JP6290010B2 - ウェーハの分割方法 - Google Patents
ウェーハの分割方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6290010B2 JP6290010B2 JP2014118686A JP2014118686A JP6290010B2 JP 6290010 B2 JP6290010 B2 JP 6290010B2 JP 2014118686 A JP2014118686 A JP 2014118686A JP 2014118686 A JP2014118686 A JP 2014118686A JP 6290010 B2 JP6290010 B2 JP 6290010B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- porous film
- holding
- outer diameter
- dividing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Laser Beam Processing (AREA)
- Dicing (AREA)
Description
12 ウェーハの裏面
13 分割予定ライン
16 改質層
21 多孔性フィルム
22 多孔性フィルムの表面
25 保持テープ
31 保持テーブル
33 吸引領域
41 押圧刃
D デバイス
W ウェーハ
W1 ウェーハの外径
W2 吸引領域の外径
W3 多孔性フィルムの外径
Claims (1)
- 表面に分割予定ラインによって区画された複数の領域にデバイスが形成されたウェーハを該分割予定ラインに沿って分割するウェーハの分割方法であって、
ウェーハの外径より大きい外径の薄板形状で且つ柔軟性を有する多孔性フィルムの表面にウェーハ表面側を載置して、ウェーハ裏面とウェーハ外側に延在する該多孔性フィルムの該表面とに保持テープを貼着して、ウェーハと該多孔性フィルムとを一体的に該保持テープで保持するテープ貼着ステップと、
該テープ貼着ステップを実施した後に、ウェーハの外径以上で該多孔性フィルムの外径と同等かそれ以下の外径の吸引領域を有する保持テーブルに、該吸引領域全面を該多孔性フィルムで覆った状態で該多孔性フィルム側を載置して、該保持テーブルに該多孔性フィルムを通してウェーハを吸引保持する保持ステップと、
該保持ステップを実施した後に、該保持テープの露呈するウェーハの裏面側から、押圧刃をウェーハに予め形成された該分割予定ラインに位置付けて押圧して該分割予定ラインに沿って分割する分割ステップと、
を備えるウェーハの分割方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2014118686A JP6290010B2 (ja) | 2014-06-09 | 2014-06-09 | ウェーハの分割方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2014118686A JP6290010B2 (ja) | 2014-06-09 | 2014-06-09 | ウェーハの分割方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2015233051A JP2015233051A (ja) | 2015-12-24 |
| JP6290010B2 true JP6290010B2 (ja) | 2018-03-07 |
Family
ID=54934358
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2014118686A Active JP6290010B2 (ja) | 2014-06-09 | 2014-06-09 | ウェーハの分割方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6290010B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US12322598B2 (en) | 2021-10-27 | 2025-06-03 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Method of processing substrate |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7304775B2 (ja) * | 2019-08-29 | 2023-07-07 | 株式会社ディスコ | ウェーハの加工方法 |
| JP7305276B2 (ja) * | 2019-10-16 | 2023-07-10 | 株式会社ディスコ | 被加工物の保持方法 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4821421B1 (ja) * | 1969-03-12 | 1973-06-28 | ||
| BE756098A (fr) * | 1969-09-15 | 1971-03-15 | Stauffer Chemical Co | Rouleaux de gaufrage |
| JPH0936599A (ja) * | 1995-07-17 | 1997-02-07 | Hitachi Ltd | 基板の保持方法およびその装置 |
| JP5210409B2 (ja) * | 2011-04-06 | 2013-06-12 | 三星ダイヤモンド工業株式会社 | ブレイク装置 |
-
2014
- 2014-06-09 JP JP2014118686A patent/JP6290010B2/ja active Active
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US12322598B2 (en) | 2021-10-27 | 2025-06-03 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Method of processing substrate |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2015233051A (ja) | 2015-12-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI631665B (zh) | 光裝置之加工方法 | |
| KR102399375B1 (ko) | 웨이퍼의 가공 방법 | |
| US9659808B2 (en) | Semiconductor-element manufacturing method and wafer mounting device using a vacuum end-effector | |
| TWI637460B (zh) | 保持台 | |
| KR102311579B1 (ko) | 이면측에 돌기를 갖는 웨이퍼를 처리하는 방법 | |
| KR20160006109A (ko) | 웨이퍼의 가공 방법 | |
| TWI842825B (zh) | 晶圓之裂斷方法 | |
| JP2015177170A (ja) | ウェーハの加工方法 | |
| US11823941B2 (en) | Method of processing a substrate | |
| CN104078425A (zh) | 晶片的加工方法 | |
| US12472581B2 (en) | Method of processing a substrate and system for processing a substrate | |
| JP6009240B2 (ja) | ウェーハの加工方法 | |
| JP6290010B2 (ja) | ウェーハの分割方法 | |
| US8052824B2 (en) | Film peeling method and film peeling device | |
| JP2011151070A (ja) | ウエーハの加工方法 | |
| JP7095012B2 (ja) | 基板処理方法 | |
| KR20190019839A (ko) | 웨이퍼의 가공 방법 | |
| JP6633446B2 (ja) | ウエーハの加工方法 | |
| JP2007242787A (ja) | ウエーハの分割方法 | |
| JP4833657B2 (ja) | ウエーハの分割方法 | |
| KR102181999B1 (ko) | 확장 시트, 확장 시트의 제조 방법 및 확장 시트의 확장 방법 | |
| KR20170028258A (ko) | 광 디바이스층의 박리 방법 | |
| KR20170028256A (ko) | 척 테이블 | |
| JP7731221B2 (ja) | 基板の分離方法 | |
| KR102854905B1 (ko) | 웨이퍼의 가공 방법 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170413 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20171214 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180116 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180207 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6290010 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |