JP6617680B2 - シリコン単結晶引上装置 - Google Patents
シリコン単結晶引上装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6617680B2 JP6617680B2 JP2016209181A JP2016209181A JP6617680B2 JP 6617680 B2 JP6617680 B2 JP 6617680B2 JP 2016209181 A JP2016209181 A JP 2016209181A JP 2016209181 A JP2016209181 A JP 2016209181A JP 6617680 B2 JP6617680 B2 JP 6617680B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas pipe
- exhaust gas
- extension member
- single crystal
- pipe extension
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Crucibles And Fluidized-Bed Furnaces (AREA)
Description
保護ガス管10の温度が高い場合には、保護ガス管10内よりも排ガス管延長部材9内に酸化物が高温で硬く焼き付いて堆積しやすくなる。このとき、排ガス管延長部材9の保護ガス管10内の高さを保護ガス管10の高さの30%以下とすれば、排ガス管延長部材9の上端の温度が高くなることでこの上端付近に酸化物が堆積するようになることを防止できる。
なお、排ガス管8から排ガス管延長部材9を脱着しやすくする為には、排ガス管延長部材9の上端にフランジ部を設け、排ガス管延長部材9内の保護ガス管10内の高さを保護ガス管10の高さの2%以上とすることが好ましい。
排ガス管延長部材9の全長に対して水冷されている排ガス管8に密着する排ガス管延長部材9の長さを70%以上とする事で、排ガス管延長部材9の上端までより効果的に冷やすことができ、これにより排ガス管延長部材9の上端の温度を低く保つことができるので、この上端付近に酸化物が堆積するのを防止できる。
図3(a)に示したシリコン単結晶引上装置100において、口径24インチ(600mm)の石英ルツボ104を入れ、多結晶シリコン150kgを仕込み、加熱溶融して直径200mmのシリコン単結晶のマルチプーリングを行い、複数本の単結晶を製造した。ここで、図3(a)のシリコン単結晶引上装置100は、図1(a)のシリコン単結晶引上装置1と同様の構成であるが、排ガス管延長部材109にスリットが設けられていない(図3(b)参照)点で、図1(a)のシリコン単結晶引上装置1と異なっている。なお、図3(a)において、整流筒102、シリコン融液103、石英ルツボ104、黒鉛ルツボ105、ヒーター106、シールド107、排ガス管108、保護ガス管110、メインチャンバー114、引上チャンバー115、ルツボ回転軸116はそれぞれ、図1(a)の整流筒2、シリコン融液3、石英ルツボ4、黒鉛ルツボ5、ヒーター6、シールド7、排ガス管8、保護ガス管10、メインチャンバー14、引上チャンバー15、ルツボ回転軸16に相当する。
酸化物は排ガス管延長部材109内の上端付近に厚さ50mm程度で硬く焼き付いており、金属製のブラシで擦り落とさないと、除去できなかった。
図1に示した本発明のシリコン単結晶引上装置1において、口径24インチ(600mm)の石英ルツボ4を入れ、多結晶シリコン150kgを仕込み、加熱溶融して直径200mmのシリコン単結晶のマルチプーリングを行い、複数本の単結晶製造を実施した。黒鉛製の保護ガス管10の高さH250mmに対し、ステンレス製の排ガス管延長部材9は全長240mmとし、上端から下端まで幅2mmのスリット11の入った構造とし、保護ガス管10内の長さhを50mmとした(すなわち、保護ガス管10高さHの20%、排ガス管延長部材の全長に対して排ガス管に密着する排ガス管延長部材の長さが80%)。また、排ガス管8内径78mmに対し、排ガス管8内の排ガス管延長部材9の外径77.8mm、内径73mmとし、保護ガス管10の内径が90mmに対し、保護ガス管10内の排ガス管延長部材9の外径86mm、内径80mmとした。
酸化物は排ガス管延長部材9内の上端付近に厚さ30mm程度で硬く焼き付いたが、金属製のブラシで触れると、簡単に除去する事ができた。
図2に示した本発明のシリコン単結晶引上装置1’において、口径24インチ(600mm)の石英ルツボ4を入れ、多結晶シリコン150kgを仕込み、加熱溶融して直径200mmのシリコン単結晶のマルチプーリングを行い、複数本の単結晶製造を実施した。実施例1の黒鉛製保護ガス管10の上に厚さ10mmの断熱材12を載せ、その上に黒鉛製の保護キャップ13を載せた。また、実施例1と同様に黒鉛製の保護ガス管10の高さH250mmに対し、ステンレス製の排ガス管延長部材9は全長240mmとし、上端から下端まで幅2mmのスリットの入った構造とし、保護ガス管10内の長さ50mmとした(すなわち、保護ガス管10高さHの20%、排ガス管延長部材の全長に対して排ガス管に密着する排ガス管延長部材の長さが80%)。また、排ガス管8内径78mmに対し、排ガス管8内の排ガス管延長部材9の外径77.8mm、内径73mmとし、保護ガス管10の内径が90mmに対し、保護ガス管10内の排ガス管延長部材9の外径86mm、内径80mmとした。
3、103…シリコン融液、 4、104…石英ルツボ、 5、105…黒鉛ルツボ、
6、106…ヒーター、 7、107…シールド、 8、108…排ガス管、
9、109…排ガス管延長部材、 10、110…保護ガス管、 11…スリット、
12…断熱材、 13…黒鉛製キャップ、 14、114…メインチャンバー、
15、115…引上チャンバー、 16、116…ルツボ回転軸。
Claims (2)
- 排ガス管の排気口に連通する着脱可能な排ガス管延長部材を設け、該排ガス管延長部材の上部を囲むように保護ガス管を設けたシリコン単結晶引上装置において、
前記排ガス管延長部材に上下方向に延在するスリットを設けて、前記排ガス管延長部材と前記排ガス管とを密着させたものとし、前記保護ガス管の上端部に断熱材を載置し、該断熱材の上に黒鉛製の保護キャップを取り付けたものであることを特徴とするシリコン単結晶引上装置。 - 請求項1記載のシリコン単結晶引上装置において、前記排ガス管延長部材の前記保護ガス管内の高さが前記保護ガス管の高さの30%以下であり、前記排ガス管延長部材の全長に対して前記排ガス管に密着する前記排ガス管延長部材の長さが70%以上であることを特徴とするシリコン単結晶引上装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2016209181A JP6617680B2 (ja) | 2016-10-26 | 2016-10-26 | シリコン単結晶引上装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2016209181A JP6617680B2 (ja) | 2016-10-26 | 2016-10-26 | シリコン単結晶引上装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2018070392A JP2018070392A (ja) | 2018-05-10 |
| JP6617680B2 true JP6617680B2 (ja) | 2019-12-11 |
Family
ID=62112591
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2016209181A Active JP6617680B2 (ja) | 2016-10-26 | 2016-10-26 | シリコン単結晶引上装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6617680B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11976379B2 (en) * | 2020-11-04 | 2024-05-07 | Globalwafers Co., Ltd. | Crystal pulling systems having fluid-filled exhaust tubes that extend through the housing |
| CN114197059A (zh) * | 2021-12-14 | 2022-03-18 | 西安奕斯伟材料科技有限公司 | 单晶炉 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4423805B2 (ja) * | 2001-04-13 | 2010-03-03 | 信越半導体株式会社 | シリコン単結晶の製造装置並びに製造方法 |
| JP4582149B2 (ja) * | 2008-01-10 | 2010-11-17 | 信越半導体株式会社 | 単結晶製造装置 |
-
2016
- 2016-10-26 JP JP2016209181A patent/JP6617680B2/ja active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2018070392A (ja) | 2018-05-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5904079B2 (ja) | シリコン単結晶育成装置及びシリコン単結晶育成方法 | |
| JP4582149B2 (ja) | 単結晶製造装置 | |
| CN107130295B (zh) | 一种消除硅芯棒隐裂的装置及方法 | |
| JP2018070392A (ja) | シリコン単結晶引上装置 | |
| JPH0231040B2 (ja) | ||
| JP6257483B2 (ja) | シリコン単結晶製造方法 | |
| CN102639763B (zh) | 单晶制造装置及单晶制造方法 | |
| KR101129112B1 (ko) | 실리콘 단결정 잉곳 제조장치 | |
| JP4862836B2 (ja) | 単結晶製造装置及び単結晶製造方法 | |
| US8691013B2 (en) | Feed tool for shielding a portion of a crystal puller | |
| TWI879316B (zh) | 單晶爐和晶棒生長方法 | |
| JP5776587B2 (ja) | 単結晶製造方法 | |
| JP2002321997A (ja) | シリコン単結晶の製造装置及びそれを用いたシリコン単結晶の製造方法 | |
| US9932690B2 (en) | Device for producing a monocrystal by crystallizing said monocrystal in a melting area | |
| JP6119565B2 (ja) | 単結晶製造方法 | |
| JP4926633B2 (ja) | 単結晶引上げ方法 | |
| JP4702266B2 (ja) | 単結晶の引上げ方法 | |
| JP6759147B2 (ja) | シリコン単結晶の製造方法 | |
| JP2007031235A (ja) | 単結晶製造装置 | |
| TWI707992B (zh) | 用於提拉單晶的方法與裝置及矽半導體晶圓 | |
| KR20100094051A (ko) | 실리콘 단결정 잉곳 수율 증대를 위한 그라파이트 링 장치 | |
| JP2018043917A (ja) | 酸化物単結晶の育成方法 | |
| JP6784106B2 (ja) | 単結晶育成装置および単結晶の製造方法 | |
| KR20120050675A (ko) | 잉곳 성장장치 | |
| KR20120050672A (ko) | 잉곳 성장장치 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20181016 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20190531 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190618 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190719 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20191015 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20191028 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6617680 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |