JP6526323B2 - パワーモジュール、パワー半導体装置及びパワーモジュール製造方法 - Google Patents
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Description
図1は、本発明の実施の形態1によるパワーモジュールの断面図である。図2は図1のパワーモジュールを金属ベース側から見た斜視図であり、図3は図1のパワーモジュールを金属ベース側から見た底面図である。図4は図1のパワーモジュールのリブ部の拡大図である。図5は、比較例のパワーモジュールの絶縁距離を説明する図であり、図4に対応する部分の拡大図である。図1は、図2の破線で示した切断面をA方向から見た断面図であり、図2と上下が逆転している。なお図3において、リードフレーム1の端子部22は省略した。パワーモジュール20は、リードフレーム1、金属ベース3、パワー素子4、絶縁シート5、樹脂筐体7を備える。パワー素子4は、入力交流電力を直流電力に変換するコンバータ部に用いるダイオードや、直流電力を交流電力に変換するインバータ部に用いるバイポーラトランジスタ、IGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor)、MOSFET(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor)、GTO(Gate Turn-Off thyristor)等がある。
図6は、本発明の実施の形態2によるパワーモジュールの断面図である。実施の形態2のパワーモジュール20は、リブ部11のリブ2の形状が実施の形態1と異なる。リブ2は、リブ土台部26と凸部27を備えている。実施の形態2のパワーモジュール20は、実施の形態1と同様に、樹脂筐体7の底面10bにおいて金属ベース3の側面よりも外側に設置されると共に底面10bから突出して設けられたリブ2を備えるので、リードフレーム1と金属ベース3との間の絶縁性を高めながら小型にできる。図6では、リブ2a、2bを記載した。凸部27はリブ土台部26の上に小さいリブを配置した形状している。リブ土台部26は本体部10の底面10bに接続されており、凸部27はリブ土台部26における本体部10の底面10bから突出した端部に設置されると共に本体部10の底面10bに垂直な方向に突出して設けられている。凸部27の小さいリブ形状は先端が細くなるので、先端部をR形状するなど、衝撃で欠けない対策をするのが望ましい。
図7は、本発明の実施の形態3によるパワーモジュールの断面図である。実施の形態3のパワーモジュール20は、リブ部11におけるリブ2の高さを2種類にした点で、実施の形態1と異なる。図7では、リブ2aの高さがリブ高さh1であり、リブ2bの高さがリブ高さh6の例を示した。
図8は本発明の実施の形態4によるパワーモジュールの斜視図であり、図9は図8のパワーモジュールを金属ベース側から見た底面図である。なお図9において、リードフレーム1の端子部22は省略した。実施の形態4のパワーモジュール20は、樹脂筐体7の上面10a又は底面10bから見た外形が長方形である点で、実施の形態1と異なる。なお、樹脂筐体7の上面10a又は底面10bから見た外形が長方形に限らず、長辺及び短辺を有する四辺形状であっても構わない。パワーモジュール20の外観はリードフレーム1の端子23が4方向から端子が出ている形状であり、パワーモジュール20を固定する孔18が2ヶ所設けられている。パワーモジュール20の長辺の外周側において長手方向に配置されたリブ2c、2dは、短辺の外周側において短手方向に配置されたリブ2a、2bに比べて厚さが大きい。また、本実施の形態ではパワーモジュール20の側面から出るリードフレーム1の端子23を4方向としたが、端子23の突出方向の数はこれに限定されない。図8では、長辺の外周側に配置されたリブ2a、2bが設けられた樹脂筐体7の側面ではそれぞれ5本の端子23a、23bが出ており、短辺の外周側に配置されたリブ2c、2dが設けられた樹脂筐体7の側面ではそれぞれ6本の端子23c、23dが出ている例を示した。
