JP6607200B2 - 含フッ素ジエンの製造方法 - Google Patents
含フッ素ジエンの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6607200B2 JP6607200B2 JP2016574814A JP2016574814A JP6607200B2 JP 6607200 B2 JP6607200 B2 JP 6607200B2 JP 2016574814 A JP2016574814 A JP 2016574814A JP 2016574814 A JP2016574814 A JP 2016574814A JP 6607200 B2 JP6607200 B2 JP 6607200B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- atom
- carbon atoms
- formula
- compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 0 CC*(C)OC(F)(F)F Chemical compound CC*(C)OC(F)(F)F 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/26—Preparation of halogenated hydrocarbons by reactions involving an increase in the number of carbon atoms in the skeleton
- C07C17/272—Preparation of halogenated hydrocarbons by reactions involving an increase in the number of carbon atoms in the skeleton by addition reactions
- C07C17/275—Preparation of halogenated hydrocarbons by reactions involving an increase in the number of carbon atoms in the skeleton by addition reactions of hydrocarbons and halogenated hydrocarbons
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/26—Preparation of halogenated hydrocarbons by reactions involving an increase in the number of carbon atoms in the skeleton
- C07C17/32—Preparation of halogenated hydrocarbons by reactions involving an increase in the number of carbon atoms in the skeleton by introduction of halogenated alkyl groups into ring compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C21/00—Acyclic unsaturated compounds containing halogen atoms
- C07C21/02—Acyclic unsaturated compounds containing halogen atoms containing carbon-to-carbon double bonds
- C07C21/18—Acyclic unsaturated compounds containing halogen atoms containing carbon-to-carbon double bonds containing fluorine
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C22/00—Cyclic compounds containing halogen atoms bound to an acyclic carbon atom
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C41/00—Preparation of ethers; Preparation of compounds having groups, groups or groups
- C07C41/01—Preparation of ethers
- C07C41/18—Preparation of ethers by reactions not forming ether-oxygen bonds
- C07C41/30—Preparation of ethers by reactions not forming ether-oxygen bonds by increasing the number of carbon atoms, e.g. by oligomerisation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C43/00—Ethers; Compounds having groups, groups or groups
- C07C43/02—Ethers
- C07C43/03—Ethers having all ether-oxygen atoms bound to acyclic carbon atoms
- C07C43/14—Unsaturated ethers
- C07C43/17—Unsaturated ethers containing halogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07B—GENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
- C07B61/00—Other general methods
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
例えば非特許文献1では、種々の置換基を有するオレフィンの反応性が調べられており、電子不足オレフィンの反応性が低いと記載されている。実際、フッ素原子や塩素原子等、ハロゲン原子を有するオレフィンも電子不足オレフィンであるため、オレフィンメタセシスに用いた報告はほとんどない。例えば、非特許文献2において、ルテニウム錯体とフッ化ビニリデン(すなわち、1,1−ジフルオロエチレン)のオレフィンメタセシスが検討されたが、期待した生成物すなわちエチレン及びテトラフルオロエチレンは全く得られなかったと述べられている。非特許文献3にはルテニウム錯体を用いたシクロオクテンとフッ化ビニルとの環状オレフィン開環クロスメタセシスが記載されているが、テトラフルオロエチレンやヘキサフルオロプロピレンは用いられていない。
このように、ハロゲン原子を有するオレフィンをオレフィンメタセシスに利用することは実用的ではない。中でも、テトラフルオロエチレンやヘキサフルオロプロピレンは、工業的に入手容易で事業化の観点から有用な化合物であるが、極めて電子不足なオレフィンであるだけでなく、その取扱いの難しさ等のため、オレフィンメタセシスに利用した報告はこれまでなかった。
一方で、オレフィン中の水素原子の一部又は全てがフッ素原子で置換された化合物、すなわち含フッ素オレフィンには、産業上有用な化合物が知られている。そのため、環状オレフィン開環クロスメタセシスによって、工業的に入手容易なテトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン等の含フッ素オレフィンと、シクロオレフィンとから含フッ素ジエンが簡便かつ効率的に製造できれば、既存手法と比較して極めて有用な合成手法となり得る。
オレフィンメタセシス反応活性を有する金属−カルベン錯体化合物(10)の存在下、下記式(21)で表されるオレフィン化合物と下記式(41)で表されるシクロオレフィン化合物を反応させることにより、下記式(51)で表される含フッ素ジエン化合物、下記式(52)で表される含フッ素ジエン化合物、及び下記式(53)で表される含フッ素ジエン化合物からなる群から選ばれる少なくとも一種の含フッ素ジエン化合物を製造する方法。
Yは、炭素数1〜30のアルキレン基、炭素数3〜30のシクロアルキレン基、炭素数5〜30のアリーレン基、ヘテロ原子を有する炭素数1〜30のアルキレン基、ヘテロ原子を有する炭素数2〜30のシクロアルキレン基、またはヘテロ原子を有する炭素数4〜30のアリーレン基である。
A3及びA4はそれぞれ独立して、下記基(i)、基(ii)、基(iii)、及び基(iv)からなる群から選ばれる基である。A3及びA4は互いに結合して環を形成してもよい。
X1、X2及びX3はそれぞれ独立して、下記基(i)、基(ii)、基(v)、及び基(vi)からなる群から選ばれる基である。X1とX2は互いに結合して環を形成してもよい。ただし、前記X1、X2及びX3のいずれか二つが水素原子である場合、他の一つは基(ii)、基(v)、及び基(vi)からなる群から選ばれる基である。
基(i):水素原子。
基(ii):ハロゲン原子。
基(iii):炭素数1〜20の一価炭化水素基。
基(iv):ハロゲン原子、酸素原子、窒素原子、イオウ原子、リン原子、及びケイ素原子からなる群から選ばれる原子を1以上含む炭素数1〜20の一価炭化水素基。
基(v):炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数5〜20のアリール基、炭素数5〜20のアリールオキシ基、炭素数1〜12の(ペル)ハロゲン化アルキル基、炭素数1〜12の(ペル)ハロゲン化アルコキシ基、炭素数5〜20の(ペル)ハロゲン化アリール基、及び炭素数5〜20の(ペル)ハロゲン化アリールオキシ基からなる群から選ばれる基。
基(vi):さらに、酸素原子、窒素原子、イオウ原子、リン原子、及びケイ素原子からなる群から選ばれる原子を1以上含む前記基(v)。
〔2〕
金属−カルベン錯体化合物(10)における金属が、ルテニウム、モリブデンまたはタングステンである、〔1〕に記載の製造方法。
〔3〕
前記金属−カルベン錯体化合物(10)における金属がルテニウムである〔1〕または〔2〕に記載の製造方法。
〔4〕
前記金属−カルベン錯体化合物(10)における金属がモリブデンまたはタングステンであり、かつ、前記金属−カルベン錯体化合物が配位子[L]として、イミド配位子、および、酸素原子が二座配位した配位子を有する〔1〕または〔2〕に記載の製造方法。
〔5〕
前記式(21)で表わされるオレフィン化合物が、X1が基(i)、基(ii)、基(v)、または基(vi)であり、X2が基(i)、基(ii)、基(v)、または基(vi)であり、X3が基(ii)、基(v)、または基(vi)であるオレフィン化合物である、〔1〕〜〔4〕のいずれか1に記載の製造方法。
ここで、基(i)、基(ii)、基(v)および基(vi)は、〔1〕のそれらと同義である。
〔6〕
前記式(21)で表わされるオレフィン化合物が、1,1−ジフルオロオレフィンである〔1〕〜〔5〕のいずれか1に記載の製造方法。
〔7〕
前記式(21)で表されるオレフィン化合物が、下記式で表わされるオレフィン化合物から選ばれる少なくとも一種のオレフィン化合物である、〔1〕〜〔6〕のいずれか1に記載の製造方法。
〔8〕
前記式(41)で表されるシクロオレフィン化合物が、下記式で表わされるシクロオレフィン化合物から選ばれる少なくとも一種のシクロオレフィン化合物である、〔1〕〜〔7〕のいずれか1に記載の製造方法。
〔9〕
前記式(51)で表される含フッ素ジエン化合物、前記式(52)で表される含フッ素ジエン化合物、または前記式(53)で表される含フッ素ジエン化合物が、下記式で表わされる含フッ素ジエン化合物から選ばれる少なくとも1種の含フッ素ジエン化合物である、〔1〕〜〔8〕のいずれか1に記載の製造方法。
オレフィンメタセシス反応活性を有する金属−カルベン錯体化合物(10)の存在下、下記式(31)で表されるオレフィン化合物と下記式(41)で表されるシクロオレフィン化合物を反応させることにより、下記式(61)で表される含フッ素ジエン化合物、下記式(62)で表される含フッ素ジエン化合物、及び下記式(63)で表される含フッ素ジエン化合物からなる群から選ばれる少なくとも一種の化合物を製造する製造方法。
Yは、炭素数1〜30のアルキレン基、炭素数3〜30のシクロアルキレン基、炭素数5〜30のアリーレン基、ヘテロ原子を有する炭素数1〜30のアルキレン基、ヘテロ原子を有する炭素数2〜30のシクロアルキレン基、またはヘテロ原子を有する炭素数4〜30のアリーレン基である。
Rfは、炭素数1〜20の(ペル)フルオロアルキル基、炭素原子と炭素原子の間にエーテル性酸素原子を有する炭素数1〜20の(ペル)フルオロアルキル基、または、炭素数5〜20の(ペル)フルオロアリール基である。
A3及びA4はそれぞれ独立して、下記基(i)、基(ii)、基(iii)、及び基(iv)からなる群から選ばれる基である。A5〜A7はそれぞれ独立して、下記基(i)、基(iia)、基(iii)、及び基(iv)からなる群から選ばれる基である。A1及びA2は互いに結合して環を形成してもよい。A3及びA4は互いに結合して環を形成してもよい。A5及びA6は互いに結合して環を形成してもよい。A7及びRfは互いに結合して環を形成してもよい。
基(i):水素原子。
基(ii):ハロゲン原子。
基(iia):塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子。
基(iii):炭素数1〜20の一価炭化水素基。
基(iv):ハロゲン原子、酸素原子、窒素原子、イオウ原子、リン原子、及びケイ素原子からなる群から選ばれる原子を1以上含む炭素数1〜20の一価炭化水素基。
基(v):炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数5〜20のアリール基、炭素数5〜20のアリールオキシ基、炭素数1〜12の(ペル)ハロゲン化アルキル基、炭素数1〜12の(ペル)ハロゲン化アルコキシ基、炭素数5〜20の(ペル)ハロゲン化アリール基、及び炭素数5〜20の(ペル)ハロゲン化アリールオキシ基からなる群から選ばれる基。
