内を235℃で酸価2.0以下になるまで脱水エステル化反応を行った。その後、反応系内を70〜80℃まで冷却し、該温度に保持しつつ、濾過助剤(ラヂオライト#700)を用い、減圧濾過(30.1kPa)を行い合成例1のペンタエリスリトール誘導体組成物を得た。
ペンタエリスリトール誘導体組成物のエステル組成とペンタエリスリトール量を表−1に示す。
(合成例2−1,2−2)
500mlのガラス製四つ口フラスコにペンタエリスリトール(広栄化学(株)製 工業用)81.6g(0.6モル)とステアリン酸(花王(株)製 ルナックS−40)215.3g(0.78モル)を秤取り、合成例1と同様の反応条件でエステル化反応を行い、合成例2−1のペンタエリスリトール誘導体組成物を得た。その後、合成例1と同様の方法で、減圧濾過を行い合成例2−2のペンタエリスリトール誘導体組成物を得た。
これらのペンタエリスリトール誘導体組成物のエステル組成とペンタエリスリトール量を表−1に示す。
(合成例3−1,3−2)
500mlのガラス製四つ口フラスコにペンタエリスリトール(広栄化学(株)製 工業用)81.6g(0.6モル)とステアリン酸(花王(株)製 ルナックS−40)248.4g(0.9モル)を秤取り、合成例1と同様の反応条件でエステル化反応を行い、合成例3−1のペンタエリスリトール誘導体組成物を得た。さらにその後、合成例1と同様の方法で、減圧濾過を行い合成例3−2のペンタエリスリトール誘導体組成物を得た。
ペンタエリスリトール誘導体組成物のエステル組成とペンタエリスリトール量を表−1に示す。
(合成例4)
500mlのガラス製四つ口フラスコにペンタエリスリトール(広栄化学(株)製 工業用)68.0g(0.5モル)とステアリン酸(花王(株)製 ルナックS−40)234.6g(0.85モル)を秤取り、合成例1と同様の反応条件でエステル化反応を行った。その後、合成例1と同様の方法で、減圧濾過を行い合成例4のペンタエリスリトール誘導体組成物を得た。
ペンタエリスリトール誘導体組成物のエステル組成とペンタエリスリトール量を表−1に示す。
(合成例5)
500mlのガラス製四つ口フラスコにペンタエリスリトール(広栄化学(株)製 工業用)68.0g(0.5モル)とステアリン酸(花王(株)製 ルナックS−40)276.0g(1.0モル)を秤取り、合成例1と同様の反応条件でエステル化反応を行った。その後、合成例1と同様の方法で、減圧濾過を行い合成例5のペンタエリスリトール誘導体組成物を得た。
ペンタエリスリトール誘導体組成物のエステル組成とペンタエリスリトール量を表−1に示す。
(合成例6)
500mlのガラス製四つ口フラスコにペンタエリスリトール(広栄化学(株)製 工業用)68.0g(0.5モル)とステアリン酸(花王(株)製 ルナックS−40)234.6g(0.85モル)を秤取り、合成例1と同様の反応条件でエステル化反応を行った。その後、60℃で1昼夜放置し、合成例1と同様の方法で、減圧濾過を行い合成例6のペンタエリスリトール誘導体組成物を得た。
ペンタエリスリトール誘導体組成物のエステル組成とペンタエリスリトール量を表−1に示す。
(合成例7)
500mlのガラス製四つ口フラスコにペンタエリスリトール(広栄化学(株)製 工業用)81.6g(0.6モル)とステアリン酸(花王(株)製 ルナックS−40)248.4g(0.9モル)を秤取り、合成例1と同様の反応条件でエステル化反応を行った。その後、合成例1と同様の方法で、減圧濾過を行い合成例7のペンタエリスリトール誘導体組成物を得た。得られたペンタエリスリトール誘導体組成物のモノエステル面積%は26%、ジエステルの面積%は42%、ペンタエリスリトールの質量%は0.4%であった。また、以下の方法で測定したb値は3.8であった。
この後、以下の方法でペンタエリスリトール誘導体組成物を過酸化水素処理して組成、b値を測定したところ、ペンタエリスリトール誘導体組成物のモノエステル面積%は26%、ジエステルの面積%は42%、ペンタエリスリトールの質量%は0.4%であり、b値は2.5であった。ペンタエリスリトール誘導体組成物のエステル組成とペンタエリスリトール量を表−1に示す。
b値の測定方法
ペンタエリスリトール誘導体組成物70質量部、イソプロパノール27質量部、イオン交換水3質量部を50〜60℃の温水槽に均一に溶解したあと、直ちに東京電色工業製Spectro Color Meterを用い、透過法により測定した。
過酸化水素処理方法
ペンタエリスリトール誘導体組成物を窒素吹き込み下、70〜85℃で溶融し、次いでペンタエリスリトール誘導体組成物100質量部に対し過酸化水素が0.1質量部となるように35%過酸化水素水添加して1時間攪拌を続け、その後真空度5〜10mmHgで脱水を行い、ペンタエリスリトール誘導体組成物を得た。
(合成例8−1)
500mlのガラス製四つ口フラスコにナトリウム含有量75ppmのペンタエリスリトール(広栄化学(株)製 工業用)81.6g(0.6モル)とステアリン酸(花王(株)製 ルナックS−40)248.4g(0.9モル)を秤取り、合成例1と同様の反応条件でエステル化反応を行った。その後、合成例1と同様の方法で、減圧濾過を行い合成例8−1のペンタエリスリトール誘導体組成物を得た。ペンタエリスリトール誘導体組成物のエステル組成とペンタエリスリトール量を表−1に示す。また、b値は3.8であった。
(合成例8−2)
ナトリウム含有量200ppmのペンタエリスリトールを使用した以外は合成例8−1と同様の方法で合成例8−2を行った。得られたペンタエリスリトール誘導体組成物のエステル組成とペンタエリスリトール量を表−1に示す。また、b値は5.5であった。
(合成例9)
合成例8−1のペンタエリスリトール誘導体組成物を得た後、反応系内を72〜78℃に保持しつつ、噴霧冷却器に供給圧19kg/cm、ノズル入り口圧 25kg/cmでペンタエリスリトール誘導体組成物を供給し、冷風温度 11〜13℃で噴霧冷却を行なった。得られたペンタエリスリトール誘導体組成物のエステル組成とペンタエリスリトール量を表−1に示す。また、b値は3.8であった。
Figure 0005778884
(樹脂製造例)
<製造例1:樹脂A(エチレン−環状オレフィン共重合体)>
特開平3-220211の実施例に記載された方法と同様にしてフラッシュ乾燥された環状オレフィンランダム共重合体を得た。すなわち、以下のような方法で環状オレフィンランダム共重合体を得た。
VO(OC)Clをシクロヘキサンで希釈し、バナジウム濃度が6.7ミリモル/L-シクロヘキサンであるバナジウム触媒を調製した。エチルアルミニウムセスキクロリド(Al(C1.5Cl1.5)をシクロヘキサンで希釈し、アルミニウム濃度が107ミリモル/L-ヘキサンである有機アルミニウム化合物触媒を調製した。
環状オレフィン系ランダム共重合体を、撹拌式重合器(内径500mm、反応容積100L)を用いて、連続的に、エチレンと環状オレフィンとしてのテトラシクロ[4,4,0,12,5,17,10]-3-ドデセン(以下単に「テトラシクロドデセン」ということがある。)との共重合反応を行うことにより製造した。この共重合反応を行う際には、前記方法によって調製されたバナジウム触媒を、重合溶媒として用いられた重合器内のシクロヘキサンに対するバナジウム触媒濃度が0.6ミリモル/Lになるような量で重合器内に供給した。しかも重合器に供給される直前でのバナジウム触媒濃度が重合器内での触媒濃度に対し、希釈倍率で2倍以下になるように、シクロヘキサンでバナジウム触媒を予め希釈して、重合器内に供給した。
有機アルミニウム化合物であるエチルアルミニウムセスキクロリドを、Al/V=8.0になるような量で重合器内に供給した。重合温度を11℃とし、重合圧力を0.18MPa(1.8kg/cmG)として連続的に、前記した共重合反応を行った。
重合器より抜出した、環状オレフィン系ランダム共重合体溶液を、配管に送り込み、前混合を行ない、ボイラー水およびpH調節剤として、濃度が25重量%のNaOH溶液をこの混合溶液に添加し、前記した重合反応を停止させ、また、共重合体中に残存する触媒残渣をこの混合溶液中から除去(脱灰)した。この脱灰された混合溶液に安定剤としてペンタエリスリチル−テトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]を重合体に対する添加量が重合体100質量部に対し0.3質量部となるように添加し、フラッシュ乾燥工程に入る前に一旦、有効容積1.0mの撹拌槽を用いて1時間混合した。
加熱源として2.0MPa(20kg/cmG)の水蒸気を用いた二重管式加熱器(外管径2B、内管径3/4B、長さ21m)に、混合溶液中の該共重合体濃度を5重量%とした混合溶液を150kg/Hの量で供給して、この混合溶液を180℃に加熱した。
二重管式フラッシュ乾燥器(外管径2B、内管径3/4B、長さ27m)とフラッシュホッパー(容積200L)とを用いて、上記したような加熱工程を経た混合溶液から重合溶媒とともに大半の未反応テトラシクロドデセンを除去した。二重管式フラッシュ乾燥器の加熱源として、2.5MPa(25kg/cmG)の水蒸気を用いた。このようにして、樹脂Aを得た。樹脂Aの極限粘度は0.50dl/g、TMAは143℃であった。測定条件は以下のとおりである。
極限粘度[η];135℃でアトランティック型粘度計を用い、極限粘度を測定した。
軟化点[TMA];デュポン社製Thermomechanical Analyserを用いて1.0mm厚さシートの熱変形挙動により測定した。すなわち、シート上に石英製針をのせ、荷重50gをかけ、5℃/分で昇温していき、針が0.1mm侵入した温度をTMAとした。
重量平均分子量(Mw)、分子量分布(MWD)
GPC Alliance2000(Waters社)を用い、
カラム:TSKgel GMH6-HT×2+TSKgel GMH6-HTL×2(計30cm×4本、東ソー社)
検出器:示差屈折計
測定溶媒:o-ジクロロベンゼン
測定流量:1mL/mi
n測定温度:140℃
試料注入量:500μL
標準試料:単分散ポリスチレン×16(東ソー社製)
により分析した。
ガラス転移温度(Tg)
SEIKO電子工業(株)製DSC−20を用いて窒素中10℃/min.の昇温条件で250℃まで昇温させた後、一旦サンプルを急冷し、その後に昇温速度10℃/分で測定した。
溶融流れ指数(MFR)
ASTM D1238に準じ260℃、荷重2.16kgで測定。
<製造例2:樹脂B(エチレン−環状オレフィン共重合体水素添加物)>
製造例1で得られた樹脂Aをシクロヘキサンに溶解し、濃度15重量%に調製した。その溶液300gにラニーニッケル触媒(ニッケル含有量40重量%)1.3gを加え、水素分圧3MPa、温度100℃で4時間反応した。触媒を濾過した後、反応液をアセトン中に加えて、重合体を析出させ、ろ過・乾燥により樹脂Bを得た。樹脂Bの水素添加率はほぼ100%、極限粘度は0.5dl/g、TMAは143℃であった。
<製造例3:樹脂C(環状オレフィン開環重合体水素添加物)>
窒素で置換した200リットルの水媒を使用した熱交換設備を有した反応器に、8−エチルテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−ドデカ−3−エン(以下、ETCDと略す)1,000質量部とシクロヘキサン24,000質量部を加え、重合触媒としてトリ−i−ブチルアルミニウム[iBuAl]68質量部、反応調製剤としてイソブチルアルコール26質量部とアセトン14質量部、分子量調整剤としてシクロヘキサン2,000質量部で希釈した1−ヘキセン188質量部を添加した。なお、1−ヘキセンの添加の誤差は1%であった。この段階での反応溶液の温度を40℃とした後に、水媒の温度を25℃に設定して、六塩化タングステン18質量部とシクロヘキサン15,200質量部との混合液を添加した。反応開始時からの反応熱の上昇は、4.3℃と確認され、その温度で、5分間攪拌した。次いで、水媒の温度をコントロールしながら、反応系を45℃に保持しつつ、ETCD19,000質量部と、六塩化タングステン26質量部とシクロヘキサン22,000質量部との混合溶液をそれぞれ系内に連続的に2時間をかけて滴下した。滴下終了後、さらに30分間、45℃にて攪拌して開環重合を終了させた。得られた開環重合体の、重量平均分子量(Mw)は14,100、分子量分布(MWD)は2.15、分子量30万以上の成分は検出されなかった。また、この反応溶液のガスクロマトグラフィーの分析により、未反応モノマーのピークが検出されないことから、反応率は100%であることを確認した。
この重合反応液をオートクレーブに移し、シクロヘキサン34,000質量部を加えた。これに水素添加触媒として、ケイソウ土担持ニッケル触媒を500質量部加え、反応器内を水素置換した後、約10kg/cmで昇圧し、攪拌しながら160℃に昇温した。温度が安定したところで水素圧力を40kg/cmに保持し、反応過程で消費される水素を補充しながら8時間反応させた。水素添加反応終了後、水素添加触媒をろ別し、この水素添加重合体溶液に、酸化防止剤であるペンタエリスリチル−テトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]を水素添加重合体100質量部に対して、0.2質量部加えてから、280℃で減圧乾燥下に脱溶剤を行った。次いで、溶融した樹脂を、窒素雰囲気下、押出機によりペレット化し樹脂Cを得た。樹脂CのMwは32,000、水素添加率が99%以上、280℃におけるメルトフローレート(MFR)は50g/10min.、Tgは140℃であった。
<製造例4:樹脂D(スチレン−イソプレン重合体水素添加物)>
窒素置換したステンレス製耐圧容器に、スチレン76.8質量部とイソプレン3.2質量部を添加して混合攪拌し混合モノマーを調整した。次に、窒素置換した電磁撹拌装置を備えたステンレス鋼製オートクレーブに、脱水シクロヘキサン320質量部、混合モノマー4質量部及びジブチルエーテル0.1質量部を仕込み、50℃で撹拌しながらn−ブチルリチウムのヘキサン溶液(濃度15%)0.454質量部を添加して重合を開始し、重合させた。重合開始から0.5時間経過(この時点での重合転化率は約96%であった)後、混合モノマー76質量部を1時間かけて連続的に添加した。混合モノマーの添加終了(この時点での重合転化率は約95%であった)から0.5時間経過後、イソプロピルアルコール0.1質量部を添加して反応を停止させ、スチレン−イソプレンランダム共重合体が溶解した重合反応溶液を得た。
次いで、上記重合反応溶液400質量部に、安定化ニッケル水素化触媒E22U(日揮化学工業社製;60%ニッケル担持シリカ−アルミナ担体)3質量部を添加混合し混合液を得、それを電熱加熱装置と電磁撹拌装置を備えたステンレス鋼製オートクレーブに仕込んだ。該オートクレーブに水素ガスを供給し、撹拌しながら、オートクレーブ内を160℃、4.5MPaを保つようにして6時間水素化反応を行った。水素化反応終了後、ラジオライト#800を濾過床として備える加圧濾過器(フンダフィルター、石川島播磨重工社製)を使用して、圧力0.25MPaで加圧濾過して、無色透明な溶液を得た。
得られた無色透明溶液に、重合体固形分100質量部に対して、6−〔3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロポキシ〕−2,4,8,10−テトラキス−t−ブチルジベンゾ〔d,f〕〔1.3.2〕ジオキサフォスフェピン(クロロホルム5重量%溶液の光路長10mm石英セルによる400nmの光線透過率が99.8%)0.1質量部及びスチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体の主鎖水素化物(SEPS、スチレン/イソプレン重量比=30/70、メルトフローレート約70g/分(230℃、2.16kgf))0.2質量部を加えて溶解させた。
この溶液を金属ファイバー製フィルター(孔径0.5μm、ニチダイ社製)にて濾過した。次いで濾液をゼータプラスフィルター3OS(孔径0.5〜1μm、キュノ社製)で濾過し、さらに、金属ファイバー製フィルター(孔径0.2μm、ニチダイ社製)で濾過して異物を除去した。得られた濾液(重合体濃度=20%)を250℃に加熱し、圧力3MPaで円筒型濃縮乾燥機(日立製作所製)に連続的に供給した。濃縮乾燥機内の圧力が60kPa、乾燥器内の重合体溶液の温度が260℃になるように調節して濃縮した。次いで濃縮された溶液を260℃を保ったまま、さらに同型の濃縮乾燥機に圧力1.5MPaで供給した。二段目の濃縮乾燥機内の圧力は1.5kPa、重合体の温度は270℃になるように調節して、溶媒を除去した。溶媒が除去された重合体を押出成形し、樹脂Dペレットを得た。樹脂DのMwは83000、Mw/Mnは1.2、水素添加率ほぼ100%、Tgは125℃であった。
(実施例および比較例における評価方法)
実施例および比較例における測定方法は次の通りである。
測定にあたっては、シリンダー温度260℃、金型温度125℃に設定された射出成形機(東芝機械(株)製IS-50EP)により、射出成形された45mmφ×3mm(厚さ)の光学面を持つテストピースを用いた。
◇光学品質:ZYGO干渉計PTI250型を用い、テストピースの中心部10mmφの透過波面のRMS値を記録した。RMS値は0.05λ以下を合格とした。
◇ヘイズ:ASTM D1003に基づいて測定した。ヘイズは1.0%以下を合格とした。
◇環境試験:上記測定の後、テストピースを温度80℃、相対湿度90%の雰囲気下に48時間放置した。再び光学品質・ヘイズを測定した。
(環境試験後の光学品質(RMS値)の評価)
RMS値が、0.05λ以下である場合を合格と判定した。
(環境試験後のヘイズの評価)
ヘイズが、1.0%以下である場合を合格と判定した。
◇370nm,450nm 分光光線透過率:島津製作所製UV-2450型紫外・可視分光光度計を使用し、環境試験前後の370nm,450nm 分光光線透過率を測定した。
(実施例・比較例)
製造例で得られた樹脂A乃至Dと、合成例または市販の添加剤とを溶融状態で直接、押出機に装入し、樹脂組成物を得た。使用した樹脂と合成例または市販の添加剤の種・混合質量比は表−2、表−3に示したとおりである。なお、表中の混合質量比は樹脂100質量部に対する添加剤の添加量(質量部)で示した。
具体的には同方向回転、スクリュー径120mmφ、樹脂装入部からL/D=10およびL/D=20の位置にベント孔があり、L/D=24の位置に添加剤装入孔があるL/D=45.5の二軸押出機を用い、製造例で得た環状オレフィンランダム共重合体を樹脂装入部より装入し、80℃i加温溶融させた合成例または市販の添加剤を添加剤装入孔から装入し、スクリュー回転数250rpm、モータ動力50〜60kw、ベント圧の設定を3Torrとして樹脂組成物を得た。
得られた樹脂組成物の評価結果を表−2、表−3にあわせて示す。
Figure 0005778884
Figure 0005778884

Claims (6)

  1. 下記一般式;
    Figure 0005778884
    (式中、x,yは共重合比を示し、0/100≦y/x≦95/5を満たす実数である)で表される、エチレンとテトラシクロ[4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ]-3-ドデセンとの共重合体またはその水素添加物、または8−エチルテトラシクロ[4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ]−ドデカ−3−エンの開環重合体の水素添加物である重合体100質量部に対し、
    ペンタエリスリトール、ペンタエリスリトールの脂肪酸モノエステル、ペンタエリスリトールの脂肪酸ジエステル、ペンタエリスリトールの脂肪酸トリエステル、およびペンタエリスリトールの脂肪酸テトラエステルを含むペンタエリスリトール誘導体組成物を1.0質量部以上3.0質量部以下含み、
    前記脂肪酸モノエステル、前記脂肪酸ジエステル、前記脂肪酸トリエステル、および前記脂肪酸テトラエステルを構成する脂肪酸が、ステアリン酸又はパルミチン酸であり、
    前記ペンタエリスリトール誘導体組成物の組成が、式(a)および(b);
    0.2% ≦ [A0] ≦ 2% (a)
    60% ≦ A+A ≦ 80% (b)
    (但し、式(a)中、[A]は、ガスクロマトグラフィー法において定量された、前記ペンタエリスリトールの、前記ペンタエリスリトール誘導体組成物中の含有質量%を示す。なお、式(a)において、前記ペンタエリスリトール、前記脂肪酸モノエステル、前記脂肪酸ジエステル、前記脂肪酸トリエステル、および前記脂肪酸テトラエステルの合計質量を100質量%とする。
    また、式(b)中、Aは、前記脂肪酸モノエステルのゲル浸透クロマトグラフ(GPC)法における、下記条件で測定されたピーク面積%を示し、Aは、前記脂肪酸ジエステルのGPC法における、下記条件で測定されたピーク面積%を示す。なお、式(b)において、前記ペンタエリスリトール、前記脂肪酸モノエステル、前記脂肪酸ジエステル、前記脂肪酸トリエステル、および前記脂肪酸テトラエステルの各々のピークの合計面積をピーク面積100%とする。)
    を満たすことを特徴とする樹脂組成物。
    測定機器:HLC−8220GPC(東ソー社製)
    カラム:G2000HXL+G1000HXL
    溶媒:THF
    流量:1.0mL/min
    カラム温度:40℃
    サンプル濃度:0.3%
    注入量:100μL
    検出感度:0.100mV/分
    検出器:RI
    標準物質:ポリスチレン(東ソー社製、Mw=526、2630、10200)
  2. 前記式(a)は以下のように表されることを特徴とする請求項1に記載の樹脂組成物;
    0.2% ≦ [A0] ≦ 1% (a)
    (式(a)中、[A]は前記と同義である。)。
  3. ペンタエリスリトール、ペンタエリスリトールの脂肪酸モノエステル、ペンタエリスリトールの脂肪酸ジエステル、ペンタエリスリトールの脂肪酸トリエステル、およびペンタエリスリトールの脂肪酸テトラエステルを含み、これらのエステルを構成する脂肪酸が、ステアリン酸又はパルミチン酸である、ペンタエリスリトール誘導体組成物であって、
    該誘導体組成物の組成が式(a)および(b)を満たし、かつエチレンとテトラシクロ[4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ]-3-ドデセンとの共重合体またはその水素添加物、または8−エチルテトラシクロ[4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ]−ドデカ−3−エンの開環重合体の水素添加物から選択される重合体用添加剤として用いられることを特徴とするペンタエリスリトール誘導体組成物。
    0.2% ≦ [A0] ≦ 2% (a)
    60% ≦ A+A ≦ 80% (b)
    (但し、式(a)中、[A]は、ガスクロマトグラフィー法において定量された、前記ペンタエリスリトールの、前記ペンタエリスリトール誘導体組成物中の含有質量%を示す。なお、式(a)において、前記ペンタエリスリトール、前記脂肪酸モノエステル、前記脂肪酸ジエステル、前記脂肪酸トリエステル、および前記脂肪酸テトラエステルの合計質量を100質量%とする。
    また、式(b)中、Aは、前記脂肪酸モノエステルのゲル浸透クロマトグラフ(GPC)法における、下記条件で測定されたピーク面積%を示し、Aは、前記脂肪酸ジエステルのGPC法における、下記条件で測定されたピーク面積%を示す。なお、式(b)において、前記ペンタエリスリトール、前記脂肪酸モノエステル、前記脂肪酸ジエステル、前記脂肪酸トリエステル、および前記脂肪酸テトラエステルの各々のピークの合計面積をピーク面積100%とする。)
    測定機器:HLC−8220GPC(東ソー社製)
    カラム:G2000HXL+G1000HXL
    溶媒:THF
    流量:1.0mL/min
    カラム温度:40℃
    サンプル濃度:0.3%
    注入量:100μL
    検出感度:0.100mV/分
    検出器:RI
    標準物質:ポリスチレン(東ソー社製、Mw=526、2630、10200)
  4. 前記式(a)は以下のように表されることを特徴とする請求項に記載のペンタエリスリトール誘導体組成物;
    0.2% ≦ [A0] ≦ 1% (a)
    (式(a)中、[A]は前記と同義である。)。
  5. ペンタエリスリトール 1モルに対し、ステアリン酸又はパルミチン酸を1.0モル以上1.7モル以下の量で反応させてペンタエリスリトールをエステル化する工程と、
    前記工程において得られたエステル化物を濾過する工程と、を含むことを特徴とする請求項またはに記載のペンタエリスリトール誘導体組成物の製造方法。
  6. ペンタエリスリトールをエステル化する前記工程において、
    ナトリウム含有量が100ppm以下のペンタエリスリトールを用いることを特徴とする請求項に記載のペンタエリスリトール誘導体組成物の製造方法。
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