JP6534793B2 - Polycarbonate resin and optical film - Google Patents

Polycarbonate resin and optical film Download PDF

Info

Publication number
JP6534793B2
JP6534793B2 JP2014101470A JP2014101470A JP6534793B2 JP 6534793 B2 JP6534793 B2 JP 6534793B2 JP 2014101470 A JP2014101470 A JP 2014101470A JP 2014101470 A JP2014101470 A JP 2014101470A JP 6534793 B2 JP6534793 B2 JP 6534793B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
polycarbonate resin
kpa
less
bis
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2014101470A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2015218220A (en
Inventor
哲也 本吉
哲也 本吉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Teijin Ltd
Original Assignee
Teijin Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Teijin Ltd filed Critical Teijin Ltd
Priority to JP2014101470A priority Critical patent/JP6534793B2/en
Publication of JP2015218220A publication Critical patent/JP2015218220A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6534793B2 publication Critical patent/JP6534793B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Polyesters Or Polycarbonates (AREA)

Description

本発明は、光弾性定数が低く、流動性が良好で、熱安定性に優れ、安全性の良好なポリカーボネート樹脂および所望の波長分散特性を有する光学フィルムに関するものである。   The present invention relates to a polycarbonate resin having a low photoelastic constant, good fluidity, excellent thermal stability, and excellent safety, and an optical film having desired wavelength dispersion characteristics.

従来、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン(以下、ビスフェノールAという)にカーボネート前駆物質を反応させて得られるポリカーボネート樹脂(以下、PC−Aという)は透明性、耐熱性、機械的特性、寸法安定性が優れているがゆえにエンジニアリングプラスチックとして多くの分野に広く使用されてきた。さらに近年その透明性を生かして光ディスク、フィルム、レンズ等の分野への光学用材料としての利用が展開されている。   Conventionally, polycarbonate resins (hereinafter referred to as PC-A) obtained by reacting a carbonate precursor with 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane (hereinafter referred to as bisphenol A) have transparency, heat resistance and mechanical properties. Because of their excellent properties and dimensional stability, they have been widely used in many fields as engineering plastics. Furthermore, in recent years, the use of the material as an optical material in the fields of optical disks, films, lenses and the like has been developed making use of its transparency.

しかしながら、PC−Aを用いた場合、正の複屈折が高く、光弾性定数が高いことから、光学用途として用いる時に、光学歪みが起こり、様々な問題が起きている。例えば、光学レンズに用いた場合、成形品の複屈折が大きくなるという欠点がある。また、位相差フィルムとして用いた場合、応力による複屈折の変化が大きく光抜けが起こることや、λ/4板、λ/2板として機能しうる波長が特定の波長に限られるという問題があった。   However, when PC-A is used, since it has a high positive birefringence and a high photoelastic constant, optical distortion occurs when used as an optical application, and various problems occur. For example, when it is used for an optical lens, there is a disadvantage that the birefringence of the molded article becomes large. In addition, when used as a retardation film, there is a problem that the change of birefringence due to stress is large and light leakage occurs, and the wavelength that can function as a λ / 4 plate or λ / 2 plate is limited to a specific wavelength. The

そこで、上記問題への対策として様々な手法が検討されている。その一つとして、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレンにカーボネート前駆物質を反応させ、ポリカーボネート樹脂を得る方法が提案されている(特許文献1、2)。しかしながら、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレンは人体への安全性に課題があり、皮膚がかぶれる問題があった。そのため、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)フルオレンからなるポリカーボネート樹脂が提案されている(例えば特許文献3、4参照)。しかしながら、このポリカーボネート樹脂は、ベンジル位のメチル基が酸化されやすいため、射出成形時に着色したり、溶融製膜での製造時に分解による気泡やゲルなどが発生したりする問題があった。また、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン類モノマーの製造方法が提案されている(特許文献5)。しかしながら、精製に大量の溶剤を使用するため、環境に好ましくないという問題があった。   Then, various methods are considered as a countermeasure to the said problem. As one of them, a method of obtaining a polycarbonate resin by reacting a carbonate precursor with 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene has been proposed (Patent Documents 1 and 2). However, 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene has a problem in the safety to the human body, and there is a problem that the skin is covered. Therefore, a polycarbonate resin comprising 9,9-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) fluorene has been proposed (see, for example, Patent Documents 3 and 4). However, in this polycarbonate resin, since the methyl group at the benzylic position is easily oxidized, there is a problem that it is colored at the time of injection molding or bubbles and gel are generated due to decomposition at the time of production in melt film formation. Moreover, the manufacturing method of a 9, 9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorenes monomer is proposed (patent document 5). However, because a large amount of solvent is used for purification, there is a problem that it is not preferable to the environment.

その為、低い光弾性定数と成形に適した流動性と優れた熱安定性を高度に具備し、位相差フィルムや偏光板の保護フィルム等の光学用途に適した波長分散性を実現できるポリカーボネート樹脂およびそれを用いてなる光学フィルムは未だ提供されていなかった。   Therefore, polycarbonate resin that has high photoelastic constant, flowability suitable for molding, and excellent thermal stability, and can realize wavelength dispersion suitable for optical applications such as retardation films and protective films of polarizing plates And the optical film which uses it was not yet provided.

特開昭63−182336号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-182336 特開平6−145327号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-145327 特開平11−80529号公報JP-A-11-80529 特許第5119250号公報Patent No. 5119250 gazette 特許第4219643号公報Patent No. 4219643

本発明の目的は、光弾性定数が低く、流動性が良好で、熱安定性に優れ、安全性が良好であり、しかもフィルムにしたときに位相差フィルムや偏光板の保護フィルム等の光学用途に適した波長分散性を発現できるポリカーボネート樹脂およびそれを用いた光学フィルムを提供することである。   The object of the present invention is to use an optical application such as a retardation film or a protective film of a polarizing plate when it has a low photoelastic constant, good fluidity, excellent thermal stability, good safety, and a film. It is an object of the present invention to provide a polycarbonate resin capable of expressing wavelength dispersion suitable for the above and an optical film using the same.

本発明者らは、鋭意研究を重ねた結果、ジヒドロキシフルオレン類のホストゲスト錯体を含むジヒドロキシ化合物とカーボネート前駆物質を反応させることによって、低い光弾性定数と優れた熱安定性を高度に具備するポリカーボネート樹脂が得られることを究明した。一般的に高度に精製された原料を用いて樹脂を重合することが当業者にとって常識だが、本発明においては不純物であるゲスト化合物を含む状態で重合することで、安全性に優れた方法でポリカーボネート樹脂を重合することができ、さらに品質に優れる樹脂が得られたことは驚くべきことである。この樹脂をフィルムにすることで位相差フィルムや偏光板の保護フィルム等の光学用途に適した波長分散を発現できることを究明し、本発明の完成に至った。
すなわち、本発明は、以下の通りである。
As a result of intensive studies, the present inventors made a polycarbonate having a low photoelastic constant and excellent thermal stability by reacting a dihydroxy compound containing a host-guest complex of dihydroxyfluorenes with a carbonate precursor. It was determined that a resin could be obtained. It is common knowledge to those skilled in the art that the resin is generally polymerized using a highly purified raw material, but in the present invention, the polycarbonate is polymerized in a state of excellent safety by polymerizing in the state containing the guest compound which is an impurity. It is surprising that a resin that can be polymerized and that is of superior quality is obtained. By making this resin into a film, it has been found that wavelength dispersion suitable for optical applications such as retardation films and protective films of polarizing plates can be expressed, and the present invention has been completed.
That is, the present invention is as follows.

.下記式(A)で表される繰り返し単位(A)を含むポリカーボネート樹脂の製造方法であって、繰り返し単位(A)を誘導する9,9−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレンをホスト化合物とし、アセトニトリルまたはメタノールをゲスト化合物としたホストゲスト錯体を含むジヒドロキシ成分と炭酸ジエステルとを重合触媒の存在下溶融重合することを特徴とする20℃の塩化メチレン溶液で測定された比粘度が0.20〜1.50であるポリカーボネート樹脂を得、得られたポリカーボネート樹脂を溶液キャスト法、溶融押出法、熱プレス法、またはカレンダー法により形成する未延伸フィルムの製造方法。

Figure 0006534793
[式中、RおよびRは夫々メチル基を示し、RおよびRは夫々エチレン基を示し、mおよびnは夫々0を示し、pおよびqは夫々1を示す。]
.上記記載の未延伸フィルムの製造方法で得られた未延伸フィルムを延伸する下記式(1)を満たす光学フィルムの製造方法。
R(450)<R(550)<R(650) (1)
[但し、R(450)、R(550)およびR(650)は夫々、波長450nm、550nm、650nmにおけるフィルム面内の位相差値を示す。]
ポリカーボネート樹脂の重合工程の一つの工程で、その工程の最終真空度が50kPa以下2kPa以上の範囲で、最終樹脂温度が160℃以上250℃以下の範囲であり、減圧速度20kPa/min以下0.5kPa/min以上の範囲である工程を含む上記1記載の未延伸フィルムの製造方法。 1 . A method for producing a polycarbonate resin comprising a repeating unit (A) represented by the following formula (A), which is 9,9- [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] fluorene that derives the repeating unit (A) The specific viscosity measured in a methylene chloride solution at 20 ° C. is characterized by melt polymerization of a dihydroxy component containing a host guest complex with a host compound and acetonitrile or methanol as a guest compound and a carbonic diester in the presence of a polymerization catalyst. The manufacturing method of the unstretched film which obtains the polycarbonate resin which is 0.20 to 1.50, and forms the obtained polycarbonate resin by the solution casting method, the melt extrusion method, the heat press method, or the calendar method.
Figure 0006534793
[Wherein, R 1 and R 2 each represent a methyl group, R 3 and R 4 each represent an ethylene group, m and n each represent 0, and p and q each represent 1. ]
2 . The manufacturing method of the optical film which satisfy | fills following formula (1) which extends | stretches the unstretched film obtained by the manufacturing method of the unstretched film of said 1 statement.
R (450) <R (550) <R (650) (1)
[Wherein, R (450), R (550) and R (650) indicate retardation values in the film plane at wavelengths of 450 nm, 550 nm, and 650 nm, respectively. ]
3 . The final resin temperature is in the range of 160 ° C. to 250 ° C. in the range of 50 kPa or less and 2 kPa or more in one step of the polymerization process of polycarbonate resin , and the pressure reduction rate is 20 kPa / min or less 0.5 kPa unstretched film production method of the above 1 Symbol placement comprising the steps is / min or more ranges.

本発明のポリカーボネート樹脂は、ホストゲスト錯体であるジヒドロキシフルオレンを含むジヒドロキシ化合物にカーボネート前駆物質を反応させることによって、低い光弾性定数と成形に適した流動性と優れた熱安定性を有することが可能となった。
さらに、本発明のポリカーボネート樹脂を用いることで、光弾性定数が低く、熱安定性に優れ、しかも位相差フィルムや偏光板の保護フィルム等の光学用途に適した波長分散性を示す光学フィルムを提供することが可能となった。そのため、その奏する工業的効果は格別である。
The polycarbonate resin of the present invention can have a low photoelastic constant, flowability suitable for molding, and excellent thermal stability by reacting a carbonate precursor with a dihydroxy compound containing a host guest complex dihydroxyfluorene. It became.
Furthermore, the use of the polycarbonate resin of the present invention provides an optical film having a low photoelastic constant and excellent thermal stability and showing wavelength dispersion suitable for optical applications such as retardation films and protective films of polarizing plates. It became possible to Therefore, its industrial effects are outstanding.

以下、本発明を詳細に説明する。
<ポリカーボネート樹脂>
本発明のポリカーボネート樹脂は、繰り返し単位(A)を含む。繰り返し単位(A)は全繰り返し単位中10モル%以上が好ましく、20モル%以上がより好ましく、30モル%以上がさらに好ましい。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
<Polycarbonate resin>
The polycarbonate resin of the present invention contains a repeating unit (A). 10 mol% or more in all the repeating units is preferable, 20 mol% or more is more preferable, and 30 mol% or more of a repeating unit (A) is more preferable.

(繰り返し単位(A))
本発明で用いられる繰り返し単位(A)は、上記式(A)で表される繰返し単位であって、このR、Rは水素、炭素数1〜10のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基、またはハロゲン基(フッ素原子、塩素原子、臭素原子など)が好ましい。さらに好ましくは、水素、炭素数1〜6のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基、またはハロゲン基(フッ素原子、塩素原子、臭素原子など)である。
(Repeating unit (A))
The repeating unit (A) used in the present invention is a repeating unit represented by the above formula (A), wherein R 1 and R 2 are hydrogen, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a cycloalkyl group, an aryl group Preferred is a group, an aralkyl group, an alkenyl group or a halogen group (such as a fluorine atom, a chlorine atom or a bromine atom). More preferably, they are hydrogen, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a cycloalkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkenyl group, or a halogen group (such as a fluorine atom, a chlorine atom or a bromine atom).

式(A)で表される繰返し単位を誘導するジヒドロキシフルオレンとして、具体的には、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−エチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−n−プロピルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−イソプロピルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−n−ブチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−sec−ブチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−tert−プロピルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−シクロヘキシルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−フェニルフェニル)フルオレンなどが挙げられる。なかでも9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)フルオレン、9,9−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレンが好ましく、特に9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレンが好ましい。   Specifically as a dihydroxy fluorene which derives the repeating unit represented by Formula (A), 9, 9- bis (4-hydroxyphenyl) fluorene, 9, 9- bis (4-hydroxy 3- methylphenyl) Fluorene, 9,9-bis (4-hydroxy-3-ethylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-hydroxy-3-n-propylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-hydroxy-3-3) Isopropylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-hydroxy-3-n-butylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-hydroxy-3-sec-butylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4 -Hydroxy-3-tert-propylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-hydroxy-3-cyclohexylphenyl) fluorene , 9,9-bis (4-hydroxy-3-phenylphenyl) fluorene and the like. Among these, 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) fluorene and 9,9- [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] fluorene are preferable. Particularly preferred is 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene.

本発明において、ホストゲスト錯体に含まれるゲスト化合物は、ジヒドロキシフルオレン類をホスト化合物としてホストゲスト錯体を形成する化合物であれば特に制限されない。好ましくは、ジヒドロキシフルオレン類と良好なホストゲスト錯体を形成し、かつ後の重合反応で蒸留が容易なものがよい。そのような化合物としては、低沸点で、酸素や窒素などのヘテロ原子あるいはハロゲン原子を構造中に含む低分子化合物が望ましい。上記例としては、アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリルなどのニトリル類、メタノール、エタノール、プロパノール、2−プロパノール、ブタノールなどの炭素数1〜4のアルコール類、フェノール、クレゾール、キシレノールなどのフェノール類、ピリジン、ピコリンなどのピリジン類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソアミルなどのエステル類、ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素類などを挙げることができる。これらの中でも、アセトニトリル、アセトンおよびメタノールは、ジヒドロキシフルオレン類と良好なホストゲスト錯体を形成するために特に好ましい。   In the present invention, the guest compound contained in the host-guest complex is not particularly limited as long as it is a compound which forms a host-guest complex using dihydroxyfluorenes as a host compound. It is preferable to form a good host-guest complex with dihydroxyfluorenes and to facilitate distillation in a later polymerization reaction. As such a compound, a low molecular weight compound having a low boiling point and containing a hetero atom such as oxygen or nitrogen or a halogen atom in its structure is desirable. Examples of the above include nitriles such as acetonitrile, propionitrile and benzonitrile, alcohols having 1 to 4 carbon atoms such as methanol, ethanol, propanol, 2-propanol and butanol, and phenols such as phenol, cresol and xylenol. Pyridines, pyridines such as picoline, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, etc., esters such as ethyl acetate, butyl acetate, isoamyl acetate, dichloromethane, chloroform Etc. can be mentioned. Among these, acetonitrile, acetone and methanol are particularly preferable in order to form a good host-guest complex with dihydroxyfluorenes.

本発明におけるホストゲスト錯体は、ホスト化合物となるジヒドロキシフルオレン類と、ゲスト化合物とを接触させて得ることができる。この接触方法の例としては、何らかの工程でジヒドロキシフルオレン類が生成した反応混合物と、ゲスト化合物あるいはゲスト化合物を含む溶媒とを混合する方法、何らかの方法で回収したジヒドロキシフルオレン類またはその粗生成物を、ゲスト化合物あるいはゲスト化合物を含む溶媒とを混合する方法、ジヒドロキシフルオレン類またはその粗生成物を、ゲスト化合物あるいはゲスト化合物を含む溶媒中で再結晶する方法などを挙げることができる。また、このようにして得られるジヒドロキシフルオレン類のホストゲスト錯体は、通常、ジヒドロキシフルオレン類1分子に対して、ゲスト分子1分子あるいはゲスト分子2分子などの単純な整数比率の組成を持つため、組成比のコントロールも容易である。   The host-guest complex in the present invention can be obtained by bringing the dihydroxyfluorenes to be the host compound into contact with the guest compound. As an example of this contact method, a method of mixing a reaction mixture in which dihydroxyfluorenes are generated in any process with a guest compound or a solvent containing a guest compound, dihydroxyfluorenes recovered by any method or a crude product thereof, Examples thereof include a method of mixing with a guest compound or a solvent containing a guest compound, and a method of recrystallizing a dihydroxyfluorenes or a crude product thereof in a guest compound or a solvent containing a guest compound. Also, the host-guest complex of dihydroxyfluorenes obtained in this manner usually has a composition with a simple integer ratio such as one guest molecule or two guest molecules to one dihydroxyfluorene molecule. Control of the ratio is also easy.

(繰り返し単位(B))
本発明で使用されるポリカーボネート樹脂の好ましい一態様として、上記繰り返し単位(A)と繰り返し単位(B)を含み、単位(A)と単位(B)との合計は全繰り返し単位中70モル%以上が好ましく、80モル%以上がより好ましく、90モル%以上がさらに好ましく、95モル%以上が特に好ましい。
(Repeating unit (B))
In a preferred embodiment of the polycarbonate resin used in the present invention, the repeating unit (A) and the repeating unit (B) are contained, and the total of the unit (A) and the unit (B) is 70 mol% or more in all repeating units. Is preferable, 80 mol% or more is more preferable, 90 mol% or more is more preferable, and 95 mol% or more is particularly preferable.

繰り返し単位(B)は、脂肪族ジオール化合物、脂環族ジオール化合物または芳香族ジヒドロキシ化合物から誘導されるカーボネート単位(B)である。脂肪族ジオール化合物および脂環式ジオール化合物としては、国際公開第2004/111106号パンフレット、国際公開第2011/021720号パンフレットに記載のジオール化合物やジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコールなどのオキシアルキレングリコール類が挙げられる。   The repeating unit (B) is a carbonate unit (B) derived from an aliphatic diol compound, an alicyclic diol compound or an aromatic dihydroxy compound. Examples of aliphatic diol compounds and alicyclic diol compounds include diol compounds described in WO 2004/111106 and WO 2011/021720, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, polyethylene glycol and the like. And oxyalkylene glycols.

脂肪族ジオール化合物は、好ましくは炭素原子数2〜30、より好ましくは炭素原子数4〜20の脂肪族ジオール化合物が使用される。
前記脂肪族ジオール化合物としては、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,8−オクタンジオール、1.9−ノナンジオール、1,10−デカンジオール、1,12−ドデカンジオール、2−メチル−1,3−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、2−n−ブチル−2−エチル−1,3−プロパンジオール、2,2−ジエチル−1,3−プロパンジオール、2,4−ジエチル−1,5−ペンタンジオール、1,2−ヘキサングリコール、1,2−オクチルグリコール、2−エチル−1,3−ヘキサンジオール、2,3−ジイソブチル−1,3−プロパンジオール、2,2−ジイソアミル−1,3−プロパンジオール、2−メチル−2−プロピル−1,3−プロパンジオールなどが挙げられる。
As the aliphatic diol compound, an aliphatic diol compound having preferably 2 to 30 carbon atoms, more preferably 4 to 20 carbon atoms is used.
As the aliphatic diol compound, 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 1,8-octanediol, 1.9-nonanediol, 1,10-decanediol, 1,12-dodecanediol, 2-methyl-1,3-propanediol, neopentyl glycol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 2-n-butyl-2-ethyl- 1,3-propanediol, 2,2-diethyl-1,3-propanediol, 2,4-diethyl-1,5-pentanediol, 1,2-hexane glycol, 1,2-octyl glycol, 2-ethyl 1,3-hexanediol, 2,3-diisobutyl-1,3-propanediol, 2,2-diisoamyl-1,3-propanedio Le, 2-methyl-2-propyl-1,3-propanediol.

前記脂環式ジオール化合物としては、1,2−シクロヘキサンジオール、1,3−シクロヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジオール、2−メチル−1,4−シクロヘキサンジオールなどのシクロヘキサンジオール類、1,2−シクロヘキサンジメタノール、1,3−シクロヘキサンジメタノール、1,4−シクロヘキサンジメタノールなどのシクロヘキサンジメタノール類、2,3−ノルボルナンジメタノール、2,5−ノルボルナンジメタノールなどのノルボルナンジメタノール類、トリシクロデカンジメタノール、ペンタシクロペンタデカンジメタノール、1,3−アダマンタンジオール、2,2−アダマンタンジオール、デカリンジメタノール、2,2,4,4−テトラメチル−1,3−シクロブタンジオール、3,9−ビス(2−ヒドロキシ−1,1−ジメチルエチル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン、イソソルビドなどが挙げられ、シクロヘキサンジメタノール類、3,9−ビス(2−ヒドロキシ−1,1−ジメチルエチル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン、イソソルビドが好ましく使用される。   Examples of the alicyclic diol compound include cyclohexanediols such as 1,2-cyclohexanediol, 1,3-cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanediol, 2-methyl-1,4-cyclohexanediol, and the like. Cyclohexanedimethanols such as cyclohexanedimethanol, 1,3-cyclohexanedimethanol, 1,4-cyclohexanedimethanol, norbornane dimethanols such as 2,3-norbornane dimethanol, 2,5-norbornane dimethanol, tricyclo Decane dimethanol, pentacyclopentadecane dimethanol, 1,3-adamantanediol, 2,2-adamantanediol, decalin dimethanol, 2,2,4,4-tetramethyl-1,3-cyclobutanediol, 3,9- B (2-hydroxy-1,1-dimethylethyl) -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5.5] undecane, isosorbide and the like, cyclohexanedimethanols, 3,9-bis (2- Hydroxy-1,1-dimethylethyl) -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5.5] undecane and isosorbide are preferably used.

芳香族ジヒドロキシ化合物としては、4,4′−ビフェノール、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン(ビスフェノールE)、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン(ビスフェノールA)、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロパン(ビスフェノールC)、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ブタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルエタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン(ビスフェノールZ)、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ペンタン、α,α′−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−m−ジイソプロピルベンゼン(ビスフェノールM)、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−4−イソプロピルシクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)デカン、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)フルオレン、9,9−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレンなどが例示される。なかでも、ビスフェノールA、ビスフェノールZ、ビスフェノールC、ビスフェノールE、ビスフェノールMが耐熱性、流動性の観点から好ましく、特にビスフェノールAが高流動、入手容易性の観点から好ましい。
これらの脂肪族ジオール化合物、脂環族ジオール化合物、芳香族ジヒドロキシ化合物は1種もしくは2種類以上併用して用いてもよい。
As the aromatic dihydroxy compound, 4,4′-biphenol, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) ethane (bisphenol E), 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane (bisphenol A), 2, 2-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) propane (bisphenol C), 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) butane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -1-phenylethane, 1 1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane (bisphenol Z), 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) pentane, α, α'-bis (4-hydroxyphenyl) -m-diisopropylbenzene (bisphenol M), 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -4-isopropylcyclohexane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) decane, 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (4 And -hydroxy-3-methylphenyl) fluorene, 9,9- [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] fluorene and the like. Among them, bisphenol A, bisphenol Z, bisphenol C, bisphenol E, and bisphenol M are preferable from the viewpoints of heat resistance and fluidity, and bisphenol A is particularly preferable from the viewpoint of high fluidity and availability.
These aliphatic diol compounds, alicyclic diol compounds and aromatic dihydroxy compounds may be used alone or in combination of two or more.

(組成)
本発明で使用されるポリカーボネート樹脂は、単位(A)を含み、さらに単位(B)を含むことが好ましい。それら単位(A)と単位(B)とのモル比(A/B)は好ましくは10/90〜90/10である。モル比(A/B)が10/90〜90/10の範囲では、光弾性定数が低く、流動性が良好で、熱安定性に優れるポリカーボネート樹脂が得られ、且つ所望の波長分散特性を有する光学フィルムが得られる。単位(A)と単位(B)とのモル比(A/B)は、好ましくは20/80〜80/20、より好ましくは25/75〜70/30、特に好ましくは30/70〜60/40である。各繰り返し単位のモル比は、日本電子社製JNM−AL400のプロトンNMRにて測定し算出する。
(composition)
The polycarbonate resin used in the present invention contains the unit (A) and preferably further contains the unit (B). The molar ratio (A / B) of the unit (A) to the unit (B) is preferably 10/90 to 90/10. When the molar ratio (A / B) is in the range of 10/90 to 90/10, a polycarbonate resin having a low photoelastic constant, good fluidity, and excellent thermal stability can be obtained, and has desired wavelength dispersion characteristics. An optical film is obtained. The molar ratio (A / B) of unit (A) to unit (B) is preferably 20/80 to 80/20, more preferably 25/75 to 70/30, particularly preferably 30/70 to 60 / 40 The molar ratio of each repeating unit is measured and calculated by proton NMR of JNM-AL400 manufactured by JEOL.

(ポリカーボネート樹脂の製造方法)
本発明のポリカーボネート樹脂は、通常のポリカーボネート樹脂を製造するそれ自体公知の反応手段、例えばジオール成分にホスゲンや炭酸ジエステルなどのカーボネート前駆物質を反応させる方法により製造される。次にこれらの製造方法について基本的な手段を簡単に説明する。
(Method of producing polycarbonate resin)
The polycarbonate resin of the present invention is produced by a reaction means known per se which produces a normal polycarbonate resin, for example, a method of reacting a diol component with a carbonate precursor such as phosgene or carbonic acid diester. Next, basic means of these manufacturing methods will be briefly described.

カーボネート前駆物質として、例えばホスゲンを使用する反応では、通常酸結合剤および溶媒の存在下に反応を行う。酸結合剤としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物またはピリジンなどのアミン化合物が用いられる。溶媒としては、例えば塩化メチレン、クロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素が用いられる。また反応促進のために例えば第三級アミンまたは第四級アンモニウム塩などの触媒を用いることもできる。その際、反応温度は通常0〜40℃であり、反応時間は数分〜5時間である。本発明のポリカーボネート樹脂は、その重合反応において、末端停止剤として通常使用される単官能フェノール類を使用することができる。殊にカーボネート前駆物質としてホスゲンを使用する反応の場合、単官能フェノール類は末端停止剤として分子量調節のために一般的に使用され、また得られた芳香族ポリカーボネート樹脂は、末端が単官能フェノール類に基づく基によって封鎖されているので、そうでないものと比べて熱安定性に優れている。
かかる単官能フェノール類としては、芳香族ポリカーボネート樹脂の末端停止剤として使用されるものであればよい。
In reactions using, for example, phosgene as the carbonate precursor, the reaction is usually carried out in the presence of an acid binder and a solvent. As the acid binder, for example, an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide or potassium hydroxide or an amine compound such as pyridine is used. As the solvent, for example, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride and chlorobenzene are used. Also, catalysts such as tertiary amines or quaternary ammonium salts can be used to accelerate the reaction. At that time, the reaction temperature is usually 0 to 40 ° C., and the reaction time is several minutes to 5 hours. The polycarbonate resin of the present invention can use monofunctional phenols usually used as a termination agent in the polymerization reaction. Particularly in the case of reactions using phosgene as the carbonate precursor, monofunctional phenols are commonly used as molecular terminators for molecular weight control, and the resulting aromatic polycarbonate resins are terminally monofunctional phenols Because it is sequestered by the groups based on, it is superior in thermal stability to those not otherwise.
Such monofunctional phenols may be those which are used as end terminators for aromatic polycarbonate resins.

カーボネート前駆物質として炭酸ジエステルを用いるエステル交換反応は、不活性ガス雰囲気下所定割合の芳香族ジヒドロキシ成分を炭酸ジエステルと加熱しながら撹拌して、生成するアルコールまたはフェノール類を留出させる方法により行われる。反応温度は生成するアルコールまたはフェノール類の沸点などにより異なるが、通常120〜300℃の範囲である。反応はその初期から減圧にして生成するアルコールまたはフェノール類を留出させながら反応を完結させる。また、必要に応じて末端停止剤、酸化防止剤等を加えてもよい。   Transesterification using a carbonic acid diester as a carbonate precursor is carried out by a method in which a predetermined proportion of an aromatic dihydroxy component is heated and stirred with a carbonic acid diester in an inert gas atmosphere to distill off the alcohol or phenol formed. . The reaction temperature varies depending on the boiling point of the alcohol or phenol to be produced and the like, but is usually in the range of 120 to 300 ° C. The reaction is initially completed under reduced pressure to complete the reaction while distilling off the alcohol or phenol formed. Moreover, you may add an end terminator, antioxidant, etc. as needed.

本発明のポリカーボネート樹脂の製造方法は以下に示すA工程、B工程を含む製造方法であることが好ましい。
A工程は、最終真空度が50kPa以下2kPa以上の範囲で、最終樹脂温度が160℃以上250℃以下の範囲であり、仕込んだ全ジオールのモル数を基準として、残存モノマーのモル数が1mol%以上30mol%以下となるまでエステル交換させる工程である。最終真空度は、35kPa以下1kPa以上の範囲がより好ましい。また、減圧速度は20kPa/min以下0.5kPa/min以上が好ましい。昇温速度は0.1℃/min以下5℃/min以上が好ましい。20kPa/min以下で減圧した場合や5℃/min以上で昇温した場合、低沸点物であるゲスト化合物の突沸が起こり難く、生産安定性に優れる。最終樹脂温度は、180℃〜240℃の範囲がより好ましい。160℃以上では反応が進行しやすく生産性が良好である。この工程でホストゲスト錯体を分解し、ゲスト化合物の量をホストゲスト化合物の量に対して0mol%以上20mol%以下にすることが好ましい。ゲスト化合物の量が30%以下で次工程に移ることにより重合中に突沸が起こり難く、生産安定性に優れる。
It is preferable that the manufacturing method of polycarbonate resin of this invention is a manufacturing method including A process shown below and B process.
Step A has a final degree of vacuum of 50 kPa or less and 2 kPa or more, and a final resin temperature of 160 ° C. or more and 250 ° C. or less, and the number of moles of remaining monomer is 1 mol% based on the number of moles of all diols charged. In this step, the ester is transesterified to 30 mol% or less. The final vacuum degree is more preferably in the range of 35 kPa or less and 1 kPa or more. The pressure reduction rate is preferably 20 kPa / min or less and 0.5 kPa / min or more. The heating rate is preferably 0.1 ° C./min or less and 5 ° C./min or more. When the pressure is reduced at 20 kPa / min or less or the temperature is raised at 5 ° C./min or more, bumping of the guest compound which is a low-boiling substance hardly occurs, and the production stability is excellent. The final resin temperature is more preferably in the range of 180 ° C to 240 ° C. Above 160 ° C., the reaction is easy to proceed and the productivity is good. In this step, the host-guest complex is preferably decomposed to make the amount of guest compound 0 mol% or more and 20 mol% or less with respect to the amount of host guest compound. By shifting to the next step when the amount of the guest compound is 30% or less, bumping hardly occurs during the polymerization, and the production stability is excellent.

B工程は、最終真空度が4kPa未満で、最終樹脂温度235℃以上300℃以下の範囲で、ポリカーボネート樹脂の比粘度が0.2以上0.6以下にエステル交換させる工程である。B工程では、A工程で重合せしめたポリカーボネート樹脂をさらに重合せしめる。最終真空度が1kPa未満では、生成するフェノール類が系内に残存しづらく、樹脂の色相、分解反応が抑制され好ましい。最終真空度は0.5kPa以下がより好ましい。235℃以上では溶融粘度が高くなりすぎず、収率低下や吐出できないといった問題が起こりにくい。また、300℃以下では残存するモノマー類のオリゴマーが分解しづらく、ゲルが発生しにくいことが推測される。最終樹脂温度は、240℃以上280℃以下の範囲がより好ましく、245℃以上275℃以下の範囲がさらに好ましい。ポリカーボネート樹脂の比粘度は、0.25以上0.5以下にエステル交換させることがより好ましい。温度はA工程の温度から除々に加熱して行き、最終温度を途中越えないようにすることが好ましい。樹脂中のゲスト化合物の量をホストゲスト化合物の量に対して0.1mol%以下にすることが好ましい。   Step B is a step of transesterifying the specific viscosity of the polycarbonate resin to 0.2 or more and 0.6 or less at a final degree of vacuum of less than 4 kPa and a final resin temperature of 235 ° C. or more and 300 ° C. or less. In step B, the polycarbonate resin polymerized in step A is further polymerized. If the final degree of vacuum is less than 1 kPa, the produced phenols hardly remain in the system, and the hue of the resin and the decomposition reaction are suppressed, which is preferable. The final vacuum degree is more preferably 0.5 kPa or less. When the temperature is 235 ° C. or higher, the melt viscosity does not become too high, and problems such as a decrease in yield and inability to discharge can hardly occur. In addition, it is presumed that at 300 ° C. or less, the oligomers of the remaining monomers are difficult to be decomposed and gelation is difficult to occur. The final resin temperature is more preferably in the range of 240 ° C. or more and 280 ° C. or less, and still more preferably in the range of 245 ° C. or more and 275 ° C. or less. The specific viscosity of the polycarbonate resin is more preferably transesterified to 0.25 or more and 0.5 or less. The temperature is preferably gradually heated from the temperature of step A so that the final temperature is not exceeded halfway. The amount of guest compound in the resin is preferably 0.1 mol% or less based on the amount of host guest compound.

前記エステル交換反応に使用される炭酸ジエステルとしては、置換されてもよい炭素数6〜12のアリール基、アラルキル基等のエステルが挙げられる。具体的には、ジフェニルカーボネート、ジトリールカーボネート、ビス(クロロフェニル)カーボネートおよびm−クレジルカーボネート等が例示される。なかでもジフェニルカーボネートが特に好ましい。ジフェニルカーボネートの使用量は、ジヒドロキシ化合物の合計1モルに対して、好ましくは0.97〜1.10モル、より好ましは1.00〜1.06モルである。   As a carbonic diester used for the said transesterification, ester, such as a C6-C12 aryl group which may be substituted, an aralkyl group, etc. are mentioned. Specifically, diphenyl carbonate, ditolyl carbonate, bis (chlorophenyl) carbonate, m-cresyl carbonate and the like are exemplified. Among them, diphenyl carbonate is particularly preferred. The amount of diphenyl carbonate used is preferably 0.97 to 1.10 mol, more preferably 1.00 to 1.06 mol, per 1 mol in total of the dihydroxy compound.

また溶融重合法においては重合速度を速めるために、重合触媒を用いることができ、かかる重合触媒としては、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物、含窒素化合物、金属化合物等が挙げられる。
このような化合物としては、アルカリ金属やアルカリ土類金属の、有機酸塩、無機塩、酸化物、水酸化物、水素化物、アルコキシド、4級アンモニウムヒドロキシド等が好ましく用いられ、これらの化合物は単独もしくは組み合わせて用いることができる。
In the melt polymerization method, a polymerization catalyst can be used to accelerate the polymerization rate, and examples of such a polymerization catalyst include alkali metal compounds, alkaline earth metal compounds, nitrogen-containing compounds, metal compounds and the like.
As such compounds, organic acid salts, inorganic salts, oxides, hydroxides, hydrides, alkoxides, quaternary ammonium hydroxides and the like of alkali metals and alkaline earth metals are preferably used, and these compounds are It can be used alone or in combination.

アルカリ金属化合物としては、具体的には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、水酸化リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸セシウム、酢酸リチウム、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、ステアリン酸セシウム、ステアリン酸リチウム、水素化ホウ素ナトリウム、安息香酸ナトリウム、安息香酸カリウム、安息香酸セシウム、安息香酸リチウム、リン酸水素2ナトリウム、リン酸水素2カリウム、リン酸水素2リチウム、フェニルリン酸2ナトリウム、ビスフェノールAの2ナトリウム塩、2カリウム塩、2セシウム塩、2リチウム塩、フェノールのナトリウム塩、カリウム塩、セシウム塩、リチウム塩等が例示される。   Specific examples of the alkali metal compound include sodium hydroxide, potassium hydroxide, cesium hydroxide, lithium hydroxide, sodium hydrogencarbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate, lithium carbonate, sodium acetate, sodium acetate, potassium acetate Cesium, lithium acetate, sodium stearate, potassium stearate, cesium stearate, lithium stearate, sodium borohydride, sodium benzoate, potassium benzoate, cesium benzoate, lithium benzoate, disodium hydrogen phosphate, phosphoric acid Dipotassium hydrogen, dilithium hydrogen phosphate, disodium phenylphosphate, disodium salt of bisphenol A, dipotassium salt of dipotassium, disodium cesium salt, dilithium salt, sodium salt of phenol, potassium salt, cesium salt, lithium salt etc. It is shown.

アルカリ土類金属化合物としては、具体的に、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチウム、水酸化バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸ストロンチウム、炭酸バリウム、二酢酸マグネシウム、二酢酸カルシウム、二酢酸ストロンチウム、二酢酸バリウム等が例示される。   Specific examples of the alkaline earth metal compound include magnesium hydroxide, calcium hydroxide, strontium hydroxide, barium hydroxide, magnesium carbonate, calcium carbonate, strontium carbonate, barium carbonate, magnesium diacetate, calcium diacetate, and diacetic acid. Strontium, barium diacetate and the like are exemplified.

含窒素化合物としては、具体的に、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシド等のアルキル、アリール基等を有する4級アンモニウムヒドロキシド類が例示される。また、トリエチルアミン、ジメチルベンジルアミン、トリフェニルアミン等の3級アミン類、2−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、ベンゾイミダゾール等のイミダゾール類が例示される。また、アンモニア、テトラメチルアンモニウムボロハイドライド、テトラブチルアンモニウムボロハイドライド、テトラブチルアンモニウムテトラフェニルボレート、テトラフェニルアンモニウムテトラフェニルボレート等の塩基あるいは塩基性塩等が例示される。   Specific examples of nitrogen-containing compounds include alkyls such as tetramethyl ammonium hydroxide, tetraethyl ammonium hydroxide, tetrapropyl ammonium hydroxide, tetrabutyl ammonium hydroxide, trimethyl benzyl ammonium hydroxide, etc., quaternary ammonium having an aryl group, etc. Hydroxides are exemplified. Also, tertiary amines such as triethylamine, dimethylbenzylamine and triphenylamine, and imidazoles such as 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole and benzimidazole are exemplified. In addition, bases such as ammonia, tetramethyl ammonium borohydride, tetrabutyl ammonium borohydride, tetrabutyl ammonium tetraphenyl borate, tetraphenyl ammonium tetraphenyl borate and the like or basic salts are exemplified.

金属化合物としては、亜鉛アルミニウム化合物、ゲルマニウム化合物、有機スズ化合物、アンチモン化合物、マンガン化合物、チタン化合物、ジルコニウム化合物等が挙げられる。これらの化合物は1種または2種以上併用してもよい。
これらの重合触媒の使用量は、ジオール成分1モルに対し好ましくは1×10−9〜1×10−2当量、好ましくは1×10−8〜1×10−5当量、より好ましくは1×10−7〜1×10−3当量の範囲で選ばれる。
Examples of the metal compound include zinc aluminum compounds, germanium compounds, organic tin compounds, antimony compounds, manganese compounds, titanium compounds, and zirconium compounds. These compounds may be used alone or in combination of two or more.
The amount of these polymerization catalysts used is preferably 1 × 10 −9 to 1 × 10 −2 equivalents, preferably 1 × 10 −8 to 1 × 10 −5 equivalents, more preferably 1 × to 1 mole of the diol component. It is chosen in the range of 10 −7 to 1 × 10 −3 equivalents.

また、反応後期に触媒失活剤を添加することもできる。使用する触媒失活剤としては、公知の触媒失活剤が有効に使用されるが、なかでもスルホン酸のアンモニウム塩、ホスホニウム塩が好ましい。更にドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩等のドデシルベンゼンスルホン酸の塩類、パラトルエンスルホン酸テトラブチルアンモニウム塩等のパラトルエンスルホン酸の塩類が好ましい。   A catalyst deactivator can also be added later in the reaction. As a catalyst deactivator to be used, known catalyst deactivators are effectively used, and among them, ammonium salts and phosphonium salts of sulfonic acid are preferable. Further, salts of dodecylbenzenesulfonic acid such as tetrabutylphosphonium salt of dodecylbenzenesulfonic acid and salts of p-toluenesulfonic acid such as tetrabutylammonium salt of p-toluenesulfonic acid are preferable.

またスルホン酸のエステルとして、具体的に、ベンゼンスルホン酸メチル、ベンゼンスルホン酸エチル、ベンゼンスルホン酸ブチル、ベンゼンスルホン酸オクチル、ベンゼンスルホン酸フェニル、パラトルエンスルホン酸メチル、パラトルエンスルホン酸エチル、パラトルエンスルホン酸ブチル、パラトルエンスルホン酸オクチル、パラトルエンスルホン酸フェニル等が例示される。なかでも、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩が特に好ましい。   Further, as esters of sulfonic acid, specifically, methyl benzene sulfonate, ethyl benzene sulfonate, butyl benzene sulfonate, octyl benzene sulfonate, phenyl benzene sulfonate, methyl para-toluene sulfonate, ethyl para-toluene sulfonate, para-toluene Examples thereof include butyl sulfonate, octyl p-toluenesulfonate, and phenyl p-toluenesulfonate. Among them, tetrabutylphosphonium salt of dodecylbenzenesulfonic acid is particularly preferable.

これらの触媒失活剤の使用量はアルカリ金属化合物および/またはアルカリ土類金属化合物より選ばれた少なくとも1種の重合触媒を用いた場合、その触媒1モル当たり好ましくは0.5〜50モルの割合で、より好ましくは0.5〜10モルの割合で、更に好ましくは0.8〜5モルの割合で使用することができる。   When at least one polymerization catalyst selected from alkali metal compounds and / or alkaline earth metal compounds is used, the amount of these catalyst deactivators used is preferably 0.5 to 50 moles per mole of the catalyst. It can be used in a proportion, more preferably in a proportion of 0.5 to 10 mol, still more preferably in a proportion of 0.8 to 5 mol.

(比粘度:ηSP
本発明のポリカーボネート樹脂の比粘度(ηSP)としては、0.20〜1.50の範囲である。0.20以上であると強度等が向上し、1.50以下であると成形加工特性が優れる。好ましくは、0.25〜1.20の範囲であり、特に好ましくは、0.30〜1.00の範囲である。
本発明でいう比粘度は、20℃で塩化メチレン100mlにポリカーボネート樹脂0.7gを溶解した溶液からオストワルド粘度計を用いて求めた。
比粘度(ηSP)=(t−t)/t
[tは塩化メチレンの落下秒数、tは試料溶液の落下秒数]
(Specific viscosity: SP SP )
The specific viscosity (η SP ) of the polycarbonate resin of the present invention is in the range of 0.20 to 1.50. A strength etc. improve that it is 0.20 or more, and a molding process characteristic is excellent in it being 1.50 or less. Preferably, it is in the range of 0.25 to 1.20, and particularly preferably in the range of 0.30 to 1.00.
The specific viscosity referred to in the present invention was determined from a solution of 0.7 g of a polycarbonate resin dissolved in 100 ml of methylene chloride at 20 ° C. using an Ostwald viscometer.
Specific viscosity (η SP ) = (t−t 0 ) / t 0
[T 0 is the second drop of methylene chloride, t is the second drop of the sample solution]

なお、本発明のポリカーボネート樹脂の比粘度を測定する場合は、次の要領で行うことができる。すなわち、ポリカーボネート樹脂をその20〜30倍重量の塩化メチレンに溶解し、可溶分をセライト濾過により採取した後、溶液を除去して十分に乾燥し、塩化メチレン可溶分の固体を得る。かかる固体0.7gを塩化メチレン100mlに溶解した溶液から20℃における比粘度をオストワルド粘度計を用いて求める。   The specific viscosity of the polycarbonate resin of the present invention can be measured in the following manner. That is, the polycarbonate resin is dissolved in 20 to 30 times its weight of methylene chloride, and the soluble matter is collected by Celite filtration, and then the solution is removed and sufficiently dried to obtain a solid of methylene chloride soluble matter. The specific viscosity at 20 ° C. of a solution of 0.7 g of the solid dissolved in 100 ml of methylene chloride is determined using an Ostwald viscometer.

(ガラス転移温度:Tg)
本発明のポリカーボネート樹脂のガラス転移温度(Tg)は、好ましくは130〜220℃、より好ましくは140〜200℃、特に好ましくは140〜160℃の範囲である。Tgが下限以上であると耐熱安定性が良好となり、位相差フィルムとして使用した際に、位相差値の変化が起こりづらく好ましい。またTgが上限を超えない範囲では、フィルムの延伸加工に高い温度は必要なく、従来と異なる特別な加工設備を必要としないため好ましい。Tgは、アルキル基の導入により低くなると推定される。Tgはティー・エイ・インスツルメント・ジャパン(株)製2910型DSCを使用し、昇温速度20℃/minにて測定する。
(Glass transition temperature: Tg)
The glass transition temperature (Tg) of the polycarbonate resin of the present invention is preferably in the range of 130 to 220 ° C, more preferably 140 to 200 ° C, and particularly preferably 140 to 160 ° C. Heat resistance stability becomes favorable for Tg to be more than a lower limit, and when using as a retardation film, change of retardation value hardly occurs, and it is preferable. In addition, in the range where the Tg does not exceed the upper limit, it is preferable because a high temperature is not necessary for the stretching of the film, and a special processing facility different from the conventional one is not required. The Tg is estimated to be lower due to the introduction of the alkyl group. Tg is measured at a temperature rising rate of 20 ° C./min using a Model 2910 DSC manufactured by TA Instruments Japan Co., Ltd.

(光弾性定数)
本発明のポリカーボネート樹脂の光弾性定数の絶対値は、好ましくは50×10−12Pa−1以下、より好ましくは45×10−12Pa−1以下、さらに好ましくは40×10−12Pa−1以下、特に好ましくは30×10−12Pa−1以下、もっとも好ましくは20×10−12Pa−1以下である。絶対値が50×10−12Pa−1を超えると、応力による複屈折が大きく、位相差フィルム等に使用する場合に光抜けが起こる場合がある。光弾性定数は未延伸フィルムを日本分光(株)製 Spectroellipsometer M−220を使用し測定する。
(Photoelastic constant)
The absolute value of the photoelastic constant of the polycarbonate resin of the present invention is preferably 50 × 10 −12 Pa −1 or less, more preferably 45 × 10 −12 Pa −1 or less, still more preferably 40 × 10 −12 Pa −1. Or less, particularly preferably 30 × 10 −12 Pa −1 or less, and most preferably 20 × 10 −12 Pa −1 or less. When the absolute value exceeds 50 × 10 −12 Pa −1 , birefringence due to stress is large, and light leakage may occur when used for a retardation film or the like. A photoelastic constant measures an unstretched film using JASCO Ltd. make Spectroellipsometer M-220.

(添加剤)
また、本発明のポリカーボネート樹脂には、用途や必要に応じて熱安定剤、可塑剤、光安定剤、重合金属不活性化剤、難燃剤、滑剤、帯電防止剤、界面活性剤、抗菌剤、紫外線吸収剤、離型剤等の添加剤を配合することができる。
(Additive)
In the polycarbonate resin of the present invention, a heat stabilizer, a plasticizer, a light stabilizer, a polymeric metal deactivator, a flame retardant, a lubricant, an antistatic agent, a surfactant, an antibacterial agent, and the like according to the use and necessity. Additives such as UV absorbers and mold release agents can be blended.

<光学成形品>
本発明のポリカーボネート樹脂から光学成形品を形成することができる。かかる光学成形品は、例えば射出成形法、圧縮成形法、押出成形法、溶液キャスティング法など任意の方法により成形される。本発明のポリカーボネート樹脂は、光弾性定数が低く、延伸により所望の波長分散性を実現することができるため特に光学フィルムとして有利に使用することができる。もちろん本発明のポリカーボネート樹脂は、光弾性定数が低く、しかも成形性にも優れているので、光ディスク基板、光学レンズ、液晶パネル、光カード、シート、光ファイバー、コネクター、蒸着プラスチック反射鏡、ディスプレーなどの光学部品の構造材料または機能材料用途に適した光学用成形品としても有利に使用することができる。特に光学レンズとして好適に使用される。
<Optical molded article>
An optical molded article can be formed from the polycarbonate resin of the present invention. Such an optical molded article is molded by any method such as, for example, an injection molding method, a compression molding method, an extrusion molding method, and a solution casting method. The polycarbonate resin of the present invention can be advantageously used particularly as an optical film because it has a low photoelastic constant and can achieve desired wavelength dispersion by stretching. Of course, the polycarbonate resin of the present invention has a low photoelastic constant and is also excellent in moldability, so optical disc substrates, optical lenses, liquid crystal panels, optical cards, sheets, optical fibers, connectors, evaporated plastic reflectors, displays, etc. It can also be advantageously used as an optical molding suitable for structural materials or functional material applications of optical parts. In particular, it is suitably used as an optical lens.

<光学フィルム>
本発明のポリカーボネート樹脂を用いてなる光学フィルムは、具体的には、位相差フィルム、プラセル基板フィルム、偏光板保護フィルム、反射防止フィルム、輝度上昇フィルム、光ディスクの保護フィルム、拡散フィルム等の用途が挙げられる、なかでも位相差フィルム、偏光板保護フィルム、反射防止フィルムが好ましい。
光学フィルムの製造方法としては、例えば、溶液キャスト法、溶融押出法、熱プレス法、カレンダー法等公知の方法を挙げることが出来る。なかでも、溶液キャスト法、溶融押出法が好ましく、特に生産性の点から溶融押出法が特に好ましい。
<Optical film>
Specifically, the optical film made of the polycarbonate resin of the present invention is used as a retardation film, a plastic substrate film, a polarizing plate protective film, an antireflective film, a brightness enhancement film, a protective film of an optical disk, a diffusion film, etc. Among them, preferred are a retardation film, a polarizing plate protective film and an antireflection film.
Examples of the method for producing an optical film include known methods such as a solution cast method, a melt extrusion method, a heat press method, and a calendar method. Among them, the solution casting method and the melt extrusion method are preferable, and in particular, the melt extrusion method is particularly preferable from the viewpoint of productivity.

溶融押出法においては、Tダイを用いて樹脂を押出冷却ロールに送る方法が好ましく用いられる。このときの溶融押出温度はポリカーボネート樹脂の分子量、Tg、溶融流動特性等から決められるが、180〜350℃の範囲であり、200℃〜320℃の範囲がより好ましい。180℃より低いと粘度が高くなりポリマーの配向、応力歪みが残りやすく好ましくない。また、350℃より高いと熱劣化、着色、Tダイからのダイライン(筋)等の問題が起きやすい。   In the melt extrusion method, a method of feeding the resin to an extrusion cooling roll using a T-die is preferably used. The melt extrusion temperature at this time is determined from the molecular weight, Tg, melt flow characteristics, etc. of the polycarbonate resin, and is in the range of 180 to 350 ° C., and more preferably in the range of 200 ° C. to 320 ° C. When the temperature is lower than 180 ° C., the viscosity becomes high, and the orientation of the polymer and the stress strain tend to remain, which is not preferable. If the temperature is higher than 350 ° C., problems such as thermal deterioration, coloring, and die lines (strips) from the T die tend to occur.

また、本発明のポリカーボネート樹脂は、有機溶媒に対する溶解性が良好なので、溶液キャスト法も適用することが出来る。溶液キャスト法の場合は、溶媒としては塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン、1,1,2,2−テトラクロロエタン、ジオキソラン、ジオキサン等が好適に用いられる。溶液キャスト法で得られるフィルム中の残留溶媒量は2重量%以下であることが好ましく、より好ましくは1重量%以下である。残留溶媒量が2重量%を超えるとフィルムのガラス転移温度の低下が著しくなり耐熱性の点で好ましくない。   Further, since the polycarbonate resin of the present invention has good solubility in organic solvents, a solution casting method can also be applied. In the case of the solution casting method, methylene chloride, 1,2-dichloroethane, 1,1,2,2-tetrachloroethane, dioxolane, dioxane and the like are suitably used as the solvent. The amount of residual solvent in the film obtained by the solution casting method is preferably 2% by weight or less, more preferably 1% by weight or less. When the amount of residual solvent exceeds 2% by weight, the decrease in the glass transition temperature of the film becomes remarkable, which is not preferable in terms of heat resistance.

本発明のポリカーボネートを用いてなる未延伸フィルムの厚みとしては、30〜400μmの範囲が好ましく、より好ましくは40〜300μmの範囲である。かかる未延伸フィルムをさらに延伸して位相差フィルムとする場合は、目的とする位相差値と関連するが20〜200μmの範囲であり、より好ましくは20〜150μmである。この範囲であれば、延伸による所望する位相差値が得やすく、製膜も容易で好ましい。未延伸フィルムは、偏光板保護フィルムや光ディスク用透過層フィルムとして好適に用いられる。   As thickness of the unstretched film which uses the polycarbonate of this invention, the range of 30-400 micrometers is preferable, More preferably, it is the range of 40-300 micrometers. When the unstretched film is further stretched to form a retardation film, the thickness is in the range of 20 to 200 μm, more preferably 20 to 150 μm, although it is related to the target retardation value. Within this range, it is easy to obtain a desired retardation value by stretching, and film formation is also easy and preferable. The unstretched film is suitably used as a polarizing plate protective film or a transmission layer film for an optical disc.

本発明のポリカーボネートを用いてなる未延伸フィルムは延伸配向することにより位相差フィルムとなる。なお、フィルムの製膜する機械軸方向を製膜方向または縦方向と称し、製膜方向とフィルムの厚み方向に直交する方向を横方向または幅方向と称する。延伸方法は、縦一軸延伸、テンター等を用いる横一軸延伸、あるいはそれらを組み合わせた同時二軸延伸、逐次二軸延伸等公知の方法を用いることが出来る。また連続で行うことが生産性の点で好ましいが、バッチ式で行っても良い。延伸温度は、ポリカーボネート樹脂のガラス転移温度(Tg)に対して、好ましくは(Tg−20℃)〜(Tg+50℃)の範囲、より好ましくは(Tg−10℃)〜(Tg+30℃)の範囲である。この温度範囲であれば、ポリマーの分子運動が適度であり、延伸による緩和が起こり難く、配向制御が容易になり所望する面内位相差が得られ易いため好ましい。延伸温度が低いと位相差が発現しやすくなる傾向がある。   The unstretched film using the polycarbonate of the present invention becomes a retardation film by stretching and orientation. The machine axis direction in which the film is formed is referred to as a film forming direction or a longitudinal direction, and a direction perpendicular to the film forming direction and the thickness direction of the film is referred to as a lateral direction or a width direction. As a stretching method, known methods such as longitudinal uniaxial stretching, transverse uniaxial stretching using a tenter, simultaneous biaxial stretching combining them, sequential biaxial stretching and the like can be used. Moreover, although carrying out continuously is preferable from the point of productivity, you may carry out by a batch system. The stretching temperature is preferably in the range of (Tg-20 ° C.) to (Tg + 50 ° C.), more preferably in the range of (Tg-10 ° C.) to (Tg + 30 ° C.) relative to the glass transition temperature (Tg) of the polycarbonate resin. is there. Within this temperature range, molecular motion of the polymer is appropriate, relaxation by stretching hardly occurs, orientation control becomes easy, and a desired in-plane retardation can be easily obtained. When the stretching temperature is low, the phase difference tends to be easily developed.

延伸倍率は目的とする位相差値により決められるが、縦、横、それぞれ、1.05〜5倍、より好ましくは1.1〜4倍である。この延伸は一段で行ってもよく、多段で行ってもよい。なお、溶液キャスト法により得た未延伸フィルムを延伸する場合の上記Tgとは、該未延伸フィルム中の微量の溶媒を含むガラス転移温度を言う。
また延伸後のフィルムの厚みは、好ましくは20〜200μm、より好ましくは20〜150μmの範囲である。この範囲であれば、延伸による所望する位相差値が得やすく、製膜も容易で好ましい。
The stretching ratio is determined by the target retardation value, but it is 1.05 to 5 times, more preferably 1.1 to 4 times in length and width respectively. This stretching may be performed in one step or in multiple steps. In addition, said Tg in the case of extending | stretching the unstretched film obtained by the solution casting method means the glass transition temperature containing the trace amount solvent in this unstretched film.
The thickness of the film after stretching is preferably in the range of 20 to 200 μm, more preferably 20 to 150 μm. Within this range, it is easy to obtain a desired retardation value by stretching, and film formation is also easy and preferable.

(波長分散性)
本発明のポリカーボネート樹脂を用いてなる未延伸フィルムを延伸することで、波長400〜800nmの可視光領域において、フィルム面内の位相差が短波長になるほど小さくなるという特徴を有する。即ち、下記式(1)
R(450)<R(550)<R(650) (1)
を満たす。但し、R(450)、R(550)およびR(650)は夫々、波長450nm、550nm、650nmにおけるフィルム面内の位相差値を示す。
(Wavelength dispersion)
By stretching the unstretched film using the polycarbonate resin of the present invention, it has a feature that in the visible light region of wavelength 400 to 800 nm, the in-plane retardation of the film decreases as the wavelength becomes shorter. That is, the following equation (1)
R (450) <R (550) <R (650) (1)
Meet. However, R (450), R (550) and R (650) indicate the in-plane retardation value at wavelengths of 450 nm, 550 nm and 650 nm, respectively.

ここで面内の位相差値Rとは下記式で定義されるものであり、フィルムに垂直方向に透過する光のX方向とそれと垂直のY方向との位相の遅れを現す特性である。
R=(n−n)×d
但し、nはフィルム面内の主延伸方向の屈折率であり、nはフィルム面内の主延伸方向と垂直方向の屈折率であり、dはフィルムの厚みである。ここで、主延伸方向とは一軸延伸の場合には延伸方向、二軸延伸の場合にはより配向度があがるように延伸した方向を意味しており、化学構造的には高分子主鎖の配向方向を指す。
Here, the in-plane retardation value R is defined by the following equation, and is a characteristic that represents a delay in phase between the X direction of light transmitted in the direction perpendicular to the film and the Y direction perpendicular thereto.
R = (n x -n y) × d
However, n x is the refractive index in the main stretching direction in the film plane, n y is the refractive index in the direction perpendicular to the main stretching direction in the film plane, and d is the thickness of the film. Here, the main stretching direction means a stretching direction in the case of uniaxial stretching, and a direction of stretching so as to increase the degree of orientation in the case of biaxial stretching, and in terms of chemical structure, the polymer main chain Indicates the orientation direction.

本発明のポリカーボネート樹脂を用いてなる光学フィルムの好ましい波長分散性の範囲として以下のフィルム(I)が挙げられる。
(フィルム(I))
フィルム(I)は、下記式(2)および(3)を満たすいわゆる逆波長分散性を示すフィルムである。
0<R(450)/R(550)<1.00 (2)
1.01<R(650)/R(550)<2.00 (3)
フィルム(I)は、より好ましくは下記式(2−1)および(3−1)を満たす。
0.60<R(450)/R(550)<1 (2−1)
1.01<R(650)/R(550)<1.40 (3−1)
さらに好ましくは下記式(2−2)および(3−2)を満たす。
0.65<R(450)/R(550)<0.92 (2−2)
1.01<R(650)/R(550)<1.30 (3−2)
特に好ましくは下記式(2−3)および(3−3)を満たす。
0.70<R(450)/R(550)<0.91 (2−3)
1.03<R(650)/R(550)<1.20 (3−3)
The following film (I) is mentioned as a preferable wavelength-dispersibility range of the optical film which uses polycarbonate resin of this invention.
(Film (I))
The film (I) is a film showing so-called reverse wavelength dispersion satisfying the following formulas (2) and (3).
0 <R (450) / R (550) <1.00 (2)
1.01 <R (650) / R (550) <2.00 (3)
The film (I) more preferably satisfies the following formulas (2-1) and (3-1).
0.60 <R (450) / R (550) <1 (2-1)
1.01 <R (650) / R (550) <1.40 (3-1)
More preferably, the following formulas (2-2) and (3-2) are satisfied.
0.65 <R (450) / R (550) <0.92 (2-2)
1.01 <R (650) / R (550) <1.30 (3-2)
Particularly preferably, the following formulas (2-3) and (3-3) are satisfied.
0.70 <R (450) / R (550) <0.91 (2-3)
1.03 <R (650) / R (550) <1.20 (3-3)

フィルム(I)は、繰り返し単位(A)と繰り返し単位(B)のモル比(A/B)を10/90以上60/40以下の範囲で製造した本発明のポリカーボネート樹脂を用いてなる未延伸フィルムを延伸することにより得られる。
フィルム(I)は、逆波長分散性を示すので、積層することなく1枚で液晶表示装置や有機EL表示装置等の位相差フィルムに好適に用いられる。かかる用途では、λ/4板の場合は100nm<R(550)<180nm、λ/2板の場合は220nm<R(550)<330nmであることが望ましい。
The film (I) is an unstretched film formed using the polycarbonate resin of the present invention produced at a molar ratio (A / B) of the repeating unit (A) to the repeating unit (B) in the range of 10/90 to 60/40. It is obtained by stretching a film.
The film (I) exhibits reverse wavelength dispersion, so that it is suitably used as a retardation film of a liquid crystal display device, an organic EL display device or the like without laminating. In such applications, it is desirable that 100 nm <R (550) <180 nm in the case of λ / 4 plate and 220 nm <R (550) <330 nm in the case of λ / 2 plate.

以下実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。なお、実施例中「部」とは「重量部」を意味する。実施例において使用した使用樹脂及び評価方法は以下のとおりである。   The present invention will be described in detail by way of examples, but the present invention is not limited thereto. In the examples, "parts" means "parts by weight". The resin used and the evaluation method used in the examples are as follows.

1.ポリマー組成比(NMR)
日本電子社製JNM−AL400のプロトンNMRにて測定し、ポリマー組成比(モル比)を算出した。
1. Polymer composition ratio (NMR)
The polymer composition ratio (molar ratio) was measured by proton NMR of JNM-AL400 manufactured by JEOL.

2.比粘度測定
20℃で塩化メチレン100mlにポリカーボネート樹脂0.7gを溶解した溶液からオストワルド粘度計を用いて求めた。
比粘度(ηSP)=(t−t)/t
[tは塩化メチレンの落下秒数、tは試料溶液の落下秒数]
2. Specific viscosity measurement It measured using the Ostwald viscometer from the solution which melt | dissolved 0.7 g of polycarbonate resin in 100 ml of methylene chlorides at 20 degreeC.
Specific viscosity (η SP ) = (t−t 0 ) / t 0
[T 0 is the second drop of methylene chloride, t is the second drop of the sample solution]

3.ガラス転移温度測定
ポリカーボネート樹脂8mgを用いてティー・エイ・インスツルメント(株)製の熱分析システム DSC−2910を使用して、JIS K7121に準拠して窒素雰囲気下(窒素流量:40ml/min)、昇温速度:20℃/minの条件下で測定した。
3. Glass transition temperature measurement Using a thermal analysis system DSC-2910 manufactured by TA Instruments Co., Ltd. using 8 mg of a polycarbonate resin, in a nitrogen atmosphere (nitrogen flow rate: 40 ml / min) according to JIS K7121 The temperature rise rate was measured under the condition of 20 ° C./min.

4.ペレットb値
日本電色(株)製モデルZ−1001DPを用いて、ペレットのb値を測定した。
4. Pellet b value The b value of the pellet was measured using model Z-1001DP manufactured by Nippon Denshoku Co., Ltd.

5.光弾性定数測定
未延伸フィルムを製膜方向に50mm、それと直交する幅方向に10mmサイズに切り出し、そのサンプルを用いて光弾性定数を測定した。日本分光(株)製 Spectroellipsometer M−220を使用して測定した。
5. Measurement of Photoelastic Constant The unstretched film was cut out to a size of 50 mm in the film forming direction and 10 mm in the width direction perpendicular thereto, and the sample was used to measure the photoelastic constant. It measured using JASCO Ltd. Spectroellipsometer M-220.

6.位相差、波長分散性測定
延伸した光学フィルムを日本分光(株)製 Spectroellipsometer M−220を使用して測定した。
6. Retardation, wavelength dispersion measurement The stretched optical film was measured using JASCO Ltd. make Spectroellipsometer M-220.

7.ゲル数
厚さ50μmのフィルム状物をカラー3Dレーザ顕微鏡を用いて、500mm×1000mmに存在する長軸の直径が300μm以上の干渉縞を有するゲル数をフィルム1m中に換算して求めた。ゲル数は15個/m以下が好ましく、10個/m以下がより好ましく、6個/m以下が特に好ましい。
7. The film material of the number of gel thickness 50μm with a color 3D laser microscope, the diameter of the major axis present in 500 mm × 1000 mm was obtained by converting the number of gels having the above interference fringe 300μm in the film 1 m 2. The number of gels is preferably 15 pieces / m 2 or less, more preferably 10 pieces / m 2 or less, and particularly preferably 6 pieces / m 2 or less.

8.皮膚かぶれ
ポリマー重合時に実験者に皮膚かぶれが発生した場合は×、発生しなかった場合は○とした。
8. Skin rash If the skin rash occurred in the experimenter at the time of polymer polymerization, it was x, and if it did not occur, it was ○.

[参考例1]
還流冷却器、滴下漏斗および温度計を備えた反応釜に、フルオレノン360部、フェノール1318部およびβメルカプトプロピオン酸4部を仕込み、55℃で加熱撹拌して溶融した。反応温度を55℃に保ちながら、35%塩酸270部を、2時間かけて滴下し、さらに55℃で6時間撹拌し、縮合反応を行った。反応液に水270部を加えた後、フェノールの一部とともに塩酸水を減圧留去した。蒸留残分に、アセトニトリル1000部を加え、撹拌しながら室温まで冷却して、ビスフェノールフルオレン・アセトニトリルホストゲスト錯体結晶を析出させた。得られた結晶を吸引ろ過し、アセトニトリルで十分に洗浄した後、室温で減圧乾燥して、ジヒドロキシフルオレン・アセトニトリルホストゲスト錯体結晶516部を得た。この結晶をガスクロマトグラフで分析したところ、アセトニトリルの含有量は10.5重量%であり、ビスフェノールフルオレン((9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン)、以下BPFLと略す)1分子に対し、アセトニトリル1分子を含む錯体であった。
[Reference Example 1]
In a reaction kettle equipped with a reflux condenser, a dropping funnel and a thermometer, 360 parts of fluorenone, 1318 parts of phenol and 4 parts of β-mercaptopropionic acid were charged, and heated and stirred at 55 ° C. for melting. While maintaining the reaction temperature at 55 ° C., 270 parts of 35% hydrochloric acid was added dropwise over 2 hours, and the mixture was further stirred at 55 ° C. for 6 hours to carry out a condensation reaction. After 270 parts of water was added to the reaction solution, hydrochloric acid was distilled off under reduced pressure together with part of phenol. To the distillation residue, 1000 parts of acetonitrile was added, and the mixture was cooled to room temperature while stirring to precipitate bisphenol fluorene-acetonitrile host guest complex crystals. The obtained crystals were filtered by suction, thoroughly washed with acetonitrile, and then dried at room temperature under reduced pressure to obtain 516 parts of dihydroxyfluorene-acetonitrile host guest complex crystals. The crystals were analyzed by gas chromatography, and the content of acetonitrile was 10.5% by weight, and the molecule was one molecule of bisphenol fluorene ((9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene), hereinafter abbreviated as BPFL). And a complex containing one molecule of acetonitrile.

[参考例2]
参考例1においてアセトニトリルの代わりにメタノール1000部を加えた以外は実施例1と同様の操作を行い、BPFL・メタノールホストゲスト錯体結晶469重量部を得た。この結晶をガスクロマトグラフで分析したところ、メタノールの含有量は4.4重量%であり、BPFL2分子に対し、メタノール1分子を含む錯体であった。
[Reference Example 2]
The same operation as in Example 1 was carried out except that 1000 parts of methanol was added instead of acetonitrile in Reference Example 1, and 469 parts by weight of a BPFL.methanol host guest complex crystal was obtained. The crystals were analyzed by gas chromatography to find that the content of methanol was 4.4% by weight, and the complex contained one molecule of methanol relative to two molecules of BPFL.

[参考例3]
参考例1においてフェノールの代わりにクレゾール1512部、アセトニトリルの代わりにアセトン1000部を加えた以外は実施例1と同様の操作を行い、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)フルオレン(以下“BCF”と略す)・メタノールホストゲスト錯体結晶469重量部を得た。この結晶をガスクロマトグラフで分析したところ、アセトンの含有量は24.4重量%であり、BCF1分子に対し、アセトン2分子を含む錯体であった。
[Reference Example 3]
9,9-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) fluorene is carried out in the same manner as in Example 1 except that 1512 parts of cresol in place of phenol and 1000 parts of acetone in place of acetonitrile are added instead of phenol. (Hereinafter abbreviated as “BCF”) 469 parts by weight of a methanol host guest complex crystal was obtained. The crystals were analyzed by gas chromatography. The acetone content was 24.4% by weight, and the complex contained 2 acetone molecules to 1 BCF molecule.

[実施例1]
<ポリカーボネート樹脂の製造>
参考例1で得られたBPFL456部、市販の3,9−ビス(1,1−ジメチル−2−ヒドロキシエチル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン(以下SPGと略す)、ジフェニルカーボネート750部、および触媒として水酸化ナトリウム1.6×10−4部を窒素雰囲気下180℃に加熱し溶融させた。その後、4kPa/minの減圧速度で減圧度を20kPaに調整した。その後、30℃/hrの速度で240℃まで昇温を行い、4kPa/minの減圧速度で8kPaに調整した。その際のホストゲスト錯体はNMRで分析した結果、1mol%以下であった。その後、30℃/hrの速度で270℃まで昇温し、1時間かけて減圧度を1133Pa以下とした。合計4.5時間撹拌下で反応を行い、反応槽の底より窒素加圧下吐出し、水槽で冷却しながら、ペレタイザーでカットしてペレットを得た。該ペレットの比粘度、ガラス転移温度、熱分解温度を測定し、表1に記載した。
Example 1
<Manufacture of polycarbonate resin>
456 parts of BPFL obtained in Reference Example 1, commercially available 3,9-bis (1,1-dimethyl-2-hydroxyethyl) -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5.5] undecane (hereinafter SPG) ), 750 parts of diphenyl carbonate, and 1.6 × 10 -4 parts of sodium hydroxide as a catalyst were heated and melted at 180 ° C. in a nitrogen atmosphere. Thereafter, the degree of pressure reduction was adjusted to 20 kPa at a pressure reduction rate of 4 kPa / min. Thereafter, the temperature was raised to 240 ° C. at a rate of 30 ° C./hr, and adjusted to 8 kPa at a pressure reduction rate of 4 kPa / min. As a result of analyzing the host-guest complex at that time by NMR, it was 1 mol% or less. Thereafter, the temperature was raised to 270 ° C. at a rate of 30 ° C./hr, and the degree of vacuum was adjusted to 1133 Pa or less over 1 hour. The reaction was carried out under stirring for a total of 4.5 hours, discharged from the bottom of the reaction vessel under nitrogen pressure, and cut with a pelletizer while cooling in a water bath to obtain pellets. The specific viscosity, glass transition temperature and thermal decomposition temperature of the pellet were measured and listed in Table 1.

<光学フィルムの製造>
次に、(株)テクノベル製15mmφ二軸押出機に幅150mm、リップ幅500μmのTダイとフィルム引取り装置を取り付け、得られたポリカーボネート樹脂を280℃でフィルム成形することにより透明な押出未延伸フィルムを得た。得られた未延伸フィルムの光弾性係数、ゲル数を評価した。さらにTg+10℃にて2.0倍で一軸延伸し、波長分散性を測定した。結果を表1に示す。
<Production of optical film>
Next, attach a T-die with a width of 150 mm and a lip width of 500 μm and a film take-up device to Technobell Co., Ltd. 15 mmφ twin-screw extruder, and film-cast the obtained polycarbonate resin at 280 ° C. I got a film. The photoelastic coefficient and the number of gels of the obtained unstretched film were evaluated. Furthermore, uniaxial stretching was performed at 2.0 times at Tg + 10 ° C., and wavelength dispersion was measured. The results are shown in Table 1.

[実施例2]
参考例2で得られたBPFL427部を用いた他は、実施例1と全く同様の操作を実施し、評価した。結果を表1に記載した。
Example 2
The same operation as in Example 1 was carried out and evaluated except that the BPFL 427 part obtained in Reference Example 2 was used. The results are listed in Table 1.

[実施例3]
参考例3で得られたBCF544部を用いた他は、実施例1と全く同様の操作を実施し、評価した。結果を表1に記載した。
[Example 3]
The same operation as in Example 1 was carried out and evaluated except that the BCF 544 part obtained in Reference Example 3 was used. The results are listed in Table 1.

[実施例4]
参考例1で得られたBPFL402部、1,4−シクロヘキサンジメタノール(以下CHDMと略す)346部を用いた他は、実施例1と全く同様の操作を実施し、評価した。結果を表1に記載した。
Example 4
The same operation as in Example 1 was carried out and evaluated except that 402 parts of BPFL and 346 parts of 1,4-cyclohexanedimethanol (hereinafter abbreviated as CHDM) obtained in Reference Example 1 were used. The results are listed in Table 1.

[実施例5]
参考例1で得られたBPFL711部、ビスフェノールA(以下BPAと略す)367部を用いた他は、実施例1と全く同様の操作を実施し、評価した。結果を表1に記載した。
[Example 5]
The same operation as in Example 1 was carried out and evaluated except that 711 parts of BPFL and 367 parts of bisphenol A (hereinafter abbreviated as BPA) obtained in Reference Example 1 were used. The results are listed in Table 1.

[比較例1]
市販のBCF441部を用いた他は、実施例1と全く同様の操作を実施し、評価した。結果を表1に記載した。
Comparative Example 1
The same operation as in Example 1 was carried out and evaluated except that 441 parts of commercially available BCF were used. The results are listed in Table 1.

[比較例2]
市販のBPFL408部を用いた他は、実施例1と全く同様の操作を実施し、評価した。結果を表1に記載した。
Comparative Example 2
The same operation as in Example 1 was carried out and evaluated except that commercially available BPFL 408 was used. The results are listed in Table 1.

Figure 0006534793
Figure 0006534793

本発明のポリカーボネート樹脂は、液晶表示装置や有機EL表示装置用の位相差フィルムとして有用である。   The polycarbonate resin of the present invention is useful as a retardation film for liquid crystal display devices and organic EL display devices.

Claims (3)

下記式(A)で表される繰り返し単位(A)を含むポリカーボネート樹脂の製造方法であって、繰り返し単位(A)を誘導する9,9−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレンをホスト化合物とし、アセトニトリルまたはメタノールをゲスト化合物としたホストゲスト錯体を含むジヒドロキシ成分と炭酸ジエステルとを重合触媒の存在下溶融重合することを特徴とする20℃の塩化メチレン溶液で測定された比粘度が0.20〜1.50であるポリカーボネート樹脂を得、得られたポリカーボネート樹脂を溶液キャスト法、溶融押出法、熱プレス法、またはカレンダー法により形成する未延伸フィルムの製造方法。
Figure 0006534793
[式中、RおよびRは夫々メチル基を示し、RおよびRは夫々エチレン基を示し、mおよびnは夫々0を示し、pおよびqは夫々1を示す。]
A method for producing a polycarbonate resin comprising a repeating unit (A) represented by the following formula (A), which is 9,9- [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] fluorene that derives the repeating unit (A) The specific viscosity measured in a methylene chloride solution at 20 ° C. is characterized by melt polymerization of a dihydroxy component containing a host guest complex with a host compound and acetonitrile or methanol as a guest compound and a carbonic diester in the presence of a polymerization catalyst. The manufacturing method of the unstretched film which obtains the polycarbonate resin which is 0.20 to 1.50, and forms the obtained polycarbonate resin by the solution casting method, the melt extrusion method, the heat press method, or the calendar method.
Figure 0006534793
[Wherein, R 1 and R 2 each represent a methyl group, R 3 and R 4 each represent an ethylene group, m and n each represent 0, and p and q each represent 1. ]
請求項記載の未延伸フィルムの製造方法で得られた未延伸フィルムを延伸する下記式(1)を満たす光学フィルムの製造方法。
R(450)<R(550)<R(650) (1)
[但し、R(450)、R(550)およびR(650)は夫々、波長450nm、550nm、650nmにおけるフィルム面内の位相差値を示す。]
The manufacturing method of the optical film which satisfy | fills following formula (1) which extends | stretches the unstretched film obtained by the manufacturing method of the unstretched film of Claim 1 .
R (450) <R (550) <R (650) (1)
[Wherein, R (450), R (550) and R (650) indicate retardation values in the film plane at wavelengths of 450 nm, 550 nm, and 650 nm, respectively. ]
ポリカーボネート樹脂の重合工程の一つの工程で、その工程の最終真空度が50kPa以下2kPa以上の範囲で、最終樹脂温度が160℃以上250℃以下の範囲であり、減圧速度20kPa/min以下0.5kPa/min以上の範囲である工程を含む請求項1記載の未延伸フィルムの製造方法。 The final resin temperature is in the range of 160 ° C. to 250 ° C. in the range of 50 kPa or less and 2 kPa or more in one step of the polymerization process of polycarbonate resin , and the pressure reduction rate is 20 kPa / min or less 0.5 kPa method for producing a non-stretched film according to claim 1 Symbol placement including / a min or more ranges process.
JP2014101470A 2014-05-15 2014-05-15 Polycarbonate resin and optical film Active JP6534793B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014101470A JP6534793B2 (en) 2014-05-15 2014-05-15 Polycarbonate resin and optical film

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014101470A JP6534793B2 (en) 2014-05-15 2014-05-15 Polycarbonate resin and optical film

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2015218220A JP2015218220A (en) 2015-12-07
JP6534793B2 true JP6534793B2 (en) 2019-06-26

Family

ID=54777891

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014101470A Active JP6534793B2 (en) 2014-05-15 2014-05-15 Polycarbonate resin and optical film

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6534793B2 (en)

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4033682B2 (en) * 2002-01-29 2008-01-16 大阪瓦斯株式会社 Method for producing bisphenolfluorenes
JP4219643B2 (en) * 2002-09-02 2009-02-04 Jfeケミカル株式会社 Method for recovering bisphenolfluorenes
JP5226173B2 (en) * 2004-07-20 2013-07-03 帝人化成株式会社 Aromatic polycarbonate resin
CN101680987B (en) * 2007-06-19 2012-02-08 帝人化成株式会社 optical film
WO2010061896A1 (en) * 2008-11-28 2010-06-03 三菱化学株式会社 Polycarbonate resin, process for producing polycarbonate resin, and transparent film
JP2013164501A (en) * 2012-02-10 2013-08-22 Teijin Ltd Optical film
EP2808317A1 (en) * 2013-05-28 2014-12-03 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Fluorene derivatives and lens using the same

Also Published As

Publication number Publication date
JP2015218220A (en) 2015-12-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102289075B1 (en) Resin produced by polycondensation, and resin composition
JP5587617B2 (en) Polycarbonate resin and film with low photoelastic constant
KR102607476B1 (en) Imaging lens
TWI641651B (en) Polycarbonate resin composition, and optical material and optical lens using the same
TW201731909A (en) Polycarbonate resin
JP6219734B2 (en) Polycarbonate resin and optical film
KR102574566B1 (en) Polycarbonate-based resin composition or copolymer, and optical film
JP5722554B2 (en) Polycarbonate resin and optical molded body with high refractive index and excellent heat resistance
JP5079150B2 (en) Retardation film
JPWO2012063965A1 (en) Copolycarbonate
JP2010132782A (en) Polycarbonate copolymer, method for producing the same and use thereof
JP2011236336A (en) Polycarbonate resin having low photoelastic constant and optical molded article
CN103154082B (en) Polycarbonate resin and molded article
JP5731124B2 (en) Method for producing polycarbonate resin having low photoelastic constant
WO2020080199A1 (en) Polyester carbonate resin and optical lens
KR102112984B1 (en) Polyformal resin copolymer and production method
JP2011079897A (en) Polycarbonate resin with low photoelastic constant, and optical film
JP5583987B2 (en) Polycarbonate resin and optical film with low photoelastic constant
JP6534793B2 (en) Polycarbonate resin and optical film
JP7596876B2 (en) Resin and its molded body
JP2016204430A (en) Polycarbonate resin and optical film
JP6363452B2 (en) Optical film
JP2011026499A (en) Filmy material comprising using polycarbonate resin having low photoelastic constant
JP5580017B2 (en) Polycarbonate resin and optical film with low photoelastic constant
JP2011079898A (en) Polycarbonate resin with low photoelastic constant, and optical film

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20170510

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20171215

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20171226

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20180221

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20180320

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20180531

A911 Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20180608

A912 Removal of reconsideration by examiner before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912

Effective date: 20180622

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20190530

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6534793

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150