基(vi):さらに、酸素原子、窒素原子、イオウ原子、リン原子、及びケイ素原子からなる群から選ばれる原子を1以上含む前記基(v)。
〔11〕
金属−カルベン錯体化合物(10)における金属が、ルテニウム、モリブデンまたはタングステンである、〔10〕に記載の製造方法。
〔12〕
前記金属−カルベン錯体化合物(10)における金属がルテニウムである〔10〕または〔11〕に記載の製造方法。
〔13〕
前記金属−カルベン錯体化合物(10)における金属がモリブデンまたはタングステンであり、かつ、前記金属−カルベン錯体化合物が配位子[L]として、イミド配位子、および、酸素原子が二座配位した配位子を有する〔10〕または〔11〕に記載の製造方法。
〔14〕
前記式(21)で表わされるオレフィン化合物が、X1が基(i)、基(ii)、基(v)、または基(vi)であり、X2が基(i)、基(ii)、基(v)、または基(vi)であり、X3が基(ii)、基(v)、または基(vi)であるオレフィン化合物である、〔10〕〜〔13〕のいずれか1に記載の製造方法。
ここで、基(i)、基(ii)、基(v)および基(vi)は、〔1〕のそれらと同義である。
〔15〕
前記式(31)で表されるオレフィン化合物が、下記式で表わされるオレフィン化合物から選ばれる少なくとも一種のオレフィン化合物である、〔10〕〜〔14〕のいずれか1に記載の製造方法。
〔16〕
前記式(41)で表されるシクロオレフィン化合物が、下記式で表わされるシクロオレフィン化合物から選ばれる少なくとも一種のシクロオレフィン化合物である、〔10〕〜〔15〕のいずれか1に記載の製造方法。
〔17〕
前記式(61)で表される含フッ素ジエン化合物、前記式(62)で表される含フッ素ジエン化合物、または前記式(63)で表される含フッ素ジエン化合物が、下記式で表わされる含フッ素ジエン化合物から選ばれる少なくとも一種の含フッ素ジエン化合物である、〔10〕〜〔16〕のいずれか1に記載の製造方法。
なお本明細書において、「式(X)で表される化合物」のことを、単に「化合物(X)」と称する場合がある。
また、「オレフィンメタセシス反応活性を有する金属−カルベン錯体化合物(10)」とは、オレフィンメタセシス反応を触媒として進行させることができる化合物である。例えば、いわゆる「Grubbs触媒」と呼ばれる錯体化合物が挙げられる。金属としては、ルテニウム、モリブデン、または、タングステンが例示できる。
「炭素−炭素二重結合の近傍にフッ素原子が導入された」とは、炭素−炭素二重結合を構成する炭素原子に直接結合するフッ素原子が導入された場合、および、炭素−炭素二重結合を構成する炭素原子に直接結合する官能基としてRfが導入された場合の両方を意味する。
「ペルハロゲン化アルキル基」とは、アルキル基の水素原子が全てハロゲン原子で置換された基を意味する。ペルハロゲン化アルコキシ基とは、アルコキシ基の水素原子が全てハロゲン原子で置換された基を意味する。「ペルハロゲン化アルコキシ基」及び「ペルハロゲン化アリール基」についても同様である。
「(ペル)ハロゲン化アルキル基」とは、ハロゲン化アルキル基とペルハロゲン化アルキル基とを合わせた総称で用いる。すなわち該基は1個以上のハロゲン原子を有するアルキル基である。「(ペル)ハロゲン化アルコキシ基」、「(ペル)ハロゲン化アリール基」、及び「(ペル)ハロゲン化アリールオキシ基」についても同様である。
「アリール基」とは、芳香族化合物において芳香環を形成する炭素原子の内いずれか1つの炭素原子に結合した1つの水素原子を取り去った残基に相当する一価の基を意味し、炭素環化合物から誘導されるアリール基と、ヘテロ環化合物から誘導されるヘテロアリール基とを合わせた総称で用いる。
炭化水素基の炭素数とは、ある炭化水素基全体に含まれる炭素原子の総数を意味し、該基が置換基を有さない場合は炭化水素基骨格を形成する炭素原子の数を、該基が置換基を有する場合は炭化水素基骨格を形成する炭素原子の数に置換基中の炭素原子の数を加えた総数を表す。
なお化学式中の波線はE/Zの異性体のうち、いずれか一方または両方の混合物であることを意味する。
ヘテロ原子とは、炭素原子と水素原子以外の原子を意味し、好ましくは、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、リン原子、ケイ素原子、及びハロゲン原子からなる群から選ばれる1種以上の原子であり、より好ましくは、酸素原子または窒素原子である。
本発明は環状オレフィン開環クロスメタセシスによる含フッ素ジエン化合物の製造方法に関するものであり、例えば下記スキーム(a)に表すように、中間体(Metal−1)及び中間体(Metal−2)を反応機構の一部として含むことを特徴とする。
なお、下記スキームにおいて、化合物(11)は、化合物(10)の代表例として記載する。特定の金属−カルベン錯体化合物(10)としては、ルテニウム−カルベン錯体、モリブデン−カルベン錯体、又はタングステン−カルベン錯体(以下、「金属−カルベン錯体」とも総称する。)が例示できる。金属−カルベン錯体としては、後述する化合物(12)、化合物(13)、化合物(14A)、化合物(14B)、化合物(15A)または化合物(15B)であってもよく、以下金属−カルベン錯体については同様である。
なお、上記スキームにおいて、化合物(11)は、化合物(10)の代表例として記載する。金属−カルベン錯体としては、後述する化合物(16)、化合物(17)、化合物(18A)、化合物(18B)、化合物(19A)または化合物(19B)であってもよく、以下金属−カルベン錯体については同様である。
[L]は配位子である。
Mはルテニウム、モリブデン又はタングステンである。
Yは、炭素数1〜30のアルキレン基、炭素数3〜30のシクロアルキレン基、炭素数5〜30のアリーレン基、ヘテロ原子を有する炭素数1〜30のアルキレン基、ヘテロ原子を有する炭素数2〜30のシクロアルキレン基、またはヘテロ原子を有する炭素数4〜30のアリーレン基である。
Rfは、炭素数1〜20の(ペル)フルオロアルキル基、炭素原子と炭素原子の間にエーテル性酸素原子を有する炭素数1〜20の(ペル)フルオロアルキル基、または、炭素数5〜20の(ペル)フルオロアリール基である。
A1〜A4はそれぞれ独立して、下記基(i)、基(ii)、基(iii)、及び基(iv)からなる群から選ばれる基である。A5〜A7はそれぞれ独立して、下記基(i)、基(iia)、基(iii)、及び基(iv)からなる群から選ばれる基である。A1及びA2は互いに結合して環を形成してもよい。A3及びA4は互いに結合して環を形成してもよい。A5及びA6は互いに結合して環を形成してもよい。A7及びRfは互いに結合して環を形成してもよい。ただし、A1及びA2の一方がハロゲン原子である場合、他方は基(i)、基(iii)、及び基(iv)からなる群から選ばれる基である。
X1、X2及びX3はそれぞれ独立して、下記基(i)、基(ii)、基(v)及び基(vi)からなる群から選ばれる基である。X1とX2は互いに結合して環を形成してもよい。ただし、前記X1、X2及びX3のいずれか二つが水素原子である場合、他の一つは基(ii)、基(v)、及び基(vi)からなる群から選ばれる基である。
ただし基(i)〜基(vi)は、それぞれ下記を意味する。
基(i):水素原子。
基(ii):ハロゲン原子。
基(iia):塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子。
基(iii):炭素数1〜20の一価炭化水素基。
基(iv):ハロゲン原子、酸素原子、窒素原子、イオウ原子、リン原子、及びケイ素原子からなる群から選ばれる原子を1以上含む炭素数1〜20の一価炭化水素基。
基(v):炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数5〜20のアリール基、炭素数5〜20のアリールオキシ基、炭素数1〜12の(ペル)ハロゲン化アルキル基、炭素数1〜12の(ペル)ハロゲン化アルコキシ基、炭素数5〜20の(ペル)ハロゲン化アリール基、及び炭素数5〜20の(ペル)ハロゲン化アリールオキシ基からなる群から選ばれる基。
基(vi):さらに、酸素原子、窒素原子、イオウ原子、リン原子、及びケイ素原子からなる群から選ばれる原子を1以上含む前記基(v)。
ただし、前記基(vi)は、前記基(v)である場合を除く。
金属−カルベン錯体化合物としては、入手容易性及び反応効率の観点から反応開始時には化合物(11)が好ましい。
オレフィンメタセシス反応活性を有する金属−カルベン錯体化合物(10)は本発明に係る製造方法において触媒としての役割を果たすが、試薬として投入するもの及び反応中で生成するもの(触媒活性種)の両方を意味する。ここで、化合物(10)は反応条件下、配位子のいくつかが解離することで触媒活性を示すようになるものと、配位子の解離なしで触媒活性を示すものが知られているが、本発明ではいずれでもよく限定されない。また一般に、環状オレフィン開環クロスメタセシスは触媒へのオレフィンの配位と解離を繰り返しながら進行するため、反応中、触媒上にオレフィン以外の配位子がいくつ配位しているかは必ずしも明確でない。したがって本明細書中、[L]は配位子の数や種類を特定するものではない。
化合物(11)におけるA1及びA2はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜20の一価炭化水素基、または、さらに、酸素原子、窒素原子、イオウ原子、リン原子、及びケイ素原子からなる群から選ばれる原子を1以上含む炭素数1〜20の一価炭化水素基である。A1及びA2は、互いに結合して環を形成してもよい。ただし化合物(11)としては、A1及びA2の両方がハロゲン原子である場合は除く。
ハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、フッ素原子、塩素原子が入手容易性の点から好ましい。
炭素数1〜20の一価炭化水素基としては炭素数1〜20のアルキル基、炭素数5〜20のアリール基が好ましく、直鎖状又は分岐状でもよい。また、水素原子がひとつ取れた二価の基として、環を形成していてもよい。
ハロゲン原子、酸素原子、窒素原子、イオウ原子、リン原子、及びケイ素原子からなる群から選ばれる原子を1以上含む炭素数1〜20の一価炭化水素基としては、好ましくは、当該原子を含む炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、当該原子を含む炭素数5〜20のアリール基、炭素数5〜20のアリールオキシ基が例示できる。該一価炭化水素基は、直鎖状又は分岐状でもよい。また、水素原子がひとつ取れた二価の基として、環を形成していてもよい。これらの好ましい基は少なくとも一部の炭素原子にハロゲン原子が結合していてもよい。すなわち例えば(ペル)フルオロアルキル基、(ペル)フルオロアルコキシ基であってもよい。またこれらの好ましい基は、炭素原子と炭素原子の間にエーテル性酸素原子を有していてもよい。またこれらの好ましい基は、ハロゲン原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、リン原子、及びケイ素原子からなる群から選ばれる原子を1以上含む置換基を有していてもよい。該置換基としては、ヒドロキシル基、アミノ基、イミノ基、ニトリル基、アミド基(カルボニルアミノ基)、カルバメート基(オキシカルボニルアミノ基)、ニトロ基、カルボキシル基、エステル基(アシルオキシ基またはアルコキシカルボニル基)、チオエーテル基、及びシリル基等が例示できる。これらの基は更にアルキル基又はアリール基で置換されていてもよい。例えばアミノ基(−NH2)はモノアルキルアミノ基(−NHR)、モノアリールアミノ基(−NHAr)、ジアルキルアミノ基(−NR2)、またはジアリールアミノ基(−NAr2)であってもよい。ただしRは炭素数1〜12のアルキル基または炭素原子と炭素原子の間にエーテル性酸素原子を有する炭素数1〜12のアルキル基であり、Arは炭素数5〜12のアリール基である。
これらのA1及びA2の組み合わせを有する化合物(11)としては、入手容易性の点で、下記式に示すものが好ましく例示できる。なお、下記式中、Cyとはシクロヘキシル基を意味する。
具体的には、化合物(11)においてMがルテニウムの場合、下記式(11−A)で表すことができる。式(11)における配位子[L]は式(11−A)においてL1、L2、L3、Z1及びZ2で表される。L1、L2、L3、Z1及びZ2の位置に限定はなく、式(11−A)において互いに入れ替わっていてもよい。すなわち例えばZ1及びZ2はトランス位にあっても、シス位にあってもよい。
ただし前記配位子の組み合わせによっては、立体的要因及び/又は電子的要因により、すべての配位子が中心金属に配位できず、結果としていくつかの配位座が空になる場合もある。例えば、L1、L2及びL3としては下記組合せが挙げられる。
L1:ヘテロ原子含有カルベン化合物、L2:ホスフィン類、L3:なし(空配位)。
L1:ヘテロ原子含有カルベン化合物、L2:ピリジン類、L3:ピリジン類
また、L1、L2、L3、Z1、Z2、A1及びA2のうち2〜6個で互いに結合し、多座配位子を形成してもよい。
なお、上記ルテニウム−カルベン錯体は、単独で用いてもよいし、2種類以上併用してもよい。さらに必要に応じてシリカゲルやアルミナ、ポリマー等の担体に担持して用いてもよい。
金属触媒の金属がモリブデンまたはタングステンである場合、金属触媒の配位子[L]としては、イミド配位子(R1−N=M)を有することが好ましい。ただし、R1としては、アルキル基、アリール基等が例示できる。またさらに金属触媒の配位子[L]としては酸素原子が二座配位した配位子を有することが好ましい。ただし酸素原子が二座配位した配位子とは、酸素原子を2個以上有する配位子において該酸素原子のうちの2個で配位している配位子である場合、および、酸素原子を有する単座配位子が2個配位している場合(この場合に単座配位子は同一であっても異なっていてもよい)の双方の場合を含む。
なお、上記モリブデン−カルベン錯体又はタングステン−カルベン錯体は、単独で用いてもよいし、2種類以上併用してもよい。さらに必要に応じてシリカゲルやアルミナ、ポリマー等の担体に担持して用いてもよい。
化合物(12)〜(15)は、上記化合物(11)と同様に本発明に係る製造方法において触媒としての役割を果たすが、試薬として投入するもの及び反応中で生成するもの(触媒活性種)の両方を意味する。
化合物(21)はオレフィンメタセシスの反応基質である。
すなわち化合物(21)におけるX1〜X3はそれぞれ独立して、水素原子;ハロゲン原子;炭素数1〜12のアルキル基;酸素原子、窒素原子、イオウ原子、リン原子、及びケイ素原子からなる群から選ばれる原子を1以上含む炭素数1〜12のアルキル基;炭素数1〜12のアルコキシ基;さらに、酸素原子、窒素原子、イオウ原子、リン原子、及びケイ素原子からなる群から選ばれる原子を1以上含む炭素数1〜12のアルコキシ基;炭素数5〜20のアリール基;酸素原子、窒素原子、イオウ原子、リン原子、及びケイ素原子からなる群から選ばれる原子を1以上含む炭素数5〜20のアリール基;炭素数5〜20のアリールオキシ基;さらに、酸素原子、窒素原子、イオウ原子、リン原子、及びケイ素原子からなる群から選ばれる原子を1以上含む炭素数5〜20のアリールオキシ基;炭素数1〜12の(ペル)ハロゲン化アルキル基;酸素原子、窒素原子、イオウ原子、リン原子、及びケイ素原子からなる群から選ばれる原子を1以上含む炭素数1〜12の(ペル)ハロゲン化アルキル基;炭素数1〜12の(ペル)ハロゲン化アルコキシ基;さらに、酸素原子、窒素原子、イオウ原子、リン原子、及びケイ素原子からなる群から選ばれる原子を1以上含む炭素数1〜12の(ペル)ハロゲン化アルコキシ基;炭素数5〜20の(ペル)ハロゲン化アリール基;酸素原子、窒素原子、イオウ原子、リン原子、及びケイ素原子からなる群から選ばれる原子を1以上含む炭素数5〜20の(ペル)ハロゲン化アリール基;炭素数5〜20の(ペル)ハロゲン化アリールオキシ基;又は、さらに、酸素原子、窒素原子、イオウ原子、リン原子、及びケイ素原子からなる群から選ばれる原子を1以上含む炭素数5〜20の(ペル)ハロゲン化アリールオキシ基である。これらは、水素原子又はハロゲン原子がひとつ取れた二価の基として、互いに結合して環を形成していてもよい。ただしX1〜X3の全てが水素原子である化合物(フッ化ビニル)は化合物(21)としては含まれない。
上記基のうち炭素原子を有する基は、後述するように炭素原子と炭素原子の間にエーテル性酸素原子を有していてもよい。
基(vii):炭素原子と炭素原子の間にエーテル性酸素原子を有する基(v)。
より好ましくはX1が水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜12の(ペル)ハロゲン化アルキル基、炭素原子と炭素原子の間にエーテル性酸素原子を有する炭素数1〜12の(ペル)ハロゲン化アルキル基、炭素数1〜12の(ペル)ハロゲン化アルコキシ基、炭素原子と炭素原子の間にエーテル性酸素原子を有する炭素数1〜12の(ペル)ハロゲン化アルコキシ基、炭素数5〜20の(ペル)ハロゲン化アリール基、炭素原子と炭素原子の間にエーテル性酸素原子を有する炭素数5〜20の(ペル)ハロゲン化アリール基、炭素数5〜20の(ペル)ハロゲン化アリールオキシ基、又は炭素原子と炭素原子の間にエーテル性酸素原子を有する炭素数5〜20の(ペル)ハロゲン化アリールオキシ基;X2が水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキル基、炭素原子と炭素原子の間にエーテル性酸素原子を有する炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素原子と炭素原子の間にエーテル性酸素原子を有する炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数5〜20のアリール基、炭素原子と炭素原子の間にエーテル性酸素原子を有する炭素数5〜20のアリール基、炭素数1〜12の(ペル)ハロゲン化アルキル基、炭素原子と炭素原子の間にエーテル性酸素原子を有する炭素数1〜12の(ペル)ハロゲン化アルキル基、炭素数1〜12の(ペル)ハロゲン化アルコキシ基、炭素原子と炭素原子の間にエーテル性酸素原子を有する炭素数1〜12の(ペル)ハロゲン化アルコキシ基、炭素数5〜20の(ペル)ハロゲン化アリール基、炭素原子と炭素原子の間にエーテル性酸素原子を有する炭素数5〜20の(ペル)ハロゲン化アリール基、炭素数5〜20の(ペル)ハロゲン化アリールオキシ基、又は炭素原子と炭素原子の間にエーテル性酸素原子を有する炭素数5〜20の(ペル)ハロゲン化アリールオキシ基;X3が塩素原子、フッ素原子、炭素数1〜12のペルハロゲン化アルキル基、炭素原子と炭素原子の間にエーテル性酸素原子を有する炭素数1〜12のペルハロゲン化アルキル基、炭素数1〜12のペルハロゲン化アルコキシ基、炭素原子と炭素原子の間にエーテル性酸素原子を有する炭素数1〜12のペルハロゲン化アルコキシ基、炭素数5〜20のペルハロゲン化アリール基、炭素原子と炭素原子の間にエーテル性酸素原子を有する炭素数5〜20のペルハロゲン化アリール基、炭素数5〜20のペルハロゲン化アリールオキシ基、又は炭素原子と炭素原子の間にエーテル性酸素原子を有する炭素数5〜20のペルハロゲン化アリールオキシ基の組み合わせである。
化合物(21)としては、1,1−ジフルオロオレフィン又は1,2−ジフルオロオレフィンが好ましく、1,1−ジフルオロオレフィン又は炭素数3以上の1,2−ジフルオロオレフィンがより好ましく、特にX3がフッ素原子である化合物、すなわち1,1−ジフルオロオレフィンが好ましい。
化合物(31)はオレフィンメタセシスの反応基質である。
A5〜A7はそれぞれ独立して、水素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、炭素数1〜20の一価炭化水素基、またはハロゲン原子、酸素原子、窒素原子、イオウ原子、リン原子及びケイ素原子からなる群から選ばれる原子を1以上含む炭素数1〜20の一価炭化水素基である。
A5及びA6は互いに結合して環を形成してもよい。A7及びRfは互いに結合して環を形成してもよい。環としては、炭素原子のみからなる、または、炭素原子とヘテロ原子とからなる環が好ましい。環の大きさは3員環〜10員環が例示できる。環の部分構造としては、下式の構造が例示できる。
これらのうち化合物(31)として、特に好ましい具体例としては、下記に示す化合物が挙げられる。
化合物(41)におけるYは、炭素数1〜30のアルキレン基、炭素数3〜30のシクロアルキレン基、炭素数5〜30のアリーレン基、ヘテロ原子を有する炭素数1〜30のアルキレン基、ヘテロ原子を有する炭素数2〜30のシクロアルキレン基、またはヘテロ原子を有する炭素数4〜30のアリーレン基である。Yとして好ましくは、炭素数1〜30の(ペル)ハロゲン化アルキレン基、または炭素原子と炭素原子の間にエーテル性酸素原子を有する炭素数1〜30の(ペル)ハロゲン化アルキレン基である。前記アルキル基鎖は直鎖状又は分岐状でもよい。また、水素原子又はハロゲン原子がひとつ取れた二価の基として、環を形成していてもよい。
炭素数1〜30のアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン基、オクチレン基、ノニレン基、デシレン基が挙げられ、入手容易性の点からの点からプロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン基が好ましい。また、炭化水素基骨格としては直鎖状、分岐状、又は環状でもよい。
炭素数3〜30のシクロアルキレン基としては、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基等が挙げられる。
炭素数5〜30のアリーレン基としては、フェニレン基、ナフチレン基等が挙げられる。
ヘテロ原子を有する炭素数1〜30のアルキレン基としては、酸素原子、窒素原子、イオウ原子、リン原子、及びケイ素原子からなる群から選ばれる原子を1以上含むアルキレン基が挙げられ、入手容易性の点からの点から酸素、窒素原子、硫黄原子を1以上含むアルキレン基が好ましい。
ヘテロ原子を有する炭素数3〜30のシクロアルキレン基としては、オキソレン基(オキソラン環を有する2価の基)、ジオキソレン基(ジオキソラン環を有する2価の基)等が挙げられる。
ヘテロ原子を有する炭素数5〜30のアリーレン基としては、ピラゾレン基(ピラゾール環を有する2価の基)等が挙げられる。
具体的には、シクロオクテン、ノルボルネン等が、環の好ましい基本骨格として挙げられる。これら基本骨格が、上述した置換基を有していてもよい。
また環状オレフィン(41)の環ひずみエネルギー(Ring strain energy)が大きいと、より反応が進行しやすいと考えられる。
本発明の環状オレフィン開環クロスメタセシスにより得られる、含フッ素ジエン化合物(51)〜化合物(53)及び含フッ素ジエン化合物(61)〜(63)の具体例としては、下記化合物が挙げられる。
本発明は環状オレフィン開環クロスメタセシスによる含フッ素ジエン化合物の製造方法に関するものであり、典型的には、異なる2種類のオレフィンと金属−カルベン錯体を接触させることによって環状オレフィン開環クロスメタセシスを行い、原料とは異なるジエン化合物を得るものである。
また原料となるオレフィンは微量の不純物(例えば過酸化物等)を含むことがあるので、目的物収率向上の点で精製してもよい。精製方法については特に制限はない。例えば文献(Armarego,W.L.F.et al.,Purification of Laboratory Chemicals(Sixth Edition),2009,Elsevier)記載の方法に従って行うことができる。
原料となる含フッ素オレフィンのうち、二重結合を構成する炭素原子にフッ素原子または含フッ素基が結合しているオレフィン(上述の化合物(21)及び化合物(31))としては、末端オレフィンを用いる。
目的物収率向上の点で、原料となる含フッ素オレフィンは脱気及び脱水されたものを用いることが好ましい。脱気操作について、特に制限はないが、凍結脱気等を行うことがある。脱水操作について、特に制限はないが、通常モレキュラーシーブ等と接触させる。原料となる含フッ素オレフィンについて、前記脱気及び脱水操作は通常、金属−カルベン錯体と接触させる前に行う。
また原料となる含フッ素オレフィンは微量の不純物(例えばフッ化水素等)を含むことがあるので、目的物収率向上の点で精製してもよい。精製方法については特に制限はない。例えば文献(Armarego,W.L.F.et al.,Purification of Laboratory Chemicals(Sixth Edition),2009,Elsevier)記載の方法に従って行うことができる。
原料となる両オレフィンのモル比に特に限定はないが、通常基準となるオレフィン1モルに対して、もう一方のオレフィンを0.01〜100モル程度用い、好ましくは0.1〜10モル程度用いる。
試薬として投入する場合、市販の金属−カルベン錯体をそのまま用いてもよく、あるいは市販試薬から公知の方法で合成した市販されていない金属−カルベン錯体を用いてもよい。
系内で発生させる場合、公知の方法で前駆体となる金属錯体から調製した金属−カルベン錯体を本発明に用いることができる。
また化合物(21)または化合物(31)が液体である場合(加熱して液化する場合も含む)は、溶媒を用いないことが好ましい。この場合化合物(21)又は化合物(31)に金属−カルベン錯体化合物が溶解することが好ましい。
なお、目的物収率向上の点で、前記溶媒は脱気及び脱水されたものを用いることが好ましい。脱気操作について、特に制限はないが、凍結脱気等を行うことがある。脱水操作について、特に制限はないが、通常モレキュラーシーブ等と接触させる。前記脱気及び脱水操作は通常金属−カルベン錯体と接触させる前に行う。
オレフィンと金属−カルベン錯体を接触させる相としては、特に制限はないが、反応速度の点で、通常は液相が用いられる。原料となるオレフィンが反応条件下で気体の場合、液相で実施するのが難しいため、気−液二相で実施することもできる。なお、液相で実施する場合には溶媒を用いることができる。このとき用いる溶媒としては、上記、金属−カルベン錯体の溶解又は懸濁に用いた溶媒と同様のものを利用することができる。なお、原料となるオレフィンのうち少なくとも一方が反応条件下で液体の場合、無溶媒で実施できることがある。
オレフィンと金属−カルベン錯体を接触させる時間としては、特に制限はないが、通常1分〜48時間の範囲で実施される。
オレフィンと金属−カルベン錯体を接触させる圧力としては、特に制限はないが、加圧下でも、常圧下でもよいし、減圧下でもよい。通常0.001〜10MPa程度、好ましくは0.01〜1MPa程度である。
<市販試薬>
本実施例において、触媒は、特に記載しない場合においては、市販品をそのまま反応に用いた。溶媒(m−キシレン−d10、ベンゼン−d6)及び内部標準物質(p−ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン)は、市販品をあらかじめ凍結脱気したあと、モレキュラーシーブ4Aで乾燥してから反応に用いた。
<評価方法>
本実施例において、合成した化合物の構造は日本電子株式会社製の核磁気共鳴装置(JNM−AL300)により1H−NMR、19F−NMR測定を行うことで同定した。また、分子量は株式会社島津製作所製のガスクロマトグラフ質量分析計(GCMS−QP2010Ultra)を用いて、電子イオン化法(EI)により求めた。
UmicoreM73SIPr触媒による2−ノルボルネンとnC4F9−CH=CH2の開環クロスメタセシス
窒素雰囲気下、UmicoreM73SIPr触媒(10mol%、0.01mmol)、nC4F9−CH=CH2(10mmol、0.17mL)及びC6D6(0.6mL)NMR測定管の中に量り入れた。最後に2−ノルボルネン(0.1mmol、9.4mg)を加えてNMR管を60℃で加熱し、その温度で1時間反応させた。反応終了後、NMR及びGC−MSを測定して生成物A(E/Z−E/Z混合物)、生成物、B(E/Z混合物)の生成を確認した。
これら一連の反応を以下に示す。
生成物AのGC−MS(EI):M+=558.
生成物BのGC−MS(EI):M+=340.
生成物ZのGC−MS(EI):M+=652.
UmicoreM73SIPr触媒によるcis−シクロオクテンとnC4F9−CH=CH2の開環クロスメタセシス
窒素雰囲気下、UmicoreM73SIPr触媒(10mol%、0.01mmol)、nC4F9−CH=CH2(10mmol、0.17mL)及びC6D6(0.6mL)NMR測定管の中に量り入れた。最後にcis−シクロオクテン(0.1mmol、11.0mg)を加えてNMR管を60℃で加熱し、その温度で1時間反応させた。反応終了後、NMR及びGC−MSを測定して生成物C(E/Z−E/Z混合物)及びD(E/Z混合物)の生成を確認した。
これら一連の反応を以下に示す。
生成物CのGC−MS(EI):M+=574.
生成物DのGC−MS(EI):M+=356.
UmicoreM73SIPr触媒による1,4−ジオキセンとテトラフルオロエチレンの開環クロスメタセシス
窒素雰囲気下、UmicoreM73SIPr触媒(100mol%、0.04mmol)、1,4−ジオキセン(0.04mmol、3.5mg)及びm−キシレン−d10(0.6mL)をNMR測定管の中に量り入れて氷冷した。最後に氷冷下でテトラフルオロエチレン(0.12mmol、ガスとして2.7mL)を加えてNMR管を140℃で1時間反応させた。反応終了後、NMR及びGC−MSを測定して1,4−ジオキセンの開環メタセシス重合とテトラフルオロエチレンとの環状オレフィン開環クロスメタセシスが並行し生成する生成物Eの生成を確認した。
これら一連の反応を以下に示す。
生成物EのGC−MS(EI):[M−F]+=253.
UmicoreM73SIPr触媒による1,4−ジオキセンとオレフィン化合物(21)の開環クロスメタセシス
実施例3のテトラフルオロエチレンを、下表に示す化合物(21)にそれぞれ変更して反応を実施する。生成物として表1中に示す含フッ素化合物が生成する。
モリブデン触媒による1,4−ジオキセンとオレフィン化合物(21)の開環クロスメタセシス
実施例3のUmicoreM73SIPrを下式で示される公知のモリブデン触媒D〜Gに変更して、同様に反応を行い、実施例3と同じ反応生成物を得る。
タングステン触媒による1,4−ジオキセンとオレフィン化合物(21)の開環クロスメタセシス
実施例3のUmicoreM73SIPrを下式で示される公知のタングステン触媒Hに変更して、同様に反応を行い、実施例3と同じ反応生成物を得る。
モリブデン触媒による2−ノルボルネンとnC4F9−CH=CH2の開環クロスメタセシス
実施例1のUmicoreM73SIPrを前述のモリブデン触媒D〜Gに変更して、同様に反応を行い、実施例1と同じ反応生成物を得る。
タングステン触媒によるcis−シクロオクテンとnC4F9−CH=CH2の開環クロスメタセシス
実施例2のUmicoreM73SIPrを前述のタングステン触媒Hに変更して、同様に反応を行い、実施例2と同じ反応生成物を得る。
Claims (17)
- オレフィンメタセシス反応活性を有する金属−カルベン錯体化合物(10)の存在下、下記式(21)で表されるオレフィン化合物と下記式(41)で表されるシクロオレフィン化合物を反応させることにより、下記式(51)で表される含フッ素ジエン化合物、下記式(52)で表される含フッ素ジエン化合物、及び下記式(53)で表される含フッ素ジエン化合物からなる群から選ばれる少なくとも一種の含フッ素ジエン化合物を製造する方法であって、
前記金属−カルベン錯体化合物(10)が、下記式(11)で表される化合物である、製造方法。
ただし、式中の記号は以下の意味を表す。
Yは、炭素数1〜30のアルキレン基、炭素数3〜30のシクロアルキレン基、炭素数5〜30のアリーレン基、ヘテロ原子を有する炭素数1〜30のアルキレン基、ヘテロ原子を有する炭素数2〜30のシクロアルキレン基、またはヘテロ原子を有する炭素数4〜30のアリーレン基である。
A3及びA4はそれぞれ独立して、下記基(i)、基(ii)、基(iii)、及び基(iv)からなる群から選ばれる基である。A3及びA4は互いに結合して環を形成してもよい。
X1、X2及びX3はそれぞれ独立して、下記基(i)、基(ii)、基(v)、及び基(vi)からなる群から選ばれる基である。X1とX2は互いに結合して環を形成してもよい。ただし、前記X1、X2及びX3のいずれか二つが水素原子である場合、他の一つは基(ii)、基(v)、及び基(vi)からなる群から選ばれる基である。
基(i):水素原子。
基(ii):ハロゲン原子。
基(iii):炭素数1〜20の一価炭化水素基。
基(iv):ハロゲン原子、酸素原子、窒素原子、イオウ原子、リン原子、及びケイ素原子からなる群から選ばれる原子を1以上含む炭素数1〜20の一価炭化水素基。
基(v):炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数5〜20のアリール基、炭素数5〜20のアリールオキシ基、炭素数1〜12の(ペル)ハロゲン化アルキル基、炭素数1〜12の(ペル)ハロゲン化アルコキシ基、炭素数5〜20の(ペル)ハロゲン化アリール基、及び炭素数5〜20の(ペル)ハロゲン化アリールオキシ基からなる群から選ばれる基。
基(vi):さらに、酸素原子、窒素原子、イオウ原子、リン原子、及びケイ素原子からなる群から選ばれる原子を1以上含む前記基(v)。
[L]は配位子である。
Mはルテニウム、モリブデン又はタングステンである。
A 1 及びA 2 はそれぞれ独立して、前記基(i)、基(ii)、基(iii)、及び基(iv)からなる群から選ばれる基である。ただし、A 1 及びA 2 の一方がハロゲン原子である場合、他方は基(i)、基(iii)、及び基(iv)からなる群から選ばれる基である。 - 前記金属−カルベン錯体化合物(10)における金属がルテニウムである請求項1に記載の製造方法。
- 前記金属−カルベン錯体化合物(10)における金属がモリブデンまたはタングステンであり、かつ、前記金属−カルベン錯体化合物が配位子[L]として、イミド配位子、および、酸素原子が二座配位した配位子を有する請求項1に記載の製造方法。
- 前記式(21)で表わされるオレフィン化合物が、X1が基(i)、基(ii)、基(v)、または基(vi)であり、X2が基(i)、基(ii)、基(v)、または基(vi)であり、X3が基(ii)、基(v)、または基(vi)であるオレフィン化合物である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の製造方法。
ここで、基(i)、基(ii)、基(v)および基(vi)は、請求項1のそれらと同義である。 - 前記式(21)で表わされるオレフィン化合物が、X 3 が基(ii)であるオレフィン化合物である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の製造方法。
ここで、基(ii)は、請求項1と同義である。 - 前記式(21)で表わされるオレフィン化合物が、1,1−ジフルオロオレフィンである請求項1〜5のいずれか1項に記載の製造方法。
- オレフィンメタセシス反応活性を有する金属−カルベン錯体化合物(10)の存在下、下記式(31)で表されるオレフィン化合物と下記式(41)で表されるシクロオレフィン化合物を反応させることにより、下記式(61)で表される含フッ素ジエン化合物、下記式(62)で表される含フッ素ジエン化合物、及び下記式(63)で表される含フッ素ジエン化合物からなる群から選ばれる少なくとも一種の化合物を製造する製造方法であって、
前記金属−カルベン錯体化合物(10)が、下記式(11)で表される化合物である、製造方法。
ただし、式中の記号は以下の意味を表す。
Yは、炭素数1〜30のアルキレン基、炭素数3〜30のシクロアルキレン基、炭素数5〜30のアリーレン基、ヘテロ原子を有する炭素数1〜30のアルキレン基、ヘテロ原子を有する炭素数2〜30のシクロアルキレン基、またはヘテロ原子を有する炭素数4〜30のアリーレン基である。
Rfは、炭素数1〜20の(ペル)フルオロアルキル基、炭素原子と炭素原子の間にエーテル性酸素原子を有する炭素数1〜20の(ペル)フルオロアルキル基、または、炭素数5〜20の(ペル)フルオロアリール基である。
A3及びA4はそれぞれ独立して、下記基(i)、基(ii)、基(iii)、及び基(iv)からなる群から選ばれる基である。A5〜A7はそれぞれ独立して、下記基(i)、基(iia)、基(iii)、及び基(iv)からなる群から選ばれる基である。A1及びA2は互いに結合して環を形成してもよい。A3及びA4は互いに結合して環を形成してもよい。A5及びA6は互いに結合して環を形成してもよい。A7及びRfは互いに結合して環を形成してもよい。
基(i):水素原子。
基(ii):ハロゲン原子。
基(iia):塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子。
基(iii):炭素数1〜20の一価炭化水素基。
基(iv):ハロゲン原子、酸素原子、窒素原子、イオウ原子、リン原子、及びケイ素原子からなる群から選ばれる原子を1以上含む炭素数1〜20の一価炭化水素基。
基(v):炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数5〜20のアリール基、炭素数5〜20のアリールオキシ基、炭素数1〜12の(ペル)ハロゲン化アルキル基、炭素数1〜12の(ペル)ハロゲン化アルコキシ基、炭素数5〜20の(ペル)ハロゲン化アリール基、及び炭素数5〜20の(ペル)ハロゲン化アリールオキシ基からなる群から選ばれる基。
基(vi):さらに、酸素原子、窒素原子、イオウ原子、リン原子、及びケイ素原子からなる群から選ばれる原子を1以上含む前記基(v)。
[L]は配位子である。
Mはルテニウム、モリブデン又はタングステンである。
A 1 及びA 2 はそれぞれ独立して、前記基(i)、基(ii)、基(iii)、及び基(iv)からなる群から選ばれる基である。ただし、A 1 及びA 2 の一方がハロゲン原子である場合、他方は基(i)、基(iii)、及び基(iv)からなる群から選ばれる基である。 - 前記式(31)で表されるオレフィン化合物におけるRfが、炭素数1〜20のペルフルオロアルキル基、炭素原子と炭素原子の間にエーテル性酸素原子を有する炭素数1〜20のペルフルオロアルキル基、または、炭素数5〜20のペルフルオロアリール基である、請求項10に記載の製造方法。
- 前記金属−カルベン錯体化合物(10)における金属がルテニウムである請求項10または11に記載の製造方法。
- 前記金属−カルベン錯体化合物(10)における金属がモリブデンまたはタングステンであり、かつ、前記金属−カルベン錯体化合物が配位子[L]として、イミド配位子、および、酸素原子が二座配位した配位子を有する請求項10または11に記載の製造方法。
- 前記式(21)で表わされるオレフィン化合物が、X1が基(i)、基(ii)、基(v)、または基(vi)であり、X2が基(i)、基(ii)、基(v)、または基(vi)であり、X3が基(ii)、基(v)、または基(vi)であるオレフィン化合物である、請求項10〜13のいずれか1項に記載の製造方法。
ここで、基(i)、基(ii)、基(v)および基(vi)は、請求項1のそれらと同義である。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2015023408 | 2015-02-09 | ||
| JP2015023408 | 2015-02-09 | ||
| PCT/JP2016/053853 WO2016129602A1 (ja) | 2015-02-09 | 2016-02-09 | 含フッ素ジエンの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPWO2016129602A1 JPWO2016129602A1 (ja) | 2017-11-16 |
| JP6607200B2 true JP6607200B2 (ja) | 2019-11-20 |
Family
ID=56615243
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2016574814A Expired - Fee Related JP6607200B2 (ja) | 2015-02-09 | 2016-02-09 | 含フッ素ジエンの製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6607200B2 (ja) |
| WO (1) | WO2016129602A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20230335783A1 (en) * | 2020-09-30 | 2023-10-19 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Lithium secondary battery |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4271942B2 (ja) * | 2001-03-30 | 2009-06-03 | カリフォルニア インスティチュート オブ テクノロジー | シクロオレフィンの選択的開環クロス−メタセシス |
| JP5045011B2 (ja) * | 2006-07-20 | 2012-10-10 | 東ソー株式会社 | ジアリルハライド及びその製造方法 |
| JP4957105B2 (ja) * | 2006-07-20 | 2012-06-20 | 東ソー株式会社 | ジハロゲノノナジエンの製造方法 |
| JP2008050304A (ja) * | 2006-08-24 | 2008-03-06 | Tosoh Corp | ジハロゲノアルカジエンの製造方法 |
-
2016
- 2016-02-09 JP JP2016574814A patent/JP6607200B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2016-02-09 WO PCT/JP2016/053853 patent/WO2016129602A1/ja not_active Ceased
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2016129602A1 (ja) | 2016-08-18 |
| JPWO2016129602A1 (ja) | 2017-11-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6278043B2 (ja) | 含フッ素オレフィンの製造方法 | |
| JP6572966B2 (ja) | 含フッ素オレフィン化合物の製造方法 | |
| JP6583289B2 (ja) | 含塩素含フッ素オレフィンの製造方法 | |
| JP6607200B2 (ja) | 含フッ素ジエンの製造方法 | |
| JP6696435B2 (ja) | オレフィンの製造方法 | |
| JP2018024600A (ja) | 含フッ素オレフィンの製造方法 | |
| JPWO2016129608A1 (ja) | 含フッ素重合体の製造方法 | |
| JP6669085B2 (ja) | 含フッ素重合体の製造方法 | |
| JP6759760B2 (ja) | 含フッ素オレフィンの製造方法 | |
| JP6593351B2 (ja) | 含フッ素重合体の製造方法 | |
| JP2016160230A (ja) | 含フッ素オレフィンの製造方法 | |
| JP6384363B2 (ja) | 含フッ素オレフィンの製造方法 | |
| JP6413848B2 (ja) | 含フッ素対称オレフィンの製造方法 | |
| JP2016160231A (ja) | 含フッ素オレフィンの製造方法 | |
| JPWO2016129607A1 (ja) | 含フッ素シクロオレフィンの製造方法 | |
| JP2016145174A (ja) | 含フッ素ジエンの製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180723 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190507 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190705 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190924 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20191007 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6607200 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |
