JP6087576B2 - 皮膚外用剤 - Google Patents
皮膚外用剤 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6087576B2 JP6087576B2 JP2012235044A JP2012235044A JP6087576B2 JP 6087576 B2 JP6087576 B2 JP 6087576B2 JP 2012235044 A JP2012235044 A JP 2012235044A JP 2012235044 A JP2012235044 A JP 2012235044A JP 6087576 B2 JP6087576 B2 JP 6087576B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ethylhexyl
- pentaerythritol
- treatment
- component
- sunscreen
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 0 *C1(*)OCC(CO)(CO)CO1 Chemical compound *C1(*)OCC(CO)(CO)CO1 0.000 description 2
Landscapes
- Cosmetics (AREA)
Description
本発明は、日焼け止め化粧料に関する。
紫外線吸収剤や紫外線散乱剤を配合した日焼け止め化粧料はこれまでに多数開発されている。一般に日焼け止め化粧料は、油中水型乳化物あるいは水中油型乳化物の剤形をとることが多く、それぞれの特性に適した用途に使用されている。
油中水型乳化物は、油溶性の紫外線吸収剤や紫外線散乱剤を高配合できるため、高いＳＰＦ（紫外線Ｂ波を防ぐ指数；サン・プロテクション・ファクター）やＰＡ（紫外線Ａ波を防ぐ指数；サン・プロテクショングレード・オブ・ＵＶＡ）が期待でき、また耐水性にも優れるが、油っぽくべたつくといった使用感が課題となっている。
水中油型乳化物は、みずみずしい使用感が得られるが、水溶性紫外線吸収剤を用いた場合、高いＳＰＦを達成することが困難であり、また油溶性の紫外線吸収剤を高配合させようとすると、製剤中の油性成分が多くなり、その結果、油っぽくべたつくといった使用感となることが課題となっている。また、紫外線散乱剤を高配合した場合、安定性が損なわれたり、きしみ感を生じることが課題となっている。
水中油型乳化物は、みずみずしい使用感が得られるが、水溶性紫外線吸収剤を用いた場合、高いＳＰＦを達成することが困難であり、また油溶性の紫外線吸収剤を高配合させようとすると、製剤中の油性成分が多くなり、その結果、油っぽくべたつくといった使用感となることが課題となっている。また、紫外線散乱剤を高配合した場合、安定性が損なわれたり、きしみ感を生じることが課題となっている。
これらの課題の改善を目的として、水溶性紫外線吸収剤と油溶性紫外線吸収剤とを組み合わせた日焼け止め化粧料（特許文献１、２等）、揮発性シリコーン油や特定のポリエーテル変性シリコーンと特定の紫外線吸収剤を組み合わせた日焼け止め化粧料（特許文献３）等が報告されている。
しかしながら、ある程度はべたつき感やきしみ感といった使用感を改善することはできるものの、十分に満足のいくものではなかった。
従って、本発明の課題は、べたつき感やきしみ感を生じず、紫外線防御効果にも優れる日焼け止め化粧料を提供することにある。
従って、本発明の課題は、べたつき感やきしみ感を生じず、紫外線防御効果にも優れる日焼け止め化粧料を提供することにある。
本発明者は、かかる事情に鑑み鋭意検討した結果、（Ａ）ペンタエリスリトールび特定の式で表されるペンタエリスリトールのアルキルアセタール誘導体から選ばれる１種又は２種以上と、（Ｂ）紫外線吸収剤及び／又は（Ｃ）紫外線散乱剤とを組み合わせた日焼け止め化粧料が、紫外線防御効果に優れ、べたつき感やきしみ感がなく、且つ安定性にも優れることを見出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明は、次の成分（Ａ）と、成分（Ｂ）及び／又は成分（Ｃ）を含有する日焼け止め化粧料を提供するものである。
（Ａ）ペンタエリスリトール、下記一般式（１）、（２）で表されるペンタエリスリトールのアルキルアセタール誘導体から選ばれる１種又は２種以上
（Ａ）ペンタエリスリトール、下記一般式（１）、（２）で表されるペンタエリスリトールのアルキルアセタール誘導体から選ばれる１種又は２種以上
（式中、Ｒ1とＲ2は、互いに異なっていても良い、炭素数１〜４のアルキル基を示す。）
（式中、Ｒ3〜Ｒ6は、互いに異なっていても良い、炭素数１〜４のアルキル基を示す。）
（Ｂ）紫外線吸収剤
（Ｃ）紫外線散乱剤
（Ｂ）紫外線吸収剤
（Ｃ）紫外線散乱剤
本発明の日焼け止め化粧料は、紫外線防御効果に優れ、べたつき感やきしみ感を生じず、安定性にも優れるものである。
以下、本発明の構成について詳述する。
本発明に用いられる成分（Ａ）は、ペンタエリスリトール及びペンタエリスリトールのアルキルアセタール誘導体から選ばれるものである。
ペンタエリスリトールは、Ｃ（ＣＨ2ＯＨ）4の式で表される糖アルコールの１種である。
またペンタエリスリトールのアルキルアセタール誘導体は、下記一般式（１）又は（２）で表されるものである。
ペンタエリスリトールは、Ｃ（ＣＨ2ＯＨ）4の式で表される糖アルコールの１種である。
またペンタエリスリトールのアルキルアセタール誘導体は、下記一般式（１）又は（２）で表されるものである。
（式中、Ｒ1とＲ2は、互いに異なっていても良い、炭素数１〜４のアルキル基を示す。）
（式中、Ｒ3〜Ｒ6は、互いに異なっていても良い、炭素数１〜４のアルキル基を示す。）
上記一般式（１）又は（２）において、Ｒ1〜Ｒ6で示されるアルキル基としては、炭素数１〜３のアルキル基が好ましい。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基が挙げられ、さらにメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基が好ましく、特にメチル基、エチル基が好ましい。
式（１）で表されるペンタエリスリトールのアルキルアセタール誘導体としては、モノイソプロピリデンペンタエリスリトール、モノ（１−メチルプロピリデン）ペンタエリスリトール、モノ（１−メチルブチリデン）ペンタエリスリトール、モノ（１−エチルプロピリデン）ペンタエリスリトール、モノ（１−エチルブチリデン）ペンタエリスリトール、モノ（１−プロピルブチリデン）ペンタエリスリトール等が挙げられる。
式（２）で表されるペンタエリスリトールのアルキルアセタール誘導体としては、ジイソプロピリデンペンタエリスリトール、ジ（１−メチルプロピリデン）ペンタエリスリトール、ジ（１−メチルブチリデン）ペンタエリスリトール、ジ（１−エチルプロピリデン）ペンタエリスリトール、ジ（１−エチルブチリデン）ペンタエリスリトール、ジ（１−プロピルブチリデン）ペンタエリスリトール等が挙げられる。
本発明に係る一般式（１）及び一般式（２）で表されるペンタエリスリトールのアルキルアセタール誘導体は、公知の方法によりペンタエリスリトールとアルキルケトン化合物から合成することができる。
本発明における成分（Ａ）の好ましい含有量は、日焼け止め化粧料の総量を基準として、０．０１質量％（以下、％と略記）以上であり、より好ましくは０．１％以上であり、さらに好ましくは０．５％以上であり、また１０％以下が好ましく、８％以下がより好ましく、５％以下がさらに好ましい。具体的な成分（Ａ）の含有量の好ましい範囲は、０．０１〜１０％であり、より好ましくは０．１〜８％であり、さらに好ましくは０．５〜５％である。この範囲内であれば、べたつき感を生じない優れた使用感が得られる。
本発明に用いられる成分（Ｂ）である紫外線吸収剤は、特に限定されないが、例えば、ジメトキシベンジリデンオキソイミダゾリジンプロピオン酸２−エチルヘキシル、ビスエチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン、メチレンビスベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−硫酸、２，２'−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、メトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル、ｐ−メトキシハイドロケイ皮酸ジエタノールアミン塩、パラアミノ安息香酸（以後、ＰＡＢＡと略す）、エチルジヒドロキシプロピルＰＡＢＡ、グリセリルＰＡＢＡ、サリチル酸ホモメンチル、メチル−Ｏ−アミノベンゾエート、２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、パラジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシル、２−フェニル−ベンズイミダゾール−５−硫酸、サリチル酸トリエタノールアミンサリチル酸エチルヘキシル、３−（４−メチルベンジリデン）カンフル、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２'，４，４'−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２'−ジヒドロキシ−４，４'−ジメトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−Ｎ−オクトキシベンゾフェノン、４−イソプロピル ジベンゾイルメタン、４−ｔｅｒｔ−ブチル−４'−メトキシジベンゾイルメタン、オクチルトリアゾン、ジメトキシケイ皮酸イソオクタン酸グリセリドや、ジメチコンエチルベンザルマロネートなどの高分子誘導体、シラン誘導体等が挙げられる。
これらの中でも、特に、ジメトキシベンジリデンオキソイミダゾリジンプロピオン酸２−エチルヘキシル、ビスエチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン、メチレンビスベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル、４−ｔｅｒｔ−ブチル−４'−メトキシジベンゾイルメタン、メトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル、２−エチルヘキシル ２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、パラジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシル、サリチル酸エチルヘキシル、オクチルトリアゾン、ジメチコンエチルベンザルマロネート、２−フェニル−ベンズイミダゾール−５−硫酸が、紫外線防御効果の点で好ましい。
これら成分（Ｂ）は、単独で用いても良いし、２種以上を組み合わせて用いても良い。
これらの中でも、特に、ジメトキシベンジリデンオキソイミダゾリジンプロピオン酸２−エチルヘキシル、ビスエチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン、メチレンビスベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル、４−ｔｅｒｔ−ブチル−４'−メトキシジベンゾイルメタン、メトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル、２−エチルヘキシル ２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、パラジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシル、サリチル酸エチルヘキシル、オクチルトリアゾン、ジメチコンエチルベンザルマロネート、２−フェニル−ベンズイミダゾール−５−硫酸が、紫外線防御効果の点で好ましい。
これら成分（Ｂ）は、単独で用いても良いし、２種以上を組み合わせて用いても良い。
本発明における成分（Ｂ）の好ましい含有量は、日焼け止め化粧料の総量を基準として、１％以上であり、より好ましくは２％以上であり、さらに好ましくは３％以上であり、また２０％以下が好ましく、１５％以下がより好ましく、１０％以下がさらに好ましい。具体的な成分（Ｂ）の含有量の範囲は、１〜２０％が好ましく、２〜１５％がより好ましく、３〜１０％がさらに好ましい。この範囲内であれば、十分な紫外線防御効果が得られ、べたつき感といった使用感も良好である。
本発明に用いられる成分（Ｃ）である紫外線散乱剤は、特に限定されないが、紫外線防御効果を有する粉体を配合することが好ましい。例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉄等の金属酸化物、水酸化鉄等の金属水酸化物、アルミニウムフレーク等の金属フレーク類、炭化珪素等のセラミック類が挙げられる。これらは、従来公知の疎水化表面処理、例えば、フッ素化合物処理（パーフルオロアルキルリン酸エステル処理やパーフルオロアルキルシラン処理、パーフルオロポリエーテル処理、フルオロシリコーン処理、フッ素化シリコーン樹脂処理が好ましい）、シリコーン処理（メチルハイドロジェンポリシロキサン処理、ジメチルポリシロキサン処理、気相法テトラメチルテトラハイドロジェンシクロテトラシロキサン処理が好ましい）、シリコーン樹脂処理（トリメチルシロキシケイ酸処理が好ましい）、ペンダント処理（気相法シリコーン処理後にアルキル鎖等を付加する方法）、シランカップリング剤処理、チタンカップリング剤処理、シラン処理（アルキルシランやアルキルシラザン処理が好ましい）、油剤処理、Ｎ−アシル化リジン処理、ポリアクリル酸処理、金属石鹸処理（ステアリン酸やミリスチン酸塩が好ましい）、アクリル樹脂処理、金属酸化物処理等で表面処理をすることが好ましい。
これらの中でも、特に、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム等の金属酸化物、及びこれらの疎水化処理物が、紫外線防御効果の点で好ましい。
上記金属酸化物は、透過型電子顕微鏡によって測定された平均粒子径が１０ｎｍ以上であるものが好ましく、１５ｎｍ以上であるものがより好ましく、２０ｎｍ以上であるものがさらに好ましく、また２００μｍ以下であるものが好ましく、１００μｍ以下であるものがより好ましく、５０μｍ以下であるものがさらに好ましい。これらの金属酸化物の具体的な平均粒子径は、１０ｎｍ〜２００μｍであるものが好ましく、１０ｎｍ〜１００μｍであるものがさらに好ましく、１５ｎｍ〜５０μｍであるものがさらに好ましく、２０ｎｍ〜５０μｍであるものがさらに好ましい。
また、上記疎水化表面処理のうち、シリコーン処理、シリコーン樹脂処理、シラン処理、油剤処理で表面処理されたものが特に好ましい。
これら成分（Ｃ）は、単独で用いても良いし、２種以上を組み合わせて用いても良い。
上記金属酸化物は、透過型電子顕微鏡によって測定された平均粒子径が１０ｎｍ以上であるものが好ましく、１５ｎｍ以上であるものがより好ましく、２０ｎｍ以上であるものがさらに好ましく、また２００μｍ以下であるものが好ましく、１００μｍ以下であるものがより好ましく、５０μｍ以下であるものがさらに好ましい。これらの金属酸化物の具体的な平均粒子径は、１０ｎｍ〜２００μｍであるものが好ましく、１０ｎｍ〜１００μｍであるものがさらに好ましく、１５ｎｍ〜５０μｍであるものがさらに好ましく、２０ｎｍ〜５０μｍであるものがさらに好ましい。
また、上記疎水化表面処理のうち、シリコーン処理、シリコーン樹脂処理、シラン処理、油剤処理で表面処理されたものが特に好ましい。
これら成分（Ｃ）は、単独で用いても良いし、２種以上を組み合わせて用いても良い。
本発明における成分（Ｃ）の好ましい含有量は、日焼け止め化粧料の総量を基準として、１％以上であり、より好ましくは２％以上であり、さらに好ましくは３％以上であり、また３０％以下が好ましく、２０％以下がより好ましく、１５％以下がさらに好ましい。具体的な成分（Ｃ）の含有量は、１〜３０％が好ましく、２〜２０％がより好ましく、３〜１５％がさらに好ましい。この範囲内であれば、十分な紫外線防御効果が得られ、きしみ感といった使用感も良好である。
本発明の日焼け止め化粧料は、前記の必須成分に加えて必要に応じて本発明の効果を損なわない範囲で通常使用されている任意の成分を使用することができる。これらの成分としては、例えば、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤等の各種界面活性剤、油分、防腐剤、保湿剤、ポリマー類、アミノ酸誘導体、糖誘導体、香料、水、アルコール、増粘剤、色剤、金属イオン封鎖剤、酸化防止剤、薬剤、動植物由来の抽出物、ｐＨ調整剤、等が挙げられる。
本発明の日焼け止め化粧料の剤形は特に限定されるものではないが、例えば、クリーム、乳液、美容液、化粧水、ファンデーション、サンスクリーン剤、化粧下地等の形態で提供するのが好ましい。
次に本発明及び本発明の好ましい実施態様を示す。
＜１＞次の成分（Ａ）と、成分（Ｂ）及び／又は成分（Ｃ）を含有する日焼け止め化粧料。
（Ａ）ペンタエリスリトール、下記一般式（１）、（２）で表されるペンタエリスリトールのアルキルアセタール誘導体から選ばれる１種又は２種以上
（Ａ）ペンタエリスリトール、下記一般式（１）、（２）で表されるペンタエリスリトールのアルキルアセタール誘導体から選ばれる１種又は２種以上
（式中、Ｒ1とＲ2は、互いに異なっていても良い、炭素数１〜４のアルキル基を示す。）
（式中、Ｒ3〜Ｒ6は、互いに異なっていても良い、炭素数１〜４のアルキル基を示す。）
（Ｂ）紫外線吸収剤
（Ｃ）紫外線散乱剤
（Ｂ）紫外線吸収剤
（Ｃ）紫外線散乱剤
＜２＞成分（Ａ）の含有量が、日焼け止め化粧料の総量を基準として、０．０１％以上、好ましくは０．１％以上、より好ましくは０．５％以上であり、また１０％以下、好ましくは８％以下、より好ましくは５％以下である＜１＞の日焼け止め化粧料。
＜３＞成分（Ａ）の含有量が、０．０１〜１０％、好ましくは０．１〜８％、より好ましくは０．５〜５％である＜１＞又は＜２＞の日焼け止め化粧料。
＜４＞成分（Ｂ）が、ジメトキシベンジリデンオキソイミダゾリジンプロピオン酸２−エチルヘキシル、ビスエチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン、メチレンビスベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−硫酸、２，２'−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、メトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル、ｐ−メトキシハイドロケイ皮酸ジエタノールアミン塩、パラアミノ安息香酸（以後、ＰＡＢＡと略す）、エチルジヒドロキシプロピルＰＡＢＡ、グリセリルＰＡＢＡ、サリチル酸ホモメンチル、メチル−Ｏ−アミノベンゾエート、２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、パラジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシル、２−フェニル−ベンズイミダゾール−５−硫酸、サリチル酸トリエタノールアミンサリチル酸エチルヘキシル、３−（４−メチルベンジリデン）カンフル、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２'，４，４'−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２'−ジヒドロキシ−４，４'−ジメトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−Ｎ−オクトキシベンゾフェノン、４−イソプロピル ジベンゾイルメタン、４−ｔｅｒｔ−ブチル−４'−メトキシジベンゾイルメタン、オクチルトリアゾン、ジメトキシケイ皮酸イソオクタン酸グリセリド、ジメチコンエチルベンザルマロネート、及びシラン誘導体から選ばれる１種又は２種以上である＜１＞〜＜３＞の日焼け止め化粧料。
＜５＞成分（Ｂ）が、ジメトキシベンジリデンオキソイミダゾリジンプロピオン酸２−エチルヘキシル、ビスエチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン、メチレンビスベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル、４−ｔｅｒｔ−ブチル−４'−メトキシジベンゾイルメタン、メトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル、２−エチルヘキシル ２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、パラジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシル、サリチル酸エチルヘキシル、オクチルトリアゾン、ジメチコンエチルベンザルマロネート、及び２−フェニル−ベンズイミダゾール−５−硫酸から選ばれる１種又は２種以上である＜１＞〜＜４＞の日焼け止め化粧料。
＜６＞成分（Ｂ）の含有量が、日焼け止め化粧料の総量を基準として、１％以上、好ましくは２％以上、より好ましくは３％以上であり、また２０％以下、好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下である＜１＞〜＜５＞の日焼け止め化粧料。
＜７＞成分（Ｂ）の含有量が、１〜２０％、好ましくは２〜１５％、より好ましくは３〜１０％である＜１＞〜＜６＞の日焼け止め化粧料。
＜８＞成分（Ｃ）が、金属酸化物、金属水酸化物、金属フレーク、セラミック及びこれらの疎水化表面処理物から選ばれる１種又は２種以上である＜１＞〜＜７＞の日焼け止め化粧料。
＜９＞成分（Ｃ）が、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム及びそれらの疎水化表面処理物から選ばれる１種又は２種以上である＜１＞〜＜８＞の日焼け止め化粧料。
＜10＞成分（Ｃ）の平均粒子径が、１０ｎｍ以上、好ましくは１５ｎｍ以上、より好ましくは２０ｎｍ以上であり、また２００μｍ以下、好ましくは１００μｍ以下、より好ましくは５０μｍ以下である＜１＞〜＜９＞の日焼け止め化粧料。
＜11＞成分（Ｃ）の平均粒子径が、１０ｎｍ〜２００μｍ、好ましくは１０ｎｍ〜１００μｍ、より好ましくは１５ｎｍ〜５０μｍ、さらに好ましくは２０ｎｍ〜５０μｍである＜１＞〜＜10＞の日焼け止め化粧料。
＜12＞疎水化表面処理が、フッ素化合物処理、シリコーン処理、シリコーン樹脂処理、ペンダント処理、シランカップリング処理、チタンカップリング処理、シラン処理、油剤処理、Ｎ−アシルリジン処理、ポリアクリル酸処理及び金属石鹸処理から選ばれる処理である＜８＞〜＜11＞の日焼け止め化粧料。
＜13＞成分（Ｃ）の含有量が、日焼け止め化粧料の総量を基準として、１％以上、好ましくは２％以上、より好ましくは３％以上であり、また３０％以下、好ましくは２０％以下、より好ましくは１５％以下である＜１＞〜＜12＞の日焼け止め化粧料。
＜14＞成分（Ｃ）の含有量が、１〜３０％、好ましくは２〜２０％、より好ましくは３〜１５％である＜１＞〜＜13＞の日焼け止め化粧料。
＜15＞成分（Ｂ）及び成分（Ｃ）を含有するものである＜１＞〜＜14＞の日焼け止め化粧料。
＜３＞成分（Ａ）の含有量が、０．０１〜１０％、好ましくは０．１〜８％、より好ましくは０．５〜５％である＜１＞又は＜２＞の日焼け止め化粧料。
＜４＞成分（Ｂ）が、ジメトキシベンジリデンオキソイミダゾリジンプロピオン酸２−エチルヘキシル、ビスエチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン、メチレンビスベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−硫酸、２，２'−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、メトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル、ｐ−メトキシハイドロケイ皮酸ジエタノールアミン塩、パラアミノ安息香酸（以後、ＰＡＢＡと略す）、エチルジヒドロキシプロピルＰＡＢＡ、グリセリルＰＡＢＡ、サリチル酸ホモメンチル、メチル−Ｏ−アミノベンゾエート、２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、パラジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシル、２−フェニル−ベンズイミダゾール−５−硫酸、サリチル酸トリエタノールアミンサリチル酸エチルヘキシル、３−（４−メチルベンジリデン）カンフル、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２'，４，４'−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２'−ジヒドロキシ−４，４'−ジメトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−Ｎ−オクトキシベンゾフェノン、４−イソプロピル ジベンゾイルメタン、４−ｔｅｒｔ−ブチル−４'−メトキシジベンゾイルメタン、オクチルトリアゾン、ジメトキシケイ皮酸イソオクタン酸グリセリド、ジメチコンエチルベンザルマロネート、及びシラン誘導体から選ばれる１種又は２種以上である＜１＞〜＜３＞の日焼け止め化粧料。
＜５＞成分（Ｂ）が、ジメトキシベンジリデンオキソイミダゾリジンプロピオン酸２−エチルヘキシル、ビスエチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン、メチレンビスベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル、４−ｔｅｒｔ−ブチル−４'−メトキシジベンゾイルメタン、メトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル、２−エチルヘキシル ２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、パラジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシル、サリチル酸エチルヘキシル、オクチルトリアゾン、ジメチコンエチルベンザルマロネート、及び２−フェニル−ベンズイミダゾール−５−硫酸から選ばれる１種又は２種以上である＜１＞〜＜４＞の日焼け止め化粧料。
＜６＞成分（Ｂ）の含有量が、日焼け止め化粧料の総量を基準として、１％以上、好ましくは２％以上、より好ましくは３％以上であり、また２０％以下、好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下である＜１＞〜＜５＞の日焼け止め化粧料。
＜７＞成分（Ｂ）の含有量が、１〜２０％、好ましくは２〜１５％、より好ましくは３〜１０％である＜１＞〜＜６＞の日焼け止め化粧料。
＜８＞成分（Ｃ）が、金属酸化物、金属水酸化物、金属フレーク、セラミック及びこれらの疎水化表面処理物から選ばれる１種又は２種以上である＜１＞〜＜７＞の日焼け止め化粧料。
＜９＞成分（Ｃ）が、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム及びそれらの疎水化表面処理物から選ばれる１種又は２種以上である＜１＞〜＜８＞の日焼け止め化粧料。
＜10＞成分（Ｃ）の平均粒子径が、１０ｎｍ以上、好ましくは１５ｎｍ以上、より好ましくは２０ｎｍ以上であり、また２００μｍ以下、好ましくは１００μｍ以下、より好ましくは５０μｍ以下である＜１＞〜＜９＞の日焼け止め化粧料。
＜11＞成分（Ｃ）の平均粒子径が、１０ｎｍ〜２００μｍ、好ましくは１０ｎｍ〜１００μｍ、より好ましくは１５ｎｍ〜５０μｍ、さらに好ましくは２０ｎｍ〜５０μｍである＜１＞〜＜10＞の日焼け止め化粧料。
＜12＞疎水化表面処理が、フッ素化合物処理、シリコーン処理、シリコーン樹脂処理、ペンダント処理、シランカップリング処理、チタンカップリング処理、シラン処理、油剤処理、Ｎ−アシルリジン処理、ポリアクリル酸処理及び金属石鹸処理から選ばれる処理である＜８＞〜＜11＞の日焼け止め化粧料。
＜13＞成分（Ｃ）の含有量が、日焼け止め化粧料の総量を基準として、１％以上、好ましくは２％以上、より好ましくは３％以上であり、また３０％以下、好ましくは２０％以下、より好ましくは１５％以下である＜１＞〜＜12＞の日焼け止め化粧料。
＜14＞成分（Ｃ）の含有量が、１〜３０％、好ましくは２〜２０％、より好ましくは３〜１５％である＜１＞〜＜13＞の日焼け止め化粧料。
＜15＞成分（Ｂ）及び成分（Ｃ）を含有するものである＜１＞〜＜14＞の日焼け止め化粧料。
以下、本発明に関して、実施例をもって詳細に説明するが、本発明はこれにより限定されるものではない。
実施例１〜９及び比較例１〜１０
表１に示す日焼け止め化粧料を常法に従って調製し、（１）紫外線防御効果、（２）使用感（べたつき感）、（３）使用感（きしみ感）を下記の方法により評価し、その結果を併せて表１に示した。
表１に示す日焼け止め化粧料を常法に従って調製し、（１）紫外線防御効果、（２）使用感（べたつき感）、（３）使用感（きしみ感）を下記の方法により評価し、その結果を併せて表１に示した。
＜紫外線防御効果＞
実施例、比較例の日焼け止め化粧料の試料を２ｍｇ／ｃｍ２の割合で、石英硝子上に張り付けた樹脂テープ上に塗布し、ＳＰＦアナライザー（Ｌａｂｓｐｈｅｒｅ社、ＵＶ−１０００Ｓ）を用いて紫外線防御能を測定した。
実施例、比較例の日焼け止め化粧料の試料を２ｍｇ／ｃｍ２の割合で、石英硝子上に張り付けた樹脂テープ上に塗布し、ＳＰＦアナライザー（Ｌａｂｓｐｈｅｒｅ社、ＵＶ−１０００Ｓ）を用いて紫外線防御能を測定した。
比較例１の性能を比較対照として、評価試料の性能を以下に示す基準に従って評価した。
○：比較例１より紫外線防御効果が優れる。
△：比較例１と紫外線防御効果が同程度。
×：比較例１より紫外線防御効果が劣る。
○：比較例１より紫外線防御効果が優れる。
△：比較例１と紫外線防御効果が同程度。
×：比較例１より紫外線防御効果が劣る。
＜官能特性評価試験＞
実施例、比較例の日焼け止め化粧料を常法にて作成し官能特性評価試験を行った。官能特性評価試験は、１０名の専門パネラーが各試料を使用し、べたつき感、きしみ感の各官能特性について以下の基準に従って５段階で評価し、その平均点を求め、４．０以上を◎、３．０以上４．０未満を○、２．０以上３．０未満を△、２．０未満を×とした。
実施例、比較例の日焼け止め化粧料を常法にて作成し官能特性評価試験を行った。官能特性評価試験は、１０名の専門パネラーが各試料を使用し、べたつき感、きしみ感の各官能特性について以下の基準に従って５段階で評価し、その平均点を求め、４．０以上を◎、３．０以上４．０未満を○、２．０以上３．０未満を△、２．０未満を×とした。
（評価基準）
５：非常に好ましい。
４：好ましい。
３：どちらともいえない。
２：好ましくない。
１：非常に好ましくない。
５：非常に好ましい。
４：好ましい。
３：どちらともいえない。
２：好ましくない。
１：非常に好ましくない。
上記表１より成分（Ａ）を含有しない比較例１〜１０は、紫外線防御効果は有するものの、べたつき感やきしみ感の両方を改善することができないものであった。これに対して、成分（Ａ）を含有する実施例１〜９は、紫外線防御効果を有し、且つべたつき感やきしみ感の両方が改善されたものであった。特に、実施例５は、特許文献３にあるような揮発性シリコーン油と特定のポリエーテル変性シリコーンを併用することにより、べたつき感がやや改善されている比較例５に、更に（Ａ）成分を含有させたものであり、べたつき感、きしみ感ともに顕著に改善された日焼け止め化粧料が得られた。
実施例１０〜１９
下記表２の組成の日焼け止め化粧料を常法により製造した。
下記表２の組成の日焼け止め化粧料を常法により製造した。
実施例１０〜１９で得られた日焼け止め化粧料は、紫外線防御効果に優れ、べたつき感やきしみ感を生じず、官能特性にも優れ、長期保存後も分離等が生じず保存安定性にも優れたものであった。
実施例２０〜２２
下記組成の日焼け止め化粧料を常法により製造した。
下記組成の日焼け止め化粧料を常法により製造した。
実施例２０（ファンデーション）
（成分） （配合量％）
ペンタエリスリトール ３．０
４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシベンゾイルメタン １．０
（商品名：パラソル１７８９、ロッシュ社製）
ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル ０．５
（商品名：ユビナールＡｐｌｕｓ、ＢＡＳＦ社製）
メトキシケイヒ酸２−エチルヘキシル ６．０
（商品名：ユビナールＭＣ−８０、ＢＡＳＦ社製）
シリコーン処理微粒子酸化亜鉛 １５．０
シリコーン処理酸化チタン １０．０
シリコーン処理タルク ３．０
シリコーン処理黄酸化鉄 ０．８
シリコーン処理黒酸化鉄 ０．１６
イソヘキサデカン ５．０
トリストリメチルシロキシメチルシラン
（商品名：ＴＭＦ−１．５、信越化学工業社製） ５．０
ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油（６０Ｅ．Ｏ．） ２．０
１，３−ブチレングリコール ６．０
ＳＥＰＩＧＥＬ ５０１ ３．０
（ポリアクリルアミド２０質量％含有：ＳＥＰＰＩＣ社製）
サクシノグリカン ０．２
カルボキシメチルセルロース ０．３
エタノール ５．０
精製水 残 余
（成分） （配合量％）
ペンタエリスリトール ３．０
４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシベンゾイルメタン １．０
（商品名：パラソル１７８９、ロッシュ社製）
ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル ０．５
（商品名：ユビナールＡｐｌｕｓ、ＢＡＳＦ社製）
メトキシケイヒ酸２−エチルヘキシル ６．０
（商品名：ユビナールＭＣ−８０、ＢＡＳＦ社製）
シリコーン処理微粒子酸化亜鉛 １５．０
シリコーン処理酸化チタン １０．０
シリコーン処理タルク ３．０
シリコーン処理黄酸化鉄 ０．８
シリコーン処理黒酸化鉄 ０．１６
イソヘキサデカン ５．０
トリストリメチルシロキシメチルシラン
（商品名：ＴＭＦ−１．５、信越化学工業社製） ５．０
ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油（６０Ｅ．Ｏ．） ２．０
１，３−ブチレングリコール ６．０
ＳＥＰＩＧＥＬ ５０１ ３．０
（ポリアクリルアミド２０質量％含有：ＳＥＰＰＩＣ社製）
サクシノグリカン ０．２
カルボキシメチルセルロース ０．３
エタノール ５．０
精製水 残 余
実施例２１（日焼け止め化粧料）
（成分） （配合量％）
ペンタエリスリトール １．０
モノイソプロピリデンペンタエリスリトール ０．５
ジ（１−エチルプロピリデン）ペンタエリスリトール ３．０
パラメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル ４．０
（商品名：ユビナールＭＣ−８０、ＢＡＳＦ社製）
４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジゼンゾイルメタン １．０
（商品名：パラソル１７８９、ロッシュ社製）
ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル ０．５
（商品名：ユビナールＡｐｌｕｓ、ＢＡＳＦ社製）
シリコーン処理亜鉛チタン １０．０
シリコーン処理酸化亜鉛 １０．０
ポリメチルシルセスキオキサン ３．０
ジメチルポリシロキサン ５．０
ミリスチン酸オクチルドデシル ５．０
ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油（６０Ｅ．Ｏ．） １．０
モノラウリン酸ポリオキシエチレンソルビタン（２０Ｅ．Ｏ．）０．５
グリセリン ３．０
トリメチルシロキシケイ酸 ０．５
エタノール ０．５
フェノキシエタノール ０．５
エデト酸三ナトリウム ０．０１
キサンタンガム ０．１
ヒアルロン酸ナトリウム ０．１
精製水 残 余
（成分） （配合量％）
ペンタエリスリトール １．０
モノイソプロピリデンペンタエリスリトール ０．５
ジ（１−エチルプロピリデン）ペンタエリスリトール ３．０
パラメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル ４．０
（商品名：ユビナールＭＣ−８０、ＢＡＳＦ社製）
４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジゼンゾイルメタン １．０
（商品名：パラソル１７８９、ロッシュ社製）
ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル ０．５
（商品名：ユビナールＡｐｌｕｓ、ＢＡＳＦ社製）
シリコーン処理亜鉛チタン １０．０
シリコーン処理酸化亜鉛 １０．０
ポリメチルシルセスキオキサン ３．０
ジメチルポリシロキサン ５．０
ミリスチン酸オクチルドデシル ５．０
ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油（６０Ｅ．Ｏ．） １．０
モノラウリン酸ポリオキシエチレンソルビタン（２０Ｅ．Ｏ．）０．５
グリセリン ３．０
トリメチルシロキシケイ酸 ０．５
エタノール ０．５
フェノキシエタノール ０．５
エデト酸三ナトリウム ０．０１
キサンタンガム ０．１
ヒアルロン酸ナトリウム ０．１
精製水 残 余
実施例２２（日焼け止め化粧料）
（成分） （配合量％）
ペンタエリスリトール ２．０
２−エチルヘキシル ２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート
（商品名：ユビヌルＮ５３９、ＢＡＳＦ社製） ３．０
２−フェニル−ベンズイミダゾール−５−硫酸
（商品名：オーソレックス２３２、メルク社製） ２．０
アルミナ・ステアリン酸処理酸化チタン ８．０
メチルポリシロキサン・ミリスチン酸処理酸化亜鉛 ４．０
デカメチルペンタシロキサン ５．０
トリストリメチルシロキシメチルシラン
（商品名：ＴＭＦ−１．５、信越化学工業社製） ２０．０
メチルポリシロキサン ７．０
ポリグリセリン変性シリコーン ３．０
有機変性ベントナイト ０．５
グリセリン ３．０
トリエタノールアミン ０．２５
エタノール ５．０
純水 残 余
（成分） （配合量％）
ペンタエリスリトール ２．０
２−エチルヘキシル ２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート
（商品名：ユビヌルＮ５３９、ＢＡＳＦ社製） ３．０
２−フェニル−ベンズイミダゾール−５−硫酸
（商品名：オーソレックス２３２、メルク社製） ２．０
アルミナ・ステアリン酸処理酸化チタン ８．０
メチルポリシロキサン・ミリスチン酸処理酸化亜鉛 ４．０
デカメチルペンタシロキサン ５．０
トリストリメチルシロキシメチルシラン
（商品名：ＴＭＦ−１．５、信越化学工業社製） ２０．０
メチルポリシロキサン ７．０
ポリグリセリン変性シリコーン ３．０
有機変性ベントナイト ０．５
グリセリン ３．０
トリエタノールアミン ０．２５
エタノール ５．０
純水 残 余
実施例２０〜２２で得られた日焼け止め化粧料は、いずれも紫外線防御効果に優れ、べたつき感やきしみ感を生じず官能特性にも優れ、保存安定性にも優れたものであった。
本発明により、紫外線防御効果に優れ、べたつき感やきしみ感を生じず官能特性にも優れ、安定性に優れた日焼け止め化粧料を提供できる。
Claims (1)
- 次の成分（Ａ）と、成分（Ｂ）及び成分（Ｃ）を含有する日焼け止め化粧料。
（Ａ）ペンタエリスリトール、下記一般式（１）、（２）で表されるペンタエリスリトールのアルキルアセタール誘導体から選ばれる１種又は２種以上 ０．５〜４質量％
（Ｂ）ジメトキシベンジリデンオキソイミダゾリジンプロピオン酸２−エチルヘキシル、ビスエチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル、４−ｔｅｒｔ−ブチル−４'−メトキシジベンゾイルメタン、メトキシケイ皮酸エチルヘキシル、２−エチルヘキシル ２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、パラジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシル、サリチル酸エチルヘキシル、オクチルトリアゾン、メチレンビスベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール、及びジメチコンエチルベンザルマロネートから選ばれる１種又は２種以上の紫外線吸収剤 ３〜１０質量％
（Ｃ）酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム及びこれらの疎水化表面処理物から選ばれる１種又は２種以上の紫外線散乱剤 ３〜１５質量％
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012235044A JP6087576B2 (ja) | 2012-10-24 | 2012-10-24 | 皮膚外用剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012235044A JP6087576B2 (ja) | 2012-10-24 | 2012-10-24 | 皮膚外用剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2014084305A JP2014084305A (ja) | 2014-05-12 |
| JP6087576B2 true JP6087576B2 (ja) | 2017-03-01 |
Family
ID=50787710
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2012235044A Expired - Fee Related JP6087576B2 (ja) | 2012-10-24 | 2012-10-24 | 皮膚外用剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6087576B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6616941B2 (ja) * | 2013-11-29 | 2019-12-04 | 花王株式会社 | 抗炎症剤及びメラニン生成抑制剤 |
| DE102016000533A1 (de) * | 2016-01-21 | 2017-07-27 | Beiersdorf Ag | Neues octocrylenfreies Sonnenschutzmittel mit Diethylaminohydroxybenzylhexylbenzoat |
| CN112294670B (zh) * | 2020-11-04 | 2023-05-26 | 广东省科学院生物工程研究所 | 一种广谱防晒组合物及其制备方法和应用 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3485376B2 (ja) * | 1995-02-21 | 2004-01-13 | 株式会社資生堂 | 紫外線吸収剤 |
| JP3925961B2 (ja) * | 1996-08-02 | 2007-06-06 | 株式会社資生堂 | 化粧料 |
| JPH1149655A (ja) * | 1997-08-08 | 1999-02-23 | Shiseido Co Ltd | 皮膚外用剤 |
| JP4996408B2 (ja) * | 2007-09-27 | 2012-08-08 | 花王株式会社 | 日焼け止め化粧料 |
| JP5883726B2 (ja) * | 2012-06-01 | 2016-03-15 | 花王株式会社 | 抗酸化剤 |
| JP6194165B2 (ja) * | 2012-10-24 | 2017-09-06 | 花王株式会社 | 皮膚外用剤 |
-
2012
- 2012-10-24 JP JP2012235044A patent/JP6087576B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2014084305A (ja) | 2014-05-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6766018B2 (ja) | 日焼け止め用組成物 | |
| CN107530256B (zh) | 局部用防晒乳剂 | |
| JP5819299B2 (ja) | 親油性有効成分を含む粘着性が低い化粧品用又は皮膚科用組成物 | |
| JP2023552848A (ja) | １種または複数の（バイオ）アルカンジオールおよび活性成分を含む組成物 | |
| CA2850994C (en) | An aqueous photo-protective personal care composition | |
| EP3870309B1 (en) | Mineral sunscreen compositions with improved efficacy | |
| CN103249395B (zh) | 高spf防晒组合物 | |
| WO2006112865A1 (en) | Personal care compositions comprising silicone resins with enhanced properties, method of manufacture, and method of use thereof | |
| CN104114143A (zh) | 用于防护皮肤对抗uv射线的化妆品套装 | |
| JP2015168635A (ja) | 油中水型乳化化粧料及びその製造方法 | |
| WO2020097233A1 (en) | Mineral sunscreen compositions | |
| JP6087576B2 (ja) | 皮膚外用剤 | |
| JP2011136966A (ja) | 水中油型乳化化粧料 | |
| JP2026503384A (ja) | Ｕｖ遮蔽剤、適切に選択された親油性ポリマー及びカラギーナンを含む組成物 | |
| CN103702655A (zh) | 遮光组合物 | |
| JP2020203888A (ja) | 化粧品製剤におけるｕｖフィルター用可溶化剤 | |
| JP6875134B2 (ja) | 水中油型乳化化粧料 | |
| BR112020007872A2 (pt) | composição e processos cosméticos não terapêuticos | |
| JP2008143837A5 (ja) | ||
| JP5851513B2 (ja) | 安定なサンスクリーン組成物 | |
| JP3939610B2 (ja) | 皮膚化粧料 | |
| JP2004250403A (ja) | 紫外線防御化粧料 | |
| JP2016188190A (ja) | マスキング組成物 | |
| WO2016209695A1 (en) | Sunscreen compositions having synergistic combination of uv filters | |
| JP2021031474A (ja) | 化粧料 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150929 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160722 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160726 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160923 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170104 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170202 |
|
| R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6087576 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |