JP6564376B2 - ライトガイドおよび照明器具用透明拡散器 - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 83
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 42
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 40
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 14
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 claims description 11
- 239000000945 filler Substances 0.000 claims description 9
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 106
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 57
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 53
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 48
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 48
- 238000000034 method Methods 0.000 description 44
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 40
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 21
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 20
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 18
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 15
- 239000003981 vehicle Substances 0.000 description 15
- 230000008859 change Effects 0.000 description 13
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 13
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 12
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 12
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 11
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 11
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 10
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 10
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 10
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 9
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 9
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 9
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 9
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 8
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 7
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 230000004313 glare Effects 0.000 description 7
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 7
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 7
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 7
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 description 6
- 239000004811 fluoropolymer Substances 0.000 description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 5
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 5
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 4
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 3
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 3
- 238000003491 array Methods 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000013461 design Methods 0.000 description 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 3
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 3
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 3
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 3
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 3
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 3
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- 102100026561 Filamin-A Human genes 0.000 description 2
- 101000913549 Homo sapiens Filamin-A Proteins 0.000 description 2
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 description 2
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000004049 embossing Methods 0.000 description 2
- 238000007373 indentation Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000005499 meniscus Effects 0.000 description 2
- 239000004005 microsphere Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 description 2
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 1
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 1
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 239000013590 bulk material Substances 0.000 description 1
- 239000013043 chemical agent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000004624 confocal microscopy Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- 239000013039 cover film Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000005566 electron beam evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000007687 exposure technique Methods 0.000 description 1
- XPBBUZJBQWWFFJ-UHFFFAOYSA-N fluorosilane Chemical compound [SiH3]F XPBBUZJBQWWFFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 239000002241 glass-ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 1
- 238000001093 holography Methods 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000004573 interface analysis Methods 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000000813 microcontact printing Methods 0.000 description 1
- 238000005459 micromachining Methods 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 239000002077 nanosphere Substances 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 229920006120 non-fluorinated polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 208000007138 otopalatodigital syndrome type 1 Diseases 0.000 description 1
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 1
- 238000009304 pastoral farming Methods 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001470 polyketone Polymers 0.000 description 1
- 229920002959 polymer blend Polymers 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 230000011514 reflex Effects 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005211 surface analysis Methods 0.000 description 1
- 238000001029 thermal curing Methods 0.000 description 1
- 238000002207 thermal evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000003856 thermoforming Methods 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 230000001131 transforming effect Effects 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
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-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F21—LIGHTING
- F21V—FUNCTIONAL FEATURES OR DETAILS OF LIGHTING DEVICES OR SYSTEMS THEREOF; STRUCTURAL COMBINATIONS OF LIGHTING DEVICES WITH OTHER ARTICLES, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- F21V5/00—Refractors for light sources
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- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/02—Diffusing elements; Afocal elements
- G02B5/0205—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties
- G02B5/021—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place at the element's surface, e.g. by means of surface roughening or microprismatic structures
- G02B5/0215—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place at the element's surface, e.g. by means of surface roughening or microprismatic structures the surface having a regular structure
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- G02B5/0226—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place at the element's surface, e.g. by means of surface roughening or microprismatic structures having particles on the surface
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- G02B5/00—Optical elements other than lenses
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
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- F21Y—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES F21K, F21L, F21S and F21V, RELATING TO THE FORM OR THE KIND OF THE LIGHT SOURCES OR OF THE COLOUR OF THE LIGHT EMITTED
- F21Y2115/00—Light-generating elements of semiconductor light sources
- F21Y2115/10—Light-emitting diodes [LED]
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
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- F21Y—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES F21K, F21L, F21S and F21V, RELATING TO THE FORM OR THE KIND OF THE LIGHT SOURCES OR OF THE COLOUR OF THE LIGHT EMITTED
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Description
光透過構造であって、
複数の領域を有する基板
を備え、
前記複数の領域の少なくとも2つが異なる屈折率を有し、
第1の光源からの前記複数の領域を通る透過光の光路長が、実質的に一定であり、
第2の光源からの前記基板内への透過光が、前記複数の領域の少なくとも1つによって散乱されることを特徴とする光透過構造。
前記複数の領域が、第1の領域と、第2の領域と、第3の領域とを含み、前記第2の領域が、前記第1の領域および前記第3の領域の中間にあることを特徴とする実施形態1記載の光透過構造。
前記複数の領域のうちの1つが、前記基板の表面上にあり、周囲環境との境界面を画成することを特徴とする実施形態1または2記載の光透過構造。
前記第2の領域が、高屈折率と低屈折率とを有する光散乱面を含んでいることを特徴とする実施形態2または3記載の光透過構造。
前記第2の領域が、低屈折率を有する粒子と、別の屈折率を有する充填材またはバインダとを含んでいることを特徴とする実施形態2または3記載の光透過構造。
前記粒子が、中空または中実であることを特徴とする実施形態5記載の光透過構造。
前記第2の領域が、構造化要素を含んでいることを特徴とする実施形態2または3記載の光透過構造。
前記構造化要素が、周期的、幾何学的、ランダム、準ランダム、非周期的、プリズム、または非プリズム要素であることを特徴とする実施形態7記載の光透過構造。
前記構造化要素の前記光路長内での厚さが、約0.05μm未満、約0.05μmから約10μmの間、約0.05μmから約50μmの間、または50μmから100μmの間であることを特徴とする実施形態7または8記載の光透過構造。
前記複数の領域の夫々の前記屈折率が、1.0から2.5、1.0から1.3、1.0から2.0、または1.3から2.0の範囲であることを特徴とする実施形態1から9いずれか1項記載の光透過構造。
前記第2の光源からの光が、前記第2の領域により散乱されることを特徴とする実施形態2記載の光透過構造。
前記第2の光源が、発光ダイオード(LED)と、LEDアレイと、レーザとからなる群から選択されたものであることを特徴とする実施形態1から11いずれか1項記載の光透過構造。
前記第2の光源が、前記構造のエッジに入力を提供するもの、または前記構造の前方に入力を提供するものであることを特徴とする、実施形態1から12いずれか1項記載の光透過構造。
前記構造が、透明照明器具、透明ディスプレイ、ヘッドアップディスプレイ、頭部装着型ディスプレイ、透明バックライト、タッチスクリーンディスプレイ、液晶ディスプレイ、水槽、レーザベースの反射式ヘッドアップディスプレイ、ウェアラブルディスプレイ、窓、車両用ダッシュボード、自動車用窓、導波路、ライトガイド、または建築用窓であることを特徴とする実施形態1から13いずれか1項記載の光透過構造。
光透過構造において、
複数の領域を有する基板であって、第1の領域が、前記基板内に埋め込まれた構造化領域であり、前記基板の表面上の第2の領域が、周囲環境との境界面を画成している、基板、を備え、
前記複数の領域の少なくとも2つが異なる屈折率を有し、
第1の光源からの前記複数の領域を通る透過光の光路長が、実質的に一定であり、
第2の光源からの前記基板内への透過光が、前記複数の領域の少なくとも1つによって散乱されることを特徴とする光透過構造。
前記第2の領域が、高屈折率と低屈折率とを有する光散乱面を含んでいることを特徴とする実施形態15記載の光透過構造。
前記第2の領域が、低屈折率を有する粒子と、別の屈折率を有する充填材またはバインダとを含んでいることを特徴とする実施形態15または16記載の光透過構造。
前記第1の領域が、構造化要素を含んでいることを特徴とする実施形態15から17いずれか1項記載の光透過構造。
前記構造化要素が、周期的、幾何学的、ランダム、準ランダム、非周期的、プリズム、または非プリズム要素であることを特徴とする実施形態18記載の光透過構造。
前記構造化要素の前記光路長内での厚さが、約0.05μm未満、約0.05μmから約10μmの間、約0.05μmから約50μmの間、または50μmから100μmの間であることを特徴とする実施形態18または19記載の光透過構造。
前記複数の領域の夫々の前記屈折率が、1.0から2.5、1.0から1.3、1.0から2.0、または1.3から2.0の範囲であることを特徴とする実施形態15から20いずれか1項記載の光透過構造。
前記第2の光源が、発光ダイオード(LED)と、LEDアレイと、レーザとからなる群から選択されたものであることを特徴とする実施形態15から21いずれか1項記載の光透過構造。
前記第2の光源が、前記構造のエッジに入力を提供するもの、または前記構造の前方に入力を提供するものであることを特徴とする、実施形態15から22いずれか1項記載の光透過構造。
前記構造が、透明照明器具、透明ディスプレイ、ヘッドアップディスプレイ、頭部装着型ディスプレイ、透明バックライト、タッチスクリーンディスプレイ、液晶ディスプレイ、水槽、レーザベースの反射式ヘッドアップディスプレイ、ウェアラブルディスプレイ、窓、車両用ダッシュボード、自動車用窓、導波路、ライトガイド、または建築用窓であることを特徴とする実施形態15から23いずれか1項記載の光透過構造。
12 本体
14 AG表面
14−1 第1の表面
14−2 第2の表面
15 光学的歪み低減層
17 コーティング層
100透明構造
400、500、600、700、800、900、1000 拡散器
Claims (5)
- 光透過構造であって、
複数の領域、x軸、y軸、およびz軸を有する基板
を備え、
前記複数の領域の少なくとも2つが異なる屈折率を有し、
前記基板のx方向およびy方向の複数の異なる空間的位置で前記複数の領域を介して、第1の光源からz方向に前記基板を透過した透過光の光路長が、実質的に一定であり、
第2の光源からの前記基板内への透過光が、前記複数の領域の少なくとも1つによって散乱され、
前記第2の光源が、前記構造のエッジに入力を提供するもの、または前記構造の前方に入力を提供するものであり、
前記x方向およびy方向の複数の異なる空間的位置は互いに1cm以内にあり、当該複数の異なる空間的位置における前記光路長どうしの差は、前記第1の光源からの光の1/2λ未満であることを特徴とする光透過構造。 - 前記複数の領域が、第1の領域と、第2の領域と、第3の領域とを含み、前記第2の領域が、前記第1の領域および前記第3の領域の中間にあり、さらに、前記複数の領域のうちの1つが、前記基板の表面上にあり、周囲環境との境界面を画成することを特徴とする請求項1記載の光透過構造。
- 前記第2の領域が、高屈折率と低屈折率とを有する光散乱面を含んでいることを特徴とする請求項2記載の光透過構造。
- 前記第2の領域が、低屈折率を有する粒子と、別の屈折率を有する充填材またはバインダとを含んでいることを特徴とする請求項2または3記載の光透過構造。
- 前記複数の領域が、前記基板内に埋め込まれた、構造化領域を含むことを特徴とする請求項1から4いずれか1項記載の光透過構造。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US201361915327P | 2013-12-12 | 2013-12-12 | |
| US61/915,327 | 2013-12-12 | ||
| PCT/US2014/069482 WO2015089147A1 (en) | 2013-12-12 | 2014-12-10 | Transparent diffusers for lightguides and luminaires |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2017503312A JP2017503312A (ja) | 2017-01-26 |
| JP6564376B2 true JP6564376B2 (ja) | 2019-08-21 |
Family
ID=52293203
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2016537991A Expired - Fee Related JP6564376B2 (ja) | 2013-12-12 | 2014-12-10 | ライトガイドおよび照明器具用透明拡散器 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9880328B2 (ja) |
| EP (1) | EP3080646A1 (ja) |
| JP (1) | JP6564376B2 (ja) |
| KR (1) | KR20160097335A (ja) |
| CN (1) | CN106461812B (ja) |
| TW (1) | TWI657267B (ja) |
| WO (1) | WO2015089147A1 (ja) |
Families Citing this family (33)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9110230B2 (en) | 2013-05-07 | 2015-08-18 | Corning Incorporated | Scratch-resistant articles with retained optical properties |
| US9851474B2 (en) * | 2014-07-10 | 2017-12-26 | Scivax Corporation | Optical component and method of producing the same |
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| TWI817475B (zh) | 2022-04-29 | 2023-10-01 | 元太科技工業股份有限公司 | 防眩層及其製作方法 |
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| WO2011005265A1 (en) | 2009-07-10 | 2011-01-13 | Shaaf Hameed | Packaged undergarment and changing accessories |
| US8598771B2 (en) | 2009-09-15 | 2013-12-03 | Corning Incorporated | Glass and display having anti-glare properties |
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| US8189263B1 (en) | 2011-04-01 | 2012-05-29 | Google Inc. | Image waveguide with mirror arrays |
| US9573842B2 (en) | 2011-05-27 | 2017-02-21 | Corning Incorporated | Transparent glass substrate having antiglare surface |
| WO2014011328A1 (en) | 2012-07-09 | 2014-01-16 | Corning Incorporated | Anti-glare and anti-sparkle transparent structures |
-
2014
- 2014-12-08 US US14/563,228 patent/US9880328B2/en active Active
- 2014-12-10 EP EP14824641.6A patent/EP3080646A1/en not_active Withdrawn
- 2014-12-10 CN CN201480075363.XA patent/CN106461812B/zh active Active
- 2014-12-10 WO PCT/US2014/069482 patent/WO2015089147A1/en not_active Ceased
- 2014-12-10 JP JP2016537991A patent/JP6564376B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2014-12-10 KR KR1020167018640A patent/KR20160097335A/ko not_active Withdrawn
- 2014-12-12 TW TW103143513A patent/TWI657267B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW201530195A (zh) | 2015-08-01 |
| TWI657267B (zh) | 2019-04-21 |
| EP3080646A1 (en) | 2016-10-19 |
| KR20160097335A (ko) | 2016-08-17 |
| JP2017503312A (ja) | 2017-01-26 |
| WO2015089147A1 (en) | 2015-06-18 |
| US20150167921A1 (en) | 2015-06-18 |
| US9880328B2 (en) | 2018-01-30 |
| CN106461812A (zh) | 2017-02-22 |
| CN106461812B (zh) | 2019-04-19 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20171208 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180118 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180724 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180720 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20181017 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
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|
| A521 | Request for written amendment filed |
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|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190703 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190726 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |