JP6265643B2 - 電子ビーム装置 - Google Patents
電子ビーム装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6265643B2 JP6265643B2 JP2013158902A JP2013158902A JP6265643B2 JP 6265643 B2 JP6265643 B2 JP 6265643B2 JP 2013158902 A JP2013158902 A JP 2013158902A JP 2013158902 A JP2013158902 A JP 2013158902A JP 6265643 B2 JP6265643 B2 JP 6265643B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- deflector
- slit
- electromagnetic
- electron
- lens
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—HANDLING OF PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K1/00—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
- G21K1/08—Deviation, concentration or focusing of the beam by electric or magnetic means
- G21K1/093—Deviation, concentration or focusing of the beam by electric or magnetic means by magnetic means
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/28—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/10—Lenses
- H01J2237/12—Lenses electrostatic
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/10—Lenses
- H01J2237/14—Lenses magnetic
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/153—Correcting image defects, e.g. stigmators
- H01J2237/1534—Aberrations
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Description
本発明は、軸上色収差の増大を抑えながら効率よくエネルギー分散を低減するウイーンフィルターを提供するものである。
上記した以外の、課題、構成及び効果は、以下の実施形態の説明により明らかにされる。
図1は、実施例1の走査電子顕微鏡を示す全体概略図である。電子銃101から放出された1次電子116は、第1静電偏向器150と第1電磁偏向器151の組、第1コンデンサレンズ103、第2コンデンサレンズ105、第2静電偏向器160と第2電磁偏向器161の組を通り、対物レンズ113によりステージ115に保持された試料114上に結像して照射される。第1静電偏向器150が発生する偏向電場と第1電磁偏向器151が発生する偏向磁場は空間的に互いに重なり合っており、1次電子をそれぞれ反対方向に偏向する。同様に、第2静電偏向器160が発生する偏向電場と第2電磁偏向器161が発生する偏向磁場は空間的に互いに重なり合っており、1次電子をそれぞれ反対方向に偏向する。第1コンデンサレンズ103と第2コンデンサレンズ105の間にはビームスリット170が配置されている。ビームスリット170の位置は、スリット制御部172によって制御されるスリット移動機構171により調整することができる。第1静電偏向器150及び第2静電偏向器160には、第1静電偏向器制御部154及び第2静電偏向器制御部164から偏向色収差の発生効率を向上させるために負の高電圧が印加されている。このために第1静電偏向器150及び第2静電偏向器160は、減速型の静電レンズとして作用する。第1電磁偏向器151及び第2電磁偏向器161は、それぞれ第1電磁偏向器制御部155及び第2電磁偏向器制御部165によって制御される。対物レンズ上磁路110にはブースター電圧制御部141から正電圧が、試料114には試料電圧制御部144から負電圧が印加されており、ここで静電レンズが形成されているため、対物レンズ113は磁場電場重畳レンズとなっている。また、対物レンズ113の開口は試料側に向いており、セミインレンズ型と呼ばれるレンズ構造となっている。対物レンズ制御部142は、対物レンズコイル112に流れる励磁電流を制御する。
図7は、実施例2の走査電子顕微鏡を示す全体概略図である。図1に示した実施例と異なるのは、図1の第1電磁偏向器151と第2電磁偏向器161が本実施例ではそれぞれ2段型第1電磁偏向器152と2段型第2電磁偏向器162に変わったことである。2段型第1電磁偏向器152は2段型第1電磁偏向器制御部156によって制御され、2段型第2電磁偏向器162は2段型第2電磁偏向器制御部166によって制御される。
図10は、実施例3の走査電子顕微鏡を示す全体概略図である。図7に示した実施例との差は、本実施例では第2アライナー700がビームスリットの下に設けられていることにある。第2アライナー700は第2アライナー制御部701によって制御される。
Claims (3)
- 1次電子を放出する電子銃と、
所定のエネルギーを有する電子を通過させるエネルギーフィルターと、
試料を保持するステージと、
前記エネルギーフィルターを通過した1次電子を前記ステージに保持された試料に照射する対物レンズとを有し、
前記エネルギーフィルターは、重なり合った電磁偏向器と静電偏向器の組と、ビームスリットとを含み、
前記ビームスリットと、前記電磁偏向器と前記静電偏向器との組と、の間に電子レンズを有し、
前記電子銃、前記電磁偏向器と前記静電偏向器との組、前記電子レンズ及び前記ビームスリットのそれぞれは前記ビームスリット上への結像が拡大系になれるように配置されており、
前記電子レンズは電磁レンズであり、前記電磁偏向器と前記静電偏向器の偏向方向を前記ビームスリットのビーム制限方向と異なる方向に設定することを特徴とする電子ビーム装置。 - 請求項1記載の電子ビーム装置において、
前記電磁偏向器と前記静電偏向器の偏向方向を前記電磁レンズの励磁に応じて前記ビームスリットのビーム制限方向と異なる方向に設定することを特徴とする電子ビーム装置。 - 1次電子を放出する電子銃と、
所定のエネルギーを有する電子を通過させるエネルギーフィルターと、
試料を保持するステージと、
前記エネルギーフィルターを通過した1次電子を前記ステージに保持された試料に照射する対物レンズとを有し、
前記エネルギーフィルターは、重なり合った電磁偏向器と静電偏向器の組と、ビームスリットとを含み、
前記ビームスリットと、前記電磁偏向器と前記静電偏向器との組と、の間に電子レンズを有し、
前記電子銃、前記電磁偏向器と前記静電偏向器との組、前記電子レンズ及び前記ビームスリットのそれぞれは前記ビームスリット上への結像が拡大系になれるように配置されている電子ビーム装置において、
前記ビームスリット上への結像が拡大系となる水準の負電圧を前記静電偏向器に印加するステップを有する試料の観測方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013158902A JP6265643B2 (ja) | 2013-07-31 | 2013-07-31 | 電子ビーム装置 |
| US14/445,056 US9543053B2 (en) | 2013-07-31 | 2014-07-29 | Electron beam equipment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013158902A JP6265643B2 (ja) | 2013-07-31 | 2013-07-31 | 電子ビーム装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2015032360A JP2015032360A (ja) | 2015-02-16 |
| JP6265643B2 true JP6265643B2 (ja) | 2018-01-24 |
Family
ID=52426780
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013158902A Active JP6265643B2 (ja) | 2013-07-31 | 2013-07-31 | 電子ビーム装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9543053B2 (ja) |
| JP (1) | JP6265643B2 (ja) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6340216B2 (ja) * | 2014-03-07 | 2018-06-06 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 走査電子顕微鏡 |
| CN111261481B (zh) * | 2015-03-24 | 2022-12-16 | 科磊股份有限公司 | 用于带电粒子显微镜的方法及系统 |
| JP6701228B2 (ja) * | 2015-03-24 | 2020-05-27 | ケーエルエー コーポレイション | 像ビームの安定化及び識別性が改善された荷電粒子顕微システム及び方法 |
| WO2016182948A1 (en) * | 2015-05-08 | 2016-11-17 | Kla-Tencor Corporation | Method and system for aberration correction in electron beam system |
| WO2017193061A1 (en) * | 2016-05-06 | 2017-11-09 | Weiwei Xu | Miniature electron beam lens array use as common platform ebeam wafer metrology, imaging and material analysis system |
| US10090131B2 (en) * | 2016-12-07 | 2018-10-02 | Kla-Tencor Corporation | Method and system for aberration correction in an electron beam system |
| GB201804386D0 (en) * | 2018-03-19 | 2018-05-02 | Thermo Fisher Scient Bremen Gmbh | Mass Spectrometer |
| JP2019169362A (ja) * | 2018-03-23 | 2019-10-03 | 株式会社日立製作所 | 電子ビーム装置 |
| CN111161902B (zh) * | 2020-01-17 | 2020-09-22 | 桂林狮达技术股份有限公司 | 多相绕组偏转扫描装置的控制方法 |
| US20250357067A1 (en) * | 2024-05-17 | 2025-11-20 | Kla Corporation | Aberration corrector for scanning electron microscope with multiple electron beams |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4376249A (en) * | 1980-11-06 | 1983-03-08 | International Business Machines Corporation | Variable axis electron beam projection system |
| US5155368A (en) * | 1991-04-16 | 1992-10-13 | Micrion Corporation | Ion beam blanking apparatus and method |
| DE19738070A1 (de) * | 1997-09-01 | 1999-03-04 | Leo Elektronenmikroskopie Gmbh | Energiefilter, insbesondere für ein Elektronenmikroskop |
| EP0989584B1 (en) * | 1998-09-23 | 2004-11-24 | Advantest Corporation | Device for reducing the energy width of a particle beam and a particle beam apparatus with such a device |
| JP2000228162A (ja) * | 1999-02-05 | 2000-08-15 | Jeol Ltd | 電子ビーム装置 |
| JP2004534360A (ja) * | 2001-06-15 | 2004-11-11 | 株式会社荏原製作所 | 電子線装置及びその電子線装置を用いたデバイスの製造方法 |
| JP4074185B2 (ja) * | 2002-12-17 | 2008-04-09 | 日本電子株式会社 | エネルギーフィルタ及び電子顕微鏡 |
| EP1517353B1 (en) * | 2003-09-11 | 2008-06-25 | ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH | Charged particle beam energy width reduction system for charged particle beam system |
| EP1526563B1 (en) * | 2003-10-20 | 2018-12-05 | ICT, Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH | Charged particle beam device with aperture |
| JP5492306B2 (ja) | 2010-10-15 | 2014-05-14 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 電子ビーム装置 |
| US8334508B1 (en) * | 2011-02-22 | 2012-12-18 | Electron Optica, Inc. | Mirror energy filter for electron beam apparatus |
| US8274046B1 (en) * | 2011-05-19 | 2012-09-25 | Hermes Microvision Inc. | Monochromator for charged particle beam apparatus |
| US8592761B2 (en) * | 2011-05-19 | 2013-11-26 | Hermes Microvision Inc. | Monochromator for charged particle beam apparatus |
-
2013
- 2013-07-31 JP JP2013158902A patent/JP6265643B2/ja active Active
-
2014
- 2014-07-29 US US14/445,056 patent/US9543053B2/en active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US9543053B2 (en) | 2017-01-10 |
| US20150034836A1 (en) | 2015-02-05 |
| JP2015032360A (ja) | 2015-02-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6265643B2 (ja) | 電子ビーム装置 | |
| TWI650550B (zh) | 用於高產量電子束檢測(ebi)的多射束裝置 | |
| JP6208653B2 (ja) | 粒子光学装置、粒子光学部品、検査システム、検査方法、および、リソグラフィシステム | |
| JP5518128B2 (ja) | 荷電粒子ビーム装置用モノクロメータ及びこれを用いた電子装置 | |
| JP5097512B2 (ja) | 荷電粒子ビーム用軌道補正器、及び荷電粒子ビーム装置 | |
| KR20210076117A (ko) | 하전 입자 빔 디바이스, 필드 곡률 보정기, 및 하전 입자 빔 디바이스를 동작시키는 방법들 | |
| US9443696B2 (en) | Electron beam imaging with dual Wien-filter monochromator | |
| US8471203B2 (en) | Particle-beam microscope | |
| JP5492306B2 (ja) | 電子ビーム装置 | |
| US9905391B2 (en) | System and method for imaging a sample with an electron beam with a filtered energy spread | |
| JP5519421B2 (ja) | 走査型電子顕微鏡及びその制御方法 | |
| TW201740423A (zh) | 帶電粒子束裝置、用於帶電粒子束裝置的系統、及用於操作帶電粒子束裝置的方法 | |
| JP2019164886A (ja) | ビーム照射装置 | |
| JP6002428B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
| CN117672786A (zh) | 磁多极器件、带电粒子束设备和影响沿光轴传播的带电粒子束的方法 | |
| JP5452722B2 (ja) | 収差補正装置およびそれを用いた荷電粒子線装置 | |
| JP4291827B2 (ja) | 走査電子顕微鏡又は測長semの調整方法 | |
| JP4781211B2 (ja) | 電子線装置及びこれを用いたパターン評価方法 | |
| US20110139978A1 (en) | Charged particle beam device, method of operating a charged particle beam device | |
| JP2019087337A (ja) | 電子顕微鏡および電子顕微鏡の制御方法 | |
| US9202666B1 (en) | Method for operating a charged particle beam device with adjustable landing energies | |
| JP2007035386A (ja) | 電子線装置及び該装置を用いたデバイス製造方法 | |
| TW202240625A (zh) | 電子光學柱及用於將一次電子束引導至樣品上之方法 | |
| CN116745880A (zh) | 电子光学列和初级电子射束到样品上的引导方法 | |
| JP2010232204A (ja) | 電子ビーム描画装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160225 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170110 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170302 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170815 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20171003 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20171212 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6265643 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |