JP6428677B2 - 有機ケイ素化合物およびそれを含む硬化性組成物 - Google Patents
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Description
このため、これらの問題を解消し得る有機−無機ハイブリッド型の化合物として、光反応性有機ケイ素化合物を用いる試みが広く行われている。
しかし、これらの技術を本発明者が検討したところ、硬化物の表面硬度が不十分であることや、無機蒸着性が不十分であることなどのその他の問題点も明らかとなった。
例えば、アミノ官能性有機ケイ素化合物を超強酸で加水分解縮合する、高選択的なケイ素化合物の合成例が示されている(非特許文献1参照)。
非特許文献1の技術では、有機ケイ素化合物の構造解析に主眼が置かれ、規則的な2次元膜の形成については言及されているものの、当該2次元膜の産業上の利用可能性や、さらなる分子変換による有用化については言及されていない。また、特許文献3の技術とは着眼点が異なるため、同様のウレア型分子変換によっても容易に有用化できるとは考えられていなかった。
なお、(メタ)アクリル基は、アクリル基およびメタクリル基を一括した表記であり、アクリル基およびメタクリル基のいずれかの基であることを意味する。
1. 下記一般式(1)で表されることを特徴とする有機ケイ素化合物、
2. 前記R1が、炭素数1〜3のアルキル基を表し、前記R2が、水素原子であり、前記Y1およびY2が、互いに独立して、炭素数1〜5の直鎖アルキレン基を表す1の有機ケイ素化合物、
3. 1または2の有機ケイ素化合物を含む活性エネルギー線硬化性組成物、
4. 前記有機ケイ素化合物が、10質量%以上含まれる3の活性エネルギー線硬化性組成物
を提供する。
本発明の有機ケイ素化合物は、柔軟性と表面硬度に優れた硬化物を与えるため、耐クラック性、寸法安定性等の点において、従来の有機ケイ素化合物の特性をさらに改良する必要がある場面で好適に利用できる。
本発明の有機ケイ素化合物から得られる柔軟性と表面硬度を兼ね備えた硬化物は、ハードコート剤、CVD用プライマー、電子素子封止材、エポキシ樹脂の硬化剤等として好適に用いることができる。
本発明に係る有機ケイ素化合物は、下記式(1)で表される単一の4量体である。
炭素数1〜6のアルキル基としては、直鎖状、環状、分枝状のいずれでもよく、その具体例としては、メチル、エチル、n−プロピル、i−プロピル、n−ブチル、s−ブチル、t−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル基等が挙げられる。
炭素数1〜10の直鎖アルキレン基の具体例としては、特に限定されるものではなく、メチレン、エチレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、ヘプタメチレン、オクタメチレン、ノナメチレン、デカメチレン基が挙げられる。
R2としては、合成化学上の観点から水素原子が好ましい。
Y1としては、炭素数1〜8の直鎖アルキレン基が好ましく、メチレン、エチレン、トリメチレン、ヘキシレン、オクチレン基がより好ましく、合成化学上の観点からトリメチレン基がより一層好ましい。
Y2としては、炭素数1〜8の直鎖アルキレン基が好ましく、メチレン、エチレン、トリメチレン、ヘキシレン、オクチレン基がより好ましく、合成化学上の観点からエチレン基がより一層好ましいが、有機ケイ素化合物に屈曲性を付与したい要望が強い場合は、オクチレン等の長鎖を選択することが好ましい場合がある。
命名法の規則によって、同一の置換基R1に着目した場合、隣り合う二つのR1が環の同一面側に出る場合をcis、異なる面側に出る場合をtrans、とそれぞれ称する。環状4量体の場合、隣り合う2つの構造のうち、連続する3つまでを指定すれば、残りの1つの構造は必然的に決まるため、cis−cis−cis、cis−trans−cis等のように表記することで分子構造を示すことができる。構造表記は、cis、transという2つの選択肢を3回指定するため、形式上23(=8)通りが存在しうるが、いずれの構造であっても分子内に鏡像面が存在するため、群論によって4種の構造異性体に絞ることができる。
本発明の有機シラン化合物は、これら4種の異性体のいずれであってもよく、またそれらの混合物であってもよいが、cis−trans−cisが規則的な構造を形成しやすいためより好ましい。
環状テトラシロキサンは、上記非特許文献1に開示された方法に準じて合成することができる。
この方法は、アミノ基を有する有機ケイ素化合物を超強酸で加水分解縮合することを特徴としており、これによって、4量体かつ単一の立体異性体が高収率で得られる。
この方法を用いた場合、本発明で用いる式(1)で表される有機ケイ素化合物も、4量体かつ単一の立体異性体の環状有機ケイ素化合物である。
なお、ここでは、ケイ素原子とアミノ官能性部位との炭素連結鎖が3炭素である場合に限って例示したが、上記Y1で説明したとおり、炭素数1〜10のものが好適に使用できる。また、ケイ素に直結した炭素基としてメチル基のみを例示したが、上記R1で説明したとおり、炭素数1〜6のものも好適に使用できる。
これら中でも、用いる超強酸は、トリフルオロメタンスルホン酸を含んでいることが好ましい。
この工程は、(A)工程で合成したアミノ基を有する環状テトラシロキサンのアミノ基を(メタ)アクリルイソシアネート類に付加する工程である。
この反応で使用可能な(メタ)アクリルイソシアネートの具体例としては、2−イソシアナトエチルアクリレート、2−イソシアナトエチルメタクリレート等が挙げられるが、入手容易で反応性に優れているという点から、2−イソシアナトエチルアクリレートが好ましい。2−イソシアナトエチルアクリレートは市販品として入手可能であり、例えば、製品名「カレンズAOI」(昭和電工(株)製)が利用できる。
なお、ここでは、(メタ)アクリロイルオキシ基とイソシアナト基の連結鎖が2炭素である場合に限って例示したが、上記Y2で説明したとおり、炭素数1〜10のものも好適に使用できる。
無機塩基の具体例としては、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化カルシウム、リチウムジイソプロピルアミド(LDA)等のアルカリ金属塩類、アルカリ土類金属塩類を例示できる。
なお、選択する塩基の種類によっては、塩基自体がイソシアネートに対する求核性を有し、アミノ基のイソシアネートに対する求核反応と競争する場合がある。このような場合は、非求核性塩基を用いることがより好ましい。
用いる有機溶媒としては、反応に悪影響を与えない限り特に制限はないが、溶解性と反応性の観点から、この反応では、テトラヒドロフラン(THF)、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジメチルアセトアミド、アセトニトリル等の非プロトン性極性溶媒を用いることが好ましい。
反応後、これらの溶媒を除去することによって本発明の有機ケイ素化合物を簡便に得ることができる。
その際、最終的な有機ケイ素化合物の純度は、好ましくは50モル%以上、より好ましくは70モル%以上、さらに好ましくは90モル%以上である。純度に上限はないが、以下で述べるように硬化性組成物を調製する際に、本発明の有機ケイ素化合物が10質量%以上含まれていることが好ましいため、高純度であるほうが硬化性組成物の作製がより容易となる。
ここで、活性エネルギー線としては、光、電子線、放射線等の活性エネルギー線が挙げられ、具体的なエネルギー源または硬化装置の具体例としては、殺菌灯、紫外線用蛍光灯、カーボンアーク、キセノンランプ、複写用高圧水銀灯、中圧または高圧水銀灯、超高圧水銀灯、無電極ランプ、メタルハライドランプ、自然光等を光源とする紫外線、または走査型、カーテン型電子線加速器による電子線等が挙げられるが、紫外線が好ましい。
本発明の硬化性組成物に用いられるビニル系重合性モノマーは特に制限されるものではなく、その具体例としては、メタクリル酸メチル(MMA)、アクリル酸メチル(MA)、メタクリル酸エチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ヒドロキシエチル(HEA)、メタクリル酸ヒドロキシエチル(HEMA)、アクリル酸ヒドロキシプロピル、アクリル酸4−ヒドロキシルブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸tert−ブチル、アクリル酸n−オクチル、アクリル酸イソオクチル、アクリル酸イソノニル、アクリル酸ラウリル、アクリル酸ステアリル、アクリル酸イソステアリル、アクリル酸イソノルボルニル、アクリル酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸(メトキシエチル)、アクリル酸メトキシポリエチレングリコール、アクリル酸(2−メチル−2−エチル−1,3−ジオキソラン−4−イル)、アクリル酸[{シクロヘキサンスピロ−2−(1,3−ジオキソラン−4イル)}メチル]、アクリル酸{(3−エチルオキセタン−3−イル)メチル}等のモノエステル類;エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ブタンジオールジアクリレート、ペンタンジオールジアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、ヘプタンジオールジアクリレート、オクタンジオールジアクリレート、ノナンジオールジアクリレート、デカンジオールジアクリレート、グリセリン−1,2−ジアクリレート、グリセリン−1,3−ジアクリレート、ペンタエリスリトースジアクリレート、2−ヒドロキシ−3−アクリロイロキシプロピルメタクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート等のジエステル類;グリセリントリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、エトキシ化イソシアヌル酸トリアクリレート、エトキシ化グリセリントリアクリエート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリスペンタエリスリトールオクタアクリレート等の多価エステル類;アクリロイルオキシメチルトリメトキシシラン、アクリロイルオキシメチルジメトキシメチルシラン、アクリロイルオキシメチルメトキシジメチルシラン、メタアクリロイルオキシメチルトリメトキシシラン、メタアクリロイルオキシメチルジメトキシメチルシラン、メタアクリロイルオキシメチルメトキシジメチルシラン、2−アクリロイルオキシエチルトリメトキシシラン、2−アクリロイルオキシエチルジメトキシメチルシラン、2−アクリロイルオキシエチルメトキシジメチルシラン、2−メタアクリロイルオキシエチルトリメトキシシラン、2−メタアクリロイルオキシエチルジメトキシメチルシラン、2−メタアクリロイルオキシエチルメトキシジメチルシラン、3−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロイルオキシプロピルジメトキシメチルシラン、3−アクリロイルオキシプロピルメトキシジメチルシラン、3−メタアクリロイルオキシプリピルトリメトキシシラン、3−メタアクリロイルオキシプロピルジメトキシメチルシラン、3−メタアクリロイルオキシプロピルメトキシジメチルシラン、8−アクリロイルオキシオクチルトリメトキシシラン、8−メタアクリロイルオキシオクチルトリメトキシシラン、アクリロイルオキシメチルトリエトキシシラン、アクリロイルオキシメチルジエトキシメチルシラン、アクリロイルオキシメチルエトキシジメチルシラン、メタアクリロイルオキシメチルトリエトキシシラン、メタアクリロイルオキシメチルジエトキシメチルシラン、メタアクリロイルオキシメチルエトキシジメチルシラン、2−アクリロイルオキシエチルトリエトキシシラン、2−アクリロイルオキシエチルジエトキシメチルシラン、2−アクリロイルオキシエチルエトキシジメチルシラン、2−メタアクリロイルオキシエチルトリエトキシシラン、2−メタアクリロイルオキシエチルジエトキシメチルシラン、2−メタアクリロイルオキシエチルエトキシジメチルシラン、3−アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロイルオキシプロピルジエトキシメチルシラン、3−アクリロイルオキシプロピルエトキシジメチルシラン、3−メタアクリロイルオキシプリピルトリエトキシシラン、3−メタアクリロイルオキシプロピルジエトキシメチルシラン、3−メタアクリロイルオキシプロピルエトキシジメチルシラン、8−アクリロイルオキシオクチルトリエトキシシラン、8−メタアクリロイルオキシオクチルトリエトキシシラン等の(メタ)アクリロイルオキシアルキレンアルコキシシラン類の塩基性加水分解縮合物等の多価エステル類などが挙げられ、これらは単独で用いても、2種以上組み合わせて用いてもよい。
ビニル系重合性モノマーを用いる場合、硬化性組成物中におけるその含有割合は、特に限定されるものではないが、10〜90質量%が好ましく、20〜90質量%がより好ましい。
無機酸化物フィラーを用いる場合、硬化性組成物中におけるその含有割合は、特に限定されるものではないが、1〜30質量%が好ましく、5〜20質量%がより好ましい。
光開始剤を用いる場合、硬化性組成物中におけるその含有割合は、特に限定されるものではないが、0.1〜20質量%が好ましく、1〜10質量%がより好ましい。
溶剤を用いる場合、硬化性組成物中におけるその含有割合は、特に限定されるものではないが、10〜90質量%が好ましく、20〜60質量%がより好ましい。
本発明の硬化性組成物の固形分濃度は、1〜50質量%程度とすることができるが、5〜30質量%が好ましく、10〜30質量%がより好ましい。
なお、固形分とは、溶剤以外の成分を意味する。
基材としては、特に限定されるものではなく、樹脂成形体、セラミックスまたはガラス等が挙げられる。
塗布方法としては、例えば、刷毛塗り、スプレー、浸漬、フローコート、ロールコート、カーテンコート、スピンコート、ナイフコート等の公知の各種塗布方法から、基材の形状や所望とする硬化物(硬化膜)の性状(膜厚等)などに応じて適宜選択すればよい。
硬化膜の厚みは特に限定されるものではないが、0.1〜100μmが好ましい。
特に、耐擦傷性等を付与するために無機蒸着層からなる硬化被膜を積層することが好ましい。
無機蒸着膜層としては、乾式成膜工法で形成されたものであれば特に制限されるものではなく、例えば、Si、Ti、Zn、Al、Ga、In、Ce、Bi、Sb、B、Zr、Sn、Ta等の元素を有する少なくとも1種以上の各種金属または金属酸化物、窒化物および硫化物等を主成分とする層が挙げられる。また、例えば、高硬度で絶縁性に優れたダイヤモンドライクカーボン膜層も挙げられる。
この場合、無機蒸着膜層の厚さは、0.1〜10μmであることが好ましい。
なお、実施例では特に断らない限り、Bruker製(400M)核磁気共鳴分光装置で化合物の同定を行った。共鳴磁場の記述は、テトラメチルシランを外部標準とし、標準よりも低磁場側の共鳴線を百万分率で正の値として示した。
[合成例1]1,3,5,7−テトラメチル−1,3,5,7−テトラキス(3’−アミノプロピル)−シクロテトラシロキサン−トリフルオロメタンスルホン酸塩の合成
磁製蒸発皿に3−アミノプロピルメチルジエトキシシラン(信越化学工業(株)製、KBE−902、1.64g)を秤量し、トリフルオロメタンスルホン酸(東京化成工業(株)製、1.96g)とイオン交換水(23.6g)の混合液を撹拌しながら加え、室温で2時間撹拌した。反応混合物の入った蒸発皿を60℃に昇温したホットプレートに載せ、ドラフト中で揮発成分の揮散を行った。反応後、クロロホルムとアセトンの混合液(1/1=vol/vol)で洗浄した後、真空ポンプで乾燥し白色固体を得た。得られた物質が環状シロキサンであることを1H−NMRデータと非特許文献1との比較によって確認した。図1に1H−MNRスペクトルを示す。
1H−NMR(400MHz、D2O)δ3.05(t,J=7.6Hz,8H)、1.85−1.75(m,8H)、0.80−0.70(m,8H)、0.28(s,112H).
下記手法によって特許文献1記載のシルセスキオキサンを合成した。
還流冷却管、温度計、撹拌機を取り付けたセパラブルフラスコに、3−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製、KBM−5103)142質量部、イソプロピルアルコール500質量部、メトキノン0.10質量部、テトラブチルアンモニウムフルオリド1.0質量部、脱イオン水20質量部を配合し、20℃で24時間反応させ、黄色透明の液体を得た。減圧蒸留にてこれを不揮発分50質量%まで濃縮し、エチレングリコールモノブチルエーテル150質量部を投入した。減圧蒸留をさらに継続し、無色透明の液体である不揮発分40質量%溶液250質量部を得た。
下記手法によって特許文献3記載の有機ケイ素化合物を合成した。
撹拌機、還流冷却器、滴下ロートおよび温度計を備えた1Lセパラブルフラスコに、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製、KBM−903)179.3gを投入し、氷浴を用いて0℃まで冷却した。その中にアクリロキシエチルイソシアネート(昭和電工(株)製、カレンズAOI)141.2gを滴下し、その後30℃にて4時間加熱撹拌し、ウレア部位を有するアクリル官能性シランを淡黄色液体として得た。
[実施例1−1]有機ケイ素化合物[1]の合成
1H−NMR(400MHz,CDCl3)δ6.40(dd,J=17.6,1.2Hz,4H)、6.10(dd,J=17.6,10.4Hz,4H)、5.87(s,4H)、5.85(s,4H)、5.82(dd,J=10.4,1.2Hz,4H)、4.19(t,J=5.6Hz,8H)、3.44(d,J=5.6Hz,8H)、3.11(br m,8H)、1.55−1.45(m,8H)、0.50−0.55(m,8H)、0.05(s,12H).
13C−NMR(100MHz,CDCl3)δ166.1、159.1、131.2、128.1、64.1、42.9、39.2、24.1、14.3、−0.6.
[実施例2−1]活性エネルギー線硬化性組成物(2)の製造
褐色ポリ瓶(100mL)に、実施例1−1で合成した化合物[1]9質量部、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン(BASF製、IRGACURE1173、以下同様)1質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテル40質量部を混合して良く溶かし、活性エネルギー線硬化性組成物(2)を得た。
褐色ポリ瓶(100mL)に、比較合成例1で合成したシルセスキオキサン溶液9質量部、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン1質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテル40部を混合して良く溶かし、活性エネルギー線硬化性組成物(R1)を得た。
褐色ポリ瓶(100mL)に、比較合成例2で合成したウレイド部位を有するアクリル官能性シラン9質量部、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン1質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテル40質量部を混合して良く溶かし、活性エネルギー線硬化性組成物(R2)を得た。
[実施例3−1]
実施例2−1で得られた活性エネルギー線硬化性組成物(2)をポリカーボネート樹脂シート(三菱ガス化学(株)製、商品名「ユーピロンシート」、シート厚0.5mm)に塗付し、80℃で600mJ・cm-2の紫外線を照射して硬化物を作製した。
活性エネルギー線硬化性組成物(2)の代わりに、比較例2−1,2−2で得られた活性エネルギー線硬化性組成物(R1)および(R2)をそれぞれ用いた以外は、実施例3−1と同様にして硬化物を作製した。
〔スチールウール耐性〕
ポリカーボネート樹脂シート上において、硬化物を形成した部位と形成しなかった部位を中心に、スチールウール(No.000)に100gの荷重をかけて20回往復を行った。硬化物形成部位と未形成部位において、傷付に差異が見られない場合は「×」、硬化物形成部位で傷付が抑制されている場合は「○」として評価した。実施例3−1で得られた硬化物のスチールウール耐性試験後の外観の写真を図4に示す。
JIS K5600−5−1に従って屈曲性試験を行った際に、曲率2mmにおいてクラックが発生しなかった場合を「○」、クラックが発生した場合を「×」として評価した。
文献(Journal of the American Chemical Society、2006年、128巻、11018頁)記載の手法によって、RFコイルによって誘導された真空下において、原料ガスとして酸素、アルゴン、およびテトラエトキシシラン(信越化学工業(株)製、KBE−04)を供給してプラズマを試験片に照射した際に、白化等の劣化が見られないものを「○」、劣化が見られたものを「×」として評価した。
一方、同様の閉環構造であるPOSS型アクリル官能性ポリシロキサンを用いて得られた比較例3−1の硬化物は、屈曲性が不十分であることがわかる。また、ウレア部位を有するアクリル官能性シランを用いて得られた比較例3−2の硬化物は、いずれの特性も不良であることがわかる。
このように、本発明の有機ケイ素化合物は、従来の知見の組み合わせでは予期し得ない特性を発現している。この特性の発現は、単一4量体の構造に由来すると考えられるが、このような特性と構造の相関は従来知られていないものであった。
Claims (4)
- 下記一般式(1)で表されることを特徴とする有機ケイ素化合物。
(式中、R1は、炭素数1〜6のアルキル基を表し、R2は、水素原子またはメチル基を表し、Y1およびY2は、互いに独立して、炭素数1〜10の直鎖アルキレン基を表す。) - 前記R1が、炭素数1〜3のアルキル基を表し、前記R2が、水素原子であり、前記Y1およびY2が、互いに独立して、炭素数1〜5の直鎖アルキレン基を表す請求項1記載の有機ケイ素化合物。
- 請求項1または2記載の有機ケイ素化合物を含む活性エネルギー線硬化性組成物。
- 前記有機ケイ素化合物が、10質量%以上含まれる請求項3記載の活性エネルギー線硬化性組成物。
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