図10は本発明の実施の形態5によるパワー半導体装置の断面図である。図11は図10のパワー半導体装置の要部を示す図であり、図12は図10のパワー半導体装置の斜視図である。図10は、図12の破線で示した切断面をB方向から見た断面図である。実施の形態5では、パワーモジュール20と、ヒートシンク16を備えたパワー半導体装置40の例を説明する。パワーモジュール20の構成は、実施の形態1と同じ例で説明する。ヒートシンク16は、ヒートシンク土台部31と、ベース段差部32と、フィン33を備える。パワーモジュール20の金属ベース3の底面は、ヒートシンク16に設けられたベース段差部32の平坦な上面32aにグリース14が塗布され、ねじ13でグリース14を介してヒートシンク16に締結される。パワーモジュール20のパワー素子4から生じた発熱は金属ベース3からグリース14を介してヒートシンク16のベース段差部32へ伝わり、ヒートシンク16のヒートシンク土台部31、フィン33へ放出される。
図25は、本発明の実施の形態6によるパワー半導体装置の断面図である。実施の形態6のパワー半導体装置40では、ヒートシンク16にパワーモジュール20のリブ部11が入るようなヒートシンク溝部16aが設けられた例を示す。図25のヒートシンク16は、ヒートシンク溝部16aの内側で破線34よりも上側がベース段差部32であり、破線35よりも下側がフィン33である。図25のヒートシンク16のヒートシンク土台部31は、図10のヒートシンク16のヒートシンク土台部31に比べて外周側に外周枠36を備えた構造ということもできる。外周枠36は、ヒートシンク溝部16aの外側で破線34よりも上側である。実施の形態6のパワー半導体装置40は、このヒートシンク溝部16aを用いることで、グリース14がヒートシンク溝部16aに入り、溜まることができる。そのため、実施の形態6のパワー半導体装置40は、パワーモジュール20を縦置きにしたときに発生するグリース14の漏れ出しを防止することができる。特にグリース14の粘度が低いものに対して有効である。
今まで、実施の形態5及び実施の形態6では、パワーモジュール20の中央部の1箇所でねじ13によりパワーモジュール20をヒートシンク16に締結したパワー半導体装置40の例を説明したが、パワーモジュール20の締結箇所を増やしてもよい。ねじ13が複数ある場合、ねじ13の締結箇所(ねじ締結部)はパワーモジュール20の中心からパワーモジュール全面の2/3の範囲内で、ねじ位置が線対称になるように配置していることが望ましい。これにより、パワーモジュール20の金属ベース3の露出面が均一になるので、グリース厚さを均一にできる。図13は本発明の実施の形態7によるパワー半導体装置の斜視図であり、図14は本発明の実施の形態7による他のパワー半導体装置の斜視図である。図13は、パワーモジュール20をヒートシンク16に2箇所(2点)でねじ締結したパワー半導体装置40の例である。図14は、パワーモジュール20をヒートシンク16に4箇所(4点)でねじ締結したパワー半導体装置40の例である。パワーモジュール20をヒートシンク16に2点でねじ締結すると、パワーモジュール20の金属ベース3の平坦な底面とヒートシンク16におけるベース段差部32の平坦な上面32aを固定する力が向上するので、パワーモジュール20のポンピングアウト現象を更に抑制することができ、冷熱環境下のグリース14の排出を低減することで、パワーモジュール20の放熱性低下を抑制することができる。さらに、グリース14の粘度が高く、硬い場合、ねじ締結部とパワーモジュール20の端辺(モジュール端辺)の間でグリース移動がしにくく、停滞する。そのため、パワーモジュール20がねじ締結部とモジュール端辺で膨らむことがある。図13に示したパワー半導体装置40は、パワーモジュール20とヒートシンク16とを、2点でねじ締結することで、グリース厚さを均一化できる。なお、パワーモジュール20とヒートシンク16とを、2点以上でねじ締結することで、グリース厚さを均一化できる。
図26は、本発明の実施の形態8によるパワーモジュールの金属ベース側から見た底面図である。図26のパワーモジュール20は、樹脂筐体7の端部からリードフレーム1の露出した端子23a、23bが、一部樹脂で覆われた樹脂部50を備えている。この構造により、実施の形態8のパワーモジュール20は、リードフレーム1と金属ベース3間の絶縁距離を大きくすることができ、パワーモジュール20を小型化できる。
図27は、本発明の実施の形態9によるパワーモジュールの金属ベース側から見た底面図である。図27のパワーモジュール20は、樹脂筐体7の端部からリードフレーム1の端子23が露出していない部分にリブ2がない構造である。図27では、3つのリブ2a、2b、2cが形成され、このリブ2a、2b、2cが形成された樹脂筐体7の端部において、それぞれ端子23a、23b、23cが露出している例を示した。この構造により、実施の形態9のパワーモジュール20は、絶縁距離がない部分の樹脂量を減らすことができ、コストの削減ができる。
Claims (19)
- パワー素子と、前記パワー素子からの熱を放熱する金属ベースと、前記パワー素子の電極に電気的に接続されたリードフレームと、前記金属ベースの一面及び前記リードフレームの一部が露出するように前記パワー素子を封止する樹脂筐体とを備えたパワーモジュールであって、
前記樹脂筐体は、
前記パワー素子及び前記リードフレームの一部が内部に配置されると共に、底面において前記金属ベースの一面が露出した本体部と、
前記本体部の前記底面において、前記金属ベースの外周を包囲するように設置されると共に、前記本体部の前記底面から当該底面に垂直な方向に突出して設けられたリブ部を備え、
前記リブ部は、前記底面から突出した端部に窪みを有するパワーモジュール。 - 前記リブ部は、前記本体部の前記底面と前記本体部の前記底面から最も遠方の端部との高さであるリブ部高さが、短手方向の断面における前記本体部の前記底面に接続した接続幅よりも大きいことを特徴とする請求項1記載のパワーモジュール。
- 前記本体部は、露出した前記金属ベースの一面を上下方向の基準として、上方向に凸形状に反っている請求項1または2に記載のパワーモジュール。
- 前記リブ部は、短手方向の断面であって前記本体部の前記底面に垂直な断面の形状が、前記本体部の前記底面に接続した接続幅が前記底面から突出した端部の端部幅よりも大きいテーパ形状であることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載のパワーモジュール。
- 前記リブ部は、前記本体部の前記底面に接続されたリブ土台部と、前記リブ土台部における前記本体部の前記底面から突出した端部に設置されると共に前記本体部の前記底面に垂直な方向に突出して設けられた凸部を備えたことを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載のパワーモジュール。
- 前記リブ土台部は、短手方向の断面であって前記本体部の前記底面に垂直な断面の形状が、前記本体部の前記底面に接続した接続幅が前記底面から突出した端部であるリブ土台部端部の幅よりも大きいテーパ形状であり、
前記凸部は、短手方向の断面であって前記本体部の前記底面に垂直な断面の形状が、前記リブ土台部に接続した接続幅が前記リブ土台部端部から突出した端部である凸部端部の幅よりも大きいテーパ形状であることを特徴とする請求項5記載のパワーモジュール。 - 前記リブ部は、複数のリブを有し、
少なくとも1つの前記リブは、前記本体部の前記底面と当該リブの前記本体部の前記底面から最も遠方の端部との高さであるリブ高さが、他のリブにおける前記リブ高さよりも低いことを特徴とする請求項1から6のいずれか1項に記載のパワーモジュール。 - 前記樹脂筐体は、前記本体部の前記底面が長辺及び短辺を有する四辺形状であり、
前記リブ部は、複数のリブを有し、
複数の前記リブのうち2つは、前記底面の前記長辺の外周側に配置された長辺リブであり、
複数の前記リブのうち他の2つは、前記底面の前記短辺の外周側に配置された短辺リブであり、
前記長辺リブの短手方向における前記本体部の前記底面に接続した接続幅は、前記短辺リブの短手方向における前記本体部の前記底面に接続した接続幅よりも大きいことを特徴とする請求項1から7のいずれか1項に記載のパワーモジュール。 - 前記樹脂筐体から露出した前記リードフレームの一部である端子は、一部が樹脂部で覆われたことを特徴とする請求項1から8のいずれか1項に記載のパワーモジュール。
- 前記樹脂筐体は、前記リードフレームの一部が露出した部分の前記底面に前記リブ部を備えたことを特徴とする請求項1から9のいずれか1項に記載のパワーモジュール。
- 前記樹脂筐体は、
前記リードフレームが露出するフレーム接触部における前記底面側であるフレーム接触部底面と前記金属ベースの露出面との、前記樹脂筐体の前記底面に垂直な方向の長さが、前記フレーム接触部における前記底面と反対側の当該樹脂筐体の上面の側であるフレーム接触部上面と前記上面との、前記樹脂筐体の前記底面に垂直な方向の長さよりも短いことを特徴とする請求項1から10のいずれか1項に記載のパワーモジュール。 - 前記パワー素子は、ワイドバンドギャップ半導体材料により形成されていることを特徴とする請求項1から11のいずれか1項に記載のパワーモジュール。
- 前記ワイドバンドギャップ半導体材料は、炭化珪素、窒化ガリウム系材料、またはダイヤモンドのうちのいずれかであることを特徴とする請求項12記載のパワーモジュール。
- 請求項1から13のいずれか1項に記載のパワーモジュールと、前記パワーモジュールの前記金属ベースにグリースを介して接続されたヒートシンクを備えたパワー半導体装置であって、
前記ヒートシンクは、ヒートシンク土台部と、前記金属ベースに前記グリースを介して接続されたベース段差部を備え、
前記パワーモジュールは、前記リブ部が前記ベース段差部の外周を覆うように前記ヒートシンクに固定されたことを特徴とするパワー半導体装置。 - 前記パワーモジュールは、前記底面と反対側の上面から前記金属ベースを貫通する貫通孔を有し、
前記パワーモジュールは、前記貫通孔に挿入されたねじにより前記ヒートシンクの前記ベース段差部に固定されたことを特徴とする請求項14記載のパワー半導体装置。 - 前記パワーモジュールは、前記底面と反対側の上面から前記金属ベースを貫通する貫通孔を有し、
前記ヒートシンクは、前記パワーモジュールのリブ部が挿入される溝部を有し、
前記パワーモジュールは、前記リブ部が前記ヒートシンクの前記溝部に挿入されており、かつ前記貫通孔に挿入されたねじにより前記ヒートシンクに固定されたことを特徴とする請求項14記載のパワー半導体装置。 - 前記パワーモジュールは、前記貫通孔が中央に1つ設けられていることを特徴とする請求項15または16に記載のパワー半導体装置。
- 請求項1から10のいずれか1項に記載のパワーモジュールを製造するパワーモジュール製造方法であって、
金型は、前記樹脂筐体における前記底面から突出した前記リブ部の端部が形成されるリブ端部形成部に、前記樹脂筐体を押出すピンを挿入するピン開口が複数形成されており、
前記パワー素子と、前記金属ベースと、前記リードフレームを備えた中間製造部品を、前記金属ベースが金属ベース配置部に接触すると共に前記リードフレームの一部が前記金型から露出するように、前記金型に配置する工程と、
前記ピン開口が前記ピンで閉じられた状態で、前記金型にトランスファーモールド樹脂を注入し、前記樹脂筐体を形成する工程と、
前記樹脂筐体を前記金型から取り出す際に、前記ピン開口から前記ピンが前記リブ部の端部における短手方向の幅よりも長い深さまで挿入されて、前記ピンが前記樹脂筐体の前記リブ部を押出すことにより、前記リブ部に窪みを形成する工程と、を含むことを特徴とするパワーモジュール製造方法。 - 前記金型は、前記金属ベースが接触する前記金属ベース配置部と前記リードフレームが露出する開口における前記金属ベース側の開口端との、前記樹脂筐体の前記底面に垂直な方向の長さが、前記パワーモジュールの前記底面と反対側の上面が形成される内面と前記開口端との、前記樹脂筐体の前記底面に垂直な方向の長さよりも短いことを特徴とする請求項18記載のパワーモジュール製造方法。
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